KR20180037989A - 함황 유기 규소 화합물 및 수지 조성물 - Google Patents
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- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 18
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 12
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 19
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 title abstract description 19
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 title abstract description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 18
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims abstract description 9
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims abstract description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 6
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 34
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 66
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 29
- -1 trimethoxysilylpropyl Chemical group 0.000 description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 21
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 19
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 11
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 11
- BMCCOGNWSFVCDI-UHFFFAOYSA-N SCCC(C[Si](OC)(OC)OC)C Chemical compound SCCC(C[Si](OC)(OC)OC)C BMCCOGNWSFVCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 9
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 7
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OGGOFAPUQRXOFN-UHFFFAOYSA-N ClCCC(C[Si](OC)(OC)OC)C Chemical compound ClCCC(C[Si](OC)(OC)OC)C OGGOFAPUQRXOFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 4
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N sodium polysulfide Chemical compound [Na+].S HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 4
- XAIWUAWSSRRCEN-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-methyl-1-[(2-methyl-1-trimethoxysilylbutyl)tetrasulfanyl]butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C(CC)C)SSSSC(C(CC)C)[Si](OC)(OC)OC XAIWUAWSSRRCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LGMPVUDVTHHFDR-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-methylbut-1-ene Chemical compound CC(=C)CCCl LGMPVUDVTHHFDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSSCCC[Si](OC)(OC)OC JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- QOVWSDOHZFBJSO-UHFFFAOYSA-N C=CC=C.C=CC=CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C=CC=C.C=CC=CC1=CC=CC=C1 QOVWSDOHZFBJSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSFXLBMRGCVEMO-UHFFFAOYSA-N [SiH4].[S] Chemical compound [SiH4].[S] GSFXLBMRGCVEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLLYOYVKQDKAHN-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C VLLYOYVKQDKAHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPJRRXSHAYUTGL-UHFFFAOYSA-N isopentenyl alcohol Chemical compound CC(=C)CCO CPJRRXSHAYUTGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012764 mineral filler Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000013615 primer Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 238000010058 rubber compounding Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M sulfenamide Chemical compound [Cl-].COC1=C(C)C=[N+]2C3=NC4=CC=C(OC)C=C4N3SCC2=C1C QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C07F7/1836—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
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Abstract
Description
본 발명은 신규한 유기 규소 화합물 및 수지 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 실릴기의 β 위치에 알킬기를 갖는 함황 유기 규소 화합물 및 그 유기 규소 화합물에 의해 표면 처리된 무기 충전재를 함유하는 수지 조성물에 관한 것이다.
수지 성형체의 치수 안정성이나 기계적 강도, 내열성 등을 개선하기 위해, 유리 섬유를 비롯한 무기 충전재의 수지에의 첨가가 널리 이루어지고 있다. 그러나, 무기 충전재는 수지와의 접착성이 반드시 충분하다고는 할 수 없으며, 실란 커플링제에 의한 무기 충전재의 표면 처리가 제안되어 있다.
실란 커플링제는 전형적으로는 규소 원자에 메톡시기나 에톡시기 등의 가수분해기와 아미노기나 에폭시기 등의 유기 관능기가 결합한 화합물로, 예를 들어 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-우레이도프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드, γ-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 트리스-(트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
실란 커플링제의 가수분해기는 용액 중이나 공기 중의 수분, 무기 충전재 표면의 흡착 수분 등에 의해 가수분해되어 수산기로 변화하고, 분자간 탈수 축합에 의해 올리고머가 생성된다. 올리고머의 잉여의 수산기는 무기 재료 표면의 수산기와 수소 결합을 형성하고, 올리고머가 무기 재료와 결합한다. 그 후, 열건조 처리 등에 의해 탈수·축합이 일어나, 표면에 실란 커플링제 올리고머가 강고하게 화학 결합한 무기 충전재가 얻어진다. 이렇게 하여 표면 처리된 무기 충전재는, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리아미드 수지나 폴리에스테르 수지, 폴리프로필렌 수지 등의 열가소성 수지의 강화재로서 널리 사용되고 있다.
실란 커플링제 중에서도 γ-메르캅토프로필트리메톡시실란이나 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드 등의 함황 실란 커플링제는, 상기한 열가소성 수지나 열경화성 수지 외에, 우레탄 러버, 폴리술파이드, 스티렌 부타디엔 러버 (SBR), 니트릴 러버, 가류 에틸렌프로필렌 모노머 (EPM) 등의 엘라스토머나 고무 등에도 바람직하게 적용 가능하다.
특히, 함황 실란 커플링제로 화학적으로 처리된 무기 충전재를 황 가류계의 엘라스토머 (가류 EPM 등) 에 첨가한 경우에는, 엘라스토머의 여러 물성을 크게 개량하는 것이 알려져 있다. 또, 타이어 등에의 응용에서는 실리카계 충전재의 분산성이나 강도의 향상에 유용하다.
그러나, 고온 다습한 사용 조건하에 있어서는 실란 커플링제층의 가수분해에 의해 무기 충전재와 수지가 박리되어, 성형체의 강도가 저하되는 것이 문제시되고 있으며, 내가수분해성이 우수한 실란 커플링제가 제안되어 있다. 예로는, 장사슬 스페이서형 실란 커플링제 (특허문헌 1), 방향 고리형 실란 커플링제 (특허문헌 2) 를 들 수 있다.
그러나, 본 발명자들의 검토에 의하면, 상기 각 문헌에 기재된 실란 커플링제를 사용한 경우, 실란 커플링제층의 내가수분해성은 향상되지만, 무기 충전재의 분산성에 과제가 있으며, 예를 들어 타이어 용도에 있어서의 고무 강도 향상, 히스테리시스 로스 저감, 내마모성 향상의 관점에서는 개선의 여지가 있었다.
