KR20150085904A - 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 가스분사 제어방법 - Google Patents
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Abstract
플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 제어방법이 개시된다. 유전체창을 지지하는 프레임의 분할 구역 각각에 공급되는 반응 가스 유량을 독립적으로 제어할 수 있기 때문에 반응 가스 분포의 균일성이 향상되는 효과가 있다.
Description
본 발명은 플라즈마 발생 시스템 분야에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반응가스를 구역별로 제어하여 반응챔버로 분사하기 위한 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 가스분사 제어방법에 관한 것이다.
플라즈마 발생 장치는 플라즈마화하는 방법에 따라 통상적으로 용량성 플라즈마(CCP: capacitive coupled plasma) 타입과, 유도성 플라즈마(inductive coupled plasma) 타입으로 나눌 수 있다.
용량성 플라즈마 장치는 예컨데, 챔버, 적어도 일부가 챔버 내에 배치되며 접지되는 상부 전극, 챔버 내에서 상부 전극의 하측에 배치되어 원료 가스를 분사하는 가스 분사부, 가스 분사부의 하측에 대향 배치되어 처리대상물을 지지하는 정전척, 상부 전극에 전원을 인가하는 상부 전원 공급부, 하부 전극에 전원을 인가하는 하부 전원 공급부를 포함한다. 이러한 용량성 플라즈마 장치에서 상부 전극 및 하부 전극에 전원을 인가하면, 하부 전극과 상부 전극 사이에 전기장 및 플라즈마가 형성된다. 용량성 플라즈마 장치에서 생성된 플라즈마는 전기장에 의해 이온 에너지가 높은 장점이 있으나, 상기 고 에너지의 이온에 의해 처리대상물 또는 처리대상물 상에 형성된 박막이 손상되는 문제가 발생된다. 그리고 패턴이 미세화 됨에 따라 고 에너지의 이온에 의한 손상의 정도가 크다.
유도성 플라즈마 장치는 예컨데, 챔버, 챔버 내에 배치되어 원료 가스를 분사하는 가스 분사부, 챔버 내에서 가스 분사부와 대향 배치되어 처리대상물을 지지하는 정전척, 챔버 외측에 배치되어 소스 전원이 인가되는 안테나, 안테나에 소스 전원을 인가하는 안테나 소스 전원 공급부 및 정전척에 고주파 바이어스 전원을 인가하는 바이어스전원 공급부를 포함한다. 이러한 유도성 플라즈마 장치에서 정전척에 바이어스 전원을 인가하고, 안테나에 소스 전원이 인가되면, 챔버 내에 플라즈마가 형성된다. 생성된 플라즈마 중 양이온은 처리대상물의 표면에 입사 또는 충돌함으로써, 처리대상물 상에 박막을 형성하거나, 상기 처리대상물 또는 처리대상물 상에 형성된 박막을 식각한다. 유도성 플라즈마 장치에서 형성된 플라즈마는 높은 밀도를 가지고, 낮은 이온 에너지 분포를 형성하여, 처리대상물 또는 박막에 대한 손상이 적은 장점이 있다.
하지만, 챔버 내에 형성되는 플라즈마의 이온 밀도가 챔버의 중앙 영역에서는 일정하나, 가장 자리 영역으로 갈수록 이온 밀도의 균일도가 떨어지는 단점이 있다. 이와 같은 이온 밀도의 차이는 처리대상물 및 챔버가 대형화 됨에 따라 더욱 두드러지게 나타나고 있다.
또한, 처리대상물의 상부로 원료물질을 분사하는 과정에서는 원료물질의 분포균일도가 공정에 큰 영향을 미치게 된다. 특히 최근 집적도 및 수율 향상을 위해 처리대상물에 형성되는 패턴이 갈수록 미세해지고 반대로 처리대상물이 대형화됨에 따라 반응 가스의 균일도 향상에 대한 요구도 갈수록 높아지고 있다.
또한, 종래의 가스 분사부는 처리대상물 중앙 부분에서 일괄적으로 반응 가스를 분사하고 있는데, 이 경우 반응챔버 의하여 정의되는 반응 영역의 전 부분에서의 가스 분배가 균일하게 제어되지 않아 처리대상물의 표면에 형성되는 막질 특성이 저하될 우려가 있다.
특히, 가스 분사부로부터 분사되는 반응 가스가 처리대상물의 중심 부분과 대응되는 부분에서 일괄적으로 분사되도록 가스 공급부가 설계되는 데 기인하여 반응 가스가 처리대상물의 중심 부분에 대응하여 편중되는 현상이 발생되고 있다. 이 결과, 반응 가스의 분사 불균일로 인하여 처리대상물의 중심 부분과 가장자리 부분에서의 막 두께 편차가 발생하는 문제가 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하고자, 유전체창을 지지하는 프레임에 공급되는 반응 가스 유량을 독립적으로 제어할 수 있는 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 가스분사 제어방법을 제공한다.
본 발명은 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템을 제공한다. 이는 유도결합 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템으로서 가스 공급원으로부터 가스가 유입되는 메인 유로, 메인 유로로부터 분기되는 복수의 제1분기유로 및 제1분기유로 각각을 제어하도록 배치되는 유량 제어부를 포함하고, 제1분기유로 각각은 시스템의 반응챔버의 영역을 다수개로 분할한 영역에 독립적으로 반응 가스를 공급하도록 배치된다.
