KR20170118753A - 가스 처리 장치 - Google Patents

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앤드류 아서 챔버스
존 레슬리 비더
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Abstract

공지의 습식 전기 집진기는 크고 비효율적이다. 본 발명은, 제 1 세정 흐름을 통과시켜서 집진기 챔버 안으로 향하게 하되 입자가 물 커튼 안으로 밀어 넣어질 수 있도록 집진기 챔버를 통과하는 처리할 가스의 흐름 방향에 대해 수직으로 향하게 하는 중앙 구멍을 내부 전극에 추가함으로써, 더 작고 더 효율적이며 수명이 긴 습식 전기 집진기의 제작을 가능하게 한다. 내부 전극에서 임의의 증착 입자가 세정될 수 있도록 물 커튼을 교란시키기 위해 더 큰 제 2 정화 세정 흐름도 또한 제공된다.

Description

가스 처리 장치
본 발명은 가스 처리 장치에 관한 것으로, SiO2와 같은 고체 입자를 함유하는 가스 및 HCl과 같은 산성 가스를 처리하는 데 있어서의 특별한 용도를 발견했다. 더 구체적으로는, 본 발명은 개선된 전기 집진기(electrostatic precipitator)에 관한 것이다.
가스 스트림(gas stream)으로부터의 고체 입자 제거는, 예를 들어, 실리콘 반도체 응용 및 화합물 반도체 응용 모두를 위한 고속 반도체 디바이스에 점점 더 많이 사용되고 있는 에피택셜 증착 공정(epitaxial deposition process)에서 필요하다. 에피택셜 층은 면밀하게 성장시킨 단결정 실리콘 피막이다. 에피택셜 증착은 실리콘 소스 가스(전구체)를, 전형적으로는 트리클로로 실란 또는 디클로로실란과 같은 클로로실란 화합물들 중 하나 또는 실란을, 전형적으로 약 800℃ 내지 1100℃인 고온의 수소 분위기에서 진공 조건 하에서 사용한다. 에피택셜 증착 공정에서는 대개의 경우는 제조되는 디바이스에 대응해서 필요에 따라 소량의 붕소, 인, 비소, 게르마늄, 또는 탄소로 도핑한다. 공정 챔버에 공급되는 에칭 가스는 HCl, HBr, BCl3, Cl2, Br2, 및 이들의 조합물과 같은 할로 화합물(halocompound)을 포함할 수 있다. 염화수소(HCl) 또는 SF6 또는 NF3와 같은 다른 할로 화합물이 공정 작업 사이에 챔버를 세정하는 데 사용될 수 있다.
그와 같은 공정에서, 공정 챔버에 공급된 가스 중 단지 적은 비율만 챔버 내에서 소비되고, 그래서 챔버로 공급된 가스 중 많은 부분이, 챔버 내에서 발생하는 공정에서 생기는 고상 및 기상 부산물과 함께, 챔버에서 배출된다.
폐기물 스트림은 대기로 배출되기 전에 그로부터 선정된 가스 및 고체 입자를 제거하기 위해 처리된다. HF 및 HCl과 같은 산성 가스는, 일반적으로, 세정기를 통해 흐르는 세정액에 의해 산성 가스가 용액 안으로 취입되게 되는 패킹된 타워형 세정기를 사용하여 가스 스트림으로부터 제거한다. 실란은 자연 발화성이므로, 폐기물 스트림이 세정기를 통해 운반되기 전에, 실란을 포함하는 폐기물 스트림을 열 소각로를 통해 운반되게 해서, 폐기물 스트림 내에 존재하는 실란 또는 그 밖의 다른 자연 발화성 기체가 공기와 같은 산화제와 반응하도록 하는 것이 일반적 관행이다. NF3와 같은 임의의 퍼플루오로 화합물도 또한 소각로 내에서 HF로 전환될 수 있다.