그러나 본 발명의 목적은, 수지에 첨가하는 무기 충전재의 표면 처리용의 실란 커플링제로서 사용한 경우에 수지 중의 무기 충전재의 분산성 및 실란 커플링제층의 내가수분해성이 우수한 유기 규소 화합물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 실릴기의 β 위치에 알킬기를 갖는 함황 유기 규소 화합물에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명은 하기 [1] ∼ [4] 를 제공한다.
[1] 하기 일반식 (I) 로 나타내는 유기 규소 화합물.
[화학식 1]
(식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 염소 원자, 메톡시기 또는 에톡시기를 나타내고, R4 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, R5 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기를 나타낸다)
[2] 하기 일반식 (II) 로 나타내는 유기 규소 화합물.
[화학식 2]
(식 중, R1 ∼ R5 는 상기 정의한 바와 같고, n 은 2 ∼ 6 의 정수 (整數) 를 나타낸다)
[3] 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 유기 규소 화합물.
[화학식 3]
(식 중, R1 ∼ R5 는 상기 정의한 바와 같다)
[4] [1] 또는 [2] 에 기재된 유기 규소 화합물에 의해 표면 처리된 무기 충전재를 함유하는 수지 조성물.
본 발명의 유기 규소 화합물을 사용하여 표면 처리한 무기 충전재를 수지에 첨가하여 성형함으로써, 무기 충전재의 분산성이 양호하고, 또한 실란 커플링제층의 내가수분해성이 우수한 성형체를 제공할 수 있다.
[유기 규소 화합물]
이하, 본 발명의 일반식 (I) 및 일반식 (II) 로 나타내는 유기 규소 화합물 (이하, 각각 화합물 (I), 화합물 (II) 라고 칭한다) 에 대하여 설명한다.
R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로 염소 원자, 메톡시기 또는 에톡시기를 나타낸다. 이들 중, 메톡시기 또는 에톡시기인 것이 바람직하다.
R4 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다. R4 가 나타내는 알킬기는 직사슬형에 한정되지 않고, 분기형 또는 고리형이어도 되고, 직사슬 및/또는 분기 구조와 고리형 구조가 결합한 구조이어도 된다.
R4 가 나타내는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵타닐기, 시클로옥타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 더욱 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다.
R5 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기를 나타낸다. R5 가 나타내는 알킬렌기는 직사슬형에 한정되지 않고, 분기형 또는 고리형이어도 되고, 직사슬 및/또는 분기 구조와 고리형 구조가 결합한 구조이어도 된다.
R5 가 나타내는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기의 예로는, 메틸렌기, 에탄-1,1-디일기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기 등을 들 수 있다. 성형체의 기계적 강도 향상의 관점에서, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬렌기가 보다 바람직하고, 메틸렌기 또는 에틸렌기가 더욱 바람직하고, 메틸렌기가 가장 바람직하다.
R5 는, 화합물 (I) 에 있어서, 무기 충전재와의 결합에 따른 탈수 축합에 관련되는 부위와, 수지와의 반응에 관련되는 부위인 티올기나 -Sn- 기 사이의 스페이서로서의 역할을 갖는다. 여기서, 스페이서로서 R5 가 존재함으로써, 탈수 축합에 관련되는 부위와, 수지와 반응하는 티올기나 -Sn- 기가 적절한 거리를 유지하여, 원활한 탈수 축합이 실시된다.
n 이 나타내는 2 ∼ 6 의 정수로는, 2 ∼ 5 의 정수가 바람직하고, 3 ∼ 4 의 정수가 보다 바람직하고, 4 가 더욱 바람직하다.
화합물 (I) 및 화합물 (II) 에 있어서, 실릴기의 α 위치의 탄소는 2 개의 수소 원자를 갖고, β 위치의 탄소는 적어도 1 개의 알킬기를 갖는다. 화합물 (I) 및 화합물 (II) 가 실란 커플링제로서 작용하는 경우, R1 ∼ R3 은 가수분해에 의해 수산기가 되고, 그 수산기 중 적어도 하나가 무기 재료 표면의 수산기와 탈수 축합한다.
이 때, 실릴기의 근방에 알킬기가 존재하면, 당해 알킬기는 탈수 축합부에의 물의 접근의 장해가 되어, 실란 커플링제층의 가수분해가 억제된다.
한편, 그러한 알킬기는, R1 ∼ R3 의 가수분해에 의한 수산기의 발생도 억제할 수 있으므로, 무기 충전재 표면에의 원활한 결합의 방해가 될 우려가 있다.
본 발명자들의 상세한 검토에 의해, 실릴기의 α 위치의 탄소가 알킬기를 갖는 경우에는, R1 ∼ R3 에의 물의 접근을 과잉으로 방해하여, R1 ∼ R3 의 가수분해를 억제하고, 무기 충전재 표면에의 원활한 결합을 방해하는 것이 판명되었다. 한편, 실릴기의 α 위치, β 위치의 탄소가 각각 수소 원자를 2 개씩 갖고, γ 위치의 탄소가 알킬기를 갖는 경우에는, 탈수 축합부에의 물의 접근을 방해하는 효과가 작고, 실란 커플링제층의 가수분해의 억제 효과가 작은 것이 판명되었다.
그러나, 실릴기에 대해, α 위치의 탄소가 2 개의 수소 원자를 갖고, β 위치의 탄소가 알킬기를 갖는 경우에는, R1 ∼ R3 의 가수분해에 의한 수산기의 발생을 방해하지 않고 무기 충전재 표면에 원활하게 실란 커플링제층을 도입할 수 있고, 또한 실란 커플링제층 형성 후에 있어서는 탈수 축합부에의 물의 접근이 적당히 방해되어, 가수분해가 효과적으로 억제되는 것을 알아내었다.
