KR20190089877A - Operation method of ultrapure water producing apparatus and ultrapure water producing apparatus - Google Patents
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초순수 제조 장치 (1) 는, 전처리 장치 (2) 와 1 차 순수 제조 장치 (3) 와 서브 시스템 (4) 을 구비한다. 1 차 순수 제조 장치 (3) 는, 탱크 (5) 와 자외선 산화 장치 (6) 와 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 과 재생형 이온 교환 장치 (8) 와 막식 탈기 장치 (9) 를 갖는다. 서브 시스템 (4) 은, 서브 탱크 (11) 와 이 서브 탱크 (11) 로부터 송급되는 1 차 순수를 처리하는 자외선 산화 장치 (12) 와 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 과 막식 탈기 장치 (14) 와 비재생형 혼상식 이온 교환 장치 (15) 와 한외 여과 (UF) 막 (16) 으로 구성되어 있다. 백금족 금속 촉매 수지는, 담체 수지에 백금족 금속을 담지시킨 것이고, 특히 담체 수지에 백금족의 금속의 나노오더의 입경의 입자를 담지시킨 것이 바람직하다. 이러한 초순수 제조 장치 (1) 에 의하면, 서브 시스템 (4) 에 자외선 산화 장치 (12) 와 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 을 가짐으로써, 과산화수소 제거 능력의 저하를 억제할 수 있다.The ultrapure water producing apparatus 1 includes a pretreatment apparatus 2, a primary pure water producing apparatus 3, and a subsystem 4. The primary pure water producing apparatus 3 has a tank 5, an ultraviolet oxidation apparatus 6, a platinum group metal catalyst resin column 7, a regenerative ion exchange apparatus 8 and a film degassing apparatus 9. The subsystem 4 includes a sub tank 11 and an ultraviolet oxidation apparatus 12 for treating primary pure water fed from the sub tank 11, a platinum group metal catalyst resin tower 13 and a film degassing apparatus 14, Regeneration type ion exchange apparatus 15, and an ultrafiltration (UF) membrane 16. The platinum group metal catalyst resin is obtained by supporting a platinum group metal on the support resin, and it is particularly preferable that the support resin contains particles of a nano-order metal of a platinum group metal. According to such an ultrapure water producing apparatus 1, by having the ultraviolet oxidation apparatus 12 and the platinum group metal catalyst resin tower 13 in the subsystem 4, it is possible to suppress the deterioration of the hydrogen peroxide removal capability.
Description
본 발명은 1 차 순수 장치와 서브 시스템을 구비한 초순수 제조 장치 및 이 초순수 제조 장치의 운전 방법에 관한 것으로, 특히 서브 시스템에 자외선 산화 장치와 백금족 금속 촉매 수지탑을 갖는 초순수 제조 장치 및 이 초순수 제조 장치의 운전 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrapure water producing apparatus having a primary pure water apparatus and a subsystem and a method of operating the ultrapure water producing apparatus, and more particularly, to an ultrapure water producing apparatus having an ultraviolet oxidation apparatus and a platinum group metal catalyst resin tower in a subsystem, And a method of operating the apparatus.
종래, 반도체 등의 전자 산업 분야에서 사용되고 있는 초순수는, 전처리 시스템, 1 차 순수 장치 및 1 차 순수를 처리하는 서브 시스템으로 구성되는 초순수 제조 장치로 원수를 처리함으로써 제조되고 있다.Ultrapure water conventionally used in the electronics industry such as semiconductors is manufactured by treating raw water with an ultrapure water producing apparatus composed of a pretreatment system, a primary pure water apparatus and a subsystem for treating primary pure water.
도 2 에 나타내는 바와 같이 종래의 초순수 제조 장치 (21) 는, 일반적으로 전처리 장치 (22), 1 차 순수 제조 장치 (23), 및 2 차 순수 제조 장치 (서브 시스템) (24) 와 같은 3 단의 장치로 구성되어 있다. 이와 같은 초순수 제조 장치 (21) 의 전처리 장치 (22) 에서는, 원수 (W) 의 여과, 응집 침전, 정밀 여과막 등에 의한 전처리가 실시되고, 주로 현탁 물질이 제거된다.2, the conventional ultrapure
1 차 순수 제조 장치 (23) 는, 전처리수 (W1) 의 탱크 (25) 와 자외선 (UV) 산화 장치 (26) 와 재생형 이온 교환 장치 (혼상식 또는 4 상 5 탑식 등) (27) 와 막식 탈기 장치 (28) 를 갖고, 그 밖에 필요에 따라 RO 막 분리 장치나 전기 탈이온 장치 등을 구비하고 있어도 된다. 여기서 전처리수 (W1) 중의 대부분의 전해질, 미립자, 생균 등의 제거를 실시함과 함께 유기물을 분해한다.The primary pure
서브 시스템 (24) 은, 전술한 1 차 순수 제조 장치 (23) 로 제조된 1 차 순수 (W2) 를 저류하는 서브 탱크 (31) 와 이 서브 탱크 (31) 로부터 도시되지 않은 펌프를 통해 송급되는 1 차 순수 (W2) 를 처리하는 자외선 산화 장치 (32) 와 백금족 금속 촉매 수지탑 (33) 과 막식 탈기 장치 (34) 와 비재생형 혼상식 이온 교환 장치 (35) 와 막 여과 장치로서의 한외 여과 (UF) 막 (36) 으로 구성되고, 또한 필요에 따라 RO 막 분리 장치 등이 형성되어 있는 경우도 있다. 이 서브 시스템 (24) 에서는, 자외선 산화 장치 (32) 로 1 차 순수 (W2) 중에 포함되는 미량의 유기물 (TOC 성분) 을 자외선에 의해 산화 분해하고, 이 자외선의 조사에 의해 발생한 과산화수소를 백금족 금속 촉매 수지탑 (33) 에서 분해하고, 그 후단의 막식 탈기 장치 (34) 로 혼입되어 있는 DO (용존 산소) 등의 용존 가스를 제거한다. 계속해서 비재생형 혼상식 이온 교환 장치 (35) 로 처리함으로써, 잔류한 탄산 이온, 유기산류, 아니온성 물질, 나아가서는 금속 이온이나 카티온성 물질을 이온 교환에 의해 제거한다. 그리고, 한외 여과 (UF) 막 (36) 으로 미립자를 제거하여 초순수 (W3) 로 하고, 이것을 유즈 포인트 (37) 에 공급하고, 미사용의 초순수는 서브 탱크 (31) 에 환류한다.The
상기 서술한 바와 같은 종래의 초순수 제조 장치 (21) 에서는, 자외선 산화 장치 (32) 에 있어서의 TOC 성분의 산화 분해 기구는, 물을 산화 분해하여 OH 라디칼을 생성시키고, 이 OH 라디칼에 의해 TOC 성분을 산화 분해하는 것이고, 통상, 이 자외선 산화 장치 (32) 에 있어서의 자외선은, 수중의 TOC 를 충분히 산화 분해할 수 있는 과잉량이 조사된다. 이와 같이 자외선 산화 장치 (32) 의 자외선 조사량이 많으면, 물의 분해로 생성된 OH 라디칼이 과잉이 되기 때문에, 잉여의 OH 라디칼이 회합함으로써 과산화수소가 된다. 발생한 과산화수소는 후단의 백금족 금속 촉매 수지탑 (33) 과 접촉함으로써 분해된다.In the conventional ultrapure
