KR20170135866A - Transparent conductive sheet, touch panel module and touch panel device - Google Patents

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KR20170135866A
KR20170135866A KR1020177029932A KR20177029932A KR20170135866A KR 20170135866 A KR20170135866 A KR 20170135866A KR 1020177029932 A KR1020177029932 A KR 1020177029932A KR 20177029932 A KR20177029932 A KR 20177029932A KR 20170135866 A KR20170135866 A KR 20170135866A
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세이이치 시미즈
기미코 기쿠치
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소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
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Abstract

전기적 특성의 열화가 억제됨과 동시에, 점착제층의 투명성, 내구성 및 내습성도 뛰어난 것이다.
도전층과 당접하는 점착제층이 아크릴계 공중합체를 포함해서 구성되고,이 아크릴계 공중합체는, 중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 소수성 모노머를 포함하며, 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며, 점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치가 1.0 이하인 투명 도전 시트 및 이것을 이용한 터치패널 모듈 및 터치패널 장치이다.
Deterioration of electrical properties is suppressed, and transparency, durability and moisture resistance of the pressure-sensitive adhesive layer are excellent.
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer contacting the conductive layer comprises an acrylic copolymer, and the acrylic copolymer has a weight average molecular weight (Mw) of more than 100,000 and not more than 2,000,000, and a copolymerizable monomer component (Meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, , The total amount of the hydrophobic monomer in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more with respect to the total mass of the acrylic copolymer, and the haze value when the thickness of the pressure- A conductive sheet, and a touch panel module and a touch panel device using the same.

Description

투명 도전 시트, 터치패널 모듈 및 터치패널 장치Transparent conductive sheet, touch panel module and touch panel device

본 발명은, 투명 도전 시트, 터치패널 모듈 및 터치패널 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent conductive sheet, a touch panel module, and a touch panel device.

화상 표시면에 접촉하는 것에 의해서 조작을 가능하게 하는 터치패널식의 디스플레이는, 스마트폰, 태블릿(tablet) 단말, 노트북 컴퓨터, 매표기, ATM 등에 넓게 이용되고 있다.BACKGROUND ART A touch panel type display that allows an operation by being in contact with an image display surface is widely used for smart phones, tablet terminals, notebook computers, ticket machines, and ATMs.

터치패널에는, 손가락이나 펜 등으로 누른 화면의 위치를 전압 변화의 측정에 의해서 검지하는 저항막 방식이나, 화면에 손가락이 접촉하면 발생하는 미약한 전류, 즉 정전용량(전하)의 변화를 센서에 의해 감지해, 터치한 위치를 파악하는 정전용량 방식 등이 알려져 있다.In the touch panel, a resistive film type in which the position of a screen depressed with a finger or a pen is detected by measurement of a voltage change or a weak current that occurs when a finger touches the screen, that is, a change in capacitance (charge) A capacitive sensing method for sensing the position touched by a user, and the like are known.

정전용량 방식의 터치패널에서는, 투명한 수지 필름이나 유리기판에 투명 도전막으로서 ITO막(산화인듐주석(indium tin oxide))을 설치한 구성이 넓게 채용되고 있다.In the capacitance type touch panel, a configuration in which an ITO film (indium tin oxide) is provided as a transparent conductive film on a transparent resin film or a glass substrate is widely adopted.

그렇지만, ITO막은 저항이 크기 때문에, 화면 크기가 커지는 것에 따라 응답 속도(손가락 끝을 접촉해서부터 그 위치를 검출할 때까지의 시간)가 늦어진다고 하는 문제가 있다.However, since the ITO film has a large resistance, there is a problem that the response speed (the time from the contact of the fingertip to the detection of the position thereof) is delayed as the screen size increases.

이 때문에, ITO막과 같은 투명 금속 산화물로부터 구성되는 전극 대신에, 금속 미립자 등의 금속 재료를 이용해 형성된 띠모양의 도전영역으로부터 구성되는 격자(格子)를 다수개 배열해 구성된 전극을 채용하는 것으로 표면 저항을 저하시키는 방법도 제안되고 있다(예를 들어, 특허문헌 1 등).For this reason, instead of an electrode made of a transparent metal oxide such as an ITO film, by employing an electrode constituted by arranging a plurality of gratings constituted by a band-shaped conductive region formed by using a metal material such as metal fine particles, A method of lowering the resistance has also been proposed (for example, Patent Document 1, etc.).

특허문헌 1등에 예시되는 기술에서는, 띠모양 도전영역의 부식의 방지, 점착제층(粘着劑層)의 응집력의 확보, 고온고습 환경하에서의 박리(剝離)·착색의 방지 등이 중요해진다.In the technique exemplified in Patent Document 1 or the like, it is important to prevent corrosion of the strip-shaped conductive region, to secure the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer), to prevent separation and coloring in a high temperature and high humidity environment.

그러므로, 이러한 과제를 해결할 수 있도록, (메타)아크릴산에스테르 ((meth) acrylic acid ester) 단량체를 주요한 단량체 성분으로서 함유하고, 카르복실기(carboxyl group)를 함유한 단량체를 함유하지 않는 (메타)아크릴산 에스테르공중합체(A)와, (메타)아크릴산에스테르 단량체 및 질소원자를 함유한 공중합성 단량체를 단량체 성분으로서 함유하고, 카르복실기를 함유한 단량체를 함유하지 않는 (메타)아크릴산에스테르공중합체(B)를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로부터 구성되는 점착제층을 구비한 투명 도전막 적층체가 제안되고 있다(특허문헌 2).Therefore, in order to solve such a problem, (meth) acrylate ester (meth) acrylate ester containing a (meth) acrylic acid ester monomer as a main monomer component and not containing a monomer containing a carboxyl group (Meth) acrylic acid ester copolymer (B) containing as a monomer component a copolymerizable monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and a nitrogen atom and not containing a monomer containing a carboxyl group A transparent conductive film laminate having a pressure-sensitive adhesive layer composed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition has been proposed (Patent Document 2).

일본공개특허 2012-33147호 공보Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-33147 일본공개특허 2012-79257호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-79257

그렇지만, 본 발명자 등이 검토한 결과, 특허문헌 2에 예시되는 부재에 있어서도, 도전영역의 부식에 기인하는 전기적 특성의 열화 방지, 점착제층의 투명성, 내구성, 내습성을 균형있게 양립시키는 것이 곤란한 경우가 있었다.However, as a result of the investigation by the present inventors, it has been found that even in the members exemplified in Patent Document 2, when it is difficult to balance deterioration of electrical characteristics due to corrosion of the conductive region, transparency of the pressure-sensitive adhesive layer, durability and moisture resistance .

본 발명은 상기 사정에 감안해서 된 것이며, 전기적 특성의 열화가 억제됨과 동시에, 점착제층의 투명성, 내구성 및 내습성도 뛰어난 투명 도전 시트, 및, 이것을 이용해 제작된 터치패널 모듈 및 터치패널 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances and provides a transparent conductive sheet excellent in transparency, durability and moisture resistance of a pressure-sensitive adhesive layer while suppressing deterioration of electrical properties, and a touch panel module and a touch panel device manufactured using the transparent conductive sheet. .

상기 과제는 이하의 본 발명에 의해 달성된다. 즉,The above object is achieved by the present invention described below. In other words,

본 발명의 투명 도전 시트는, In the transparent conductive sheet of the present invention,

도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층과 A conductive layer using a metal material as a conductive material

도전층에 맞닿고, 또한 1종류 이상의 폴리머를 포함한 점착제층을 적어도 포함하고, At least a pressure-sensitive adhesive layer which is in contact with the conductive layer and contains one or more kinds of polymers,

1종류 이상의 폴리머 중의 적어도 1종의 폴리머가 아크릴계 공중합체이며,Wherein at least one kind of polymer of one or more kinds of polymers is an acrylic copolymer,

이 아크릴계 공중합체는,The acrylic copolymer is a copolymer

중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군(群)으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며, An alkyl methacrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms as the copolymerizable monomer component, an alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms (Meth) acrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the hydrophobic monomer is selected from the group consisting of

아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며, The total amount of the hydrophobic monomers in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer,

점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치(haze value)가 1.0 이하인 것을 특징으로 한다.And a haze value when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 mu m is 1.0 or less.

본 발명의 터치패널 모듈은, In the touch panel module of the present invention,

도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층과 A conductive layer using a metal material as a conductive material

도전층에 당접(當接)하는 점착제층을 적어도 포함하고, And a pressure-sensitive adhesive layer that contacts the conductive layer,

점착제층은 아크릴계 공중합체를 포함하며,The pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic copolymer,

이 아크릴계 공중합체는,The acrylic copolymer is a copolymer

중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며,An alkyl methacrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms as the copolymerizable monomer component, an alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms (Meth) acrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the hydrophobic monomer is at least one selected from the group consisting of

아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며, The total amount of the hydrophobic monomers in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer,

점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치가 1.0 이하인 것을 특징으로 한다.And a haze value when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 mu m is 1.0 or less.

본 발명의 터치패널 장치는, In the touch panel device of the present invention,

화상 표시 장치와 The image display device

화상 표시 장치의 화상 표시면 측에 설치되고, 도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층 및 도전층에 당접하는 점착제층을 적어도 포함하고,A conductive layer which is provided on the image display surface side of the image display device and which uses a metal material as a conductive material and a pressure-sensitive adhesive layer which is in contact with the conductive layer,

점착제층은 아크릴계 공중합체를 포함하며,The pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic copolymer,

이 아크릴계 공중합체는,The acrylic copolymer is a copolymer

중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며,An alkyl methacrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms as the copolymerizable monomer component, an alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms (Meth) acrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the hydrophobic monomer is at least one selected from the group consisting of

아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며, The total amount of the hydrophobic monomers in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer,

점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치가 1.0 이하인 것을 특징으로 한다.And a haze value when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 mu m is 1.0 or less.

본 발명에 의하면, 전기적 특성의 열화(劣化)가 억제됨과 동시에, 점착제층의 투명성, 내구성 및 내습성도 뛰어난 투명 도전 시트, 및, 이것을 이용해 제작된 터치패널 모듈 및 터치패널 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a transparent conductive sheet excellent in transparency, durability and moisture resistance of a pressure-sensitive adhesive layer while suppressing deterioration of electrical characteristics, and a touch panel module and a touch panel device manufactured using the transparent conductive sheet.

도 1은, 본 발명의 투명 도전 시트의 일례를 나타내는 모식(模式) 평면도(平面圖)이다.
도 2는, 본 발명의 투명 도전 시트의 다른 예를 나타내는 모식 평면도이다.
도 3은, 도 1 및 도 2 중에 나타내는 도전영역을 확대했을 경우의 일례를 나타내는 확대(擴大) 평면도이다.
도 4는, 본 발명의 투명 도전 시트의 단면구조의 일례를 나타내는 모식 단면도(斷面圖)이다.
도 5는, 본 발명의 투명 도전 시트의 단면구조의 다른 예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 6은, 본 발명의 투명 도전 시트의 단면구조의 다른 예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 7은, 본 발명의 투명 도전 시트의 단면구조의 다른 예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 8은, 본 실시형태의 터치패널 장치의 일례를 나타내는 모식 단면도이다.
1 is a schematic plan view showing an example of the transparent conductive sheet of the present invention.
2 is a schematic plan view showing another example of the transparent conductive sheet of the present invention.
Fig. 3 is an enlarged plan view showing an example in which the conductive regions shown in Figs. 1 and 2 are enlarged.
4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the cross-sectional structure of the transparent conductive sheet of the present invention.
5 is a schematic sectional view showing another example of the sectional structure of the transparent conductive sheet of the present invention.
6 is a schematic sectional view showing another example of the sectional structure of the transparent conductive sheet of the present invention.
7 is a schematic sectional view showing another example of the sectional structure of the transparent conductive sheet of the present invention.
8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the touch panel device of the present embodiment.

본 실시형태의 투명 도전 시트는, 도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층과 도전층에 당접하는 점착제층을 적어도 구비한다.The transparent conductive sheet of the present embodiment includes at least a conductive layer using a metal material as a conductive material and a pressure-sensitive adhesive layer in contact with the conductive layer.

여기서, 점착제층은 아크릴계 공중합체를 포함하고,이 아크릴계 공중합체는, 중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트(alkyl methacrylate), 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트(alkyl(meth)acrylate) 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며, 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35wt% 이상이며, 점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치가 1.0 이하인 것을 특징으로 한다.Here, the pressure-sensitive adhesive layer includes an acrylic copolymer, and the acrylic copolymer has a weight average molecular weight (Mw) of more than 100,000 and less than 2,000,000, and as the copolymerizable monomer component, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms Alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms and alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms. Wherein the total amount of the hydrophobic monomers in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer Is 100 mu m, the haze value is 1.0 or less.

여기서, 점착제층에 포함되는 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분으로서는, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트(이하, 「소수성 모노머(a1)이라고 칭하는 경우가 있음), 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트(이하, 「소수성 모노머(a2)라고 칭하는 경우가 있음) 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트(이하, 「소수성 모노머(b)라고 칭하는 경우가 있음)로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머가 선택된다.Here, examples of the copolymerizable monomer component of the acrylic copolymer contained in the pressure-sensitive adhesive layer include alkyl methacrylates having a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "hydrophobic monomer (a1)") (Meth) acrylate having a cyclic alkyl group of 5 to 9 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "hydrophobic monomer (a2)") and alkyl (meth) acrylate having alkyl group of 10 to 20 carbon atoms And may be referred to as a monomer (b)) is selected from the group consisting of a hydrophobic monomer and a hydrophobic monomer.

이러한 모노머는 소수성의 알킬기를 분자 내에 가지는 소수성 모노머이므로, 공기중의 수분이 점착제층에 흡습(吸濕)되는 것을 억제할 수 있다.Since such a monomer is a hydrophobic monomer having a hydrophobic alkyl group in its molecule, moisture in the air can be prevented from being absorbed into the pressure-sensitive adhesive layer.

이 때문에, 공중합 모노머 성분에 차지하는 소수성 모노머(a1), 소수성 모노머 (a2) 및 소수성 모노머(b)로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머의 배합비율이 크면, 점착제층에 당접하는 도전층을 구성하는 금속 원소가 점착제층에 흡습된 물분자와 접촉해 이온화하기 어려워진다.Therefore, if the compounding ratio of at least one hydrophobic monomer selected from the group consisting of the hydrophobic monomer (a1), the hydrophobic monomer (a2) and the hydrophobic monomer (b) in the copolymerized monomer component is large, The metal element constituting the pressure-sensitive adhesive layer comes into contact with water molecules absorbed in the pressure-sensitive adhesive layer, making it difficult to ionize.

이 경우, 금속세선(金屬細線)을 구성하는 금속원소(예를 들어, Ag 등)의 이온화나 이것에 기인하는 마이그레이션(migration)을 억제해, 결과적으로는, 금속세선의 합선이나 파단을 억제할 수 있다.In this case, ionization and migration attributable to the ionization of the metal element (for example, Ag or the like) constituting the metal thin wire can be suppressed, and as a result, short-circuiting or breakage of the metal thin wire can be suppressed .

이것에 더해, 점착제층의 습열백화(濕熱白化)도 억제할 수 있다.In addition to this, wet heat whitening of the pressure-sensitive adhesive layer can also be suppressed.

또한, 소수성 모노머(a1)은, α위의 메틸기의 기여에 의해, α위가 수소인 아크릴산에스테르(acrylic acid ester)류 보다 저극성(低極性)이므로, 같은 탄소수의 알킬기를 가지는 모노머종(monomer species)끼리로 비교했을 경우에 소수성이 높아지기 때문에, 얻은 중합체를 보다 소수성이 풍부한 것으로 할 수 있는 것 외에, 폴리머쇄(polymer chain)의 입체장애(立障害)가 크고, 점착제층 내의 물분자의 투과 확산을 억제할 수가 있다.Since the hydrophobic monomer (a1) has a lower polarity (lower polarity) than that of the acrylic acid ester having a hydrogen atom on the alpha side due to the contribution of the methyl group on the alpha side, the monomer species having an alkyl group of the same carbon number species, the hydrophobicity of the polymer is higher than that of the hydrophilic polymer, so that the resulting polymer can be made more hydrophobic, besides, the polymer chain has a large steric hindrance and permeation of water molecules in the pressure- Diffusion can be suppressed.