또한 화합물 (I) 및 (II) 가 β 위치에 이와 같은 알킬기를 가짐으로써, 형성되는 실란 커플링제층이 적당히 부피가 커져, 무기 충전재의 분산성이 향상되는 것을 알아내었다.
화합물 (I) 의 구체예로는 하기 화합물을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
[화학식 4]
[화학식 5]
화합물 (II) 의 구체예로는 하기 화합물을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
[화학식 6]
[화학식 7]
화합물 (I) 및 (II) 의 제조 방법에 특별히 제한은 없고, 공지된 방법을 조합함으로써 제조할 수 있다. 예를 들어, 먼저 알케닐클로라이드 (IV) 와 하이드로실란류 (V) 로부터 중간체인 본 발명의 일반식 (III) 으로 나타내는 유기 규소 화합물 (이하, 화합물 (III) 이라고 칭한다) 을 제조하고 (이하, 공정 1 이라고 칭한다), 화합물 (III) 을 NaSH 와 반응시킴으로써 화합물 (I) 이 얻어진다 (이하, 공정 2-1 이라고 칭한다). 또, 각종 함황 화합물을 사용함으로써 화합물 (III) 또는 화합물 (I) 로부터 화합물 (II) 가 얻어진다 (이하, 공정 2-2 라고 칭한다).
[화학식 8]
(식 중, R1 ∼ R5, n 은 상기 정의한 바와 같다)
화합물 (III) 의 구체예로는 하기의 화합물을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
[화학식 9]
[화학식 10]
또한, 화합물 (III) 은, 화합물 (I) 이나 화합물 (II) 외에, (메트)아크릴계 실란 화합물, 아미노계 실란 화합물, 우레이도계 실란 화합물, 이소시아네이트계 실란 화합물 및 이소시아누레이트계 실란 화합물 등의 제조에 있어서의 중간체로서도 유용하다. 화합물 (III) 으로부터 유도되는 이들 화합물은, 특히 실란 커플링제로서 유용하다.
(공정 1)
공정 1 은, 촉매의 존재하, 알케닐클로라이드 (IV) 와 하이드로실란류 (V) 로부터 화합물 (III) 을 제조하는 공정이다.
하이드로실란류 (V) 로는, 예를 들어, 트리클로로실란, 트리메톡시실란, 트리에톡시실란 등이 사용된다.
공정 1 에서 사용되는 촉매로는, 백금, 로듐 또는 이리듐을 함유하는 화합물을 들 수 있지만, 백금계 촉매가 바람직하고, 염화 백금계 촉매가 보다 바람직하다. 구체적으로는 헥사클로라이드 백금 (IV) 산 (H2PtCl6), 염화 백금·불포화 케톤 착물, 염화 백금·β-디케톤 착물, 염화 백금 올레핀 착물 등을 들 수 있다. 염화 백금계 촉매의 사용량에 특별히 제한은 없지만, 원료의 알케닐클로라이드 (IV) 1 몰에 대하여, 10-6 ∼ 10-2 몰이 바람직하고, 10-5 ∼ 10-2 몰이 보다 바람직하다.
공정 1 은, 용매의 존재하 또는 비존재하에 실시할 수 있다. 사용할 수 있는 용매는 반응에 악영향을 미치지 않는 한 특별히 제한은 없고, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올 등의 알코올류 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 지방족 탄화수소류 ; 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류 ; 클로로벤젠, 플루오로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소류 ; 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소류 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 용매를 사용하는 경우, 그 사용량에 특별히 제한은 없지만, 원료의 알케닐클로라이드 (IV) 에 대하여, 통상적으로 0.5 ∼ 100 질량배인 것이 바람직하고, 용적 효율의 관점에서는 1 ∼ 10 질량배인 것이 보다 바람직하다.
반응 온도는, 통상적으로 -10 ∼ 100 ℃ 의 범위인 것이 바람직하고, 20 ∼ 80 ℃ 의 범위인 것이 보다 바람직하다. 반응 시간은 통상적으로 0.5 시간 ∼ 48 시간이다.
화합물 (III) 에 있어서, R1 ∼ R3 이 메톡시기 또는 에톡시기인 화합물을 얻고자 하는 경우에는, 트리메톡시실란 또는 트리에톡시실란을 사용하여 직접 합성하는 방법이나, 트리클로로실란과 반응시킨 후에, 메탄올 또는 에탄올 중에서 원하는 알콕시체를 얻는 방법으로도 취득할 수 있다. 트리클로로체 경유의 경우, 알콕시화시에 발생하는 염화수소를 포착하기 위해, 염기로서 트리에틸아민, 피리딘, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 나트륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드 등을 공존시킬 수도 있다. 염기의 사용량에 특별히 제한은 없지만, 하이드로실란류 (V) 에 대하여, 통상적으로 0.8 ∼ 20 몰배인 것이 바람직하고, 3 ∼ 7 몰배인 것이 보다 바람직하다.
반응은, 상압하 또는 가압하에서 실시할 수 있지만, 통상은 상압하에서 실시된다.
반응 종료 후에 얻어지는 화합물 (III) 은, 유기 화합물의 단리·정제에 있어서 통상적으로 사용되는 방법에 의해 단리할 수 있다. 예를 들어, 반응 혼합물을 여과 후, 농축하고, 감압 증류 등에 의해 정제함으로써, 목적으로 하는 화합물 (III) 을 얻을 수 있다. 또, 반응 혼합물을 그대로 농축함으로써 다음 공정에 사용할 수도 있다.
