KR20190061643A - 기판 처리용 챔버 - Google Patents

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KR20190061643A
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이재홍
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

본 발명은 초임계유체 공급장치에 관한 것으로, 기판이 출입하는 개구부와 셔터가 접촉하여 발생하는 파티클에 의한 공정 환경 오염을 방지할 수 있는 기판 처리용 챔버를 제공함에 그 목적이 있다. 이를 구현하기 위한 본 발명의 기판 처리용 챔버는, 기판 처리가 이루어지는 챔버의 일측에 형성된 개구부를 개폐하는 셔터;를 포함하되, 상기 챔버 또는 셔터 일측에 배치되는 가이드부재가 형성되고, 상기 가이드부재에는 흡입부가 연결되어 이루어진다.

Description

기판 처리용 챔버{Treating Substrate Chamber}
본 발명은 기판 처리용 챔버에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판이 출입하는 개구부와 셔터가 접촉하여 발생하는 파티클에 의한 공정 환경 오염을 방지할 수 있는 기판 처리용 챔버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 리소그래피(lithography), 증착(Deposition) 및 식각(etching), 감광제(Photoresist)의 도포(Coating), 현상(Develop), 세정 및 건조공정 등의 복수의 기판 처리를 반복적으로 진행하여 제조된다.
각 공정은 각각의 목적에 맞는 공정유체를 이용하여 이루어지며 각 공정유체에 맞는 공정 환경이 요구되므로, 해당 환경이 조성되는 챔버 내부에 기판을 수용하여 기판 처리 공정을 수행하는 것이 일반적이다.
이중 기판 세정 및 건조공정의 반복 수행이 특히 중요한데, 각 공정을 거치는 동안 기판에는 금속 불순물, 유기물 등의 파티클이 잔존하게 되기 때문이다.
이와 같은 오염물질은 기판의 공정불량을 일으키고 제품의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에 각 공정은 외부로부터 파티클이 유입되는 것을 방지하기 위해 밀폐된 챔버에서 수행되며, 각 공정의 완료시마다 세정 및 건조공정이 수행된다.
도 1은 종래 기술에 의해 밀폐된 환경이 조성된 챔버(10)를 보여주는 도면이다.
상기 챔버(10)는, 기판(W)을 지지하는 척(11)과 척핀(12), 상기 척(11)을 지지하는 지지대(13)를 포함하여 이루어진다.
상기 챔버(10)의 일측에는 상기 기판(W)이 출입하는 개구부(15)가 형성되며, 상기 개구부(15)에는 셔터(20)가 구비된다.
상기 셔터(20)는, 상기 개구부(15)의 상측으로 이동하여 상기 개구부(15)를 개방하며, 개방된 상기 개구부(15)를 통해 상기 기판(W)이 상기 챔버(10)에 유입되거나 상기 챔버(10)로부터 배출된다.
상기 챔버(10)에 유입된 상기 기판(W)은 상기 척(11)의 척핀(12) 위에 올려져 기판 처리 공정을 수행하며, 이때 상기 셔터(20)는 상기 개구부(15)를 완전히 덮는 위치로 이동하여 상기 개구부(15)를 밀폐한다.
이때, 상기 셔터(20)와 상기 개구부(15)가 접촉하여 밀착하게 되며 파티클이 발생할 수 있었고, 상기 파티클이 상기 챔버(10) 내부의 공정 환경에 영향을 끼쳐 상기 기판(W)의 공정 불량을 유발할 수 있었다.
또한, 상기 기판(W)의 입출을 위해 상기 개구부(15)가 개방될 때 상기 개구부(15)를 통해 외기 또는 외부 파티클이 상기 챔버(10)에 유입될 수 있어, 이 역시 상기 챔버(10) 내부의 공정 환경에 영향을 끼쳐 상기 기판(W)의 공정 불량을 유발하는 원인이 되었다.
상기한 바와 같은 셔터(20)를 이용하는 기판 처리용 챔버에 대한 선행기술의 일례로 대한민국 공개특허 10-2016-0014459호가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 셔터와 개구부의 접촉으로 인한 파티클 발생을 방지하여 기판의 공정 환경을 유지하고 기판의 공정 불량을 방지할 수 있는 기판 처리용 챔버를 제공하고자 한다.