또, 소수성 모노머(a2)는, 적당히 체적이 큰 환상 알킬기의 기여에 의해, 얻은 중합체를 보다 소수성이 풍부한 것으로 할 수 있다.In addition, the hydrophobic monomer (a2) can be made more hydrophobic by the contribution of the cyclic alkyl group having a relatively large volume.

또, 소수성 모노머(b)는, 그 자체의 소수성이 강한 장쇄(long chain) 알킬기의 기여에 의해, 얻은 중합체를 보다 소수성이 풍부한 것으로 할 수 있다.In addition, the hydrophobic monomer (b) can be made more hydrophobic by the contribution of its long chain alkyl group having high hydrophobicity.

또한, 상술한 것 같은 효과를 확실히 발휘시키기 위해서는, 공중합 모노머 성분에 차지하는 소수성 모노머의 합계의 배합비율은, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상인 것이 필요하고, 40 wt% 이상인 것이 바람직하고, 50 wt% 이상인 것이 보다 바람직하다.In order to reliably exhibit the above-mentioned effects, the total mixing ratio of the hydrophobic monomers in the copolymerized monomer component is required to be 35 wt% or more with respect to the total mass of the acrylic copolymer, preferably 40 wt% or more , And more preferably 50 wt% or more.

또한, 배합비율의 상한치(上限値)는 100 wt%이어도 되지만, 마이그레이션 (migration) 이나 습열백화의 억제와 점착제층으로서 요구되는 그 외의 특성을 균형있게 양립시키는 관점에서는, 97 wt% 이하인 것이 바람직하다.The upper limit (upper limit) of the blending ratio may be 100 wt%, but it is preferably 97 wt% or less from the viewpoint of balancing both the migration and the suppression of whitening whitening and other properties required as the pressure-sensitive adhesive layer .

여기서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트(소수성 모노머(a1))로서는, 예를 들어, 메틸메타크릴레이트(methyl methacrylate), 에틸메타크릴레이트(ethyl methacrylate), 프로필메타크릴레이트 (propyl methacrylate), 이소프로필메타크릴레이트(isopropyl methacrylate), n-부틸메타크릴레이트(n-butyl methacrylate), i-부틸메타크릴레이트(i-butyl methacrylate), t-부틸메타크릴레이트(t-butyl methacrylate), 펜틸메타크릴레이트(pentyl methacrylate), n-헥실메타크릴레이트(n-hexyl methacrylate), 헵틸메타크릴레이트(heptyl methacrylate), n-옥틸메타크릴레이트(n-octyl metha crylate), 2-에틸헥실메타크릴레이트(2-ethylhexyl methacrylate), 노닐메타크릴레이트(nonyl methacrylate), 이소노닐메타크릴레이트(isononyl methacrylate) 등을 들 수 있고, 이 중에서도, n-부틸메타크릴레이트가 바람직하다.Examples of the alkyl methacrylate having a linear or branched alkyl group of 1 to 9 carbon atoms (hydrophobic monomer (a1)) include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Butyl methacrylate, isopropyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, Acrylates such as t-butyl methacrylate, pentyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, n-octyl methacrylate, methacryloyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, nonyl methacrylate, isononyl methacrylate and the like. Of these, n-butyl methacrylate re The agent is preferred.

또, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트(소수성 모노머 (a2))로서는, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트(cyclopentyl(meth)acrylate), 시클로헥실(메타)아크릴레이트(cyclohexyl(meth)acrylate), 시클로헵틸(메타)아크릴레이트(cycloheptyl(meth)acrylate) 등을 들 수 있고, 이 중에서도, 시클로헥실(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 시클로헥실메타크릴레이트(cyclohexyl metha crylate)가 특히 바람직하다.Examples of the alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms (hydrophobic monomer (a2)) include cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate and the like. Of these, cyclohexyl (meth) acrylate is preferred, cyclohexyl methacrylate, Is particularly preferable.

또, 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트(소수성 모노머 (b))로서는, 예를 들어, n-데실(메타)아크릴레이트(n-decyl(meth)acrylate), iso-데실(메타)아크릴레이트(iso-decyl(meth)acrylate), 운데실(메타)아크릴레이트(undecyl(meth)acrylate), 라우릴(메타)아크릴레이트(lauryl(meth)acrylate), 트리데실(메타)아크릴레이트(tridecyl(meth)acrylate), iso-트리데실(메타)아크릴레이트(iso-tridecyl(meth)acrylate), 테트라데실(메타)아크릴레이트(tetradecyl (meth)acrylate), 헵타데실(메타)아크릴레이트(heptadecyl(meth)acrylate), 스테아릴(메타)아크릴레이트(stearyl(meth)acrylate), iso-스테아릴(메타)아크릴레이트(iso- stearyl (meth)acrylate), 베헤닐(메타)아크릴레이트(behenyl (meth)acrylate) 등을 들 수 있고, 이러한 중에서도, iso-데실메타크릴레이트 (iso-decyl methacrylate), 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트가 바람직하다.Examples of the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group of 10 to 20 carbon atoms (hydrophobic monomer (b)) include n-decyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, Tridecyl (meth) acrylate, iso-tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, Heptadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, and the like. Of these, iso-decyl methacrylate, lauryl (meth) acrylate, Re (meth) acrylate is preferred.

아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분으로서는, 상기 소수성 모노머(a1, a2, b ) 이외의 그 외의 모노머도 필요에 따라서 적당히 이용된다.As the copolymerizable monomer component of the acrylic copolymer, other monomers other than the hydrophobic monomers (a1, a2, b) may be suitably used as needed.

그 외의 모노머로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, n-부틸 아크릴레이트(n-butyl acrylate), 2-에틸헥실아크릴레이트(2-ethylhexyl acrylate), 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트(2-hydroxyethyl(meth)acrylate), 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트(4-hydroxybutyl(meth)acrylate), 6-하이드록시헥실(메타)아크릴레이트(6-hydroxyhexyl(meth)acrylate), (메타)아크릴아마이드((meth)acrylamide), N-메틸(메타)아크릴아마이드(N-methyl (meth)acrylamide), N, N-디메틸아크릴아마이드(N,N-dimethyl acrylamide), 아세트산비닐 등을 들 수 있다.Examples of the other monomer include, but are not limited to, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate Acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl acrylamide, .

아크릴산 등의 카르복실기(carboxyl group)를 함유한 모노머를 포함해도 되지만, 금속 부식성의 관점으로부터, 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 1 wt% 이하인 것이 필요하고, 0.5 wt% 이하인 것이 바람직하고, 사용하지 않는 것이 보다 바람직하다.Acrylic acid and the like, but from the viewpoint of metal corrosion resistance, it is required to be 1 wt% or less with respect to the total mass of the acrylic copolymer, preferably 0.5 wt% or less, Is more preferable.

또한, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아마이드 등과 같이, 그 외의 모노머로서 수산기, 아마이드기 등을 가지는 친수성 모노머를 이용하는 경우, 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 친수성 모노머의 배합 비율이 너무 크면, 마이그레이션이나, 점착제층의 습열백화의 억제가 불충분이 되는 경우가 있다.When a hydrophilic monomer having a hydroxyl group, an amide group or the like is used as other monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and (meth) acrylamide, the hydrophilic monomer in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer Is too large, migration and suppression of whitening of the pressure-sensitive adhesive layer may be insufficient.

이 때문에, 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 친수성 모노머의 배합비율은, 15wt% 이하가 바람직하고, 10wt% 이하가 보다 바람직하다.For this reason, the blending ratio of the hydrophilic monomer in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is preferably 15 wt% or less, more preferably 10 wt% or less.

또, 점착제층에 포함되는 아크릴계 공중합체의 중량평균 분자량(Mw)는 10만을 넘는 것이 필요하며, 이것에 의해 뛰어난 내구성을 확보할 수 있다.In addition, the weight average molecular weight (Mw) of the acrylic copolymer contained in the pressure-sensitive adhesive layer needs to be more than 100,000, thereby ensuring excellent durability.

또한, 중량평균 분자량(Mw)는 15만 이상이 바람직하고, 20만 이상이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw) is preferably 150,000 or more, more preferably 200,000 or more.

한편, 내구성의 관점에서는, 중량평균 분자량(Mw)의 상한치는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 아크릴계 공중합체의 점도(粘度)가 높아져 취급성이 떨어지는 등의 실용상의 문제를 억제 등 하는 관점에서는 200만 이하이며, 180만 이하가 바람직하다.On the other hand, from the viewpoint of durability, the upper limit value of the weight average molecular weight (Mw) is not particularly limited, but from the viewpoint of suppressing practical problems such as viscosity increase of the acrylic copolymer, And preferably 1.8 million or less.

또한, 본 출원의 명세서에 있어서, 중량평균 분자량(Mw)란, 겔 투과 크로마토 그래피(GPC; Gel Permeation Chromatography) 측정에 의해 구한 중량평균 분자량을 의미한다.In the specification of the present application, the weight average molecular weight (Mw) means a weight average molecular weight determined by Gel Permeation Chromatography (GPC) measurement.

여기서, 점착제층 중에 2종류 이상의 아크릴계 공중합체가 포함되는 경우는, 각각의 폴리머마다 중량평균 분자량(Mw)를 구한다.Here, when two or more acrylic copolymers are contained in the pressure-sensitive adhesive layer, the weight average molecular weight (Mw) is determined for each polymer.

또한, 점착제층에 포함되는 폴리머 성분으로서는, 중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하인 아크릴계 공중합체(이하, 「주성분 폴리머」라고 칭하는 경우가 있음)가 적어도 포함되어 있다면, 주성분 폴리머만으로부터 구성되어 있어도 좋고, 주성분 폴리머와 그 외의 폴리머로부터 구성되어 있어도 좋다.As the polymer component contained in the pressure-sensitive adhesive layer, if at least an acrylic copolymer having a weight-average molecular weight (Mw) of more than 100,000 and less than 2,000,000 (hereinafter sometimes referred to as "main component polymer") is contained, Or may be composed of the main component polymer and other polymers.

그 외의 폴리머로서는, 주성분 폴리머와 중량평균 분자량(Mw)이나 구성 모노머의 조성이 다른 아크릴계 공중합체나, 주성분 폴리머와 기본적인 분자 구조가 다른 비아크릴계 폴리머를 들 수 있다.As the other polymer, an acrylic copolymer different in composition of the main component polymer and a weight average molecular weight (Mw) or a constituent monomer or a non-acrylic polymer different in basic molecular structure from the main component polymer can be given.

다만, 전체 폴리머 성분에 차지하는 그 외의 폴리머의 배합비율이 너무 큰 경우에는, 점착제층의 여러 특성을 결정하는데 있어서 주성분 폴리머보다 그 외의 폴리머의 영향이 지배적이 되기 때문에, 그 외의 폴리머의 배합비율은 30 wt% 이하인 것이 바람직하고, 10 wt% 이하인 것이 보다 바람직하고, 4 wt% 이하인 것이 한층 더 바람직하다.However, when the blending ratio of other polymers in the total polymer component is too large, the influence of other polymers is more dominant in determining various properties of the pressure-sensitive adhesive layer than in the main component polymer. Therefore, wt% or less, more preferably 10 wt% or less, and still more preferably 4 wt% or less.

특히, 폴리머를 구성하는 모노머의 조성이 주성분 폴리머와 크게 다른 그 외의 폴리머(예를 들면, 유리전이온도가 50℃ 이상 다른 아크릴계 공중합체나, 비 아크릴계 폴리머)는, 주성분 폴리머와의 상용성(相溶性)이 충분하지 않아, 점착제 층의 헤이즈(haze)를 높일 우려가 있으므로, 첨가하지 않는 것이 바람직하다.Particularly, the other polymer (for example, an acrylic copolymer or a non-acrylic polymer having a glass transition temperature of 50 DEG C or more different from that of the main component polymer in the composition of the monomer constituting the polymer) has compatibility with the main component polymer (Solubility) of the pressure-sensitive adhesive layer is not sufficient and it may increase the haze of the pressure-sensitive adhesive layer.

또한, (i) 그 외의 폴리머의 중량평균 분자량(Mw)가 10만 이하인 경우, 내구성의 저하를 일으키기 쉬워지고, (ii) 그 외의 폴리머가 주성분 폴리머보다 친수성이 높은 분자 구조를 가지는 경우에는, 마이그레이션나 습열백화의 억제가 곤란해지는 경우가 있다.When the weight average molecular weight (Mw) of the other polymer (i) is 100,000 or less, the durability tends to be lowered. (Ii) When the other polymer has a molecular structure having higher hydrophilicity than the main component polymer, Or suppressing the whitening whitening may become difficult.

이 때문에, 주성분 폴리머와 함께 그 외의 폴리머를 병용(倂用)하는 경우에도, 상술한 (i), (ii)에 해당하는 그 외의 폴리머는 이용하지 않든지, 혹은, 그 배합 비율을 극력 작게 하는 것이 바람직하다.Therefore, even when other polymers are used together with the main component polymer, other polymers corresponding to the above-mentioned (i) and (ii) are not used, or the mixing ratio can be made as small as possible .

또한, 점착제층에는, 주성분 폴리머 등의 폴리머 성분 이외에도, 중합 반응에 기여하지 않고 잔존(殘存)하는 중합 개시제(polymerization initiator)(잔존 중합 개시제)가 미량이 포함되는 경우가 있다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer may contain a trace amount of a polymerization initiator (residual polymerization initiator) remaining in the polymerization layer without contributing to the polymerization reaction, in addition to the polymer component such as the main component polymer.

잔존 중합 개시제의 잔존량(殘存量)이 많으면 점착제층의 내열성의 저하를 일으키기 쉬워지는 경우가 있기 때문에, 잔존량은 가능한 한 작은 것이 바람직하다.If the residual amount of the residual polymerization initiator (residual amount) is large, the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive layer tends to be lowered. Therefore, the residual amount is preferably as small as possible.

이 관점에서는, 점착제층에 포함되는 잔존 중합 개시제의 잔존량은, 500ppm 이하가 바람직하고, 300ppm 이하가 보다 바람직하고, 200ppm 이하가 한층 더 바람직하고, 실질적으로는 0ppm 혹은 검출한계(檢出限界) 이하인 것이 가장 바람직하다.From this viewpoint, the residual amount of the residual polymerization initiator contained in the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 500 ppm or less, more preferably 300 ppm or less, still more preferably 200 ppm or less, practically 0 ppm or detection limit, Or less.

또한, 점착제층 중에 2종류 이상의 잔존 중합 개시제가 포함되는 경우, 잔존량은 각각의 잔존 중합 개시제의 총량을 의미한다.When two or more kinds of remaining polymerization initiators are contained in the pressure-sensitive adhesive layer, the residual amount means the total amount of each remaining polymerization initiator.

또, 잔존 중합 개시제로서는 후술하는 열중합 개시제(thermal polymerization initiator)나 광중합 개시제(photo polymerization initiator)를 예시할 수 있다.As the residual polymerization initiator, a thermal polymerization initiator or a photo polymerization initiator described later can be exemplified.

점착제층의 형성 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 주성분 폴리머 등의 폴리머 성분을 포함한 도포액(塗布液)을 지지체(支持體)(세퍼레이타(separator) 라고도 칭함)의 표면에 도포하고, 휘발성 성분을 건조시키며, 필요에 따라서 일정기간 양생(養生)시키는 것으로, 점착제층을 형성할 수 있다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but it is usually carried out by applying a coating liquid (coating liquid) containing a polymer component such as a main component polymer to the surface of a support (also referred to as a separator) The pressure-sensitive adhesive layer can be formed by drying the volatile component and curing for a certain period of time as necessary.

건조 조건, 양생 조건에 대해서는 특별히 제한되지 않고, 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다.The drying conditions and curing conditions are not particularly limited, and conventionally known methods can be employed.