플라즈마 발생 시스템에서 상부챔버와 반응챔버를 구분하는 유전체창을 지지하고 삽입 장착된 다수개의 노즐을 구비하는 프레임을 더 포함하고, 프레임은 제1코너, 제2코너, 제3코너 및 제4코너와, 제1변, 제2변, 제3변 및 제4변을 포함하는 사각형상의 외곽 프레임과, 외곽 프레임의 내측 영역을 두 개 이상의 개구부로 분할하는 하나 이상의 가로보 및 하나 이상의 세로보를 구비하고, 제1분기유로 각각은 다수개의 노즐 각각에 연결되는 제2분기유로들이 나누어진다.
제1분기유로 각각은 동일한 양의 가스를 제공하는 채널에 해당되고, 채널은 제1채널, 제2채널, 제3채널, 제4채널 또는 제5채널을 포함한다.
제1채널은 제1변 및 제3변에 배치되고, 제2채널 또는 제4채널은 제2변 및 제4변에 배치된다.
제1채널은 제1, 제2, 제3 및 제4코너에 배치된다.
하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성된다.
제2채널 내지 제4채널은 하나 이상의 가로보의 일부 및/또는 전부 또는 하나 이상의 세로보의 일부에 형성된다.
제3채널 및 제4채널은 각각의 제1, 제2, 제3 또는 제4코너 사이 공간에 배치되는 변에 형성된다.
외곽 프레임에 배치되는 채널의 가스 유량은 프레임의 중심부에 배치되는 채널에 공급되는 가스 유량보다 많다.
또한, 본 발명은 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어방법을 제공한다. 이는 유도결합 플라즈마 발생 시스템에 적용되는 가스분사 제어방법으로서 플라즈마 발생 시스템의 유전체창을 다수개로 분할한 영역에 독립적으로 반응 가스를 공급하도록 복수의 제1분기유로를 구비하고, 제1분기유로들 각각은 동일한 양의 가스를 분사하는 복수의 노즐을 포함하는 채널을 구비하고, 채널들 간의 가스 유량 차이에 따라, 최소 채널로 유전체창의 다분할된 효과를 나타내도록 제어한다.
본 발명의 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템은 유전체창을 지지하는 프레임에 공급되는 반응 가스 유량을 독립적으로 제어하기 때문에 반응 가스 분포의 균일성이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가스분사 제어시스템을 적용한 플라즈마 시스템에서 프레임의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가스분사 제어시스템을 적용한 플라즈마 시스템의 전체 단면도이다.
도 3 내지 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 유전체창의 4, 5, 6, 8, 9, 10, 11 및 12분할 형태에서 프레임 상에 가스채널이 다양하게 형성되는 것을 나타낸 프레임의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가스분사 제어시스템을 적용한 플라즈마 시스템의 전체 단면도이다.
도 3 내지 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 유전체창의 4, 5, 6, 8, 9, 10, 11 및 12분할 형태에서 프레임 상에 가스채널이 다양하게 형성되는 것을 나타낸 프레임의 평면도이다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예를 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 발명의 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템(60)은 가스 공급원(1)으로부터 가스가 유입되는 메인 유로(61)와 메인 유로(61)의 종단부로부터 분기되는 복수의 제1분기유로(63)와 제1분기유로(63) 상에 각각 마련되는 유량 제어부(65)를 포함하며, 제1분기유로(63) 각각은 시스템의 반응챔버(10)의 영역을 다수개로 분할한 영역에 독립적으로 반응 가스를 공급하도록 배치된다.
도 1을 참조하면, 가스 공급원(1)으로부터 가스가 메인 유로(61)로 공급된다. 메인 유로(61)에는 압력 센서(62)가 마련되어 있고, 그 종단은 다수개로 분기(分岐)될 수 있다. 분기된 각각의 제1분기유로(63)상에는 유량 제어부(65)가 구비될 수 있다. 유량 제어부(65)는 유량계(651)와 제어 밸브(652)가 각각 직렬로 연결된 형태일 수 있다. 여기서 밸브 제어부(66)가 각 유량계(651)로부터 출력되는 유량 데이터 및 압력 센서(62)로부터 출력되는 압력 데이터를 모니터한다. 또한 밸브 제어부(66)는 각 데이터의 값에 기초하여 제어 밸브(652)를 컨트롤 하고, 각 제1분기유로(63)에 흐르는 가스의 질량 유량의 총 유량에 대한 비율(유량 비율이라 함)을 부여된 설정 비율로 되도록 제어할 수 있다.
예컨대, 밸브 제어부(66)는, 압력 데이터의 값(실측 압력이라고도 함)이 미리 정해진 일정한 목표 압력으로 되도록, 일방(一方)의 제1분기유로(63)의 제어 밸브(652)를 피드백 제어한다. 그리고, 실측 압력이 목표 압력의 근방 또는 그 이상으로 제어되어 있는 조건하에 있어서, 유량 데이터의 값(실측 유량이라고도 함)의 총 유량에 대한 비율이, 설정 비율로 되도록, 타방(他方)의 제어 밸브(652)를 피드백 제어한다.