그러나, 본 발명자들의 검토의 결과, 서브 시스템 (24) 의 자외선 산화 장치 (32) 가 장기간의 과산화수소의 분해를 실시하면 과산화수소의 제거 능력이 저하되는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. 이 결과, 초순수 (W3) 중에 과산화수소가 잔존하면 수질 저하의 원인이 될 뿐만 아니라, 비재생형 혼상식 이온 교환 장치 (35) 나 후단의 한외 여과 (UF) 막 (36) 을 열화시킬 우려가 있다. 또한, 과산화수소가 분해되면 산소를 생성함으로써 수중의 DO 가 증가하는 원인도 된다.However, as a result of the studies conducted by the present inventors, it has been found that the
본 발명은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 1 차 순수 장치와 서브 시스템을 구비하고, 이 서브 시스템에 자외선 산화 장치와 백금족 금속 촉매 수지탑을 갖는 초순수 제조 장치에 있어서의 백금족 금속 촉매 수지탑의 과산화수소 제거 능력의 저하를 억제한 초순수 제조 장치 및 이 초순수 제조 장치의 운전 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an ultrapure water producing apparatus having a primary pure water apparatus and a subsystem, and having an ultraviolet oxidation apparatus and a platinum group metal catalyst resin tower, And an object of the present invention is to provide an apparatus for producing ultrapure water suppressing deterioration of the hydrogen peroxide removing ability and a method of operating the ultrapure water producing apparatus.
본 발명은 첫 번째로, 자외선 산화 장치, 재생형 혼상식 이온 교환탑 또는 전기 탈이온 장치 및 막식 탈기 장치를 갖는 1 차 순수 장치와, 자외선 산화 장치, 백금족 금속 촉매 수지탑 및 막식 탈기 장치를 갖고, 그 1 차 순수 장치로부터 얻어진 1 차 순수를 처리하는 서브 시스템을 구비하는 초순수 제조 장치에 있어서, 상기 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑을 형성한, 초순수 제조 장치를 제공한다 (발명 1).The present invention firstly relates to a process for the preparation of a process for the preparation of a polymer electrolyte membrane, which comprises a primary pure water apparatus having an ultraviolet oxidation apparatus, a regenerative mixed ion exchange column or an electrodeionization apparatus and a membrane degassing apparatus, a ultraviolet oxidation apparatus, And a subsystem for processing primary pure water obtained from the primary pure water apparatus, characterized in that the ultrapure water producing apparatus has a platinum group metal catalyst resin tower formed at the downstream end of the ultraviolet oxidation apparatus of the primary pure water apparatus (Invention 1).
이러한 발명 (발명 1) 에 의하면, 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑을 형성함으로써, 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 후단의 백금족 금속 촉매 수지탑의 과산화수소 제거 능력의 저하를 억제할 수 있다. 이것은 이하와 같은 이유에 의한다. 즉, 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 후단의 백금족 금속 촉매 수지탑의 과산화수소 제거 능력의 저하는, 피처리수 중의 과산화수소에 대하여 수소가 당량 미만이고, 백금족 금속 촉매가 산화하기 때문인 것으로 생각된다. 다음으로 과산화수소에 대하여 수소가 부족한 원인에 대해 본 발명자들이 검토한 결과, 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치에 있어서, 유기물의 분해에 수반하여 과산화수소와 수소가 발생하고, 수소는 막식 탈기 장치로 제거되는 한편, 과산화수소는 서브 시스템에 유입되는 것이 원인인 것을 알 수 있었다. 그래서, 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑을 형성하여, 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치에서 발생하는 과산화수소를 분해해주면, 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 후단에서의 피처리수 중의 과산화수소가 감소하고, 수소가 과산화수소에 대하여 당량에 가까워져, 백금족 금속 촉매의 열화를 방지할 수 있다.According to the present invention (Invention 1), by forming the platinum group metal catalyst resin column at the rear end of the ultraviolet oxidation apparatus of the primary pure water apparatus, it is possible to reduce the hydrogen peroxide removal ability of the platinum group metal catalyst resin column at the downstream of the ultraviolet oxidation apparatus of the subsystem . This is for the following reasons. That is, it is considered that the decrease in the hydrogen peroxide removal capability of the platinum group metal catalyst resin tower at the downstream of the ultraviolet oxidation apparatus of the subsystem is due to hydrogen being less than the equivalent amount of hydrogen peroxide in the water to be treated and the oxidation of the platinum group metal catalyst. Next, as a result of investigation by the present inventors of the reason for the lack of hydrogen to hydrogen peroxide, it has been found that in the ultraviolet oxidation apparatus of the primary pure water apparatus, hydrogen peroxide and hydrogen are generated with decomposition of organic matter, and hydrogen is removed by a film degassing apparatus On the other hand, it was found that the hydrogen peroxide is caused by the inflow into the subsystem. Thus, when a platinum group metal catalyst resin tower is formed at the downstream of the ultraviolet oxidation unit of the primary pure water unit to decompose the hydrogen peroxide generated in the ultraviolet oxidation unit of the primary pure water unit, The hydrogen peroxide in the water decreases and the hydrogen becomes close to the equivalent amount with respect to the hydrogen peroxide, so that deterioration of the platinum group metal catalyst can be prevented.