또한, 외기 또는 외부 파티클이 개구부를 통해 챔버에 유입되는 것을 방지하여 기판의 공정 환경을 유지하고 공정 불량을 방지할 수 있는 기판 처리용 챔버를 제공하고자 한다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 기판 처리용 챔버는, 기판 처리가 이루어지는 챔버의 일측에 형성된 개구부를 개폐하는 셔터;를 포함하되, 상기 챔버 또는 셔터 일측에 배치되는 가이드부재가 형성되고, 상기 가이드부재에는 흡입부가 연결되어 이루어진다.
상기 가이드부재 또는 상기 셔터에는 비활성 기체 분사부가 구비되며, 상기 비활성 기체 분사부로부터 분사되는 비활성 기체가 상기 개구부를 차단하는 에어막을 형성할 수 있다.
상기 비활성 기체는 질소 기체일 수 있다.
상기 가이드부재는 상기 개구부를 사이에 두고 양측에서 마주보도록 형성되며, 상기 가이드부재의 내측으로 그루브가 형성되고, 상기 셔터가 상기 그루브에 인입된 경우 상기 개구부가 열리고, 상기 셔터가 상기 그루브로부터 인출된 경우 상기 개구부가 닫히도록 이루어질 수 있다.
상기 셔터는 미닫이 방식으로 상기 개구부를 개폐하도록 이루어지며, 상하방향 또는 좌우방향으로 이동하여 상기 개구부를 개폐하도록 이루어질 수 있다.
상기 가이드부재의 외측으로는 상기 셔터를 구동시키는 구동부가 더 구비되며, 상기 구동부는 실린더의 압축과 신장을 이용하여 상기 셔터를 구동시키도록 이루어질 수 있다.
상기 가이드부재의 내측에는 상기 셔터와의 거리를 측정하여 상기 셔터의 위치를 감지하는 감지센서가 구비될 수 있으며, 제어부에서 상기 감지센서의 측정 정보를 수신하여 상기 셔터의 위치를 제어할 수 있다.
상기 감지센서에서 감지한 상기 셔터의 위치에 따라 일정 신호를 발생시키는 신호발생부가 더 구비될 수 있다.
상기 감지센서는 레이저센서일 수 있으며, 초음파센서일 수 있고, 카메라센서일 수도 있다.
상기 진공 흡입부는 상기 가이드부재의 내측에 복수 개 구비될 수 있다.
상기 틈새는 1mm 내지 3mm 간격으로 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 초임계유체 공급장치에 의하면, 개구부에 비접촉 셔터를 구비함으로써 셔터와 개구부의 접촉으로 인한 파티클 발생을 방지하여 기판의 공정 환경을 유지하고 기판의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 개구부를 통과하는 외기 또는 외부 파티클을 흡입하는 진공 흡입부를 구비함으로써 챔버 내부를 실질적 밀폐 상태로 만들어 기판의 공정 환경을 유지하고 기판의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 개구부에 에어막을 형성함으로써 개구부를 통한 외기 또는 외부 파티클의 챔버 유입을 차단하여 기판의 공정 환경을 유지하고 기판의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 감지센서를 통해 셔터의 위치를 감지하고 제어하여 셔터와 개구부의 적절한 틈새 간격을 유지할 수 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 기판 처리용 챔버의 구성을 개략적으로 보여주는 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예에 의해 개구부가 열린 기판 처리용 챔버의 구성을 개략적으로 보여주는 도면.
도 3은 본 발명의 일실시예에 의해 개구부가 닫힌 기판 처리용 챔버의 구성을 개략적으로 보여주는 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예에 의해 진공 흡입부 및 개구부가 개폐될 때의 개구부와 셔터의 위치를 개략적으로 보여주는 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 의해 양측에서 마주보는 가이드부재의 일측 끝단에 구비되는 비활성 기체 분사부에서 비활성 기체가 분사되어 상기 개구부를 차단하는 에어막이 형성된 것을 보여주는 도면.
도 6은 도 5의 X 방향에서 바라본 가이드부재와 비활성 기체 분사부의 위치를 나타낸 도면.
도 7은 본 발명의 일실시예에 의해 가이드부재의 내측면에 구비되는 비활성 기체 분사부에서 비활성 기체가 분사되어 상기 개구부를 차단하는 에어막이 형성된 것을 보여주는 도면.