실란이 연소될 때 많은 양의 실리카(SiO2) 입자가 발생된다. 이들 입자의 많은 부분은 패킹된 타워형 세정기 내의 세정액에 의해 현탁액 안으로 취입될 수 있지만, 세정액에 의한 비교적 작은 입자(예를 들어, 1미크론 미만의 크기를 갖는 입자)의 포집은 비교적 불량한 것으로 관찰되었다. 이러한 관점에서, 폐기물 스트림에서 이러한 작은 입자를 제거하기 위해 세정기로부터 하류에 전기 집진기를 제공하는 것이 알려져 있다.
도 7은 가스 스트림으로부터 고형 입자를 제거하기 위한 공지된 습식 전기 집진기(100)를 도시하고 있다. 상기 전기 집진기는, 중심에 위치된 내부 전극(104) 및 내부 전극을 동심으로 둘러싸는 외부 전극(106)을 갖는 정전기 챔버(102) - 여기서 외부 전극은 상기 챔버(102)의 전기 도전성 벽에 의해 제공될 수 있음 - 를 포함한다. 상기 정전기 챔버(102)는 또한 외부 전극(106)의 내면 둘레에서 하향으로 흐르는 물 "커튼"(112)이 생성되도록 물의 흐름(110)이 공급되는 물 유입구(108)도 구비한다. 처리할 가스 스트림(114)은 유입구(116)를 통해 정전기 챔버 안으로 운반되고, 처리된 가스 스트림(118)은 챔버로부터 운반된다.
사용 중에, 정전기 챔버(102)의 내부 전극과 외부 전극 사이에 정전기로 대전된 전계 또는 코로나가 생성되도록 내부 전극(104)에 높은 전압이 인가된다. 가스가 코로나를 통과할 때, 가스에 함유된 입자들이 전기적으로 대전되어 외부 전극(106) 쪽으로 끌어당겨지고, 거기서 입자들은 물 커튼(112) 안으로 들어가서 가스 스트림으로부터 제거된다.
본 발명은 개선된 습식 전기 집진기를 제공하려는 것이다.
본 발명은 가스 스트림을 처리하기 위한 습식 전기 집진기를 제공하는 바, 이 습식 전기 집진기는, 유입구 및 배출구를 구비하는 정전기 챔버로서, 유입구를 통해 처리할 가스 스트림이 챔버 안으로 운반되고, 배출구를 통해 처리된 가스 스트림이 챔버로부터 운반되는, 상기 정전기 챔버; 내부 전극 및 외부 전극으로서, 내부 전극과 외부 전극 사이에 높은 전위가 인가될 때 정전기 대전 전계가 그들 사이에 생성되도록 배치되는, 상기 내부 전극 및 외부 전극; 및 외부 전극의 내면에 걸쳐 액체 커튼을 제공하기 위해 챔버 내로 액체를 운반하기 위한 액체 유입구로서, 가스 스트림 내의 입자들이 전계를 통과할 때 전기적으로 대전되어 외부 전극 쪽으로 끌어당겨지고, 거기서 액체 커튼에 의해 비말 동반되어 가스 스트림으로부터 제거되게 하는, 상기 액체 유입구를 포함하고, 내부 전극은 세정 가스를 운반할 수 있는 도관을 포함하고, 내부 전극은, 세정 가스를 도관으로부터 챔버 안으로, 챔버를 통과하는 가스 스트림의 유동에 대해 대체로 측방향으로 운반하도록 배치된 챔버 유입구 쪽을 향해 위치된 적어도 하나의 개구를 더 포함한다.
본 발명에 의하면, 습식 전기 집진 장치에 요구되는 보수 기간을 더 짧게 한 상태에서도 개선된 수준의 가스 스트림 처리가 달성된다.
나머지 발명들은 아래에 기술되는 것 및 청구범위에 정의되는 것과 같다.
본 발명을 잘 이해할 수 있도록, 이제부터는 단지 예시로서 제시되는 본 발명의 일부 실시예들을 첨부 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 습식 전기 집진기를 개략적으로 도시하는 도면,
도 2는 본 발명에 따른 집진기의 확대 단면도,
도 3은 본 발명에 따른 집진기 및 플라즈마 버너를 포함하는 저감 시스템을 도시하는 도면,
도 4 내지 도 6은 본 발명에 따른 또 다른 습식 전기 집진기를 도시하는 도면,
도 7은 공지의(종래 기술의) 습식 전기 집진기를 도시하는 도면.
도 1을 참조하면, 가스 스트림(12)을 처리하기 위한 습식 전기 집진기(10)가 도시되어 있다. 상기 집진기는 처리할 가스 스트림을 챔버 안으로 운반되게 통과시키는 유입구(16) 및 처리된 가스 스트림(20)을 챔버로부터 운반되게 통과시키는 배출구(18)를 구비한 정전기 챔버(14)를 포함한다. 본 실시예에서의 처리는 가스 스트림에서 입자를 제거하는 것을 포함한다. 내부 전극(22)과 외부 전극(24)은 내부 전극에 높은 전위가 인가된 때에 내부 전극과 외부 전극 사이에 정전계가 생성되도록 배치된다. 높은 전위는 거의 1kV일 수 있지만, 가스 스트림 및 입자의 특성, 특히 입자의 크기에 따라서는, 다른 전기 전위도 적합할 수 있다. 외부 전극은 정전기 챔버(14)의 대체로 원통형인 내면을 제공한다. 내부 전극도 대체로 원통형인 중공형인데, 아래에서 더 상세히 설명된다. 돌출부들(26)이 중공 원통체로부터 대체로 측방향으로 연장된다. 전하가 상기 돌출부들의 말단 주위에 집중하므로, 돌출부들은 전극에 공급되는 주어진 전위에 대해 국부화된 정전계를 증가시킨다. 내부 전극과 외부 전극은 전기 도전성 재료, 전형적으로는 금속 또는 금속 합금으로 제조된다. 외부 전극이 도전성 링과 접촉하는 액체 막을 포함하는 것도 또한 가능하고, 여기서 상기 액체 막은 비도전성 튜브 아래로 흘러내리며 내부 전극 둘레에 외부 전극을 제공한다.
액체 유입구(28)는 외부 전극(24)의 내면에 걸쳐 액체 커튼(curtain) 또는 둑(weir)(32)을 제공하기 위해 액체, 전형적으로는 물(30)을 챔버(14) 안으로 운반한다. 가스 스트림 내의 입자들은 정전계를 통과할 때 전기적으로 대전되어 외부 전극 쪽으로 끌어당겨지고, 거기서 그 입자들은 액체 커튼에 의해 비말 동반되어 가스 스트림으로부터 제거된다.
전술한 바와 같이, 내부 전극은 중공이며, 금속 파이프로 형성될 수 있다. 상기 금속 파이프는 덕트(duct) 또는 도관(conduit)(34)을 형성하는데, 세정 가스(36)가 유입구(38)를 통과한 후 상기 도관을 따라 운반될 수 있다. 세정 가스는 예를 들어 질소 또는 청정한 건조 공기일 수 있다. 도시된 구성에서, 파이프의 반대 측 단부는 폐쇄된다. 챔버(14)는 가스 스트림(12)의 주 유동 경로로부터 대체로 측방향으로 연장되는 측면 통로(40)를 포함한다. 측면 통로는 상기 주 유동 경로로부터 원위에 있는 그의 단부에 개구(42)를 구비한다. 내부 전극(22)은 상기 개구를 관통해서 상기 측면 통로를 따라 연장되고 대체로 직각으로 꺾여서 챔버(14)의 주요부를 따라 연장된다. 측면 통로(40)는 일반적으로 건조 상태로 유지되므로, 사용 시에 높은 전위에 있게 되더라도 습한 환경에서의 전기적 파손 및 표면 방전을 피할 수 있다. 측면 통로(40)는 또한 비교적 적은 유량의 세정 가스를 측면 통로로 운반하기 위한 세정 가스용 유입구(46)를 형성하는 제 2 개구(44)를 포함한다. 상기 적은 유량은 측면 통로 접촉부를 청정하고 건조하게 유지시킴으로써, 기생면 방전(parasitic surface discharge) 가능성을 추가로 줄인다.
장치의 확대 단면도인 도 2에 더 상세히 도시된 바와 같이, 내부 전극(22)의 덕트(34)는, 세정 가스(36)를 덕트로부터 챔버(14) 안으로 운반하되, 가스 스트림을 외부 전극 쪽으로 향하게 하기 위해 챔버를 관통하는 가스 스트림의 흐름에 대해 대체로 측방향으로 운반하도록 배치된 적어도 하나의 개구(48)를 포함한다. 도시된 실시예에서는, 2개의 개구(48)가 도시되어 있으며, 세정 가스를 덕트로부터 도면의 평면 안팎의 방향으로 운반할 수 있도록 추가적인 개구가 마련될 수 있다. 개구들(48)을 통한 세정 가스의 흐름은 처리할 가스 스트림(12)을 분열시켜서, 상기 가스 스트림의 외부 전극을 향한 흐름을 발생시킨다. 상기 흐름의 분열은 처리할 가스 스트림 내의 입자들과 정전계 사이의 상호 작용을 더 크게 해줌으로써, 물 둑(32)에 비말 동반되는 입자들의 양을 증가시킨다. 또한, 세정 가스는 처리할 가스 스트림 안의 입자들을 비말 동반을 위한 물 둑 쪽으로 보낸다.
이 실시예에서, 개구는 파이프 내의 구멍이고, 파이프 내의 세정 가스의 압력에 의해 세정 가스가 개구로부터 연장되는 2개의 화살표로 도시된 것과 같은 가스 스트림의 주 흐름에 대해 약 90°의 각도로 개구를 통해 빠져나가게 된다. 개구는 파이프 또는 다른 배열체에 천공함으로써 형성될 수 있거나, 혹은 파이프의 파단부에 의해 형성될 수 있다.
세정 가스를 정전기 챔버 안으로 대체로 측방향으로 추가적으로 흐르게 하는 가스-동적 WESP를 제공하게 되면, 가스 스트림으로부터 제거될 수 있는 입자의 양이 증가하게 되고, 그에 따라 장치 효율이 증가하게 된다. 효율 증가는 장치의 크기를 감소시킬 수 있게 한다. 예를 들면, 정전기 챔버는 직경이 거의 100mm이고 길이가 900mm일 수 있다. WESP는 전형적으로는 플라즈마 버너와 같은 기타 저감 장치와 함께 사용되지만, 공지된 WESP는 효율이 낮기 때문에, 다수의 기타 저감 장치와 결합된 하나의 비효율적인 대형 WESP를 일반적으로 보게 된다. 현재의 가스-동적 WESP는 도 3에 도시된 바와 같이 하나의 WESP로 하여금 하나의 소형 설계로 되어 있는 하나의 플라즈마 버너와 결합될 수 있게 하고, 따라서 복수의 플라즈마 토치의 각 플라즈마 토치가 각각 개별적으로 매우 효율적인 본 발명에 따른 습식 전기 집진기와 각각 결합될 수 있다.
도 3을 참조하면, 플라즈마 버너(52) 및 전술한 가스-동적 습식 전기 집진기(10)를 포함하는 저감 장치(50)가 도시되어 있다.
버너(52)는 플라즈마 플레어(plasma flare)(56)를 발생시키는 플라즈마 발생기 또는 토치(54)를 포함한다. 유입구(58)는 가스 스트림(60)을 토치의 하류에 위치된 반응 챔버(62)에서 플레어와 열 및/또는 화학 반응하도록 버너 안으로 운반한다. 상기 반응 챔버는 대체로 원통형이며, 당해 반응 챔버의 내면에 증착물이 축적되는 것을 방지하기 위해 물 둑(도시되지 않음)을 구비할 수 있다.
가스 스트림을 높은 플라즈마 온도에 노출된 후에 냉각시키기 위해 플라즈마 플레어의 하류의 반응 챔버(62) 안으로 물 또는 기타 액체를 분무하기 위한 하나 이상의 분무 노즐(64)이 제공될 수 있다.
플라즈마 버너의 배출구(66)는 버너 및 WESP 내의 가스 스트림의 유동 경로에 대해 대체로 직각으로 연장되는 도관 또는 덕트(68)에 의해 WESP의 유입구(16)에 연결된다. 상기 덕트(68)는 또한, 반응 챔버(62) 안으로 분무되는 액체 및 한쪽 또는 양쪽의 물 둑으로부터 나오는 액체를, 재순환 또는 처분하기 전에, 적어도 일시적으로 저장하기 위한 액체 용기를 형성하기도 한다. 이와 관련하여, 플라즈마 버너는 가스 스트림이 버너를 통해서 대체로 하향으로 흐르도록 배향되고, 집진기는 가스 스트림이 그 집진기를 통해 대체로 상향으로 흐르도록 배향된다. 이러한 배향은 액체를 도관(68) 안에 모을 수 있게 한다.
또 다른 습식 전기 집진기(70)가 도 4 내지 도 6에 도시되어 있고, 이는 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 집진기(10)에 추가적인 개선을 제공한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 가스 스트림 내의 고체 증착물(72)이 개구 영역에 축적될 수 있다. 대부분의 증착물은 정상적인 사용 상태에서는 액체 둑 쪽으로 끌어당겨지지만, 일부 증착물은 내부 전극(22)에 축적되는 것으로 밝혀졌다. 이러한 축적은 공지의 WESP에서도 통상적으로 일어나지만, 현재의 가스-동적 WESP는 필요하다면 공지의 WESP에 비해 비교적 작게 할 수 있으므로, 축적이 상당한 정도까지 쌓이도록 놔두게 된다면, 정전기 챔버(14)를 완전하게는 아니라 할지라도 적어도 부분적으로 막히게 하여 가스 처리의 효율 손실 또는 종료를 초래하게 된다. 더 큰 WESP에서는, 정전기 챔버가 막히지 않고 효율 손실이 그다지 중요하지 않기 때문에 증착물의 축적이 허용된다. 처리 후에 장치가 오프라인일 때, 공지의 WESP에서는, 축적물을 수동 작업으로 세정한다. 그러나 본 실시예에서는 WESP를 사용 중에 주기적으로 세정하는 것이 바람직하다.
집진기(70)는 내부 전극(22)의 덕트(34)를 관통하는 세정 가스(36)의 흐름을 제어하도록 구성된 제어부(74)를 포함한다. 이러한 구성에 있어서, 세정 가스(76) 공급원은 가스를 가압 하에 수용하며, 유량 제어 밸브(78)는 덕트를 관통하는 세정 가스의 유량을 제어하기 위한 제어부에 의해 작동될 수 있다. 이 구성은 세정 가스의 흐름을 제어하는 또 다른 대안적인 수단을 포함할 수 있다. 집진기의 정상 상태에서, 분 당 50 내지 150 표준 리터로 흐르는 처리할 가스 스트림을 내경이 38㎜인 외부 전극 쪽으로 보내거나 압송하고 그리고/또는 그 가스 스트림을 분열시키기 위해, 세정 가스가 외경 6mm인 내부 전극의 덕트와 개구들을 통해서 예를 들어 분당 0.1 내지 1 표준 리터의 제 1 유량으로 운반된다. 제 2 세정 상태에서는, 개구들의 영역에 축적된 증착물을 제거하기 위해, 세정 가스가 더 많은 유량으로, 예를 들어 분당 10 내지 20 표준 리터로, 덕트를 통해 운반된다. 도 5는 세정 가스의 제트(80)를 생성하는 비교적 높은 제 2 유량으로 개구들을 빠져나가는 세정 가스를 도시하고 있다. 세정 가스 제트는 증착물의 적어도 일부가 가스 스트림(12)에 의해 하류에서 제거되어 일소되게 한다. 바람직하게는, 상기 제 2 유량은, 세정 가스 제트가 도 6에 도시된 바와 같이 난류 액체(82)를 일으킬 수 있게 액체 커튼을 교란시키되, 내부 전극으로부터 더 많은 증착물이 제거될 수 있게 액체가 축적 증착물에 대해 가압될 수 있도록 교란시키기에 충분하다. 상기 제 2 유량은 증착물이 실질적으로 모두 제거될 때까지 유지되거나 반복적으로 맥동한다.
제 2 세정 작동 중에, 세정 가스를 측면 통로(40)로 운반하는 세정 가스용 유입구(46)를 관통하는 유동을 증가시켜서 액체가 측면 통로(40)로 들어가는 것을 방지하여, 측면 통로 내의 도전성 물 경로를 통한 정전계 전위의 손실 가능성 및 기생면 방전 가능성을 줄인다. 2개의 전극을 가로지르는 전위가 제 2 세정 동작 중에 꺼지는 것도 바람직하다.
도 4에 도시된 바와 같이, 증착물의 축적을 감지하기 위한 센서(84)에 제어부가 작동 가능하게 연결되는데, 이 제어부는 축적이 사전결정된 크기를 초과한 때에 세정 상태를 활성화시키도록 구성된다. 상기 센서는 마이크로웨이브 센서 또는 광센서일 수 있다. 대안적으로, 가스 스트림의 유량을 감지해서 증착물에 의한 부분적인 막힘으로 인해 감소되었는지를 결정할 수 있다. 세정을 촉발하는 축적의 크기는 시험에 의해 결정될 수 있다.
증착물이 중앙 전극에 쌓임에 따라, 내부 전극과 외부 전극 사이의 전압 전위(예를 들어 2.35mA의 고정 전류에 대한 전압 전위)가 감소하여 집진기의 효율 저하로 이어진다는 것도 또한 관찰되었다. 전극들을 가로지르는 이러한 전위 전압을 모니터함으로써, WESP 효율을 모니터할 수 있고, 세정을 정전기 전위의 강하에 응답하여 촉발되게 할 수 있다. 이는 제 2 세정 동작을 필요할 때에만 발생하게 할 수 있으며, 세정 작용 중에 발생하는 WESP 효율의 일시적인 손실을 최소화한다. 세정 동작을 줄임으로써, 집진기의 효율을 유지하는 데 필요한 분열을 최소화할 수 있다.
대안적으로, 제어부는 주어진 가스 스트림 및 가스 스트림 유량에 대한 사전결정된 축적 속도에 따라 선택되는 예컨대 30초 내지 360초의 주기적인 간격으로 제 2 세정 상태를 활성화시키도록 구성될 수 있다. 세정 가스 뿜어내기는 예를 들어 5초의 기간 동안 유지될 수 있다.

Claims (16)

  1. 가스 스트림을 처리하기 위한 습식 전기 집진기에 있어서,
    유입구 및 배출구를 구비하는 정전기 챔버로서, 상기 유입구를 통해 처리할 가스 스트림이 상기 챔버 안으로 운반되고, 상기 배출구를 통해 처리된 가스 스트림이 상기 챔버로부터 운반되는, 상기 정전기 챔버;
    내부 전극 및 외부 전극으로서, 상기 내부 전극과 외부 전극 사이에 높은 전위가 인가될 때 정전기 대전 전계가 그들 사이에 생성되도록 배치되는, 상기 내부 전극 및 외부 전극; 및
    상기 외부 전극의 내면에 걸쳐 액체 커튼을 제공하기 위해 상기 챔버 내로 액체를 운반하기 위한 액체 유입구로서, 상기 가스 스트림 내의 입자들이 상기 전계를 통과할 때 전기적으로 대전되어 상기 외부 전극 쪽으로 끌어당겨지고, 거기서 액체 커튼에 의해 비말 동반되어 가스 스트림으로부터 제거되게 하는, 상기 액체 유입구를 포함하고,
    상기 내부 전극은 세정 가스를 운반할 수 있는 도관을 포함하고, 또한 상기 내부 전극은, 세정 가스를 상기 도관으로부터 상기 챔버 안으로, 상기 챔버를 통과하는 상기 가스 스트림의 유동에 대해 대체로 측방향으로 운반하도록 배치되고, 상기 챔버 유입구 쪽을 향해 위치된 적어도 하나의 개구를 더 포함하는
    습식 전기 집진기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 개구는 가스 스트림을 외부 전극 쪽으로 향하게 하도록 그리고/또는 가스 스트림을 분열시키도록 배치되는
    습식 전기 집진기.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 내부 전극은 세정 가스를 대체로 대향하는 측방향에서 상기 챔버 안으로 운반하기 위한 적어도 2개의 개구를 포함하는
    습식 전기 집진기.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버는 상기 적어도 하나의 개구로부터 원위에 있는 내부 전극의 단부를 위치시키기 위한 측면 통로를 포함하는
    습식 전기 집진기.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 측면 통로는 상기 내부 전극의 단부를 세정하기 위해 세정 가스를 상기 측면 통로 안으로 운반하기 위한 유입구를 포함하는
    습식 전기 집진기.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 내부 전극의 도관을 통과하는 세정 가스의 흐름을 제어하여, 상기 집진기의 제 1 상태에서는 가스 스트림을 외부 전극 쪽으로 향하게 하고 그리고/또는 가스 스트림을 분열시키기 위해 제 1 유량으로 세정 가스가 상기 도관을 통해 운반되게 하고, 제 2 세정 상태에서는 상기 내부 전극의 적어도 하나의 개구의 영역에 축적된 증착물을 제거하기 위해 보다 높은 제 2 유량으로 세정 가스가 상기 도관을 통해 운반되게 하도록 구성되는 제어부를 포함하는
    습식 전기 집진기.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 유량은 축적된 증착물을 제거하기 위해 상기 축적된 증착물에 대해 액체가 가압될 수 있도록 상기 액체 커튼을 교란시키기에 충분한
    습식 전기 집진기.
  8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
    상기 제어부는 증착물의 축적을 감지하기 위한 센서에 작동 가능하게 연결되며, 상기 제어부는 축적이 사전결정된 양을 초과했을 때에 상기 제 2 세정 상태를 활성화시키도록 구성되는
    습식 전기 집진기.
  9. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
    상기 제어부는 사전결정된 축적 속도에 따라 선택되는 주기적 간격으로 상기 제 2 세정 상태를 활성화시키도록 구성되는
    습식 전기 집진기.
  10. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
    상기 제어부는, 전극들 사이의 전압 전위의 변화, 챔버를 통과하는 가스의 유동 변화, 및 전극의 육안 검사 중 적어도 하나에 응답하여, 상기 제 2 세정 상태를 활성화시키도록 구성되는
    습식 전기 집진기.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 습식 전기 집진기를 포함하는 저감 시스템에 있어서,
    상기 집진기의 상류에 위치되며, 가스 스트림을 수용하고, 상기 가스 스트림을 반응 챔버 내의 플라즈마 버너에 의해 발생된 플라즈마 플레어와 열 또는 화학 반응시키는 적어도 하나의 플라즈마 토치를 더 포함하고,
    상기 반응 챔버는, 플라즈마 처리된 가스를 추가 처리하기 위해 상기 집진기로 운반하기 위한 정전기 챔버의 유입구와 가스 연통되는 배출구를 구비하는
    저감 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 반응 챔버의 배출구를 상기 정전기 챔버의 유입구에 연결하는 도관을 포함하고,
    상기 도관은 액체 커튼을 형성한 액체를 적어도 일시적으로 수용하도록 하는 형상을 갖는
    저감 시스템.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 반응 챔버의 배출구 부분은 가스 스트림을 플라즈마 플레어의 하류에서 냉각시키기 위해 액체를 상기 반응 챔버 안으로 분무하기 위한 적어도 하나의 분무 노즐을 포함하고, 상기 도관은 반응 챔버 안으로 분무된 액체를 적어도 일시적으로 수용하는
    저감 시스템.
  14. 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 플라즈마 토치는 가스 스트림이 버너를 통해서 대체로 하향으로 흐르도록 배향되고, 상기 집진기는 상기 가스 스트림이 상기 집진기를 통해 대체로 상향으로 흐르도록 배향되는
    저감 시스템.
  15. 제 11 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 습식 전기 집진기와 각각 결합된 복수의 플라즈마 토치를 포함하는
    저감 시스템.
  16. 도면을 참조하여 본 명세서에 설명되는
    저감 시스템.
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