(공정 2-1)
공정 2-1 은, 화합물 (III) 을 NaSH 와 반응시켜 화합물 (I) 을 얻는 공정이다.
NaSH 는, 1) 나트륨메톡사이드와 황화수소 가스의 반응, 2) 무수 황화나트륨과 황화수소 가스의 반응, 3) 함수 NaSH 의 탈수 등으로 얻은 것을 사용할 수 있지만, 보다 간편한 방법으로는, 공업적으로 저렴하게 입수 가능한 함수 NaSH 플레이크를 탈수하여 사용하는 방법이다.
또, 함수 NaSH 의 탈수 방법으로는, 1) 감압 조건에서의 가열에 의한 방법, 2) 불활성 가스 유통 조건에서의 가열에 의한 방법, 3) 물과 공비하는 유기 용제를 첨가한 공비 탈수에 의한 방법 등을 들 수 있다. NaSH 의 탈수는, 화합물 (III) 이나 화합물 (I) 이 가수분해에 의해 고비점의 실록산 올리고머 등으로 전화 (轉化) 되어, 합성 수율이 현저하게 저하되어 버리는 것을 방지하기 위해 실시된다.
NaSH 의 사용량에 특별히 제한은 없지만, 화합물 (III) 1 몰에 대하여, 0.8 ∼ 2.0 몰인 것이 바람직하고, 1.0 ∼ 1.5 몰인 것이 보다 바람직하다.
공정 2-1 은, 용매의 존재하 또는 비존재하에 실시할 수 있다. 이러한 용매로는 반응에 악영향을 미치지 않는 한 특별히 제한은 없고, 예를 들어 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 지방족 탄화수소류 ; 클로로벤젠, 플루오로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소류 ; 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소류 ; 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류 ; 메탄올, 에탄올 등의 알코올류 ; 디메틸포름아미드, 아세토니트릴 등의 비프로톤성 극성 용제 등을 들 수 있다. 이들은 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 용매를 사용하는 경우, 그 사용량에 특별히 제한은 없지만, 화합물 (III) 에 대하여, 통상적으로 0.5 ∼ 20 질량배의 범위인 것이 바람직하고, 용적 효율의 관점에서는, 1 ∼ 5 질량배의 범위인 것이 바람직하다.
공정 2-1 에 있어서, 반응 온도는, 통상적으로 10 ∼ 200 ℃ 의 범위인 것이 바람직하고, 20 ∼ 150 ℃ 의 범위인 것이 보다 바람직하다. 또, 반응은, 질소, 아르곤 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시하는 것이 바람직하다. 또한 반응은 대기압하, 가압하 중 어느 방법으로 실시해도 된다. 반응 시간은, 반응 조건에 따라 상이하지만, 통상적으로 1 ∼ 100 시간이다.
반응 종료 후에 얻어지는 화합물 (I) 은, 유기 화합물의 단리·정제에 있어서 통상적으로 사용되는 방법에 의해 단리할 수 있다. 예를 들어, 반응 혼합물을 여과 후, 농축하고, 감압 증류 등에 의해 정제함으로써, 목적으로 하는 함황 유기 규소 화합물 (I) 을 얻을 수 있다. 또한, R1 ∼ R3 이 알콕시기인 경우, 증류 조작시에, 탈알코올 반응에 의해, 목적물이 고리형체화될 가능성이 있기 때문에, 염화수소, 아세트산 또는 포름산 등의 산류를 첨가하여 반응액을 중성으로 하는 등의 조치를 취할 수도 있다. 또, 고리형체 부생에 의해, 목적물의 순도가 낮아졌을 경우에 있어서도, 목적물의 알콕시기에 대응하는 알코올의 적당량을 목적물에 후첨가함으로써, 고리형체가 목적물로 전화되기 때문에 고순도화가 가능하다.
(공정 2-2)
공정 2-2 는, 각종 함황 화합물을 사용하여 화합물 (III) 또는 화합물 (I) 로부터 화합물 (II) 를 얻는 공정이다.
공정 2-2 에서 채용할 수 있는 방법으로는, 1) Na2S4 와 화합물 (III) 을 반응시키는 방법, 2) 황화수소나트륨과 황과 화합물 (III) 을 반응시키는 방법, 3) 무수 황화나트륨을 극성 용매 중에서 황과 반응시킴으로써 무수 다황화나트륨으로 하고, 그 무수 다황화나트륨과 화합물 (III) 을 반응시키는 방법, 4) 화합물 (I) 과 황을 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.
이하, 상기 3) 의 방법에 대해 설명한다.
무수 황화나트륨은, 예를 들어 함수 황화나트륨을, 1) 감압 조건에서의 가열에 의한 방법, 2) 불활성 가스 유통 조건에서의 가열에 의한 방법, 3) 물과 공비하는 유기 용제를 첨가한 공비 탈수에 의한 방법 등에 의해 탈수하여 얻을 수 있다.
또 무수 황화나트륨은, 나트륨메톡사이드와 황화수소 가스를 몰비 2 : 1 로 사용하고, 무수 메탄올 중에 있어서 반응시킴으로써도 얻을 수 있다.
무수 황화나트륨의 사용량은, 화합물 (III) 1 몰에 대하여, 통상적으로 0.5 몰 이하이고, 바람직하게는 0.45 ∼ 0.5 몰이다.
반응은 용매의 존재하에 실시한다. 용매는 반응에 악영향을 미치지 않는 한 특별히 제한은 없지만, 극성 용매가 바람직하고, 예를 들어, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류 ; 테트라하이드로푸란, 디이소프로필에테르 등의 에테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있다. 용매의 사용량에 특별히 제한은 없지만, 화합물 (III) 에 대하여 통상적으로 0.5 ∼ 200 질량배인 것이 바람직하고, 용적 효율의 관점에서는 1 ∼ 50 질량배인 것이 보다 바람직하다.