또, 주성분 폴리머 등의 폴리머 성분 및 필요에 따라서 반응성 희석제(reactive diluent)를 포함한 도포액을 지지체의 표면에 도포하고, 활성 에너지선(activation energy ray)을 조사(照射)하는 것으로, 점착제층을 형성할 수도 있다.A coating liquid containing a polymer component such as a main component polymer and, if necessary, a reactive diluent is coated on the surface of a support and irradiated with an activation energy ray to form a pressure-sensitive adhesive layer You may.

또한, 주성분 폴리머 등의 폴리머 성분, 광중합 개시제 및 필요에 따라서 다관능 모노머, 가교제(crosslinking agent), 유기용매를 포함한 용액을 지지체의 표면에 도포하고 건조해, 피착체(adherend)에 붙인 후, 활성 에너지선을 조사하는 것으로, 점착제층을 형성할 수도 있다.Further, a solution containing a polymer component such as a main component polymer, a photopolymerization initiator and, if necessary, a solution containing a polyfunctional monomer, a crosslinking agent and an organic solvent is applied to the surface of the support, dried, adhered to an adherend, By applying an energy ray, a pressure-sensitive adhesive layer may be formed.

또한, 반응성 희석제란, 비닐기(vinyl group)등의 중합성 관능기를 가지는 화학종(chemical species)이며, 모노머, 올리고머(oligomer) 등의 비교적으로 분자량이 작은 화학종을 가리킨다.The reactive diluent is a chemical species having a polymerizable functional group such as a vinyl group, and indicates a chemical species having a relatively small molecular weight such as a monomer or an oligomer.

구체적으로는, 본 실시형태의 투명 도전 시트에 이용하는 아크릴계 공중합체를 구성하는 모노머종이어도 좋다.Specifically, a monomer species constituting the acrylic copolymer used in the transparent conductive sheet of the present embodiment may be used.

활성 에너지선으로서는, 자외선, 가시광선, 적외선 및 전자선을 들 수 있다.Examples of the active energy ray include ultraviolet rays, visible rays, infrared rays and electron rays.

활성 에너지선의 조사(照射) 조건으로서는, 통상, 조도(照度)가 1 mW/cm2 ∼200 mW/cm2인 활성 에너지선을 적산광량(積算光量) 300mJ/cm2∼1000 mJ/cm2로 조사해 실시한다.As the irradiation conditions of the active energy ray, usually, the illuminance (illuminance) is 1 mW / cm 2 Carried out to investigate the active energy ray ~200 mW / cm 2 as the accumulated light quantity (積算光量) 300mJ / cm 2 ~1000 mJ / cm 2.

조사에 의한 중합율(重合率)은 90%∼100%로 하는 것이 바람직하다.The polymerization rate (polymerization rate) by irradiation is preferably 90% to 100%.

중합율은 가스 크로마토그래피(Gas Chromatography)에 의해 잔존 모노머의 량을 측정하는 것에 의해서 구할 수 있다.The polymerization rate can be determined by measuring the amount of the residual monomer by gas chromatography.

점착제층의 두께는 적당히 선택할 수 있지만, 통상, 5㎛∼200㎛ 정도이다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be suitably selected, but is usually about 5 to 200 mu m.

지지체로서는, 도포층의 형성이 가능하면 공지의 지지체를 이용할 수 있으며, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 폴리부틸렌테레프탈레이트(polybutylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 필름(polyethylene film), 폴리프로필렌 필름(polypropylene film), 셀로판(cellophane), 디아세틸셀룰로오스 필름(diacetyl cellulose film), 트리아세틸셀룰로오스 필름(triacetyl cellulose film), 아세틸 셀룰로오스부티레이트 필름(acetyl cellulose butyrate film), 폴리염화비닐 필름(polyvinylchloride film), 폴리염화비닐리덴 필름(polyvinylidene chloride film), 폴리비닐알코올 필름(polyvinyl alcohol film), 에틸렌-초산비닐공중합체 필름(ethylene-vinylacetate copolymer film), 폴리스티렌 필름(polystyrene film), 폴리카보네이트 필름(polycarbonate film), 폴리메틸펜텐 필름 (polymethyl pentene film), 폴리술폰 필름(polysulfone film), 폴리에테르에테르케톤 필름 (polyetheretherketone film), 폴리에테르술폰 필름(polyethersulfone film), 폴리에테르이미드 필름(polyetherimide film), 폴리이미드 필름(polyimide film), 불소수지 필름(fluororesin film), 나일론 필름(nylon film), 사이클로올레핀폴리머 필름(cyclo olefin polymer film), 아크릴수지 필름(acrylic resin film) 등의 수지 필름을 이용할 수 있다.As the support, a known support may be used as long as a coating layer can be formed. For example, a support such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, a polyethylene film, a polypropylene film, a cellophane, a diacetyl cellulose film, a triacetyl cellulose film, an acetyl cellulose butyrate film, a poly Polyvinylchloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinylacetate copolymer film, polystyrene film, polyvinyl chloride film, , A polycarbonate film, a polymethylphen A polyether sulfone film, a polymethyl pentene film, a polysulfone film, a polyetheretherketone film, a polyethersulfone film, a polyetherimide film, a polyimide film, A resin film such as a fluororesin film, a nylon film, a cycloolefin polymer film, or an acrylic resin film may be used.

또, 지지체의 표면은 이형성(離型性)을 가지고 있어도 좋다.In addition, the surface of the support may have releasability.

표면이 이형성을 가지는 지지체인 경우는, 이 이형성을 가지는 면에 도포층이 형성된다.When the surface is a support having releasability, a coating layer is formed on the surface having this releasability.

또, 본 실시형태의 투명 도전 시트를 사용하는 경우, 표면이 이형성을 가지는 지지체는 사용 전에 미리 점착제층으로부터 박리된다.In the case of using the transparent conductive sheet of the present embodiment, the support having a releasable surface is peeled from the pressure-sensitive adhesive layer before use.

또, 점착제층의 형성에 이용하는 점착제는, 예를 들어, 이하의 순서로 제작할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive used for forming the pressure-sensitive adhesive layer can be produced, for example, in the following order.

우선, 소수성 모노머(a1), 소수성 모노머(a2) 및 소수성 모노머(b)로부터 구성 되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함한 원료 모노머와 유기용제를 반응용기 내에 넣고, 질소가스 등의 불활성가스 분위기하에서 소정의 온도까지 가열한 후, 열중합 개시제를 첨가해 소정의 시간 반응시킨다.First, a raw material monomer containing at least one hydrophobic monomer selected from the group consisting of a hydrophobic monomer (a1), a hydrophobic monomer (a2) and a hydrophobic monomer (b) and an organic solvent are placed in a reaction vessel and an inert gas such as nitrogen gas After heating to a predetermined temperature in an atmosphere, a thermal polymerization initiator is added and reacted for a predetermined time.

또한, 열중합 반응은, 미반응의 원료 모노머가 남지 않게 충분히 진행시키는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the thermal polymerization reaction proceed sufficiently to leave no unreacted raw material monomer.

열중합 반응에 이용하는 열중합 개시제로서는, 공지의 열중합 개시제를 이용할 수 있으며, 예를 들어, 유기퍼옥사이드(organic peroxide)류, 유기하이드로퍼중합 반응(organic hydroperoxide)류, 유기퍼옥시케탈(organic peroxy ketal)류 및 아조 화합물(azo compound)류 등을 들 수 있다.As the thermal polymerization initiator used in the thermal polymerization reaction, known thermal polymerization initiators can be used, and examples thereof include organic peroxides, organic hydroperoxides, organic peroxyketals peroxy ketal compounds and azo compounds.

여기서, 유기퍼옥사이드류로서는, 예를 들어, 디쿠밀퍼옥사이드(dicumyl peroxide), 디-tert-부틸퍼옥사이드(di-tert-butyl peroxide), tert-부틸쿠밀 퍼옥사이드(tert-butylcumyl peroxide), 디라우로릴퍼옥사이드(dilauroyl peroxide), 디벤조일퍼옥사이드(dibenzoyl peroxide), 디아세틸퍼옥사이드(diacetyl peroxide), 디데카노일퍼옥사이드(didecanoyl peroxide), 디이소노닐퍼옥사이드(diisononanoyl peroxide), 2-메틸펜타노일퍼옥사이드(2-methyl pentanoyl peroxide) 등을 예시할 수 있다.Examples of the organic peroxides include dicumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, tert-butylcumyl peroxide, di-tert- Diacyl peroxides such as diacyl peroxide, dibenzoyl peroxide, diacetyl peroxide, didecanoyl peroxide, diisononanoyl peroxide, 2-methylpentanoyl 2-methyl pentanoyl peroxide, and the like.

또, 유기하이드로퍼옥사이드류로서는, tert-부틸하이드로퍼옥사이드 (tert-butyl hydro peroxide), 쿠밀하이드로퍼옥사이드(cumylhydro peroxide), 2, 5-디메틸-2, 5-디하이드로퍼옥시헥산(2,5-dimethyl-2,5-dihydroperoxy hexane), p-메탄하이드로퍼옥사이드(p-methane hydroperoxide), 디이소프로필벤젠 하이드로퍼옥사이드(diisopropylbenzene hydroperoxide) 등을 예시할 수 있다.Examples of the organic hydroperoxides include tert-butyl hydroperoxide, cumylhydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-dihydroperoxyhexane (2, 5-dimethyl-2,5-dihydroperoxy hexane, p-methane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide and the like.

또, 유기퍼옥시케탈류로서는, 1,1-비스(tert-헥실퍼옥시) -3,3,5- 트리메틸시클로헥산(1,1-bis(tert-hexylperoxy) -3,3,5- trimethylcyclohexane), 1,1-비스(tert-헥실퍼옥시)시클로헥산(1,1-bis(tert-hexyl peroxy) cyclohexane), 1,1-비스(tert-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산(1,1-bis(tert-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane) 등을 예시할 수 있고, 아조 화합물류로서는, 2, 2'-아조비스이소부티로니트릴(2, 2'-azobisisobutyro nitrile), 2, 2'-아조비스-2, 4-디메틸발레로니트릴(2,2'-azobis-2,4-dimethyl valeronitrile), 2, 2'-아조비스시클로헥실니트릴(2,2'-azobis cyclohexylnitrile), 1, 1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴)(1,1'-azobis(cyclohexane-1- carbonitrile)), 2-페닐아조-4-메톡시-2, 4-디메틸발레로니트릴(2-phenylazo -4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 디메틸-2, 2'-아조비스이소 부티레이트(dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate) 등을 각각 예시할 수 있다.Examples of the organic peroxyketalization include 1,1-bis (tert-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane (1,1-bis ), 1,1-bis (tert-hexyl peroxy) cyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) 1,1-bis (tert-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, and the azo compounds may include 2,2'-azobisisobutyronitrile (2,2'- azobisisobutyro nitrile, 2,2'-azobis-2,4-dimethyl valeronitrile, 2,2'-azobiscyclohexyl nitrile (2,2'-azobisisobutyronitrile) -azobis cyclohexylnitrile, 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2-phenylazo-4-methoxy- 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethyl valeronitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, and the like.

이러한 중합 개시제는, 원료 모노머 100 질량부(質量部)에 대해서, 0.0001 질량부 ∼5 질량부의 범위에서 이용할 수 있다.Such a polymerization initiator can be used in the range of 0.0001 part by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass (parts by mass) of the raw material monomer.

또, 주성분 폴리머의 중량평균 분자량(Mw)를 제어하기 위해서, 열중합 개시제의 종류 및 양, 반응 시간, 반응 온도 등의 반응 조건을 조정하거나, 적당히 연쇄 이동제(chain transfer agent)를 사용하는 것으로 조절할 수 있다.In order to control the weight average molecular weight (Mw) of the main component polymer, the reaction conditions such as the type and amount of the thermal polymerization initiator, the reaction time, and the reaction temperature may be adjusted or appropriately controlled by using a chain transfer agent .

연쇄 이동제로서는, 메틸메르캅탄(methyl mercaptan), n-도데실메르캅탄 (n-dodecyl mercaptan), 2-메르캅토에탄올(2-mercaptoethanol), 메르캅토이소부틸알콜(mercaptoisobutyl alcohol), 티오글리세롤(thioglycerol), 티오글리콜산 메틸(thioglycollic acid methyl), α-메틸스티렌다이머(α-methylstyrene dimer) 등을 들 수 있다.Examples of the chain transfer agent include methyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, 2-mercaptoethanol, mercaptoisobutyl alcohol, thioglycerol thioglycerol, thioglycollic acid methyl, and? -methylstyrene dimer.

또, 점착제에는, 적당히 이소시아네이트(isocyanate)계 가교제나 에폭시 (epoxy)계 가교제 등의 가교제(경화제)를 이용해도 좋다.As the pressure-sensitive adhesive, a crosslinking agent (curing agent) such as an isocyanate crosslinking agent or an epoxy crosslinking agent may be appropriately used.

점착제중에 있어서의 가교제의 배합량은, 아크릴계 공중합체 100 질량부에 대해서 0.01 질량부∼20.0 질량부의 범위로 할 수 있다.The blending amount of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive may be in the range of 0.01 to 20.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the acrylic copolymer.

또한, 이소시아네이트계 가교제로서는, 톨루엔디이소시아네이트(tolylene diisocyanate), 클로로페닐렌 디이소시아네이트(chlorophenylene diisocyanate), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate), 테트라메틸렌 디이소시아네이트(tetramethylene diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트 (isophorone diisocyanate), 디페닐메탄 디이소시아네이트(diphenylmethane diisocyanate), 수소화(hydrogenation) 된 디페닐메탄 디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 모노머나, 그것들을 트리메틸올프로판(trimethylolpropane) 등의 2가 이상의 알콜화합물 등에 첨가 반응(addition reaction)시킨 이소시아네이트 화합물 혹은 이소시아누레이트(isocyanurate) 화합물, 뷰렛(biuret)형 화합물 등이 예시된다.Examples of the isocyanate crosslinking agent include tolylene diisocyanate, chlorophenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, isophorone diisocyanate, Isocyanate monomers such as diphenylmethane diisocyanate and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate or an addition reaction thereof with an alcohol having two or more hydroxyl groups such as trimethylolpropane, An isocyanate compound, an isocyanurate compound, a biuret type compound and the like.

또, 공지의 폴리에테르폴리올(polyetherpolyol)이나 폴리에스테르폴리올 (poly esterpolyol), 아크릴폴리올(acrylpolyol), 폴리부타디엔폴리올(polybutadiene polyol), 폴리이소프렌폴리올(polyisoprenepolyol) 등에 이소시아네이트 화합물을 첨가 반응(addition reaction)시킨 우레탄프리폴리머(urethane prepolymer)형의 이소시아네이트 등을 들 수 있다.In addition, an isocyanate compound may be added to a known polyetherpolyol, a polyetherpolyol, an acrylpolyol, a polybutadiene polyol, a polyisoprenepolyol, or the like, Urethane prepolymer type isocyanate, and the like.

에폭시계 가교제로서는, 비스페놀 A 에피클로로하이드린(bisphenol A epichloro hydrin)형의 에폭시계 수지, 에틸렌글리시딜에테르(ethylene glycidyl ether), 폴리에틸렌글리콜 디글리시딜에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 글리세린 디글리시딜에테르(glycerine diglycidyl ether), 글리세린 트리글리시딜 에테르(glycerine triglycidyl ether), 1,6-헥산디올 글리시딜에테르 (1,6-hexane diol glycidylether), 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르 (trimethylolpropane triglycidylether), 디글리시딜아닐린(diglycidyl aniline), 디아민 글리시딜아민(diamine glycidylamine), N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-키시리렌디아민(N,N,N',N'-Tetraglycidyl-m-Xylylenediamine),1,3-비스(N,N'-디아민 글리시딜아미노메틸)시클로헥산(1,3-bis(N,N'-diamine glycidyl aminomethyl) cyclohexane) 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy crosslinking agent include bisphenol A epichlorohydrin type epoxy resin, ethylene glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin di Glycerine diglycidyl ether, glycerine triglycidyl ether, 1,6-hexane diol glycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, triglycidylether, diglycidyl aniline, diamine glycidylamine, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine (N, N, N Bis (N, N'-diamine glycidyl aminomethyl) cyclohexane), N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, 1,3- And the like.

