KR20170023510A - Nozzle unit and cleaning apparatus having the same - Google Patents

Nozzle unit and cleaning apparatus having the same Download PDF

Info

Publication number
KR20170023510A
KR20170023510A KR1020150118749A KR20150118749A KR20170023510A KR 20170023510 A KR20170023510 A KR 20170023510A KR 1020150118749 A KR1020150118749 A KR 1020150118749A KR 20150118749 A KR20150118749 A KR 20150118749A KR 20170023510 A KR20170023510 A KR 20170023510A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nozzle
nozzle unit
substrate
chemical solution
chemical
Prior art date
Application number
KR1020150118749A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101714433B1 (en
Inventor
이상준
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020150118749A priority Critical patent/KR101714433B1/en
Publication of KR20170023510A publication Critical patent/KR20170023510A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101714433B1 publication Critical patent/KR101714433B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Abstract

Disclosed are a nozzle unit and a cleaning device with the same. The nozzle unit sprays chemical liquid to a substrate. The nozzle unit comprises: a nozzle unit configured to provide a chemical liquid to the substrate; and a chemical liquid drop preventing unit installed to be inner than an end portion of the nozzle unit inside the nozzle unit and formed of a group of a plurality of capillary tubes.

Description

노즐유닛 및 이를 구비하는 세정장치{NOZZLE UNIT AND CLEANING APPARATUS HAVING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a nozzle unit and a cleaning apparatus having the nozzle unit.
본 발명은 노즐유닛에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 노즐부 내부에 약액떨어짐 방지부가 구비되어 약액이 기판에 누수되지 않는 노즐유닛 및 이를 구비하는 세정장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a nozzle unit, and more particularly, to a nozzle unit in which a chemical solution drop prevention unit is provided in a nozzle unit so that a chemical solution does not leak to a substrate, and a cleaning apparatus having the nozzle unit.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는, 리소그래피(lithography), 증착 및 에칭(etching) 등의 여러 공정을 반복적으로 수행한다. 이러한 공정들을 거치는 동안 기판, 예를 들면 실리콘 재질의 웨이퍼 상에는 파티클(particle), 금속 불순물, 유기물 등이 잔존하게 된다.In general, in order to manufacture a semiconductor device, various processes such as lithography, deposition, and etching are repeatedly performed. During these processes, particles, metal impurities, organic substances, and the like remain on the substrate, for example, a silicon wafer.
건조 방식으로는 스핀 건조 방식, 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)에 의한 마란고니 효과(Marangoni effect)을 이용한 건조 방식 등이 있다.Examples of the drying method include a spin drying method and a drying method using a Marangoni effect by iso-propyl alcohol (IPA).
그 중 이소프로필 알코올을 이용한 건조 방식은 기판을 순수(DIW, de-ionized water) 안에서 수직 방향으로 끌어올림과 동시에 이소프로필 알코올 및 질소 가스(N2)를 기판 표면의 기액 계면 부근에 불어 놓는 것에 의해 마란고니 효과를 발생시켜 기판을 건조한다.Among them, isopropyl alcohol is used to dry the substrate in a vertical direction (DIW), and isopropyl alcohol and nitrogen gas (N 2) The substrate is dried by generating a marangoni effect.
그런데 이때. 건조작업을 모두 수행한 후, 노즐부를 잠궜을 시, 노즐부에 약액이 맺혀 있어 약액이 장치에 떨어지는 문제가 발생해 웨이퍼에 파티클이 발생하는 문제점이 있다. But this time. There is a problem that when the nozzle unit is locked after the drying operation is performed, a chemical solution is formed on the nozzle unit and the chemical solution falls on the apparatus, and particles are generated on the wafer.
따라서, 약액이 떨어져 웨이퍼를 오염시키지 않는 장치개발이 필요한 실정이다.
Therefore, it is necessary to develop a device that does not contaminate the wafer because the chemical liquid falls off.
본 발명의 목적은 노즐부 내부에 약액떨어짐 방지부가 구비되어 약액이 기판에 떨어지지지 않아, 기판 오염을 줄일 수 있는 노즐유닛 및 이를 구비하는 세정장치를 제공하기 위한 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a nozzle unit and a cleaning apparatus having the nozzle unit in which the chemical solution drop prevention unit is provided in the nozzle unit so that the chemical solution does not fall on the substrate,
본 발명의 실시예들에 따른 노즐유닛에 대하여 설명한다. 기판에 약액을 분사하는 노즐유닛은 기판에 약액을 제공하는 노즐부, 노즐부 내부에서 노즐부의 단부보다 내측에 구비되며 복수의 모세관의 집합으로 형성된 약액떨어짐 방지부를 포함할 수 있다.The nozzle unit according to the embodiments of the present invention will be described. The nozzle unit for spraying the chemical liquid onto the substrate may include a nozzle unit for supplying the chemical liquid to the substrate, and a chemical solution drop preventing unit formed inside the nozzle unit inside the end of the nozzle unit and formed of a plurality of capillaries.
일측에 따르면, 약액떨어짐 방지부는 노즐부에서 약액의 유동 방향을 따라 모세관이 배치되도록 구성이 가능하며, 약액떨어짐 방지부는 복수의 모세관이 규칙적으로 배치될 수 있다.According to one aspect of the present invention, the capillary can be arranged along the flow direction of the chemical solution in the nozzle part, and the capillary can be regularly arranged in the chemical solution fall-off prevention part.
일측에 따르면, 약액떨어짐 방지부는 테프론 재질일 수 있으며, 노즐부는 튜브 형태일 수 있다.According to one aspect, the drug solution fall-off portion may be a Teflon material, and the nozzle portion may be in the form of a tube.
일측에 따르면, 약액떨어짐 방지부는 노즐부와 별도의 개체로 형성되어서 노즐부 내부에 삽입되는 형태 혹은 약액떨어짐 방지부가 상기 노즐부와 일체로 형성되는형태일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the chemical solution fall-off preventing portion may be formed as a separate member from the nozzle portion, and may be configured to be inserted into the nozzle portion or integrally formed with the nozzle portion.
본 발명의 실시예들에 따른 세정장치에 대하여 설명한다. 기판에 세정되는 공간을 제공하는 챔버, 기판을 안착하여, 회전시키는 스핀척, 챔버 일측에 구비되어서 기판의 세정 혹은 건조를 위한 약액을 제공하는 노즐유닛, 노즐유닛의 약액 유동 유무를 결정하며, 노즐유닛과 연결된 공급부를 포함하고, 노즐유닛은 기판에 약액을 제공하는 노즐부, 노즐부 내부에서 노즐부의 단부보다 내측에 구비되며 복수의 모세관의 집합으로 형성된 약액떨어짐 방지부를 포함할 수 있다.A cleaning apparatus according to embodiments of the present invention will be described. A nozzle unit for supplying a chemical solution for cleaning or drying the substrate, a nozzle unit disposed at a side of the chamber for determining whether or not the chemical liquid flows in the nozzle unit, The nozzle unit may include a nozzle unit for supplying a chemical solution to the substrate, and a chemical solution drop preventing unit formed inside the nozzle unit inside the end of the nozzle unit and formed of a plurality of capillaries.
일측에 따르면, 노즐부는 기판 상단에서 회전하도록 구성될 수 있으며, 노즐유닛과 펌프가 연결되어, 펌프에서 약액을 흡입 할 경우 흡입된 약액이 약액떨어짐 방지부에 맺혀서 노즐부 외부로 누수되지 않도록 구성이 가능하다.According to one aspect, the nozzle unit can be configured to rotate at the upper end of the substrate, and the nozzle unit and the pump are connected to each other so that when the chemical liquid is sucked in the pump, the sucked chemical liquid is prevented from leaking to the outside of the nozzle unit. It is possible.
일측에 따르면, 약액떨어짐 방지부는 복수의 모세관이 방사상으로 배치되는 형태일 수 있으며, 약액떨어짐 방지부는 노즐부에서 약액의 유동 방향을 따라 모세관이 배치되도록 구성이 가능하다.
According to one aspect, the chemical solution fall-off preventing portion may be configured such that a plurality of capillaries are radially disposed, and the chemical solution fall-off preventing portion is configurable such that the capillary is arranged along the flow direction of the chemical solution in the nozzle portion.
본 발명에 따르면, 약액떨어짐 방지부가 구비되어 약액이 기판에 떨어지지 않아, 기판 오염을 줄일 수 있는 특징이 있다.
According to the present invention, there is a feature that the chemical solution fall-off prevention portion is provided so that the chemical solution does not fall on the substrate, and the contamination of the substrate can be reduced.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 노즐유닛이 구비된 세정장치의 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 노즐유닛의 단면도이다.
도 3은 도 2의 약액떨어짐 방지부의 A-A'에 따른 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액떨어짐 방지부의 하단에 약액이 맺힌 것을 나타낸 상태도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 약액떨어짐 방지부가 노즐유닛에 복수개 구비된 것을 나타낸 노즐유닛의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 약액떨어짐 방지부가 노즐유닛에 형성된 것을 나타낸 단면도이다.
FIG. 1 is a view of a cleaning apparatus equipped with a nozzle unit according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a nozzle unit according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'in FIG. 2;
4 is a state diagram showing a chemical solution formed at the lower end of the chemical solution dropping prevention part according to the embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a nozzle unit in which a plurality of chemical solution fall-preventing portions are provided in a nozzle unit according to another embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a chemical solution fall-off preventing portion formed in a nozzle unit according to another embodiment of the present invention.
이하, 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 실시예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to exemplary drawings. It should be noted that, in adding reference numerals to the constituent elements of the drawings, the same constituent elements are denoted by the same reference symbols as possible even if they are shown in different drawings. In the following description of the embodiments, detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the best of an understanding clear.
또한, 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the embodiment, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are intended to distinguish the constituent elements from other constituent elements, and the terms do not limit the nature, order or order of the constituent elements. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, Quot; may be "connected," "coupled," or "connected. &Quot;
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 노즐유닛이 구비된 세정장치의 도면이며, 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 노즐유닛의 단면도이며, 도 3은 도 2의 약액떨어짐 방지부의 A-A'에 따른 단면도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액떨어짐 방지부의 하단에 약액이 맺힌 것을 나타낸 상태도이다. 이를 참조하여 설명한다.2 is a cross-sectional view of a nozzle unit according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view of the nozzle unit of FIG. -A ', and FIG. 4 is a state diagram showing that the chemical solution is formed at the lower end of the chemical solution drop prevention part according to the embodiment of the present invention. Referring to FIG.
세정장치(200)는, 기판(W)이 안착되는 스핀척(220)과, 기판(W)에 대한 세정 및 건조 작업이 진행되는 세정챔버(210)와, 세정챔버(210) 내에서 스핀척(220)의 상부에 장착되어, 세정물질을 기판 측으로 분사시키는 노즐유닛(100), 노즐 유닛에 약액을 공급유무를 결정하는 공급부(230)를 포함할 수 있다. The cleaning apparatus 200 includes a spin chuck 220 on which a substrate W is placed, a cleaning chamber 210 in which a cleaning and drying operation is performed on the substrate W, A nozzle unit 100 mounted on the upper part of the nozzle unit 220 for spraying the cleaning material onto the substrate side, and a supply unit 230 for determining whether the chemical liquid is supplied to the nozzle unit.
세정챔버(210)는 내부 공간을 형성할 수 있으며, 세정챔버(210)의 하부 영역에는 기판(W)이 안착되는 스핀척(220)이 회전 가능하게 장착되며, 스핀척(220)은 상면에 기판(W)을 안착한 상태로 회전 가능하도록 구성이 가능하다. The spin chuck 220 on which the substrate W is mounted is rotatably mounted in a lower region of the cleaning chamber 210 and the spin chuck 220 is mounted on the upper surface of the cleaning chamber 210. [ It is possible to rotate the substrate W in a state in which the substrate W is seated.
기판(W)에 세정물질을 제공하는 노즐유닛(100)은 기판(W)의 상단에서 회전하도록 구성이 가능하며, 노즐유닛(100)은 노즐부(130), 노즐부(130)에 형성된 안내유로의 제1유로(115), 노즐부(130) 내부에 구비된 약액떨어짐 방지부(120), 노즐부(130)의 끝단에 형성된 제2유로(116)로 구성될 수 있다.The nozzle unit 100 for supplying a cleaning substance to the substrate W may be configured to rotate at the upper end of the substrate W. The nozzle unit 100 may include a nozzle unit 130, A chemical liquid drop prevention part 120 provided in the nozzle part 130 and a second flow path 116 formed at an end of the nozzle part 130. The first flow path 115,
약액떨어짐 방지부(120)는 튜브형태로 형성된 노즐부(130) 내주면에 대응되도록 형성될 수 있으며, 약액떨어짐 방지부(120)는 폭이 좁고 길게 형성된 복수개의 모세관(121)이 소정간격 이격되어, 규칙적으로 배열된 방사상의 형태로 형성될 수 있다. 약액떨어짐 방지부(120)는 노즐부(130)의 단부보다 내측에 구비될 수 있으며, 복수개의 모세관(121)은 노즐부(130)의 약액 유동 방향을 따라 노즐부(130) 내측에 구비될 수 있다. The drug solution fall-off preventing part 120 may be formed to correspond to the inner circumferential surface of the nozzle part 130 formed in a tube shape, and a plurality of capillaries 121 having a long and narrow width may be spaced apart by a predetermined distance , And may be formed in a regularly arranged radial shape. The capillary tube 121 may be provided inside the nozzle unit 130 along the chemical liquid flow direction of the nozzle unit 130. The capillary tube 121 may be provided on the inner side of the end of the nozzle unit 130, .
또한, 약액떨어짐 방지부(120)는 기판(W)으로부터 수직방향으로 노즐부에 구비될 수 있으며, 복수개의 모세관의 길이는 같거나, 다르게 형성될 수 있다. 약액떨어짐 방지부(120)는 테프론 재질일 수 있다.In addition, the chemical solution fall-off preventing portion 120 may be provided in the nozzle portion in the vertical direction from the substrate W, and the plurality of capillaries may have the same or different length. The chemical solution fall-off preventing portion 120 may be made of Teflon.
노즐부(130)를 타고 유동된 약액은 모세관 현상에 의하여, 약액떨어짐 방지부(120) 상단에 맺히도록 구성될 수 있으며, 약액은 모세관 현상에 약액떨어짐 방지부(120)의 상단에 맺히게 되어, 약액떨어짐 방지부(120)로 약액이 통과되지 않아 노즐부(130) 외부로 약액이 누수되지 않도록 구성이 가능하다.The chemical liquid flowing through the nozzle unit 130 may be formed at the upper end of the chemical solution fall-off preventing unit 120 by capillary phenomenon, and the chemical liquid may be formed at the upper end of the chemical liquid drop preventing unit 120 due to capillary phenomenon, It is possible to prevent the chemical liquid from leaking out of the nozzle unit 130 because the chemical liquid does not pass through the chemical liquid drop prevention unit 120.
노즐부(130)에서 기판(W)에 세정물질을 제공한 이후, 노즐부(130) 동작을 오프상태로 할 시, 노즐부(130)와 연결된 펌프가 동작하여, 약액을 흡입하는 펌프에 의하여, 약액은 노즐유닛(100) 내에 형성된 약액 떨어짐 방지부(120) 상부로 유동하고, 좁게 형성된 복수개의 모세관에 의하여, 약액은 약액떨어짐 방지부(120)의 상단에 맺히도록 구성될 수 있다.The pump connected to the nozzle unit 130 operates when the operation of the nozzle unit 130 is turned off after providing the cleaning material to the substrate W at the nozzle unit 130, The chemical liquid flows to the upper portion of the chemical solution fall-off preventing portion 120 formed in the nozzle unit 100 and the chemical liquid is formed at the upper end of the chemical liquid fall-preventing portion 120 by a plurality of capillaries formed narrowly.
약액은 제1유로(115) 부근에만 유동할 수 있으며, 모세관(121) 하단에 형성된 제2유로(116)까지 유동되지 않도록 구성될 수 있다.The chemical liquid may flow only in the vicinity of the first flow path 115 and may not flow to the second flow path 116 formed at the lower end of the capillary 121. [
노즐부(130) 내면에는 다공성 재질의 형태 혹은 복수개의 모세관(121)이 방사상으로 구비됨으로써, 노즐부(130)를 타고 유동한 약액은 모세관 현상에 의하여, 약액떨어짐 방지부(120) 상단에 맺히게 되어, 약액떨어짐 방지부(120)로 약액이 통과되지 않도록 구성이 가능하다.The capillary 121 is radially formed on the inner surface of the nozzle unit 130 so that the chemical liquid flowing through the nozzle unit 130 is capped at the top of the chemical solution fall- So that the chemical solution does not pass through the chemical solution dropping prevention part 120. [
또는, 도 4에 도시한 바와 같이, 약액이 약액떨어짐 방지부(120)의 상단이 아니라 하단에 맺히도록 하는 것도 가능하다.Alternatively, as shown in FIG. 4, the chemical liquid may be formed at the lower end rather than at the upper end of the chemical-solution fall-off preventing portion 120.
기판(W)에 약액 제공을 멈출 시, 약액은 노즐부(130) 내에 약액을 안내하는 제1유로(115)의 하단에 구비된 약액떨어짐 방지부(120)의 상단에 맺히게 되는데, 만약의 경우, 약액이 약액떨어짐 방지부(120)를 통과한 약액은 폭이 좁고 길게 형성된 모세관(121)에 의하여, 표면장력에 의한 약액떨어짐 방지부(120)의 하단에 볼록하게 맺히도록 구성될 수 있다.When the supply of the chemical solution to the substrate W is stopped, the chemical solution is formed at the upper end of the chemical solution drop prevention part 120 provided at the lower end of the first flow path 115 for guiding the chemical solution in the nozzle part 130, The chemical solution having passed through the chemical solution fall-off preventing portion 120 can be configured to be convexly formed at the lower end of the chemical solution fall-off preventing portion 120 due to the surface tension by the capillary 121 having a long and narrow width.
약액떨어짐 방지부(120)는 다공성 재질의 형태 혹은 복수개의 모세관(121)이 방사상으로 배치된 형태로 형성될 수 있으며, 모세관(121)은 기판(W)과 수직인 형태의 노즐부(130)의 내면에 구비될 수 있다.The capillary 121 may be formed in a shape of a porous material or a plurality of capillaries 121 arranged in a radial direction and the capillary 121 may include a nozzle unit 130 perpendicular to the substrate W, As shown in FIG.
약액은 제1유로(115)를 지나 복수개의 모세관(121)에서 표면장력에 의하여, 부착력이 보다 강해져, 약액떨어짐 방지부(120)의 하단에 약액이 맺혀, 제2유로(116)로 약액이 유동되지 않도록 구성이 가능하다.The chemical liquid passes through the first flow path 115 and becomes stronger due to the surface tension at the plurality of capillaries 121 so that the chemical liquid is formed at the lower end of the chemical liquid drop prevention part 120 and the chemical liquid flows into the second flow path 116 It is possible to configure it not to flow.
이는, 기판(W)에 약액 제공을 멈춘 후에도, 기판(W)에 약액이 떨어지는 것을 방지할 수 있어 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있다.
This can prevent the chemical liquid from dropping on the substrate W even after stopping the supply of the chemical liquid to the substrate W, thereby preventing the substrate from being contaminated.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 약액떨어짐 방지부가 노즐유닛에 복수개 구비된 것을 나타낸 노즐유닛의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a nozzle unit in which a plurality of chemical solution fall-preventing portions are provided in a nozzle unit according to another embodiment of the present invention.
도 5에 도시한 실시예에 따른 노즐유닛(100)은 상술한 약액떨어짐 방지부(120)만 차이가 있으므로, 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호를 사용하고, 중복되는 설명은 생략한다.Since the nozzle unit 100 according to the embodiment shown in FIG. 5 differs only in the above-described chemical solution dropout prevention part 120, the same reference numerals are used for the same components, and redundant explanations are omitted.
노즐부(130)의 길이방향으로 제1약액떨어짐 방지부(125), 제2약액떨어짐 방지부(126)가 복수개 구비될 수 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 노즐부(130)의 끝단부로부터 내측으로 소정거리 이격된 위치에 제1약액떨어짐 방지부(126)가 구비될 수 있다.A plurality of first drug solution drop prevention parts 125 and a second drug solution drop prevention part 126 may be provided in the length direction of the nozzle part 130. [ As shown in the drawing, the first chemical liquid drop prevention part 126 may be provided at a position spaced a predetermined distance inward from the end of the nozzle part 130. [
노즐부의 하단쪽에 좁게 형성된 복수개의 제1모세관(128)형태의 제1약액떨어짐 방지부(126)가 구비될 수 있으며, 하단에 배치된 제1약액떨어짐 방지부(126)로부터 소정거리 이격되어 노즐부의 상단에 복수개의 제2모세관(127)형태의 제2약액떨어짐 방지부(125)가 구비될 수 있다. A first chemical liquid drop prevention part 126 in the form of a plurality of first capillary tubes 128 formed narrowly at the lower end of the nozzle part may be provided and the first chemical liquid drop prevention part 126 may be provided at a predetermined distance from the first chemical liquid drop prevention part 126 disposed at the lower end, A second drug solution drop prevention part 125 in the form of a plurality of second capillaries 127 may be provided on the upper part of the second drug solution drop prevention part 125.
만약의 경우, 제1약액떨어짐 방지부(125)를 타고 유동된 약액은 모세관 현상에 의하여, 제1약액떨어짐 방지부(125)의 하단에 구비된 제2약액떨어짐 방지부(126)의 상단에 맺히도록 구성이 가능하다.In this case, the drug solution flowing through the first drug solution dropping prevention part 125 is transferred to the upper end of the second drug solution dropping prevention part 126 provided at the lower end of the first drug solution drop prevention part 125 by the capillary phenomenon And the like.
제1약액떨어짐 방지부(125), 제2약액떨어짐 방지부(126)는 다공성 재질의 형태 혹은 복수개의 모세관이 방사상으로 배치된 형태로 형성될 수 있으며, 모세관은 기판(W)과 수직인 형태의 노즐부(130)의 내면에 구비될 수 있다.The first and second drug solution fall-off preventing portions 125 and 126 may be formed in the form of a porous material or a plurality of capillaries radially arranged. The capillary may be formed in a shape perpendicular to the substrate W (Not shown).
도면에 제1약액떨어짐 방지부(125), 제2 약액떨어짐 방지부(126) 2개가 노즐부(130) 내에 구비되는 것을 도시하였으나, 이에 한정하지 않고, 약액떨어짐 방지부 높이를 작게 형성하여, 노즐부(130)의 단부에 복수개 구비되는 구성도 가능하다. The first and second drug solution drop prevention portions 125 and 126 are provided in the nozzle portion 130. However, the present invention is not limited thereto, and the height of the drug solution drop prevention portion may be reduced, A plurality of nozzles may be provided at the end of the nozzle unit 130.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 약액떨어짐 방지부가 노즐유닛에 형성된 것을 나타낸 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a chemical solution fall-off preventing portion formed in a nozzle unit according to another embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 노즐부(130)에 약액떨어짐 방지부(120)가 구비되는 구성외, 도 6에 도시된 바와 같이 노즐부(130)와 제3약액떨어짐 방지부(133)는 일체형으로 형성될 수 있다.As shown in FIGS. 1 to 4, the nozzle unit 130 is provided with the chemical solution drop prevention unit 120, and the nozzle unit 130 and the third chemical solution drop prevention unit 133 may be integrally formed.
노즐부(130)의 끝단부보다 노즐부(130)의 내측에는 복수개의 제3모세관(129)이 형성될 수 있다. A plurality of third capillaries 129 may be formed on the inner side of the nozzle unit 130 than the end of the nozzle unit 130.
각각의 모세관은 소정간격 이격되어, 규칙적으로 배열된 방사상의 형상으로 노즐부(130) 내측에 형성될 수 있다.Each of the capillaries may be spaced a predetermined distance and formed inside the nozzle unit 130 in a regularly arranged radial shape.
노즐부(130)의 끝단부보다 노즐부(130)의 내측에 제3약액떨어짐 방지부(133)가 구비되어, 노즐부(130)를 타고 유동된 약액이 모세관 현상에 의하여, 제3약액떨어짐 방지부(133) 상단에 맺히도록 구성이 가능하다.The third chemical solution drop prevention part 133 is provided inside the nozzle part 130 rather than the end part of the nozzle part 130 so that the chemical solution flowing on the nozzle part 130 flows out of the third chemical solution falling Preventing portion 133 of the first embodiment.
이는, 기판(W)에 약액 제공을 멈춘 후에도, 기판(W)에 약액이 떨어지는 것을 방지할 수 있어 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있다.
This can prevent the chemical liquid from dropping on the substrate W even after stopping the supply of the chemical liquid to the substrate W, thereby preventing the substrate from being contaminated.
이상과 같이 실시예들에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것이다. 또한, 본 발명이 상술한 실시 예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 사상은 상술한 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
Although the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and changes may be made thereto by those skilled in the art to which the present invention belongs. Therefore, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the above-described embodiments, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the following claims, are included in the scope of the present invention.
100: 노즐유닛 115: 제1유로
116: 제2유로 120: 약액떨어짐 방지부
121: 모세관 130: 노즐부
200: 세정장치 210: 세정챔버
220: 스핀척 230: 공급부
100: nozzle unit 115: first flow path
116: second flow path 120: chemical solution drop prevention part
121: capillary tube 130: nozzle part
200: Cleaning device 210: Cleaning chamber
220: spin chuck 230:

Claims (12)

  1. 기판에 약액을 분사하는 노즐유닛에 있어서,
    상기 기판에 약액을 제공하는 노즐부;
    상기 노즐부 내부에서 상기 노즐부의 단부보다 내측에 구비되며 복수의 모세관의 집합으로 형성된 약액떨어짐 방지부;
    를 포함하는 노즐유닛.
    A nozzle unit for jetting a chemical liquid onto a substrate,
    A nozzle unit for supplying a chemical solution to the substrate;
    A drug solution dropping prevention part formed inside the nozzle part inside the end of the nozzle part and formed of a plurality of capillary tubes;
    .
  2. 제1항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부는 상기 노즐부에서 약액의 유동 방향을 따라 상기 모세관이 배치되는 것을 특징으로 하는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the capillary is arranged along the flow direction of the chemical solution in the nozzle part.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부는 상기 복수의 모세관이 규칙적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the plurality of capillaries are regularly arranged in the chemical solution dropping prevention portion.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부는 상기 복수의 모세관이 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the plurality of capillaries are radially disposed.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부는 테프론 재질인 것을 특징으로 하는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the chemical solution fall-off preventing portion is made of Teflon.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부가 상기 노즐부와 별도의 개체로 형성되어서 상기 노즐부 내부에 삽입되는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the chemical solution fall-off preventing member is formed as a separate member from the nozzle unit and is inserted into the nozzle unit.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부가 상기 노즐부와 일체로 형성되는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the chemical solution fall-preventing portion is formed integrally with the nozzle portion.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 노즐부는 튜브 형태인 것을 특징으로 하는 노즐유닛.
    The method according to claim 1,
    Wherein the nozzle portion is in the form of a tube.
  9. 기판이 세정되는 공간을 제공하는 챔버;
    상기 기판을 안착하여, 회전시키는 스핀척;
    상기 챔버 일측에 구비되어서 상기 기판의 세정 혹은 건조를 위한 약액을 제공하는 노즐유닛;
    상기 노즐유닛의 약액 유동 유무를 결정하며, 노즐유닛과 연결된 공급부;
    를 포함하고
    상기 노즐유닛은
    상기 기판에 약액을 제공하는 노즐부;
    상기 노즐부 내부에서 상기 노즐부의 단부보다 내측에 구비되며 복수의 모세관의 집합으로 형성된 약액떨어짐 방지부;
    를 포함하는 세정장치.
    A chamber for providing a space in which the substrate is cleaned;
    A spin chuck for seating and rotating the substrate;
    A nozzle unit provided at one side of the chamber to provide a chemical solution for cleaning or drying the substrate;
    A supply unit connected to the nozzle unit for determining whether or not the chemical liquid flows in the nozzle unit;
    Including the
    The nozzle unit
    A nozzle unit for supplying a chemical solution to the substrate;
    A drug solution dropping prevention part formed inside the nozzle part inside the end of the nozzle part and formed of a plurality of capillary tubes;
    .
  10. 제9항에 있어서,
    상기 노즐부는 상기 기판 상단에서 회전하도록 구성된 것을 특징으로 하는 세정장치.
    10. The method of claim 9,
    Wherein the nozzle portion is configured to rotate at an upper end of the substrate.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 노즐유닛은 펌프가 더 구비되고,
    상기 펌프에서 상기 약액을 흡입 할 경우 흡입된 약액이 상기 약액떨어짐 방지부에 맺혀서 상기 노즐부 외부로 누수되지 않도록 하는 세정장치.
    9. The method of claim 8,
    Wherein the nozzle unit further comprises a pump,
    Wherein when the chemical liquid is sucked from the pump, the sucked liquid is sealed in the chemical liquid drop preventing portion so as not to leak outside the nozzle portion.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 약액떨어짐 방지부는 상기 복수의 모세관이 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 세정장치.
    9. The method of claim 8,
    Wherein the plurality of capillaries are radially arranged.
KR1020150118749A 2015-08-24 2015-08-24 Nozzle unit and cleaning apparatus having the same KR101714433B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150118749A KR101714433B1 (en) 2015-08-24 2015-08-24 Nozzle unit and cleaning apparatus having the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150118749A KR101714433B1 (en) 2015-08-24 2015-08-24 Nozzle unit and cleaning apparatus having the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170023510A true KR20170023510A (en) 2017-03-06
KR101714433B1 KR101714433B1 (en) 2017-03-09

Family

ID=58399197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150118749A KR101714433B1 (en) 2015-08-24 2015-08-24 Nozzle unit and cleaning apparatus having the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101714433B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004160368A (en) * 2002-11-13 2004-06-10 Seiko Epson Corp Liquid storage tank, droplet discharge unit, droplet discharge apparatus, and manufacturing method for tank
KR20110085388A (en) * 2010-01-20 2011-07-27 세메스 주식회사 Nozzle unit, and substrate treating apparatus with it and method for treating substrate thereof
KR20130026911A (en) * 2011-09-06 2013-03-14 세메스 주식회사 Substrate processing apparatus
KR20140067757A (en) * 2012-11-27 2014-06-05 세메스 주식회사 Substrate treating apparatus and method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004160368A (en) * 2002-11-13 2004-06-10 Seiko Epson Corp Liquid storage tank, droplet discharge unit, droplet discharge apparatus, and manufacturing method for tank
KR20110085388A (en) * 2010-01-20 2011-07-27 세메스 주식회사 Nozzle unit, and substrate treating apparatus with it and method for treating substrate thereof
KR20130026911A (en) * 2011-09-06 2013-03-14 세메스 주식회사 Substrate processing apparatus
KR20140067757A (en) * 2012-11-27 2014-06-05 세메스 주식회사 Substrate treating apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
KR101714433B1 (en) 2017-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8361234B2 (en) Substrate treatment apparatus
JP2007088398A (en) Cleaning device, cleaning system using the cleaning device, and method of cleaning substrate to be cleaned
US10964556B2 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method
US20120227770A1 (en) Two-fluid nozzle, substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method, and computer-readable storage medium for storing substrate liquid processing method
CN108074858B (en) Substrate wet processing device
KR101990161B1 (en) Fluid processing device
TWI628737B (en) Substrate processing apparatus
CN107534011B (en) Substrate bevel and backside protection device
JP2009076918A (en) Substrate machining method, spin unit, and substrate machining device using the spin unit
TWI652115B (en) Substrate processing device and nozzle cleaning method
JP5967519B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2013201334A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP5391014B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2014110404A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
US20160365260A1 (en) Substrate processing apparatus
KR101714433B1 (en) Nozzle unit and cleaning apparatus having the same
JP2001319912A (en) Apparatus and method for liquid treatment
JP2009218403A (en) Substrate processing device
JP2017092079A (en) Substrate processing apparatus
JP6953189B2 (en) Board processing equipment
US11211264B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP6416652B2 (en) Substrate processing equipment
KR20200089609A (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
US20210175098A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP6491900B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200121

Year of fee payment: 4