각각의 제1분기유로(63)의 일부는 반응챔버(10)의 측벽에 내설될 수 있으며, 종단부는 프레임(50) 상부에 위치하여 제2분기유로(64)로 분기된다. 제1분기유로(63) 각각은 플라즈마 발생 시스템에서 상부챔버(80)와 반응챔버(10)를 구분하는 유전체창(40)을 지지하는 프레임(50)에 각각 독립적으로 동일한 양의 반응 가스를 공급하는 복수의 채널을 형성할 수 있다. 예를 들면, 유전체창(40)이 4분할된 프레임(50)에 형성되는 채널은 4개(제1채널(610) 내지 제4채널(640))일 수 있다. 다만, 유전체창(40)이 많이 분할될수록 채널의 개수도 그에 상응하여 증가되는 것은 아니다. 예컨대, 채널의 개수가 많을수록 독립 제어할 수 있는 채널 수가 증가하므로 반응챔버(10) 내에 반응 가스 균일성이 향상되는 효과가 있다.
제2분기유로(64)는 제1분기유로(63)의 종단부로부터 분기되어 프레임(50)에 삽입 장착된 다수개의 노즐(70) 각각에 연결된다. 제2분기유로(64) 각각은 제1분기유로(63)로부터 공급된 가스를 프레임(50)의 대칭영역에 균등하게 분배하는 역할을 수행한다. 예를 들면, 유전체창(40)이 4분할된 프레임(50)에 형성된 제1채널(610)은 외곽 프레임(54)의 코너 측 소정 영역에 가스를 공급한다. 이때, 유전체창(40)이 사각형상인 경우, 프레임(50)은 제1코너 내지 제4코너와 제1변 내지 제4변을 포함하는 외곽 프레임(54)을 구비할 수 있고, 각각의 코너로부터 소정 구역까지 채널이 형성된 외곽 프레임(54)은 제1채널(610)의 네 개의 제1분기유로(63)에 의해 가스 공급원(1)으로부터 균등한 유량으로 가스를 공급받을 수 있다.
한편, 프레임(50)은 외곽 프레임(54)의 내측 영역을 두 개 이상의 개구부로 분할하는 하나 이상의 가로보(52) 및/또는 세로보(53)를 구비할 수 있다. 이때, 제1채널(610) 내지 제5채널(650)은 가로보(52) 및 세로보(53)에 형성될 수 있다. 유전체창(40)의 분할영역이 많아지면, 상술한 채널들의 배치 형태는 상이할 수 있다. 또한, 하나의 분할영역에서도 다양한 채널들이 형성될 수 있다. 채널에 대한 보다 상세한 설명은 도 4 이후에 후술하도록 한다.
종래의 가스 분사부는 처리대상물 중앙 부분에 일괄적으로 반응 가스를 분사하는 방식을 채택하고 있는데, 이 경우 반응챔버(10) 의하여 정의되는 반응 영역의 전 부분에서의 가스 분배가 균일하게 제어되지 않아 처리대상물의 표면에 형성되는 막질 특성이 저하될 우려가 있다. 특히, 가스 분사부로부터 분사되는 반응 가스가 처리대상물의 중심 부분과 대응되는 부분에서 일괄적으로 분사되도록 가스 공급부가 설계되는 데 기인하여 반응 가스가 처리대상물의 중심 부분에 대응하여 편중되는 현상이 발생되고 있다. 이 결과, 반응 가스의 분사 불균일로 인하여 처리대상물의 중심 부분과 가장자리 부분에서의 막 두께 편차가 발생하는 문제가 있다.
반면, 본 발명에서는 상술한 문제가 개선될 수 있다. 예를 들어 제1채널(610)은 외곽 프레임에 배치되어 반응챔버(10)로 공급되는 가스 유량을 나타내므로 프레임(50)의 중심 부분에 대응되는 반응챔버(10)에 가스를 공급하는 제2채널(620)의 가스 유량보다 많을 수 있다. 따라서 챔버가 대형화됨에 따라 챔버 내 반응 가스의 불균일도가 증가하는 현상이 완화될 수 있다.
제2분기유로(64)는 제1분기유로(63)로부터 분기되어 프레임(50)에 형성된 하나 이상의 구멍에 삽입 설치될 수 있다. 제2분기유로(64)는 구멍에 대향 배치되는 노즐(70)(도 3 참조)과 연통되어 가스 공급원(1)으로부터 공급된 가스를 최종적으로 노즐(70)에 공급하는 역할을 하며, 각각의 가스채널의 지정한 구역 내에서 일정한 간격을 가지고 배치될 수 있다.
제1분기유로(63)의 내경은 제2분기유로(64)의 내경보다 큰 것일 수 있다. 예컨대, 제2분기유로(64)의 내경이 제1분기유로(63)의 내경보다 작은 경우, 제2분기유로(64)의 내부 압력은 상대적으로 낮기 때문에, 내부 압력이 높은 제1분기유로(63)의 종단부인 분기점에서 가스의 와류 현상이 감소되는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 플라즈마 발생 시스템에 적용되는 가스분사 제어시스템의 제어방법을 제공한다.
상술한 제어방법으로는 플라즈마 발생 시스템의 유전체창을 다수개로 분할한 영역에 독립적으로 반응 가스를 공급하도록 복수의 제1분기유로를 구비하고, 제1분기유로 각각은 동일한 양의 가스를 분사하는 복수의 제2분기유로를 포함하는 채널을 구비하고, 채널들 간의 가스 유량 차이에 따라, 최소 채널로 상기 유전체창의 다분할된 효과를 나타내도록 제어한다.