반응에 사용하는 황은, 무수의 황이면 분말상 혹은 플레이크상 등 모든 양태에서 사용 가능하다. 황의 사용량은, 목적으로 하는 화합물 (II) 중의 황의 양에 의해 정해진다. 즉, 예를 들어 무수 황화나트륨 1 몰을 사용하여 화합물 (II) 1 몰을 합성하는 경우, 사용하는 황의 양은 (n - 1) 몰로 할 수 있다.
무수 황화나트륨과 황의 반응은, 건조 불활성 가스 (질소 가스) 분위기하, 20 ℃ ∼ 용매의 비점의 온도 범위에서 반응함으로써 실시할 수 있다. 이 반응은, 첨가한 황이 완전히 용해되고 나서 추가로 1 ∼ 10 시간 계속하는 것이 바람직하다. 반응으로 얻어진 무수 다황화나트륨은 반응 혼합물로부터 단리되지 않고, 화합물 (III) 을 첨가하여 반응시킨다.
무수 다황화나트륨과 화합물 (III) 의 반응은, 건조 불활성 가스 (질소 가스) 분위기하, 20 ℃ ∼ 용매의 비점의 온도 범위에서 반응함으로써 실시할 수 있다. 반응 속도를 높이기 위해서는, 용매의 환류하에서의 고온 조건에서 실시하는 것이 바람직하다. 반응 시간은, 반응 조건에 따라 상이하지만, 통상적으로 1 ∼ 100 시간이다.
반응 종료 후, 그 반응 혼합물을 30 ℃ 이하로 냉각시키고, 생성한 염화나트륨을 여과 분리하고, 용매를 농축한 후에, 감압 증류 등에 의해 정제함으로써, 목적으로 하는 화합물 (II) 를 얻을 수 있다.
이와 같이 하여 제조되는 화합물 (I) 및 화합물 (II) 는 실란 커플링제로서의 기능을 갖고, 무기 필러의 표면 개질, 접착제의 접착성의 향상, 피막의 내구성 향상, 유기 폴리머의 가교화 등을 목적으로 하여, 접착제, 프라이머, 실란트, 실링재, 도료, 코팅재, 유리 섬유 강화 수지, 무기 필러 배합 수지, 복합 강화 수지, 인쇄용 잉크, 엘라스토머 재료, 열가소성 수지 재료, 복합 재료, 전기 절연체 등에 널리 사용 가능하다.
[수지 조성물]
본 발명의 수지 조성물은 화합물 (I) 또는 화합물 (II) 에 의해 표면 처리된 무기 충전재를 함유한다. 또한, 본 명세서 중에 있어서, 「수지」 란 엘라스토머도 포함하는 개념이다.
표면 처리되는 무기 충전재로는, 일반적으로 실란올기와 반응하여, 결합을 형성하는 무기 재료로 이루어지는 것이면 특별히 한정은 없고, 무기 충전재의 형상도 특별히 한정되지 않는다. 그러한 무기 충전재로는, 예를 들어 규소, 티탄, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 인듐, 주석 및 그들의 단독 또는 복합 산화물로 이루어지는 필러 ; 유리 섬유, 유리 클로스, 유리 테이프, 유리 매트, 유리 페이퍼 등의 유리 필러 ; 실리카계 충전재 ; 클레이, 마이카, 탤크, 월라스토나이트 등의 광물계 충전재 ; 철, 알루미늄 등의 금속 기재 등을 들 수 있다.
무기 충전재의 표면 처리 방법에 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 무기 충전재를 수지에 첨가한 후에 유기 용제나 물 등으로 희석시킨 화합물 (I) 이나 화합물 (II) 를 첨가하여 혼합하는 방법이나, 무기 충전재를 수지에 첨가하기 전에 미리 건식법이나 습식법에 의해 화합물 (I) 이나 화합물 (II) 에 의해 처리하는 방법이나, 유기 용제나 물 등으로 희석시킨 화합물 (I) 이나 화합물 (II) 를 무기 충전재에 직접 도포하는 프라이머법 등을 들 수 있다.
무기 충전재의 표면 처리에 있어서는, 열에 의한 건조 처리를 수반해도 된다. 열에 의한 건조 처리를 실시함으로써, 화합물 (I) 이나 화합물 (II) 의 수산기와 무기 충전재 표면의 수산기 사이에 있어서의 탈수 축합이 진행되어, 강고한 결합을 형성할 수 있다.
건조 처리에 있어서의 온도는, 통상적으로 60 ∼ 180 ℃ 이고, 바람직하게는 80 ∼ 150 ℃ 이다. 또, 건조 시간은 5 분 ∼ 2 시간이 바람직하다.
본 발명의 수지 조성물을 구성하는 수지로는, 예를 들어 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 아크릴 수지, 스티렌-부타디엔 공중합 고무, 니트릴 고무, 폴리술파이드, 네오프렌, 클로로프렌 고무, 부틸 고무 등을 들 수 있다.
이들 수지는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.
화합물 (I) 이나 화합물 (II) 는 특히 엘라스토머 조성물에 대해 바람직하게 사용 가능하다.
본 발명의 수지 조성물이 타이어 용도의 엘라스토머 조성물인 경우, 예를 들어, 디엔계 고무, 실리카계 충전재, 화합물 (I) 또는 화합물 (II), 추가로 필요에 따라 고무 공업에 일반적으로 사용되고 있는 고무 배합제를 배합함으로써 제조할 수 있다.