도 8은 본 발명의 일실시예에 의해 가이드부재의 외측면에 구비되는 비활성 기체 분사부에서 비활성 기체가 분사되어 상기 개구부를 차단하는 에어막이 형성된 것을 보여주는 도면.
도 9는 본 발명의 일실시예에 의해 셔터의 측면에 구비되는 비활성 기체 분사부에서 비활성 기체가 분사되어 에어막이 형성된 것을 보여주는 도면.
도 10은 본 발명의 일실시예에 의해 셔터의 측면에 양방향으로 비활성 기체를 분사하는 비활성 기체 분사부가 구비되어 상기 개구부를 차단하는 에어막이 형성된 것을 보여주는 도면.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 의한 기판 처리용 챔버(100)는, 도 2와 도 3에 나타난 바와 같이, 기판(W)의 처리가 이루어지는 챔버(100)와, 상기 챔버(100)의 일측에 형성된 개구부(150)를 개폐하는 셔터(200)를 포함하되, 상기 셔터(200)의 양측면과 틈새(d)를 두도록 상기 챔버(100) 일측에 배치되는 가이드부재(300)가 형성되고, 상기 가이드부재(300)에는 진공 흡입부(400)가 연결되어 이루어진다.
상기 기판(W)은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼일 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 기판(W)은 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용으로 사용하는 유리 등의 투명 기판일 수 있다. 또한, 상기 기판(W)은 형상 및 크기가 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 원형 및 사각형 플레이트 등 실질적으로 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다.
상기 챔버(100) 내부에는 상기 기판(W)을 지지하는 척(110)이 구비될 수 있으며, 상기 기판(W)에 형상 및 크기에 따라 상기 챔버(100)와 상기 척(110)의 크기와 형상이 변경될 수 있다.
상기 척(110) 상에는 기판(W)이 안착될 수 있도록 기판(W) 둘레를 따라 등간격으로 배치되는 복수의 척핀(120)이 구비되며, 상기 기판(W)의 형상 및 크기에 따라 상기 척핀(120)의 개수와 형상이 다양하게 변경될 수 있다.
상기 척(110)의 하부에는 상기 척(110)을 지지하기 위한 지지대(130)가 구비된다.
상기 척(110)은 회전 가능하게 구비되는 스핀척일 수 있으며, 상기 지지대(130)는 회전력을 제공하는 모터를 포함하는 구동부(미도시)가 연결되어 상기 척(110)을 소정 속도로 회전 또는 승강시키는 구동축일 수 있다.
상기 가이드부재(300)는, 상기 개구부(150)의 외측에 구비되며, 상기 개구부(150)를 사이에 두고 양측에서 또는 상하와 좌우 방향에서 마주보는 형태로 이루어질 수 있다.
상기 셔터(200)는 미닫이 방식으로 상기 개구부(150)를 개폐하도록 이루어지며, 상기 가이드부재(300)는 상기 셔터(200)를 둘러싸고 가이드하는 미닫이틀 역할을 할 수 있다.
이때, 상기 가이드부재(300)의 내측으로는 그루브(310)가 형성되어, 상기 셔터(200)가 상기 그루브(310)에 인입된 경우 상기 개구부(150)가 열리고, 상기 셔터(200)가 상기 그루브(310)로부터 인출된 경우 상기 개구부(150)가 닫히도록 이루어질 수 있다.
상기 그루브(310) 내벽에는 상기 그루브(310) 내벽으로부터 상기 셔터(200)까지의 거리를 측정하여 상기 셔터(200)의 위치를 감지하는 감지센서(미도시)가 구비될 수 있다.
상기 감지센서는 빛의 반사를 이용하여 거리를 측정하는 레이저센서일 수 있으며, 파동의 반사를 이용하여 거리를 측정하는 초음파센서일 수 있다.
또한, 상기 감지센서는 일정 시간 간격으로 사진을 찍어 상기 셔터(200)의 위치를 파악하는 카메라센서일 수 있다.
상기 감지센서에서 측정되는 상기 셔터(200)의 위치 정보는 제어부(미도시)에 송신되며, 상기 제어부에서 상기 셔터(200)를 제어하여 상기 그루브(310) 내벽과 상기 셔터(200) 사이의 상기 틈새(d)가 일정 간격 이상으로 유지되도록 할 수 있다.
또한, 상기 감지센서에서 감지한 상기 셔터(200)의 위치에 따라 일정 신호를 발생시키는 신호발생부(미도시)가 더 구비될 수 있다.