상술한 제어시스템과 유사하게 제1분기유로에서 결정된 가스 유량을 통해 프레임의 분할영역에 각각 다른 가스 유량으로 가스를 공급할 수 있다. 본 발명에 적용된 가스분사 제어시스템은 프레임에 공급되는 가스 유량을 독립적으로 제어할 수 있으므로 반응 가스의 균일성이 향상되는 효과가 있다.
도 2를 참조하면, 플라즈마 발생 시스템은 유도 결합형일 수 있으며, 이는 가스 공급원(1), 반응챔버(10), 서셉터(20), 안테나(30), 유전체창(40), 프레임(50), 가스분사 제어시스템(60), 노즐(70), 상부챔버(80) 및 상부덮개(90)를 포함한다.
반응챔버(10)는, 처리대상물(미도시)에 대해 플라즈마 증착 공정을 수행하기 위한 환경을 조성하고 플라즈마가 생성ㅇ반응되는 공간을 제공한다. 이때, 반응챔버(10)는 사각의 판면 형상을 갖는 처리대상물(미도시)에 적합하도록 전체적으로 사각 형상을 가질 수 있다. 다만, 본 발명에서 반응챔버(10)의 형상은 플라즈마 처리 대상이 되는 처리대상물의 종류 및 형상에 따라 변경될 수 있다.
서셉터(20)는 반응챔버(10)의 내부 아래쪽에 마련되어 처리대상물(미도시)을 지지하고, 반응챔버(10) 내에 생성된 플라즈마가 처리대상물의 표면에 충돌할 수 있도록 바이어스 고주파전력을 제공한다. 서셉터(20)는, 처리대상물을 고정시키기 위하여 진공척 또는 정전척을 포함할 수 있다. 서셉터(20)는, 고주파전극과, 접지된 영역을 제공하는 접지전극과, 고주파전극과 접지전극 사이에 구비되는 절연체를 구비할 수 있다. 이때, 절연체는 세라믹 및/또는 테프론 재질로 이루어질 수 있다.
안테나(30)는 고주파전원(미도시)으로부터 고주파전력을 인가받아 반응챔버(10)의 내부에 플라즈마를 생성시키는 전기장을 유도하는 수단으로, 전체적으로 코일 형태의 구조를 갖는다. 본 발명에서 안테나(30)의 형상, 개수 및 배치는 적절하게 선택될 수 있다. 한편, 고주파전원(미도시)으로부터 공급되는 고주파전력은 상부덮개(90)의 상부에 마련된 정합기(31)를 거쳐 상부덮개(90) 내에 배치된 전력인입선(32)을 통해 안테나(30)에 인가된다. 이때, 정합기(31)는 고주파전원(미도시)의 내부임피던스와 고주파전력이 공급되는 경로의 임피던스를 매칭(matching)시킬 수 있다.
한편, 안테나(30)에 고주파전력이 인가되면, 반응챔버(10)의 내부에 플라즈마를 생성시키기 위한 유도전기장이 형성될 뿐만 아니라, 안테나(30) 표면에 고주파 주파수로 양전하와 음전하가 교대로 대전됨에 따라 축전전기장이 형성될 수 있다. 이때, 축전전기장은 플라즈마 초기 방전에 기여하기도 하지만, 스퍼터링(sputtering) 현상에 의해 플라즈마와 안테나(30) 사이에 존재하는 유전체창(40)을 손상시키고, 플라즈마의 균일도를 떨어뜨리는 등의 부정적인 영향을 미칠 수 있다.
유전체창(40)은 위와 같은 축전전기장으로 인한 부정적인 영향을 방지하는 수단으로, 반응챔버(10)와 안테나(30) 사이에 배치되어 축전전기장을 감소시키고 유도전기장을 플라즈마에 더 효과적으로 전달하도록 하는 역할을 수행할 수 있다. 즉, 유전체창(40)은 안테나(30)와 플라즈마 사이의 용량성(축전성) 결합 성분을 감소시키기 때문에 고주파전력에 의한 에너지를 유도성 결합으로 플라즈마에 더 효과적으로 전달하도록 할 수 있다.
본 실시예에서, 유전체창(40)은 반응챔버(10)의 상부에서 실질적으로 동일한 수평면 상에 구비되며, 원, 타원, 삼각, 사각 중 어느 하나의 형상일 수 있다. 바람직하게는 본 실시예의 유전체창(40)은 사각 형상으로 배치될 수 있다. 또한 유전체창(40)은 하나 이상의 개수로 분할된 형태를 가질 수 있다. 예컨대, 본 실시예의 유전체창(40)은 4분할, 5분할, 6분할, 8분할, 9분할 및 그 이상으로 분할된 것 중 어느 하나인 형태일 수 있다.
프레임(50)은 반응챔버(10)의 측벽 상단에 배치되어 다수개로 분할된 유전체창(40)을 지지한다. 프레임(50)은 두 개 이상의 유전체창(40)이 대응 배치되는 두 개 이상의 개구부가 형성될 수 있다. 예를 들면, 유전체창(40)이 4분할인 경우, 프레임(50)도 4개의 개구부가 형성되어 개구부에 유전체창(40)을 결합시켜 지지하는 형태일 수 있다. 구체적으로, 본 실시예에서 프레임(50)은 사각 형상을 갖는 외곽 프레임(54), 외곽 프레임(54)의 내측 영역을 두 개 이상의 개구부로 분할하는 가로보(52) 및/또는 세로보(53)를 구비할 수 있다.(도 1 참조)
또한 프레임(50)의 강도를 보강하도록 적어도 하나의 보강리브(미도시)가 마련될 수 있다. 프레임(50)과 보강리브(미도시) 사이의 결합은 볼트체결 방식 등을 포함하여 다양한 체결 방식이 선택될 수 있다.