상기 디엔계 고무로는, 예를 들어, 천연 고무, 폴리이소프렌 고무, 유화 중합 스티렌-부타디엔 공중합 고무, 용액 중합 랜덤 스티렌-부타디엔 고무 (스티렌 5 ∼ 50 중량%, 부타디엔의 1,2-결합량 10 ∼ 80 %), 고트랜스 스티렌-부타디엔 고무 (부타디엔의 트랜스 함량 70 ∼ 95 %), 저시스 폴리부타디엔 고무, 고트랜스 부타디엔 고무 (트랜스 결합량 70 ∼ 95 %), 스티렌-이소프렌 공중합 고무, 부타디엔 이소프렌 공중합 고무, 용액 중합 랜덤 스티렌 부타디엔 이소프렌 공중합 고무, 유화 중합 랜덤 스티렌-부타디엔 이소프렌 공중합 고무, 유화 중합 스티렌-아크릴로니트릴-부타디엔 공중합 고무, 고비닐 스티렌 부타디엔-저비닐 스티렌 부타디엔 블록 공중합 고무, 폴리스티렌-폴리부타디엔-폴리스티렌 블록 공중합 고무, 에틸렌-프로필렌-디엔 모노머 공중합 고무를 들 수 있고, 이들은 단독 또는 블렌드로서 요구 특성에 따라 적절히 선택하여 사용된다.
상기 실리카계 충전재로는, 예를 들어 건식법 화이트 카본, 습식법 화이트 카본, 콜로이달 실리카, 침강 실리카 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 함수 규산을 주성분으로 하는 습식법 화이트 카본이 바람직하게 사용된다. 또한, 카본 블랙의 표면에 실리카가 부착되어 있는 카본 블랙-실리카 복합체도 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 고무 배합제로는, 예를 들어 카본 블랙 ; 파라핀계, 나프텐계, 아로마계 등의 신전유 ; 아민계, 페놀계 등의 노화 방지제 ; 황, 스테아르산, 아연화 등의 가류 보조제 ; 술펜아미드계, 티우람계, 티아졸계, 디티오카르밤산염계, 구아니딘계 등의 가류 촉진제 ; 오존 노화 방지제 ; 가공 보조제 ; 점착 부여제 ; 왁스 등을 들 수 있다.
상기 필수 조성분에 더하여, 실리카용의 가공 보조제로서, 알콕시폴리실록산을 배합해도 된다. 이러한 가공 보조제의 배합에 의해, 고무 조성물의 점도를 저하시키고, 스코치 시간을 길게 하고, 또한 가류 시간을 짧게 할 수 있다.
본 발명의 수지 조성물은, 용도에 따라 용제, 계면 활성제, 방부제, 변색 방지제, 산화 방지제, 난연제, 광 안정제, 표면 처리되어 있지 않은 무기 충전재 등의 다른 첨가제를, 본 발명의 취지를 저해하지 않는 범위에서 함유해도 된다.
본 발명의 수지 조성물은, 상기의 각 구성 성분을, 공지된 방법에 따라 혼합함으로써 조제할 수 있다. 예를 들어, 수지와 그 밖의 성분을 드라이블렌드하는 방법, 압출기를 사용하여 각 구성 성분을 용융 혼련하는 방법 등을 들 수 있다.
본 발명의 수지 조성물을 성형함으로써, 기계적 강도가 높고, 또한 실란 커플링제층의 내가수분해성이 우수한 성형체를 얻을 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다.
<참고예>
(3-메틸-3-부테닐클로라이드의 합성)
교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 1 ℓ 반응기에, 질소 기류하, 3-메틸-3-부텐-1-올 66.0 g (0.697 ㏖), 디에틸렌글리콜디부틸에테르 270 ㎖, 트리에틸아민 77.5 g (0.767 ㏖) 을 주입하고, 교반하면서 내온 5 ℃ 이하로 냉각시켰다. 염화티오닐 91.2 g (0.767 ㏖) 을 내온 10 ℃ 이하로 유지하면서 적하하고, 적하 종료 후 65 ℃ 로 승온시키고, 6 시간 가열 교반을 실시하였다. 반응 종료 후, 내온을 30 ℃ 이하까지 냉각시키고, 물 200 g 을 첨가하고 그 반응 혼합물을 세정하고, 유기상을 분리하였다. 그 유기상을 5 % 탄산수소나트륨 수용액 500 g, 이어서, 포화 식염수 200 g 으로 순차 세정하였다. 세정 유기상을 감압 증류함으로써, 3-메틸-3-부테닐클로라이드 46.0 g (0.440 ㏖ : 수율 63.1 %) 을 얻었다.
<실시예 1>
(공정 1 : 4-클로로-2-메틸부틸트리메톡시실란의 합성)
[화학식 11]
질소 기류하, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 200 ㎖ 반응기에, 3-메틸-3-부테닐클로라이드 30.0 g (0.287 ㏖) 을 주입하고, H2PtCl6·6H2O 154.6 ㎎ (0.299 m㏖) 의 테트라하이드로푸란 용액 15 ㎖ 를 첨가한 후, 트리클로로실란 58.3 g (0.430 ㏖) 을 적하하고, 25 ℃ 에서 20 시간 교반하였다. 별도로, 준비한 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 1 ℓ 반응기에, 메탄올 270 ㎖ 와 트리에틸아민 360 ㎖ 를 주입하고, 5 ℃ 이하에서 교반하면서, 그 반응액을 적하하였다. 적하 후, 25 ℃ 에서 2 시간 교반하였다. 반응액을 농축하고, 디이소프로필에테르 200 ㎖ 를 첨가하고 석출한 염을 여과하였다. 그 여과액을 농축한 후, 감압 증류함으로써, 4-클로로-2-메틸부틸트리메톡시실란 33.7 g (0.149 ㏖ ; 수율 52 %) 을 얻었다.