상기 발명 (발명 1) 에 있어서는, 상기 서브 시스템이 비재생형 혼상식 이온 교환탑을 추가로 갖는 것이 바람직하다 (발명 2).In the above invention (Invention 1), it is preferable that the subsystem further has a non-regenerative mixed-bed ion exchange column (invention 2).
이러한 발명 (발명 2) 에 의하면, 피처리수 중에 포함되는 미량의 유기물이 자외선 산화 장치에 의해 분해되고, 잔류한 탄산 이온, 유기산류, 아니온성 물질이나 전단으로부터 유입해 오는 금속 이온이나 카티온성 물질을 이온 교환에 의해 제거할 수 있다.According to the invention (invention 2), a trace amount of organic matter contained in the for-treatment water is decomposed by the ultraviolet oxidation apparatus, and the residual carbonic ion, organic acid, anionic substance, Can be removed by ion exchange.
상기 발명 (발명 1, 2) 에 있어서는, 상기 1 차 순수 장치의 백금족 금속 촉매 수지탑 및 상기 서브 시스템의 백금족 금속 촉매 수지탑에 있어서의 백금족 금속이 백금, 팔라듐 또는 백금/팔라듐 합금인 것이 바람직하다 (발명 3).In the invention (
이러한 발명 (발명 3) 에 의하면, 처리수 중에 포함되는 미량의 과산화수소를 효율적으로 분해 제거할 수 있다.According to the invention (invention 3), hydrogen peroxide contained in the treated water can be efficiently decomposed and removed.
상기 발명 (발명 1 ∼ 3) 에 있어서는, 상기 백금족 금속이 평균 입자경 1 ∼ 50 ㎚ 의 백금족의 금속의 입자인 것이 바람직하다 (발명 4).In the above inventions (
이러한 발명 (발명 4) 에 의하면, 처리수 중에 포함되는 과산화수소를 특히 효율적으로 분해 제거할 수 있다.According to the invention (invention 4), hydrogen peroxide contained in the treated water can be decomposed and removed particularly efficiently.
본 발명은 두 번째로, 자외선 산화 장치, 백금족 금속 촉매 수지탑, 재생형 혼상식 이온 교환탑 또는 전기 탈이온 장치, 및 막식 탈기 장치를 갖는 1 차 순수 장치와, 자외선 산화 장치, 백금족 금속 촉매 수지탑 및 막식 탈기 장치를 갖고, 그 1 차 순수 장치로부터 얻어진 1 차 순수를 처리하는 서브 시스템을 구비하는 초순수 제조 장치의 운전 방법으로서, 피처리수를 상기 1 차 순수 장치 및 상기 서브 시스템에 연속해서 통수하여 초순수를 제조하는, 초순수 제조 장치의 운전 방법을 제공한다 (발명 5).The present invention secondly relates to a method for producing a platinum group metal catalyst, which comprises a first pure water apparatus having an ultraviolet oxidation apparatus, a platinum group metal catalyst resin tower, a regenerative mixed ion exchange tower or an electric deionization apparatus, and a film deaerator, 1. A method of operating an ultrapure water producing system having a top and a membrane degassing apparatus and a subsystem for treating primary pure water obtained from the primary pure water apparatus, Thereby producing ultrapure water, and a method of operating the ultrapure water producing apparatus (Invention 5).
이러한 발명 (발명 5) 에 의하면, 1 차 순수 장치의 상기 자외선 산화 장치의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑을 형성함으로써, 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치에서 발생하는 과산화수소를 분해할 수 있으므로, 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 후단에서의 피처리수 중의 과산화수소가 감소하고, 수소가 과산화수소에 대하여 당량에 가까워지기 때문에, 백금족 금속 촉매의 열화를 방지하면서 초순수를 제조할 수 있다.According to the invention (invention 5), since the hydrogen peroxide generated in the ultraviolet oxidation apparatus of the primary pure water apparatus can be decomposed by forming the platinum group metal catalyst resin tower at the downstream end of the ultraviolet oxidation apparatus of the primary pure water apparatus, The hydrogen peroxide in the water to be treated at the downstream end of the ultraviolet oxidation apparatus of the ultraviolet oxidation apparatus is reduced and the hydrogen becomes close to the equivalent amount to the hydrogen peroxide, so that the ultrapure water can be produced while preventing deterioration of the platinum group metal catalyst.
상기 발명 (발명 5) 에 있어서는, 상기 1 차 순수 장치의 백금족 금속 촉매 수지탑 및 상기 서브 시스템의 백금족 금속 촉매 수지탑에 있어서의 백금족 금속이 백금, 팔라듐 또는 백금/팔라듐 합금인 것이 바람직하다 (발명 6).In the invention (Invention 5), it is preferable that the platinum group metal in the platinum group metal catalyst catalyst resin column of the primary pure water unit and the platinum group metal catalyst resin column of the subsystem is platinum, palladium or platinum / palladium alloy 6).
이러한 발명 (발명 6) 에 의하면, 처리수 중에 포함되는 미량의 과산화수소를 효율적으로 분해 제거할 수 있다.According to the invention (invention 6), a very small amount of hydrogen peroxide contained in the treated water can be efficiently decomposed and removed.
상기 발명 (발명 5 또는 6) 에 있어서는, 상기 백금족 금속이 평균 입자경 1 ∼ 50 ㎚ 의 백금족의 금속의 입자인 것이 바람직하다 (발명 7).In the invention (
이러한 발명 (발명 7) 에 의하면, 처리수 중에 포함되는 과산화수소를 특히 효율적으로 분해 제거할 수 있다.According to the invention (invention 7), hydrogen peroxide contained in the treated water can be decomposed and removed particularly efficiently.