가스분사 제어시스템(60)은 가스 공급원(1)으로부터 공급받은 가스를 노즐(70)로 공급하는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 가스 공급원(1)으로부터 가스분사 제어시스템(60)으로 가스를 공급하는 과정은 하나 이상의 가스채널을 통한 유전체창(40)의 구역별 가스 유량 제어 방식을 적용할 수 있다. 이때, 가스분사 제어시스템(60)의 제1분기유로(63)는 가스 공급원(1)으로부터 반응챔버(10)의 측벽 내부를 통하여 상부챔버(80)측 프레임(50) 상에 하나 이상의 제2분기유로(64)로 분기되어 배치될 수 있다. 구체적으로는 균일한 가스 분사를 위하여 가스분사 제어시스템(60)은 프레임(50)의 외곽 프레임(54), 가로보(52) 및 세로보(53) 상에 제1분기유로(63) 및 제2분기유로(64)를 통하여 삽입 배치될 수 있다.(도 1 참조)
또한 프레임(50)은 가스분사 제어시스템(60)으로부터 가스를 공급받기 위해 하나 이상의 구멍을 가질 수 있다. 따라서, 구멍이 형성된 프레임(50) 상부에 하나 이상의 가스채널이 형성된 가스분사 제어시스템(60)이 연결되어 가스가 공급된다.
이때, 프레임(50)에 연통되는 노즐(70)에 가스를 공급하므로 반응챔버(10) 내에 별도의 가스 분배판 및 가스 분배 장치가 필요하지 않아, 공정 비용의 절감 효과가 있고, 균일한 플라즈마 생성이 가능하다.
도 3을 참조하면, 4분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보 및 제1세로보가 구비될 수 있고, 제1가로보 및 제1세로보는 서로 교차되는 형태일 수 있다. 제1가로보 및 제1세로보가 서로 교차되기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제4분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다. 또한, 제1채널(610)은 제1코너와 함께 제1분할사각형의 제3변 또는 제4변을 포함할 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보 및/또는 제1세로보에 배치되거나, 제2코너와 함께 제2분할사각형의 제2변 또는 제3변을 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 제1가로보 및/또는 제1세로보에 배치되거나, 제4코너와 함께 제4분할사각형의 제1변 또는 제2변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 제1코너와 제2코너 사이 공간에 구비되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 제3코너와 함께 제3분할사각형의 제1변 또는 제2변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 제1코너와 제3코너 사이 공간에 구비되는 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변을 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 5분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1분할사각형이 구비될 수 있고, 제1분할사각형의 제1변과 외곽 프레임의 제1변 사이 및 제1분할사각형의 제3변과 외곽 프레임의 제3변 사이에 제1세로보a 및 제1세로보b가 구비될 수 있다. 또한, 제1분할사각형의 제2변과 외곽 프레임의 제2변 사이 및 제1분할사각형의 제4변과 외곽 프레임의 제4변 사이에 제1가로보a 및 제1가로보b가 구비될 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다. 또한, 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변과 함께 제1세로보a 및 제1세로보b를 포함할 수 있다. 또한, 제1채널(610)은 제1코너와 함께 제1세로보a를 포함할 수 있다.
제2채널(620)은 제1분할사각형을 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제1분할사각형과 함께 제1가로보a, 제1가로보b, 제1세로보a 및 제1세로보b를 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변과 함께 제1가로보a 및 제1가로보b를 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 제1가로보a, 제1가로보b, 제1세로보a 및 제1세로보b를 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 제2코너와 함께 제1가로보b를 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제4코너와 함께 제1세로보b를 포함할 수 있다.
제5채널(650)은 외곽 프레임의 제3코너와 함께 제1가로보a를 포함할 수 있다.
도 5를 참조하면, 6분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보, 제1세로보 및 제2세로보가 구비될 수 있다. 외곽 프레임의 제1코너와 제2코너 사이 제1변이 배치될 수 있고, 제3코너와 제4코너 사이에 제3변이 배치될 수 있다. 이때, 제1변 및 제3변의 일단에 프레임 내측으로 제1세로보가, 제1변 및 제3변의 타단에 프레임 내측으로 제2세로보가 구비될 수 있다. 또한, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이와 제2코너 및 제4코너 사이에 프레임 내측으로 제1가로보가 구비될 수 있다. 제1가로보 및 제1세로보는 서로 교차되는 형태일 수 있고, 제1가로보 및 제2세로보 또한 서로 교차되는 형태일 수 있다. 가로보와 세로보가 서로 교차되기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제6분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다. 또한, 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너와 함께 제1세로보 및 제2세로보를 포함할 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보, 제1세로보 및/또는 제2세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제2분할사각형의 제3변을 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 배치되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 배치되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제1세로보 및 제2세로보를 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 제1분할사각형의 제3변 및 제3분할사각형의 제3변을 포함할 수 있다.