또, 점착제에는, 필요에 따라서, 자외선 흡수제, 산화방지제, 소포제(anti-foaming agent) 등의 각종의 첨가제나, 주성분 폴리머 이외의 그 외의 폴리머를 한층 더 첨가할 수도 있다.If necessary, various additives such as an ultraviolet absorber, an antioxidant, an anti-foaming agent and other polymers other than the main component polymer may be further added to the pressure-sensitive adhesive.

도전층은 금속 재료를 포함하며, 도전성을 가진다면 그 층 구조(層構造)는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 직경이 수nm∼백 수십nm, 길이가 1㎛ 전후로부터 수백㎛ 정도의 금속 나노와이어(nanowire)의 집합체(集合)로부터 구성되는 도전층, 금속막 혹은 직경이 수nm∼수백nm 정도의 금속 미립자 등의 금속성분을 포함한 막을 패터닝(patterning)에 의해 소정의 형상에 형성한 도전층, 직경이 수십㎛∼수백㎛ 정도의 금속 와이어를 그대로 이용한 도전층 등을 예시할 수 있다.The layer structure (layer structure) of the conductive layer is not particularly limited as long as the conductive layer has conductivity. For example, the conductive layer may have a thickness of several nanometers to several hundreds of nanometers in diameter, A conductive layer formed from a collection of nanowires, a metal film, or a film formed by patterning a film containing metal components such as metal fine particles having a diameter of several nm to several hundreds of nm in a predetermined shape Layer, and a conductive layer directly using a metal wire having a diameter of several tens of micrometers to several hundreds of micrometers.

또한, 도전층의 형성시에 금속 나노와이어나 금속 미립자를 이용하는 경우는, 이것들 금속 재료를 분산 함유시킨 용액이나 페이스트(paste)를 이용할 수 있다.When metal nanowires or fine metal particles are used in forming the conductive layer, a solution or paste in which these metal materials are dispersed can be used.

도전층을 구성하는 금속원소로서는, 공지의 도전성의 금속을 적당히 이용할 수 있으며, Ag, Cu, Au 등을 들 수 있고, 특히 Ag가 바람직하다.As the metal element constituting the conductive layer, a well-known conductive metal can be suitably used, and Ag, Cu, Au and the like can be exemplified, and Ag is particularly preferable.

또, 도전층을 구성하는 금속성분으로서 금속 나노와이어나 금속 미립자 등을 이용하고 있는 경우는, 도전층에는, 이러한 금속성분 이외에, 도전층의 형상을 유지·형성하기 위해서 바인더(binder) 성분 등의 그 외의 성분이 한층 더 포함되어 있어도 좋다.In the case where metal nanowires or metal fine particles are used as the metal component constituting the conductive layer, the conductive layer may contain, in addition to such a metal component, a binder component such as a binder component Other components may be further included.

또한, 도전층은 점착제층에 당접해서 설치된다.The conductive layer is placed in contact with the pressure-sensitive adhesive layer.

이 때문에, 투명 도전 시트나 이것을 이용해 제작되는 터치패널 모듈 및 터치패널 장치의 층 구조를 보다 단순화·박형화(薄型化)할 수 있다.Therefore, the layer structure of the transparent conductive sheet and the touch panel module and the touch panel device manufactured using the transparent conductive sheet can be further simplified and thinned (thinned).

또, 도전층은, 점착제층의 적어도 한 면(이하, 「도전층 형성면」이라고 칭함)에 당접해서 설치되지만, 도전층 형성면의 전면을 실질적으로 틈새없게 가리듯이 설치되는 것은 아니고, 도전층 형성면의 일부분을 가려 소정의 패턴(pattern) 형상을 형성하듯이 설치된다.The conductive layer is provided so as to be in contact with at least one surface of the pressure-sensitive adhesive layer (hereinafter referred to as " conductive layer formation surface "), but is not provided so as to substantially cover the entire surface of the conductive layer formation surface, A part of the formation surface is covered so as to form a predetermined pattern.

또한, 패턴 형상은, 터치패널 장치로서 기능하는데 필요한 평면방향 전체에서의 투명성과 센싱(sensing) 기능을 양립할 수 있다면 특별히 한정되지 않는다.The pattern shape is not particularly limited as long as it can satisfy the transparency and the sensing function in the entire plane direction necessary for functioning as the touch panel device.

또한, 도전층 형성면에 있어서의 도전층의 피복율(被覆率)은, 터치패널 장치로서의 기능을 확보할 수 있는 범위에서 적당히 선택할 수 있고, 예를 들어, 0.1%∼70%의 범위 내에서 적당히 선택할 수 있고, 바람직하게는 1%∼50%의 범위 내에서 적당히 선택할 수 있고, 보다 바람직하게는 2%∼40%의 범위 내에서 적당히 선택할 수 있다.The coating rate of the conductive layer on the conductive layer formation surface can be appropriately selected within a range in which a function as a touch panel device can be ensured. For example, within a range of 0.1% to 70% Can be appropriately selected, and can be appropriately selected within a range of 1% to 50%, and more preferably, it can be appropriately selected within a range of 2% to 40%.

이러한 패턴 형상으로서는, 예를 들어, 제1의 방향과 제1의 방향에 직교(直交)하는 제2의 방향으로부터 구성되는 평면 공간에 있어서, 아래의 (i)∼(iii)에 예시되는 패턴 형상을 들 수 있다.As such a pattern shape, for example, in a planar space constituted by a first direction and a second direction orthogonal to the first direction, a pattern shape exemplified in the following (i) to (iii) .

(i) 대략 정방형 모양의 도전영역을 하나의 도전영역의 정점과 다른 도전영역의 정점이 전기적으로 접속되도록(예를 들어, 2개의 정점끼리가 부분적으로 겹치게 하거나, 2개의 정점을 접속하는 접속부를 설치하는 등) 제1의 방향에 따라서 복수개 배열하는 것으로 형성되는 도전영역열(導電領域列)을, 제2의 방향에 따라서 복수열을 배치한 패턴 형상(예를 들어, 일본공개특허 2012-79257호 공보에 개시된 도 6등에 예시되는 패턴 형상 등).(i) a conductive region having a substantially square shape is formed so that the vertex of one conductive region and the vertex of another conductive region are electrically connected (for example, two vertices are partially overlapped or a connection portion connecting two vertices is A plurality of conductive region columns (conductive region columns) formed by arranging a plurality of columns in a first direction are formed in a pattern shape in which a plurality of columns are arranged along a second direction (for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2012-79257 The pattern shape exemplified in Fig. 6 or the like disclosed in the publication).

(ii) 상기의 패턴 형상(i)에 있어서, 각각의 도전영역이, 띠모양의 배선(配線)을 격자모양을 이루듯이 배치하는 것으로 형성된 패턴 형상(예를 들어, 일본공개특허 2012-33147호 공보의 도 3 등에 예시되는 패턴 형상 등).(ii) In the pattern shape (i), each conductive region is formed in a pattern shape (for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2012-33147) in which band-like wirings (wirings) A pattern shape exemplified in Fig. 3 of the publication).

(iii) 긴쪽 방향이 제1의 방향과 평행을 이루는 띠모양의 도전영역을 제2의 방향에 따라서 복수열을 배치됨과 동시에, 각각의 도전영역이, 띠모양의 배선을 격자모양을 이루듯이 배치하는 것으로 형성된 패턴 형상(예를 들어, 일본공개특허 2014-198811호 공보의 도 7, 8등에 예시되는 패턴 형상 등).(iii) a plurality of rows of conductive regions in the form of stripes whose longitudinal direction is parallel to the first direction and a plurality of rows of conductive regions arranged in the second direction, wherein each conductive region is arranged such that the stripe- (For example, a pattern shape exemplified in Figs. 7 and 8 of JP-A-2014-198811).

도전층의 형성 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 그대로 이용하거나, 혹은, 적당히 어레인지(arrange)해 이용하거나, 한층 더, 공지의 방법을 2종류 이상 조합해 이용할 수 있다.The method of forming the conductive layer is not particularly limited and a known method may be used as is, or may be arranged in an appropriate manner, or two or more known methods may be used in combination.

예를 들어, 도전층이 형성된 지지체를 이하의 (A)∼(C)에 예시하는 방법에 의해 제작할 수 있다.For example, a support on which a conductive layer is formed can be produced by a method exemplified in the following (A) to (C).

(A) 스퍼터링법(sputtering method), 진공증착법, 무전해도금법(electroless plating method) 등의 공지의 성막법(成膜法)에 의해 지지체의 표면에 금속막을 형성한 후, 이 금속막을 패터닝(patterning) 하는 방법.(A) A metal film is formed on the surface of a support by a known film formation method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, or an electroless plating method, and then the metal film is patterned ) How to.

이 경우, 패터닝은, 금속막 상에 포토레지스트막(photoresist film)을 한층 더 형성한 후, 포토레지스트막을 노광·현상 처리해 레지스트 패턴(resist pattern)을 형성하고, 레지스트 패턴으로부터 노출하는 금속막을 에칭(etching) 해 선택적으로 제거하고, 마지막에 패터닝 된 금속막(도전층) 상에 남는 포토레지스트막을 제거한다. 이것에 의해, 도전층이 형성된 지지체를 얻을 수 있다.In this case, the patterning is performed by forming a photoresist film on the metal film, exposing and developing the photoresist film to form a resist pattern, and etching the metal film exposed from the resist pattern etching and selectively removing the photoresist film remaining on the patterned metal film (conductive layer). As a result, a support on which a conductive layer is formed can be obtained.

(B) 금속 나노와이어 혹은 금속 미립자를 포함한 용액이나 페이스트(paste)를 지지체의 표면에 소정의 패턴 형상에 인쇄하는 것으로 도전층을 형성하는 방법(예를 들어, 일본공개특허 2012-79257호 공보 등을 참조).(B) a method of forming a conductive layer by printing a solution or paste containing metal nanowires or metal fine particles on a surface of a support in a predetermined pattern shape (for example, Japanese Patent Application Laid-Open ).

인쇄 방법으로서는, 오프셋 인쇄(offset printing), 볼록판 인쇄(relief printing), 오목판 인쇄(intaglio printing), 스크린 인쇄(screen printing), 잉크젯 인쇄(inkjet printing) 등의 공지의 인쇄 방법을 이용할 수 있다.As the printing method, known printing methods such as offset printing, relief printing, intaglio printing, screen printing, inkjet printing, and the like can be used.

또한, 인쇄 후에는 필요에 따라서, 가열처리나 가압처리를 실시해도 좋다.After printing, a heating treatment or a pressurizing treatment may be carried out if necessary.

(C) 지지체의 표면에 할로겐화 은(silver halide)과 바인더(binder)를 포함한 감광성 조성물을 도포 등 하는 것으로 감광성층을 형성한 후, 감광성층을 노광·현상 처리해, 소정의 패턴 형상을 가지는 도전층을 형성하는 방법(예를 들어, 일본공개특허 2014-198811호 공보 등을 참조).(C) forming a photosensitive layer by applying a photosensitive composition containing a silver halide and a binder on the surface of a support, and then exposing and developing the photosensitive layer to form a conductive layer having a predetermined pattern shape (See, for example, JP-A-2014-198811).

이하에, 일례로서, 상기(B)에 나타내는 방법에 의해 도전층이 형성된 지지체를 제작하는 경우에 대해 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, as an example, a case of manufacturing a support on which a conductive layer is formed by the method shown in (B) above will be described in more detail.

이 경우, 우선, 금속 나노와이어를 분산 함유하는 용액을 제1의 지지체의 표면(이형성을 가지는 표면)에 도포한 후 건조시키고, 한층 더 가압처리를 실시하는 것으로, 갭리스막(gapless film)상의 도전막을 형성한다. 이것에 의해, 도전막이 형성된 제1의 지지체를 얻는다.In this case, first, a solution containing the metal nanowires dispersed therein is applied to the surface (releasable surface) of the first support, followed by drying and further pressurization, thereby forming a gapless film Thereby forming a conductive film. Thus, a first support on which a conductive film is formed is obtained.

또, 상온에서는 점착성을 나타내지 않지만 가열에 의해 점착성이 나타나는 감열 접착제(heat-sensitive adhesive)(예를 들어, 폴리우레탄계 접착제등)를, 스크린 인쇄 등을 이용해 소정의 패턴 형상이 되도록 제2의 지지체의 표면에 인쇄한다. 이것에 의해, 감열 접착제층이 형성된 제2의 지지체를 얻는다.It is also possible to apply a heat-sensitive adhesive (e.g., a polyurethane-based adhesive) that does not exhibit adhesiveness at room temperature but exhibits adhesiveness by heating, by screen printing or the like, Print on the surface. Thus, a second support on which a heat-sensitive adhesive layer is formed is obtained.

다음에, 롤라미네이팅법(roll laminating method) 등에 의해, 도전막과 감열 접착제층이 서로 밀착(密着)하듯이 도전막이 형성된 제1의 지지체와 감열 접착제층이 형성된 제2의 지지체를 가열 가압하면서 붙인다.Next, a first support on which a conductive film is formed and a second support on which a heat-sensitive adhesive layer is formed are adhered while being heated and pressed just as a conductive film and a heat-sensitive adhesive layer are closely adhered to each other by a roll laminating method or the like .

계속해, 제1의 지지체로부터 제2의 지지체를 박리하는 것으로, 제1의 지지체의 표면에 설치된 도전막 중의 감열 접착제층의 패턴 형상에 대응하는 부분만이 감열 접착제층 측으로 이행(移行)한다.Subsequently, by peeling off the second support from the first support, only the portion of the conductive film provided on the surface of the first support corresponding to the pattern shape of the heat-sensitive adhesive layer shifts to the side of the heat-sensitive adhesive layer.

이것에 의해, 감열 접착제층의 패턴 형상을 반전시킨 패턴 형상을 가지는 도전막(도전층)이 제1의 지지체의 표면에 형성된다.As a result, a conductive film (conductive layer) having a pattern shape obtained by inverting the pattern shape of the heat-sensitive adhesive layer is formed on the surface of the first support.

여기서, 상기 (A)∼(C)에 예시한 방법에 의해 얻은 소정의 패턴 형상을 가지는 도전층이 형성된 지지체를 이용해 본 실시형태의 투명 도전 시트를 제작하는 경우는, 예를 들어, 이하의 순서로 투명 도전 시트를 제작할 수 있다.Here, when the transparent conductive sheet of the present embodiment is produced by using the support provided with the conductive layer having the predetermined pattern shape obtained by the methods exemplified in the above (A) to (C), for example, A transparent conductive sheet can be produced.

우선, 지지체의 표면에 본 실시형태의 투명 도전 시트를 구성하는 점착제층을 형성한 점착제층이 형성된 지지체를 준비한다.First, a support on which a pressure-sensitive adhesive layer having a pressure-sensitive adhesive layer constituting the transparent conductive sheet of the present embodiment is formed is prepared on the surface of a support.

다음에, 도전층이 형성된 지지체와 점착제층이 형성된 지지체를 롤라미네이팅법 등에 의해 가압하면서 붙인다.Next, a support on which a conductive layer is formed and a support on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed are adhered while being pressed by a roll laminating method or the like.

붙일 때에는, 점착제층의 성능이 열화(劣化)하지 않는 범위에서 필요에 따라서 가열해도 좋다.The adhesive layer may be heated as needed within a range in which the performance of the pressure-sensitive adhesive layer does not deteriorate.

이것에 의해, 지지체, 도전층, 점착제층, 지지체가 이 순서로 적층된 적층체(A)를 얻을 수 있다.As a result, a laminate (A) in which a support, a conductive layer, a pressure-sensitive adhesive layer, and a support are laminated in this order can be obtained.