(공정 2-1 : 4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란의 합성)
[화학식 12]
질소 기류하, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 반응기에, 미리, 감압 건조시킨 NaSH 123 ㎎ (2.20 m㏖), 디메틸포름아미드 1 ㎖ 를 주입하고, 25 ℃ 에서 교반하였다. 4-클로로-2-메틸부틸트리메톡시실란 500 ㎎ (2.20 m㏖) 을 25 ℃ 에서 적하하고, 25 ℃ 에서 2 시간 교반하였다. 반응 종료 후, 그 반응 혼합물을 감압 농축하여, 4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 850 ㎎ (순 469 ㎎, 2.09 m㏖ ; 수율 95 %) 을 얻었다.
<실시예 2>
(공정 2-2 : 4,4'-비스(트리메톡시실릴-2-메틸부틸)테트라술파이드의 합성)
[화학식 13]
질소 기류하, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 반응기에, Na2S 516 ㎎ (6.60 m㏖), 황 636 ㎎ (19.8 m㏖), 메탄올 6 ㎖ 를 주입하고, 환류하 5 시간 교반하였다. 그 반응액에 4-클로로-2-메틸부틸트리메톡시실란 3.0 g (13.2 m㏖) 을 첨가하고, 추가로 5 시간 환류하 교반하였다. 냉각 후, 그 반응액을 여과하고, 여과액을 감압 농축하여, 4,4'-비스(트리메톡시실릴-2-메틸부틸)테트라술파이드 1.8 g (3.5 m㏖ ; 수율 54 %) 을 얻었다.
<실시예 3>
두께 5 ㎜, 종횡 5 ㎝ 각 (角) 의 석영판을 농염산에 침지시키고, 표면의 부착물을 제거한 후, 증류수로 세정하고, 건조를 실시하였다. 이 석영판을 실시예 1 에서 얻어진 4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란의 2.0 ㏖/ℓ 의 에탄올/물 (95/5, v/v) 용액에 25 ℃ 에서 2 시간 침지시킨 후, 오븐을 사용하여 110 ℃ 에서 3 시간의 가열 처리를 실시하였다. 이 시험편을 사용하여, FTA-188 (First Ten Angstroms 사 제조) 로 물과의 접촉각과 내가수분해성을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
<실시예 4>
4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 대신에 실시예 2 에서 얻어진 4,4'-비스(트리메톡시실릴-2-메틸부틸)테트라술파이드를 사용한 것 이외에는 실시예 3 과 동일한 순서로 접촉각과 내가수분해성을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
<비교예 1>
4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 대신에 3-메르캅토프로필트리메톡시실란을 사용한 것 이외에는 실시예 3 과 동일한 순서로 접촉각과 내가수분해성을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
<비교예 2>
4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 대신에 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로필)테트라술파이드를 사용한 것 이외에는 실시예 3 과 동일한 순서로 접촉각과 내가수분해성을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
(내가수분해성)
상기 방법으로 조제한 실시예 3, 4 및 비교예 1, 2 의 시험편을 각각 100 ℃ 의 열수 50 ㎖ 에 24 시간 침지시켰다. 24 시간 후, 가스 크로마토그래피를 사용하여 수중에 용해된 유기분을 측정하고, 검출물의 총면적에 대하여 비교예 1 의 값을 100 으로 한 지수로서 표 1 에 나타냈다.
표 1 로부터, 본 발명의 유기 규소 화합물은 무기 충전재상에 문제없이 도입되는 것, 및 종래 사용되고 있는 실란 커플링제보다 매우 내가수분해성이 우수한 것을 알 수 있다.
<실시예 5>
유전 (油展) 에멀션 중합 스티렌·부타디엔 고무 : JSR1723 (JSR (주) 제조) 110 질량부, 천연 고무 (RSS#3) 20 질량부, 카본 블랙 : N234 (토카이 카본 (주) 제조) 20 질량부, 실리카 : 닙실 AQ (닛폰 실리카 공업 (주) 제조) 50 질량부, 실시예 1 에서 얻어진 4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 4.0 질량부, 스테아르산 1 질량부, 노화 방지제 : 노크락 6C (오우치 신코 화학 공업 (주) 제조) 1.0 질량부를 배합하여 마스터 배치를 조제하였다. 이것에 아연화 3.0 질량부, 가류 촉진제 DM (디벤조티아딜디술파이드) 0.5 질량부, 가류 촉진제 NS (N-t-부틸-2-벤조티아졸릴술펜아미드) 1.0 질량부, 황 1.5 질량부를 첨가하고 혼련하여, 고무 조성물을 얻었다.
<실시예 6>
4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 대신에 실시예 2 에서 얻어진 4,4'-비스(트리메톡시실릴-2-메틸부틸)테트라술파이드를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 고무 조성물을 조제하였다.
<비교예 3>
4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 대신에 3-메르캅토프로필트리메톡시실란을 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 고무 조성물을 조제하였다.
<비교예 4>
4-메르캅토-2-메틸부틸트리메톡시실란 대신에 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로필)테트라술파이드를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 고무 조성물을 조제하였다.
실시예 5, 6 및 비교예 3, 4 에서 조제한 고무 조성물에 대해 하기 방법에 의해 고무 경도, 동적 점탄성, 내마모성을 평가하였다.
(고무 경도)
JIS K 6253-1 : 2012 에 준거하여, 듀로미터의 타입 A 에 의해 온도 20 ℃ 에서의 고무 경도를 측정하였다. 비교예 3 의 값을 100 으로 했을 때의 지수를 표 2 에 나타낸다. 이 고무 경도가 높을수록 고무의 강도가 높다.