도 6을 참조하면, 8분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보, 제2가로보, 제1세로보, 제2세로보 및 제3세로보가 구비될 수 있다. 하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 외곽 프레임의 제1 또는 제4변 또는 외곽 프레임의 각 코너 사이 공간에 형성된 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성될 수 있다. 여기에서, 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성된 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변의 일단에 프레임 내측으로 제1세로보가, 제1변 및 제3변의 타단에 프레임 내측으로 제2세로보가 구비될 수 있다. 또한, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변의 일단에 프레임 내측으로 제1가로보가, 제2변 및 제4변의 타단에 프레임 내측으로 제2가로보가 구비될 수 있다. 다만, 제1세로보 및 제2세로보는 외곽 프레임의 제1변으로부터 제1가로보까지 제1세로보a 및 제2세로보a로 형성되고, 외곽 프레임의 제3변으로부터 제2가로보까지 제1세로보b 및 제2세로보b로 형성될 수 있다. 즉, 제1세로보 및 제2세로보는 제1가로보와 제2가로보 사이 공간에는 형성되지 않을 수 있다. 제1가로보와 제2가로보 사이 공간에는 제3세로보가 형성될 수 있으나, 외곽 프레임의 제1변으로부터 제1가로보까지의 사이 공간 및 외곽 프레임의 제3변으로부터 제2가로보까지의 사이 공간에는 형성되지 않을 수 있다. 각각의 가로보와 세로보가 프레임을 분할하기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제8분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보, 제2가로보, 제1세로보, 제2세로보 및/또는 제3세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제3세로보와 함께 제1가로보의 일부 및 제2가로보의 일부 중에서 제1세로보와 제2세로보의 사이 공간에 해당하는 영역을 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제1세로보 및 제2세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 제2분할사각형 및 제7분할사각형을 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변과 함께 제1분할사각형 및 제3분할사각형의 제3변, 제6분할사각형 및 제8분할사각형의 제1변을 포함할 수 있다.
도 7을 참조하면, 9분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보, 제2가로보, 제1세로보 및 제2세로보가 구비될 수 있다. 하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 외곽 프레임의 제1 또는 제4변 또는 외곽 프레임의 각 코너 사이 공간에 형성된 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성될 수 있다. 여기에서, 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성된 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변의 일단에 프레임 내측으로 제1세로보가, 제1변 및 제3변의 타단에 프레임 내측으로 제2세로보가 구비될 수 있다. 또한, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변의 일단에 프레임 내측으로 제1가로보가, 제2변 및 제4변의 타단에 프레임 내측으로 제2가로보가 구비될 수 있다. 제1가로보, 제2가로보 및 제1세로보, 제2세로보는 서로 교차되는 형태일 수 있다. 가로보와 세로보가 서로 교차되기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제9분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보, 제2가로보, 제1세로보 및/또는 제2세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제5분할사각형을 포함하거나, 제5분할사각형과 함께 제1가로보 및 제2가로보를 포함하거나, 제5분할사각형과 함께 제1세로보 및 제2세로보를 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제2분할사각형의 제2변 및 제3변 및 제8분할사각형의 제2변 및 제3변을 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변과 함께 제4분할사각형 및 제6분할사각형의 제1변 및 제3변을 포함할 수 있다.
도 8을 참조하면, 10분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보, 제2가로보 및 제1세로보 내지 제5세로보가 구비될 수 있다. 하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 외곽 프레임의 제1 또는 제4변 또는 외곽 프레임의 각 코너 사이 공간에 형성된 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성될 수 있다. 여기에서, 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성된 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변의 일단에 프레임 내측으로 제2세로보가, 제1변 및 제3변의 타단에 프레임 내측으로 제4세로보가 구비될 수 있다. 또한, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변의 일단에 프레임 내측으로 제1가로보가, 제2변 및 제4변의 타단에 프레임 내측으로 제2가로보가 구비될 수 있다. 다만, 제2세로보 및 제4세로보는 외곽 프레임의 제1변으로부터 제1가로보까지 제2세로보a 및 제4세로보a로 형성되고, 외곽 프레임의 제3변으로부터 제2가로보까지 제2세로보b 및 제4세로보b로 형성될 수 있다. 즉, 제2세로보 및 제4세로보는 제1가로보와 제2가로보 사이 공간에는 형성되지 않을 수 있다. 제1가로보와 제2가로보 사이 공간에는 제1세로보, 제3세로보 및 제5세로보가 형성될 수 있으나, 외곽 프레임의 제1변으로부터 제1가로보까지의 사이 공간 및 외곽 프레임의 제3변으로부터 제2가로보까지의 사이 공간에는 형성되지 않을 수 있다. 각각의 가로보와 세로보가 프레임을 분할하기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제10분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보, 제2가로보 및/또는 제1세로보 내지 제5세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제5분할사각형 및 제6분할사각형을 포함하거나, 제3세로보를 포함할 수 있고, 제3세로보와 함께 제5분할사각형 및 제6분할사각형의 제1변 및 제3변을 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제2세로보 및 제4세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 제2분할사각형 및 제9분할사각형을 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변과 함께 제1분할사각형 및 제3분할사각형의 제3변 및 제8분할사각형 및 제10분할사각형의 제1변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 제4분할사각형 및 제7분할사각형을 포함할 수 있다.
도 9를 참조하면, 11분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보, 제2가로보 및 제1세로보 내지 제5세로보가 구비될 수 있다. 하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 외곽 프레임의 제1 또는 제4변 또는 외곽 프레임의 각 코너 사이 공간에 형성된 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성될 수 있다. 여기에서, 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성된 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변의 일단에 프레임 내측으로 제1세로보가 구비되고, 제1변 및 제3변의 일부에 제3세로보가 구비되고, 제1변 및 제3변의 타단에 프레임 내측으로 제5세로보가 구비될 수 있다. 또한, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변의 일단에 프레임 내측으로 제1가로보가, 제2변 및 제4변의 타단에 프레임 내측으로 제2가로보가 구비될 수 있다. 다만, 제1세로보, 제3세로보 및 제5세로보는 외곽 프레임의 제1변으로부터 제1가로보까지 제1세로보a, 제3세로보a 및 제5세로보a로 형성되고, 외곽 프레임의 제3변으로부터 제2가로보까지 제1세로보b, 제3세로보b 및 제5세로보b로 형성될 수 있다. 즉, 제1세로보, 제3세로보 및 제5세로보는 제1가로보와 제2가로보 사이 공간에는 형성되지 않을 수 있다. 제1가로보와 제2가로보 사이 공간에는 제2세로보 및 제4세로보가 형성될 수 있으나, 외곽 프레임의 제1변으로부터 제1가로보까지의 사이 공간 및 외곽 프레임의 제3변으로부터 제2가로보까지의 사이 공간에는 형성되지 않을 수 있다. 각각의 가로보와 세로보가 프레임을 분할하기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제11분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다. 또한, 제1채널(610)은 제1, 제4, 제8 및 제11분할사각형을 포함할 수 있다. 또한, 제1채널(610)은 제1코너 내지 제4코너와 함께 제1세로보 및 제5세로보를 포함할 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보, 제2가로보 및/또는 제1세로보 내지 제5세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제6분할사각형을 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제1세로보, 제3세로보 및 제5세로보를 포함거나, 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제3세로보를 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변과 함께 제1분할사각형 및 제4분할사각형의 제3변 및 제8분할사각형 및 제11분할사각형의 제1변을 포함할 수 있다.
도 10을 참조하면, 12분할된 유전체창에 따라 프레임 상에 채널들이 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이때, 프레임 내부에 제1가로보, 제2가로보 및 제1세로보 내지 제3세로보가 구비될 수 있다. 하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 외곽 프레임의 제1 또는 제4변 또는 외곽 프레임의 각 코너 사이 공간에 형성된 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성될 수 있다. 여기에서, 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성된 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변의 일단에 프레임 내측으로 제1세로보가 구비될 수 있고, 제1변 및 제3변의 일부에 프레임 내측으로 제2세로보가 구비될 수 있으며, 제1변 및 제3변의 타단에 프레임 내측으로 제3세로보가 구비될 수 있다. 또한, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변의 일단에 프레임 내측으로 제1가로보가, 제2변 및 제4변의 타단에 프레임 내측으로 제2가로보가 구비될 수 있다. 각각의 가로보와 세로보가 서로 교차되기 때문에, 프레임 내부에서 제1분할사각형 내지 제12분할사각형이 형성될 수 있다. 분할사각형 각각은 제1변 내지 제4변을 구비할 수 있다.
상술한 프레임에서 제1채널(610)은 외곽 프레임의 제1변 및 제3변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 내지 제4코너 중 하나 이상의 코너에 배치될 수 있다.
제2채널(620)은 제1가로보, 제2가로보 및/또는 제1세로보 내지 제3세로보를 포함할 수 있다. 또한, 제2채널(620)은 제6분할사각형 및 제7분할사각형을 포함하거나, 제7분할사각형의 제1변을 포함할 수 있고, 제7분할사각형의 제1변과 함께 제6분할사각형 및 제7분할사각형의 제1변 및 제3변을 포함할 수 있다.
제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변을 포함할 수 있다. 또한, 제3채널(630)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제2코너 사이 공간에 형성되는 제1변 및 제1변과 마주보는 제3변과 함께 제2, 제3, 제10 및 제11분할사각형의 제1변 및 제3변을 포함하거나, 제2, 제3, 제10 및 제11분할사각형을 포함할 수 있다.
제4채널(640)은 외곽 프레임의 제2변 및 제4변에 배치되거나, 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 외곽 프레임의 제1코너 및 제3코너 사이 공간에 형성된 제2변 및 제2변과 마주보는 제4변과 함께 제1분할사각형 및 제4분할사각형의 제3변 및 제9분할사각형 및 제12분할사각형의 제1변을 포함할 수 있다. 또한, 제4채널(640)은 제5분할사각형 및 제8분할사각형을 포함할 수 있다.
이상, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해서 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다 할 것이다.
1 : 가스 공급원
10 : 반응챔버
20 : 서셉터
30 : 안테나
40 : 유전체창
50 : 프레임
60 : 가스분사 제어시스템
61 : 메인 유로
62 : 압력 센서
63 : 제1분기유로
64 : 제2분기유로
65 : 유량 제어부
651 : 유량계
652 : 제어 밸브
66 : 밸브 제어부
70 : 노즐
80 : 상부챔버
90 : 상부덮개
610 : 제1채널
620 : 제2채널
630 : 제3채널
640 : 제4채널
650 : 제5채널
10 : 반응챔버
20 : 서셉터
30 : 안테나
40 : 유전체창
50 : 프레임
60 : 가스분사 제어시스템
61 : 메인 유로
62 : 압력 센서
63 : 제1분기유로
64 : 제2분기유로
65 : 유량 제어부
651 : 유량계
652 : 제어 밸브
66 : 밸브 제어부
70 : 노즐
80 : 상부챔버
90 : 상부덮개
610 : 제1채널
620 : 제2채널
630 : 제3채널
640 : 제4채널
650 : 제5채널
Claims (10)
- 유도결합 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템으로서:
가스 공급원으로부터 가스가 유입되는 메인 유로;
상기 메인 유로로부터 분기되는 복수의 제1분기유로; 및
상기 제1분기유로 각각을 제어하도록 배치되는 유량 제어부;를 포함하고,
상기 제1분기유로 각각은 시스템의 반응챔버의 영역을 다수개로 분할한 영역에 독립적으로 반응 가스를 공급하도록 배치된 것인,
가스분사 제어시스템. - 제1항에 있어서,
상기 플라즈마 발생 시스템에서 상부챔버와 반응챔버를 구분하는 유전체창을 지지하고 삽입 장착된 다수개의 노즐을 구비하는 프레임을 더 포함하고,
상기 프레임은 제1코너, 제2코너, 제3코너 및 제4코너와, 제1변, 제2변, 제3변 및 제4변을 포함하는 사각형상의 외곽 프레임과, 외곽 프레임의 내측 영역을 두 개 이상의 개구부로 분할하는 하나 이상의 가로보 및 하나 이상의 세로보를 구비하고,
상기 제1분기유로 각각은 상기 다수개의 노즐 각각에 연결되는 제2분기유로들이 나누어지는 것인,
가스분사 제어시스템. - 제2항에 있어서,
상기 제1분기유로 각각은 동일한 양의 가스를 제공하는 채널에 해당되고,
상기 채널은 제1채널, 제2채널, 제3채널, 제4채널 또는 제5채널을 포함하는 것인,
가스분사 제어시스템. - 제3항에 있어서,
상기 제1채널은 상기 제1변 및 상기 제3변에 배치되고,
상기 제2채널 또는 제4채널은 상기 제2변 및 상기 제4변에 배치되는 것인,
가스분사 제어시스템. - 제3항에 있어서, 상기 제1채널은,
상기 제1, 제2, 제3 및 제4코너에 배치되는 것인,
가스분사 제어시스템. - 제3항에 있어서,
상기 하나 이상의 가로보의 일부 또는 전부 및 상기 하나 이상의 세로보의 일부 또는 전부는 상기 제1 또는 제4변으로부터 그와 마주보는 변까지 형성된 것인,
가스분사 제어시스템. - 제6항에 있어서, 상기 제2채널 내지 제4채널은,
상기 하나 이상의 가로보의 일부 및/또는 전부 또는 상기 하나 이상의 세로보의 일부에 형성되는 것인,
가스분사 제어시스템. - 제3항에 있어서, 상기 제3채널 및 상기 제4채널은,
상기 각각의 제1, 제2, 제3 또는 제4코너 사이 공간에 배치되는 변에 형성되는 것인,
가스분사 제어시스템. - 제3항에 있어서,
상기 외곽 프레임에 배치되는 채널의 가스 유량은 상기 프레임의 중심부에 배치되는 채널에 공급되는 가스 유량보다 많은 것인,
가스분사 제어시스템. - 유도결합 플라즈마 발생 시스템에 적용되는 가스분사 제어방법으로서:
상기 플라즈마 발생 시스템의 유전체창을 다수개로 분할한 영역에 독립적으로 반응 가스를 공급하도록 복수의 제1분기유로를 구비하고,
상기 제1분기유로들 각각은 동일한 양의 가스를 분사하는 복수의 제2분기유로를 포함하는 채널을 구비하고,
상기 채널들 간의 가스 유량 차이에 따라, 최소 채널로 상기 유전체창의 다분할된 효과를 나타내도록 제어하는 것인,
가스분사 제어방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140005850A KR20150085904A (ko) | 2014-01-17 | 2014-01-17 | 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 가스분사 제어방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140005850A KR20150085904A (ko) | 2014-01-17 | 2014-01-17 | 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 가스분사 제어방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20150085904A true KR20150085904A (ko) | 2015-07-27 |
Family
ID=53874869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020140005850A KR20150085904A (ko) | 2014-01-17 | 2014-01-17 | 플라즈마 발생 시스템의 가스분사 제어시스템 및 이를 이용한 가스분사 제어방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20150085904A (ko) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180086151A (ko) * | 2017-01-20 | 2018-07-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 |
| KR20210055597A (ko) * | 2019-11-07 | 2021-05-17 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 가스 공급 방법 및 기판 처리 장치 |
| KR20220102887A (ko) * | 2021-01-14 | 2022-07-21 | 인베니아 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR20230063743A (ko) * | 2021-11-02 | 2023-05-09 | 피에스케이 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
-
2014
- 2014-01-17 KR KR1020140005850A patent/KR20150085904A/ko not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20180086151A (ko) * | 2017-01-20 | 2018-07-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 |
| KR20210055597A (ko) * | 2019-11-07 | 2021-05-17 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 가스 공급 방법 및 기판 처리 장치 |
| KR20220102887A (ko) * | 2021-01-14 | 2022-07-21 | 인베니아 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR20230063743A (ko) * | 2021-11-02 | 2023-05-09 | 피에스케이 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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