KR20160046209A - Organic light emitting display device and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

According to one embodiment of the present invention, an organic light emitting display device includes a pad unit and an anode which have different stack structures. More particularly, the pad unit consists of only a first pad layer which is composed of one layer without a layer having the same material as a metal layer of the anode. Also, the thickness of the first pad layer is configured to be the same as that of a first transparent conductive layer of the anode through the same process, and the thickness of the first pad layer is configured to be greater than the thickness of a second transparent conductive layer. Therefore, the reliability of the pad unit can be enhanced by ameliorating a contact failure of a circuit unit due to corrosion and damage to the pad unit, and delamination of the pad unit. Furthermore, the organic light emitting display device achieves production cost reduction and production yield improvement.

Description

유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 {ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}Technical Field [0001] The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED) display device and a method of manufacturing the same,

본 발명은 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 패드부의 부식으로 인한 접촉 불량 및 패드부 뜯김 불량을 개선하여 패드부의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an OLED display device capable of improving reliability of a pad portion by improving a contact failure due to corrosion of a pad portion and a defective padding portion, .

유기 발광 표시 장치(OLED)는 자체 발광형 표시 장치로서, 두 개의 전극 사이에 유기 발광층을 형성하고, 두 개의 전극으로부터 각각 전자(electron)와 정공(hole)을 유기 발광층 내로 주입시켜, 주입된 전자와 정공의 결합에 의해 광을 발생시키는 원리를 이용한 표시 장치이다. 유기 발광 표시 장치는 액정 표시 장치와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조가 가능하다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 저 전압 구동으로 소비 전력에 유리하고, 응답 속도 및 시야각 등이 우수하여 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.An organic light emitting display (OLED) is a self-luminous display device in which an organic light emitting layer is formed between two electrodes, and electrons and holes are injected from the two electrodes into the organic light emitting layer, And the light is generated by the combination of the holes. Unlike a liquid crystal display device, an organic light emitting display device does not require a separate light source, and can be manufactured in a light and thin shape. Further, the organic light emitting display device is advantageous in power consumption by low voltage driving, and has excellent response speed and viewing angle, and is being studied as a next generation display.

유기 발광 표시 장치는 빛이 방출되는 방향에 따라 전면 발광(top emission) 방식, 배면 발광(bottom emission) 방식 또는 양면 발광(dual emission) 방식으로 나눌 수 있고, 구동 방식에 따라 능동 매트릭스형(active matrix type) 또는 수동 매트릭스형(passive matrix type) 등으로 나눌 수 있다.The organic light emitting display may be divided into a top emission type, a bottom emission type, and a dual emission type depending on a direction in which the light is emitted, and an active matrix type or a passive matrix type.

1. [유기전계발광 표시장치 및 그 제조 방법] (특허출원번호 제 10-2011-0139630호)1. [Organic electroluminescence display device and method for manufacturing the same] (Patent Application No. 10-2011-0139630)

전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치에서, 유기 발광부는 애노드, 유기 발광층 및 캐소드로 구성되며, 유기 발광층에서 발광하는 빛은 캐소드를 투과하여 방출된다. 유기 발광층에서 발광하는 빛이 효율적으로 방출되기 위해서는 애노드가 반사 특성이 우수한 물질로 형성되는 것이 바람직하다. 그러나, 정공(hole)을 공급하기 위한 일 함수 특성 및 반사 특성이 동시에 만족되는 적용 가능한 단일 물질의 채용이 어려운 상황이다. 이에 따라, 애노드를 정공을 공급하기 위한 일 함수를 갖는 투명 도전층과 반사 특성이 우수한 금속층을 포함하는 복수 개의 층으로 구성함으로써, 애노드가 일 함수 및 반사 특성을 모두 만족되도록 구현하고 있다. In the organic light emitting display of the top emission type, the organic light emitting portion is composed of an anode, an organic light emitting layer and a cathode, and light emitted from the organic light emitting layer is emitted through the cathode. In order to efficiently emit light emitted from the organic light emitting layer, the anode is preferably formed of a material having excellent reflection characteristics. However, it is difficult to employ a single applicable material that satisfies both the work function property and the reflection property for supplying holes. Accordingly, the anode is formed of a plurality of layers including a transparent conductive layer having a work function for supplying holes and a metal layer having excellent reflection characteristics, so that the anode is implemented to satisfy both the work function and the reflection characteristic.

한편, 유기 발광 표시 장치의 패드부에는 드라이버 집적회로(Driver-IC)가 실장된 연성 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB)이나 테이프 캐리어 패키지(tape carrier package, TCP) 등과 같은 회로부가 접착되며, 회로부로부터 제공되는 다양한 전기적 신호가 패드부를 통해 유기 발광부로 전달된다. 패드부의 일 면은 박막 트랜지스터 또는 유기 발광부와 연결된 배선부과 접하고, 패드부의 타 면은 회로부와 접한다. 즉, 패드부의 일 부분은 회로부와 연결되기 위하여 외부에 노출되어야 하므로, 수분(H20) 또는 산소(O2) 등에 취약할 수 있다. 또한, 유기 발광 표시 장치의 제조 공정 시, 패드부는 열처리나 식각 공정 등에 지속적으로 노출되므로 이로 인한 손상을 받을 수 있다.A circuit portion such as a flexible printed circuit board (FPCB) or a tape carrier package (TCP) on which a driver IC is mounted is bonded to the pad portion of the organic light emitting display device , Various electrical signals provided from the circuit part are transmitted to the organic light emitting part through the pad part. One surface of the pad portion is in contact with the thin film transistor or the wiring portion connected to the organic light emitting portion, and the other surface of the pad portion is in contact with the circuit portion. That is, a part of the pad portion must be exposed to the outside in order to be connected to the circuit portion, so that it may be vulnerable to water (H20) or oxygen (O2). Further, in the manufacturing process of the organic light emitting diode display, the pad portion is continuously exposed to the heat treatment or the etching process, so that the pad portion may be damaged.

일반적으로, 유기 발광 표시 장치의 패드부는 애노드와 동일한 물질로 애노드와 동시에 형성된다. 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치에서 애노드가 복수 개의 층으로 구성되는 경우, 패드부 또한 애노드와 동일한 적층 구조로 구성된다. 즉, 복수 개의 층이 적층된 상태에서 식각 공정을 진행하여 애노드 및 패드부가 동시에 형성될 수 있다. 따라서, 애노드가 정공을 공급하기 위한 일 함수를 갖는 투명 도전층과 반사 특성이 우수한 금속층을 포함하는 복수 개의 층으로 구성되는 경우, 패드부 또한 투명 도전층과 금속층을 포함하는 복수 개의 층으로 구성될 수 있다. Generally, the pad portion of the organic light emitting display is formed simultaneously with the anode with the same material as the anode. In the organic light emitting display of the top emission type, when the anode is formed of a plurality of layers, the pad portion is also formed in the same lamination structure as the anode. That is, the anode and the pad may be simultaneously formed by performing the etching process while the plurality of layers are stacked. Therefore, in the case where the anode is composed of a plurality of layers including a transparent conductive layer having a work function for supplying holes and a metal layer having excellent reflection characteristics, the pad portion is also composed of a plurality of layers including a transparent conductive layer and a metal layer .

이 경우, 패드부는 외부 환경에 의해 특히 더 많은 손상을 받게 된다. 보다 구체적으로 설명하면, 앞서 언급하였듯이, 패드부는 회로부와의 접촉을 위해 외부에 노출되므로 수분이나 산소에 의해 지속적인 손상을 받게 되는데, 이때, 금속층이 외부에 노출되는 경우, 수분이나 산소에 더욱 취약할 수 있다. 또한, 패드부가 식각 공정이나, 신뢰성 검사를 위한 고온 공정 등과 같은 열처리에 노출되는 경우, 금속층과 투명 도전층 사이에는 갈바닉 현상(galvanic effect)으로 인한 부식이나 녹는 현상이 발생할 수 있다. 갈바닉 현상은 기전력(electromotive force, EMF)이 차이가 나는 두 물질이 동시에 부식성 용액(corrosive solution)에 노출될 때 나타나는 현상으로, 기전력이 큰 물질이 부식되는 현상을 말한다.In this case, the pad portion is particularly damaged by the external environment. More specifically, as described above, since the pad portion is exposed to the outside for contact with the circuit portion, the pad portion is continuously damaged by moisture or oxygen. In this case, when the metal layer is exposed to the outside, . Also, when the pad is exposed to a heat treatment such as an etching process or a high temperature process for reliability inspection, corrosion or melting due to a galvanic effect may occur between the metal layer and the transparent conductive layer. A galvanic phenomenon is a phenomenon that occurs when two substances with different electromotive force (EMF) are exposed to a corrosive solution at the same time, which is a phenomenon in which a material having high electromotive force is corroded.

이러한 패드부의 손상은 결과적으로 패드부와 회로부의 접촉 불량을 야기할 수 있다. 또한, 패드부의 리페어(repair) 공정 시, 패드부 뜯김 불량이 추가로 발생될 수도 있다. 보다 상세하게 설명하면, 회로부와 패드부의 접촉 불량 발생 시, 회로부를 패드부로부터 제거한 후, 재 부착하는 리페어 공정을 진행하게 된다. 이 때, 회로부를 패드부로부터 제거하는 과정에서, 패드부의 손상으로 인해 패드부 자체가 함께 뜯기거나, 패드부의 금속층과 투명 도전층이 서로 분리되는 패드부 뜯김 불량이 발생될 수 있다. 이 경우, 해당 유기 발광 표시 장치는 더 이상의 사용이 어려워 폐기 처리되어야 하므로, 생산 비용 손실 및 생산 수율이 크게 감소될 수 있다.Such damage to the pad portion may result in poor contact between the pad portion and the circuit portion. Further, during the repairing process of the pad portion, a defective padding may be additionally generated. More specifically, when a contact failure occurs between the circuit portion and the pad portion, the repairing process is performed in which the circuit portion is removed from the pad portion and then reattached. At this time, in the process of removing the circuit part from the pad part, the pad part itself may be torn apart due to the damage of the pad part, or the pad part may be scratched off because the metal layer of the pad part and the transparent conductive layer are separated from each other. In this case, since the organic light emitting display device can not be used any more, it needs to be scrapped, so that the production cost loss and the production yield can be greatly reduced.

이에 본 발명의 발명자는 앞서 언급한 문제점들을 인식하고, 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치에 있어서 패드부의 신뢰성을 향상시킬 있는 패드부 구조에 대해 고민함으로써, 패드부의 접촉 불량 및 뜯김 불량을 개선할 수 있는 새로운 구조의 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법을 발명하였다.Accordingly, the inventors of the present invention have recognized the above-mentioned problems and are concerned about the structure of the pad portion that improves the reliability of the pad portion in the organic light emitting display device of the front emission type, thereby improving the contact failure and the poor And a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 실시예에 따른 해결 과제는 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치에 있어서, 애노드의 구조와 패드부의 구조를 상이하게 구성함으로써, 패드부의 손상을 최소화할 수 있는 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.The organic light emitting display according to one embodiment of the present invention includes a plurality of organic light emitting diodes (OLEDs), each of which is configured to have a structure different from that of the anode, Method.

본 발명의 일 실시예에 따른 해결 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The solutions according to one embodiment of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는, 표시 영역과 패드 영역을 갖는 기판 및 표시 영역에 위치하고, 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터를 포함한다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되고, 제1 투명 도전층, 금속층 및 제2 투명 도전층이 차례로 적층된 애노드 및 패드 영역에 위치하고, 제1 패드층으로 구성된 패드부를 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서는, 제1 패드층의 두께가 제1 투명 도전층의 두께와 동일하도록 구성함으로써, 패드부의 접촉 불량 및 뜯김 불량이 개선되어 패드부의 신뢰성이 향상될 수 있다.An organic light emitting display according to an embodiment of the present invention includes a substrate having a display region and a pad region, and a thin film transistor located in the display region and including an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode. The organic light emitting display includes a pad portion that is electrically connected to the thin film transistor and is disposed in the anode and the pad region in which the first transparent conductive layer, the metal layer, and the second transparent conductive layer are sequentially stacked, and is formed of the first pad layer. In the organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention, the first pad layer has a thickness equal to the thickness of the first transparent conductive layer, thereby improving the reliability of the pad portion, .

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법은 다음과 같은 방법으로 제조된다. 기판 상에 박막 트랜지스터 및 배선부를 형성한다. 이어서, 박막 트랜지스터 및 배선부 상에 절연층을 형성하고, 절연층 상에 박막 트랜지스터와 연결되는 제1 투명 도전층 및, 배선부와 연결되고 제1 투명 도전층과 동일한 두께를 갖는 제1 패드층을 패터닝한다. 이어서, 제1 투명 도전층과 제1 패드층을 결정하고, 제1 투명 도전층 상에 금속층 및 제2 투명 도전층을 형성한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 제1 투명 도전층과 제1 패드층을 결정화함으로써, 패드부의 구조가 제1 투명 도전층, 금속층 및 제2 투명 도전층으로 구성된 애노드의 구조와 상이하도록 형성할 수 있다. 이에 따라, 패드부의 손상을 최소화하여 공정 불량을 개선하고 생산 비용 및 생산 수율이 향상될 수 있다.A method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention is manufactured by the following method. A thin film transistor and a wiring portion are formed on a substrate. Next, an insulating layer is formed on the thin film transistor and the wiring portion, a first transparent conductive layer connected to the thin film transistor on the insulating layer, a first transparent conductive layer connected to the wiring portion and having the same thickness as the first transparent conductive layer Is patterned. Next, the first transparent conductive layer and the first pad layer are determined, and a metal layer and a second transparent conductive layer are formed on the first transparent conductive layer. In the method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention, the first transparent conductive layer and the first pad layer are crystallized so that the structure of the pad portion is the first transparent conductive layer, the metal layer, and the second transparent conductive layer And can be formed so as to be different from the structure of the anode. Accordingly, damage to the pad portion can be minimized to improve process defects and improve production cost and production yield.

본 발명의 일 실시예에 따라, 패드부와 애노드의 구조를 상이하게 구성함으로써, 패드부의 접촉 불량 및 뜯김 불량이 개선되어 패드부의 신뢰성이 향상될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, by configuring the structure of the pad portion and the anode different from each other, the contact failure and the poor readability of the pad portion are improved, and the reliability of the pad portion can be improved.

또한, 패드부의 손상을 최소화하여, 생산 비용 및 생산 수율이 향상될 수 있다.In addition, damage to the pad portion is minimized, so that the production cost and the production yield can be improved.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

이상에서 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 효과에 기재한 발명의 내용이 청구항의 필수적인 특징을 특정하는 것은 아니므로, 청구항의 권리 범위는 발명의 내용에 기재된 사항에 의하여 제한되지 않는다. The scope of the claims is not limited by the matters described in the contents of the invention, as the contents of the invention described in the problems, the solutions to the problems and the effects to be solved do not specify essential features of the claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'및 Ⅱ-Ⅱ'에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다.
1 is a schematic plan view of an OLED display according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display according to I-I 'and II-II' of FIG.
3 is a schematic cross-sectional view of an OLED display according to another embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of an OLED display according to another embodiment of the present invention.
5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.
6A to 6E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.In the case where the word 'includes', 'having', 'done', etc. are used in this specification, other parts can be added unless '~ only' is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간 적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if a temporal posterior relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., 'May not be contiguous unless it is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다. The sizes and thicknesses of the individual components shown in the figures are shown for convenience of explanation and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the components shown.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other, partially or wholly, technically various interlocking and driving, and that the embodiments may be practiced independently of each other, It is possible.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 개략적인 평면도이다. 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'및 Ⅱ-Ⅱ'에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic plan view of an OLED display 100 according to an embodiment of the present invention. 2 is a schematic cross-sectional view of an OLED display 100 according to I-I 'and II-II' of FIG.

도 1 및 도 2를 참고하면, 유기 발광 표시 장치(100)는 기판(110), 박막 트랜지스터(120), 유기 발광부(140) 및 제1 패드층(160a)을 포함한다. 도 1에서는 설명의 편의를 위하여 기판(100)의 표시 영역(display area, DA) 및 제1 패드층(160a)을 포함하는 패드 영역(pad area, PA)만을 개략화하여 도시하였다. 본 명세서에서는 유기 발광 표시 장치(100)가 전면 발광(top emission) 방식의 유기 발광 표시 장치인 것으로 설명한다. 1 and 2, the OLED display 100 includes a substrate 110, a thin film transistor 120, an organic light emitting portion 140, and a first pad layer 160a. In FIG. 1, only a pad area (PA) including a display area (DA) and a first pad layer (160a) of the substrate (100) is schematically shown for convenience of explanation. In this specification, the organic light emitting diode display 100 is a top emission organic light emitting diode display.

도 1 및 도 2를 참고하면, 기판(100)은 표시 영역(DA)과 패드 영역(PA)을 포함한다.1 and 2, the substrate 100 includes a display area DA and a pad area PA.

기판(110)은 유기 발광 표시 장치(100)의 여러 구성 요소들을 지지하고, 보호한다. 기판(100)은 절연 물질로 이루어질 수 있고, 예를 들어, 유리 또는 플라스틱 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 형성될 수 있다. The substrate 110 supports and protects various components of the OLED display 100. The substrate 100 may be formed of an insulating material, for example, glass or plastic, but is not limited thereto, and may be formed of various materials.

표시 영역(DA)은 실제 빛이 발광되는 영역으로, 영상이 표시되는 영역이다. 표시 영역(DA) 상에는 유기 발광부(140) 및 유기 발광부(140)를 구동하기 위한 다양한 구성 요소들이 배치된다. 도 2에서는 설명의 편의를 위해 다양한 구성 요소들 중 박막 트랜지스터(120)만을 도시하였으나, 저장 커패시터(storage capacitor) 등이 추가로 형성될 수도 있다. The display area DA is an area where light is actually emitted, and is an area where an image is displayed. Various components for driving the organic light emitting part 140 and the organic light emitting part 140 are disposed on the display area DA. In FIG. 2, only the thin film transistor 120 among various components is illustrated for convenience of explanation, but a storage capacitor or the like may be additionally formed.

패드 영역(PA)은 배선부(150) 및 제1 패드층(160a)이 배치된 영역으로, 빛이 발광되지 않는 비 표시 영역(non-display area)에 해당된다. 또한, 패드 영역(PA)에서는 제1 패드층(160a)이 회로부, 예를 들어, 드라이버 집적회로(Driver-IC)가 실장된 연성 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB)이나 테이프 캐리어 패키지(tape carrier package, TCP) 등과 접촉할 수 있다. 도 1에서는, 패드 영역(PA)이 표시 영역(DA)의 일 측면에 위치하는 것으로 도시되었으나, 이에 제한되지 않고, 표시 영역(DA)의 복수 개의 측면에 위치할 수도 있다. The pad area PA corresponds to a non-display area in which the wiring part 150 and the first pad layer 160a are disposed, in which no light is emitted. In the pad region PA, the first pad layer 160a may be formed of a flexible printed circuit board (FPCB) or a tape carrier package (e.g., a flexible printed circuit board tape carrier package (TCP), and the like. In Fig. 1, the pad area PA is shown as being located on one side of the display area DA, but not limited thereto, and may be located on a plurality of side surfaces of the display area DA.

기판(110)의 표시 영역(DA)에는 게이트 전극(121), 액티브층(122), 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)을 포함하는 박막 트랜지스터(120)가 위치된다. 도 2를 참고하면, 기판(110) 상에 게이트 전극(121)이 형성되고, 게이트 전극(121) 상에는 제1 절연층(131)이 형성된다. 제1 절연층(131) 상에는 게이트 전극(121)과 중첩되도록 액티브층(122)이 형성되고, 액티브층(122) 상에는 소스 전극(123)과 드레인 전극(124)이 이격되어 형성된다. The thin film transistor 120 including the gate electrode 121, the active layer 122, the source electrode 123 and the drain electrode 124 is located in the display region DA of the substrate 110. [ Referring to FIG. 2, a gate electrode 121 is formed on a substrate 110, and a first insulating layer 131 is formed on a gate electrode 121. An active layer 122 is formed on the first insulating layer 131 so as to overlap the gate electrode 121 and a source electrode 123 and a drain electrode 124 are formed on the active layer 122.

제1 절연층(131)은 박막 트랜지스터(120)의 구동을 위하여 게이트 전극(121)과 액티브층(122)을 전기적으로 분리하기 위한 층으로서, 게이트 절연층으로 지칭될 수도 있다. 제1 절연층(131)은 실리콘 나이트라이드(silicon nitride, SiNx) 또는 실리콘 옥사이드(silicon oxide, SiOx) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 설계에 따라 단일층 또는 복수 개의 층으로 구성될 수도 있다.The first insulating layer 131 may be referred to as a gate insulating layer as a layer for electrically separating the gate electrode 121 and the active layer 122 for driving the thin film transistor 120. [ The first insulating layer 131 may include at least one of silicon nitride (SiNx) and silicon oxide (SiOx). The first insulating layer 131 may be a single layer or a plurality of layers depending on the design.

게이트 전극(121), 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)은 도전 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 전극들(121, 123, 124)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 이루어질 수 있다.The gate electrode 121, the source electrode 123, and the drain electrode 124 may be formed of a conductive material. For example, the electrodes 121, 123, and 124 may be formed of a metal such as Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, (Cu), or an alloy thereof. However, it may be made of various materials without limitation.

액티브층(122)은 비정질 실리콘(amorphous silicon, a-Si), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon, poly-Si), 산화물(oxide) 및 유기물(organic) 중 어느 하나로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.The active layer 122 may be made of any one of amorphous silicon (a-Si), polycrystalline silicon (poly-Si), oxide and organic.

도 2에서는, 박막 트랜지스터(120)가 스태거드(staggered) 구조로 형성된 것이 도시되었으나, 이에 제한되지 않고, 설계에 따라 코플라나(coplanar) 구조로 형성될 수도 있다.In FIG. 2, the thin film transistor 120 is shown as being formed in a staggered structure. However, the thin film transistor 120 may be formed in a coplanar structure according to a design.

박막 트랜지스터(120) 상에는 제2 절연층(132)과 평탄화층(133)이 형성된다.A second insulating layer 132 and a planarization layer 133 are formed on the thin film transistor 120.

제2 절연층(132)은 박막 트랜지스터(120)의 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)을 보호하기 위한 층으로서, 패시베이션층으로 지칭될 수도 있다. 제2 절연층(132)은 실리콘 나이트라이드(silicon nitride, SiNx) 또는 실리콘 옥사이드(silicon oxide, SiOx) 중 적어도 하나로 이루어질 수 있으며, 설계에 따라 단일층 또는 복수 개의 층으로 구성될 수도 있다.The second insulating layer 132 is a layer for protecting the source electrode 123 and the drain electrode 124 of the thin film transistor 120 and may be referred to as a passivation layer. The second insulating layer 132 may be formed of at least one of silicon nitride (SiNx) and silicon oxide (SiOx). The second insulating layer 132 may be a single layer or a plurality of layers depending on the design.

평탄화층(133)은 박막 트랜지스터(120) 상에 유기 발광부(140)가 용이하게 형성되도록 박막 트랜지스터(120)의 상부를 평평하게 만드는 역할을 한다. 평탄화층(133)은 유기 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 아크릴(acryl), 에폭시(epoxy), 페놀(phenol), 폴리아미드(polyamide), 폴리이미드(polyimide) 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다.The planarization layer 133 serves to flatten the upper portion of the thin film transistor 120 so that the organic light emitting portion 140 can be easily formed on the thin film transistor 120. The planarization layer 133 may be made of an organic material and may be formed of at least one of acryl, epoxy, phenol, polyamide, and polyimide, for example.

평탄화층(133) 상에는 유기 발광부(140)가 형성된다. 유기 발광부(140)는 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)로 구성된다.The organic light emitting portion 140 is formed on the planarization layer 133. The organic light emitting portion 140 includes an anode 141, an organic light emitting layer 142, and a cathode 143.

애노드(141)는 박막 트랜지스터(120)와 전기적으로 연결된다, 도 2에 도시된 바와 같이, 애노드(141)는 박막 트랜지스터(120)의 드레인 전극(124)과 연결될 수도 있고, 몇몇 실시예에서는, 애노드(141)가 박막 트랜지스터(120)의 소스 전극(123)과 연결될 수도 있다.The anode 141 is electrically connected to the thin film transistor 120. The anode 141 may be connected to the drain electrode 124 of the thin film transistor 120 as shown in Figure 2 and in some embodiments, The anode 141 may be connected to the source electrode 123 of the thin film transistor 120.

애노드(141)는 복수 개의 층으로 구성된다. 도 2를 참고하면, 애노드(141)는 제1 투명 도전층(141a), 금속층(141b) 및 제2 투명 도전층(141c)이 차례로 적층된 구조를 갖는다.The anode 141 is composed of a plurality of layers. Referring to FIG. 2, the anode 141 has a structure in which a first transparent conductive layer 141a, a metal layer 141b, and a second transparent conductive layer 141c are sequentially stacked.

제2 투명 도전층(141c)은 애노드(141)의 최상층으로서, 유기 발광층(142)과 접하도록 배치되며, 유기 발광층(142)에 정공(hole)을 공급하는 역할을 한다. 제2 투명 도전층(141c)은 일함수가 높은 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, TCO(Transparent Conductive Oxide)와 같은 투명 도전 물질인 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 제2 투명 금속층(141c)의 두께(Tc)는 유기 발광부(140)의 발광 효율을 최대화하기 위하여 광학 거리 등과 같은 광학 설계에 기초하여 결정되어야 하며, 예를 들어, 70Å 내지 100Å 일 수 있다.The second transparent conductive layer 141c is an uppermost layer of the anode 141 and is disposed in contact with the organic light emitting layer 142 and serves to supply holes to the organic light emitting layer 142. The second transparent conductive layer 141c may be made of a material having a high work function. For example, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide) or the like, which is a transparent conductive material such as TCO (Transparent Conductive Oxide) Lt; / RTI > The thickness Tc of the second transparent metal layer 141c should be determined based on an optical design such as an optical distance or the like to maximize the luminous efficiency of the organic light emitting portion 140. For example, have.

금속층(141b)은 제2 투명 도전층(141c)의 하부에 배치되며, 유기 발광층(142)에서 발광된 빛을 반사시키는 역할을 한다. 유기 발광 표시 장치(100)는 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치이므로, 유기 발광층(142)에서 발광된 빛이 캐소드(143)를 통과하여 방출된다. 이 때, 금속층(141b)은 유기 발광층(142)에서 발광된 빛이 최대한 캐소드(143)를 통과하여 방출될 수 있도록 빛을 반사시킬 수 있다. 금속층(141b)은 반사율이 우수한 금속 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 은(Ag), 알루미늄(Al), 팔라듐(Pd), 구리(Cu) 중 적어도 하나로 이루어질 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 금속층(141b)은 빛이 투과되는 것을 최소화하기 위하여 일정 두께 이상이 되도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 금속층(141b)의 두께(Tb)는 1000Å 이상일 수 있다.The metal layer 141b is disposed under the second transparent conductive layer 141c and reflects light emitted from the organic light emitting layer 142. [ Since the organic light emitting diode display 100 is a top emission organic light emitting display, light emitted from the organic light emitting layer 142 is emitted through the cathode 143. At this time, the metal layer 141b may reflect light so that light emitted from the organic light emitting layer 142 can be emitted through the cathode 143 as much as possible. The metal layer 141b may be made of a metal material having a high reflectance and may include at least one of silver (Ag), aluminum (Al), palladium (Pd), and copper (Cu) no. In addition, the metal layer 141b may be configured to have a certain thickness or more to minimize light transmission. For example, the thickness Tb of the metal layer 141b may be 1000 angstroms or more.

제1 투명 도전층(141a)은 애노드(141)의 최하층으로서, 평탄화층(133)과 접하도록 배치되며, 애노드(141)와 평탄화층(133) 사이의 접착력을 향상시키는 역할을 한다. 애노드(141)는 금속층(141b)과 제2 투명 도전층(141c)만으로 구성되더라도, 애도느(141)로서의 기능은 수행할 수 있다. 그러나, 금속층(141b)은 유기 물질로 이루어지는 평탄화층(133)과의 물질 특성 차이로 인해 접착력이 떨어질 수 있다. 이에 따라, 제1 투명 도전층(141a)이 금속층(141b) 하부에 배치됨으로써, 애노드(141)와 평탄화층(133) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. The first transparent conductive layer 141a is disposed in contact with the planarization layer 133 as the lowest layer of the anode 141 and serves to improve the adhesion between the anode 141 and the planarization layer 133. [ Even if the anode 141 is composed of only the metal layer 141b and the second transparent conductive layer 141c, the function as the eaves 141 can be performed. However, the adhesion of the metal layer 141b may be deteriorated due to a difference in material properties between the metal layer 141b and the planarization layer 133 made of an organic material. Accordingly, since the first transparent conductive layer 141a is disposed under the metal layer 141b, the adhesion between the anode 141 and the planarization layer 133 can be improved.

제1 투명 도전층(141a)은 제2 투명 도전층(141c)과 마찬가지로 TCO(Transparent Conductive Oxide)와 같은 투명 도전 물질인 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등으로 이루어질 수 있다. 제1 투명 도전층(141a)과 제2 투명 도전층(141c)은 동일한 물질로 이루어질 수도 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.The first transparent conductive layer 141a may be formed of ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide), which is a transparent conductive material such as TCO (Transparent Conductive Oxide), in the same manner as the second transparent conductive layer 141c. The first transparent conductive layer 141a and the second transparent conductive layer 141c may be made of the same material, but are not limited thereto.

제1 투명 도전층(141a)의 두께(Ta)는 제2 투명 도전층(141c)의 두께(Tc)보다 크도록 구성된다. 예를 들어, 제1 투명 도전층(141a)의 두께(Ta)는 500Å 이상일 수 있다. 앞서 언급하였듯이, 제2 투명 도전층(141c)은 유기 발광부(140)의 광학 설계에 기초하여 결정되어야 하므로, 제2 투명 도전층(141c)의 두께(Tc) 변경에는 제한이 따른다. 그러나, 제1 투명 도전층(141a)은 제2 투명 도전층(141c) 대비 광학 설계에 영향을 덜 받으므로, 제1 투명 도전층(141a)의 두께(Ta)를 제2 투명 도전층(141c)의 두께(Tc)보다 크도록 구성함으로써, 애노드(141)와 평탄화층(133) 사이의 접착력을 보다 향상시킬 수 있다. 애노드(141)와 평탄화층(133) 사이의 접착력 향상은 애노드(141)와 평탄화층(133) 사이의 계면에 의해 유기 발광부(140) 내부로 침투되는 수분 또는 산소를 감소시키며, 공정 상에 지속적으로 발생될 수 있는 외부의 물리적 충격 등으로부터 보다 개선된 유기 발광부(140)의 신뢰성을 제공할 수 있다.The thickness Ta of the first transparent conductive layer 141a is configured to be larger than the thickness Tc of the second transparent conductive layer 141c. For example, the thickness (Ta) of the first transparent conductive layer 141a may be 500 angstroms or more. As described above, since the second transparent conductive layer 141c must be determined based on the optical design of the organic light emitting portion 140, there is a limitation in changing the thickness Tc of the second transparent conductive layer 141c. However, since the first transparent conductive layer 141a is less affected by the optical design than the second transparent conductive layer 141c, the thickness Ta of the first transparent conductive layer 141a is set to be larger than the thickness of the second transparent conductive layer 141c The adhesion between the anode 141 and the planarization layer 133 can be further improved. The improvement in the adhesion between the anode 141 and the planarization layer 133 reduces moisture or oxygen penetrated into the organic emission layer 140 by the interface between the anode 141 and the planarization layer 133, It is possible to provide the reliability of the organic light emitting part 140 which is improved from the external physical impact or the like which can be continuously generated.

그리고, 패드 영역(PA)에 형성되는 제1 패드층(160a)의 두께(Ta') 또한 애노드(141)의 제1 투명 도전층(141a)과 두께(Ta)와 동일하도록 구성됨으로써, 보다 개선된 신뢰성을 갖는 패드부를 제공할 수 있다. 이에 대한 보다 구체적인 설명은 후술하도록 한다.The thickness Ta 'of the first pad layer 160a formed in the pad region PA is also equal to the thickness of the first transparent conductive layer 141a of the anode 141, It is possible to provide a pad portion having reliability. A more detailed description thereof will be described later.

애노드(141)의 양 끝 단에는 화소를 구분하기 위한 뱅크층(134)이 형성된다. 뱅크층(134)은 유기 절연 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 폴리이미드(polyimide), 포토아크릴(photo acryl) 중 하나로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.On both ends of the anode 141, a bank layer 134 for separating pixels is formed. The bank layer 134 may be made of an organic insulating material and may be, for example, one of polyimide and photo acryl, but is not limited thereto.

애노드(141) 상에는 유기 발광층(142)이 형성된다. 유기 발광층(142)은 애노드(141) 및 뱅크층(143) 상에 전면으로 형성되며, 백색 유기 발광층일 수 있다. 도 2에 도시되진 않았으나, 유기 발광층(142)은 뱅크층(124)에 의해 개구된 애노드(141)의 일부 영역 상에만 형성될 수 있으며, 이 경우, 유기 발광층(142)은 적색 유기 발광층, 녹색 유기 발광층 및 청색 유기 발광층 중 하나일 수 있다.An organic light emitting layer 142 is formed on the anode 141. The organic light emitting layer 142 is formed on the entire surface of the anode 141 and the bank layer 143, and may be a white organic light emitting layer. 2, the organic light emitting layer 142 may be formed only on a part of the anode 141 opened by the bank layer 124. In this case, the organic light emitting layer 142 may include a red organic light emitting layer, a green An organic light emitting layer and a blue organic light emitting layer.

유기 발광층(142) 상에는 캐소드(143)가 형성된다. 캐소드(143)는 유기 발광층(142)에 전자(electron)를 공급하며, 일함수가 낮은 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 캐소드(143)는 금속 물질인 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 마그네슘(Mg) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.On the organic light emitting layer 142, a cathode 143 is formed. The cathode 143 supplies electrons to the organic light emitting layer 142 and may be made of a material having a low work function. For example, the cathode 143 may be made of any one of or a combination of gold (Au), silver (Ag), aluminum (Al), molybdenum (Mo), and magnesium (Mg) It is not.

도 2에 도시되진 않았으나, 캐소드(143) 상에는 표시 영역(DA)에 대응하며, 외부의 수분 또는 산소의 침투로부터 유기 발광부(140)를 보호할 수 있는 봉지부가 추가로 구비될 수 있다.Although not shown in FIG. 2, a sealing portion corresponding to the display region DA and capable of protecting the organic light emitting portion 140 from the penetration of moisture or oxygen on the outside can be additionally provided on the cathode 143.

기판(110)의 패드 영역(PA)에는 배선부(150)와 제1 패드층(160a)이 구성된다. 보다 구체적으로 도 2를 참고하여 설명하면, 기판(110)의 패드 영역(PA) 상에는 제1 절연층(131)이 형성되고, 제1 절연층(131) 상에는 배선부(150)가 형성된다. 또한, 배선부(150) 상에는 제2 절연층(132)이 형성되고, 제2 절연층(132) 상에는 제1 패드층(160a)이 형성된다. 제1 패드층(160a)은 제2 절연층(132)의 컨택홀(T)을 통해 배선부(150)와 연결된다. The wiring part 150 and the first pad layer 160a are formed in the pad area PA of the substrate 110. [ More specifically, referring to FIG. 2, a first insulating layer 131 is formed on the pad region PA of the substrate 110, and a wiring portion 150 is formed on the first insulating layer 131. A second insulating layer 132 is formed on the wiring part 150 and a first pad layer 160a is formed on the second insulating layer 132. [ The first pad layer 160a is connected to the wiring part 150 through the contact hole T of the second insulating layer 132. [

배선부(150)는 표시 영역(DA)에 형성된 유기 발광부(140) 또는 박막 트랜지스터(120)와, 제1 패드층(160a)을 전기적으로 연결하며, 박막 트랜지스터(120)의 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)과 동일한 물질로 동시에 형성될 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 설계에 따라 게이트 전극(121)과 동일한 물질로 동시에 형성될 수도 있고, 게이트 전극(121)과 동일한 물질로 이루어진 층 및 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)과 동일한 물질로 이루어진 층을 포함하는 복수 개의 층으로 구성될 수도 있다.The wiring part 150 electrically connects the organic light emitting part 140 or the thin film transistor 120 formed in the display area DA to the first pad layer 160a and electrically connects the source electrode 123 of the thin film transistor 120 And the drain electrode 124 may be simultaneously formed. The source electrode 123 and the drain electrode 124 may be formed of the same material as that of the gate electrode 121 according to the design, And a layer made of the same material as the first layer.

제1 패드층(160a)의 일 면은 배선부(150)와 연결되며, 제1 패드층(160a)의 타 면은 회로부와 접하도록 외부에 노출된다. One surface of the first pad layer 160a is connected to the wiring part 150 and the other surface of the first pad layer 160a is exposed to the outside in contact with the circuit part.

제1 패드층(160a)은 패드 영역(PA)에 형성된 패드부로 지칭될 수 있으며, 패드 영역(PA)에 형성된 패드부의 적층 구조와 표시 영역(DA)에 형성된 애노드(141)의 적층 구조가 상이하도록 구성된다. 도 2를 참고하여 보다 구체적으로 설명하면, 패드부는 단일층의 제1 패드층(160a)으로만 구성되고, 제1 패드층(160a)은 애노드(141)의 제1 투명 도전층(141a)과 동일한 물질로 이루어진다. 즉, 패드부에서 애노드(141)의 금속층(141b)과 동일한 물질로 이루어진 층을 제거하고, 금속 물질 대비 외부의 수분 또는 산소에 의한 영향을 덜 받는 물질로 이루어진 제1 패드층(160a)만 남도록 함으로써, 외부에 노출되는 패드부의 부식에 의한 회로부와의 접촉 불량을 해결하는 데 효과적일 수 있다.The first pad layer 160a may be referred to as a pad portion formed in the pad region PA and the stacked structure of the pad portion formed in the pad region PA and the stacked structure of the anode 141 formed in the display region DA may be different . 2, the pad portion is formed of only the first pad layer 160a of a single layer, the first pad layer 160a is formed of the first transparent conductive layer 141a of the anode 141, It is made of the same material. That is, a layer made of the same material as that of the metal layer 141b of the anode 141 is removed from the pad portion so that only the first pad layer 160a made of a material less affected by external moisture or oxygen It is effective to solve the problem of contact with the circuit part due to the corrosion of the pad part exposed to the outside.

또한, 제1 패드층(160a)이 애노드(141)의 제1 투명 도전층(141a)과 동일한 물질로 동시에 형성됨으로써, 제1 패드층(160a)의 두께(Ta')는 애노드(141)의 제1 투명 도전층(141a)의 두께(Ta)와 동일하도록 구성된다. 즉, 제1 투명 도전층(141a)의 두께(Ta)는 제2 투명 도전층(Tc)의 두께보다 크게 구성되므로, 제1 패드층(160a)의 두께(Ta') 또한 제2 투명 도전층(Tc)의 두께보다 크게 구성된다. 본 발명의 일 실시예에서는, 제2 투명 도전층(Tc)의 두께보다 제1 패드층(160a)의 두께(Ta')를 크게 구성함으로써, 제1 패드층(160a)과 제2 절연층(132) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 패드부의 리페어(repair) 공정 시, 회로부를 제1 패드층(160a)으로부터 제거하는 과정에서 제1 패드층(160a)이 함께 뜯기거나, 복수 개의 층으로 구성된 패드부가 서로 분리되는 패드부 뜯김 불량이 감소될 수 있다. The first pad layer 160a is formed simultaneously with the first transparent conductive layer 141a of the anode 141 so that the thickness Ta 'of the first pad layer 160a is greater than the thickness Ta' Is equal to the thickness (Ta) of the first transparent conductive layer (141a). That is, since the thickness Ta of the first transparent conductive layer 141a is larger than the thickness of the second transparent conductive layer Tc, the thickness Ta 'of the first pad layer 160a is also greater than the thickness Ta' (Tc). The first pad layer 160a and the second insulating layer 160b may be formed by setting the thickness Ta 'of the first pad layer 160a to be larger than the thickness of the second transparent conductive layer Tc, 132 can be improved. Accordingly, during the process of repairing the pad portion, the first pad layer 160a may be torn apart in the process of removing the circuit portion from the first pad layer 160a, or the pad portions may be separated from each other, The defective slit can be reduced.

앞서 언급하였듯이, 애노드(141)와 패드부는 동일한 식각 공정을 통해 형성되므로, 애노드(141)의 적층 구조와 패드부의 적층 구조는 동일하게 구성되나, 본 발명의 일 실시예에서는, 애노드(141)의 제1 투명 도전층(141a) 및 제1 패드층(160a)을 결정화하는 별도의 공정을 추가 진행함으로써, 애노드(141)와 패드부의 적층 구조를 상이하게 구성할 수 있다. 즉, 제1 투명 도전층(141a) 및 제1 패드층(160a)을 결정화한 후에, 금속층(141b)과 제2 투명 도전층(141c)의 식각(etching) 공정을 진행하게 되면, 금속층(141b)과 제2 투명 도전층(141c)의 식각액(etchant)에 의해 제1 패드층(160a)이 함께 식각되지 않게 된다. 다시 말하면, 제1 패드층(160a) 상에 형성된 금속 물질과 투명 도전 물질은 식각액에 의해 제거되나, 제1 패드층(160a)은 동일한 식각액에 의해 제거되지 않고 그대로 남게 되는 것이다. 이에 따라, 애노드(141)와 패드부의 적층 구조를 상이하게 구성할 수 있다. As described above, since the anode 141 and the pad portion are formed through the same etching process, the lamination structure of the anode 141 and the pad portion are the same, but in an embodiment of the present invention, A separate process of crystallizing the first transparent conductive layer 141a and the first pad layer 160a may be further performed so that the stack structure of the anode 141 and the pad portion may be different. That is, when the etching process of the metal layer 141b and the second transparent conductive layer 141c is performed after the first transparent conductive layer 141a and the first pad layer 160a are crystallized, the metal layer 141b And the etchant of the second transparent conductive layer 141c, the first pad layer 160a is not etched together. In other words, the metal material and the transparent conductive material formed on the first pad layer 160a are removed by the etching solution, but the first pad layer 160a is not removed by the same etchant but remains. Accordingly, the stacked structure of the anode 141 and the pad portion can be configured differently.

또한, 제1 투명 도전층(141a)과 제1 패드층(160a)을 결정화함에 따라 제1 투명 도전층(141a)과 제1 패드층(160a)의 식각 공정 및 금속층(141b)과 제2 투명 도전층(141c)의 식각 공정이 별도로 진행됨으로써, 애노드(141)의 복수 개의 층들(141a, 141b, 141c)을 한번에 식각 가능한 두께로 고려할 필요가 없다. 다시 말하면, 제1 투명 도전층(141a), 금속층(141b) 및 제2 투명 도전층(141c)을 한번에 식각하는 경우, 제1 투명 도전층(141a), 금속층(141b) 및 제2 투명 도전층(141c) 각각의 두께의 합이 너무 크게 되면, 공정 시간이 다소 증가하는 문제가 발생될 수 있다. 즉, 제1 투명 도전층(141a)과 제1 패드층(160a)이 결정화되므로, 제1 투명 도전층(141a)의 식각 공정과, 금속층(141b) 및 제2 투명 도전층(141c)의 식각 공정이 별도로 진행될 수 있다. 따라서, 제1 투명 도전층(141a)의 두께(Ta)를 제2 투명 도전층(141c)의 두께(Tc)보다 크게 구성하는 것이 용이할 수 있다. 또한, 제1 패드층(160a)의 상부면(B)은 제1 투명 도전층(141a)의 상부면(A)보다 식각 공정에 더 많이 노출되므로, 제1 패드층(160a)의 상부면(B)의 거칠기와 제1 투명 도전층(141a)의 상부면(A)의 거칠기는 상이할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 보다 구체적인 제조 방법에 대해서는 도 5 및 도 6에서 상세하게 후술하도록 한다.The first transparent conductive layer 141a and the first pad layer 160a are crystallized to etch the first transparent conductive layer 141a and the first pad layer 160a, The etching process of the conductive layer 141c is performed separately so that it is not necessary to consider the plurality of the layers 141a, 141b, and 141c of the anode 141 as a thickness that can be etched at one time. In other words, when the first transparent conductive layer 141a, the metal layer 141b and the second transparent conductive layer 141c are etched at one time, the first transparent conductive layer 141a, the metal layer 141b, If the sum of the thicknesses of the first and second electrodes 141c is excessively large, the process time may be somewhat increased. That is, since the first transparent conductive layer 141a and the first pad layer 160a are crystallized, the etching process of the first transparent conductive layer 141a and the etching process of the metal layer 141b and the second transparent conductive layer 141c The process can be carried out separately. Therefore, it is easy to make the thickness Ta of the first transparent conductive layer 141a larger than the thickness Tc of the second transparent conductive layer 141c. Since the upper surface B of the first pad layer 160a is more exposed to the etching process than the upper surface A of the first transparent conductive layer 141a, B may differ from the roughness of the upper surface A of the first transparent conductive layer 141a. A more specific manufacturing method of the OLED display 100 according to an embodiment of the present invention will be described later in detail with reference to FIGS. 5 and 6. FIG.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치(100)에서는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 패드부와 애노드(141)의 적층 구조가 상이하도록 구성하며, 보다 구체적으로는 패드 영역(PA)에 형성된 패드부가 단일층의 제1 패드층(160a)으로만 구성되고 애노드(141)의 금속층(141b)과 동일한 물질로 이루어진 층을 포함하지 않도록 구성될 수 있다. 또한, 제1 패드층(160a)과 애노드(141)의 제1 투명 도전층(141a)이 동일한 공정을 통해 동일한 두께를 갖도록 구성하여 제1 패드층(160a)의 두께(Ta')가 제2 투명 도전층(141c)의 두께(Tc)보다 크도록 구성할 수 있다. 이에 따라, 패드부의 부식 및 손상에 의한 회로부와의 접촉 불량 및 패드부 뜯김 불량이 개선되어 패드부의 신뢰성이 향상될 수 있고, 나아가 유기 발광 표시 장치(100)의 생산 비용 및 생산 수율이 향상될 수 있다.Accordingly, in the organic light emitting display 100 of the top emission type according to the embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, the lamination structure of the pad portion and the anode 141 is different, More specifically, the pad portion formed in the pad region PA may be configured to include only the first pad layer 160a of a single layer and not include a layer made of the same material as the metal layer 141b of the anode 141 . The first pad layer 160a and the first transparent conductive layer 141a of the anode 141 may be formed to have the same thickness through the same process so that the thickness Ta ' May be larger than the thickness Tc of the transparent conductive layer 141c. As a result, it is possible to improve the reliability of the pad portion and improve the production cost and production yield of the organic light emitting display device 100 by improving the poor contact between the pad portion and the circuit portion due to corrosion and damage of the pad portion, have.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(200)의 개략적인 단면도이다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 이전 실시예와 동일 또는 대응되는 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용하였으며, 해당 구성 요소에 대한 구체적인 설명은 생략한다. 또한, 이전 실시예의 설명을 참고하여 본 실시예는 해석될 수 있다.3 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display 200 according to another embodiment of the present invention. In describing the present embodiment, the same reference numerals are used for the same or corresponding elements to those of the previous embodiment, and a detailed description thereof will be omitted. In addition, the present embodiment can be interpreted with reference to the description of the previous embodiment.

기판(100)의 표시 영역(DA)에는 박막 트랜지스터(120) 및, 박막 트랜지스터(120)와 전기적으로 연결된 유기 발광부(240)가 형성되고, 유기 발광부(240)는 애노드(241), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)로 구성된다. A thin film transistor 120 and an organic light emitting portion 240 electrically connected to the thin film transistor 120 are formed in a display region DA of the substrate 100. The organic light emitting portion 240 includes an anode 241, A light emitting layer 142 and a cathode 143.

애노드(241)는 복수 개의 층으로 구성되며, 구체적으로, 제1 투명 도전층(241a), 금속층(241b) 및 제2 투명 도전층(241c)이 차례로 적층된다. 또한, 제1 투명 도전층(241a)의 두께(Ta)는 제2 투명 도전층(241c)의 두께(Tc)보다 크도록 구성된다. 이에 따라, 애노드(241)와 평탄화층(133) 사이의 접착력이 향상됨으로써, 유기 발광부(240) 내부로 침투되는 수분 또는 산소를 감소시키며, 공정 상에 발생될 수 있는 물리적 충격 등으로부터 유기 발광부(240)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The anode 241 is composed of a plurality of layers. Specifically, the first transparent conductive layer 241a, the metal layer 241b, and the second transparent conductive layer 241c are stacked in order. The thickness Ta of the first transparent conductive layer 241a is configured to be larger than the thickness Tc of the second transparent conductive layer 241c. Accordingly, the adhesion between the anode 241 and the planarization layer 133 is improved, thereby reducing water or oxygen penetrated into the organic light emitting part 240, and the organic light emission from the physical impact, etc., The reliability of the unit 240 can be improved.

도 3을 참고하면, 기판(110)의 패드 영역(PA)에는 배선부(150) 및 패드부(260)가 구성된다. 패드부(260)는 제1 패드층(260a) 및, 제1 패드층(260a) 상에 접하도록 배치된 제2 패드층(260c)으로 구성된다. Referring to FIG. 3, a wiring portion 150 and a pad portion 260 are formed in the pad region PA of the substrate 110. The pad portion 260 is composed of a first pad layer 260a and a second pad layer 260c disposed in contact with the first pad layer 260a.

제1 패드층(260a)은 제2 절연층(132)의 컨택홀(T)을 통해 배선부(150)와 연결된다. 또한, 제1 패드층(260a)이 애노드(241)의 제1 투명 도전층(241a)과 동일한 물질로 동시에 형성됨으로써, 제1 패드층(260a)의 두께(Ta')는 제1 투명 도전층(241a)의 두께(Ta)와 동일하도록 구성된다. The first pad layer 260a is connected to the wiring part 150 through the contact hole T of the second insulating layer 132. [ The first pad layer 260a is formed simultaneously with the first transparent conductive layer 241a of the anode 241 so that the thickness Ta 'of the first pad layer 260a is smaller than the thickness Ta' (Ta) of the first electrode 241a.

마찬가지로, 제2 패드층(260c)은 애노드(241)의 제2 투명 도전층(241c)과 동일한 물질로 동시에 형성됨으로써, 제2 패드층(260c)의 두께(Tc')는 제2 투명 도전층(241c)의 두께(Tc)와 동일하도록 구성된다. 또한, 제2 패드층(260c)은 패드부(260)의 최상층으로서, 회로부와 접촉된다. Similarly, the second pad layer 260c is formed simultaneously with the second transparent conductive layer 241c of the anode 241, so that the thickness Tc 'of the second pad layer 260c is smaller than the thickness Tc' Is equal to the thickness (Tc) of the first electrode (241c). The second pad layer 260c is the uppermost layer of the pad portion 260, and is in contact with the circuit portion.

도 3을 참고하면, 패드 영역(PA)에 형성된 패드부(260)의 적층 구조와 표시 영역(DA)에 형성된 애노드(241)의 적층 구조는 상이하도록 구성된다. 즉, 패드부(260)에서 애노드(241)의 금속층(241b)과 동일한 물질로 구성된 층을 제거하고, 금속 물질 대비 외부의 수분 또는 산소에 의한 영향을 덜 받는 물질로 이루어진 제1 패드층(260a) 및 제2 패드층(260c)만 남도록 구성함으로써, 외부에 노출되는 패드부(260)의 부식에 의한 회로부와의 접촉 불량이 개선될 수 있다. 3, the laminated structure of the pad portion 260 formed in the pad region PA is different from the laminated structure of the anode 241 formed in the display region DA. That is, a layer made of the same material as the metal layer 241b of the anode 241 is removed from the pad portion 260, and a first pad layer 260a made of a material less affected by moisture or oxygen outside the metal material And the second pad layer 260c are left to remain, it is possible to improve the defective contact with the circuit part due to the corrosion of the pad part 260 exposed to the outside.

또한, 제1 패드층(260a)의 두께(Ta')가 제1 투명 도전층(241a)의 두께(Ta)와 동일하도록 구성하여 제1 패드층(260a)의 두께(Ta')를 크게 함으로써, 패드부(260)와 제2 절연층(132) 사이의 접착력이 향상될 수 있다. 뿐만 아니라, 제1 패드층(260a) 및 제2 패드층(260c)은 각각 제1 투명 도전층(241a) 및 제2 투명 도전층(241c)과 동일한 물질로 이루어지므로, TCO(Transparent Conductive Oxide)와 같은 투명 도전 물질로 이루어질 수 있다. 따라서, 제1 패드층(260a)과 제2 패드층(260c)의 사이에서는 제1 패드층(260a)과 금속 물질로 이루어진 층 또는 제2 패드층(260c)과 금속 물질로 이루어진 층 사이에서 발생될 수 있는 갈바닉 현상이 덜 발생되므로, 제1 패드층(260a)과 제2 패드층(260c) 사이의 접착력 또한 개선될 수 있다. 이에 따라, 패드부(260)의 리페어(repair) 공정 시, 회로부를 패드부(260)로부터 제거하는 과정에서, 패드부(260)가 함께 뜯기거나, 제1 패드층(260a)과 제2 패드층(260c)이 서로 분리되는 패드부 뜯김 불량이 감소될 수 있다.The thickness Ta 'of the first pad layer 260a may be equal to the thickness Ta of the first transparent conductive layer 241a to increase the thickness Ta' of the first pad layer 260a , The adhesion between the pad portion 260 and the second insulating layer 132 can be improved. In addition, since the first pad layer 260a and the second pad layer 260c are made of the same material as the first transparent conductive layer 241a and the second transparent conductive layer 241c, the transparent conductive oxide (TCO) And the like. Accordingly, between the first pad layer 260a and the second pad layer 260c, a first pad layer 260a, a layer made of a metal material or a second pad layer 260c and a layer made of a metal material The bonding strength between the first pad layer 260a and the second pad layer 260c can be improved. Accordingly, during the process of repairing the pad portion 260, in the process of removing the circuit portion from the pad portion 260, the pad portion 260 may be torn together or the first pad layer 260a and the second pad The puck-off defects in which the layers 260c are separated from each other can be reduced.

도 3에서는 제2 패드층(260c)의 면적은 제1 패드층(260a)의 면적과 동일한 것으로 도시되었으나, 제2 패드층(260c)의 면적이 제1 패드층(260a)의 면적보다 크도록 구성될 수도 있다. 즉, 제2 패드층(260c)이 제1 패드층(260a)의 측면을 덮도록 구성될 수 있으며, 이에 따라 제1 패드층(260a)과 제2 패드층(260c) 사이의 접촉 면적이 증가됨으로써, 제1 패드층(260a)과 제2 패드층(260c) 사이의 접착력이 보다 향상될 수 있다. 3, the area of the second pad layer 260c is equal to the area of the first pad layer 260a. However, the area of the second pad layer 260c may be larger than that of the first pad layer 260a. . That is, the second pad layer 260c may cover the side surface of the first pad layer 260a, thereby increasing the contact area between the first pad layer 260a and the second pad layer 260c The adhesion between the first pad layer 260a and the second pad layer 260c can be further improved.

한편, 본 발명의 다른 실시예에서는, 애노드(241)의 제1 투명 도전층(241a) 및 제1 패드층(260a)을 결정화하는 별도의 공정을 추가 진행함으로써, 애노드(241)와 패드부(260)의 적층 구조를 상이하게 구성할 수 있다. 이에 대해 보다 구체적으로 설명하면, 제1 투명 도전층(241a) 및 제1 패드층(260a)을 결정화한 후에, 제1 투명 도전층(241a) 상에 금속층(241b)을 형성한다. 이 때, 금속층(241b)의 식각 공정 시, 제1 패드층(260a) 상에 형성된 금속 물질은 식각액에 의해 제거되나, 제1 패드층(260a)은 제거되지 않고 그대로 남게 된다. 그 후, 투명 도전 물질을 각각 금속층(241b) 및 제1 패드층(260a) 상에 패터닝하면, 애노드(241)와 패드부(260)의 적층 구조는 상이하게 형성된다. 즉, 애노드(241)는 제1 투명 도전층(241a), 금속층(241b) 및 제2 투명 도전층(241c)으로 구성되고, 패드부(260)는 제1 투명 도전층(241a)과 동일한 물질 및 동일한 두께를 갖는 제1 패드층(260a) 및, 제2 투명 도전층(241c)과 동일한 물질 및 동일한 두께를 갖는 제2 패드층(260c)으로 구성된다. 이에 따라, 제1 패드층(260a)의 상부면(B)은 제1 투명 도전층(241a)의 상부면(A)보다 식각 공정에 더 많이 노출되므로, 제1 패드층(260a) 상부면(B)이 거칠기와 제1 투명 도전층(241a)의 상부면(A)의 거칠기는 상이할 수 있다.In another embodiment of the present invention, a separate process of crystallizing the first transparent conductive layer 241a and the first pad layer 260a of the anode 241 is further performed to form the anode 241 and the pad portion 260 may be configured differently. More specifically, after the first transparent conductive layer 241a and the first pad layer 260a are crystallized, a metal layer 241b is formed on the first transparent conductive layer 241a. At this time, in the etching process of the metal layer 241b, the metal material formed on the first pad layer 260a is removed by the etching solution, but the first pad layer 260a is left without being removed. Thereafter, when the transparent conductive material is patterned on the metal layer 241b and the first pad layer 260a, respectively, the lamination structure of the anode 241 and the pad portion 260 is formed differently. That is, the anode 241 is composed of the first transparent conductive layer 241a, the metal layer 241b and the second transparent conductive layer 241c, and the pad portion 260 is formed of the same material as the first transparent conductive layer 241a And a second pad layer 260c having the same thickness and the same material as the second transparent conductive layer 241c. The upper surface B of the first pad layer 260a is more exposed to the etching process than the upper surface A of the first transparent conductive layer 241a so that the upper surface B of the first pad layer 260a B may differ from the roughness of the upper surface A of the first transparent conductive layer 241a.

따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치(200)에서는, 도 3에 도시된 바와 같이, 패드부(260)를 제1 패드층(260a) 및 제2 패드층(260c)으로 구성함으로써, 패드부(260)의 부식 및 손상에 의한 회로부와의 접촉 불량 및 패드부 뜯김 불량을 감소시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 패드부(260)의 신뢰성을 향상시킴으로써, 유기 발광 표시 장치(100)의 생산 비용 및 생산 수율을 개선하는 데 효과적일 수 있다.3, the pad unit 260 may include a first pad layer 260a and a second pad layer 260. The first pad layer 260a may include a first electrode layer 260a and a second electrode layer 260b. 260c, it is possible to reduce the contact failure between the pad portion 260 and the circuit portion due to corrosion and damage, and the failure in peeling the pad portion. In addition, by improving the reliability of the pad portion 260, it can be effective to improve the production cost and the production yield of the OLED display 100.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(300)의 개략적인 단면도이다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 이전 실시예와 동일 또는 대응되는 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용하였으며, 해당 구성 요소에 대한 구체적인 설명은 생략한다. 또한, 이전 실시예들의 설명을 참고하여 본 실시예는 해석될 수 있다.4 is a schematic cross-sectional view of an OLED display 300 according to another embodiment of the present invention. In describing the present embodiment, the same reference numerals are used for the same or corresponding elements to those of the previous embodiment, and a detailed description thereof will be omitted. In addition, the present embodiment can be interpreted with reference to the description of the previous embodiments.

도 4를 참고하면, 기판(110)의 패드 영역(PA)에는 배선부(150) 및 패드부(360)가 구성된다. 패드부(360)는 제1 패드층(360a), 제2 패드층(360c) 및, 제1 패드층(360a)과 제2 패드층(360c) 사이에 배치된 제3 패드층(360b)으로 구성된다. Referring to FIG. 4, a wiring portion 150 and a pad portion 360 are formed in the pad region PA of the substrate 110. The pad portion 360 includes a first pad layer 360a, a second pad layer 360c and a third pad layer 360b disposed between the first pad layer 360a and the second pad layer 360c .

제1 패드층(360a)은 제2 절연층(132)의 컨택홀(T)을 통해 배선부(150)와 연결되며, 애노드(341)의 제1 투명 도전층(341a)과 동일한 물질로 동시에 형성된다. 따라서, 제1 패드층(360a)의 두께(Ta')는 제1 투명 도전층(341a)의 두께(Ta)와 동일하도록 구성된다.The first pad layer 360a is connected to the wiring part 150 through the contact hole T of the second insulating layer 132 and is formed of the same material as the first transparent conductive layer 341a of the anode 341 . Therefore, the thickness Ta 'of the first pad layer 360a is configured to be equal to the thickness Ta of the first transparent conductive layer 341a.

제1 패드층(360a) 상에 배치된 제3 패드층(360b)은 애노드(341)의 금속층(341b)과 동일한 물질로 동시에 형성되므로, 제3 패드층(360b)의 두께(Tb')는 금속층(341b)의 두께(Tb)와 동일하도록 구성된다. Since the third pad layer 360b disposed on the first pad layer 360a is formed simultaneously with the same material as the metal layer 341b of the anode 341, the thickness Tb 'of the third pad layer 360b is Is equal to the thickness Tb of the metal layer 341b.

제2 패드층(360c)은 제3 패드층(360b) 상에 형성되며, 애노드(341)의 제2 투명 도전층(341c)과 동일한 물질로 동시에 형성되므로, 제2 패드층(360c)의 두께(Tc')는 제2 투명 도전층(341c)의 두께(Tc)와 동일하도록 구성된다. 또한, 제2 패드층(360c)은 패드부(360)의 최상층으로서, 회로부와 접촉된다. 그리고, 제1 투명 도전층(341a)의 두께(Ta)가 제2 투명 도전층(341c)의 두께(Tc)보다 크므로, 제1 패드층(360a)의 두께(Ta') 또한 제2 패드층(360c)의 두께(Tc')보다 크게 구성되어, 패드부(360)와 제2 절연층(132) 사이의 접착력이 향상될 수 있다.The second pad layer 360c is formed on the third pad layer 360b and formed simultaneously with the same material as the second transparent conductive layer 341c of the anode 341. Therefore, (Tc ') is equal to the thickness (Tc) of the second transparent conductive layer 341c. The second pad layer 360c is the uppermost layer of the pad portion 360 and is in contact with the circuit portion. Since the thickness Ta of the first transparent conductive layer 341a is larger than the thickness Tc of the second transparent conductive layer 341c, the thickness Ta 'of the first pad layer 360a is also greater than the thickness Ta of the second transparent conductive layer 341c. The adhesion strength between the pad portion 360 and the second insulating layer 132 can be improved.

제2 패드층(360c)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 패드층(360a)의 측면 및 제3 패드층(360b)의 측면을 덮도록 구성된다. 즉, 패드부(360)의 복수 개의 층들(360a, 360b, 360c) 중 수분 또는 산소 등에 가장 취약한 물질로 이루어진 제3 패드층(360b)이 외부에 노출되지 않도록 제2 패드층(360c)이 제3 패드층(360b)을 감싸도록 구성된다. 이에 따라, 패드부(360)의 부식 또는 손상이 방지되고, 이로 인한 회로부와의 접촉 불량 및 패드부 뜯김 불량 또한 감소될 수 있다. The second pad layer 360c is configured to cover the side surface of the first pad layer 360a and the side surface of the third pad layer 360b, as shown in FIG. That is, the third pad layer 360b made of a material most vulnerable to moisture or oxygen among the plurality of layers 360a, 360b, and 360c of the pad unit 360 is not exposed to the outside, 3 pad layer 360b. Accordingly, the pad portion 360 is prevented from being corroded or damaged, whereby the poor contact between the pad portion 360 and the circuit portion and the poor pad pulling can be reduced.

한편, 제2 패드층(360c)이 제1 패드층(360a)의 측면 및 제3 패드층(360b)의 측면을 덮도록 구성하는 것은, 결정화 공정의 추가 없이 형성이 가능하다. 이에 대해 보다 구체적으로 설명하면, 제1 투명 도전 물질과 금속 물질을 패터닝하여, 애노드의 제1 투명 도전층(341a)과 금속층(341b) 및, 패드부(360)의 제1 패드층(360a)과 제3 패드층(360b)을 형성한다. 이어서, 제2 투명 도전 물질을 전면 증착한 후, 감광성 수지(photo resist)를 이용하여 패터닝하는 과정에서, 패드부(360) 상에 배치되는 감광성 수지의 면적이 제3 패드층(360b)의 면적보다 크도록 구성함으로써, 제2 패드층(360c)의 상부면의 면적이 제3 패드층(360b)의 상부면의 면적보다 크게 패터닝되는 동시에, 제2 패드층(360c)이 제3 패드층(360b)을 덮도록 형성될 수 있다. On the other hand, it is possible to form the second pad layer 360c to cover the side surfaces of the first pad layer 360a and the third pad layer 360b without forming a crystallization process. More specifically, the first transparent conductive material and the metal material are patterned to form the first transparent conductive layer 341a and the metal layer 341b of the anode and the first pad layer 360a of the pad portion 360, And a third pad layer 360b. Then, in the process of patterning using the photoresist after the second transparent conductive material is deposited on the entire surface, the area of the photosensitive resin disposed on the pad portion 360 is larger than the area of the third pad layer 360b The area of the upper surface of the second pad layer 360c is larger than the area of the upper surface of the third pad layer 360b and the second pad layer 360c is formed in the third pad layer 360c 360b.

도 4에서는, 애노드(341)의 제1 투명 도전층(341a), 금속층(341b) 및 제2 투명 도전층(341c)의 면적이 동일하게 도시되었으나, 앞서 언급한 공정을 동일하게 적용하여 애노드(341)는 패드부(360)의 구조와 유사하게 형성될 수도 있다. 즉, 제2 투명 도전층(341c)이 금속층(341b)의 측면 및 제1 투명 도전층(341a)의 측면을 덮도록 구성될 수도 있다. Although the areas of the first transparent conductive layer 341a, the metal layer 341b and the second transparent conductive layer 341c of the anode 341 are shown in FIG. 4 in the same manner, 341 may be formed similar to the structure of the pad portion 360. That is, the second transparent conductive layer 341c may be configured to cover the side surface of the metal layer 341b and the side surface of the first transparent conductive layer 341a.

따라서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전면 발광 방식의 유기 발광 표시 장치(300)에서는, 도 4에 도시된 바와 같이, 패드부(360)의 제2 패드층(360c)이 제1 패드층(360a)의 측면 및 제3 패드층(360b)의 측면을 덮도록 구성됨으로써, 패드부(360)의 부식 또는 손상을 방지할 수 있다. 즉, 제2 패드층(360c)이 금속 물질로 이루어진 제3 패드층(360b)을 감싸도록 구성하여, 금속 물질이 외부에 노출됨으로 인해 수분 또는 산소에 의해 부식되는 것이 방지될 수 있다. 이에 따라, 패드부(360)와 회로부의 접촉 불량 및 패드부 뜯김 불량이 감소되고, 패드부(360)의 신뢰성이 향상될 수 있다.4, the second pad layer 360c of the pad unit 360 may be connected to the first pad layer 360c of the OLED display 300 according to another embodiment of the present invention, The side surface of the third pad layer 360a and the side surface of the third pad layer 360b, thereby preventing the pad portion 360 from being corroded or damaged. That is, the second pad layer 360c is configured to surround the third pad layer 360b made of a metal material, so that the metal material is prevented from being corroded by moisture or oxygen due to exposure to the outside. Accordingly, the contact failure between the pad portion 360 and the circuit portion and the defective pad portion can be reduced, and the reliability of the pad portion 360 can be improved.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다. 보다 구체적으로, 본 실시예는 도 1 및 도 2에서 설명한 유기 발광 표시 장치(100)의 제조 방법에 관한 것으로, 본 실시예를 설명함에 있어서, 이전 실시예와 동일 또는 대응되는 구성 요소에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention. 6A to 6E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention. More specifically, the present embodiment relates to a manufacturing method of the organic light emitting diode display 100 described with reference to FIGS. 1 and 2. In the following description of the present embodiment, A description thereof will be omitted.

먼저, 기판(410) 상에 박막 트랜지스터(420) 및 배선부(450)를 형성한다(S100).First, a thin film transistor 420 and a wiring portion 450 are formed on a substrate 410 (S100).

도 6a를 참고하면, 기판(410)의 표시 영역(DA) 상에 게이트 전극(421)을 형성한다. 이 후, 게이트 전극(421)을 덮도록 표시 영역(DA)과 패드 영역(PA) 상에 제1 절연층(431)을 형성하고, 제1 절연층(431) 상에 게이트 전극(421)과 중첩하도록 액티브층(422)을 형성한다. 이어서, 표시 영역(DA)의 액티브층(422) 상에 소스 전극(423) 및 드레인 전극(424)을 이격하여 형성하는 동시에, 패드 영역(PA)에 배선부(450)를 형성한다. 이에 따라, 배선부(450)는 박막 트랜지스터(420)의 소스 전극(423) 및 드레인 전극(424)과 동일한 물질로 이루어지게 된다.Referring to FIG. 6A, a gate electrode 421 is formed on a display area DA of a substrate 410. FIG. A first insulating layer 431 is formed on the display region DA and the pad region PA so as to cover the gate electrode 421 and a gate electrode 421 is formed on the first insulating layer 431 The active layer 422 is formed so as to overlap. The source electrode 423 and the drain electrode 424 are formed apart from the active layer 422 of the display region DA and the wiring portion 450 is formed in the pad region PA. Accordingly, the wiring portion 450 is made of the same material as the source electrode 423 and the drain electrode 424 of the thin film transistor 420.

이어서, 박막 트랜지스터(420) 및 배선부(450) 상에 제2 절연층(432)을 형성한다(S200). 이어서, 표시 영역(DA) 상에는 박막 트랜지스터(420)의 상부를 평평하게 만들기 위하여 평탄화층(433)이 형성된다.Next, a second insulating layer 432 is formed on the thin film transistor 420 and the wiring portion 450 (S200). Then, a planarizing layer 433 is formed on the display area DA to flatten the upper portion of the thin film transistor 420.

다음으로, 제2 절연층(432) 및 평탄화층(433) 상에, 박막 트랜지스터(420)와 연결되는 제1 투명 도전층(441a) 및, 배선부(450)와 연결되고 제1 투명 도전층(441a)과 동일한 두께를 갖는 제1 패드층(460a)을 패터닝한다(S300). 여기서, 제2 절연층(432) 및 평탄화층(433)은 각각 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질로 구성되므로, 단순히 절연층으로 지칭될 수도 있다.Next, a first transparent conductive layer 441a connected to the thin film transistor 420 and a second transparent conductive layer 441b connected to the wiring portion 450 are formed on the second insulating layer 432 and the planarization layer 433, The first pad layer 460a having the same thickness as the first pad layer 441a is patterned (S300). Here, since the second insulating layer 432 and the planarization layer 433 are each formed of an inorganic insulating material or an organic insulating material, they may be simply referred to as an insulating layer.

도 6b를 참고하면, 표시 영역(DA)의 평탄화층(433) 및 패드 영역(PA)의 제2 절연층(432) 상에 제1 투명 도전 물질을 전면 증착한 후, 감광성 수지를 이용하여 패터닝 공정을 진행한다. 이에 따라, 표시 영역(DA)에는 박막 트랜지스터(420)와 연결된 제1 투명 도전층(441a)이 형성되고, 패드 영역(PA)에는 배선부(450)와 연결되며, 제1 투명 도전층(441a)과 동일한 두께를 갖는 제1 패드층(460a)이 형성된다. 6B, the first transparent conductive material is completely deposited on the planarization layer 433 of the display area DA and the second insulating layer 432 of the pad area PA, and then patterned using a photosensitive resin. Proceed with the process. A first transparent conductive layer 441a connected to the thin film transistor 420 is formed in the display region DA and a wiring portion 450 is connected to the pad region PA and a first transparent conductive layer 441a A first pad layer 460a having the same thickness as the first pad layer 460a is formed.

이어서, 제1 투명 도전층(441a)과 제1 패드층(460a)을 결정화한다(S400). 제1 투명 도전층(441a)과 제1 패드층(460a)은 약 180℃의 열에 약 30분 정도 노출됨으로써, 결정화될 수 있다. 제1 투명 도전층(441a)과 제1 패드층(460a)은 결정화 공정에 의해, 물질의 특성이 변화하게 된다. 예를 들어, 제1 투명 도전층(441a)과 제1 패드층(460a)이 결정화되면, 제1 투명 도전층(441a)과 제1 패드층(460a)을 이루는 물질의 입자들이 성장하면서, 인접한 결정 입자들이 서로 맞닿게 되어 입자의 계면(grain boundary)이 커지거나 선명해질 수 있다.Next, the first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a are crystallized (S400). The first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a can be crystallized by being exposed to a heat of about 180 DEG C for about 30 minutes. The characteristics of the material of the first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a are changed by the crystallization process. For example, when the first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a are crystallized, the particles of the material forming the first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a grow, The crystal grains may come into contact with each other and the grain boundary of the grains may be enlarged or sharpened.

다음으로, 제1 투명 도전층(441a) 상에 금속층(441b) 및 제2 투명 도전층(441c)을 형성한다(S500).Next, a metal layer 441b and a second transparent conductive layer 441c are formed on the first transparent conductive layer 441a (S500).

도 6c를 참고하면, 결정화된 제1 투명 도전층(441a) 및 제1 패드층(460a) 상에 금속 물질(480b) 및 제2 투명 도전 물질(480c)를 전면 증착한다. 그 후, 감광성 수지층(470)을 제1 투명 도전층(441a)과 대응하는 부분에만 형성한 후, 감광성 수지층(470)과 중첩되지 않은 금속 물질(480b) 및 제2 투명 도전 물질(480c)의 나머지 부분을 제거하는 식각 공정을 진행한다. Referring to FIG. 6C, a metal material 480b and a second transparent conductive material 480c are deposited on the crystallized first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a. Thereafter, the photosensitive resin layer 470 is formed only on the portion corresponding to the first transparent conductive layer 441a, and then the metal material 480b and the second transparent conductive material 480c (not shown) that do not overlap with the photosensitive resin layer 470 ) Is removed.

그 결과, 도 6d에 도시된 바와 같이, 제1 패드층(460a) 상에 형성된 금속 물질(480b) 및 제2 투명 도전 물질(480c)은 식각액에 의해 제거되고, 제1 패드층(460a)만 남게 된다. 즉, 결정화에 의해 물질 특성이 변화한 제1 패드층(460a)은 금속 물질(480b) 및 제2 투명 도전 물질(480c)의 식각액에 영향을 받지 않게 되어 함께 식각되지 않게 된다. 이에 따라, 표시 영역(DA)에는 제1 투명 도전층(441a), 금속층(441b) 및 제2 투명 도전층(441c)로 구성된 애노드(441)가 형성되고, 패드 영역(PA)에는 제1 패드층(460a)로 구성된 패드부가 형성된다. 즉, 패드부가 금속 물질로 이루어진 층을 포함하지 않으므로, 외부의 수분 또는 산소에 의한 패드부의 부식 및 손상이 방지될 수 있고, 이로 인한 회로부와의 접촉 불량 및 패드부 뜯김 불량 또한 감소될 수 있다.As a result, as shown in FIG. 6D, the metal material 480b and the second transparent conductive material 480c formed on the first pad layer 460a are removed by the etching liquid, and only the first pad layer 460a It remains. That is, the first pad layer 460a whose material characteristics are changed by crystallization is not affected by the etchant of the metal material 480b and the second transparent conductive material 480c, and is not etched together. Thus, an anode 441 composed of a first transparent conductive layer 441a, a metal layer 441b and a second transparent conductive layer 441c is formed in the display region DA, A pad portion composed of a layer 460a is formed. That is, since the pad portion does not include a layer made of a metallic material, corrosion and damage of the pad portion due to external moisture or oxygen can be prevented, and the poor contact between the pad portion and the circuit portion can be reduced.

또한, 제1 패드층(460a)의 상부면(B)은 제1 투명 도전층(441a)의 상부면(A) 보다 식각액에 더 많이 노출되므로, 제1 패드층(460a)의 상부면(B)의 거칠기는 제1 투명 도전층(441a)의 상부면(A)의 거칠기와 상이할 수 있다.Since the upper surface B of the first pad layer 460a is more exposed to the etching liquid than the upper surface A of the first transparent conductive layer 441a, the upper surface B of the first pad layer 460a May be different from the roughness of the upper surface A of the first transparent conductive layer 441a.

그리고, 제1 투명 도전층(441a) 및 제1 패드층(460a)의 식각 공정과 금속층(441b) 및 제2 투명 도전층(441c)의 식각 공정이 별도로 진행됨에 따라서, 제1 투명 도전층(441a)의 두께를 제2 투명 도전층(441c)의 두께보다 크게 형성하는 것이 용이하다. 즉, 제1 투명 도전층(441a)은 애노드(441)의 복수 개의 층들(441a, 441b, 441c)이 한번에 식각될 수 있는 두께 등을 고려할 필요가 없이 단독으로 식각되므로, 제1 투명 도전층(441a)의 두께를 크게 형성하는 것이 용이할 수 있다. 이에 따라, 제1 투명 도전층(441a)의 두께를 크게 구성함으로써, 평탄화층(433)과 애노드(441) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 제1 투명 도전층(441a)의 두께와 동일한 두께를 갖는 제1 패드층(460a)의 두께 또한 크게 형성됨으로써, 제2 절연층(432)과 패드부(460) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. As the etching process of the first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a and the etching process of the metal layer 441b and the second transparent conductive layer 441c proceed separately, It is easy to form the first transparent conductive layer 441a thicker than the second transparent conductive layer 441c. That is, since the first transparent conductive layer 441a is etched independently without considering the thickness of the plurality of layers 441a, 441b, and 441c of the anode 441 that can be etched at one time, the first transparent conductive layer 441a may be easily formed to a large thickness. Thus, by increasing the thickness of the first transparent conductive layer 441a, the adhesive force between the planarization layer 433 and the anode 441 can be improved. In addition, since the first pad layer 460a having the same thickness as the first transparent conductive layer 441a is formed to have a greater thickness, the adhesion between the second insulating layer 432 and the pad portion 460 can be improved .

도 6e를 참고하면, 애노드(441)의 양 끝 단에는 화소를 구분하기 위한 뱅크층(434)이 형성되고, 애노드(441)와 뱅크층(434) 상에는 유기 발광층(442) 및 캐소드(443)가 형성된다. 즉, 평탄화층(433) 상에는 박막 트랜지스터(420)와 전기적으로 연결되며, 애노드(441), 유기 발광층(442) 및 캐소드(443)로 구성된 유기 발광부(440)가 형성된다.6E, a bank layer 434 for separating pixels is formed at both ends of the anode 441 and an organic light emitting layer 442 and a cathode 443 are formed on the anode 441 and the bank layer 434. [ . That is, an organic light emitting portion 440 is formed on the planarization layer 433, which is electrically connected to the thin film transistor 420 and includes the anode 441, the organic light emitting layer 442, and the cathode 443.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(440)의 제조 방법에서는, 제1 투명 도전층(441a)과 제1 패드층(460a)을 결정화하는 별도의 공정을 추가 진행함으로써, 패드부와 애노드(441)의 적층 구조를 상이하게 구성할 수 있다. 즉, 패드부가 금속 물질로 이루어진 층을 포함하지 않도록 형성함으로써, 패드부의 부식 및 손상에 의한 회로부와의 접촉 불량을 방지시키고, 패드부의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다. 또한, 제1 투명 도전층(441a)의 두께 및 제1 패드층(460a)의 두께를 제2 투명 도전층(441c)의 두께보다 크게 형성함으로써, 애노드(441)와 평탄화층(433) 사이의 접착력 및 패드부와 제2 절연층(432) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 애노드(441)와 평탄화층(433) 사이의 계면을 통해 유기 발광부(440) 내부로 침투되는 수분 또는 산소를 감소시키고, 외부의 물리적 충격 등으로부터 보다 개선된 유기 발광부(440)의 신뢰성을 향상시키는 데 효과적일 수 있다. 뿐만 아니라, 패드부 리페어(repair) 공정 시, 회로부를 패드부로부터 제거하는 과정에서 패드부가 함께 뜯기는 패드부 뜯김 불량을 감소시킬 수 있다.Accordingly, in the method of manufacturing the organic light emitting diode display 440 according to an embodiment of the present invention, a separate process of crystallizing the first transparent conductive layer 441a and the first pad layer 460a is further performed, The anode and the anode 441 can be configured differently from each other. That is, by forming the pad portion so as not to include the layer made of the metallic material, it is possible to prevent the contact failure with the circuit portion due to the corrosion and damage of the pad portion, and to improve the reliability of the pad portion. The thickness of the first transparent conductive layer 441a and the thickness of the first pad layer 460a are formed to be larger than the thickness of the second transparent conductive layer 441c so that the distance between the anode 441 and the planarization layer 433 The adhesive force and the adhesive force between the pad portion and the second insulating layer 432 can be improved. Accordingly, moisture or oxygen penetrated into the organic light emitting part 440 is reduced through the interface between the anode 441 and the planarization layer 433, and the organic light emitting part 440, which is improved from the external physical impact, It is possible to improve the reliability of the apparatus. In addition, during the repairing process of the pad, it is possible to reduce defects in the pads that are torn together when the circuit is removed from the pad.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제1 패드층은 회로부와 접촉할 수 있다.In the organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention, the first pad layer may be in contact with the circuit portion.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제1 패드층의 두께가 제2 투명 도전층의 두께보다 클 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the thickness of the first pad layer may be greater than the thickness of the second transparent conductive layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제1 패드층의 상부면의 거칠기와 제1 투명 도전층의 상부면의 거칠기는 상이할 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the roughness of the upper surface of the first pad layer and the roughness of the upper surface of the first transparent conductive layer may be different.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 패드부는 제1 패드층 상에 배치되며, 제2 투명 도전층과 동일한 두께를 갖는 제2 패드층을 더 포함할 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the pad portion may further include a second pad layer disposed on the first pad layer and having the same thickness as the second transparent conductive layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제1 패드층과 제2 패드층은 접하도록 구성되며, 제2 패드층은 회로부와 접촉할 수 있다.In the organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, the first pad layer and the second pad layer may be in contact with each other, and the second pad layer may be in contact with the circuit part.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제2 패드층의 면적은 제1 패드층의 면적과 동일하거나, 제1 패드층의 면적보다 클 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the area of the second pad layer may be equal to or greater than the area of the first pad layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 패드부는 제1 패드층과 제2 패드층 사이에 배치되며, 금속층과 동일한 두께를 갖는 제3 패드층을 더 포함할 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the pad portion may further include a third pad layer disposed between the first and second pad layers and having the same thickness as the metal layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제2 패드층은 제1 패드층의 측면 및 제3 패드층의 측면을 덮도록 구성될 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the second pad layer may be configured to cover the side surfaces of the first pad layer and the side surfaces of the third pad layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 있어서, 제2 패드층의 상부면의 면적은 제3 패드층의 상부면의 면적보다 클 수 있다.In the OLED display according to an embodiment of the present invention, the area of the upper surface of the second pad layer may be larger than the area of the upper surface of the third pad layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 금속층 및 제2 투명 도전층을 형성하는 단계는, 제1 투명 도전층 및 제1 패드층 상에 금속 물질을 증착하는 단계, 금속 물질 상에 투명 도전 물질을 증착하는 단계 및, 금속 물질 및 투명 도전 물질에서 제1 투명 도전층에 대응하는 영역을 제외한 나머지 영역을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.The forming of the metal layer and the second transparent conductive layer may include depositing a metal material on the first transparent conductive layer and the first pad layer, Depositing a transparent conductive material on the metal material, and removing the remaining region except the region corresponding to the first transparent conductive layer in the metal material and the transparent conductive material.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 제1 패드층의 상부면의 거칠기와 제1 투명 도전층의 상부면의 거칠기가 상이할 수 있다.In the method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, the roughness of the upper surface of the first pad layer and the roughness of the upper surface of the first transparent conductive layer may be different.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 제1 패드층의 두께가 제2 투명 도전층의 두께보다 클 수 있다.In the method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, the thickness of the first pad layer may be greater than the thickness of the second transparent conductive layer.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구 범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to those embodiments and various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of protection of the present invention should be construed according to the claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100, 200, 300, 400: 유기 발광 표시 장치
110, 410: 하부 기판
120, 420: 박막 트랜지스터
121, 421: 게이트 전극
122, 422: 액티브층
123, 423: 소스 전극
124, 424: 드레인 전극
131, 431: 제1 절연층
132, 432: 제2 절연층
133, 433: 평탄화층
134, 434: 뱅크층
140, 240, 340, 440: 유기 발광부
141, 241, 341, 441: 애노드
141a, 241a, 341a, 441a: 제1 투명 도전층
141b, 241b, 341b, 441b: 금속층
141c, 241c, 341c, 441c: 제2 투명 도전층
142, 442: 유기 발광층
143, 443: 캐소드
150, 450: 배선부
260, 360: 패드부
160a, 260a, 360a, 460a: 제1 패드층
160c, 260c, 360c: 제2 패드층
160b, 360c: 제3 패드층
470: 감광성 수치층
480b: 금속 물질
480c: 제2 투명 도전 물질
100, 200, 300, 400: organic light emitting display
110, 410: Lower substrate
120, 420: Thin film transistor
121, 421: gate electrode
122, 422: an active layer
123, 423: source electrode
124, 424: drain electrode
131, 431: a first insulating layer
132, 432: a second insulating layer
133, 433: planarization layer
134, 434: bank layer
140, 240, 340, 440:
141, 241, 341, 441:
141a, 241a, 341a, and 441a: a first transparent conductive layer
141b, 241b, 341b, 441b: metal layer
141c, 241c, 341c and 441c: the second transparent conductive layer
142, 442: organic light emitting layer
143, 443: cathode
150, 450: wiring part
260 and 360:
160a, 260a, 360a, 460a: a first pad layer
160c, 260c, and 360c: a second pad layer
160b and 360c: a third pad layer
470: photosensitive numerical layer
480b: metal material
480c: second transparent conductive material

Claims (15)

표시 영역과 패드 영역을 포함하는 기판;
상기 표시 영역에 위치하고, 게이트 전극, 액티브층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터;
상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되고, 제1 투명 도전층, 금속층 및 제2 투명 도전층이 차례로 적층된 애노드; 및
상기 패드 영역에 위치하고, 제1 패드층으로 구성된 패드부를 포함하고,
상기 제1 패드층의 두께는 상기 제1 투명 도전층의 두께와 동일하도록 구성된 유기 발광 표시 장치.
A substrate including a display area and a pad area;
A thin film transistor located in the display region and including a gate electrode, an active layer, a source electrode, and a drain electrode;
An anode electrically connected to the thin film transistor, the anode having a first transparent conductive layer, a metal layer, and a second transparent conductive layer sequentially stacked; And
And a pad portion located in the pad region and composed of a first pad layer,
Wherein the thickness of the first pad layer is equal to the thickness of the first transparent conductive layer.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패드층은 회로부와 접촉하는 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first pad layer is in contact with the circuit portion.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패드층의 두께가 상기 제2 투명 도전층의 두께보다 큰 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein a thickness of the first pad layer is larger than a thickness of the second transparent conductive layer.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패드층의 상부면의 거칠기와 상기 제1 투명 도전층의 상부면의 거칠기는 상이한 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the roughness of the upper surface of the first pad layer and the roughness of the upper surface of the first transparent conductive layer are different.
제1 항에 있어서,
상기 패드부는,
상기 제1 패드층 상에 배치되며, 상기 제2 투명 도전층과 동일한 두께를 갖는 제2 패드층을 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
The pad unit includes:
And a second pad layer disposed on the first pad layer and having the same thickness as the second transparent conductive layer.
제5 항에 있어서,
상기 제1 패드층과 상기 제2 패드층은 접하도록 구성되며,
상기 제2 패드층은 회로부와 접촉하는 유기 발광 표시 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the first pad layer and the second pad layer are in contact with each other,
And the second pad layer is in contact with the circuit portion.
제6 항에 있어서,
상기 제2 패드층의 면적은 상기 제1 패드층의 면적과 동일하거나, 제1 패드층의 면적보다 큰 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 6,
Wherein an area of the second pad layer is equal to or larger than an area of the first pad layer.
제5 항에 있어서,
상기 패드부는,
상기 제1 패드층과 상기 제2 패드층 사이에 배치되며, 상기 금속층과 동일한 두께를 갖는 제3 패드층을 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.
6. The method of claim 5,
The pad unit includes:
And a third pad layer disposed between the first pad layer and the second pad layer and having the same thickness as the metal layer.
제8 항에 있어서,
상기 제2 패드층은 상기 제1 패드층의 측면 및 상기 제3 패드층의 측면을 덮도록 구성된 유기 발광 표시 장치.
9. The method of claim 8,
And the second pad layer covers a side surface of the first pad layer and a side surface of the third pad layer.
제8 항에 있어서,
상기 제2 패드층의 상부면의 면적은 상기 제3 패드층의 상부면의 면적보다 큰 유기 발광 표시 장치.
9. The method of claim 8,
Wherein an area of an upper surface of the second pad layer is larger than an area of an upper surface of the third pad layer.
제8 항에 있어서,
상기 제2 패드층은 회로부와 접촉하는 유기 발광 표시 장치.
9. The method of claim 8,
And the second pad layer is in contact with the circuit portion.
기판 상에 박막 트랜지스터 및 배선부를 형성하는 단계;
상기 박막 트랜지스터 및 상기 배선부 상에 절연층을 형성하는 단계;
상기 절연층 상에, 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 제1 투명 도전층 및, 상기 배선부와 연결되고 상기 제1 투명 도전층과 동일한 두께를 갖는 제1 패드층을 패터닝하는 단계;
상기 제1 투명 도전층과 상기 제1 패드층을 결정화하는 단계; 및
상기 제1 투명 도전층 상에 금속층 및 제2 투명 도전층을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법.
Forming a thin film transistor and a wiring portion on a substrate;
Forming an insulating layer on the thin film transistor and the wiring portion;
Patterning a first transparent conductive layer connected to the thin film transistor on the insulating layer and a first pad layer connected to the wiring portion and having the same thickness as the first transparent conductive layer;
Crystallizing the first transparent conductive layer and the first pad layer; And
And forming a metal layer and a second transparent conductive layer on the first transparent conductive layer.
제12 항에 있어서,
상기 금속층 및 제2 투명 도전층을 형성하는 단계는,
상기 제1 투명 도전층 및 상기 제1 패드층 상에 금속 물질을 증착하는 단계;
상기 금속 물질 상에 투명 도전 물질을 증착하는 단계; 및
상기 금속 물질 및 투명 도전 물질에서 상기 제1 투명 도전층에 대응하는 영역을 제외한 나머지 영역을 제거하는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the forming of the metal layer and the second transparent conductive layer comprises:
Depositing a metal material on the first transparent conductive layer and the first pad layer;
Depositing a transparent conductive material on the metal material; And
And removing the remaining region except the region corresponding to the first transparent conductive layer from the metal material and the transparent conductive material.
제13 항에 있어서,
상기 제1 패드층의 상부면의 거칠기와 상기 제1 투명 도전층의 상부면의 거칠기가 상이한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the roughness of the upper surface of the first pad layer and the roughness of the upper surface of the first transparent conductive layer are different.
제12 항에 있어서,
상기 제1 패드층의 두께가 상기 제2 투명 도전층의 두께보다 큰 유기 발광 표시 장치의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the thickness of the first pad layer is greater than the thickness of the second transparent conductive layer.
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