또, 이 적층체(A)로부터 도전층에 당접된 지지체를 박리하는 것으로, 도전층을 점착제층의 표면에 전사(轉寫)시키는 것으로써, 도전층, 점착제층, 지지체가 이 순서로 적층된 적층체(B)를 얻을 수 있다.The conductive layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the support are stacked in this order by transferring the conductive layer from the layered product (A) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer by peeling the support abutting on the conductive layer Whereby the layered product (B) can be obtained.

또, 적층체(B)의 도전층이 설치된 측의 면에 보호층을 설치한 적층체(C)를 얻을 수도 있다.It is also possible to obtain a layered product (C) provided with a protective layer on the side of the layered product (B) on which the conductive layer is provided.

또한, 점착제층에 당접된 지지체를 적층체(A)로부터 박리한 후, 한층 더 도전층이 형성된 지지체와 붙이는 것으로, 제1의 지지체, 제1의 도전층, 점착제층, 제2의 도전층, 제2의 지지체를 이 순서로 적층한 적층체(D)를 얻을 수 있다.Further, the support, which is in contact with the pressure-sensitive adhesive layer, is peeled off from the layered product (A), and then adhered to the support on which the conductive layer is further formed, whereby the first support, the first conductive layer, And a second support are stacked in this order to obtain a layered product (D).

여기서, 도전층을 형성하기 위해서 이용하는 지지체나 보호층은, 점착제층을 형성하기 위해서 이용하는 지지체와 같은 재질의 부재를 이용할 수 있다.Here, as the support or the protective layer used for forming the conductive layer, a member made of the same material as the support used for forming the pressure-sensitive adhesive layer can be used.

이 경우, 적층체(A), 적층체(B), 적층체(C) 혹은 적층체(D)를 본 실시형태의 투명 도전 시트로서 이용할 수 있다.In this case, the layered product (A), the layered product (B), the layered product (C), or the layered product (D) can be used as the transparent conductive sheet of the present embodiment.

또, 점착제층이 형성된 지지체를 상기(A)∼(C)에 예시한 방법의 지지체로서 사용하고, 점착제층의 표면에 직접 도전층을 형성해도 좋다.The support on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed may be used as a support of the method exemplified in (A) to (C) above, and a conductive layer may be formed directly on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.

다만, 이 경우는, 도전층을 형성하는 과정에 있어서, 점착제층 표면의 점착 특성이 현저하게 열화하지 않는 도전층 형성 프로세스(process)를 선택하는 것이 바람직하다.In this case, however, it is preferable to select a conductive layer forming process in which the adhesive property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer does not significantly deteriorate in the process of forming the conductive layer.

이상에서 예시한 것처럼, 여러 가지의 제조 프로세스나 중간 부재를 적당히 조합해 이용하는 것으로써, 여러가지 층 구조를 가지는 투명 도전 시트를 얻을 수 있다.As described above, a transparent conductive sheet having various layer structures can be obtained by appropriately combining various manufacturing processes and intermediate members.

다음에, 본 실시형태의 투명 도전 시트를 도면을 이용해 보다 구체적으로 설명한다.Next, the transparent conductive sheet of the present embodiment will be described more specifically with reference to the drawings.

도 1 및 도 2는, 본 실시형태의 투명 도전 시트의 일례를 나타내는 모식 평면도이며, 구체적으로는 도전층의 패턴 형상의 일례를 나타내는 도면이다.Figs. 1 and 2 are schematic plan views showing an example of the transparent conductive sheet of the present embodiment, specifically showing an example of a pattern shape of a conductive layer. Fig.

또한, 도중에서, 화살표로 나타내는 X방향과 Y방향은 서로 직교하는 방향이다.Further, in the drawing, the X direction and the Y direction indicated by arrows are directions orthogonal to each other.

도 1에 나타내는 투명 도전 시트(10A(10))은, 정방형 모양의 도전영역(100 A(100))을 하나의 도전영역(100A)의 정점과 다른 도전영역(100A)의 정점이 부분적으로 서로 겹치도록 X방향에 따라서 복수개 배열하는 것으로 형성된 도전영역열(110A(110))을, Y방향에 따라서 복수열을 배치한 패턴 형상의 도전층(20A(20))을 가지고 있다.The transparent conductive sheet 10A (10) shown in Fig. 1 has a structure in which the square conductive regions 100A (100) are formed so that the vertices of one conductive region 100A and the vertices of the conductive regions 100A, (20A (20)) in which a plurality of rows of conductive region rows (110A (110)) are arranged in the X direction so as to overlap with each other in the Y direction.

또한, 도 1에 나타내는 예에서는, 도전영역열(110A(110))의 X방향 양단측에는 인출 전극부(引出電極部)(112)가 한층 더 설치되어 있다.In the example shown in Fig. 1, a lead-out electrode portion (lead-out electrode portion) 112 is further provided at both ends of the conductive region row 110A (110) in the X direction.

또, 도 2에 나타내는 투명 도전 시트(10B(10))은, 긴쪽 방향이 X방향과 평행을 이루는 띠모양의 도전영역(100B(100))을, Y방향에 따라서 복수열을 배치한 패턴 형상의 도전층(20B(20))을 가지고 있다.The transparent conductive sheet 10B (10) shown in Fig. 2 has a patterned shape in which a plurality of rows of conductive regions 100B (100) in which the longitudinal direction is parallel to the X direction are arranged along the Y direction Of the conductive layer 20B (20).

또한, 도 2에 나타내는 예에서는, 1개의 도전영역(100B)가 1개의 도전영역열 (110B(110))을 구성하고 있다.In the example shown in Fig. 2, one conductive region 100B constitutes one conductive region row 110B (110).

또, 도 1, 도 2중, 각각의 도전영역열(110) 사이는, 접속되지 않고 전기적으로 절연되어 있다.1 and 2, the respective conductive region rows 110 are not connected but electrically isolated.

이것에 더해, 후술하는 터치패널 모듈이나 터치패널 장치에 있어서, 도 1, 도 2 중에 나타내는 각각의 도전영역열(110)은, 도시하지 않은 인출배선(引出配線)을 개입시켜 도시하지 않은 프린트 배선기판 등으로부터 구성되는 센서부에 접속된다.In addition, in the touch panel module or the touch panel device described later, each of the conductive region rows 110 shown in Figs. 1 and 2 is electrically connected to a printed wiring (not shown) through unillustrated lead- And is connected to a sensor section constituted by a substrate or the like.

또, 도 1, 도 2 중에 나타내는 도전영역(100)은, 투명한 갭리스막(gapless film) 상의 부재이어도 좋지만, 도 3에 예시하는 듯한 2차 구조를 한층 더 가지고 있어도 좋다.The conductive region 100 shown in Figs. 1 and 2 may be a transparent gapless film member, but may further include a secondary structure as illustrated in Fig.

도 3은, 도 1 및 도 2 중에 나타내는 도전영역(100)을 확대했을 경우의 일례를 나타내는 확대 평면도이다.Fig. 3 is an enlarged plan view showing an example in which the conductive region 100 shown in Figs. 1 and 2 is enlarged.

도 3에 나타내는 예에서는 도전영역(100)은, 띠모양의 배선(102)를 격자모양에 배치한 2차 구조를 가지고 있다.In the example shown in Fig. 3, the conductive region 100 has a secondary structure in which band-shaped wirings 102 are arranged in a lattice pattern.

도 1, 도 2에 예시한 것처럼, 도전층(20)은, 통상, 복수개의 도전영역(100)을 포함하고, 이것들 복수개의 도전영역(100) 중에서 선택되는 적어도 2개의 도전영역(100)의 사이는 서로 접속되지 않고 전기적으로 절연되도록 배치된다.1 and 2, the conductive layer 20 generally includes a plurality of conductive regions 100, and at least two conductive regions 100 selected from the plurality of conductive regions 100 Are electrically isolated from each other without being connected to each other.

이 때문에, 도 1에 나타내는 서로 인접(隣接)하는 2개의 도전영역(100A)의 접속부(120)의 Y방향 길이나, 도 2에 나타내는 도전영역(100B)의 Y방향 길이 등과 같이 선폭(線幅)이 가장 좁은 부분에서는, 도전층(20)을 구성하는 금속 재료의 마이그레이션이 생기면 단선(斷線)이 생기기 쉽다.For this reason, the line width (line width) of the connection portion 120 of the two adjacent conductive regions 100A shown in Fig. 1, such as the Y direction length, the Y direction length of the conductive region 100B shown in Fig. 2, The migration of the metal material constituting the conductive layer 20 tends to cause a broken line.

또, 도 1에 나타내는 1열째의 도전영역열(110A)를 구성하는 도전영역(100A)의 2열째의 도전영역열(110A) 측의 정점과, 2열째의 도전영역열(110A)를 구성하는 도전영역(100A)의 1열째의 도전영역열(110A)측의 정점의 사이의 길이(갭의 길이(G1))나, 도 2에 나타내는 1열째의 도전영역열(110B)와 2열째의 도전영역열 (110B)의 사이의 길이(갭의 길이(G2))와 같이, 전기적으로 절연 된 2개의 도전영역(100) 사이의 가장 거리가 짧은 부분에서는, 도전층(20)을 구성하는 금속 재료의 마이그레이션이 생기면 합선이 생기기 쉽다.It is to be noted that a peak on the second row of conductive region columns 110A of the conductive region 100A constituting the first row of conductive region columns 110A shown in Fig. 1 and a peak on the second row of conductive region columns 110A The length (gap length G1) between the vertexes of the conductive region 110A side of the first row of the conductive region 100A and the length between the vertexes of the conductive region row 110B of the first row and the second row In the portion having the shortest distance between the two electrically isolated electrically conductive regions 100, such as the length (gap length G2) between the region columns 110B, the metal material constituting the conductive layer 20 The migration is likely to cause a short circuit.

그러나, 본 실시형태의 투명 도전 시트(10)에서는, 상술한 것처럼 대기중의 수분에 기인하는 마이그레이션이 억제되기 때문에, 단선이나 합선을 방지하는 것이 지극히 용이하다.However, in the transparent conductive sheet 10 of the present embodiment, migration due to moisture in the atmosphere is suppressed as described above, and it is extremely easy to prevent disconnection or short-circuiting.

또한, 선폭이 가장 좁은 부분에 있어서의 선폭은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 10nm∼1000㎛의 범위로 할 수 있다.The line width at the narrowest line width is not particularly limited, but may be in the range of 10 nm to 1000 m, for example.

선폭의 하한치(下限値)에 대해서는 100nm 이상이 바람직하고, 500nm 이상이 보다 바람직하고, 1㎛ 이상이 한층 더 바람직하고, 선폭의 상한치에 대해서는 200㎛가 바람직하고, 50㎛ 이하가 보다 바람직하고, 10㎛ 이하가 한층 더 바람직하다.The lower limit value (lower limit value) of the line width is preferably 100 nm or more, more preferably 500 nm or more, still more preferably 1 mu m or more, and more preferably 200 mu m or less, And even more preferably 10 μm or less.

또, 전기적으로 절연 된 2개의 도전영역(100) 사이의 가장 거리가 짧은 부분에 있어서의 갭의 길이는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 1㎛∼5000㎛의 범위로 할 수 있다.The length of the gap in the shortest distance between two electrically isolated conductive regions 100 is not particularly limited, but may be in the range of 1 m to 5000 m, for example.

최단거리의 하한치에 대해서는 5㎛ 이상이 바람직하고, 10㎛ 이상이 보다 바람직하고, 50㎛ 이상이 한층 더 바람직하고, 최단거리의 상한치에 대해서는 1000㎛가 바람직하고, 500㎛ 이하가 보다 바람직하고, 10㎛ 이하가 한층 더 바람직하다.The lower limit of the shortest distance is preferably 5 占 퐉 or more, more preferably 10 占 퐉 or more, even more preferably 50 占 퐉 or more, and the upper limit of the shortest distance is preferably 1000 占 퐉, more preferably 500 占 퐉 or less, And even more preferably 10 μm or less.

또, 도전층(20)의 두께는 특히 제한되는 것은 아니지만, 도전성과 투명성의 관점으로부터, 예를 들어, 10nm∼1000㎛의 범위로부터 선택하는 것이 가능하다.The thickness of the conductive layer 20 is not particularly limited. However, from the viewpoint of conductivity and transparency, it is possible to select the thickness from 10 nm to 1000 m, for example.

두께의 하한치는, 50nm 이상이 바람직하고, 100nm 이상이 보다 바람직하고, 두께의 상한치는, 100㎛ 이하가 바람직하고, 10㎛ 이하가 한층 더 바람직하고, 5㎛ 이하가 가장 바람직하다.The lower limit of the thickness is preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, and the upper limit of the thickness is preferably 100 占 퐉 or less, more preferably 10 占 퐉 or less and most preferably 5 占 퐉 or less.

도 4∼도 7은, 본 실시형태의 투명 도전 시트의 단면구조의 일례를 나타내는 모식 단면도이며, 구체적으로는 도 1중의 부호 A1-A2간, 혹은, 도 2 중의 부호 B1-B2간에서 도전층(20)이 존재하는 부분에 있어서의 단면구조의 일례를 나타내는 도이다.Figs. 4 to 7 are schematic cross-sectional views showing an example of the cross-sectional structure of the transparent conductive sheet of the present embodiment. More specifically, in Figs. 1 to 1, Sectional structure in a portion in which the substrate 20 is present.

도 4에 나타내는 투명 도전 시트(10C(10))에서는, 기재(40), 점착제층(30), 도전층(20)이 이 순서로 적층된 층 구조를 가지고 있고, 도 5에 나타내는 투명 도전 시트(10D(10))에서는, 제1의 기재(40A(40)), 점착제층(30), 도전층(20), 제2의 기재(40B(40))이 이 순서로 적층된 층 구조를 가지고 있고, 도 6에 나타내는 투명 도전 시트(10E(10))에서는, 제1의 기재(40A(40)), 제1의 도전층(20C(20)), 점착제층(30), 제2의 도전층(20D(20)), 제2의 기재(40B)가 이 순서로 적층된 층 구조를 가지고 있고, 도 7에 나타내는 투명 도전 시트(10F(10))에서는, 제1의 기재(40A(40)), 제1의 점착제층(30A(30)), 제1의 도전층(20C(20)), 제3의 기재(40C(40)), 제2의 도전층(20D(20)), 제2의 점착제층(30B(30)), 제2의 기재(40B)가 이 순서로 적층된 층 구조를 가지고 있다.The transparent conductive sheet 10C (10) shown in Fig. 4 has a layer structure in which the base material 40, the pressure-sensitive adhesive layer 30 and the conductive layer 20 are laminated in this order, The layered structure in which the first base material 40A (40), the pressure sensitive adhesive layer 30, the conductive layer 20 and the second base material 40B (40) 6, the first base material 40A (40), the first conductive layer 20C (20), the pressure-sensitive adhesive layer 30, the second base material 40A (40) In the transparent conductive sheet 10F (10) shown in Fig. 7, the first base material 40A (20A) and the second base material 40B have a layer structure in which the conductive material layer 20D The first adhesive layer 30A (30), the first conductive layer 20C (20), the third base material 40C (40), and the second conductive layer 20D (20) The second pressure-sensitive adhesive layer 30B (30), and the second base material 40B are stacked in this order.

본 실시형태의 투명 도전 시트(10)은, 도전층(20) 및 점착제층(30)을 각각 적어도 1층씩 포함하는 것이면 도 4∼도 7에 예시한 층 구조에 한정되지 않고, 또, 도 6∼도 7에 예시한 것처럼 도전층(20) 및/또는 점착제층(30)은 2층 이상 포함되어 있어도 좋다.The transparent conductive sheet 10 of the present embodiment is not limited to the layer structure exemplified in Figs. 4 to 7 as far as it includes at least one conductive layer 20 and at least one pressure-sensitive adhesive layer 30, As shown in Fig. 7, the conductive layer 20 and / or the pressure-sensitive adhesive layer 30 may include two or more layers.