상기 발명 (발명 5 ∼ 7) 에 있어서는, 상기 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 처리수의 H2O2 농도가 10 ∼ 100 ㎍/ℓ 이고, 그 서브 시스템의 백금족 금속 촉매 수지탑의 처리수의 H2O2 농도가 0.1 ∼ 10 ㎍/ℓ 인 것이 바람직하다 (발명 8).In the above inventions (
이러한 발명 (발명 8) 에 의하면, 서브 시스템의 자외선 산화 장치 및 백금족 금속 촉매 수지탑의 처리수의 H2O2 농도가 상기 범위 내가 되도록 자외선 산화 장치 및 백금족 금속 촉매 수지탑에서의 처리 조건을 제어함으로써, 그 백금족 금속 촉매 수지탑의 후단의 막식 탈기 장치 등에 대한 악영향을 최소한으로 억제함과 함께, 얻어지는 초순수의 과산화수소 농도 및 용존 산소 농도를 매우 낮은 레벨로 할 수 있다.According to the invention (invention 8), the treatment conditions in the ultraviolet oxidation apparatus and the platinum group metal catalyst resin tower are controlled so that the H 2 O 2 concentration of the treated water of the ultraviolet oxidation apparatus and the platinum group metal catalyst resin tower of the sub- Adverse effects on the film-type degassing apparatus and the like at the rear end of the platinum group metal catalyst resin tower can be suppressed to the minimum, and the hydrogen peroxide concentration and dissolved oxygen concentration of the obtained ultrapure water can be set to a very low level.
본 발명에 의하면, 자외선 산화 장치에서 발생한 과산화수소를 분해한 1 차 순수를 서브 시스템에 공급하고 있고, 수반되어 오는 과산화수소가 적기 때문에, 그 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 후단에서의 처리수 중의 과산화수소 농도가 감소하고, 상대적으로 수소가 과산화수소에 대하여 당량에 가까워지므로, 백금족 금속 촉매의 열화를 방지하면서 초순수를 제조할 수 있다.According to the present invention, since the primary pure water obtained by decomposing hydrogen peroxide generated in the ultraviolet oxidation apparatus is supplied to the subsystem and the amount of accompanying hydrogen peroxide is small, the concentration of hydrogen peroxide in the treated water at the downstream of the ultraviolet oxidation apparatus of the subsystem is And relatively hydrogen is close to an equivalent amount to hydrogen peroxide, ultrapure water can be produced while preventing deterioration of the platinum group metal catalyst.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 초순수 제조 장치를 나타내는 플로도이다.
도 2 는, 종래의 초순수 제조 장치를 나타내는 플로도이다.1 is a flowchart showing an ultrapure water producing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart showing a conventional ultrapure water producing apparatus.
이하, 본 발명의 일 실시형태에 의한 초순수 제조 장치 및 이 장치의 운전 방법에 대해 도 1 을 참조하여 상세하게 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an ultrapure water producing apparatus and a method for operating the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to Fig.
도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 의한 초순수 제조 장치를 나타내는 플로도이고, 도 1 에 있어서, 초순수 제조 장치 (1) 는, 전처리 장치 (2) 와 1 차 순수 제조 장치 (3) 와 2 차 순수 제조 장치 (서브 시스템) (4) 의 3 단의 장치로 구성되어 있고, 전처리 장치 (2) 는, 공수 (工水), 정수 (井水), 시수 (市水) 등의 원수 (W) 의 여과, 응집 침전, 정밀 여과막 등에 의해 구성되어 있다.1, the ultrapure
1 차 순수 제조 장치 (3) 는, 피처리수로서의 전처리수 (W1) 의 탱크 (5) 와 자외선 (UV) 산화 장치 (6) 와 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 과 재생형 이온 교환 장치 (혼상식 또는 4 상 5 탑식 등) (8) 와 막식 탈기 장치 (9) 를 구비한다.The primary pure
서브 시스템 (4) 은, 전술한 1 차 순수 제조 장치 (3) 로 제조된 1 차 순수 (W2) 를 저류하는 서브 탱크 (11) 와 이 서브 탱크 (11) 로부터 송급되는 1 차 순수를 처리하는 자외선 산화 장치 (12) 와 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 과 막식 탈기 장치 (14) 와 비재생형 혼상식 이온 교환 장치 (15) 와 막 여과 장치로서의 한외 여과 (UF) 막 (16) 을 구비하고 있고, 한외 여과 (UF) 막 (16) 을 통과한 초순수 (W3) 가 유즈 포인트 (17) 에 공급된 후, 미사용의 초순수 (W3) 가 서브 탱크 (11) 에 환류되도록 구성되어 있다.The
상기 서술한 바와 같은 초순수 제조 장치 (1) 에 있어서, 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 및 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 에 충전하는 백금족 금속 촉매 수지는, 담체 수지에 백금족 금속을 담지시킨 것이다.In the ultrapure
이 백금족 금속을 담지시키는 담체 수지로는, 이온 교환 수지를 사용할 수 있고, 특히 아니온 교환 수지를 바람직하게 사용할 수 있다. 본 실시형태에 있어서 사용하는 아니온 교환 수지는, 스티렌-디비닐벤젠 공중합체를 모체로 한 강염기성 아니온 교환 수지인 것이 바람직하고, 특히 겔형 수지인 것이 바람직하다. 백금족 금속은, 부 (負) 에 대전하고 있으므로, 아니온 교환 수지에 안정적으로 담지되어 잘 박리되지 않는 것이 된다. 아니온 교환 수지의 교환기는, OH 형인 것이 바람직하다. OH 형 아니온 교환 수지는, 수지 표면이 알칼리성이 되어, 과산화수소의 분해를 촉진한다.As the carrier resin for supporting the platinum group metal, an ion exchange resin can be used, and particularly an anion exchange resin can be preferably used. The anion exchange resin used in the present embodiment is preferably a strongly basic anion exchange resin having a styrene-divinylbenzene copolymer as a matrix, and is preferably a gel-type resin. Since the platinum group metal is negatively charged, the platinum group metal is stably supported on the anion exchange resin and is not easily peeled off. The exchanger of the anion exchange resin is preferably of the OH type. The OH type anion exchange resin promotes the decomposition of hydrogen peroxide by making the resin surface alkaline.