상기 신호발생부는 상기 틈새(d)가 일정 간격 이하로 좁아지는 경우 일정 신호를 발생시켜 신호를 수신한 사용자가 상기 틈새(d)를 일정 간격 이상으로 조절하도록 할 수 있다.
상기 틈새(d)는 1mm 내지 3mm의 간격을 유지하도록 할 수 있다.
상기 셔터(200)에는 상기 셔터(200)를 구동시키는 구동부(210)가 구비되며, 상기 구동부(210)는 상기 가이드부재(300)의 외측에 위치할 수 있다.
상기 구동부(210)는 실린더를 이용하도록 구성될 수 있으며, 상기 셔터(200)를 상하방향 또는 좌우방향으로 구동시켜 상기 개구부(150)를 개폐할 수 있다.
도 2를 참조하면, 상기 구동부(210)의 실린더가 구동되면 상기 셔터(200)가 하강하여 상기 가이드부재(300) 하측의 그루브(310a,310)에 인입되고, 이로 인해 상기 개구부(150)가 열린 상태가 되어 상기 기판(W)이 상기 챔버(100)에 출입할 수 있다.
도 3을 참조하면, 상기 구동부(210)의 실린더가 구동되면 상기 셔터(200)가 상기 개구부(150)를 덮어 가로막는 위치까지 상승하고, 이로 인해 상기 개구부(150)가 닫힌 상태가 된다.
이때, 상기 진공 흡입부(400)는 상기 그루브(310) 내측으로부터 유체 및 파티클을 흡입하여, 상기 틈새(d)를 통해 외기 및 외부 파티클이 상기 챔버(100) 내부로 유입되는 것을 방지함으로써, 상기 챔버(100) 내부에 실질적 밀폐 환경을 조성한다.
따라서, 상기 틈새(d)는 상기 가이드부재(300)와 상기 셔터(200)가 접촉하지 않도록 일정 간격 이상을 유지해야 하는 동시에 상기 챔버(100)의 밀폐를 위해 되도록 좁은 간격으로 이루어질 필요가 있고, 바람직하게는 1mm 내지 3mm 간격으로 이루어질 수 있다.
상기 진공 흡입부(400)는 상기 그루브(310) 내측의 유체 및 파티클을 외부로 배출하는 배기장치(exhaust)일 수 있으며, 상기 그루브(310) 내측을 진공상태로 만드는 진공발생장치(vacuum)일 수 있다.
도 4는 상기 도 2와 도 3의 X 위치에서 화살표 방향으로 바라본 상기 챔버(100)를 개략적으로 도시한 것으로, 상기 개구부(150)가 위치하는 측 상기 챔버(100)의 측면도이다. 이를 참조하여 상기 개구부(150)와 상기 셔터(200) 및 상기 진공흡입부(400)의 위치에 대해 상세히 설명한다.
도 4-(a)는, 상기 셔터(200)가 상하방향으로 구동하여 상기 개구부(150)를 개폐하는 경우로, 상기 셔터(200)가 상승 구동하여 상기 개구부(150)를 덮어 가로막는 위치(200a-1)에 위치하면 상기 개구부(150)가 닫힌 상태가 되며, 상기 셔터(200)가 하강 구동하여 상기 개구부(150)의 하측(200a-2)에 위치하면 상기 개구부(150)가 열린 상태가 된다.
도 4-(b)는, 상기 셔터(200)가 좌우방향으로 구동하여 상기 개구부(150)를 개폐하는 경우로, 상기 셔터(200)가 좌측으로 구동하여 상기 개구부(150)를 덮어 가로막는 위치(200b-1)에 위치하면 상기 개구부(150)가 닫힌 상태가 되며, 상기 셔터(200)가 우측으로 구동하여 상기 개구부(150)의 우측(200b-2)에 위치하면 상기 개구부(150)가 열린 상태가 된다.
상기 진공흡입부(400)는 복수 개 구비될 수 있으며, 상기 그루브(310)의 내측 둘레를 따라 일정 간격으로 배열되어 상기 그루브(310)에 유입되는 유체 및 파티클을 효율적으로 흡입하도록 할 수 있다.
도 5 내지 도 9에 나타난 본 발명의 기판 처리용 챔버(100)의 개구부(150)에 형성되는 에어막(A)에 대해 설명한다.
상기 에어막(A)은 비활성기체로 이루어지며, 가이드부재(300) 또는 셔터(200)의 상하 길이 방향에 나란하게 형성된다.
상기 에어막(A)은 상기 셔터(200)에 의한 상기 개구부(150)의 개폐에 관계 없이 외기 또는 외부 파티클이 상기 개구부(150)를 통해 상기 챔버(100) 내부에 유입되는 것을 차단한다.
상기 비활성기체는 질소 기체(N2)일 수 있으며, 퍼지(Purge) 역할을 겸할 수 있다.
상기 비활성기체를 분사하는 비활성기체 분사부(500)는 상기 챔버(100)의 외부에 구비될 수 있으며, 가이드부재(300) 또는 셔터(200)에 구비될 수도 있다.
도 5를 참조하면, 상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 개구부(150)를 사이에 두고 양측에서 마주보도록 형성되는 상기 가이드부재(300)의 일측 끝단(300-1,300-1') 에 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 가이드부재(300)의 일측 끝단(300-1) 과 마주보는 타측 끝단(300-2)을 향해 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 개구부(150)를 차단하는 상기 에어막(A)을 형성한다.
상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 가이드부재(300)의 챔버 반대측 일측 끝단(300-1)에 구비될 수 있으며, 상기 가이드부재(300)의 챔버측 일측 끝단(300-1')에 구비될 수도 있고, 챔버 반대측 일측 끝단(300-1)과 챔버측 일측 끝단(300-1')에 동시에 구비될 수도 있다. 단, 상기 챔버(100) 내부의 기판 처리 환경 유지를 위해 챔버 반대측에 위치하는 것이 바람직하다.
상기 도 5의 X 위치에서 화살표 방향으로 바라보면, 도 6에 나타난 바와 같이, 상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 가이드부재(300)의 상기 개구부(150)의 일측 끝단(300-1,300-2,300-3,300-4)에 길게 구비되어 상기 비활성 기체를 분사함으로써 상기 개구부(150)를 차단하는 상기 에어막(A)을 형성할 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는, 도 6-(a)에 나타난 바와 같이 상기 가이드부재(300)의 상측 끝단(300-1)에 구비되어 하측 끝단(300-2)을 향해 하측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 도 6-(b)에 나타난 바와 같이 상기 가이드부재(300)의 하측 끝단(300-2)에 구비되어 상측 끝단(300-1)을 향해 상측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수도 있다.
또한, 상기 비활성기체 분사부(500)는, 도 6-(c)에 나타난 바와 같이 상기 가이드부재(300)의 좌측 끝단(300-3)에 구비되어 우측 끝단(300-4)을 향해 우측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 도 6-(d)에 나타난 바와 같이 상기 가이드부재(300)의 우측 끝단(300-4)에 구비되어 좌측 끝단(300-3)을 향해 좌측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수도 있다.
또한, 상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 개구부(150)의 일측 끝단(300-1,300-2,300-3,300-4)을 따라 복수 개 구비되어, 상기 도 6에서 설명한 바와 같이 상기 개구부(150)를 차단하는 상기 에어막(A)을 형성할 수 있다.
도 7를 참조하면, 상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 일측 내측면(300-5,300-5')에 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 가이드부재(300)의 내측면(300-5,300-5',300-6,300-6')에 나란하게 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 개구부(150)를 차단하는 상기 에어막(A)을 형성한다.
상기 비활성 기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 일측 내측면(300-5,300-5')에 길게 형성되거나, 상기 가이드부재(300)의 일측 내측면(300-5,300-5')을 따라 복수 개 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 상측 내측면(300-5)에 구비되어 하측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 상기 가이드부재(300)의 하측 내측면(300-6)에 구비되어 상측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수도 있다. 또한, 상기 가이드부재(300)의 좌측 내측면(미도시)에 구비되어 우측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 상기 가이드부재(300)의 우측 내측면(미도시)에 구비되어 좌측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수도 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 챔버 반대측 일측 내측면(300-5)에 구비될 수 있으며, 상기 가이드부재(300)의 챔버측 일측 내측면(300-5')에 구비될 수도 있고, 챔버 반대측 과 챔버측의 일측 내측면(300-5,300-5')에 동시에 구비될 수도 있다. 단, 상기 챔버(100) 내부의 기판 처리 환경 유지를 위해 상기 비활성기체 분사부(500)가 챔버 반대측에 위치하는 것이 바람직하다.
도 8을 참조하면, 상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 일측 외측면(300-7)에 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 가이드부재(300)의 외측면(300-7,300-8)에 나란하게 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 개구부(150)를 차단하는 상기 에어막(A)을 형성한다.
상기 비활성 기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 일측 외측면(300-7)에 길게 형성되거나, 상기 가이드부재(300)의 일측 외측면(300-7)을 따라 복수 개 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 가이드부재(300)의 상측 외측면(300-7)에 구비되어 하측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 상기 가이드부재(300)의 하측 외측면(300-8)에 구비되어 상측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수도 있고, 상기 가이드부재(300)의 좌측 외측면(미도시)에 구비되어 우측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 상기 가이드부재(300)의 우측 외측면(미도시)에 구비되어 좌측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 구비될 수도 있다.
도 9를 참조하면, 상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 셔터(200)의 일측면(200-1)에 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 셔터(200)의 일측면(200-1)에 나란하게 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 개구부(150)를 차단하는 상기 에어막(A)을 형성한다.
상기 비활성 기체 분사부(500)는, 상기 셔터(200)의 일측면(200-1)에 길게 형성되거나, 상기 셔터(200)의 일측면(200-1)을 따라 복수 개 구비될 수 있다.
상기 비활성기체 분사부(500)는, 상기 셔터(200)의 챔버 반대측 일측 면(200-1)에 구비될 수 있으며, 챔버측 일측면(200-1')에 구비될 수도 있고, 챔버 반대측 일측면(200-1)과 챔버측 일측면(200-1')에 동시에 구비될 수도 있다. 단, 상기 챔버(100) 내부의 기판 처리 환경 유지를 위해 상기 비활성기체 분사부(500)가 챔버 반대측 일측면(200-1)에 위치하는 것이 바람직하다.
상기 셔터(200)가 하강구동하여 상기 개구부(150)가 열린 상태가 되는 경우, 상기 비활성 기체 분사부(500)는 상기 셔터(200)의 챔버 반대측 일측면(200-1) 또는 챔버측 일측면(200-1')의 하부에 구비되어 상측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 한다.
상기 셔터(200)가 우측으로 구동하여 상기 개구부(150)가 열린 상태가 되는 경우, 상기 비활성 기체 분사부(500)가 상기 셔터(200)의 챔버 반대측 일측면(200-1) 또는 챔버측 일측면(200-1')의 우부에 구비되어 좌측으로 상기 비활성 기체를 분사하도록 한다.
즉, 상기 셔터(200)의 구동에 의한 상기 개구부(150)의 개폐에 관계 없이 상기 비활성 기체로 이루어지는 상기 에어막(A)이 상기 개구부(150)를 차단하도록 상기 비활성 기체 분사부(500)의 위치를 특정할 수 있다.
도 10를 참조하면, 상기 비활성기체 분사부(500)는 상기 셔터(200)의 일측면(200-1) 중앙부에 구비될 수 있다.
상기 비활성 기체 분사부(500)는, 상기 셔터(200)의 일측면(200-1)에 길게 형성되거나, 상기 셔터(200)의 일측면(200-1)을 따라 복수 개 구비될 수 있다.
상기 비활성 기체 분사부(500)는, 상기 셔터(200)의 상측과 하측으로 또는 사방으로 상기 비활성기체를 분사하도록 구비되어, 상기 셔터(200)의 구동에 의한 상기 개구부(150)의 개폐에 관계 없이 상기 비활성 기체로 이루어지는 상기 에어막(A)이 상기 개구부(150)를 차단하도록 이루어질 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 기판 처리용 챔버(100)는, 개구부(150)에 비접촉 셔터(200)를 구비함으로써, 상기 셔터(200)와 상기 개구부(150)의 접촉으로 인한 파티클 발생을 방지하여 기판(W)의 공정 환경을 유지하고 상기 기판(W)의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 개구부(150)를 통과하는 외기 또는 외부 파티클을 흡입하는 진공 흡입부(400)를 구비함으로써 상기 챔버(100) 내부를 실질적 밀폐 상태로 만들어 상기 기판(W)의 공정 환경을 유지하고 상기 기판(W)의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 개구부(150)에 에어막(A)을 형성함으로써 상기 개구부(150)를 통한 외기 또는 외부 파티클의 챔버 유입을 차단하여 상기 기판(W)의 공정 환경을 유지하고 상기 기판(W)의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 감지센서(미도시)를 통해 상기 셔터(200)의 위치를 감지하고 제어하여 상기 셔터(200)와 상기 개구부(150)의 적절한 틈새(d) 간격을 유지할 수 있다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구되는 본 발명의 기술적 사상에 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 자명한 변형실시가 가능하고, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.
W : 기판 10 : 챔버
11 : 척 12 : 척핀
13 : 지지대 15 : 개구부
20 : 셔터 100 : 챔버
110 : 척 120 : 척핀
130 : 지지대 150 : 개구부
200 : 셔터 210 : 구동부
300 : 가이드부재 400 : 진공 흡입부
500 : 비활성 기체 분사부 A : 에어막

Claims (22)

  1. 기판 처리가 이루어지는 챔버의 일측에 형성된 개구부를 개폐하는 셔터;를 포함하되,
    상기 챔버 또는 셔터 일측에 배치되는 가이드부재가 형성되고, 상기 가이드부재에는 흡입부가 연결된 기판 처리용 챔버
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가이드부재에는 비활성 기체 분사부가 추가로 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  3. 제2항에 있어서,
    상기 비활성 기체 분사부는, 상기 가이드부재의 외측면에 구비되며, 상기 가이드부재의 외측면에 나란한 방향으로 상기 비활성 기체를 분사하여 개구부에 에어막을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  4. 제2항에 있어서,
    상기 비활성 기체 분사부는, 상기 가이드부재의 내측면에 구비되며,
    상기 가이드부재의 내측면에 나란한 방향으로 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 개구부에 에어막을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  5. 제2항에 있어서,
    상기 가이드부재는, 상기 개구부를 사이에 두고 양측에서 마주보도록 형성되고;
    상기 비활성 기체 분사부는 상기 가이드부재의 일측 끝단에 구비되어, 상기 가이드부재의 일측 끝단과 마주보는 타측 끝단을 향해 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 개구부에 에어막을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  6. 제1항에 있어서,
    상기 셔터에는 비활성 기체 분사부가 추가로 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  7. 제6항에 있어서,
    상기 비활성 기체 분사부는 상기 셔터의 일측 측면과 상기 가이드부재 사이 틈새에 상기 비활성 기체를 분사하여 상기 셔터와 외기 사이에 에어막을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  8. 제2항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비활성 기체는 질소 기체인 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  9. 제1항에 있어서,
    상기 셔터는 미닫이 방식으로 상기 개구부를 개폐하도록 이루어지고;
    상기 가이드부재의 내측으로 그루브가 형성되고, 상기 셔터가 상기 그루브에 인입된 경우 상기 개구부가 열리고, 상기 셔터가 상기 그루브로부터 인출된 경우 상기 개구부가 닫히도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  10. 제9항에 있어서,
    상기 셔터는 상하 방향으로 이동하여 상기 개구부를 개폐하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  11. 제9항에 있어서,
    상기 셔터는 좌우 방향으로 이동하여 상기 개구부를 개폐하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  12. 제9항에 있어서,
    상기 가이드부재의 외측으로 상기 셔터를 구동시키는 구동부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  13. 제12항에 있어서,
    상기 구동부는 실린더의 구동을 이용하여 상기 셔터를 구동시키도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  14. 제1항에 있어서,
    상기 가이드부재의 내측에는 상기 셔터와의 거리를 측정하여 상기 셔터의 위치를 감지하는 감지센서가 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  15. 제14항에 있어서,
    상기 감지센서의 측정 정보를 수신하여 상기 셔터의 위치를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  16. 제14항에 있어서,
    상기 감지센서에서 감지한 상기 셔터의 위치에 따라 일정 신호를 발생시키는 신호발생부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  17. 제14항에 있어서,
    상기 감지센서는 레이저센서인 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  18. 제14항에 있어서,
    상기 감지센서는 초음파센서인 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  19. 제14항에 있어서,
    상기 감지센서는 카메라센서인 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  20. 제1항에 있어서,
    상기 흡입부는 상기 가이드부재의 내측에 복수 개 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  21. 제1항에 있어서,
    상기 가이드부재는 상기 셔터의 양측면과 틈새를 두도록 구비된 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
  22. 제1항에 있어서,
    상기 틈새는 1mm 내지 3mm 간격으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 챔버
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