또, 본 실시형태의 투명 도전 시트(10)은, 도전층(20)과 점착제층(30)만으로부터 구성되어 있어도 좋지만, 투명 도전 시트(10)의 취급성 등의 실용상의 관점에서는, 통상, 1층 이상의 기재(40)를 포함하는 것이 특히 바람직하다.The transparent conductive sheet 10 of the present embodiment may be composed only of the conductive layer 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 30. In view of practicality such as handling property of the transparent conductive sheet 10, It is particularly preferable to include one or more layers of the substrate 40.

기재(40)로서는, 투명 도전 시트(10)의 제작시에 도전층(20)이나 점착제층 (30)의 형성에 이용한 지지체나, 보호층 형성용 용액의 도포나 보호 시트의 붙임 등에 의해 형성되는 보호층 등을 들 수 있다.The substrate 40 is formed by applying a support used for forming the conductive layer 20 or the pressure-sensitive adhesive layer 30 at the time of manufacturing the transparent conductive sheet 10, applying a solution for forming a protective layer, A protective layer and the like.

또한, 기재(40)가 투명 도전 시트(10)의 최표면(最表面)에 위치하는 부재인 경우, 바꾸어 말하면, 도 4에 있어서의 기재(40), 도 5∼도 7에 있어서의 기재(40A, 40B)인 경우, 기재(40)의 점착제층(30) 혹은 도전층(20)과 접하는 측의 면은 이형성을 가지고 있어도 좋다.In the case where the base material 40 is a member located on the outermost surface of the transparent conductive sheet 10, in other words, the base material 40 in Fig. 4, the base material 40 in Figs. 40A and 40B, the surface of the base material 40 in contact with the pressure-sensitive adhesive layer 30 or the conductive layer 20 may have releasability.

이 경우, 터치패널 장치 혹은 터치패널 모듈의 조립 시에, 표면이 이형성을 가지는 기재(40)를 박리한 상태로 투명 도전 시트(10)가 사용된다.In this case, at the time of assembling the touch panel device or the touch panel module, the transparent conductive sheet 10 is used in a state in which the substrate 40 having the releasable surface is peeled off.

또, 터치패널 장치 혹은 터치패널 모듈의 조립 시에, 박리 되는 기재(40)은 투명한 부재이어도 좋고 불투명한 부재이어도 좋지만, 이외의 경우에 있어서는, 기재(40)로서는 투명한 부재가 이용된다.In assembling the touch panel device or the touch panel module, the base material 40 to be peeled off may be either a transparent or opaque member, but in other cases, a transparent member is used as the base material 40.

또한, 도 1에 나타내는 패턴 형상의 도전층(20A)을 가지는 투명 도전 시트(10 A)를 이용해 터치패널 장치 혹은 터치패널 모듈을 조립하는 경우, 2층의 조립 시를 조합해 이용한다.When the touch panel device or the touch panel module is assembled by using the transparent conductive sheet 10A having the patterned conductive layer 20A shown in Fig. 1, the two layers are combined at the time of assembly.

이 경우, 1층째의 도전층(20A)에 대해서 2층째의 도전층(20A)을 XY평면에 있어서 90도 회전시킴과 동시에, 2층째의 도전층(20A)을 구성하는 각 도전영역(100A)가, 1층째의 도전층(20A)에 있어서 4개의 도전영역(100A)로 둘러싸인 대략 정방형 모양의 비도전영역(130)에 위치하도록 배치된다.In this case, the second conductive layer 20A is rotated by 90 degrees in the XY plane with respect to the first conductive layer 20A, and each conductive region 100A, which constitutes the second conductive layer 20A, Conductive non-conductive region 130 surrounded by the four conductive regions 100A in the first-layer conductive layer 20A.

또, 도 2에 나타내는 패턴 형상의 도전층(20B)를 가지는 투명 도전 시트(10B)를 이용해 터치패널 장치 혹은 터치패널 모듈을 조립하는 경우도, 2층의 도전층 (20B)를 조합해 이용한다.When the touch panel device or the touch panel module is assembled by using the transparent conductive sheet 10B having the patterned conductive layer 20B shown in Fig. 2, the conductive layers 20B of two layers are used in combination.

이 경우, 1층째의 도전층(20B)에 대해서 2층째의 도전층(20B)를 XY평면에 있어서 90도 회전시켜 배치한다.In this case, the second-layer conductive layer 20B is disposed on the first-layer conductive layer 20B while being rotated by 90 degrees in the XY plane.

따라서, 도 4에 나타내는 투명 도전 시트(10C)를 2개 이용해 터치패널 장치 혹은 터치패널 모듈을 조립하는 경우, 1개째의 투명 도전 시트(10C)의 도전층(20)과 2개째의 투명 도전 시트(10C)의 도전층(20)이 상술한 배치관계로 되도록 하면 된다. 이것은 도 5에 나타내는 투명 도전 시트(10D)에서도 같다.Therefore, when the touch panel device or the touch panel module is assembled by using two transparent conductive sheets 10C shown in Fig. 4, the conductive layer 20 of the first transparent conductive sheet 10C and the second transparent conductive sheet 10C, The conductive layer 20 of the first electrode 10C may be arranged in the above-described arrangement relationship. This is also true of the transparent conductive sheet 10D shown in Fig.

또, 도 6에 나타내는 투명 도전 시트(10E)를 이용해 터치패널 장치 혹은 터치패널 모듈을 조립하는 경우, 제1의 도전층(20C)와 제2의 도전층(20D)가 상술한 배치관계로 되도록 하면 된다. 이것은 도 7에 나타내는 투명 도전 시트(10F)에서도 같다.When the touch panel device or the touch panel module is assembled by using the transparent conductive sheet 10E shown in Fig. 6, the first conductive layer 20C and the second conductive layer 20D are arranged in the above-described arrangement relationship . This is also true of the transparent conductive sheet 10F shown in Fig.

본 실시형태의 터치패널 장치는, 화상 표시 장치(image display device)와, 화상 표시 장치의 화상 표시면 측에 설치된 도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층, 및, 이 도전층에 당접하는 점착제층을 포함하는 것이면 특히 그 구성은 제한되지 않고, 또, 본 실시형태의 터치패널 모듈은, 도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층, 및, 이 도전층에 당접하는 점착제층을 포함하는 것이면 특히 그 구성은 제한되지 않는다.The touch panel device of this embodiment includes an image display device, a conductive layer using a metal material as a conductive material provided on the image display surface side of the image display device, and a pressure-sensitive adhesive layer The touch panel module of the present embodiment is not particularly limited as long as it includes a conductive layer using a metal material as a conductive material and a pressure-sensitive adhesive layer in contact with the conductive layer, It is not limited.

다만, 터치패널 장치 및 터치패널 모듈에 있어서, 도전층 및 점착제층은, 본 실시형태의 투명 도전 시트와 같은 것이 이용된다.In the touch panel device and the touch panel module, the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer are the same as those of the transparent conductive sheet of the present embodiment.

도 8은, 본 실시형태의 터치패널 장치의 일례를 나타내는 모식 단면도이며, 구체적으로는, 도 7에 나타내는 투명 도전 시트(10F)를 이용해 제작된 터치패널 장치의 일례를 나타내는 모식 단면도이다.8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the touch panel device of the present embodiment. Specifically, Fig. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of a touch panel device manufactured using the transparent conductive sheet 10F shown in Fig.

도 8에 나타내는 터치패널 장치(200)에서는, 화상 표시 장치(210)의 화상 표시면(212)측에는, 제1의 고정용 점착층(220)을 개입시켜 투명 도전 시트(10F)가 붙여져 있다.In the touch panel device 200 shown in Fig. 8, a transparent conductive sheet 10F is adhered to the image display surface 212 side of the image display device 210 through the first fixing adhesive layer 220. Fig.

또한, 투명 도전 시트(10F)의 화상 표시 장치(210)가 배치된 측과 반대측에는, 제2의 고정용 점착층(230)을 개입시켜 투명보호층(240)이 붙여져 있다.A transparent protective layer 240 is adhered to the transparent conductive sheet 10F on the side opposite to the side where the image display device 210 is disposed through the second fixing adhesive layer 230. [

여기서, 화상 표시 장치로서는, 액정표시 장치, 유기 EL표시 장치, 플라스마표시 장치 등의 공지의 화상 표시 장치를 이용할 수 있다.Here, as the image display apparatus, a known image display apparatus such as a liquid crystal display apparatus, an organic EL display apparatus, a plasma display apparatus, or the like can be used.

또, 투명보호층(240)으로서는, 유리기판, 폴리카보네이트(polycarbonate) 기판 등의 경질 플라스틱 기판, 표면이 하드코팅(hard coating) 처리된 연질 수지층, 사파이어 기판(sapphire substrates) 등을 예시할 수 있다.Examples of the transparent protective layer 240 include a hard plastic substrate such as a glass substrate and a polycarbonate substrate, a soft resin layer having a hard coating on the surface thereof, sapphire substrates, and the like have.

고정용 점착층(220, 230)으로서는, 공지의 점착제를 적당히 이용할 수 있지만, 가시광역(可視光域)의 파장에 대한 투과율이 높은 점착제가 이용된다.As the fixing adhesive layers 220 and 230, a publicly known pressure sensitive adhesive can be suitably used, but a pressure sensitive adhesive having a high transmittance to a wavelength in the visible light range is used.

또, 본 실시형태의 터치패널 모듈로서는, 터치패널 장치에 있어서, 화상 표시 장치의 화상 표시면에 대해서 접착 또는 고정하는 것으로 실질적으로 터치패널 장치를 조립하는 것이 가능한 부재를 들 수 있다.The touch panel module of the present embodiment is a member capable of substantially assembling the touch panel device by bonding or fixing the touch panel device to the image display surface of the image display device.

또, 터치패널 모듈에는, 도 1∼도 7에 예시한 것 같은 도전층(20)에 접속되는 프린트 배선기판 등으로부터 구성되는 센서부나, 이 센서부와 도전층(20)을 접속하는 인출배선(引出配線) 등이 한층 더 포함되어 있어도 좋다.The touch panel module is also provided with a sensor portion formed of a printed wiring board or the like connected to the conductive layer 20 as shown in Figs. 1 to 7, or a sensor portion including lead wirings Lead-out wiring) and the like may be further included.

예를 들어, 도 8에 나타내는 터치패널 장치(200)에 있어서는, 투명 도전 시트(10 F), 제2의 고정용 점착층(230), 투명보호층(240)을 이 순서로 적층한 적층체를 포함한 부재가 터치패널 모듈(300)에 상당한다.For example, in the touch panel device 200 shown in Fig. 8, a transparent conductive sheet 10F, a second fixing adhesive layer 230, and a transparent protective layer 240 are laminated in this order, The touch panel module 300, and the like.

본 실시형태의 터치패널 장치를 제조하는 경우는, 본 실시형태의 투명 도전 시트를 이용하고, 화상 표시 장치의 화상 표시면 상에 터치패널로서 기능하는 층을 차례차례 형성해도 좋다.In the case of manufacturing the touch panel device of the present embodiment, the transparent conductive sheet of the present embodiment may be used to sequentially form the layers functioning as the touch panel on the image display surface of the image display device.

그러나, 상술한 것 같은 모듈화된 부재인 본 실시형태의 터치패널 모듈을 미리 준비해 두면, 실질적으로 이 터치패널 모듈을 화상 표시 장치의 화상 표시면에 설치하는 것만의 간편한 작업에 의해 터치패널 장치를 제작할 수 있다.However, if the touch panel module of this embodiment, which is a modular member as described above, is prepared in advance, the touch panel device can be manufactured by a simple operation of installing the touch panel module substantially on the image display surface of the image display device .

본 실시형태의 터치패널 장치는, 정전용량(electrostatic capacity) 방식의 터치 패널 장치인 것이 특히 바람직하지만, 다른 방식의 터치패널 장치이어도 좋다.The touch panel device of the present embodiment is particularly preferably a touch panel device of an electrostatic capacity type, but may be a touch panel device of another type.

또, 본 실시형태의 터치패널 장치는, 스마트폰 등과 같이 화상 표시면의 대각선의 길이(화면 크기)가 수인치 정도의 작은 화면으로부터 수십 인치 정도 혹은 100인치를 넘는 큰 화면까지, 모든 화면 크기에 대해 이용할 수 있다.In addition, the touch panel device of the present embodiment can be applied to all screen sizes from a small screen of several inches to several tens of inches or a large screen of more than 100 inches, such as a smart phone, .

본 실시형태의 터치패널 장치의 용도로서는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 화면 크기가 수인치로부터 20수 인치 정도의 스마트폰, 휴대 전화, 노트북 컴퓨터, PC용 디스플레이모니터, 태블릿 단말, 매표기, ATM, 각종의 사무기기나 산업용기기의 디스플레이모니터 등에 이용할 수 있는 것은 물론, 화면 크기가 20수 인치∼백 수십 인치 정도의 가정용 혹은 업무용의 텔레비전에도 이용할 수 있고, 한층 더, 화면 크기가 20수 인치 정도 이상의 전자간판(디지털 사이니지(digital signage)), 안내 표시판, 테이블 회의 시스템이나 화이트 보드(whiteboard) 등의 화상 표시 장치를 가진 사무기기, 어뮤즈먼트(amusement) 기기 등의 보다 큰 화면의 표시가 요구되는 용도 등도 들 수 있다.The use of the touch panel device of the present embodiment is not particularly limited and may be applied to a display device such as a smart phone, a mobile phone, a notebook computer, a PC display monitor, a tablet terminal, ATMs, various kinds of office apparatuses and industrial apparatuses, as well as for use in home or business televisions having a screen size of about 20 to 100 inches, and furthermore, a screen size of 20 inches (Digital signage), an information display device, an office device having an image display device such as a table conference system or a whiteboard, and an amusement device, And the like.

그렇지만, 본 실시형태의 터치패널 장치는, 도전성 물질로서 ITO와 같은 금속 산화물을 이용한 도전층은 아니고, ITO보다 저저항(低抵抗)인 금속 재료를 이용한 도전층을 이용해 터치패널로서의 기능을 실현하고 있기 때문에, 큰 화면의 표시가 요구되는 용도에 적절하고 있다.However, the touch panel device of the present embodiment realizes a function as a touch panel by using a conductive layer that uses a metal material having a lower resistance (lower resistance) than ITO, rather than a conductive layer using a metal oxide such as ITO as a conductive material Therefore, it is suitable for applications requiring display of a large screen.

이러한 관점에서는, 본 실시형태의 투명 도전 시트, 터치패널 모듈 및 터치패널 장치의 대각선의 길이는, 8인치 이상인 것이 바람직하고, 12인치 이상인 것이 보다 바람직하고, 15인치 이상인 것이 한층 더 바람직하다.From this viewpoint, the diagonal length of the transparent conductive sheet, touch panel module, and touch panel device of the present embodiment is preferably 8 inches or more, more preferably 12 inches or more, and still more preferably 15 inches or more.

또한, 대각선의 길이의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 취급성 등의 실용상의 관점에서는, 500인치 이하가 바람직하고, 300인치 이하가 보다 바람직하다.The upper limit of the length of the diagonal line is not particularly limited, but is preferably 500 inches or less, and more preferably 300 inches or less, from the practical viewpoint of handleability and the like.

<실시예><Examples>

이하에, 본 발명을 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(( 도전층이The conductive layer 형성된 지지체의Of the formed support 제작) making)

1.One. 금속 metal 나노와이어의Nanowire 준비 Ready

도전층의 형성에 이용하는 금속 나노와이어로서는, Y.Sun, B.Gates, B.Mayers,&Y.Xia,"Crystalline silver nanowires by soft solution processing" , Nano letters, (2002), 2(2) 165∼168에 기재된 폴리올(polyol)을 이용한 방법 후, 폴리비닐피롤리돈(PVP)의 존재하에서, 에틸렌글리콜(ethylene glycol)에 황산은 (silver sulphate)을 용해하고, 이것을 환원하는 것에 의해서 합성된 은나노 와이어(silver nanowire)를 이용했다.Examples of the metal nanowires used for forming the conductive layer include those described in Y.Sun, B. Gates, B. Meyers, and Y. Xia, "Crystalline silver nanowires by soft solution processing", Nano Letters, 2002 (2) The silver nanowires synthesized by dissolving silver sulphate in ethylene glycol in the presence of polyvinylpyrrolidone (PVP) and reducing the silver sulphate in the presence of polyvinyl pyrrolidone (PVP) (silver nanowire).