또, 담지하는 백금족 금속은, 초순수에 대한 용출성이 낮고 또한 촉매 활성이 높기 때문에, 높은 통수 속도로 통수할 수 있으므로 어떠한 용출이 일어났다고 해도 용출물 농도가 억제되고, 조기의 수질 악화가 억제되는 점에 있어서 바람직하다. 이 백금족 금속으로는, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐 및 백금을 들 수 있다. 이들 백금족 금속은, 1 종을 단독으로 사용할 수 있고, 2 종 이상을 조합하여 사용할 수도 있고, 2 종 이상의 합금으로서 사용할 수도 있고, 혹은 천연으로 산출되는 혼합물의 정제품을 단체 (單體) 로 분리하지 않고 사용할 수도 있다. 이들 중에서 백금, 팔라듐, 백금/팔라듐 합금의 단독 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물은, 촉매 활성이 높으므로 특히 바람직하게 사용할 수 있다.Since the supported platinum group metal has low elution with respect to ultrapure water and has a high catalytic activity, it can flow at a high water flow rate, so that even if any elution occurs, the concentration of the eluent can be suppressed and deterioration of early water quality can be suppressed . Examples of the platinum group metals include ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium and platinum. These platinum group metals may be used singly or in combination of two or more kinds. Alternatively, they may be used as two or more kinds of alloys. Alternatively, a purified product of a naturally occurring mixture may be separated into a single substance It can also be used without. Of these, platinum, palladium, platinum / palladium alloy alone or a mixture of two or more of them is particularly preferably used because of its high catalytic activity.
특히 백금족 금속 촉매 수지로서, 전술한 담체 수지에 백금족의 금속의 나노오더의 입경의 입자를 담지시킨 것을 바람직하게 사용할 수 있다.Particularly, as the platinum group metal catalyst resin, it is preferable to use a carrier resin in which particles of a nano-order metal of platinum group are carried on the above-mentioned carrier resin.
백금족의 금속 나노 입자를 제조하는 방법에 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 금속염 환원 반응법, 연소법 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 금속염 환원 반응법은, 제조가 용이하고, 안정된 품질의 금속 나노 입자를 얻을 수 있으므로 바람직하게 사용할 수 있다. 금속염 환원 반응법이면, 예를 들어, 백금 등의 염화물, 질산염, 황산염, 금속 착화물 등의 0.1 ∼ 0.4 mmol/ℓ 수용액에, 알코올, 시트르산 또는 그 염, 포름산, 아세톤, 아세트알데히드 등의 환원제를 4 ∼ 20 당량배 첨가하고, 1 ∼ 3 시간 자비함으로써, 금속 나노 입자를 제조할 수 있다. 또, 예를 들어, 폴리비닐피롤리돈 수용액에, 헥사클로로백금산, 헥사클로로백금산칼륨 등을 1 ∼ 2 mmol/ℓ 용해하고, 에탄올 등의 환원제를 첨가하고, 질소 분위기하에서 2 ∼ 3 시간 가열 환류함으로써, 백금 나노 콜로이드 입자를 제조할 수도 있다.The method for producing the metal nanoparticles of the platinum group is not particularly limited, and examples thereof include a metal salt reduction reaction method and a combustion method. Among them, the metal salt reduction reaction method can be preferably used because it is easy to produce, and metal nanoparticles of stable quality can be obtained. In the metal salt reduction method, a reducing agent such as alcohol, citric acid or its salt, formic acid, acetone or acetaldehyde is added to an aqueous solution of 0.1 to 0.4 mmol / liter of a chloride, nitrate, sulfate, metal complex or the like such as
백금족의 금속 나노 입자의 평균 입자경은 1 ∼ 50 ㎚ 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 20 ㎚ 이고, 더욱 바람직하게는 1.4 ∼ 5 ㎚ 이다. 금속 나노 입자의 평균 입자경이 50 ㎚ 를 초과하면, 나노 입자의 비표면적이 작아져, 과산화수소의 분해 제거에 대한 촉매 활성이 저하될 우려가 있다. 한편, 금속 나노 입자의 평균 입자경이 1 ㎚ 미만이면, 과산화수소의 분해 제거에 대한 촉매 활성이 오히려 저하될 우려가 있다.The average particle diameter of the metal nanoparticles of the platinum group is preferably 1 to 50 nm, more preferably 1.2 to 20 nm, and still more preferably 1.4 to 5 nm. If the average particle diameter of the metal nanoparticles exceeds 50 nm, the specific surface area of the nanoparticles becomes small, and the catalytic activity for decomposition and removal of hydrogen peroxide may be lowered. On the other hand, if the average particle diameter of the metal nanoparticles is less than 1 nm, the catalytic activity for decomposition and removal of hydrogen peroxide may be lowered.
상기 서술한 바와 같은 아니온 교환 수지에 대한 백금족의 금속 나노 입자의 담지량은, 0.01 ∼ 0.2 중량% 인 것이 바람직하고, 특히 0.04 ∼ 0.1 중량% 인 것이 바람직하다. 금속 나노 입자의 담지량이 0.01 중량% 미만이면, 과산화수소의 분해 제거에 대한 촉매 활성이 부족할 우려가 있다. 금속 나노 입자의 담지량은 0.2 중량% 이하에서 과산화수소의 분해 제거에 대하여 충분한 촉매 활성이 발현되고, 통상적으로는 0.2 중량% 를 초과하는 금속 나노 입자를 담지시킬 필요는 없고, 오히려 경제적이지 않다. 또, 금속 나노 입자의 담지량이 증가하면, 수중에 대한 금속의 용출의 우려도 커진다.The supported amount of the platinum group metal nano-particles to the anion exchange resin as described above is preferably 0.01 to 0.2% by weight, more preferably 0.04 to 0.1% by weight. If the loading amount of the metal nanoparticles is less than 0.01% by weight, the catalytic activity for decomposition and removal of hydrogen peroxide may be insufficient. When the loading amount of the metal nanoparticles is 0.2 wt% or less, sufficient catalytic activity is exhibited for the decomposition and removal of hydrogen peroxide, and it is not necessarily economical to carry metal nanoparticles of more than 0.2 wt%. In addition, when the amount of metal nanoparticles to be loaded increases, there is also a concern of elution of metal into water.
