KR20160088036A - Light unit - Google Patents

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KR20160088036A
KR20160088036A KR1020150007196A KR20150007196A KR20160088036A KR 20160088036 A KR20160088036 A KR 20160088036A KR 1020150007196 A KR1020150007196 A KR 1020150007196A KR 20150007196 A KR20150007196 A KR 20150007196A KR 20160088036 A KR20160088036 A KR 20160088036A
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Abstract

An embodiment of the present invention relates to a light unit. The light unit disclosed in the embodiment of the present invention comprises: multiple light-emitting devices having a light-emitting chip which has multiple light-emitting structures, and having a heat-radiating plate on which the light-emitting chip is arranged; a housing on which the multiple light-emitting devices are arranged; and a resin member which fills the housing and covers the multiple light-emitting devices. The light-emitting chip has a shape of which the length is longer that the width, and the light-emitting structures are separable in the lengthwise direction. The light-emitting chip comprises; a board for supporting the multiple light-emitting structures; and a projection unit having a ridge in each of the multiple light-emitting structures on the opposite side of the board. According to the present invention, manufacturing processes as well as heat-radiating efficiency can be enhanced.

Description

라이트 유닛{LIGHT UNIT}Light Unit {LIGHT UNIT}

실시 예는 라이트 유닛에 관한 것이다.An embodiment relates to a light unit.

일반적으로 질소(N)와 같은 Ⅴ족 소스와, 갈륨(Ga), 알루미늄(Al), 또는 인듐(In)과 같은 Ⅲ족 소스를 포함하는 질화물 반도체 소재는 열적 안정성이 우수하고 직접 천이형의 에너지 밴드(band) 구조를 갖고 있어, 질화물계 반도체 소자 예컨대, 자외선 영역의 질화물계 반도체 발광소자 및 태양전지용 물질로 많이 사용되고 있다. In general, a nitride semiconductor material including a Group V source such as nitrogen (N) and a Group III source such as gallium (Ga), aluminum (Al), or indium (In) has excellent thermal stability, Has a band structure and is widely used as a nitride semiconductor device, for example, a nitride semiconductor light emitting device in an ultraviolet region and a material for a solar cell.

질화물계 물질은 0.7eV에서 6.2eV의 폭넓은 에너지 밴드갭을 가지고 있어 태양광스펙트럼 영역과 일치하는 특성으로 인하여 태양전지소자용 물질로 많이 사용되고 있다. 특히, 자외선 발광소자는 경화기 장치, 의료분석기 및 치료기기 및 살균, 정수, 정화시스템 등 다양한 산업분야에서 활용되고 있으며, 향후 반도체 조명 광원으로써 일반조명에 사용 가능한 물질로서 주목을 받고 있다.The nitride-based material has a wide energy band gap of 0.7 eV to 6.2 eV, and is thus widely used as a material for a solar cell device due to its characteristics matching the solar spectrum region. In particular, ultraviolet light emitting devices have been utilized in various industrial fields such as a curing apparatus, a medical analyzer, a therapeutic apparatus, and a sterilizing, water purification, and purification system.

실시 예는 제1 및 제2도전형 반도체층 중 어느 하나에 복수의 리지(ridge)를 갖는 발광 소자를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device having a plurality of ridges in any one of the first and second conductivity type semiconductor layers.

실시 예는 성장 기판 상에 복수의 리지를 갖는 발광 구조물을 갖는 발광소자 및 방열 판을 갖는 라이트 유닛을 제공한다.The embodiment provides a light unit having a light emitting element and a heat radiation plate having a light emitting structure having a plurality of ridges on a growth substrate.

실시 예는 복수의 리지를 갖는 막대(bar) 형상의 발광 소자를 갖는 라이트 유닛을 제공한다.The embodiment provides a light unit having a bar-shaped light emitting element having a plurality of ridges.

실시 예는 바 형상의 레이저 다이오드를 복수로 배열한 라이트 유닛을 제공한다.The embodiment provides a light unit in which a plurality of bar-shaped laser diodes are arranged.

실시 예에 따른 라이트 유닛은, 복수의 발광 구조물을 갖는 발광 칩 및 상면 및 하면 중 적어도 한 면에 상기 발광 칩이 배치된 방열 판을 갖는 복수의 발광 소자; 상기 복수의 발광 소자가 배열된 하우징; 및 상기 하우징에 채워지며 상기 복수의 발광 소자를 덮는 수지 부재를 포함하며, 상기 발광 칩은 길이가 너비보다 긴 형상을 갖고, 상기 복수의 발광 구조물이 길이 방향으로 분리되며, 상기 발광 칩은 상기 복수의 발광 구조물을 지지하는 기판; 및 상기 기판의 반대측에 상기 복수의 발광 구조물 각각에 리지를 갖는 돌출부를 포함한다.
A light unit according to an embodiment includes: a light emitting chip having a plurality of light emitting structures; a plurality of light emitting elements having a heat radiating plate on which at least one of the upper surface and the lower surface is disposed; A housing in which the plurality of light emitting elements are arranged; And a resin member filled in the housing and covering the plurality of light emitting elements, wherein the light emitting chip has a shape longer than the width, the plurality of light emitting structures are separated in the longitudinal direction, A substrate supporting the light emitting structure of the light emitting device; And protrusions having ridges on each of the plurality of light emitting structures on the opposite side of the substrate.

실시 예는 바 형상의 발광 소자를 배치함으로써, 제조 공정이 개선될 수 있다.By arranging the bar-shaped light emitting element in the embodiment, the manufacturing process can be improved.

실시 예는 바 형상의 발광 소자 아래에 방열 판을 배치하므로 방열 효과를 개선시켜 줄 수 있다.The heat dissipation effect can be improved by disposing the heat dissipation plate under the bar-shaped light emitting device.

실시 예는 발광 소자의 제조 공정을 줄일 수 있다.The embodiment can reduce the manufacturing process of the light emitting device.

실시 예는 발광 소자 및 이를 구비한 라이트 유닛의 신뢰성을 개선시켜 줄 수 있다.The embodiment can improve the reliability of the light emitting device and the light unit having the light emitting device.

도 1은 제1실시 예에 따른 발광 소자를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1의 발광 소자의 발광 칩을 나타낸 도면이다.
도 3은 도 1의 발광 소자를 갖는 라이트 유닛을 나타낸 도면이다.
도 4는 도 3의 라이트 유닛의 A-A측 단면도이다.
도 5는 도 4의 라이트 유닛의 다른 예이다.
도 6은 제2실시 예에 따른 발광 소자를 나타낸 사시도이다.
도 7은 도 6의 발광 소자의 발광 칩을 나타낸 도면이다.
도 8은 제3실시 예에 따른 발광 소자를 나타낸 도면이다.1 is a perspective view illustrating a light emitting device according to a first embodiment.
2 is a view illustrating a light emitting chip of the light emitting device of FIG.
Fig. 3 is a view showing a light unit having the light emitting element of Fig. 1. Fig.
4 is a sectional view of the light unit of FIG. 3 on the AA side.
5 is another example of the light unit of Fig.
6 is a perspective view illustrating a light emitting device according to a second embodiment.
7 is a view showing a light emitting chip of the light emitting device of FIG.
8 is a view illustrating a light emitting device according to the third embodiment.

이하, 실시 예들은 첨부된 도면 및 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 실시 예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on)"에 또는 "하/아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on)"와 "하/아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under / under" Quot; on "and" under "as used herein are intended to refer to all that is" directly "or" indirectly " . In addition, the criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

도 1은 제1실시 예에 따른 발광 소자를 나타낸 사시도이며, 도 2는 도 1의 발광 소자의 발광 칩을 나타낸 도면이고, 도 3은 도 1의 발광 소자를 갖는 라이트 유닛을 나타낸 도면이며, 도 4는 도 3의 라이트 유닛의 A-A측 단면도이다.FIG. 1 is a perspective view showing a light emitting device according to a first embodiment, FIG. 2 is a view showing a light emitting chip of the light emitting device of FIG. 1, FIG. 3 is a view of a light unit having the light emitting device of FIG. 1, 4 is a cross-sectional view of the light unit of Fig. 3 on the AA side.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 발광 소자(91)는 발광 칩(50), 상기 발광 칩(50)과 전기적으로 연결된 제1 및 제2패드(62,64), 상기 발광 칩(50) 아래에 배치된 방열 판(60)을 포함한다.1 to 4, the light emitting device 91 includes a light emitting chip 50, first and second pads 62 and 64 electrically connected to the light emitting chip 50, And a heat dissipation plate 60 disposed on the heat dissipation plate 60.

상기 발광 칩(50)은 기판(10) 상에 배치된 복수의 발광 구조물(20)을 포함하며, 상기 복수의 발광 구조물(20)은 상기 방열 판(60)의 길이(L1) 방향 또는 발광 칩(50)의 길이 방향으로 분리되어 배치될 수 있다. 상기 각 발광 구조물(20)은 발광 셀로 정의될 수 있다.The light emitting chip 50 includes a plurality of light emitting structures 20 disposed on a substrate 10 and the plurality of light emitting structures 20 are arranged in a direction of a length L1 of the heat dissipating plate 60, (50). Each of the light emitting structures 20 may be defined as a light emitting cell.

상기 발광 칩(50)은 바 형상을 포함하며, 상기 발광 칩(50)의 길이(D4)는 상기 방열 판(60)의 길이(L1)의 80% 이상이 될 수 있다. 상기 기판(10)의 너비는 상기 발광 칩(50)의 너비(D3)와 동일하고, 상기 기판(10)의 길이는 상기 발광 칩(50)의 길이(D4)와 동일할 수 있다.The light emitting chip 50 includes a bar shape and the length D4 of the light emitting chip 50 may be 80% or more of the length L1 of the heat dissipating plate 60. The width of the substrate 10 is equal to the width D3 of the light emitting chip 50 and the length of the substrate 10 may be equal to the length D4 of the light emitting chip 50. [

상기 발광 칩(50)은 방열 판(60)과 기판(10) 사이에 배치된 제1패드(62)와 전기적으로 연결되고, 제2패드(64)와 와이어와 같은 연결 부재(41)로 전기적으로 연결될 수 있다. The light emitting chip 50 is electrically connected to the first pad 62 disposed between the heat dissipating plate 60 and the substrate 10 and electrically connected to the second pad 64 and the connecting member 41 such as a wire. .

상기 복수의 발광 구조물(20)은 상기 제1패드(62)에 공통으로 연결될 수 있으며, 예컨대 상기 기판(10)은 제1패드(62)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 각 발광 구조물(20)은 제2패드(64)와 연결 부재(41)로 각각 연결될 수 있다. 상기 기판(10)은 상기 복수의 발광 구조물(20)을 지지하는 층일 수 있다.The plurality of light emitting structures 20 may be connected to the first pad 62 in common. For example, the substrate 10 may be electrically connected to the first pad 62. Each of the light emitting structures 20 may be connected to the second pad 64 and the connection member 41, respectively. The substrate 10 may be a layer for supporting the plurality of light emitting structures 20.

상기 제1 및 제2패드(62,64)는 상기 방열 판(60) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1패드(62)는 상기 바 형상의 발광 칩(50) 아래에 배치되어, 전기 전도성 및 열 전도성 층으로 기능할 수 있다. 상기 제1패드(62)의 상면 면적은 상기 발광 칩(50)의 하면 면적보다 넓게 배치되어, 상기 발광 칩(50)으로부터 전도된 열을 효과적으로 전도할 수 있다. The first and second pads 62 and 64 may be disposed on the heat radiating plate 60. The first pad 62 may be disposed below the bar-shaped light emitting chip 50 and function as an electrically conductive and thermally conductive layer. The upper surface area of the first pad 62 may be greater than the lower surface area of the light emitting chip 50 to effectively conduct heat transmitted from the light emitting chip 50.

상기 제2패드(64)는 하나 또는 복수로 배치될 수 있으며, 하나의 제2패드(64)는 복수의 발광 구조물(20)과 복수의 연결 부재(41)로 연결되어 공통으로 구동 제어할 수 있다. 다른 예로서, 복수의 발광 구조물(20) 각각은 연결 부재(41)로 복수의 제2패드(64)와 각각 연결되고 개별 구동될 수 있다. 또한 복수의 발광 구조물(20)은 서로 직렬 또는 병렬로 연결될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 여기서, 상기 발광 칩(50)에는 보호층(30)의 오픈 영역에 제2전극(40)이 노출될 수 있으며, 상기 제2전극(40)은 연결 부재(41)에 연결될 수 있다. The second pads 64 may be arranged in one or more than one and the second pads 64 may be connected to the plurality of light emitting structures 20 by a plurality of connecting members 41 to be commonly driven have. As another example, each of the plurality of light emitting structures 20 may be individually connected to the plurality of second pads 64 by the connecting member 41 and individually driven. The plurality of light emitting structures 20 may be connected to each other in series or in parallel, but the present invention is not limited thereto. The second electrode 40 may be exposed to the open region of the protection layer 30 and the second electrode 40 may be connected to the connection member 41. [

상기 발광 칩(50)은 리지(ridge)(27A)를 갖고 돌출된 복수의 돌출부(50A)를 포함한다. 상기 복수의 돌출부(50A)는 상기 기판(10)의 반대측 방향으로 돌출될 수 있다. 상기 돌출부(50A)의 너비는 상기 발광 칩(50)의 너비(D3)와 동일한 너비일 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 즉, 상기 리지(27A)는 돌출부(50A)의 너비 예컨대, 스트라이프 형상으로 배치되므로 전류 주입 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 상기 리지(27A)는 상기 발광 칩(50)의 길이 방향과 직교하는 방향으로 각각 배치될 수 있다.
The light emitting chip 50 includes a plurality of protruding portions 50A having ridges 27A. The plurality of protrusions 50A may protrude in a direction opposite to the substrate 10. The width of the protrusion 50A may be the same width as the width D3 of the light emitting chip 50, but is not limited thereto. That is, since the ridge 27A is arranged in the width of the protrusion 50A, for example, in a stripe shape, the current injection efficiency can be improved. The ridges 27A may be arranged in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the light emitting chip 50, respectively.

상기 발광 칩(50)의 돌출부(50A) 간의 간격(D2)은 돌출부(50A)의 길이(D1)보다 넓게 배치될 수 있다. 이러한 발광 칩(50)의 돌출부(50A)의 간격(D2)을 넓게 배치하므로, 발광 소자(91)의 방열 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 이러한 발광 칩(50)은 예컨대, 레이저 다이오드로 구현될 수 있다. 상기 돌출부(50A) 간의 간격(D2)은 20㎛ 이상일 수 있으며, 이러한 수치 미만인 경우 방열 효율이 저하될 수 있다. 상기 돌출부(50A)의 길이(D1)는 1㎛ 이상일 수 있으며, 상기 수치 미만일 경우 전류 특성이 저하될 수 있다.
The distance D2 between the protruding portions 50A of the light emitting chip 50 may be larger than the length D1 of the protruding portion 50A. Since the distance D2 between the protrusions 50A of the light emitting chip 50 is wide, the heat radiation efficiency of the light emitting element 91 can be improved. Such a light emitting chip 50 can be realized, for example, with a laser diode. The distance D2 between the protrusions 50A may be 20 占 퐉 or more, and if it is less than this value, the heat dissipation efficiency may be lowered. The length D1 of the protruding portion 50A may be 1 탆 or more, and if it is less than the above value, the current characteristic may be degraded.

상기 방열 판(60)은 열 전도성 재질 예컨대 절연성 또는 전도성 재질을 포함할 수 있다. 상기 절연성 재질인 경우 상기 제1 및 제2패드(62,64)가 접촉될 수 있으며, 전도성 재질인 경우 제1 및 제2패드(62,64) 아래에 절연층(미도시)이 더 배치될 수 있다. 상기 전도성 재질은 금속 재질을 포함할 수 있다. 상기 방열 판(60)은 수지 재질의 PCB 또는 금속 재질의 방열 층을 갖는 PCB를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The heat dissipation plate 60 may include a thermally conductive material such as an insulating or conductive material. In the case of the insulating material, the first and second pads 62 and 64 may be in contact with each other. In case of a conductive material, an insulating layer (not shown) may be further disposed under the first and second pads 62 and 64 . The conductive material may include a metal material. The heat dissipation plate 60 may include a resin PCB or a PCB having a heat dissipation layer made of a metallic material. However, the present invention is not limited thereto.

상기 방열 판(60)은 길이(L1)가 너비(L2)보다 길게 예컨대, 3배 이상 길게 배치될 수 있다. 이러한 방열 판(60)의 길이(L1)는 바 형상의 발광 칩(50)의 길이(D4)에 따라 달라질 수 있다. The heat radiating plate 60 may have a length L1 longer than the width L2, for example, three times longer than the width L2. The length L1 of the heat dissipating plate 60 may vary depending on the length D4 of the bar-shaped light emitting chip 50. [

실시 예는 하나의 방열 판(60) 및 기판(10) 상에 리지를 갖는 복수의 발광 구조물(20)을 갖는 발광 칩(50)을 제공함으로써, 개별 발광 칩으로 분리하는 브레이킹 공정을 수행하지 않아도 될 수 있다. 또한 인접한 발광 구조물(20) 간의 분리 홈(45)의 간격을 조절하여 개별 발광 셀로 기능하도록 할 수 있다.
The embodiment provides a light emitting chip 50 having a single heat sink 60 and a plurality of light emitting structures 20 having ridges on the substrate 10 so that it is not necessary to perform a breaking process for separating into individual light emitting chips . Further, the spacing between the isolation trenches 45 between adjacent light emitting structures 20 can be adjusted to function as individual light emitting cells.

도 2를 참조하면, 상기 발광 칩(50)은 기판(10), 발광 구조물(20), 보호층(30), 제1 및 제2전극(42,40)을 포함한다. Referring to FIG. 2, the light emitting chip 50 includes a substrate 10, a light emitting structure 20, a passivation layer 30, and first and second electrodes 42 and 40.

상기 기판(10)은 전도성 기판 예컨대 금속성 재질 또는 반도체 재질을 포함할 수 있다. 상기 반도체 재질의 기판은 실리콘 재질, GaAs, 또는 GaN 재질의 기판을 포함할 수 있다. The substrate 10 may comprise a conductive substrate such as a metallic material or a semiconductor material. The substrate of the semiconductor material may include a substrate made of a silicon material, GaAs, or GaN.

상기 제1전극(42)은 기판(10)의 아래에 배치될 수 있으며, 상기 제1전극(42)의 길이는 상기 기판(10)의 길이와 동일한 길이이거나 더 길게 배치될 수 있다. 상기 제1전극(42) 및 상기 기판(10)의 길이는 복수의 발광 구조물(20)의 길이의 합보다 길게 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 제1전극(42)은 Ti, Ru, Rh, Ir, Mg, Zn, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag 및 Au와 이들의 선택적인 합금 중에서 선택될 수 있다. 상기 제1전극(42)는 단층 또는 다층으로 이루어질 수 있다.The first electrode 42 may be disposed below the substrate 10 and the length of the first electrode 42 may be equal to or longer than the length of the substrate 10. The length of the first electrode 42 and the substrate 10 may be longer than the sum of the lengths of the plurality of light emitting structures 20, but the present invention is not limited thereto. The first electrode 42 may be selected from Ti, Ru, Rh, Ir, Mg, Zn, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag, Au, . The first electrode 42 may be a single layer or a multilayer.

상기 발광 구조물(20)은, 제1도전형 반도체층(21), 제1도전형 클래드층(22), 제1광가이드층(23), 활성층(24), 전자 차단층(25), 제2광가이드층(26), 제2도전형 클래드층(27), 및 제2도전형 반도체층(28)을 포함한다.The light emitting structure 20 includes a first conductive semiconductor layer 21, a first conductive cladding layer 22, a first light guide layer 23, an active layer 24, an electron blocking layer 25, 2 light guide layer 26, a second conductivity type cladding layer 27, and a second conductivity type semiconductor layer 28. [

상기 제1도전형 반도체층(21)은 기판(10) 위에 배치된다. 상기 제1도전형 반도체층(21)은 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 제1도전형 반도체층(21)은 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제1도전형 반도체층(21)은 Si, Ge, Sn, Se, Te 등의 n형 도펀트가 도핑된 n형 반도체층이 될 수 있다. The first conductive semiconductor layer 21 is disposed on the substrate 10. The first conductivity type semiconductor layer 21 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? . The first conductive semiconductor layer 21 may include at least one of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP and AlGaInP. The first conductive semiconductor layer 21 may be an n-type semiconductor layer doped with an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, Se, or Te.

상기 제1도전형 반도체층(21)은 단층 또는 다층으로 배치될 수 있다. 상기 제1도전형 반도체층(21)은 서로 다른 적어도 두 층이 교대로 배치된 초격자 구조로 형성될 수 있다. 상기 제1도전형 반도체층(21)은 전극 접촉층일 수 있다.The first conductive semiconductor layer 21 may be a single layer or a multilayer. The first conductive semiconductor layer 21 may have a superlattice structure in which at least two different layers are alternately arranged. The first conductive semiconductor layer 21 may be an electrode contact layer.

상기 제1도전형 클래드층(22)은 상기 제1도전형 반도체층(21) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1도전형 클래드층(22)은 AlGaN계 반도체를 포함할 수 있다. 상기 제1도전형 클래드층(22)은 제1도전형의 도펀트 예컨대, n형 도펀트를 갖는 n형 반도체층일 수 있다. 상기 제1도전형 클래드층(22)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있으며, Si, Ge, Sn, Se, Te 등의 n형 도펀트가 도핑된 n형 반도체층이 될 수 있다. 상기 제1도전형 클래드층(22)은 형성하지 않을 수 있다.The first conductive cladding layer 22 may be disposed on the first conductive semiconductor layer 21. The first conductive cladding layer 22 may include an AlGaN-based semiconductor. The first conductive cladding layer 22 may be an n-type semiconductor layer having a dopant of the first conductivity type, for example, an n-type dopant. The first conductive cladding layer 22 may include at least one of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, Type semiconductor layer doped with an n-type dopant such as Te, or the like. The first conductive type cladding layer 22 may not be formed.

상기 제1광 가이드층(23)은 상기 제1도전형 클래드층(22) 상에 배치되며, InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 제1광 가이드층(23)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있으며, Si, Ge, Sn, Se, Te 등의 n형 도펀트가 도핑된 n형 반도체층이 될 수 있다.The first optical guide layer 23 is disposed on the first conductivity type cladding layer 22 and is made of In x Al y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, + y < / = 1). The first optical guide layer 23 may include at least one of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, Or an n-type semiconductor layer doped with an n-type dopant such as Te.

상기 활성층(24)은 상기 제1광 가이드층(23) 상에 배치된다. 상기 활성층(24)은 단일 우물, 단일 양자우물, 다중 우물, 다중 양자우물 구조(MQW: Multi Quantum Well), 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. The active layer 24 is disposed on the first optical guide layer 23. The active layer 24 may be formed of at least one of a single well, a single quantum well, a multi-well, a multi quantum well (MQW), a quantum-wire structure, or a quantum dot structure .

상기 활성층(24)은 상기 제1도전형 반도체층(21)을 통해서 주입되는 전자(또는 정공)와 상기 제2도전형 반도체층(28)을 통해서 주입되는 정공(또는 전자)이 서로 만나서, 상기 활성층(24)의 형성 물질에 따른 에너지 밴드(Energy Band)의 밴드 갭(Band Gap) 차이에 의해서 빛을 방출하는 층이다. Electrons (or holes) injected through the first conductive type semiconductor layer 21 and holes (or electrons) injected through the second conductive type semiconductor layer 28 meet with each other in the active layer 24, And is a layer that emits light by a band gap difference of an energy band according to a material of the active layer 24. [

상기 활성층(24)은 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 상기 활성층(24)은 예로서 II족-VI족 및 III족-V족 화합물 반도체 중에서 적어도 하나로 구현될 수 있다. 상기 활성층(24)은 적외선부터 자외선 영역의 발광 파장을 선택적으로 발광할 수 있다.The active layer 24 may be formed of a compound semiconductor. The active layer 24 may be formed of at least one of Group II-VI and Group III-V compound semiconductors. The active layer 24 can selectively emit light in the ultraviolet region from infrared rays.

상기 활성층(24)이 다중 우물 구조로 구현된 경우, 상기 활성층(24)은 복수의 우물층(미도시)과 복수의 장벽층(미도시)을 포함한다. 상기 우물층과 상기 장벽층의 페어는 2~30주기로 형성될 수 있다. 상기 우물층/장벽층의 주기는 예를 들어, InGaN/GaN, GaN/AlGaN, AlGaN/AlGaN, InGaN/AlGaN, InGaN/InGaN, AlGaAs/GaAs, InGaAs/GaAs, InGaP/GaP, AlInGaP/InGaP, 또는 InP/GaAs의 페어 중 적어도 하나를 포함한다. 상기 우물층은 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0<x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y<1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 배치될 수 있다. 상기 장벽층은 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y<1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다.When the active layer 24 is implemented as a multi-well structure, the active layer 24 includes a plurality of well layers (not shown) and a plurality of barrier layers (not shown). The pair of the well layer and the barrier layer may be formed in 2 to 30 cycles. InGaN / AlGaN, InGaN / AlGaN, InGaN / InGaN, AlGaAs / GaAs, InGaAs / GaAs, InGaP / GaP, AlInGaP / InGaP, or InGaN / AlGaN. InP / GaAs < / RTI &gt; pair. The well layer may be disposed of a semiconductor material having a composition formula of, for example, In x Al y Ga 1-xy N (0 <x? 1, 0? Y? 1, 0? X + y < The barrier layer may be formed of a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y <

상기 전자 차단층(25)은 상기 활성층(24)의 밴드 갭(Band gap)보다 넓은 밴드 갭을 갖는 물질 층으로서, 상기 활성층(24)을 통해 전달되는 전자를 블록킹하게 된다. 상기 전자 차단층(25)은 활성층(24)과 제2광 가이드층(26) 사이에 배치될 수 있다. 상기 전자 차단층(25)은 AlN계 또는 AlGaN계 반도체를 포함할 수 있다. 이러한 전자 차단층(25)은 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba와 같은 p형 도펀트를 포함할 수 있다. 이러한 전자 차단층(25)은 형성하지 않을 수 있다.The electron blocking layer 25 is a material layer having a band gap wider than the band gap of the active layer 24 and blocks electrons transmitted through the active layer 24. The electron blocking layer 25 may be disposed between the active layer 24 and the second optical guide layer 26. The electron blocking layer 25 may include AlN-based or AlGaN-based semiconductors. The electron blocking layer 25 may include a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba. The electron blocking layer 25 may not be formed.

상기 제2광 가이드층(26)은 상기 제1광 가이드층(23)과 동일한 물질로 형성될 수 있으며, p형 반도체층을 포함할 수 있다.The second optical guide layer 26 may be formed of the same material as the first optical guide layer 23, and may include a p-type semiconductor layer.

상기 제1광 가이드층(23), 상기 활성층(24), 제2광 가이드층(26)은 공진기층으로 실질적으로 레이징이 일어나는 부분이다. The first optical waveguide layer 23, the active layer 24, and the second optical waveguide layer 26 are portions where the resonator layer is substantially razed.

상기 제1광 가이드층(23) 및 제2광 가이드층(26)은 상기 활성층(24)보다 굴절률이 낮은 층으로써, 예컨대 각각 n-GaN 층 및 p-GaN 층으로 이루질 수 있다. 이와 같이 상기 제1광 가이드층(23) 및 제2광 가이드층(26)과 상기 활성층(24)과의 굴절률의 차이로 인하여 상기 활성층(24) 영역에서 생성되는 빛이 상기 활성층(24)을 벗어나지 않게 된다. 상기 활성층(24)은 레이징이 일어날 수 있는 물질층일 수 있으며, 임계 전류값이 낮고 횡모드 특성이 안정된 레이저를 얻을 수 있는 물질을 포함할 수 있다. The first optical guide layer 23 and the second optical guide layer 26 may have a refractive index lower than that of the active layer 24, for example, an n-GaN layer and a p-GaN layer, respectively. The light generated in the active layer 24 due to the difference in the refractive index between the first and second optical guide layers 23 and 26 and the active layer 24 is reflected by the active layer 24 It will not escape. The active layer 24 may be a material layer capable of raising, and may include a material capable of obtaining a laser having a low critical current value and a stable transverse mode characteristic.

상기 제2도전형 클래드층(27)은 제1도전형 클래드층(22)과 동일한 물질일 수 있으며, 예컨대 AlGaN계 반도체를 포함할 수 있다. 상기 제2도전형 클래드층(27)은 제2도전형의 도펀트 예컨대, p형 도펀트를 갖는 p형 반도체층일 수 있다. 상기 제2도전형 클래드층(27)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제2도전형 클래드층(27)은 형성하지 않을 수 있다. 여기서, 상기 제1광 가이드층(23)부터 제2광 가이드층(26)까지의 층 구조를 반도체 레이저 구조로 정의할 수 있다. 또는 상기 제1도전형 클래드층(22)부터 상기 제2도전형 클래드층(27)까지의 층 구조를 반도체 레이저 구조로 정의할 수 있다. 이러한 반도체 레이저 구조 내의 층들을 구성하는 재료를 적절히 선택함으로써, 적외선부터 자외선 영역까지의 발광 파장을 선택할 수 있다. The second conductive clad layer 27 may be the same material as the first conductive clad layer 22 and may include, for example, an AlGaN-based semiconductor. The second conductive cladding layer 27 may be a p-type semiconductor layer having a second conductivity type dopant, for example, a p-type dopant. The second conductive clad layer 27 may include at least one of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP and AlGaInP. The second conductive type cladding layer 27 may not be formed. Here, the layer structure from the first optical guide layer 23 to the second optical guide layer 26 can be defined as a semiconductor laser structure. Or the layer structure from the first conductive clad layer 22 to the second conductive clad layer 27 may be defined as a semiconductor laser structure. By appropriately selecting the material constituting the layers in the semiconductor laser structure, the emission wavelength from the infrared ray to the ultraviolet ray region can be selected.

상기 제2도전형 클래드층(27)은 리지(ridge)(27A)를 포함한다. 상기 리지(27A)는 상기 제2도전형 클래드층(27)의 상면의 일부로부터 돌출된다. 상기 리지(27A)는 상기 제2도전형 반도체층(27)과 동일한 반도체 물질이거나 다른 반도체 물질로 배치될 수 있다. 상기 리지(27A)의 폭은 1㎛ 이상 예컨대, 3㎛ 내지 40㎛ 범위로 배치될 수 있다. 상기 리지(27A)의 폭은 인접한 리지 간의 간격보다 좁게 배치될 수 있다. 상기 리지(27A)는 상기 발광 구조물(20)의 길이 또는 발광 칩(20)의 길이와 동일한 길이로 배치될 수 있으며, 예컨대 스트라이프 형상을 배치될 수 있다. 상기 리지(27A)는 제2도전형 클래드층(27)과 제2도전형 반도체층(28) 사이에 배치되어 전류 주입 효율을 개선시켜 줄 수 있다.The second conductive type cladding layer 27 includes a ridge 27A. The ridge 27A protrudes from a part of the upper surface of the second conductive type cladding layer 27. [ The ridge 27A may be the same semiconductor material as the second conductive type semiconductor layer 27 or may be disposed of a different semiconductor material. The width of the ridge 27A may be in the range of 1 占 퐉 or more, for example, in the range of 3 占 퐉 to 40 占 퐉. The width of the ridge 27A may be narrower than the spacing between adjacent ridges. The ridge 27A may have a length equal to the length of the light emitting structure 20 or the length of the light emitting chip 20, for example, a stripe shape may be disposed. The ridge 27A may be disposed between the second conductive type cladding layer 27 and the second conductive type semiconductor layer 28 to improve current injection efficiency.

상기 제2도전형 반도체층(28)은 제2도전형 클래드층(27)의 리지(27A) 상에 배치된다. 상기 제2도전형 반도체층(28)은 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 제2도전형 반도체층(28)은 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제2도전형 반도체층(28)은 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba와 같은 p형 도펀트를 포함할 수 있다. 상기 제2도전형 반도체층(28)은 단층 또는 다층으로 배치될 수 있다. 상기 제2도전형 반도체층(28)은 서로 다른 적어도 두 층이 교대로 배치된 초격자 구조로 형성될 수 있다. 상기 제2도전형 반도체층(28)은 전극 접촉층일 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 28 is disposed on the ridge 27A of the second conductivity type cladding layer 27. The second conductivity type semiconductor layer 28 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? . The second conductive semiconductor layer 28 may include at least one of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP and AlGaInP. The second conductive semiconductor layer 28 may include a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba. The second conductivity type semiconductor layer 28 may be a single layer or a multilayer. The second conductive semiconductor layer 28 may have a superlattice structure in which at least two different layers are alternately arranged. The second conductive semiconductor layer 28 may be an electrode contact layer.

상기 제2도전형 반도체층(28) 위에는 제2전극(40)이 배치될 수 있다. 상기 제2전극(40)은 상기 제2도전형 반도체층(28) 위에 배치되거나, 상기 제2도전형 반도체층(28) 및 보호층(30) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2전극(40)은 Ti, Ru, Rh, Ir, Mg, Zn, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag 및 Au와 이들의 선택적인 합금 중에서 선택될 수 있다. 상기 제2전극(40)은 단층 또는 다층으로 이루어질 수 있다.A second electrode 40 may be disposed on the second conductive semiconductor layer 28. The second electrode 40 may be disposed on the second conductive semiconductor layer 28 or may be disposed on the second conductive semiconductor layer 28 and the passivation layer 30. The second electrode 40 may be selected from Ti, Ru, Rh, Ir, Mg, Zn, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag, Au, . The second electrode 40 may be a single layer or a multilayer.

보호층(30)은 상기 제2도전형 클래드층(27)으로부터 상기 제2전극(40)의 표면까지 배치되어, 발광 칩(50)를 보호할 수 있다. 여기서, 상기 보호층(30)은 상기 리지(27A)의 측면도 보호할 수 있다. 상기 보호층(30)의 오픈 영역(31)은 상기 제2전극(40)의 상면을 노출시켜 주어, 도 1과 같이 연결 부재(41)로 연결시켜 줄 수 있다.The protective layer 30 may be disposed from the second conductive clad layer 27 to the surface of the second electrode 40 to protect the light emitting chip 50. Here, the protection layer 30 may protect the side surface of the ridge 27A. The open area 31 of the protection layer 30 may expose the upper surface of the second electrode 40 and may be connected to the connection member 41 as shown in FIG.

상기 보호층(30)은 실리콘 산화막(SiO2), 실리콘 질화막(Si3N4), Al2O3, HfO, TiO2, AlN들 중에서 어느 하나를 선택하여 사용할 수 있다. The protective layer 30 may be formed of any one selected from the group consisting of a silicon oxide film (SiO 2 ), a silicon nitride film (Si 3 N 4 ), Al 2 O 3 , HfO 2 , TiO 2 , and AlN.

한편, 상기 발광 칩(50) 내에는 발광 구조물(20)을 복수로 분리시켜 주는 분리 홈(45)을 포함하며, 상기 분리 홈(45)은 복수의 발광 구조물(20) 사이에 배치될 수 있다. 상기 분리 홈(45)은 상기 제2도전형 클래드층(27)의 상면부터 제1도전형 클래드층(22)의 일부까지 연장되거나, 상기 제1광 가이드층(23)의 일부까지 연장되거나, 상기 제1도전형 반도체층(21)의 일부까지 연장될 수 있다. 즉, 상기 각 발광 구조물(20)은 제1도전형 반도체층(21), 제1도전형 클래드층(22) 및 제1광 가이드층(23) 중 적어도 하나의 위에서 복수로 분리될 수 있다. 상기 복수의 발광 구조물(20)은 n형 반도체층인 제1도전형 반도체층(21), 제1도전형 클래드층(22) 및 제1광 가이드층(23) 중 적어도 하나를 공통으로 공유할 수 있다.The light emitting chip 50 may include a separation groove 45 for separating the light emitting structure 20 into a plurality of light emitting structures 20. The separation groove 45 may be disposed between the plurality of light emitting structures 20 . The isolation groove 45 may extend from the upper surface of the second conductive clad layer 27 to a portion of the first conductive clad layer 22 or may extend to a portion of the first light guide layer 23, And may extend to a portion of the first conductive semiconductor layer 21. That is, each of the light emitting structures 20 may be divided into a plurality of layers on at least one of the first conductive semiconductor layer 21, the first conductive clad layer 22, and the first light guide layer 23. The plurality of light emitting structures 20 commonly share at least one of the first conductivity type semiconductor layer 21, the first conductivity type cladding layer 22, and the first optical guide layer 23, which are n-type semiconductor layers .

상기 분리 홈(45)은 도 1과 같이 발광 칩(50)의 너비와 동일한 너비를 가지고, 발광 셀 단위로 분리시켜 줄 수 있다. 1, the separation groove 45 has a width equal to the width of the light emitting chip 50, and can be separated in units of light emitting cells.

상기 분리 홈(45) 내에는 상기 보호층(30)의 일부(35)가 채워질 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
A part (35) of the protective layer (30) may be filled in the separation groove (45), but the present invention is not limited thereto.

도 3은 도 1의 발광 소자가 배열된 라이트 유닛을 나타낸 도면이며, 도 4는 도 3의 라이트 유닛의 측 단면도이다.FIG. 3 is a view showing a light unit in which the light emitting elements of FIG. 1 are arranged, and FIG. 4 is a side sectional view of the light unit of FIG.

도 3 및 도 4를 참조하면, 라이트 유닛은 하우징(80), 상기 하우징(80) 내에 배치된 복수의 발광 소자(91), 및 상기 하우징(80)에 채워지며 복수의 발광 소자(91) 사이에 수지 부재(70)를 포함한다.3 and 4, the light unit includes a housing 80, a plurality of light emitting elements 91 disposed in the housing 80, and a plurality of light emitting elements 91 that are filled in the housing 80, And a resin member (70).

상기 하우징(80)은 금속 재질 또는 비 금속 재질을 포함할 수 있다. 상기 금속 재질인 경우, 구리 또는 구리 합금을 포함할 수 있으며, 비 금속 재질인 경우, 플라스틱과 같은 수지 재질 또는 고분자 화합물로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The housing 80 may include a metal material or a non-metal material. In the case of the metal material, it may include copper or a copper alloy. In the case of a non-metallic material, it may be formed of a resin material such as plastic or a polymer compound, but the present invention is not limited thereto.

상기 하우징(80)은 상부 영역 예컨대, 광 출사면이 오픈된 수납부(81)를 구비하며, 상기 수납부(81)에는 복수의 발광 소자(91)를 구비하게 된다. 상기 복수의 발광 소자(91)는 서로 소정 간격을 갖고 배열된다. 상기 복수의 발광 소자(91)는 서로 평행하게 배치될 수 있다. The housing 80 includes an upper portion such as a light emitting portion 81 in which a light emitting surface is opened and a plurality of light emitting devices 91 are provided in the receiving portion 81. The plurality of light emitting devices 91 are arranged at a predetermined interval from each other. The plurality of light emitting devices 91 may be arranged parallel to each other.

상기 수납부(81)의 깊이는 상기 발광 소자(91)의 너비 또는 방열 판(60)의 너비보다 깊게 배치될 수 있다. 즉, 수납부(81)는 외측으로 발광 소자(91)가 돌출되지 않을 정도의 깊이를 가질 수 있다. The depth of the accommodating portion 81 may be greater than the width of the light emitting device 91 or the width of the heat dissipating plate 60. That is, the accommodating portion 81 may have a depth such that the light emitting element 91 does not protrude outward.

상기 복수의 발광 소자(91)는 상기 수지 부재(70)에 의해 몰딩된다. 상기 수지 부재(70)는 투광성 재질을 포함하며, 실리콘 또는 에폭시와 같은 수지 재질을 포함한다. 상기 수지 부재(70)는 상기 하우징(80) 내에서 상기 복수의 발광 소자(91) 간의 간격을 유지시켜 주고, 상기 복수의 발광 소자(91)를 지지하게 된다. The plurality of light emitting devices 91 are molded by the resin member 70. The resin member 70 includes a light-transmitting material, and includes a resin material such as silicone or epoxy. The resin member 70 maintains a gap between the plurality of light emitting elements 91 in the housing 80 and supports the plurality of light emitting elements 91.

상기 수지 부재(70)는 상기 발광 소자(91)의 노출 부분을 커버하는 높이로 배치되어, 상기 발광 소자(91)를 보호할 수 있다. 상기 수지 부재(70)의 두께는 상기 발광 소자(91)의 너비(도 1의 L2)보다 두꺼울 수 있다.The resin member 70 is disposed at a height covering the exposed portion of the light emitting element 91 to protect the light emitting element 91. The thickness of the resin member 70 may be thicker than the width of the light emitting element 91 (L2 in Fig. 1).

상기 수지 부재(70) 상에는 광학 렌즈(75)가 배치될 수 있으며, 상기 광학 렌즈(75)는 발광 소자(91)의 각 발광 구조물(20)에 대응되는 위치에 배치될 수 있다. 상기 발광 칩(50)의 각 발광 구조물(20)의 리지의 측면은 상기 하우징(80)의 오픈 영역에 노출될 수 있다.An optical lens 75 may be disposed on the resin member 70 and the optical lens 75 may be disposed at a position corresponding to each light emitting structure 20 of the light emitting element 91. The sides of ridges of the respective light emitting structures 20 of the light emitting chip 50 may be exposed to the open region of the housing 80. [

이러한 광학 렌즈(75)는 상기 발광 구조물(20)의 일 측면으로부터 방출된 광(H1)을 집광시켜 줄 수 있다. 상기 광학 렌즈(75)는 반구형 렌즈이거나, 또는 곡면을 갖는 오목 또는 볼록 렌즈를 포함할 수 있다. The optical lens 75 may condense the light H1 emitted from one side of the light emitting structure 20. The optical lens 75 may be a hemispherical lens, or may include a concave or convex lens having a curved surface.

상기 광학 렌즈(75)는 각 발광 구조물(20)로 대응되는 형태로 도시하였으나, 각 발광 칩(50)의 길이 방향으로 발광 구조물(20)의 전 영역을 커버하는 형태로 배치될 수 있다. 즉, 상기 광학 렌즈(75)는 발광 칩(50)의 길이를 갖고 반구형 형상으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The optical lens 75 may be arranged to cover the entire area of the light emitting structure 20 in the longitudinal direction of each light emitting chip 50. [ That is, the optical lens 75 may have a length of the light emitting chip 50 and may have a hemispherical shape, but the present invention is not limited thereto.

실시 예에 따른 라이트 유닛은 바 형상의 발광 칩(50)이 배열된 복수의 발광 소자(91)를 제공하므로, 개별 발광 구조물(20)을 갖는 칩 간의 브레이킹 공정이 줄어들 수 있다.
The light unit according to the embodiment provides a plurality of light emitting elements 91 in which the bar-shaped light emitting chips 50 are arranged, so that the breaking process between the chips having the individual light emitting structures 20 can be reduced.

도 5는 도 3의 라이트 유닛의 다른 예이다.5 is another example of the light unit of Fig.

도 5를 참조하면, 라이트 유닛은 하우징(80), 상기 하우징(80) 내에 배치된 복수의 발광 소자(91), 및 상기 복수의 발광 소자(91) 사이에 수지 부재(70)를 포함한다.5, the light unit includes a housing 80, a plurality of light emitting elements 91 disposed in the housing 80, and a resin member 70 between the plurality of light emitting elements 91.

상기 발광 소자(91)는 방열 판(60)의 상면 및 하면에 발광 칩(50)이 배치된다. 상기 발광 칩(50)은 방열 판(60)의 상면 및 하면에 각각 배치될 수 있다. 상기 발광 소자(91)는 하우징(80) 내에 복수개가 배치될 수 있다.In the light emitting device 91, the light emitting chip 50 is disposed on the top and bottom surfaces of the heat dissipating plate 60. The light emitting chips 50 may be disposed on the upper surface and the lower surface of the heat dissipating plate 60, respectively. A plurality of the light emitting devices 91 may be disposed in the housing 80.

상기 하우징(80)에는 상기 발광 소자(91)를 덮는 수지 부재(70)가 배치될 수 있으며, 상기 수지 부재(70)는 투광성 재질을 포함한다.A resin member 70 covering the light emitting element 91 may be disposed in the housing 80. The resin member 70 may include a light transmitting material.

상기 수지 부재(70)에는 상기 발광 칩(50)의 발광 구조물(20)과 대응되는 영역에 광학 렌즈(도 4의 75)가 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 또한 서로 다른 방열 판(60)에 배치된 발광 칩은 서로 대면할 수 있다. 이러한 라이트 유닛은 발광 칩(50)의 집적 개수를 늘려줄 수 있다.
The resin member 70 may be provided with an optical lens (75 in FIG. 4) in a region corresponding to the light emitting structure 20 of the light emitting chip 50, but the invention is not limited thereto. Further, the light emitting chips disposed on the different heat sinks 60 may face each other. Such a light unit can increase the number of light emitting chips 50 integrated.

도 6는 제2실시 예에 따른 발광 소자를 나타낸 도면이고, 도 7은 도 6의 발광 소자(91)를 나타낸 도면이다. 도 6 및 도 7을 설명함에 있어서, 상기에 개시된 실시 예의 구성과 동일한 구성은 상기에 개시된 설명을 참조하기로 한다.FIG. 6 is a view showing a light emitting device according to a second embodiment, and FIG. 7 is a view showing the light emitting device 91 of FIG. 6 and 7, the same configuration as that of the above-described embodiment will be described with reference to the above-described description.

도 6 및 도 7을 참조하면, 발광 소자(92)는 발광 칩(50) 및 상기 발광 칩(50) 아래에 방열 판(60)을 포함한다. 6 and 7, the light emitting device 92 includes a light emitting chip 50 and a heat dissipating plate 60 below the light emitting chip 50.

상기 발광 칩(50)은 기판(10) 상에 배치된 발광 구조물(20)을 포함하며, 상기 발광 구조물(20) 상에 돌출된 복수의 돌출부(50A,50B)를 포함한다. 상기 돌출부(50A,50B)는 전기적인 연결을 위한 제1돌출부(50A)와 방열을 위한 제2돌출부(50A,50B)를 포함한다.The light emitting chip 50 includes a light emitting structure 20 disposed on a substrate 10 and includes a plurality of protrusions 50A and 50B protruding from the light emitting structure 20. The light emitting structure 20 includes a light emitting structure 20, The protrusions 50A and 50B include a first protrusion 50A for electrical connection and a second protrusion 50A and 50B for heat dissipation.

상기 제1돌출부(50A)는 노출된 제2전극(40)를 연결 부재(41)로 제2패드(64)와 연결시켜 줄 수 있다. 상기 제2돌출부(50B)는 제2패드(64)와 전기적으로 차단된다. 이러한 제2돌출부(50B)는 제2전극(40)이나 발광 구조물(20)의 일부 영역이 노출되지 않게 된다.The first protrusion 50A may connect the exposed second electrode 40 to the second pad 64 with the connection member 41. [ The second protrusion 50B is electrically disconnected from the second pad 64. [ The second protrusion 50B does not expose the second electrode 40 or a part of the region of the light emitting structure 20. [

상기 제2돌출부(50B)는 복수개가 배치될 수 있다. 상기 제2돌출부(50B)는 인접한 제1돌출부(50A) 사이에 각각 배치될 수 있다. 상기 제2돌출부(50B)의 개수는 제1돌출부(50A)의 개수보다 적을 수 있다. 또한 상기 제2돌출부(50B)는 2개 또는 3개 단위의 제1돌출부(50A)들 사이에 각각 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 제2돌출부(50B)를 갖는 발광 구조물(20)은 광을 발광하지 않을 수 있다. A plurality of the second protrusions 50B may be disposed. The second protrusions 50B may be disposed between adjacent first protrusions 50A, respectively. The number of the second projections 50B may be less than the number of the first projections 50A. The second protrusions 50B may be disposed between the first protrusions 50A of two or three units, but the present invention is not limited thereto. The light emitting structure 20 having the second protrusion 50B may not emit light.

도 7의 발광 칩(50)에 대한 설명은 상기의 도 2의 설명을 참조하기로 한다. 상기 제2돌출부(50B)에는 제2전극(40)이 배치되거나 제거될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light emitting chip 50 of FIG. 7 will be described with reference to FIG. 2 described above. The second electrode 40 may be disposed on or removed from the second protrusion 50B, but the present invention is not limited thereto.

이러한 발광 소자(92)는 도 4 내지 6과 같은 하우징(80) 내에 수지 부재(70)로 몰딩되어 배치될 수 있다.
Such a light emitting device 92 may be molded and disposed in the housing 80 as shown in Figs. 4 to 6 with the resin member 70. Fig.

도 8은 제3실시 예에 따른 발광 소자를 나타낸 도면이다. 도 8을 설명함에 있어서, 상기에 개시된 실시 예의 구성과 동일한 구성은 상기에 개시된 설명을 참조하기로 한다.8 is a view illustrating a light emitting device according to the third embodiment. In explaining FIG. 8, the same configuration as that of the above-described embodiment will be described with reference to the above-described description.

도 8을 참조하면, 발광 소자(93)는 발광 칩(53), 상기 발광 칩(53) 아래에 제1 및 제2패드(62,64), 상기 제1 및 제2패드(62,64) 아래에 방열 판(60)을 포함한다.8, the light emitting device 93 includes a light emitting chip 53, first and second pads 62 and 64 under the light emitting chip 53, first and second pads 62 and 64, And includes a heat dissipating plate 60 below.

상기 발광 칩(53)은 기판(10A), 상기 기판(10A) 아래에 발광 구조물(20), 상기 발광 구조물(20) 아래에 보호층(30), 상기 발광 구조물(20) 아래에 제1 및 제2전극(42,40)을 포함한다. The light emitting chip 53 includes a substrate 10A, a light emitting structure 20 under the substrate 10A, a passivation layer 30 under the light emitting structure 20, And second electrodes (42, 40).

상기 기판(10A)은 투광성 또는 절연성 기판을 포함할 수 있다. 상기 절연성 기판은 사파이어 재질을 포함할 수 있다. The substrate 10A may include a light-transmitting or insulating substrate. The insulating substrate may include a sapphire material.

상기 발광 구조물(20)은, 제1도전형 반도체층(21), 제1도전형 클래드층(22), 제1광가이드층(23), 활성층(24), 전자 차단층(25), 제2광가이드층(26), 제2도전형 클래드층(27), 및 제2도전형 반도체층(28)을 포함한다.The light emitting structure 20 includes a first conductive semiconductor layer 21, a first conductive cladding layer 22, a first light guide layer 23, an active layer 24, an electron blocking layer 25, 2 light guide layer 26, a second conductivity type cladding layer 27, and a second conductivity type semiconductor layer 28. [

상기 제1도전형 반도체층(21)의 하측 일부에는 제1전극(42A)이 배치되며, 제2도전형 반도체층(28)이 아래에는 제2전극(40)이 배치된다. 상기 제1 및 제2전극(42A,40)은 발광 구조물(20)의 아래에 배치되어, 제1 및 제2패드(62,64) 상에 플립 본딩된다. 즉, 상기 발광 칩(53)은 상기 제1 및 제2패드(62,64) 상에 플립 칩 본딩된다.A first electrode 42A is disposed on a lower portion of the first conductive semiconductor layer 21 and a second electrode 40 is disposed on the lower portion of the second conductive semiconductor layer 28. [ The first and second electrodes 42A and 40 are disposed under the light emitting structure 20 and are flip-bonded on the first and second pads 62 and 64, respectively. That is, the light emitting chip 53 is flip-chip bonded on the first and second pads 62 and 64.

상기 제1전극(42A)은 제1연결 부재(43)로 제1패드(62)에 본딩되고, 제2전극(40)은 제2연결 부재(44)로 제2패드(64)에 본딩된다. 상기 제1 및 제2연결 부재(43,44)는 솔더 볼 또는 솔더 범프로 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The first electrode 42A is bonded to the first pad 62 with the first connecting member 43 and the second electrode 40 is bonded to the second pad 64 with the second connecting member 44 . The first and second connecting members 43 and 44 may be formed of solder balls or solder bumps, but the present invention is not limited thereto.

상기 발광 칩(53) 내의 복수의 발광 구조물(20)은 서로 직렬로 연결될 수 있다. 예를 들면, 인접한 제1발광 구조물의 제2전극(40)과 제2발광 구조물의 제1전극(42A)는 제2패드(64) 또는 제1패드(62) 상에 배치될 수 있다. 이에 따라 복수의 발광 구조물(20)은 직렬로 연결될 수 있다. The plurality of light emitting structures 20 in the light emitting chip 53 may be connected in series with each other. For example, the second electrode 40 of the adjacent first light emitting structure and the first electrode 42A of the second light emitting structure may be disposed on the second pad 64 or the first pad 62. Accordingly, the plurality of light emitting structures 20 can be connected in series.

상기 복수의 발광 구조물(20) 사이의 분리 홈(45)은 발광 구조물(20)들의 접촉을 차단하기 위해 분리시켜 주고, 내부에 보호층(30)의 일부(35)가 배치될 수 있다. 상기 분리 홈(45)은 기판(10A)의 하면까지 배치될 수 있으며, 상기 보호층(30)의 일부(35)는 상기 기판(10A)에 접촉될 수 있다. 이러한 발광 칩(53)으로부터 발생된 열은 방열 판(60)에 의해 방열될 수 있다.The isolation trench 45 between the plurality of light emitting structures 20 may be separated to prevent contact between the light emitting structures 20 and a portion 35 of the protection layer 30 may be disposed therein. The separation groove 45 may be disposed to a lower surface of the substrate 10A and a portion 35 of the protection layer 30 may contact the substrate 10A. The heat generated from the light emitting chip 53 can be dissipated by the heat dissipating plate 60.

상기 발광 소자(93)는 도 4 내지 도 6과 같은 하우징(80) 내에 배열되고, 수지 부재(70)에 의해 몰딩될 수 있다. 또한 상기 돌출부 중에는 도 6, 7과 같은 패드와 전기적으로 차단된 돌출부를 포함할 수 있다. 이 경우 복수의 발광 구조물은 병렬로 연결될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
The light emitting element 93 is arranged in the housing 80 as shown in Figs. 4 to 6, and can be molded by the resin member 70. Fig. The protrusions may include protrusions electrically isolated from the pads shown in FIGS. In this case, the plurality of light emitting structures may be connected in parallel, but the present invention is not limited thereto.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

10, 10A: 기판 20: 발광 구조물
21: 제1도전형 반도체층 22: 제1도전형 클래드층
23: 제1광 가이드층 24: 활성층
25: 전자 차단층 26: 제2광 가이드층
27: 제2도전형 클래드층 27A: 리지
28: 제2도전형 반도체층 30: 보호층
40: 제2전극 42: 제1전극
50,53: 발광 칩 50A, 50B: 돌출부
60: 방열 판 62,64: 패드
70: 수지 부재 80: 하우징
91,92,93: 발광 소자 10, 10A: substrate 20: light emitting structure
21: first conductivity type semiconductor layer 22: first conductivity type cladding layer
23: first optical guide layer 24: active layer
25: electron barrier layer 26: second optical guide layer
27: second conductive type cladding layer 27A: ridge
28: second conductivity type semiconductor layer 30: protective layer
40: second electrode 42: first electrode
50, 53: light emitting chip 50A, 50B:
60: heat dissipating plate 62, 64: pad
70: resin member 80: housing
91, 92, 93:

Claims (15)

복수의 발광 구조물을 갖는 발광 칩 및 상면 및 하면 중 적어도 한 면에 상기 발광 칩이 배치된 방열 판을 갖는 복수의 발광 소자;
상기 복수의 발광 소자가 배열된 하우징; 및
상기 하우징에 채워지며 상기 복수의 발광 소자 사이에 배치된 수지 부재를 포함하며,
상기 발광 칩은 길이가 너비보다 긴 형상을 갖고, 상기 복수의 발광 구조물이 상기 발광 칩의 길이 방향으로 배치되며,
상기 발광 칩은 상기 복수의 발광 구조물을 지지하는 기판; 및 상기 기판의 반대측 방향으로 돌출되며 상기 복수의 발광 구조물 각각에 리지를 갖는 돌출부를 포함하는 라이트 유닛.A plurality of light emitting devices having a plurality of light emitting structures, and a heat dissipation plate having the light emitting chips disposed on at least one of the upper and lower surfaces thereof;
A housing in which the plurality of light emitting elements are arranged; And
And a resin member filled in the housing and disposed between the plurality of light emitting elements,
Wherein the light emitting chip has a shape whose length is longer than the width, the plurality of light emitting structures are arranged in the longitudinal direction of the light emitting chip,
Wherein the light emitting chip comprises: a substrate supporting the plurality of light emitting structures; And a protrusion protruding in a direction opposite to the substrate and having a ridge in each of the plurality of light emitting structures. 제1항에 있어서,
상기 발광 칩은 상기 복수의 발광 구조물 사이에 분리 홈을 포함하는 라이트 유닛.The method according to claim 1,
Wherein the light emitting chip includes a separation groove between the plurality of light emitting structures. 제2항에 있어서,
상기 복수의 발광 구조물 및 상기 분리 홈 상에 배치된 보호층을 포함하는 라이트 유닛. 3. The method of claim 2,
And a protective layer disposed on the plurality of light emitting structures and the isolation grooves. 제1항에 있어서,
상기 발광 칩은 상기 방열 판의 상면 및 하면에 배치된 라이트 유닛.The method according to claim 1,
And the light emitting chip is disposed on the top and bottom surfaces of the heat dissipation plate. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 부재 상에 상기 발광 구조물과 대응되는 광학 렌즈를 포함하는 라이트 유닛.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
And an optical lens corresponding to the light emitting structure on the resin member. 제1항에 있어서,
상기 발광 칩의 돌출부의 길이는 상기 발광 구조물 간의 간격보다 좁은 라이트 유닛.The method according to claim 1,
Wherein a length of a protrusion of the light emitting chip is narrower than an interval between the light emitting structures. 제1항에 있어서,
상기 복수의 발광 구조물의 돌출부는 전기적으로 연결된 복수의 제1돌출부와, 전기적으로 차단되는 제2돌출부를 포함하며,
상기 제2돌출부는 상기 제1돌출부들 사이에 배치되는 라이트 유닛.The method according to claim 1,
Wherein the protrusions of the plurality of light emitting structures include a plurality of first protrusions electrically connected to each other and a second protrusion electrically disconnected,
And the second projection is disposed between the first projections. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 방열 판 상에 배치되며 상기 발광 칩과 전기적으로 연결된 제1패드 및 제2패드를 포함하는 라이트 유닛.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
And a first pad and a second pad disposed on the heat radiating plate and electrically connected to the light emitting chip. 제8항에 있어서,
상기 제1패드는 상기 기판 아래에 배치되며 상기 기판과 전기적으로 연결되는 라이트 유닛.9. The method of claim 8,
Wherein the first pad is disposed under the substrate and is electrically connected to the substrate. 제8항에 있어서,
상기 발광 칩은 상기 제1 및 제2패드 상에 플립 칩 본딩되는 라이트 유닛. 9. The method of claim 8,
Wherein the light emitting chip is flip-chip bonded onto the first and second pads. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 발광 구조물은 서로 직렬 또는 병렬로 연결되는 라이트 유닛. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the plurality of light emitting structures are connected to each other in series or in parallel. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 발광 칩은 레이저 다이오드를 포함하는 라이트 유닛.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the light emitting chip includes a laser diode. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 부재의 두께는 상기 발광 소자의 너비보다 넓게 배치되는 라이트 유닛.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein a thickness of the resin member is larger than a width of the light emitting element. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판의 너비는 상기 발광 칩의 너비와 동일하고, 상기 기판의 길이는 상기 발광 칩의 길이와 동일한 라이트 유닛.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the width of the substrate is equal to the width of the light emitting chip, and the length of the substrate is equal to the length of the light emitting chip. 제14항에 있어서,
상기 돌출부의 너비는 상기 발광 칩의 너비와 동일한 라이트 유닛.
15. The method of claim 14,
And the width of the protrusion is equal to the width of the light emitting chip.
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