즉, Cambrios Technologies Corporation 미국출원 제 60/815, 627호에 기재된 수정된 폴리올 방법에 의해서 합성된 은나노와이어를 이용했다.Namely, silver nano wires synthesized by the modified polyol process described in Cambrios Technologies Corporation U.S. Patent Application No. 60/815, 627 were used.

2.2. 도전막이Conductive film 형성된 지지체의 제작 Fabrication of the formed support

금속 나노와이어로서 상기 방법에 의해 합성된 단축직경(短軸徑)이 대략 70nm∼80nm, 애스펙트 비가 100 이상의 은나노와이어를 수성 매체 중에 0.5%w/v 함유하는 수분산체(Cambrios Technologies Corporation 회사 제조, ClearOhmTM, Ink-AAQ)를, 슬롯다이코팅기(slot die coating machine)를 사용해, 제1의 지지체(두께 188㎛. 한 면이 하드코팅 된 고투명 PET 필름 (HF1C 22-188))의 하드코팅면 상에 습도막 두께(wet film thickness) 20㎛로 도포, 건조한 후에, 압력 2000 kN/m2로 가압처리를 실시해 균일한 도전막을 형성했다. 이것에 의해, 도전막이 형성된 지지체를 얻었다.(Manufactured by Cambrios Technologies Corporation, ClearOhm 占 (manufactured by Cambrios Technologies Corporation) containing 0.5% w / v of silver nano wire synthesized by the above method as a metal nanowire having a minor axis diameter of about 70 nm to 80 nm and an aspect ratio of 100 or more , Ink-AAQ) was coated on the hard coat side of a first support (188 m thick, high-transparency PET film (HF1C 22-188) hard coated on one side) using a slot die coating machine After coating with a wet film thickness of 20 탆 and drying, a pressure treatment was performed at a pressure of 2000 kN / m 2 to form a uniform conductive film. Thus, a support on which a conductive film was formed was obtained.

3.3. 감열 접착제Thermal Adhesive 층이Layer 형성된 지지체의Of the formed support 제작 making

또, CRISVON NT-810-45(DIC 회사에서 제조한 폴리우레탄 수지, 45% 용액) 100 질량부(質量部)를 메틸에틸케톤(methyl ethyl ketone) 62.5 질량부, 톨루엔 (toluene) 62.5 질량부에 용해시킨 감열 접착제 용액을 준비했다.Further, 100 parts by mass (parts by mass) of CRISVON NT-810-45 (polyurethane resin, 45% solution manufactured by DIC Corporation) were mixed with 62.5 parts by mass of methyl ethyl ketone and 62.5 parts by mass of toluene To prepare a solution of the heat-sensitive adhesive dissolved therein.

그리고, 이 감열 접착제 용액을, 그라비어 인쇄법(gravure printing method )에 의해 표면이 이형성을 가지는 제2의 지지체(두께가 23㎛인 PET 필름(테이진 듀퐁필름회사(Teijin DuPont Flims Company)에서 제조한 테이진테트론(Teijin Tetoron)필름 G2)) 상에 패턴 인쇄를 실시하고, 도막(塗膜)을 건조시키는 것으로, 두께가 0.5㎛∼0.8㎛ 정도인 감열 접착제층을 형성했다.Then, this heat-sensitive adhesive solution was applied onto a second support having a surface-releasable surface (a PET film having a thickness of 23 占 퐉 (manufactured by Teijin DuPont Flims Company) by a gravure printing method (Teijin Tetoron Film G2)), and the coating film was dried to form a heat-sensitive adhesive layer having a thickness of about 0.5 to 0.8 mu m.

또한, 패턴 인쇄에 의해 형성되는 감열 접착제층의 패턴 형상은, 도 1에 나타내는 패턴 형상을 반전시킨 패턴 형상(네가티브 패턴(negative pattern) 형상)으로 했다.The pattern shape of the heat-sensitive adhesive layer formed by pattern printing was a pattern shape (negative pattern shape) obtained by reversing the pattern shape shown in Fig.

여기서, 네가티브 패턴 형상은, 최종적으로 형성되는 도 1에 나타내는 도전층 (20A)의 패턴 형상으로서, 정방형 모양의 도전영역(100A)의 한 변의 길이가 4 mm, X방향에서 인접하는 도전영역(100A)사이의 접속부(120)의 선폭이 350㎛인 것을 선택했다.Here, the negative pattern shape is a pattern shape of the conductive layer 20A shown in Fig. 1 finally formed, in which the length of one side of the square conductive area 100A is 4 mm and the length of the conductive area 100A ) Of the connection portion 120 was 350 mu m.

4.4. 도전층이The conductive layer 형성된 지지체의Of the formed support 제작 making

다음에, 도전막이 형성된 제1의 지지체와 네가티브 패턴 형상으로 패턴 형성된 감열 접착제층을 가지는 제2의 지지체를, 도전막과 감열 접착제층이 서로 마주 향하듯이 겹친 상태로, 라미네이타(laminater)를 구성하는 한 쌍의 마주 향해 배치된 롤(금속제의 가열롤 및 내열 실리콘롤(silicone roll)) 사이를 삽통(揷通)시키는 것으로 가열 가압해, 도전막이 형성된 지지체와 감열 접착제층을 가지는 지지체를 붙였다.Next, a first support having a conductive film formed thereon and a second support having a heat-sensitive adhesive layer patterned in a negative pattern are laminated in such a manner that the conductive film and the thermosensitive adhesive layer are opposed to each other, (A metal heating roll and a heat-resistant silicone roll) which constitute a pair of opposing rolls, and a support having a conductive film formed thereon and a support having a heat-sensitive adhesive layer .

또한, 이 때의 라미네이트(laminate) 조건은, 금속제의 가열롤의 온도가 110℃, 롤닙압력(roll nip pressure)(선압)이 30 kN/m, 한 쌍의 롤사이를 통과하는 겹쳐진 2개의 지지체의 반송속도(搬送速度)가 5 m/분이다.The laminate conditions at this time were as follows: the temperature of the heating roll made of metal was 110 占 폚, the roll nip pressure (linear pressure) was 30 kN / m, and the two superposed supports (Conveying speed) of 5 m / min.

계속해, 붙임에 의해 얻은 적층체의 온도가 실온 정도까지 내려간 시점에서, 적층체로부터 제2의 지지체를 박리하는 것으로써, 제1의 지지체 상에 도 1에 나타내는 패턴 형상의 도전막(도전층(20A))이 남은 도전층이 형성된 지지체를 얻었다.Subsequently, at the time when the temperature of the laminate obtained by attachment was lowered to room temperature, the second support was peeled off from the laminate to form a patterned conductive film (conductive layer 20A) was left on the support.

또한, 얻은 도전층이 형성된 지지체(제1의 지지체)의 도전층을 현미경에 의해 관찰했다.The conductive layer of the support (first support) having the obtained conductive layer was observed by a microscope.

그 결과, 어느 도전층이 형성된 지지체에 있어서도, 모두, 도전층은, 제2의 지지체를 박리하는 박리공정에 의해 손상을 받지 않고, 또, 감열 접착제층과 접촉하고 있던 영역의 도전막은 모두 제2의 지지체 측에 전사되고 있고, 제1의 지지체 측에는 잔존하지 않았다.As a result, in both of the supporting members on which the conductive layers were formed, the conductive layers were not damaged by the peeling step of peeling off the second supporting member, and all the conductive films in the region in contact with the heat- On the support side of the first support, and remained on the first support side.

또, 얻은 각각의 도전층이 형성된 지지체에 대해서, 박리공정에 기인하는 불량품을 정량적으로 판단하기 위해서, 저항치(抵抗値) 및 광투과율의 측정을 실시하고, 각각의 값이 평균치로부터 ±10% 이내인 도전층이 형성된 지지체만을 선별해, 후술하는 각 실시예 및 비교예의 투명 도전 시트의 제작에 이용했다.The resistance value (resistance value) and the light transmittance were measured in order to quantitatively judge defective products resulting from the peeling process for the support on which each conductive layer was formed, and the respective values were measured within ± 10% Was used for the production of the transparent conductive sheet of each of Examples and Comparative Examples described later.

(( 점착제층용의For the pressure-sensitive adhesive layer 폴리머의Of polymer 합성) synthesis)

점착제층의 제작에 이용하는 폴리머의 합성에는, 이하에 나타내는 모노머를 이용했다.The following monomers were used for the synthesis of the polymer used in the production of the pressure-sensitive adhesive layer.

<소수성 모노머(a1)>&Lt; Hydrophobic monomer (a1) &gt;

MMA:메틸메타크릴레이트 MMA: methyl methacrylate

BMA:부틸메타크릴레이트 BMA: butyl methacrylate

2 EHMA:2-에틸헥실메타크릴레이트2 EHMA: 2-ethylhexyl methacrylate

<소수성 모노머(a2)>&Lt; Hydrophobic monomer (a2) &gt;

CHA:시클로헥실아크릴레이트CHA: cyclohexyl acrylate

CHMA:시클로헥실메타크릴레이트CHMA: cyclohexyl methacrylate

<소수성 모노(b)>&Lt; Hydrophobic mono (b) &gt;

LA:라우릴아크릴레이트LA: Lauryl acrylate

SA:스테아릴아크릴레이트 SA: stearyl acrylate

IDMA:iso-데실메타크릴레이트 IDMA: iso-decyl methacrylate

LMA:라우릴메타크릴레이트 LMA: Lauryl methacrylate

SMA:스테아릴메타크릴레이트SMA: stearyl methacrylate

<그 외의 모노머><Other monomers>

BA:n-부틸아크릴레이트BA: n-butyl acrylate

2 EHA:2-에틸헥실아크릴레이트2 EHA: 2-ethylhexyl acrylate

2 HEA:2-하이드록시에틸아크릴레이트2 HEA: 2-hydroxyethyl acrylate

2 HEMA:2-하이드록시에틸메타크릴레이트2 HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

< 폴리머(A1)의The polymer (A1) 합성> Synthesis>

교반기, 환류냉각기(還流冷却器), 온도계 및 질소도입관을 구비한 반응 장치에, LA:70 질량부, 2 EHA:25 질량부 및 2 HEA:5 질량부, 아세트산에틸:100 질량부를 넣고, 질소가스를 도입하면서 70℃로 승온(昇溫)했다.70 parts by mass of LA, 25 parts by mass of 2 EHA, 5 parts by mass of 2 HEA and 100 parts by mass of ethyl acetate were placed in a reaction apparatus equipped with a stirrer, a reflux condenser (reflux condenser), a thermometer and a nitrogen- And the temperature was raised to 70 캜 while nitrogen gas was introduced.

그 다음에, 열중합 개시제AIBN(아조비스이소부티로니트릴(azobisisobutyro nitrile)) 0.1 질량부를 교반하면서 첨가하고 10시간 반응시키고, 아세트산에틸:150 중량부로 희석해, 아크릴계 공중합체(폴리머(A1))의 아세트산에틸 용액을 얻었다.Then, 0.1 part by mass of a thermal polymerization initiator AIBN (azobisisobutyronitrile) was added with stirring, and the mixture was reacted for 10 hours, and diluted with 150 parts by weight of ethyl acetate to obtain an acrylic copolymer (polymer A1) Of an ethyl acetate solution.

이 폴리머(A1)의 중량평균 분자량(Mw), 합성에 이용한 모노머의 조성, 주요한 중합 조건을 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the weight average molecular weight (Mw) of the polymer (A1), the composition of the monomer used for the synthesis, and the main polymerization conditions.

< 폴리머Polymer (A2∼A17), (B1∼B4), (C1)의 합성>(A2 to A17), (B1 to B4) and (C1)

폴리머의 합성에 이용한 모노머의 조성을 표 1에 나타낸 내용으로 변경한 이외는, 폴리머(A1)의 합성예와 같게 해 합성을 실시했다.Synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example of Polymer (A1), except that the composition of the monomer used for the synthesis of the polymer was changed to that shown in Table 1. [

이것들 폴리머의 중량평균 분자량(Mw), 합성에 이용한 모노머의 조성, 주요한 중합 조건을 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the weight average molecular weight (Mw) of these polymers, the composition of the monomers used in the synthesis, and the main polymerization conditions.

<중량평균 분자량(Mw)의 측정>&Lt; Measurement of weight average molecular weight (Mw)

또한, 표 1에 나타내는 각 폴리머의 중량평균 분자량(Mw)는, 겔 투과 크로마토 그래피(GPC)를 이용하고, 표준 폴리스티렌(polystyrene) 환산에 의한 중량평균 분자량(Mw)로서 구했다.The weight average molecular weight (Mw) of each polymer shown in Table 1 was determined as a weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene using gel permeation chromatography (GPC).

측정 조건을 이하에 나타낸다.Measurement conditions are shown below.

-측정 조건--Measuring conditions-

장치:HLC-8120(토우소주식회사(TOSOH CORPORATION) 제조)Apparatus: HLC-8120 (manufactured by TOSOH CORPORATION)

컬럼(column):G7000HXL(토우소주식회사 제조)Column: G7000HXL (manufactured by TO SOO Co., Ltd.)

GMHXL(토우소주식회사 제조)GMHXL (manufactured by Tohto Corporation)

G2500HXL(토우소주식회사 제조) G2500HXL (manufactured by TO SOO Co., Ltd.)

샘플농도:1.5mg/ml(테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)에 의해 희석) 이동상 용매(mobile phase solvent):테트라하이드로퓨란Sample concentration: 1.5 mg / ml (diluted with tetrahydrofuran) Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속:1.0 ml/min Flow rate: 1.0 ml / min

컬럼의 온도:40℃Temperature of column: 40 ° C

[표 1][Table 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(투명 도전 시트(Transparent conductive sheet of 제작) making)

< 실시예1Example 1 >

폴리머(A1)에 대해 트리메틸올프로판(trimethylolpropane) 첨가 톨루엔 디이소시아네이트(tolylene diisocyanate)계 가교제(콜로네이트(Coronate) L:일본 폴리우레탄공업주식회사(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd) 제조)를 고형분의 비(固形分比)(폴리머(A1)의 폴리머 성분 100 질량부에 대해서)로 0.3 질량부 배합해서 되는 도포액을, 제3의 지지체(두께가 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈 레이트(PET) 필름) 상에 건조 후의 두께가 50㎛가 되도록 도포해 건조시킨후, PET 세퍼레이타(separator)(두께가 25㎛인 PET 필름)를 라미네이트(laminate)해 점착제층이 형성된 지지체를 제작했다.A tolylene diisocyanate crosslinking agent (Coronate L: manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) to which trimethylolpropane was added was added to the polymer (A1) (Solid content ratio) (relative to 100 parts by mass of the polymer component of the polymer (A1)) was applied onto a third support (polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm) Dried to a thickness of 50 mu m and dried. Then, a PET separator (PET film having a thickness of 25 mu m) was laminated to prepare a support having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon.

다음에, 상기 점착제층이 형성된 지지체의 세퍼레이타를 박리해 점착제층을 노출시키고, 도전층이 형성된 지지체와 점착제층이 형성된 지지체를, 도전층이 형성된 지지체의 도전층이 형성된 면과 점착제층이 형성된 지지체의 점착제층이 형성된 면이 마주 향하듯이 붙였다.Next, a separator of the support on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed is peeled off to expose the pressure-sensitive adhesive layer, and a support on which the support having the conductive layer formed thereon and the pressure- And the surface of the formed support on which the pressure-sensitive adhesive layer was formed was adhered to face each other.