(동적 점탄성)
점탄성 측정 장치 (레올로지사 제조) 를 사용하여, 인장의 동적 변형 1 %, 주파수 1 ㎐, 60 ℃ 의 조건으로 tanδ 를 측정하였다. 또한, 시험편은 두께 0.2 ㎝, 폭 1.0 ㎝ 의 시트를 사용하고, 사용 협간 (挾間) 거리 2 ㎝ 로 하였다. 비교예 3 의 값을 100 으로 했을 때의 지수를 표 2 에 나타낸다. 지수값이 작을수록 히스테리시스 로스가 작다.
(내마모성)
JIS K 6264-2 : 2005 에 준거하여, DIN 마모 시험기를 사용하여 실온에서 시험을 실시하여, 마모량을 측정하였다. 비교예 3 의 값을 100 으로 했을 때의 지수를 표 2 에 나타낸다. 지수값이 작을수록, 마모량이 적어 내마모성이 우수한 것을 나타낸다.
표 2 로부터, 본 발명의 유기 규소 화합물을 사용한 경우에는 종래 사용되고 있는 실란 커플링제를 사용한 경우에 비해 고무 조성물의 기계적 강도가 높고, 히스테리시스 로스가 작고, 내마모성이 우수한 것을 알 수 있다. 이것은, 본 발명의 유기 규소 화합물을 사용함으로써, 실리카의 분산성이 향상되었기 때문으로 생각된다.
산업상 이용가능성
본 발명의 유기 규소 화합물은 수지에 첨가하기 위한 무기 충전재에 사용하는 실란 커플링제로서 유용하다.
Claims (4)
- 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 유기 규소 화합물에 의해 표면 처리된 무기 충전재를 함유하는 수지 조성물.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2015-167339 | 2015-08-27 | ||
JP2015167339 | 2015-08-27 | ||
PCT/JP2016/074030 WO2017033815A1 (ja) | 2015-08-27 | 2016-08-17 | 含硫黄有機ケイ素化合物および樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180037989A true KR20180037989A (ko) | 2018-04-13 |
Family
ID=58100186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020187005303A KR20180037989A (ko) | 2015-08-27 | 2016-08-17 | 함황 유기 규소 화합물 및 수지 조성물 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20180282525A1 (ko) |
EP (1) | EP3342776B1 (ko) |
JP (1) | JP6707798B2 (ko) |
KR (1) | KR20180037989A (ko) |
CN (1) | CN107922443B (ko) |
WO (1) | WO2017033815A1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6655482B2 (ja) * | 2016-06-27 | 2020-02-26 | 株式会社クラレ | 有機ケイ素化合物および樹脂組成物 |
FR3053345B1 (fr) | 2016-06-30 | 2018-07-06 | Compagnie Generale Des Etablissements Michelin | Composition de caoutchouc comprenant un agent de couplage polysulfure de monohydroxysilane |
FR3060565A1 (fr) | 2016-12-16 | 2018-06-22 | Michelin & Cie | Polysulfure d'alcoxysilane |
EP3904481A4 (en) * | 2018-12-26 | 2022-09-28 | ENEOS Corporation | SILANE COMPOUND AND ITS COMPOSITION |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL127712C (ko) * | 1964-12-21 | |||
US3873489A (en) * | 1971-08-17 | 1975-03-25 | Degussa | Rubber compositions containing silica and an organosilane |
BG25805A3 (en) * | 1972-11-13 | 1978-12-12 | Degussa Ag | A rubber mixture |
JPS5093835A (ko) * | 1973-12-25 | 1975-07-26 | ||
US4082564A (en) * | 1975-09-09 | 1978-04-04 | Rohm And Haas Company | Sugar decolorizing quaternary ammonium acrylamide resins |
JPS588399B2 (ja) * | 1976-06-30 | 1983-02-15 | 信越化学工業株式会社 | 有機けい素化合物系組成物 |
JPH04217689A (ja) * | 1990-12-19 | 1992-08-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物 |
US5580919A (en) * | 1995-03-14 | 1996-12-03 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Silica reinforced rubber composition and use in tires |
US5840952A (en) * | 1995-11-02 | 1998-11-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of manufacturing 3-mercaptopropylalkoxy silane |
DE102004008442A1 (de) * | 2004-02-19 | 2005-09-15 | Degussa Ag | Siliciumverbindungen für die Erzeugung von SIO2-haltigen Isolierschichten auf Chips |
-
2016
- 2016-08-17 CN CN201680048898.7A patent/CN107922443B/zh active Active
- 2016-08-17 EP EP16839162.1A patent/EP3342776B1/en active Active
- 2016-08-17 KR KR1020187005303A patent/KR20180037989A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-08-17 JP JP2017536378A patent/JP6707798B2/ja active Active
- 2016-08-17 WO PCT/JP2016/074030 patent/WO2017033815A1/ja active Application Filing
- 2016-08-17 US US15/754,629 patent/US20180282525A1/en not_active Abandoned
-
2020
- 2020-01-27 US US16/773,281 patent/US20200157317A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2017033815A1 (ja) | 2018-06-14 |
JP6707798B2 (ja) | 2020-06-10 |
US20180282525A1 (en) | 2018-10-04 |
US20200157317A1 (en) | 2020-05-21 |
EP3342776A4 (en) | 2019-04-17 |
EP3342776A1 (en) | 2018-07-04 |
EP3342776B1 (en) | 2020-09-30 |
CN107922443B (zh) | 2021-01-26 |
WO2017033815A1 (ja) | 2017-03-02 |
CN107922443A (zh) | 2018-04-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |