KR20180011728A - Functional liquid ejection apparatus and functional liquid ejection position correcting method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 워크에 기능액을 토출하여 묘화하는 기능액 토출 장치 및 해당 기능액 토출 장치의 기능액 토출 위치 보정 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a functional liquid ejecting apparatus that ejects functional liquid to a work and draws the functional liquid, and a functional liquid ejecting position correcting method of the functional liquid ejecting apparatus.
종래, 기능액을 사용하여 워크에 묘화를 행하는 장치로서, 해당 기능액을 액적으로 하여 토출하는 잉크젯 방식의 기능액 토출 장치가 알려져 있다. 기능액 토출 장치는, 예컨대 유기 EL 장치, 컬러 필터, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이(PDP 장치), 전자 방출 장치(FED 장치, SED 장치) 등의 전기 광학 장치(플랫 패널 디스플레이 : FPD)를 제조할 때 등, 널리 이용되고 있다.2. Description of the Related Art Conventionally, there is known an inkjet type functional liquid ejection apparatus that ejects functional liquid as liquid droplets as an apparatus for performing drawing on a work using a functional liquid. The functional liquid ejection apparatus can be used for manufacturing an electro-optical device (flat panel display: FPD) such as an organic EL device, a color filter, a liquid crystal display, a plasma display (PDP device), an electron emitting device (FED device, SED device) When it is widely used.
기능액 토출 장치에 있어서는, 기능액의 토출 위치의 정확성이 요구된다. 그러나, 종래, 기능액을 토출하는 토출 헤드의 설치 위치의 조정 기구는 없고, 토출 헤드의 설치 위치, 즉 토출 헤드로부터의 기능액의 토출 위치는, 그 토출 헤드의 기계 가공 정밀도에 의해 결정되고 있었다. 그 때문에, 토출 헤드로부터의 기능액의 토출 위치, 즉 착탄 위치의 정확도가 충분하지 않은 경우가 있었다.In the functional liquid ejecting apparatus, accuracy of the ejecting position of the functional liquid is required. However, conventionally, there is no mechanism for adjusting the mounting position of the discharging head for discharging the functional liquid, and the mounting position of the discharging head, that is, the discharging position of the functional liquid from the discharging head has been determined by the machining precision of the discharging head . Therefore, there has been a case where the discharging position of the functional liquid from the discharging head, that is, the accuracy of the landing position is not sufficient.
기능액의 액적의 착탄 정확도를 높이기 위해, 특허 문헌 1에서는, 복수의 기능액 토출 헤드를 지지하는 단일 캐리지를 구비한 기능액 토출 장치에 있어서, 기능액 토출 헤드가, 그 기능액 토출 헤드를 캐리지의 면 방향으로 이동 가능한 위치 조정 수단을 통해서, 캐리지에 고정되어 있다.
또한, 특허 문헌 2에서는, 복수의 캐리지 각각에 복수의 기능액 토출 헤드를 구비하는 기능액 토출 장치에 있어서, 착탄 오차를 간단하게 보정하기 위해, 이하의 구성을 채용하고 있다. 즉, 얼라인먼트용 토출 패턴 데이터에 의해, 기능액 토출 헤드로부터 기능액을 토출시켜, 워크상의 검사 영역에, 부 주사 방향으로 연속하는 기능액의 액적의 도트 라인을 묘화하고, 각 캐리지에 대응하는 도트 라인을 각각 촬상하고, 설계 기준으로부터의 착탄 오차를 인식한다. 그리고, 착탄 오차의 인식 결과에 근거하여 각 캐리지의 상대 위치를 보정한다.Further, in Patent Document 2, in the functional liquid ejecting apparatus provided with a plurality of functional liquid ejecting heads on each of a plurality of carriages, the following configuration is adopted to simply correct the landing error. That is, the functional liquid is ejected from the functional liquid ejection head by the alignment ejection pattern data, and the dot line of the droplet of the functional liquid continuous in the sub-scanning direction is drawn in the inspection area on the work, Line, and recognizes the landing error from the design standard. Then, based on the recognition result of the landing error, the relative position of each carriage is corrected.
또, 기능액 토출 장치에 있어서, 특허 문헌 2와 같이, 각 캐리지에 복수의 기능액 토출 헤드를 마련하고, 복수의 캐리지를 탑재하도록 구성하는 것에 의해, 기능액 토출 헤드의 메인터넌스를 용이하게 하고 있다.In the functional liquid ejecting apparatus, as in Patent Document 2, a plurality of functional liquid ejecting heads are provided in each carriage, and a plurality of carriages are mounted, thereby facilitating the maintenance of the functional liquid ejecting head .
(선행 기술 문헌)(Prior art document)
(특허 문헌)(Patent Literature)
(특허 문헌 1) 일본 특허 공개 2005-246130호 공보(Patent Document 1) Japanese Patent Laid-Open No. 2005-246130
(특허 문헌 2) 일본 특허 공개 2006-44059호 공보(Patent Document 2) JP-A-2006-44059
상술한 바와 같이, 기능액의 액적의 착탄 정확도를 향상시킬 필요가 있지만, 특허 문헌 1에 기재된 방법에서는, 캐리지의 위치 맞춤이 행해지지 않기 때문에, 기능액 토출 헤드의 설치 위치의 조정 폭이 커지는 일이 있다. 그 때문에, 그 설치 위치의 조정 수단을 크게 할 필요가 있다. 또한, 캐리지상에 기능액 토출 헤드가 복수 마련되어 있지만, 기능액 토출 헤드간의 스페이스는 한정되어 있다. 따라서, 특허 문헌 1에 기재된 방법에서는 상기 조정 수단을 캐리지상에 탑재할 수 없기 때문에, 실제로는 기능액의 착탄 위치를 조정하는 것은 곤란하다.As described above, it is necessary to improve the landing accuracy of droplets of the functional liquid. However, in the method described in
또한, 특허 문헌 2에 기재된 방법에서는, 각 캐리지 내에서 기능액 토출 헤드의 위치 맞춤이 행해지고 있지 않기 때문에, 기능액의 착탄 위치의 정확도가 충분하지 않은 경우가 있다.Further, in the method described in Patent Document 2, since the positioning of the functional liquid discharge head in each carriage is not performed, the accuracy of the landing position of the functional liquid may not be sufficient.
본 발명은, 이러한 점을 감안하여 이루어진 것이고, 워크에 기능액을 토출하는 기능액 토출 헤드(노즐 헤드)가 복수 마련된 캐리지를 구비한 기능액 토출 장치에 있어서, 기능액의 토출 위치/착탄 위치의 정확도를 향상시키는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of these points, and it is an object of the present invention to provide a functional liquid ejecting apparatus having a carriage provided with a plurality of functional liquid ejection heads (nozzle heads) And to improve the accuracy.
상기의 목적을 달성하기 위해, 워크를 주사시키고, 상기 워크상에 기능액을 토출하여 묘화하는 기능액 토출 장치로서, 복수의 토출 노즐을 거쳐서 상기 워크에 상기 기능액을 토출하는 노즐 헤드가 복수 마련된 탑재면을 가짐과 아울러, 적어도 상기 탑재면의 수직선에 대한 상기 노즐 헤드의 기울기를 조정하는 조정 기구를 상기 노즐 헤드마다 갖는 캐리지와, 적어도 상기 워크상의 액적을 촬상하는 촬상부와, 상기 노즐 헤드마다, 상기 조정 기구 및 토출 타이밍을 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 워크에 대하여 위치 맞춤되어 고정된 캐리지의 상기 노즐 헤드로부터, 상기 워크상에 상기 기능액을 토출시키고, 상기 기능액의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 해당 노즐 헤드의 조정 기구 및 토출 타이밍을 제어하여, 해당 노즐 헤드의, 상기 수직선에 대한 기울기 및 상기 워크의 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을 행하는 것을 특징으로 하고 있다.In order to achieve the above object, there is provided a functional liquid ejecting apparatus for ejecting functional liquid onto a workpiece by scanning a workpiece, the functional liquid ejecting apparatus comprising a plurality of nozzle heads for ejecting the functional liquid to the work via a plurality of ejection nozzles A carriage having a mounting surface and at least an adjustment mechanism for adjusting the tilt of the nozzle head relative to a vertical line of the mounting surface for each of the nozzle heads; an imaging section for imaging at least a droplet on the workpiece; And a control unit for controlling the adjustment mechanism and the ejection timing, wherein the control unit ejects the functional liquid onto the work from the nozzle head of the carriage which is aligned and fixed relative to the work, And controls the adjusting mechanism and the ejection timing of the nozzle head based on the imaging result of the imaging unit, The inclination of the zig-zag with respect to the vertical line, and the discharging position of the functional liquid associated with the scanning direction of the work are adjusted.
본 발명에 의하면, 노즐 헤드마다 토출 위치 조정을 행하기 때문에, 액적의 토출 위치의 정확도가 매우 높다. 또한, 캐리지의 위치 맞춤 후에, 노즐 헤드의 토출 위치 조정을 행하기 때문에, 노즐 헤드의 조정 폭이 작으므로, 그 조정용의 기구가 소형이고, 그 조정용의 기구를 캐리지상에 탑재할 수 있다. 따라서, 정확도가 높은 토출 위치 조정을 확실히 행할 수 있다.According to the present invention, since the discharge position adjustment is performed for each nozzle head, the accuracy of the discharge position of the droplet is very high. Further, since the adjustment position of the nozzle head is adjusted after the carriage is aligned, the adjustment width of the nozzle head is small, and the adjustment mechanism is small, and the adjustment mechanism can be mounted on the carriage. Therefore, the discharge position adjustment with high accuracy can be reliably performed.
상기 제어부가, 상기 노즐 헤드의 복수의 토출 노즐을 거쳐서 토출된 상기 워크상의 기능액군의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 해당 기능액군의 기울기를 산출하고, 상기 기울기에 근거하여, 해당 노즐 헤드의 상기 수직선에 대한 기울기를 조정하더라도 좋다.Wherein the control unit calculates a slope of the functional liquid group based on an imaging result of the functional liquid group on the work discharged through the plurality of discharge nozzles of the nozzle head by the imaging unit, The inclination of the head with respect to the vertical line may be adjusted.
상기 제어부는, 상기 워크상의 소정의 마크의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여 기준선을 결정하고, 상기 기능액군의 기울기는, 상기 기준선에 대한 기울기이더라도 좋다.The control unit may determine a reference line based on an imaging result of a predetermined mark on the workpiece in the imaging unit, and the inclination of the functional liquid group may be a slope with respect to the reference line.
상기 제어부는, 상기 기준선으로부터 상기 기능액군까지의 거리에 근거하여, 상기 노즐 헤드의 토출 타이밍을 제어하더라도 좋다.The control unit may control the ejection timing of the nozzle head based on the distance from the reference line to the functional liquid group.
상기 제어부는, 상기 캐리지의 위치 맞춤 및 상기 노즐 헤드의 상기 수직선에 대한 기울기 및 상기 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을, 상기 워크마다 행하더라도 좋다.The control unit may perform the adjustment of the carriage, the tilting of the nozzle head with respect to the vertical line, and the adjustment of the discharging position of the functional liquid associated with the scanning direction for each work.
상기 제어부는, 상기 캐리지의 위치 맞춤을 소정 시간마다 또는 소정 시각에 행하고, 상기 노즐 헤드의 상기 수직선에 대한 기울기 및 상기 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을 상기 워크마다 행하더라도 좋다.The control unit may perform the alignment of the carriage at predetermined time intervals or at predetermined times and adjust the inclination of the nozzle head with respect to the vertical line and the discharge position of the functional liquid associated with the scanning direction for each workpiece .
상기 캐리지의 이동 및/또는 회전을 행하는 위치 맞춤 기구를 더 구비하고, 상기 제어부는, 또한 상기 위치 맞춤 기구를 제어하는 것이고, 상기 캐리지의 복수의 상기 노즐 헤드로부터, 상기 워크상에 상기 기능액을 토출시키고, 상기 기능액의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 위치 맞춤 기구를 제어하여, 해당 캐리지의 위치 맞춤을 행하더라도 좋다.Further comprising an alignment mechanism that moves and / or rotates the carriage, wherein the control unit is further configured to control the alignment mechanism, wherein the control unit controls the alignment mechanism to move the functional liquid on the work from a plurality of the nozzle heads of the carriage And the alignment mechanism may be controlled based on the imaging result of the functional liquid in the imaging section to align the carriage.
상기 제어부는, 상기 노즐 헤드의 복수의 토출 노즐로부터 토출된 상기 워크상의 기능액군의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 해당 기능액군의 기울기를 산출하고, 상기 산출한 기울기의 평균치에 근거하여, 해당 캐리지의 위치 맞춤을 행하더라도 좋다.Wherein the control unit calculates a slope of the functional liquid group based on an image pickup result of the functional liquid group on the work discharged from the plurality of discharge nozzles of the nozzle head by the image pickup unit and based on the average value of the calculated slope , The carriage may be positioned.
상기 촬상부는, 상기 노즐 헤드의 상기 토출 노즐로부터 토출된, 상기 워크의 액티브 에리어 밖의 상기 기능액을 촬상하는 것이더라도 좋다.The imaging section may pick up the functional liquid discharged from the discharge nozzle of the nozzle head outside the active area of the work.
상기 조정 기구는, 상기 탑재면과 평행한 제 1 방향으로 상기 노즐 헤드를 이동시키는 힘을 부여하는 제 1 위치 결정 기구와, 상기 탑재면과 평행하고 또한 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 상기 노즐 헤드를 이동시킴과 아울러, 상기 탑재면의 수직선을 회전축으로 하여 시계방향 및 반시계방향으로 상기 노즐 헤드를 회전시키는 힘을 부여하는 제 2 위치 결정 기구와, 적어도, 상기 제 2 위치 결정 기구로부터의 힘에 의한, 상기 노즐 헤드의 상기 제 2 방향으로의 이동과, 상기 노즐 헤드의 시계방향 또는 반시계방향의 회전을 억제하는 제 3 위치 결정 기구를 갖는 것이더라도 좋다.Wherein the adjusting mechanism includes a first positioning mechanism that applies a force to move the nozzle head in a first direction parallel to the mounting surface and a second positioning mechanism that is parallel to the mounting surface and in a second direction perpendicular to the first direction A second positioning mechanism that moves the nozzle head and applies a force to rotate the nozzle head in a clockwise direction and a counterclockwise direction with a vertical line of the mounting surface as a rotation axis; And a third positioning mechanism for restricting the movement of the nozzle head in the second direction and the clockwise or counterclockwise rotation of the nozzle head by force from the second positioning mechanism.
상기 제 3 위치 결정 기구는, 상기 제 2 방향으로 노즐 헤드를 이동시킴과 아울러, 상기 탑재면의 수직선을 회전축으로 하여 반시계방향 또는 시계방향으로 상기 노즐 헤드를 회전시키는 힘을 부여하더라도 좋다.The third positioning mechanism may move the nozzle head in the second direction and apply a force to rotate the nozzle head in a counterclockwise or clockwise direction with the vertical line of the mounting surface as a rotation axis.
상기 캐리지는, 상기 노즐 헤드가 설치되고 해당 캐리지에 고정되는 베이스를 갖고, 상기 베이스는, 상기 제 2 방향 정측(正側)의 단면에 있어서의 소정의 부분에, 상기 제 2 방향을 따라 오목한 안쪽으로 좁아지는 형상의 제 1 오목부를 갖고, 상기 제 2 방향 정측의 단면에 있어서의 상기 제 1 오목부와 대향하는 부분으로부터 상기 제 1 방향에 관하여 이간한 부분에, 상기 제 2 방향을 따라 오목한 안쪽으로 좁아지는 형상의 제 2 오목부를 갖고, 상기 제 1 위치 결정 기구는, 상기 베이스의 상기 제 1 방향 정측의 단면에 상기 제 1 방향 정측으로부터 접촉하는 제 1 접촉 핀과, 상기 베이스의 상기 제 1 방향 부측(負側)의 단면에 있어서의 상기 제 1 접촉 핀과 대향하는 부분에 상기 제 1 방향 부측으로부터 접촉하는 제 2 접촉 핀을 갖고, 상기 제 2 위치 결정 기구는, 상기 베이스의 상기 제 1 오목부에 접촉하는 제 1 쐐기와, 상기 베이스의 상기 제 2 오목부에 접촉하는 제 2 쐐기를 갖고, 상기 제 3 위치 결정 기구는, 상기 베이스의 상기 제 2 방향 정측의 단면에 있어서의 상기 제 2 오목부와 대향하는 부분에 상기 제 2 방향 정측으로부터 접촉하는 제 3 접촉 핀과, 상기 베이스의 상기 제 2 방향 부측의 단면에 있어서의 상기 제 1 오목부와 대향하는 부분에 상기 제 2 방향 부측으로부터 접촉하는 제 4 접촉 핀을 갖더라도 좋다.Wherein the carriage has a base provided with the nozzle head and fixed to the carriage, and the base is provided on a predetermined portion in a cross section of the second direction positive side, Wherein the first concave portion has a concave portion that is recessed along the second direction from the portion facing the first concave portion in the cross section of the second direction positive side, Wherein the first positioning mechanism has a first contact pin which is in contact with the end face of the base on the positive side in the first direction from the positive side in the first direction and a second contact pin And a second contact pin which is in contact with the first contact pin from the first direction side portion at a portion facing the first contact pin in the cross section on the direction side (negative side) Has a first wedge in contact with the first concave portion of the base and a second wedge in contact with the second concave portion of the base, and the third positioning mechanism has a second wedge A third contact pin which is in contact with the second concave portion on the positive side in the section facing the second concave portion and a third contact pin which is in contact with the first concave portion in the end face on the side of the second direction side, And the fourth contact pin is in contact with the second direction portion.
상기 제 1 쐐기와 접촉하는 상기 제 1 오목부에 있어서의 상기 베이스의 중앙 쪽의 면 및 상기 제 2 쐐기와 접촉하는 상기 제 2 오목부에 있어서의 상기 베이스의 중앙 쪽의 면은, 상기 제 1 방향 및 상기 제 2 방향 중 어느 방향에 대해서도 평행이 아니더라도 좋다.The center of the base in the first concave portion in contact with the first wedge and the center of the base in the second concave portion in contact with the second wedge, Direction and the second direction may not be parallel to each other.
다른 관점에 의한 본 발명은, 워크를 주사시키고, 상기 워크상에 기능액을 토출하여 묘화하는 기능액 토출 장치의 액적 토출 위치 조정 방법으로서, 상기 워크에 상기 기능액을 토출하는 노즐 헤드가 탑재면에 복수 마련된 캐리지를, 상기 워크에 대하여 위치 맞춤하여 고정하는 캐리지 위치 맞춤 공정과, 위치 맞춤되어 고정된 상기 캐리지상의 상기 노즐 헤드로부터, 상기 워크상에 상기 기능액을 토출시키고, 상기 기능액을 촬상부에서 촬상하는 촬상 공정과, 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 캐리지에 상기 노즐 헤드마다 마련된 조정 기구를 제어하여, 상기 탑재면의 수직선에 대한 해당 노즐 헤드의 기울기를 조정함과 아울러, 상기 노즐 헤드의 토출 타이밍을 제어하여, 해당 노즐 헤드의 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을 행하는 토출 위치 조정 공정을 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.In another aspect of the present invention, there is provided a liquid droplet ejection position adjustment method for a functional liquid ejection apparatus that scans a work and ejects and draws a functional liquid on the work, the nozzle head for ejecting the functional liquid, A carriage positioning step of aligning and fixing a plurality of carriages provided on the carriage to the workpiece; and discharging the functional liquid onto the workpiece from the nozzle head on the carriage, An adjustment step of adjusting an inclination of the nozzle head relative to a vertical line of the mount surface by controlling an adjustment mechanism provided for each nozzle head on the carriage based on an image pickup result of the image pickup section, In addition, it is also possible to control the ejection timing of the nozzle head to control the ejection speed of the functional liquid, which is related to the scanning direction of the nozzle head That of including a discharge position adjusting step of performing adjustment and is characterized.
본 발명에 의하면, 워크에 기능액을 토출하는 노즐 헤드가 복수 마련된 캐리지를 구비한 기능액 토출 장치에 있어서, 기능액의 토출 위치/착탄 위치의 정확도를 향상시킬 수 있다.According to the present invention, in a functional liquid ejecting apparatus provided with a carriage having a plurality of nozzle heads for ejecting functional liquid to a work, accuracy of ejection position / landing position of the functional liquid can be improved.
도 1은 본 실시 형태와 관련되는 기능액 토출 장치의 일례의 구성의 개략을 나타내는 모식 측면도이다.
도 2는 도 1의 기능액 토출 장치의 모식 평면도이다.
도 3은 도 1의 기능액 토출 장치가 구비하는 캐리지의 구성의 개략을 나타내는 모식 평면도이다.
도 4는 도 1의 기능액 토출 장치가 구비하는 스테이지로서, 워크가 탑재된 상태인 것의 모식 평면도이다.
도 5는 도 4의 워크의 부분 A의 부분 확대도이다.
도 6은 노즐 헤드의 토출 위치 조정 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 노즐 헤드의 토출 위치 조정 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 노즐 헤드의 θ축 방향의 위치 맞춤의 구체적인 예를 나타내는 도면이다.
도 9는 θ축 방향의 위치 맞춤 후의 노즐 헤드로부터 액적을 토출한 경우의 모습을 나타내는 도면이다.
도 10은 묘화 타이밍 데이터의 보정 후의 노즐 헤드로부터 액적을 토출한 경우의 모습을 나타내는 도면이다
도 11은 노즐 헤드의 조정 기구의 다른 예를 설명하는 도면이다.1 is a schematic side view schematically showing an example of the structure of a functional liquid ejecting apparatus according to the present embodiment.
Fig. 2 is a schematic plan view of the functional liquid ejecting apparatus of Fig. 1. Fig.
Fig. 3 is a schematic plan view schematically showing a configuration of a carriage included in the functional liquid ejecting apparatus of Fig. 1. Fig.
Fig. 4 is a schematic top view of a stage provided in the functional liquid ejecting apparatus of Fig. 1, in which a work is mounted. Fig.
5 is a partial enlarged view of part A of the work of Fig.
6 is a view for explaining a discharge position adjusting method of the nozzle head.
7 is a view for explaining a discharge position adjusting method of the nozzle head.
8 is a view showing a specific example of the alignment of the nozzle head in the? -Axis direction.
9 is a view showing a state in which liquid droplets are ejected from the nozzle head after alignment in the? -Axis direction.
10 is a view showing a state in which droplets are ejected from the nozzle head after correction of the drawing timing data
11 is a view for explaining another example of the adjustment mechanism of the nozzle head.
이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 실시의 형태에 대하여 설명한다. 또, 이하에 나타내는 실시의 형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the embodiments described below.
먼저, 본 발명의 실시의 형태와 관련되는 기능액 토출 장치의 구성에 대하여, 도 1~도 5를 참조하여 설명한다. 도 1은 본 실시 형태와 관련되는 기능액 토출 장치의 일례의 구성의 개략을 나타내는 모식 측면도이다. 도 2는 도 1의 기능액 토출 장치의 모식 평면도이다. 도 3은 도 1의 기능액 토출 장치가 구비하는 캐리지의 구성의 개략을 나타내는 모식 평면도이다. 도 4는 도 1의 기능액 토출 장치가 구비하는 스테이지로서, 워크가 탑재된 상태인 것의 모식 평면도이다. 도 5는 도 4의 워크의 부분 A의 부분 확대도이다.First, the structure of a functional liquid ejection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 1 to 5. Fig. 1 is a schematic side view schematically showing an example of the structure of a functional liquid ejecting apparatus according to the present embodiment. Fig. 2 is a schematic plan view of the functional liquid ejecting apparatus of Fig. 1. Fig. Fig. 3 is a schematic plan view schematically showing a configuration of a carriage included in the functional liquid ejecting apparatus of Fig. 1. Fig. Fig. 4 is a schematic top view of a stage provided in the functional liquid ejecting apparatus of Fig. 1, in which a work is mounted. Fig. 5 is a partial enlarged view of part A of the work of Fig.
또, 이하에 있어서는, 워크의 주(主) 주사 방향을 X축 방향, 주 주사 방향에 직교하는 부(副) 주사 방향을 Y축 방향, X축 방향 및 Y축 방향에 직교하는 연직 방향을 Z축 방향, Z축 방향 주위의 회동(回動) 방향을 θ 방향으로 한다.Hereinafter, the main scanning direction of the workpiece will be referred to as an X axis direction, the sub scanning direction perpendicular to the main scanning direction will be referred to as a Y axis direction, the vertical direction orthogonal to the X axis direction and the Y axis direction will be referred to as Z Axis direction, and the rotation direction around the Z-axis direction is the? Direction.
기능액 토출 장치(1)는, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 주 주사 방향(X축 방향)으로 연장되어, 워크 W를 주 주사 방향으로 이동시키는 X축 테이블(10)과, X축 테이블(10)을 걸치도록 가설되고, 부 주사 방향(Y축 방향)으로 연장되는 한 쌍의 Y축 테이블(11, 11)을 갖고 있다. X축 테이블(10)의 상면에는, 한 쌍의 X축 가이드 레일(12, 12)이 X축 방향으로 연장되어 마련되고, 각 X축 가이드 레일(12)에는, X축 리니어 모터(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 각 Y축 테이블(11)의 상면에는, Y축 가이드 레일(13)이 Y축 방향으로 연장되어 마련되고, 해당 Y축 가이드 레일(13)에는, Y축 리니어 모터(도시하지 않음)가 마련되어 있다.1 and 2, the functional
한 쌍의 Y축 테이블(11, 11)에는, 캐리지 유닛(20)과 촬상 유닛(30)이 마련되어 있다. X축 테이블(10)상에는, 워크 스테이지(40)가 마련되어 있다. X축 테이블(10)의 바깥쪽(Y축 부방향(負方向) 쪽)으로서, 한 쌍의 Y축 테이블(11, 11)의 사이에는, 메인터넌스 유닛(50)이 마련되어 있다.The
캐리지 유닛(20)은, Y축 테이블(11)에 있어서, 복수, 예컨대 10개 마련되어 있다. 각 캐리지 유닛(20)은, 캐리지 플레이트(21)와, 캐리지 회동 기구(22)와, 캐리지(23)와, 노즐 헤드(24)를 갖고 있다.A plurality of, for example, ten
캐리지 플레이트(21)는, 금속제의 플레이트로 이루어지고, Y축 가이드 레일(13)에 설치되고, 해당 Y축 가이드 레일(13)에 마련된 Y축 리니어 모터에 의해 Y축 방향으로 이동이 자유롭게 되어 있다. 또, 복수의 캐리지 플레이트(21)를 일체로서 Y축 방향으로 이동시키는 것도 가능하다.The
캐리지 플레이트(21)의 하면의 중앙에는, 캐리지 회동 기구(22)가 마련되고, 해당 캐리지 회동 기구(22)의 하단부에 캐리지(23)가 탈착이 자유롭게 설치되어 있다. 캐리지(23)는, 캐리지 회동 기구(22)에 의해 θ 방향으로 회동이 자유롭게 되어 있다.A carriage turning mechanism 22 is provided at the center of the lower surface of the
캐리지(23)의 하면의 탑재면(23a)에는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 복수의 노즐 헤드(24)가 마련되어 있다. 노즐 헤드(24)는, 본 실시 형태의 설명을 용이하게 하기 위해, 6개만 나타내어지고 있지만, 실제로는 예컨대 12개 마련되어 있다. 6개의 노즐 헤드(24)는, Y 방향으로부터 보아서 서로 겹치는 일 없이 연속하고, X 방향으로부터 보아서 각 헤드(24)의 단부가 해당 헤드(24)에 인접하는 헤드(24)의 단부와 겹치도록, 아래쪽에서 볼 때 계단 형상으로 마련되어 있다.On the mounting
또한, 노즐 헤드(24)는, 각각의 하면, 즉 노즐면에 복수(본 예에서는 10개)의 토출 노즐(24a)이 형성되어 있고, 해당 토출 노즐(24a)을 거쳐서 기능액을 토출한다. 토출 노즐(24a)은, Y축 방향을 따라 연속적으로 마련되어 있다.The
또한, 각 노즐 헤드(24)의 Y축 방향 부측의 단부에 있어서의 X축 방향 부측의 측면에 대하여, 가압부(25)가 마련되어 있다. 또한, 각 노즐 헤드(24)의 Y축 방향 정측의 단면에 대하여 핀(26)이 마련되어 있다. 가압부(25)에서의 가압량을 변화시키는 것에 의해, 핀(26)을 중심으로 노즐 헤드(24)를 θ축 방향으로 회전시킬 수 있고, 즉, 캐리지(23)의 탑재면(23a)의 수직선에 대한 기울기를 조정할 수 있도록 되어 있다. 다시 말해, 캐리지(23)의 탑재면(23a)의 수직선에 대한 각 노즐 헤드(24)의 기울기를 조정하는 본 발명과 관련되는 「조정 기구」는 이들 가압부(25)와 핀(26)에 의해 구성된다.A
각 노즐 헤드(24)의 가압부(25)에 대향하는 부분, 즉, 각 노즐 헤드(24)의 Y축 방향 부측의 단부에 있어서의 X축 방향 정측의 측면에 대하여, 해당 단부를 X축 방향 부측으로 움직이게 하는, 탄성 부재를 갖는 탄성 부여부를 마련하더라도 좋다. 또, 가압부(25)는 예컨대 피에조 소자로 구성할 수 있다. 또한, 핀(26)은, 노즐 헤드(24)를 회동 가능하게 지지하는 지지 부재이더라도 좋다.With respect to the side surface of the
그리고, 캐리지(23)의 하면에는 그 캐리지의 위치 결정을 위한 캐리지 기준 마크(27)가 마련되어 있다.On the lower surface of the
도 1 및 도 2의 설명으로 돌아간다.Returning to the description of FIG. 1 and FIG.
촬상 유닛(30)은, 촬상부로서의 토출 검사 카메라(31)를 갖고 있다. 토출 검사 카메라(31)는, 캐리지(23)에 대하여 X축 정방향(正方向) 쪽에 배치되어 있다.The
토출 검사 카메라(31)는, 워크 W를 촬상하고, 구체적으로는, 워크 W상에 검사 토출된 액적의 착탄 도트나 워크 W상의 후술하는 기준 마크를 촬상한다. 토출 검사 카메라(31)는, 예컨대 라인 센서이다. 토출 검사 카메라(31)는, 한 쌍의 Y축 테이블(11, 11) 중, X축 정방향 쪽의 Y축 테이블(11)의 측면에 마련된 베이스(32)에 지지되어 있다. 그리고, 토출 검사 카메라(31)의 직하에, 워크 스테이지(40)가 안내되었을 때, 토출 검사 카메라(31)는, 워크 스테이지(40)상의 워크 W에 착탄된 액적에 의한 패턴을 촬영할 수 있다.The
또, 베이스(32)에 토출 검사 카메라(31)를 이동시키는 이동 기구를 마련하여, 토출 검사 카메라(31)를 Y축 방향으로 이동이 자유롭게 하더라도 좋다.A movement mechanism for moving the
워크 스테이지(40)는, 예컨대 진공 흡착 스테이지이고, 워크 W를 흡착하여 탑재한다. 워크 스테이지(40)는, 해당 워크 스테이지(40)의 하면 쪽에 마련된 스테이지 회동 기구(41)에 의해, θ 방향으로 회동이 자유롭게 지지되어 있다. 또, Y축 테이블(11)의 X축 부방향 쪽으로서, 워크 스테이지(40)의 위쪽에는, 워크 스테이지(40)상의 워크 W의 얼라인먼트 마크를 촬상하는 워크 얼라인먼트 카메라(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 그리고, 워크 얼라인먼트 카메라로 촬상된 화상에 근거하여, 스테이지 회동 기구(41)에 의해, 워크 스테이지(40)에 탑재된 워크 W의 θ 방향의 위치가 보정된다.The
또, 워크 얼라인먼트 카메라를 마련하지 않고서 토출 검사 카메라(31)를 이용하여 워크 W의 θ 방향의 위치를 보정하더라도 좋다.Further, the position of the work W in the θ direction may be corrected by using the
워크 스테이지(40)와 스테이지 회동 기구(41)는, 스테이지 회동 기구(41)의 하면 쪽에 마련된 X축 슬라이더(42)에 지지되어 있다. X축 슬라이더(42)는, X축 가이드 레일(12)에 설치되고, 해당 X축 가이드 레일(12)에 마련된 X축 리니어 모터에 의해 X축 방향으로 이동이 자유롭게 되어 있다. 그리고, 워크 스테이지(40)(워크 W)도, X축 슬라이더(42)에 의해 X축 가이드 레일(12)을 따라 X축 방향으로 이동이 자유롭게 되어 있다.The
워크 스테이지(40)상에 탑재되는 워크 W는, 예컨대 G8.5 유리 기판이다. 워크 W는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 묘화용의 기능액이 토출되는 6개의 액티브 에리어 W1이 지정되어 있고, 각 액티브 에리어 W1의 주위는, 적어도 묘화시에는 기능액이 토출되지 않는 더미 영역 W2로 되어 있다. 또한, 워크 W에는, 해당 워크 W의 θ 방향의 위치 조정을 위한 얼라인먼트 마크 W3이 마련되어 있다.The workpiece W mounted on the
또한, 워크 W의 X 방향 정측으로서 Y 방향 부측의 액티브 에리어 W1의 주위의 더미 영역 W2에는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 캐리지(23)의 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정을 위한 기준 마크 W4가 2개 형성되어 있다. 구체적으로는, 기준 마크 W4는, 해당 액티브 에리어 W1에 있어서의 X축 방향 정측의 단부의 주위의 더미 영역 W2에 2개 형성되고, 또한, 2개의 기준 마크 W4는 Y축 방향으로 정렬됨과 아울러 그 사이에 해당 액티브 에리어 W1을 두도록 마련되어 있다. 기준 마크 W4의 이용 방법에 대해서는 후술한다.5, a reference mark W4 for adjustment of the ejection position of the
다시, 도 1 및 도 2의 설명으로 돌아간다.1 and Fig. 2 again.