다음으로 상기 서술한 바와 같은 구성을 갖는 본 실시형태의 초순수 제조 장치 (1) 의 운전 방법에 대해 설명한다.Next, a method of operating the ultrapure
먼저, 원수 (W) 를 전처리 장치 (2) 로 응집 침전, 응집 여과, 응집 가압 부상 등의 조작에 의해 처리함으로써, 주로 원수 (W) 중의 탁질을 제거한다. 이 전처리수 (W1) 는 일단 탱크 (5) 에 저류되고, 도시되지 않은 펌프에 의해 1 차 순수 장치 (3) 에 송급된다.First, the raw water W is mainly removed by the
1 차 순수 장치 (3) 에 있어서, 자외선 (UV) 산화 장치 (6) 로 전처리수 (W1) 중의 유기물 (TOC) 이 산화되어 유기산이 되고, 나아가 이산화탄소가 된다. 또, 자외선 산화 처리 장치 (6) 로 과잉으로 조사된 자외선에 의해, 전처리수 (W1) 의 수분의 분해에 의해 OH 라디칼과 수소가 발생하고, 잉여의 OH 라디칼이 회합함으로써 과산화수소가 된다. 이 결과, 자외선 산화 장치 (6) 의 처리수의 H2O2 농도는 10 ∼ 100 ㎍/ℓ 가 된다. 또한, 수소는 후술하는 막식 탈기 장치 (9) 로 제거된다. 이 결과, 종래는 과산화수소 농도가 높고 수소가 감소된 처리수가, 1 차 순수로서 서브 시스템 (4) 에 공급되고, 이것이 서브 시스템측의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 기능의 저하의 원인이 되고 있었다.In the primary
그래서, 본 실시형태에 있어서는, 이 자외선 산화 장치 (6) 의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 을 형성함으로써, 발생한 과산화수소를 분해한다. 이로써 H2O2 농도는 0.1 ∼ 10 ㎍/ℓ 정도, 특히 백금족의 금속 나노 입자를 사용한 경우에는, H2O2 농도는 0.1 ∼ 1 ㎍/ℓ 정도로, 자외선 산화 장치 (6) 의 처리수보다 저감된다. 그리고, 재생형 이온 교환 장치 (혼상식 또는 4 상 5 탑식 등) (8) 로 전처리수 (W1) 중의 대부분의 전해질 (이온성 성분) 을 제거하고, 또한 막식 탈기 장치 (9) 로 용존 산소 등의 용존 가스를 제거하여, 유기물 (TOC) 2 ppb 이하, H2O2 농도 0.1 ∼ 10 ㎍/ℓ 의 1 차 순수 (W2) 를 얻는다. 이 1 차 순수 (W2) 는, 일단 서브 탱크 (11) 에 저류된 후, 도시되지 않은 펌프에 의해 서브 시스템 (4) 에 보내진다.Thus, in the present embodiment, the hydrogen peroxide generated is decomposed by forming the platinum group metal
다음으로 서브 시스템 (4) 에서는, 자외선 (UV) 산화 장치 (12) 에 있어서 1 차 순수 (W2) 중에 잔존하는 미량의 유기물이 산화되어 유기산이 되고, 나아가 이산화탄소가 된다. 이 때 유기물을 극한까지 제거하기 위해 자외선 산화 처리 장치 (12) 에서는 과잉으로 자외선이 조사되므로, 1 차 순수 (W2) 의 수분의 분해로 생성된 OH 라디칼이 과잉이 되기 때문에, 잉여의 OH 라디칼이 회합함으로써 과산화수소가 발생한다. 이로써 1 차 순수 (W2) 중의 H2O2 농도는 0.1 ∼ 10 ㎍/ℓ 정도 내지 10 ∼ 100 ㎍/ℓ 정도가 되고, 1 차 순수 (W2) 보다 증가한다.Next, in the
그리고, 발생한 과산화수소는 후단의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 에서 분해되어, H2O2 농도는 10 ㎍/ℓ 이하 정도, 특히 백금족의 금속 나노 입자를 사용한 경우에는, H2O2 농도는 5 ㎍/ℓ 이하, 특히 1 ㎍/ℓ 이하로, 자외선 산화 처리 장치 (12) 의 처리수보다 저하된다.The generated hydrogen peroxide is decomposed in the platinum group metal
한편, 과산화수소의 분해에 의해 산소도 발생하고, 이것에서 기인하여 용존 산소가 증가하므로, 후단에 형성된 막식 탈기 장치 (14) 로 용존 산소를 제거한다. 그리고, 미량 잔류하고 있는 탄산 이온, 유기산류, 아니온성 물질이나 전단으로부터 유입해 오는 금속 이온이나 카티온성 물질을 비재생형 혼상식 이온 교환 장치 (15) 로 제거하고, 또한 한외 여과 (UF) 막 (16) 으로 미립자를 제거하여 초순수 (W3) 를 제조할 수 있다. 이 초순수 (W3) 를 유즈 포인트 (17) 에 공급하고, 미사용의 초순수 (W3) 는 서브 탱크 (11) 에 환류한다.On the other hand, oxygen is also generated by the decomposition of hydrogen peroxide, and dissolved oxygen is increased due to this, so that dissolved oxygen is removed by the
또한, 본 실시형태에 있어서의 초순수 (W3) 는, 예를 들어, 저항률 : 18.1 MΩ·㎝ 이상, 미립자 : 입경 50 ㎚ 이상이고 1000 개/ℓ 이하, 생균 : 1 개/ℓ 이하, TOC (Total Organic Carbon) : 1 ㎍/ℓ 이하, 전체 실리카 : 0.1 ㎍/ℓ 이하, 금속류 : 1 ng/ℓ 이하, 이온류 : 10 ng/ℓ 이하의 성상을 갖는 것이다.The ultrapure water W3 in the present embodiment has a resistivity of 18.1 M? 占 ㎝ m or more, a fine particle diameter of 50 nm or more and 1000 pieces / Organic Carbon: not more than 1 / / ℓ, total silica not more than 0.1 ㎍ / ℓ, metals: not more than 1 ng / ℓ, and ionic species: not more than 10 ng / ℓ.
특히 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 백금족 금속 촉매 수지로서, 백금족의 금속 나노 입자를 아니온 교환 수지에 담지한 것을 사용한 경우, 이 백금족의 금속 나노 입자를 담지한 아니온 교환 수지는, 비표면적이 크기 때문에, 과산화수소 분해의 반응 속도가 매우 빠르고, 통수 공간 속도를 높게 할 수 있다. 촉매의 양에 비해 통수량이 많기 때문에, 촉매로부터 처리수에 용출되는 금속의 영향을 매우 작게 할 수 있다. 또한 수중의 과산화수소는, 아니온 교환 수지에 담지된 백금족의 금속 나노 콜로이드 입자와 접촉하여 신속하게 분해되고, 아니온 교환 수지에 작용하는 경우가 없기 때문에, 아니온 교환 수지가 과산화수소에 침해되어 유기체 탄소 (TOC) 가 용출될 우려도 없다.Particularly, when the platinum group metal catalyst resin of the platinum group metal
이상, 본 발명의 일 실시형태에 대해 첨부 도면을 참조하여 설명해 왔지만, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 1 차 순수 장치 (3) 의 자외선 (UV) 산화 장치 (6) 의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 을 형성하면 되고, 여러 가지의 변형 실시가 가능하다. 예를 들어, 서브 시스템 (4) 의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 백금족 금속 촉매 수지로는, 백금족의 금속 나노 입자를 담지한 아니온 교환 수지를 사용하는 것이 바람직하지만, 이 경우 1 차 순수 장치 (3) 의 자외선 (UV) 산화 장치 (6) 의 후단의 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 으로는, 동일하게 백금족의 금속 나노 입자를 담지한 아니온 교환 수지를 사용해도 되고, 혹은 범용적인 백금족 금속 촉매 수지를 사용하여, 양자를 상이하게 해도 된다. 또, 1 차 순수 장치 (3) 및 서브 시스템 (4) 에는 필요에 따라 RO 막 분리 장치나 전기 탈이온 장치 등의 탈염 수단이나 다른 각종 엘리먼트를 형성해도 되고, 1 차 순수 장치 (3) 의 전단에 추가로 순수 제조 장치를 형성하여 순수 제조 장치를 3 단 구성으로 해도 된다.Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and that the ultraviolet (UV)
실시예Example
이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
[실시예 1][Example 1]
평균 입자경 3.5 ㎚ 의 백금 나노 콜로이드 입자를, 0.07 중량% 의 담지량으로 강염기성 겔형 아니온 교환 수지에 담지시키고, 백금족 금속 촉매 수지로서, 백금족의 금속 나노 입자를 담지한 아니온 교환 수지를 조제하였다.Platinum nanocolloidal particles having an average particle diameter of 3.5 nm were supported on a strongly basic gel type anion exchange resin with a loading amount of 0.07 wt% to prepare an anion exchange resin carrying platinum group metal nanoparticles as a platinum group metal catalyst resin.
도 1 에 나타내는 장치 구성의 초순수 제조 장치 (1) 에 있어서, 상기 서술한 백금족 금속 촉매 수지를 사용하여 백금족 금속 촉매 수지탑 (7, 13) 을 구성하여 초순수 (W3) 를 제조하고, 서브 시스템 (4) 의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 입구수 및 출구수의 과산화수소 농도 (초기) 를 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 이 초순수 제조 장치 (1) 의 운전을 장기간 계속한 후의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 출구수의 과산화수소 농도 (말기) 를 측정하였다. 결과를 표 1 에 함께 나타낸다. 또한, 과산화수소 농도는, 페놀프탈레인 4.8 mg, 황산구리 (무수) 8 mg 및 수산화나트륨 48 mg 에 황산나트륨 (무수) 을 첨가하여 10 g 으로 하고, 미량 과산화수소 농도 정량용 시약을 조제한다. 시험수 10 ㎖ 에 그 시약 0.5 g 을 첨가, 용해하고, 실온에서 10 분간 정치 (靜置) 한 후의 552 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 측정값에 기초하여 산정하였다.The ultrapure water W3 is produced by constituting the platinum group metal
[비교예 1][Comparative Example 1]
실시예 1 에 있어서, 1 차 순수 장치 (3) 의 자외선 산화 장치 (6) 의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 을 형성하지 않았던 것 이외에는 동일하게 하여 초순수 제조 장치를 구성하여 초순수 (W3) 를 제조하고, 서브 시스템 (4) 의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 입구수 및 출구수의 과산화수소 농도 (초기) 를 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 이 초순수 제조 장치 (1) 의 운전을 장기간 계속한 후의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 출구수의 과산화수소 농도 (말기) 를 측정하였다. 결과를 표 1 에 함께 나타낸다.Except that the platinum group metal
표 1 로부터 분명한 바와 같이, 1 차 순수 장치 (3) 의 자외선 산화 장치 (6) 의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑 (7) 을 갖지 않는 비교예 1 에서는 장기간 운전 후의 초순수 (W3) 의 과산화수소 농도의 상승이 현저한 것에 대하여, 실시예 1 에서는 거의 변화가 없었다.As is apparent from Table 1, in Comparative Example 1 in which the platinum group metal
[비교예 2, 3 및 참고예][Comparative Examples 2 and 3 and Reference Example]
비교예 1 에 있어서, 장기간 운전 후의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 수지를 표층부, 중부, 하부의 3 영역으로 분별하여 취출하고, 표층부 및 중부의 수지를 각각의 시험용의 칼럼에 충전하여, 시험용의 백금족 금속 촉매 수지탑으로 하였다. 또, 참고예로서 신품의 수지를 동일하게 시험용의 칼럼에 충전하여, 백금족 금속 촉매 수지탑으로 하였다.In the comparative example 1, the resin of the platinum group metal
초순수 (과산화수소 1 ㎍/ℓ 미만) 에 과산화수소를 각각 300 ㎍/ℓ 및 1000 ㎍/ℓ 첨가하여 시험용 입구수를 조제하고, 이 시험용 입구수를 상기 서술한 시험용 칼럼에 통수 속도 (SV) 300 hr-1 로 하향류 통수한 후의 출구수의 과산화수소 농도를 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Deionized water (
표 2 로부터 분명한 바와 같이, 장기간 운전 후의 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 의 표층부의 수지를 칼럼에 충전한 비교예 2 쪽이 중부의 수지를 칼럼에 충전한 비교예 3 보다 처리수의 과산화수소의 농도가 낮았다. 이로써 중부의 수지 쪽이 과산화수소 분해능의 저하가 큰 것을 알 수 있다. 백금족 금속 촉매 수지탑 (13) 에 하향류로 통수한 경우에는, 표층부로부터 하방으로 감에 따라 과산화수소 농도는 낮아지는 한편, 용존 수소 농도는 저감되어 가는 점에서, 과산화수소 분해능의 저하는, 수소 부족에서 기인하는 산화 열화에 의한 것이라고 추측된다.As is apparent from Table 2, in Comparative Example 2 in which the column surface layer resin of the platinum group metal