또한, 붙임은, 도전층이 형성된 지지체의 제작에 이용한 것과 같은 라미네이타(laminater)를 이용해 실시하고, 이 때의 라미네이트 조건은, 상온하에서, 롤닙압력(roll nip pressure)(선압)이 30 kN/m, 한 쌍의 롤사이를 통과하는 겹쳐진 2개의 지지체의 반송속도가 5 m/분이다.The lamination was carried out using the same laminator used for the production of the support on which the conductive layer was formed. The lamination condition at this time was a roll nip pressure (line pressure) of 30 kN / m, and the conveying speed of the two overlapped supports passing between the pair of rolls is 5 m / min.

이것에 의해, 도 1에 나타내는 패턴 형상 및 도 5에 나타내는 층 구조(제1의 기재(40A)(제3의 지지체)/점착제층(30)/도전층(20A)/제2의 기재(40B)(제1 지지체))를 가지는 투명 도전 시트를 얻었다.1 and the layer structure shown in Fig. 5 (the first base material 40A (third support) / the pressure-sensitive adhesive layer 30 / the conductive layer 20A / the second base material 40B ) (First support)) was obtained.

< 실시예Example 2∼ 2 ~ 실시예Example 17,  17, 비교예Comparative Example 1∼ 1 ~ 비교예Comparative Example 6> 6>

점착제층의 형성에 이용한 폴리머 성분을 표 2에 나타낸 내용으로 변경한 이외는, 실시예 1과 같게 해 투명 도전 시트를 얻었다.A transparent conductive sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that the polymer component used for forming the pressure-sensitive adhesive layer was changed to the contents shown in Table 2. [

(평가)(evaluation)

각 실시예 및 비교예의 투명 도전 시트의 외관을 육안으로 관찰한 결과, 비교예 5, 6을 제외한 그 외의 투명 도전 시트의 전체면이 투명했다.The appearance of the transparent conductive sheet of each of the examples and comparative examples was visually observed. As a result, all the other transparent conductive sheets except for Comparative Examples 5 and 6 were transparent.

또, 각 실시예 및 비교예의 투명 도전 시트나, 이 투명 도전 시트의 제작에 이용한 점착제층에 대해서는, 저항치 변화율, 점착제층의 투명성, 내구성 및 내습열백화성(耐濕熱白化性)에 대해 평가했다.The transparent conductive sheet of each of the examples and the comparative examples and the pressure-sensitive adhesive layer used for the production of the transparent conductive sheet were evaluated for resistance value change rate, transparency of the pressure-sensitive adhesive layer, durability and anti-wet heat whitening resistance .

이하에 상세한 것을 나타낸다.The details are given below.

<저항치 변화율의 평가>&Lt; Evaluation of rate of change of resistance value &

도전층을 구성하는 금속 재료의 마이그레이션에 기인하는 저항치의 변화를 평가하기 위해서, 각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전 시트에 대해서, 도 1 중의 Y방향의 일단측에 위치하는 1개의 도전영역열(110A)의 양단에 설치된 인출 전극부(112)를 테스터(tester)에 접속해 선저항(kΩ)을 측정했다.In order to evaluate the change in the resistance value due to the migration of the metal material constituting the conductive layer, one conductive region row (FIG. 1) was formed on one side of the transparent conductive sheet in each example and each comparative example 110A were connected to a tester to measure a line resistance (k?).

여기서, 선저항(線抵抗)은, 투명 도전 시트를 제작한 후의 초기 상태의 저항치 (Ri)와, 저항치(Ri)를 측정 끝마친 투명 도전 시트를 고온고습 환경하(온도 80℃, 습도 80%)에서 240시간 방치(放置)한 후의 저항치(Rw)와, 저항치(Ri)를 측정 끝마친 투명 도전 시트를 고온저습 환경하(온도 80℃, 습도 10%)에서 240시간 방치한 후의 저항치(Rd)에 대해서 측정했다.Here, the line resistance (line resistance) is obtained by measuring the initial resistance value Ri and the resistance value Ri of the transparent conductive sheet after the transparent conductive sheet is manufactured in a high temperature and high humidity environment (temperature 80 deg. C, humidity 80% (Resistance value Rd) after 240 hours of standing in a high temperature and humidity environment (temperature 80 占 폚, humidity 10%) of the transparent conductive sheet after measurement of the resistance value Rw and resistance value Ri .

그리고, 아래의 식(1)에 의해 투명 도전 시트를 고온고습 환경에 방치했을 경우의 저항치 변화율 RCw(%)와, 아래의 식(2)에 의해 투명 도전 시트를 고온저습 환경에 방치했을 경우의 저항치 변화율 RCd(%)를 구했다. 결과를 표 2에 나타낸다.Then, the resistance value change ratio RCw (%) when the transparent conductive sheet is left in a high-temperature and high-humidity environment by the following formula (1) And the resistance value change rate RCd (%) was obtained. The results are shown in Table 2.

·식(1) (1) RCwRCw =100×(Rw-= 100 x (Rw- RiRi )/) / RiRi

·식(2) Equation (2) RCdRCd =100×(Rd-= 100 x (Rd- RiRi )/) / RiRi

또한, 표 2에 나타내는 결과의 평가 기준은 이하와 같다.The evaluation criteria of the results shown in Table 2 are as follows.

◎:저항치 변화율 RC가 1% 이하이다.?: The resistance value change rate RC is 1% or less.

○:저항치 변화율 RC가 1%를 넘고 2% 이하이다.?: The resistance change rate RC is more than 1% and not more than 2%.

△:저항치 변화율 RC가 2%를 넘고 5% 이하이다.?: The resistance value change rate RC is more than 2% and not more than 5%.

×:저항치 변화율 RC가 5%를 넘는다.X: Resistance value change rate RC exceeds 5%.

< 점착제층의The pressure- 투명성의 평가> Evaluation of transparency>

점착제층에 기인하는 투명 도전 시트의 투명성을 평가하기 위해서, 각 실시예 및 비교예의 점착제층 형성용의 도포액을 이용하고, 두께가 1mm인 유리기판의 한 면에 건조 후의 두께가 100㎛인 점착제층을 형성한 평가용 샘플을 준비했다.In order to evaluate the transparency of the transparent conductive sheet due to the pressure-sensitive adhesive layer, a coating liquid for forming the pressure-sensitive adhesive layer in each of the examples and the comparative examples was used, and on one surface of a glass substrate having a thickness of 1 mm, An evaluation sample having a layer formed thereon was prepared.

투명성은, 헤이즈 메타(haze meter)(HM-150형 주식회사 무라카미색채 연구소(MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY) 제조)을 이용하고, JIS K 7361에 준해 헤이즈(%)를 측정하는 것으로써 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.The transparency was evaluated by measuring the haze (%) in accordance with JIS K 7361 using a haze meter (manufactured by MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY, HM-150 type). The results are shown in Table 2.

또한, 표 2에 나타내는 결과의 평가 기준은 이하와 같다.The evaluation criteria of the results shown in Table 2 are as follows.

헤이즈가 1.0 이하:양호Haze less than 1.0: Good

헤이즈가 1.0을 넘고 1.5 미만:약간 불량 Haze greater than 1.0 and less than 1.5: slightly poor

헤이즈가 1.5이상:불량Haze greater than 1.5: bad

<내구성의 평가>&Lt; Evaluation of durability &

각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전 시트의 제작에 이용한 점착제층이 형성된 지지체를 50mm×60mm로 절단한 시험편(試驗片)의 PET 세퍼레이타(separator)를 박리하고, 노출한 점착면을, 이소프로필알콜(isopropyl alcohol)로 표면을 닦은 유리기판의 표면에 붙인 평가 샘플을 제작했다.A PET separator of a test piece (test piece) cut into a size of 50 mm x 60 mm was peeled off from the support on which the pressure-sensitive adhesive layer used in the production of the transparent conductive sheet of each example and each comparative example was cut, An evaluation sample adhered to the surface of a glass substrate whose surface was polished with isopropyl alcohol was prepared.

다음에, 이 평가 샘플에 대해, 온도 50℃, 압력 5atm에서 20분간 오토클레이브(autoclave) 처리를 실시했다.Next, the evaluation sample was autoclaved at a temperature of 50 DEG C and a pressure of 5 atm for 20 minutes.

그 다음에, 오토클레이브 처리 후의 평가 샘플을 1시간 실온에서 정치(靜置) 한 후, 온도 85℃, 습도 85% 환경하에 500시간 두고, 그 후, 온도 23℃, 습도 65%환경하에 1시간 정치하고, 이것을 육안으로 관찰했다.Thereafter, the evaluation sample after the autoclave treatment was allowed to stand at room temperature for 1 hour, then left at a temperature of 85 占 폚 and a humidity of 85% for 500 hours, then at a temperature of 23 占 폚 and a humidity of 65% We watched this with the naked eye.

또한, 표 2에 나타내는 결과의 평가 기준은 이하와 같다.The evaluation criteria of the results shown in Table 2 are as follows.

○:시험 후에 발포(發泡)나 뜸, 박리의 발생이 없다.?: No bubbling, moxibustion, or peeling occurred after the test.

×:시험 후에 발포나 뜸, 박리의 발생이 있다.X: There are foaming, moxibustion and peeling after the test.

< 내습열백화성의Wet heat whitening 평가> Evaluation>

각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전 시트의 제작에 이용한 점착제층이 형성된 지지체를 50mm×60mm로 절단한 시험편의 PET세퍼레이타를 박리하고, 노출한 점착면을, 이소프로필알콜로 표면을 닦은 유리기판의 표면에 붙인 평가 샘플을 제작했다.The PET separator of the test piece cut into a size of 50 mm x 60 mm was peeled off from the support on which the pressure-sensitive adhesive layer used in the production of the transparent conductive sheet of each example and each comparative example was formed and the exposed adhesive surface was cleaned with isopropyl alcohol An evaluation sample adhered to the surface of the substrate was produced.

다음에, 이 평가 샘플에 대해, 온도 50℃, 압력 5atm에서 20분간 오토클레이브 처리를 실시했다.Next, the evaluation sample was autoclaved at a temperature of 50 DEG C and a pressure of 5 atm for 20 minutes.

그 다음에, 오토클레이브 처리 후의 평가 샘플을 1시간 실온에서 정치 한 후, 온도 85℃, 습도 85% 환경하에 500시간 두고, 그 후, 온도 23℃, 습도 65% 환경하에 1시간 정치했다.Thereafter, the evaluation sample after the autoclave treatment was allowed to stand at room temperature for 1 hour, then left under the environment of 85 占 폚 and 85% humidity for 500 hours, and then left to stand at 23 占 폚 and 65% humidity for 1 hour.

그리고, 이들 일련의 습열시험 전후에 있어서의 평가 샘플의 헤이즈치를, 헤이즈 메타 HM-150(주식회사 무라카미색채연구소(MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY) 제조)를 이용해 JIS K 7361에 준거해 측정했다.The haze value of the evaluation sample before and after the series of these tests was measured in accordance with JIS K 7361 using a haze meter HM-150 (manufactured by MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORIES CO., LTD.).

이것에 의해 점착제층의 백화를 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.Thus, whitening of the pressure-sensitive adhesive layer was evaluated. The results are shown in Table 2.

또한, 표 2에 나타내는 결과의 평가 기준은 이하와 같다.The evaluation criteria of the results shown in Table 2 are as follows.

○:습열시험 전후의 헤이즈치의 차이가 3.0 이하이다.?: Difference in haze value before and after the humid heat test is 3.0 or less.

△:습열전후의 헤이즈치의 차이가 3.0을 넘고 5.0 이하이다.?: Difference in haze value before and after wet heat is 3.0 or more and 5.0 or less.

×:습열전후의 헤이즈치의 차이가 5.0을 넘는다.X: Difference in haze value before and after moist heat exceeds 5.0.

[표 2][Table 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

10, 10A, 10B, 10C, 10D, 10E, 10F:투명 도전 시트
20, 20A, 20B, 20C, 20D:도전층
30, 30A, 30B:점착제층
40, 40A, 40B, 40C:기재
100, 100A, 100B:도전영역
102:배선
110, 110A, 110B:도전영역열
112:인출 전극부
120:접속부
130:비도전영역
200:터치패널 장치
210:화상 표시 장치
212:화상 표시면
220, 230:고정용 점착층
240:투명보호층
300:터치패널 모듈
10, 10A, 10B, 10C, 10D, 10E, 10F: transparent conductive sheet
20, 20A, 20B, 20C and 20D: conductive layers
30, 30A, 30B: pressure-sensitive adhesive layer
40, 40A, 40B, 40C: substrate
100, 100A, 100B: conductive region
102: Wiring
110, 110A, and 110B: conductive region columns
112: lead electrode portion
120:
130: non-conductive region
200: touch panel device
210: Image display device
212: image display surface
220 and 230: fixing adhesive layer
240: transparent protective layer
300: Touch panel module

Claims (3)

도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층(導電層); 및
상기 도전층에 당접(當接)하고, 또한 1종류 이상의 폴리머를 포함한 점착제층(粘着劑層)을 적어도 구비하고,
상기 1종류 이상의 폴리머 중의 적어도 1종의 폴리머가 아크릴계 공중합체이며, 상기 아크릴계 공중합체는, 중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며,
상기 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 상기 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 상기 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며,
상기 점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치(haze value)가 1.0 이하인,
투명 도전 시트.
A conductive layer (conductive layer) using a metal material as the conductive material; And
And a pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer) containing one or more kinds of polymers that are in contact with the conductive layer,
Wherein at least one polymer of the one or more kinds of polymers is an acrylic copolymer, and the acrylic copolymer has a weight average molecular weight (Mw) of more than 100,000 and not more than 2,000,000, and a copolymerizable monomer component (Meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, alkyl (meth) acrylates having a branched alkyl group Hydrophobic monomers of more than one species,
The total amount of the hydrophobic monomer in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer,
Wherein a haze value when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 mu m is 1.0 or less,
Transparent conductive sheet.
도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층; 및
상기 도전층에 당접하는 점착제층을 적어도 포함하고,
상기 점착제층은 아크릴계 공중합체를 포함하고,
상기 아크릴계 공중합체는,
중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며,
상기 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 상기 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 상기 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며,
상기 점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치가 1.0 이하인,
터치패널 모듈.
A conductive layer using a metal material as the conductive material; And
And a pressure-sensitive adhesive layer in contact with the conductive layer,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic copolymer,
In the acrylic copolymer,
An alkyl methacrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms as the copolymerizable monomer component, an alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms (Meth) acrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the hydrophobic monomer is at least one selected from the group consisting of
The total amount of the hydrophobic monomer in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer,
And a haze value when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 mu m is 1.0 or less,
Touch panel module.
화상 표시 장치와
상기 화상 표시 장치의 화상 표시면 측에 설치되고, 도전성 물질로서 금속 재료를 이용한 도전층 및 상기 도전층에 당접하는 점착제층을 적어도 포함하고,
상기 점착제층은 아크릴계 공중합체를 포함하고,
상기 아크릴계 공중합체는,
중량평균 분자량(Mw)가 10만을 넘고 200만 이하이며, 공중합 모노머 성분으로서, 탄소수 1∼9의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 가지는 알킬메타크릴레이트, 탄소수 5∼9의 환상 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트 및 탄소수 10∼20의 알킬기를 가지는 알킬(메타)아크릴레이트로부터 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소수성 모노머를 포함하며,
상기 아크릴계 공중합체의 공중합 모노머 성분에 있어서의 상기 소수성 모노머의 합계의 배합 비율이, 상기 아크릴계 공중합체의 총질량에 대해서 35 wt% 이상이며,
상기 점착제층의 두께를 100㎛로 했을 때의 헤이즈치가 1.0 이하인,
터치패널 장치.
The image display device
A conductive layer provided on the image display surface side of the image display device and using a metal material as a conductive material and a pressure-sensitive adhesive layer in contact with the conductive layer,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic copolymer,
In the acrylic copolymer,
An alkyl methacrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms as the copolymerizable monomer component, an alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group having 5 to 9 carbon atoms (Meth) acrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the hydrophobic monomer is at least one selected from the group consisting of
The total amount of the hydrophobic monomer in the copolymerized monomer component of the acrylic copolymer is 35 wt% or more based on the total mass of the acrylic copolymer,
And a haze value when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 mu m is 1.0 or less,
Touch panel device.
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