메인터넌스 유닛(50)은, 노즐 헤드(24)의 메인터넌스를 행하고, 해당 노즐 헤드(24)의 토출 불량을 해소한다.The
이상의 기능액 토출 장치(1)에는, 제어부(150)가 마련되어 있다. 제어부(150)는, 예컨대 컴퓨터이고, 데이터 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 데이터 저장부에는, 예컨대 워크 W에 토출되는 액적을 제어하고, 해당 워크 W에 소정의 패턴을 묘화하기 위한 묘화 데이터(비트맵 데이터) 등이 저장되어 있다. 또한, 제어부(150)는, 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 프로그램 저장부에는, 기능액 토출 장치(1)에 있어서의 각종 처리를 제어하는 프로그램이나, 구동계의 동작을 제어하는 프로그램 등이 저장되어 있다.In the functional
또, 상기 데이터나 상기 프로그램은, 예컨대 컴퓨터 판독 가능한 하드 디스크(HD), 플렉서블 디스크(FD), 콤팩트 디스크(CD), 마그넷옵티컬 디스크(MO), 메모리카드 등의 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어부(150)에 인스톨된 것이더라도 좋다.The data and the program are recorded in a computer readable storage medium such as a computer readable hard disk (HD), a flexible disk (FD), a compact disk (CD), a magnet optical disk (MO) And may be installed in the
다음으로, 이상과 같이 구성된 기능액 토출 장치(1)를 이용하여 행해지는 워크 W로의 묘화 처리에 대하여 간단하게 설명한다. 이하의 설명에서는, X축 테이블(10)상에 있어서, Y축 테이블(11)보다 X축 부방향 쪽의 에리어를 반입출 에리어 A1이라고 하고, 한 쌍의 Y축 테이블(11, 11)간의 에리어를 처리 에리어 A2라고 하고, Y축 테이블(11)보다 X축 정방향 쪽의 에리어를 대기 에리어 A3이라고 한다.Next, the drawing process to the work W performed by using the functional
먼저, 반입출 에리어 A1에 워크 스테이지(40)를 배치하고, 반송 기구(도시하지 않음)에 의해 기능액 토출 장치(1)에 반입된 워크 W가 해당 워크 스테이지(40)에 탑재된다. 계속하여, 워크 얼라인먼트 카메라에 의해 워크 스테이지(40)상의 워크 W의 얼라인먼트 마크 W3이 촬상된다. 그리고, 해당 촬상된 화상에 근거하여, 스테이지 회동 기구(41)에 의해, 워크 스테이지(40)에 탑재된 워크 W의 θ 방향의 위치가 보정되어, 워크 W의 얼라인먼트가 행해진다(스텝 S1).First, the
그 후, X축 슬라이더(42)에 의해, 워크 스테이지(40)를 반입출 에리어 A1로부터 처리 에리어 A2로 이동시킨다. 처리 에리어 A2에서는, 우선, 워크 W에 대하여, 노즐 헤드(24)의 토출 위치의 조정을 행하기 위한 패턴(위치 조정 패턴)이 묘화된다. 그리고, 이 위치 조정 패턴에 근거하는 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정을 행한 후, X축 슬라이더(42)에 의해 워크 W를 대기 에리어 A3 쪽으로 이동시키고, 워크 W로의 묘화 데이터에 근거하는 묘화를 개시시킨다. 그리고, 워크 W를 X축 방향으로 왕복 이동시킴과 아울러, 캐리지 유닛(20)을 적당히, Y축 방향으로 이동시켜, 묘화 데이터에 근거하는 소정의 패턴이 워크 W에 묘화된다(스텝 S2). 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정 방법에 대해서는 후술한다.Thereafter, the
그 후, 워크 스테이지(40)를 대기 에리어 A3으로부터 반입출 에리어 A1로 이동시킨다. 워크 스테이지(40)가 반입출 에리어 A1로 이동하면, 묘화 처리가 종료된 워크 W가 기능액 토출 장치(1)로부터 반출된다(스텝 S3).Thereafter, the
계속하여, 다음의 워크 W가 기능액 토출 장치(1)에 반입되어, 상술한 스텝 S1~S3이 반복된다.Subsequently, the next work W is brought into the functional
이상과 같이 묘화를 행하는 기능액 토출 장치(1)에서는, 캐리지(23)의 위치 맞춤과, 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정의 양쪽을 행한다. 특히, 기능액 토출 장치(1)에서는, 캐리지(23)의 위치 맞춤 후, 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정을 행한다. 이들 위치 맞춤 및 토출 위치 조정에 대하여 이하 설명한다.In the functional
캐리지(23)의 위치 맞춤은, 이하와 같이 하여 행해진다. 즉, 워크 스테이지(40)에는, 캐리지(23)를 촬상하는 캐리지 얼라인먼트 카메라(도시하지 않음)가 마련되어 있고, 기능액 토출 장치(1)는, 캐리지(23)의 하면의 캐리지 기준 마크(27)를 캐리지 얼라인먼트 카메라로 촬상한다. 그리고, 기능액 토출 장치(1)는, 촬상 결과에 근거하여, 캐리지 회동 기구(22)를 제어하여, 캐리지(23)를 회전시키고, 캐리지(23)의 θ 방향의 위치를 보정하여, 워크 스테이지(40), 즉 워크 W에 대한 캐리지(23)의 위치 맞춤을 행하고, 그 후 캐리지(23)를 고정한다. 이 위치 맞춤은, 예컨대, 기능액 토출 장치(1)의 기동시나 캐리지(23)의 교환시에 행할 수 있고, 또한, 24시간마다 등 소정 간격마다 행하더라도 좋고, 작업 개시시 등에 행하도록 하더라도 좋다. 또, 이 위치 맞춤은 캐리지(23)마다 행해진다.The positioning of the
도 6 및 도 7은 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정 방법을 설명하기 위한 도면이다.Figs. 6 and 7 are views for explaining a discharge position adjusting method of the
노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정시에는, 우선, 기능액 토출 장치(1)는, 상술한 바와 같이 위치 맞춤된 캐리지(23)의 노즐 헤드(24)로부터, 도 6에 나타내는 바와 같이, 워크 W의 더미 영역 W2에 기능액의 액적을 토출시켜, 위치 맞춤용의 액적 패턴을 형성한다.At the time of adjusting the ejection position of the
구체적으로는, 기능액 토출 장치(1)는, 위치 맞춤하여 고정한 캐리지(23)의 모든 노즐 헤드(24)의 모든 토출 노즐(24a)로부터 기능액을 토출하여, 노즐 헤드(24)마다, 위치 맞춤 패턴이 되는 액적군/기능액군 E를 워크 W의 더미 영역 W2에 형성한다. 또, 위치 맞춤용의 묘화 데이터는, 토출 노즐(24a)이 모두 소망하는 위치에 있으면 그 토출 노즐(24a)로부터 토출되는 모든 액적이 직선 형상으로 늘어서도록 하는 데이터이지만, 캐리지(23)에 대한 토출 노즐(24a)의 각도는 그 노즐(24a)마다 상이하기 때문에, 도면과 같이 토출 노즐(24a)로부터 실제로 토출되는 것은 직선 형상이 되지 않는다.Specifically, the functional
다음으로, 기능액 토출 장치(1)는, 워크 W상에 형성된 위치 맞춤용의 액적 패턴을 토출 검사 카메라(31)로 촬상한다. 이때, 토출 검사 카메라(31)로 워크 W상의 기준 마크 W4도 촬상한다.Next, the functional
그 다음에, 기능액 토출 장치(1)는, 토출 검사 카메라(31)에서의 촬상 결과에 근거하여, 각 노즐 헤드(24)에 대하여 마련된 가압부(25)를 제어하여, 캐리지(23)의 탑재면(23a)의 수직선에 대한 각 노즐 헤드(24)의 기울기의 조정, 즉, 각 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 위치 맞춤을 행한다. 또한, 기능액 토출 장치(1)는, 상기 촬상 결과에 근거하여, 각 노즐 헤드(24)로부터의 주 주사 방향, 즉 X축 방향과 관련되는 기능액의 토출 위치를 조정한다.The functional
보다 구체적으로는, 기능액 토출 장치(1)(의 제어부(150))는, 촬상 결과에 근거하여, 노즐 헤드(24)마다, 도 7에 나타내는 바와 같이, 해당 헤드(24)로부터 토출된 액적군 E를 대표하는 선분 L을 작성한다. 이 선분 L의 작성에는 최소자승법에 의한 직선 근사를 사용할 수 있다. 또한, 기능액 토출 장치(1)는, 촬상 결과에 근거하여, 기준 마크 W4 사이의 선분(이하, 기준 선분) L0을 작성한다. 그리고, 기능액 토출 장치(1)는, 기준 선분 L0에 대한 각 액적군 E를 대표하는 선분 L의 각도를, 액적군 E마다, 즉 노즐 헤드(24)마다 산출한다. 또한, 기능액 토출 장치(1)는, 액적군 E마다, 그 액적군 E를 대표하는 선분 L로부터 기준 선분 L0까지의 거리 d를 산출한다. 이 거리 d는 예컨대, 해당하는 액적군 E를 구성하는 액적 중 핀(26)(도 3 참조) 쪽의 액적 E1로부터, 기준 선분 L0까지의 거리이고, 또한, 액적군 E를 대표하는 선분 L에 있어서의 상기 액적 E1에 가장 가까운 부분으로부터 상기 기준 선분 L0까지의 거리이더라도 좋다.More specifically, the functional liquid ejection apparatus 1 (the
그리고, 기능액 토출 장치(1)는, 상기 선분 L의 각도의 산출 결과에 근거하여, 가압부(25)를 제어하여, 해당 선분 L이 대표하는 액적군 E에 대응하는 노즐 헤드(24)를 상기 각도만큼 회전시킨다.The function
도 8은 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 위치 맞춤의 구체적인 예를 나타내는 도면이다.8 is a diagram showing a specific example of the positioning of the
도 8(A) 및 (B)는 각각 θ축 방향의 위치 맞춤 전 및 후의 노즐 헤드(24)의 모습을 나타내고, 도 8(a) 및 (b)는 각각 도 8(A) 및 (B)의 노즐 헤드로부터 토출되는 액적군 E의 모습을 나타낸다. 또, 도면 중 가상선으로 나타내어진 L'는, 선분 L을 평행 이동한 것이다.Figs. 8A and 8B show the state of the
도 8(A)의 θ축 방향의 위치 맞춤 전의 노즐 헤드(24)로부터 도 8(a)의 액적군 E가 토출되었을 때, 기능액 토출 장치(1)는, 가압부(25)를 제어하여, 상기 액적군 E를 대표하는 선분 L의 기준 선분 L0에 대한 각도 α만큼 노즐 헤드(24)를 회전시켜, 도 8(B)와 같은 상태가 되도록 한다. 이것에 의해, 위치 맞춤 후의 노즐 헤드(24)로부터 토출한 액적군 E를, 즉 그 액적군 E를 대표하는 선분 L을, 도 8(b)에 나타내는 바와 같이, 기준 선분 L0과 평행으로, 즉, 상기 액적군 E를 대표하는 선분 L의 기준 선분 L0에 대한 각도를 0°로 할 수 있다.When the droplet group E of Fig. 8 (a) is ejected from the
도 9는 θ축 방향의 위치 맞춤 후의 노즐 헤드(24)로부터 액적을 토출한 경우의 모습을 나타내는 도면이다. 또, 실제로는 θ축 방향의 위치 맞춤 후에 노즐 헤드(24)로부터 토출은 행하지 않는다.Fig. 9 is a view showing a state in which droplets are ejected from the
각 노즐 헤드(24)에 대하여 상술한 θ축 방향의 위치 맞춤을 행함으로써, 도 9에 나타내는 바와 같이, 액적군 E를 대표하는 선분 L을 모두 기준 선분 L0에 대하여 평행으로 하는 것, 즉, 모든 노즐 헤드(24)에 대하여 그 노즐 헤드(24)로부터 토출하여 액적군 E를 기준 선분 L0에 대하여 평행으로 할 수 있다.Axis direction with respect to each of the nozzle heads 24 so that all the line segments L representing the droplet group E are made parallel to the reference segment L 0 as shown in Fig. 9, that is, The droplet group E can be ejected from the
그러나, 위치 맞춤 후의 노즐 헤드(24)로부터 토출된 액적군 E를 대표하는 선분 L로부터 기준 선분 L0까지의 거리 d, 즉 주 주사 방향의 기능액의 토출 위치는 노즐 헤드(24)마다 상이하다. 따라서, 기능액 토출 장치(1)의 제어부(150)는, 액적군 E를 대표하는 선분 L로부터 기준 선분 L0까지의 거리 d에 근거하여, 그 거리 d가 되는 선분 L이 대표하는 액적군 E의 노즐 헤드(24)에 대하여, 묘화 타이밍 데이터를 보정한다. 거리 d가 소정치보다 크면, 묘화 타이밍이 느려지도록 묘화 타이밍 데이터를 보정하고, 거리 d가 소정치보다 작으면, 묘화 타이밍이 빨라지도록 묘화 타이밍 데이터를 보정한다. 이것에 의해, 노즐 헤드(24)의 주 주사 방향의 기능액의 토출 위치에 대해서도 조정할 수 있다.However, the distance d from the line segment L representing the droplet group E discharged from the
도 10은 묘화 타이밍 데이터의 보정 후의 노즐 헤드(24)로부터 액적을 토출한 경우의 모습을 나타내는 도면이다. 또, 실제로는 묘화 타이밍 데이터의 보정 후에 노즐 헤드로부터 토출은 행하지 않는다.10 is a view showing a state in which droplets are ejected from the
각 노즐 헤드(24)에 대하여 묘화 타이밍, 즉 주 주사 방향의 기능액의 토출 위치의 보정을 행함으로써, 도 10에 나타내는 바와 같이, 노즐 헤드(24)군으로부터 직선 형상으로 액적을 토출할 수 있다.10, droplets can be ejected linearly from the group of nozzle heads 24 by correcting the drawing timing, that is, the ejection positions of the functional liquid in the main scanning direction, with respect to each
묘화 타이밍 데이터 대신에 묘화 데이터 자체를 보정하도록 하더라도 좋다.The rendering data itself may be corrected instead of the rendering timing data.
또, 어느 액적군이 어느 노즐 헤드(24)에 대응하는지는, 액적군 E의 형성 영역으로 결정할 수 있다. 또한, 위치 맞춤 패턴의 형성시, 노즐 헤드(24)마다 토출하는 기능액의 색을 상이하게 하고, 촬상된 액적군 E의 색에 근거하여, 어느 액적군 E가 어느 노즐 헤드(24)에 대응하는지를 판단하도록 하더라도 좋다.Which liquid droplet group corresponds to which
이상과 같은 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정은, 워크마다 행해진다.The discharge position adjustment of the
이상과 같이, 기능액 토출 장치(1)에서는, 노즐 헤드(24)마다 토출 위치 조정을 행하기 때문에, 액적의 토출 위치의 정확도가 매우 높다. 또한, 캐리지(23)의 위치 맞춤 후에, 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정을 행하기 때문에, 노즐 헤드(24)의 조정 폭이 작으므로, 그 조정용의 기구가 소형이고, 문제없이 캐리지(23)상에 탑재할 수 있다.As described above, in the functional
또, 부 주사 방향에 대해서는, θ축 방향이나 주 주사 방향에 비하여 토출 위치의 정확도가 요구되지 않기 때문에, 기능액 토출 장치(1)에서는 부 주사 방향의 토출 위치의 정확도는 기계적 설치 정밀도로 확보하고 있다.In the sub-scan direction, since the accuracy of the ejection position is not required in comparison with the? -Axis direction and the main scanning direction, in the functional
또한, 기능액 토출 장치(1)에 있어서, 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정 후에 캐리지(23)의 위치 맞춤을 행하는 것이 아니라, 캐리지(23)의 위치 맞춤 후에 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정을 행하도록 한 것은 이하의 이유 때문이다. 즉, 전자의 경우, 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정에 의해 직선적으로 액적을 착탄시킬 수 있게 된다. 그러나, 캐리지(23)의 회전 기구의 회전 중심 위치가 정밀하게 캐리지(23)의 중심과 일치하지 않기 때문에, 노즐 헤드(24)의 조정 후에, 회전에 의해 캐리지(23)의 위치 맞춤을 행하면, 위치 맞춤 후의 액적은 직선이 되지 않는 경우가 있기 때문이다.In the functional
이상의 예에서는, 캐리지(23)의 위치 맞춤은, 캐리지(23)의 하면의 캐리지 기준 마크(27)를 기준으로 행하도록 하고 있었다.In the above example, the positioning of the
그러나, 캐리지(23)의 위치 맞춤에 대해서도, 노즐 헤드(24)의 위치 맞춤과 마찬가지로, 액적을 토출한 것을 촬상하고, 촬상 결과에 근거하여, 캐리지 회동 기구(22)를 제어하여, 캐리지(23)의 θ축 방향의 위치 맞춤을 하도록 하더라도 좋다.However, as for the alignment of the
이 액적의 촬상 결과에 근거하는 캐리지의 위치 맞춤을 행할 때, 캐리지(23)의 위치 맞춤용의 액적과 노즐 헤드(24)의 위치 맞춤용의 액적은 동일한 것을 사용하더라도 좋다. 이 경우의 위치 맞춤의 순서는, 노즐 헤드(24)의 위치 맞춤 전에 우선 캐리지(23)의 위치 맞춤을 행하고, 그 후, 노즐 헤드(24)의 위치 맞춤을 행한다.The same droplet for alignment of the
구체적으로는, 기능액 토출 장치(1)는, 촬상 결과에 근거하여, 노즐 헤드(24)마다, 해당 헤드(24)로부터 토출된 액적군 E를 대표하는 선분 L을 작성한다. 또한, 기능액 토출 장치(1)는, 선분 L0에 대한 각 액적군 E를 대표하는 선분 L의 각도를 액적군 E마다 산출한다. 그리고, 기능액 토출 장치(1)는, 상기 산출된 선분 L의 각도의 평균치를 산출하고, 그 평균치에 근거하여, 캐리지 회동 기구(22)를 제어하여, 캐리지(23)를 회전시킨다. 이것에 의해, 캐리지(23)의 θ축 방향의 위치 맞춤을 행할 수 있다.Specifically, the functional
또, 촬상 결과에 근거하여 캐리지(23)의 위치 맞춤을 행하는 경우는, 캐리지 기준 마크(27)를 이용하여 위치 맞춤을 행하는 경우와 마찬가지로, 기능액 토출 장치(1)의 기동시 등의 소정의 타이밍이나 소정 간격마다, 소정 시간에 행하더라도 좋고, 워크 W마다 행하더라도 좋다.In the case where the
캐리지(23)의 위치 맞춤과 노즐 헤드(24)의 토출 위치의 조정의 양쪽을 워크 W마다 행하는 경우, 동일 워크 W의 동일 더미 영역 W2에 위치 맞춤용과 조정용의 양쪽의 액적을 토출하는 것이 곤란한 때는, 실제로 묘화하는 워크 W가 아닌, 묘화용과는 다른 워크 W에 위치 맞춤용의 액적을 토출하더라도 좋다.When both the positioning of the
또, 노즐 헤드(24)의 토출 위치 조정만을 촬상 결과에 근거하여 행하는 경우나, 촬상 결과에 근거하는 캐리어의 위치 맞춤을 워크 W마다가 아닌 소정의 타이밍 등에 행하는 경우도, 상기 다른 워크 W에 토출 위치 조정용 또는 위치 맞춤용의 액적을 토출하도록 하더라도 좋다.In the case where only the ejection position adjustment of the
도 11은 노즐 헤드의 조정 기구의 다른 예를 설명하는 도면이다.11 is a view for explaining another example of the adjustment mechanism of the nozzle head.
본 예의 조정 기구는, 베이스(60)와, 접촉 핀(70X1, 70X2, 72Y1, 72Y2)과, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 갖는다.The adjustment mechanism of this embodiment has a
베이스(60)는, 노즐 헤드(24)가 설치되는 것이고, 평면에서 볼 때 직사각형 형상을 갖는다. 베이스(60)에 대한 노즐 헤드(24)의 설치는, 예컨대, 노즐 헤드(24)의 노즐군(24ag)이 베이스(60)의 짧은 변을 따라 늘어서도록 행해진다. 또, 노즐 헤드(24)의 양측에는 베이스(60)로의 설치용의 리브(24b)가 마련되어 있고, 그 리브(24b)가 나사 등에 의해 베이스(60)에 고정되는 것에 의해, 노즐 헤드(24)가 베이스(60)에 설치된다.The
접촉 핀(70X1, 70X2)은, 캐리지(23)의 탑재면(23a)과 평행한 제 1 방향(본 예에서는, X축 방향)으로 노즐 헤드(24)를 이동시키는 힘을 부여하는 「제 1 이동 기구」를 구성하는 것이다.The contact pins 70 X1 and 70 X2 are provided with a plurality of contact pins 70 X1 and 70 X2 for applying a force for moving the
쐐기(71θ1, 71θ2)는, 캐리지(23)의 탑재면(23a)과 평행하고 또한 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향(본 예에서는, Y축 방향)으로 노즐 헤드(24)를 이동시킴과 아울러 캐리지(23)의 탑재면(23a)의 수직선을 회전축으로 하여 θ축 방향, 즉 시계방향 및 반시계방향으로(본 예에서는 반시계방향으로) 노즐 헤드(24)를 회전시키는 힘을 부여하는 「제 2 이동 기구」를 구성하는 것이다.Wedge (71 θ1, 71 θ2), the
접촉 핀(72Y1, 72Y2)은, 쐐기(71θ1, 71θ2)로부터의 힘에 의한, 노즐 헤드(24)의 Y축 방향으로의 이동과, 노즐 헤드(24)의 시계방향의 회전을 억제하는 「제 3 위치 결정 기구」를 구성하는 것이다. 또한, 접촉 핀(72Y1, 72Y2)은, Y축 방향으로 노즐 헤드(24)를 이동시킴과 아울러, 캐리지(23)의 탑재면(23a)의 수직선을 회전축으로 하여 반시계방향으로 노즐 헤드(24)를 회전시키는 힘을 부여한다.Contact pins (72 Y1, 72 Y2), the wedge movement, a rotation in the clockwise direction of the
또한, 베이스(60)는, Y 방향 정측의 단면에 있어서의 소정의 부분(본 예에서는 X축 방향 부측의 단부)에, Y축 방향을 따라 오목한 안쪽으로 좁아지는 형상의 제 1 오목부(61)를 갖는다. 또, 안쪽으로 좁아진다는 것은, 안쪽으로 갈수록 좁아지는 것을 말한다. 또한, 베이스(60)는, Y축 방향 부측의 단면에 있어서의 제 1 오목부(61)와 대향하는 부분으로부터 제 1 방향에 관하여 이간한 부분(본 예에서 X축 방향 정측의 단부)에, Y축 방향을 따라 오목한 안쪽으로 좁아지는 형상의 제 2 오목부(62)를 갖는다.The
또한, 접촉 핀(70X1)은, 베이스(60)의 X 방향 정측의 단면에 X 방향 정측으로부터 접촉하는 본 발명과 관련되는 「제 1 접촉 핀」에 상당한다. 또한, 접촉 핀(70X2)은, 베이스(60)의 X 방향 부측의 단면에 있어서의 접촉 핀(70X1)과 대향하는 부분에 X 방향 부측으로부터 접촉하는 본 발명과 관련되는 「제 2 접촉 핀」에 상당한다.The contact pin 70 X1 corresponds to the " first contact pin " in the present invention, which contacts the end face of the base 60 on the positive side in the X direction from the positive side in the X direction. The contact pin 70 X2 is provided with a contact pin 70 X 1 which is in contact with the contact pin 70 X 1 on the end face in the X direction side of the base 60 from the X direction side, &Quot;
또한, 접촉 핀(72Y1)은, 베이스(60)의 Y축 방향 정측의 단면에 있어서의 제 2 오목부(62)와 대향하는 부분에 Y축 방향 정측으로부터 접촉하는 본 발명과 관련되는 「제 3 접촉 핀」에 상당한다. 접촉 핀(72Y2)은, 베이스(60)의 Y축 방향 부측의 단면에 있어서의 제 1 오목부(61)와 대향하는 부분에 Y축 방향 부측으로부터 접촉하는 본 발명과 관련되는 「제 4 접촉 핀」에 상당한다.The contact pin 72 Y1 has a contact portion 72 Y1 which is in contact with the second
접촉 핀(70X1, 70X2, 72Y1, 72Y2)의 베이스(60)와의 접촉면은, 베이스(60) 방향으로 볼록한 곡면에 의해 형성되어 있다.The contact surfaces of the contact pins 70 X1 , 70 X2 , 72 Y1 , 72 Y2 with the
쐐기(71θ1)는, 제 1 오목부(61)에 접촉하는 본 발명과 관련되는 「제 1 쐐기」에 상당한다. 쐐기(71θ2)는, 베이스(60)의 제 2 오목부(62)에 접촉하는 본 발명과 관련되는 「제 2 쐐기」에 상당한다.The wedge 71 ? 1 corresponds to the "first wedge" in the present invention which contacts the first recessed
쐐기(71θ1)는, 제 1 오목부(61)에 대응한 형상을 갖지만, 그 선단이, 적어도 노즐 헤드(24)의 고정 미완료시에는 제 1 오목부(61)의 안쪽 단에 접촉하지 않는 형상을 갖는다. 마찬가지로, 쐐기(71θ2)는, 제 2 오목부(62)에 대응한 형상을 갖지만, 그 선단이, 적어도 노즐 헤드(24)의 고정 미완료시에는 제 2 오목부(62)의 안쪽 단에 접촉하지 않는 형상을 갖는다.The wedge 71 ? 1 has a shape corresponding to the first
또한, 쐐기(71θ1) 및 쐐기(71θ2)는, 예컨대, 강성을 갖는 쐐기 본체(71a)에, 가요성을 갖는 가요부(71b)가 고정된 것이다. 쐐기 본체(71a)는 평면에서 볼 때 삼각형 형상을 갖고, 가요부(71b)는, 판 형상 부재를 대략 L자 형상 또는 대략 역 L자 형상을 이루도록 구부리는 것에 의해 형성된다. 또한, 쐐기 본체(71a)가 베이스(60)의 X축 방향에 있어서의 중앙 쪽에 위치하고, 가요부(71b)가 베이스(60)의 X축 방향에 있어서의 바깥쪽에 위치하도록, 쐐기 본체(71a)에 대하여 가요부(71b)가 고정된다.The wedge 71 ? 1 and the wedge 71 ? 2 are formed by fixing a
접촉 핀(70X1, 70X2), 접촉 핀(72Y1, 72Y2), 쐐기(71θ1, 71θ2)의 베이스(60)와는 반대쪽의 면은, 예컨대 피에조 소자 등으로 이루어지는 가압부에 의해 가압되고 있다. 이 가압부로부터의 X축 방향의 힘으로 접촉 핀(70X1, 70X2)은 이동하고, 가압부로부터의 Y축 방향의 힘으로, 접촉 핀(72Y1, 72Y2), 쐐기(71θ1, 71θ2)는 이동한다.Contact pins (70 X1, 70 X2), the contact pins (72 Y1, 72 Y2), the wedge face of the opposite side of the
상술한 바와 같은 쐐기(71θ1, 71θ2)가 접촉하는, 베이스(60)의 제 1 및 제 2 오목부(61, 62)는, 두 개의 사면(63, 64)을 갖는다. 베이스(60)에 있어서의 X축 방향 중앙 쪽의 사면(63)은, 쐐기 본체(71a)가 접촉하는 것이고, X축 방향 및 Y축 방향 중 어느 방향에 대해서도 평행이 아니다.The first and second
또한, 베이스(60)에 있어서의 X축 방향 바깥쪽의 사면(64)은, 사면(63)으로 향해서 돌출하는 볼록부(65)가 형성되어 있고, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 제 1 또는 제 2 오목부(61, 62)에 소정 깊이 이상 삽입했을 때에, 가요부(71b)가 휘게 되어 있다.Further, the
상술한 조정 기구를 이용한 노즐 헤드(24)의 위치 조정 방법의 일례를 설명한다.An example of a position adjustment method of the
(캐리지(23)의 위치 맞춤)(Alignment of the carriage 23)
본 예의 노즐 헤드(24)의 위치 조정 방법에서는, 우선, 노즐 헤드(24)가 가고정된 캐리지(23)의 위치 맞춤을 행한다. 캐리지(23)의 위치 맞춤은, 예컨대, 전술한 바와 마찬가지로, 캐리지 기준 마크(27)에 근거하여 행해진다.In the position adjustment method of the
그리고, 위치 맞춤된 캐리지의 노즐 헤드(24)를 도시하지 않은 촬상 장치로 촬상하면서, 노즐 헤드(24) 각각의 위치 조정을 행한다. 이 노즐 헤드(24)를 촬상하는 촬상 장치는, 예컨대, 전술한 캐리지 얼라인먼트 카메라이더라도 좋다.Then, the position of each of the nozzle heads 24 is adjusted while imaging the
(X축 방향 개략 위치 결정)(Rough positioning in the X-axis direction)
우선, 노즐 헤드(24)를 촬상하면서, 접촉 핀(70X1, 70X2)을 이동시켜, 노즐 헤드(24)의 X축 방향의 개략 위치 결정을 행하고, 노즐군(24ag) 중 Y축 방향 정측의 노즐(24a)(이하, 노즐 NZ1) 및 Y축 방향 부측의 노즐(24a)(이하, 노즐 NZ2)의 X축 방향과 관련되는 위치가, 규정 위치로부터 ±3㎛ 이내가 되도록 한다. 구체적으로는, 노즐 NZ1의 X축 방향의 위치와 노즐 NZ2의 X축 방향의 위치의 차이가 3㎛ 이내가 되도록 한다.First, while the
(Y축 방향 개략 위치 결정)(Rough positioning in the Y-axis direction)
그 다음에, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 이동시켜, 노즐 헤드(24)의 Y축 방향의 개략 위치 결정을 행하고, 노즐 NZ1과 노즐 NZ2의 Y축 방향과 관련되는 위치가, 규정 위치로부터 ±3㎛ 이내가 되도록 한다. Y축 방향과 관련되는 규정 위치의 기준에는, 예컨대, 캐리지(23)의 소정 위치에 형성된 마크나, 이미 위치 맞춤된 노즐 헤드(24)의 노즐(24a)을 이용할 수 있다. 또한, 이때에, 노즐 NZ1의 위치가, 노즐 NZ2의 위치보다 X축 방향 부측이 되도록 한다.Next, the wedges 71 ? 1 and 71 ? 2 are moved to perform rough positioning in the Y-axis direction of the
(접촉 핀(72Y1, 72Y2)의 이동)(Movement of the contact pins 72 Y1 and 72 Y2 )
그리고, 노즐 헤드(24)를 촬상하면서, 접촉 핀(72Y1, 72Y2)을 이동시켜, 베이스(60)에 접촉시킨다. 이때에도, 노즐 헤드(24)의 Y축 방향의 개략 위치 결정을 행하고, 노즐 NZ1과 노즐 NZ2의 Y축 방향과 관련되는 위치가, 규정 위치로부터 ±3㎛ 이내가 되도록 하고, 노즐 NZ1의 위치가, 노즐 NZ2의 위치보다 X축 방향 부측이 되도록 한다. 접촉 핀(72Y1, 72Y2)을 베이스(60)에 접촉시키는 것에 의해, 쐐기(71θ1, 71θ2)가 안쪽으로 밀어 넣어졌을 때에, 베이스(60)가 Y축 방향으로 움직이거나, 베이스(60)가 시계방향으로 회전하거나 하지 않게 한다.Then, while imaging the
(X축 방향 정밀 위치 결정)(Precise positioning in the X-axis direction)
다음으로, 노즐 헤드(24)를 촬상하면서, 접촉 핀(70X1, 70X2)을 이동시켜, 노즐 헤드(24)의 X축 방향의 정밀 위치 결정을 행하고, 노즐 NZ1과 노즐 NZ2의 X축 방향과 관련되는 위치가, 규정 위치로부터 ±1㎛ 이내가 되도록 한다.Next, while the
(θ축 방향 개략 위치 결정)(rough positioning in the θ-axis direction)
그 다음에, 노즐 헤드(24)를 촬상하면서, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 이동시켜, 사면(63)에 가해지는 힘에 의해, 노즐 헤드(24)를 반시계방향으로 회전시켜, 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 개략 위치 결정을 행하고, 노즐 NZ1과 노즐 NZ2의 Y축 방향과 관련되는 위치가 규정 위치로부터 ±1㎛ 이내가 되도록 한다.Next, the wedge 71 ? 1 , 71 ? 2 is moved while imaging the
(Y축 방향 정밀 위치 결정)(Precise positioning in the Y-axis direction)
다음으로, 노즐 헤드(24)를 촬상하면서, 접촉 핀(72Y1, 72Y2)을 이동시켜, 노즐 헤드(24)의 Y축 방향의 정밀 위치 결정을 행하고, 노즐 NZ1과 노즐 NZ2의 Y축 방향과 관련되는 위치가, 규정 위치로부터 ±0.5㎛ 이내가 되도록 한다.Next, while the
(θ축 방향 정밀 위치 결정)(Precise positioning in the θ-axis direction)
그리고, 노즐 헤드(24)를 촬상하면서, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 이동시켜, 사면(63)에 가해지는 힘에 의해, 노즐 헤드(24)를 반시계방향으로 회전시켜, 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 정밀 위치 결정을 행하고, 노즐 NZ1과 노즐 NZ2의 Y축 방향과 관련되는 위치가 규정 위치로부터 ±0.5㎛ 이내가 되도록 한다.The wedges 71 ? 1 and 71 ? 2 are moved while imaging the
이것에 의해, 노즐 헤드(24) 자체의 촬상 결과에 근거하는 노즐 헤드(24)의 조정은 완료되지만, 이 상태에서도 노즐 헤드(24)로부터 토출된 액적군이 Y축 방향과 평행이 되지 않고, 추가적인 θ축 방향의 위치 맞춤이 필요한 경우가 있다. 이 경우는, 노즐 헤드(24)로부터, 워크 W의 더미 영역 W2에 기능액의 액적을 토출시켜, 추가적인 위치 맞춤용의 액적 패턴을 형성한다.Thus, adjustment of the
다음으로, 기능액 토출 장치(1)는, 워크 W상에 형성된 위치 맞춤용의 액적 패턴을 토출 검사 카메라(31)로 촬상한다. 그리고, 촬상 결과에 근거하여, 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 추가적인 위치 맞춤을 행한다. 예컨대, 노즐 헤드(24)를 반시계방향으로 더 회전시킬 필요가 있으면, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 제 1 및 제 2 오목부(61, 62)의 안쪽으로 이동시킨다. 또한, 노즐 헤드(24)를 시계방향으로 θ1° 회전시킬 필요가 있으면, 우선, 접촉 핀(72Y1, 72Y2)과 베이스(60)의 접촉을 해제하고, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 안쪽으로 이동시켜, 시계방향으로 θ2°(θ2>θ1) 회전시킨다. 그리고, 접촉 핀(72Y1, 72Y2)과 베이스(60)를 다시 접촉시키고 나서, 쐐기(71θ1, 71θ2)를 안쪽으로 이동시켜, 반시계방향으로 θ3(=θ2-θ1)° 회전시킨다.Next, the functional
이 액적의 촬상 결과에 근거하는, 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 추가적인 위치 맞춤은, 예컨대, 쐐기(71θ1, 71θ2)의 밀어 넣음 양과 베이스(60), 즉 노즐 헤드(24)의 회전각의 관계를 미리 기억하여 두고, 이 기억한 정보와 상기 촬상 결과에 근거하여, 자동적으로 행할 수 있다.The further alignment of the
도 11의 조정 기구를 이용하는 것에 의해, 보다 정밀하게 노즐 헤드(24)의 θ축 방향의 위치 맞춤을 행할 수 있다.By using the adjustment mechanism of Fig. 11, it is possible to more precisely align the
또, 이상의 설명에서는, 도 11의 조정 기구를 이용하여, 노즐 헤드(24)를 조정하는 경우, 우선, 노즐 헤드(24) 자체의 촬상 결과에 근거하여 조정을 행하고 있었지만, 노즐 헤드(24) 자체의 촬상 결과에 근거하는 조정을 행하지 않고, 노즐 헤드(24)로부터의 액적의 촬상 결과에 근거하는 조정만을 행하더라도 좋다.In the above description, when the
베이스(60), 쐐기 본체(71a), 가요부(71b), 접촉 핀(70X1, 70X2), 접촉 핀(72Y1, 72Y2)은, 예컨대 스테인리스 재료나 니켈 재료를 이용하여 형성된다. 베이스(60)에 있어서의 쐐기 본체(71a) 및 가요부(71b), 접촉 핀(70X1, 70X2), 접촉 핀(72Y1, 72Y2)과의 접촉면이나, 쐐기 본체(71a), 가요부(71b), 접촉 핀(70X1, 70X2), 접촉 핀(72Y1, 72Y2)에 있어서의 베이스(60)와의 접촉면은, 테플론(등록상표) 코팅이나 질화 코팅 등의 표면 처리가 행해져 있는 것이 바람직하다. 베이스(60)의 슬라이딩에 의해 파티클이 발생하지 않도록 하기 위해서이다.The
이상과 같이 구성된 기능액 토출 장치(1)는, 일본 특허 공개 2016-77966호 공보에 기재된, 유기 발광 다이오드의 유기 EL층을 형성하는 기판 처리 시스템에 적용할 수 있다. 구체적으로는, 그 기판 처리 시스템의 도포 장치에 기능액 토출 장치(1)를 적용할 수 있다.The functional
본 발명은 기판상에 기능액을 도포하는 기술에 유용하다.The present invention is useful for a technique of applying a functional liquid on a substrate.
1 : 기능액 토출 장치
150 : 제어부
22 : 캐리지 회동 기구
23 : 캐리지
24 : 노즐 헤드
24a : 토출 노즐
25 : 가압부
26 : 핀
27 : 캐리지 기준 마크
31 : 토출 검사 카메라
60 : 베이스
61 : 제 1 오목부
62 : 제 2 오목부
70X1, 70X2 : 접촉 핀
72Y1, 72Y2 : 접촉 핀
71θ1, 71θ1 : 쐐기1: Function liquid dispensing device
150:
22: carriage rotation mechanism
23: Carriage
24: nozzle head
24a: Discharge nozzle
25:
26: pin
27: carriage reference mark
31: Discharge Inspection Camera
60: Base
61: first concave portion
62: second concave portion
70 X1 , 70 X2 : contact pin
72 Y1 , 72 Y2 : Contact pin
71 ? 1 , 71 ? 1 : Wedge
Claims (14)
복수의 토출 노즐을 거쳐서 상기 워크에 상기 기능액을 토출하는 노즐 헤드가 복수 마련된 탑재면을 가짐과 아울러, 적어도 상기 탑재면의 수직선에 대한 상기 노즐 헤드의 기울기를 조정하는 조정 기구를 상기 노즐 헤드마다 갖는 캐리지와,
적어도 상기 워크상의 액적을 촬상하는 촬상부와,
상기 노즐 헤드마다, 상기 조정 기구 및 토출 타이밍을 제어하는 제어부
를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 워크에 대하여 위치 맞춤되어 고정된 캐리지의 상기 노즐 헤드로부터, 상기 워크상에 상기 기능액을 토출시키고, 상기 기능액의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 노즐 헤드의 조정 기구 및 토출 타이밍을 제어하여, 상기 노즐 헤드의, 상기 수직선에 대한 기울기 및 상기 워크의 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을 행하는
것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
A functional liquid ejecting apparatus for scanning a workpiece and ejecting and drawing functional liquid on the workpiece,
An adjustment mechanism for adjusting a tilt of the nozzle head with respect to a vertical line of at least the mounting surface is provided for each nozzle head, A carriage,
An imaging unit for imaging at least a droplet on the work;
For each of the nozzle heads, a control unit for controlling the adjusting mechanism and the ejection timing
And,
Wherein the control unit discharges the functional liquid onto the work from the nozzle head of the carriage which is aligned and fixed with respect to the work, and based on the imaging result of the functional liquid in the imaging unit, The adjustment mechanism and the ejection timing are controlled so as to adjust the inclination of the nozzle head with respect to the vertical line and the ejection position of the functional liquid associated with the scanning direction of the work
And a liquid discharge port.
상기 제어부는, 상기 노즐 헤드의 복수의 토출 노즐을 거쳐서 토출된 상기 워크상의 기능액군의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 기능액군의 기울기를 산출하고, 상기 기울기에 근거하여, 상기 노즐 헤드의 상기 수직선에 대한 기울기를 조정하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the control unit calculates a gradient of the functional liquid group based on an imaging result of the functional liquid group on the work discharged through the plurality of discharge nozzles of the nozzle head by the imaging unit, And adjusts the inclination of the head with respect to the vertical line.
상기 제어부는, 상기 워크상의 소정의 마크의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여 기준선을 결정하고,
상기 기능액군의 기울기는, 상기 기준선에 대한 기울기인
것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the control section determines a reference line based on a result of imaging by the imaging section of a predetermined mark on the workpiece,
Wherein the gradient of the functional fluid group is a gradient
And a liquid discharge port.
상기 제어부는, 상기 기준선으로부터 상기 기능액군까지의 거리에 근거하여, 상기 노즐 헤드의 토출 타이밍을 제어하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
The method of claim 3,
Wherein the control unit controls the ejection timing of the nozzle head based on a distance from the reference line to the functional liquid group.
상기 제어부는, 상기 캐리지의 위치 맞춤 및 상기 노즐 헤드의 상기 수직선에 대한 기울기 및 상기 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을, 상기 워크마다 행하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the controller performs adjustment of the position of the carriage, the tilt of the nozzle head with respect to the vertical line, and the discharging position of the functional liquid associated with the scanning direction for each of the workpieces.
상기 제어부는, 상기 캐리지의 위치 맞춤을 소정 시간마다 또는 소정 시각에 행하고, 상기 노즐 헤드의 상기 수직선에 대한 기울기 및 상기 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을 상기 워크마다 행하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The control unit performs alignment of the carriage every predetermined time or at a predetermined time and adjusts the inclination of the nozzle head with respect to the vertical line and the adjustment of the discharging position of the functional liquid associated with the scanning direction for each workpiece The liquid ejecting apparatus comprising:
상기 캐리지의 이동 및/또는 회전을 행하는 위치 맞춤 기구를 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 위치 맞춤 기구를 더 제어하는 것이고, 상기 캐리지의 복수의 상기 노즐 헤드로부터, 상기 워크상에 상기 기능액을 토출시키고, 상기 기능액의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 위치 맞춤 기구를 제어하여, 상기 캐리지의 위치 맞춤을 행하는
것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Further comprising an alignment mechanism for moving and / or rotating the carriage,
Wherein the control unit further controls the alignment mechanism to eject the functional liquid onto the work from a plurality of the nozzle heads of the carriage, and based on the imaging result of the functional liquid in the imaging unit, And the positioning mechanism is controlled to align the carriage
And a liquid discharge port.
상기 제어부는, 상기 노즐 헤드의 복수의 토출 노즐로부터 토출된 상기 워크상의 기능액군의 상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 기능액군의 기울기를 산출하고, 상기 산출한 기울기의 평균치에 근거하여, 상기 캐리지의 위치 맞춤을 행하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein the control unit calculates the tilt of the functional liquid group based on the imaging result of the functional liquid group on the work discharged from the plurality of discharge nozzles of the nozzle head by the imaging unit, And performs positioning of the carriage.
상기 촬상부는, 상기 노즐 헤드의 상기 토출 노즐로부터 토출된, 상기 워크의 액티브 에리어 밖의 상기 기능액을 촬상하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the imaging section picks up the functional liquid outside the active area of the work, which is discharged from the discharge nozzle of the nozzle head.
상기 조정 기구는,
상기 탑재면과 평행한 제 1 방향으로 상기 노즐 헤드를 이동시키는 힘을 부여하는 제 1 위치 결정 기구와,
상기 탑재면과 평행하고 또한 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 상기 노즐 헤드를 이동시킴과 아울러, 상기 탑재면의 수직선을 회전축으로 하여 시계방향 및 반시계방향으로 상기 노즐 헤드를 회전시키는 힘을 부여하는 제 2 위치 결정 기구와,
적어도, 상기 제 2 위치 결정 기구로부터의 힘에 의한, 상기 노즐 헤드의 상기 제 2 방향으로의 이동과, 상기 노즐 헤드의 시계방향 또는 반시계방향의 회전을 억제하는 제 3 위치 결정 기구
를 갖는
것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The adjustment mechanism includes:
A first positioning mechanism for applying a force to move the nozzle head in a first direction parallel to the mounting surface,
The nozzle head is moved in a second direction parallel to the mounting surface and perpendicular to the first direction and a force for rotating the nozzle head in the clockwise direction and the counterclockwise direction with the vertical line of the mounting surface as a rotation axis A second positioning mechanism for imparting a second positioning signal,
A third positioning mechanism for restricting movement of the nozzle head in the second direction and rotation of the nozzle head in a clockwise or counterclockwise direction by at least a force from the second positioning mechanism,
Having
And a liquid discharge port.
상기 제 3 위치 결정 기구는, 상기 제 2 방향으로 노즐 헤드를 이동시킴과 아울러, 상기 탑재면의 수직선을 회전축으로 하여 반시계방향 또는 시계방향으로 상기 노즐 헤드를 회전시키는 힘을 부여하는 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
11. The method of claim 10,
The third positioning mechanism moves the nozzle head in the second direction and applies a force to rotate the nozzle head in a counterclockwise or clockwise direction with the vertical line of the mounting surface as a rotation axis The liquid ejecting apparatus comprising:
상기 캐리지는, 상기 노즐 헤드가 설치되고 상기 캐리지에 고정되는 베이스를 갖고,
상기 베이스는, 상기 제 2 방향 정측(正側)의 단면에 있어서의 소정의 부분에, 상기 제 2 방향을 따라 오목한 안쪽으로 좁아지는 형상의 제 1 오목부를 갖고, 상기 제 2 방향 정측의 단면에 있어서의 상기 제 1 오목부와 대향하는 부분으로부터 상기 제 1 방향에 관하여 이간한 부분에, 상기 제 2 방향을 따라 오목한 안쪽으로 좁아지는 형상의 제 2 오목부를 갖고,
상기 제 1 위치 결정 기구는, 상기 베이스의 상기 제 1 방향 정측의 단면에 상기 제 1 방향 정측으로부터 접촉하는 제 1 접촉 핀과, 상기 베이스의 상기 제 1 방향 부측(負側)의 단면에 있어서의 상기 제 1 접촉 핀과 대향하는 부분에 상기 제 1 방향 부측으로부터 접촉하는 제 2 접촉 핀을 갖고,
상기 제 2 위치 결정 기구는, 상기 베이스의 상기 제 1 오목부에 접촉하는 제 1 쐐기와, 상기 베이스의 상기 제 2 오목부에 접촉하는 제 2 쐐기를 갖고,
상기 제 3 위치 결정 기구는, 상기 베이스의 상기 제 2 방향 정측의 단면에 있어서의 상기 제 2 오목부와 대향하는 부분에 상기 제 2 방향 정측으로부터 접촉하는 제 3 접촉 핀과, 상기 베이스의 상기 제 2 방향 부측의 단면에 있어서의 상기 제 1 오목부와 대향하는 부분에 상기 제 2 방향 부측으로부터 접촉하는 제 4 접촉 핀을 갖는
것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the carriage has a base provided with the nozzle head and fixed to the carriage,
Wherein the base has a first concave portion concave downward along the second direction at a predetermined portion in a cross section of the second direction positive side, And a second concave portion that is recessed along the second direction and narrows inward at a portion separated from the portion facing the first concave portion in the first direction,
Wherein the first positioning mechanism has a first contact pin which is in contact with the end face of the base at the positive first side in the first direction and a second contact pin which contacts the end face of the base in the first direction side And a second contact pin which is in contact with the first contact pin from the first direction portion,
Wherein the second positioning mechanism has a first wedge in contact with the first concave portion of the base and a second wedge in contact with the second concave portion of the base,
The third positioning mechanism includes a third contact pin which is in contact with a portion of the base opposite to the second concave portion in the cross section of the base in the second direction from the second direction positive side, And a fourth contact pin which is in contact with the second concave portion from the second direction side portion at a portion of the cross section of the two direction side portion opposite to the first concave portion
And a liquid discharge port.
상기 제 1 쐐기와 접촉하는 상기 제 1 오목부에 있어서의 상기 베이스의 중앙 쪽의 면 및 상기 제 2 쐐기와 접촉하는 상기 제 2 오목부에 있어서의 상기 베이스의 중앙 쪽의 면은, 상기 제 1 방향 및 상기 제 2 방향 중 어느 방향에 대해서도 평행이 아닌 것을 특징으로 하는 기능액 토출 장치.
13. The method of claim 12,
The center of the base in the first concave portion in contact with the first wedge and the center of the base in the second concave portion in contact with the second wedge, Direction and the second direction are not parallel to each other.
상기 워크에 상기 기능액을 토출하는 노즐 헤드가 탑재면에 복수 마련된 캐리지를, 상기 워크에 대하여 위치 맞춤하여 고정하는 캐리지 위치 맞춤 공정과,
위치 맞춤되어 고정된 상기 캐리지상의 상기 노즐 헤드로부터, 상기 워크상에 상기 기능액을 토출시키고, 상기 기능액을 촬상부에서 촬상하는 촬상 공정과,
상기 촬상부에서의 촬상 결과에 근거하여, 상기 캐리지에 상기 노즐 헤드마다 마련된 조정 기구를 제어하여, 상기 탑재면의 수직선에 대한 상기 노즐 헤드의 기울기를 조정함과 아울러, 상기 노즐 헤드의 토출 타이밍을 제어하여, 상기 노즐 헤드의 주사 방향과 관련되는 상기 기능액의 토출 위치의 조정을 행하는 토출 위치 조정 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 위치 조정 방법.A droplet ejection position adjustment method of a functional liquid ejection apparatus for scanning a workpiece and ejecting and drawing functional liquid on the workpiece,
A carriage positioning step of positioning and fixing a carriage having a plurality of nozzle heads on the mounting surface for discharging the functional liquid to the workpiece,
An imaging step of ejecting the functional liquid onto the work from the nozzle head on the carriage which is aligned and fixed and capturing the functional liquid in the imaging section;
An adjustment mechanism provided for each of the nozzle heads is controlled on the carriage based on the imaging result of the imaging unit to adjust the inclination of the nozzle head with respect to a vertical line of the mounting surface, And a discharge position adjustment step of adjusting the discharge position of the functional liquid associated with the scanning direction of the nozzle head
Wherein the droplet ejection position adjusting method comprises:
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11281810A (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Canon Inc | Manufacture of color filter and its device |
JP2005270799A (en) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Seiko Epson Corp | Droplet discharge apparatus having coordinate adjustment device, coordinate adjustment method, method of manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic device |
JP2008073607A (en) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Sharp Corp | Droplet applying device provided with nozzle position adjustment mechanism |
JP2010204411A (en) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Seiko Epson Corp | Liquid drop discharge device, liquid drop discharge method, and method of manufacturing color filter |
KR20140147716A (en) * | 2013-06-20 | 2014-12-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Liquid processing method, liquid processing apparatus and storage medium |
KR20160083420A (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-12 | 세메스 주식회사 | Apparatus and method for treating substrate, and discharge rate measuring unit |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4168728B2 (en) * | 2002-10-23 | 2008-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | Method for correcting dot position of droplet discharge device, droplet discharge method, and electro-optical device manufacturing method |
JP2005246130A (en) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corp | Droplet jetting device |
JP4765278B2 (en) * | 2004-08-04 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | Method for correcting droplet landing position of droplet discharge device, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method |
JP5606759B2 (en) * | 2009-03-27 | 2014-10-15 | セーレン株式会社 | Inkjet head alignment apparatus, inkjet recording apparatus, and inkjet head position adjustment method |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11281810A (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Canon Inc | Manufacture of color filter and its device |
JP2005270799A (en) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Seiko Epson Corp | Droplet discharge apparatus having coordinate adjustment device, coordinate adjustment method, method of manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic device |
JP2008073607A (en) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Sharp Corp | Droplet applying device provided with nozzle position adjustment mechanism |
JP2010204411A (en) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Seiko Epson Corp | Liquid drop discharge device, liquid drop discharge method, and method of manufacturing color filter |
KR20140147716A (en) * | 2013-06-20 | 2014-12-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Liquid processing method, liquid processing apparatus and storage medium |
KR20160083420A (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-12 | 세메스 주식회사 | Apparatus and method for treating substrate, and discharge rate measuring unit |
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