1 : 초순수 제조 장치
3 : 1 차 순수 제조 장치
4 : 서브 시스템 (2 차 순수 제조 장치)
6 : 자외선 산화 장치
7 : 백금족 금속 촉매 수지탑
8 : 재생형 이온 교환 장치
9 : 막식 탈기 장치
12 : 자외선 산화 장치
13 : 백금족 금속 촉매 수지탑
14 : 막식 탈기 장치
15 : 비재생형 혼상식 이온 교환 장치
W : 원수
W1 : 전처리수
W2 : 1 차 순수
W3 : 초순수 (2 차 순수)1: Ultrapure water producing device
3: Primary pure water production equipment
4: Subsystem (Secondary pure water manufacturing device)
6: ultraviolet oxidation apparatus
7: Platinum group metal catalyst resin tower
8: Regenerative ion exchanger
9: Membrane degasser
12: Ultraviolet oxidation apparatus
13: Platinum group metal catalytic resin tower
14: Membrane degasser
15: Non-regenerative mixed-bed ion exchange apparatus
W: enemies
W1: preprocessing number
W2: Primary pure water
W3: Ultrapure water (secondary pure water)
Claims (8)
상기 1 차 순수 장치의 자외선 산화 장치의 후단에 백금족 금속 촉매 수지탑을 형성한, 초순수 제조 장치.A primary pure water device having an ultraviolet oxidation device, a regenerative mixed-bed ion exchange column or an electric deionization device and a film degassing device, an ultraviolet oxidation device, a platinum group metal catalyst resin bed and a film degassing device, In an ultrapure water producing apparatus provided with a subsystem for processing the obtained primary pure water,
Wherein a platinum group metal catalyst resin tower is formed on the downstream side of the ultraviolet oxidation unit of the primary pure water unit.
상기 서브 시스템이 비재생형 혼상식 이온 교환탑을 추가로 갖는, 초순수 제조 장치.The method according to claim 1,
Wherein the subsystem further has a non-regenerative mixed-phase ion exchange column.
상기 1 차 순수 장치의 백금족 금속 촉매 수지탑 및 상기 서브 시스템의 백금족 금속 촉매 수지탑에 있어서의 백금족 금속이 백금, 팔라듐 또는 백금/팔라듐 합금인, 초순수 제조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the platinum group metal catalyst resin bed of the primary pure water unit and the platinum group metal in the platinum group metal catalyst bed of the subsystem are platinum, palladium or platinum / palladium alloy.
상기 백금족 금속이 평균 입자경 1 ∼ 50 ㎚ 의 백금족의 금속의 입자인, 초순수 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the platinum group metal is particles of a platinum group metal having an average particle diameter of 1 to 50 nm.
피처리수를 상기 1 차 순수 장치 및 상기 서브 시스템에 연속해서 통수하여 초순수를 제조하는, 초순수 제조 장치의 운전 방법.A primary pure water unit having a ultraviolet oxidation unit, a platinum group metal catalyst resin tower, a regenerative mixed-bed ion exchange column or an electric deionization unit, and a film deaerator, an ultraviolet oxidation unit, a platinum group metal catalyst resin tower, and a film degasser And a sub-system for processing primary pure water obtained from the primary pure water system, the method comprising:
And the water to be treated is continuously passed through the primary pure water device and the subsystem to produce ultrapure water.
상기 1 차 순수 장치의 백금족 금속 촉매 수지탑 및 상기 서브 시스템의 백금족 금속 촉매 수지탑에 있어서의 백금족 금속이 백금, 팔라듐 또는 백금/팔라듐 합금인, 초순수 제조 장치의 운전 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the platinum group metal catalyst resin bed of the primary pure water unit and the platinum group metal in the platinum group metal catalyst bed of the subsystem are platinum, palladium or platinum / palladium alloy.
상기 백금족 금속이 평균 입자경 1 ∼ 50 ㎚ 의 백금족의 금속의 입자인, 초순수 제조 장치의 운전 방법.The method according to claim 5 or 6,
Wherein the platinum group metal is particles of a platinum group metal having an average particle size of 1 to 50 nm.
상기 서브 시스템의 자외선 산화 장치의 처리수의 H2O2 농도가 10 ∼ 100 ㎍/ℓ 이고, 그 서브 시스템의 백금족 금속 촉매 수지탑의 처리수의 H2O2 농도가 0.1 ∼ 10 ㎍/ℓ 인, 초순수 제조 장치의 운전 방법.8. The method according to any one of claims 5 to 7,
H 2 O 2 concentration of the treated water of the ultraviolet oxidation device of the subsystem, and 10 ~ 100 ㎍ / ℓ, the platinum group H 2 O 2 concentration in the treated metal catalyst resin column of the sub-system 0.1 ~ 10 ㎍ / ℓ The operation method of the ultrapure water producing apparatus.
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