KR20150048368A - Deposition mask for display device and Method for fabricating the same - Google Patents

Deposition mask for display device and Method for fabricating the same Download PDF

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KR20150048368A KR1020130128282A KR20130128282A KR20150048368A KR 20150048368 A KR20150048368 A KR 20150048368A KR 1020130128282 A KR1020130128282 A KR 1020130128282A KR 20130128282 A KR20130128282 A KR 20130128282A KR 20150048368 A KR20150048368 A KR 20150048368A
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Abstract

본 발명의 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법은 패턴 마스크를 마스크 프레임에 고정하기 위한 고정공정을 구비하고, 고정공정 앞에 적어도 패턴 마스크의 온도가 마스크 프레임의 온도보다 높게 하여 패턴 마스크의 열팽창량(길이)을 마스크 프레임의 열팽창량(길이)보다 크게 하는 온도조정단계가 구비되는 것을 특징으로 하는 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법으로, 증착 마스크 제조과정의 증착 마스크 팽창 및 수축과정을 통해 자연스럽게 균일한 장력을 유지한 패턴 마스크를 구비하게 되며, 증착 마스크의 변형 및 손상이 발생되지 않아 표시소자의 패턴 품질이 보다 향상될 뿐만 아니라, 스트레칭 머신에 의한 스트레칭 공정이 없어 보다 공정이 간단하고 제조경비가 낮아지므로 표시소자의 고정세화 및 대형화에 매우 유용하다.A deposition mask for a display element and a method of manufacturing the same according to the present invention include a fixing step for fixing a pattern mask to a mask frame, wherein at least the temperature of the pattern mask is higher than the temperature of the mask frame before the fixing step, (Length) of the mask frame is made larger than the thermal expansion amount (length) of the mask frame, and a manufacturing method thereof, wherein the deposition mask in the process of manufacturing the deposition mask expands and shrinks naturally, It is possible to provide a pattern mask which maintains one tension, and the deformation and damage of the deposition mask do not occur, so that the pattern quality of the display element is further improved. Further, since there is no stretching process by the stretching machine, So that it is very useful for making the display device finer and larger.

Figure pat00001
Figure pat00001

Description

표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법 {Deposition mask for display device and Method for fabricating the same}[0001] The present invention relates to a deposition mask for a display device and a fabrication method thereof,

본 발명은 적어도 미세형상의 패턴 마스크와 그 주변에 마스크 프레임으로 구성된 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 특히 증착 마스크의 변형 및 손상을 방지하고, 증착 마스크 내 패턴 마스크의 균일한 장력을 유지하여 고정세화 및 대형화에 적합하도록 한 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition mask for a display device comprising a pattern mask having at least a fine pattern and a mask frame around the pattern mask and a manufacturing method thereof, And is suitable for high definition and large size, and a manufacturing method thereof.

일반적으로 표시소자를 제조하기 위하여는 절연기판상에 전극용 박막을 형성한다. 특히, 대표적 표시소자인 유기EL표시소자 (Organic Electroluminescence Display Device)는 절연기판상에 미세형상의 패턴을 구비한 증착 마스크를 통하여 진공상태에서 금속 또는 유기물의 박막을 증착한다.Generally, in order to manufacture a display device, a thin film for electrodes is formed on an insulating substrate. In particular, an organic EL display device, which is a typical display device, deposits a thin film of metal or organic material in a vacuum state through a deposition mask having a fine pattern on an insulating substrate.

유기EL표시소자에서의 유기물은 발광층 외에도 정공 및 전자 수송층, 정공 및 전자 주입층 등이 있으나 이하 모두 전극이라고 칭하겠다.Organic materials in the organic EL display device include a hole and electron transport layer, a hole and an electron injection layer, etc. in addition to the light emitting layer.

증착 마스크는 일반적으로 구조적 형상을 유지하기 위하여 일정한 장력의 패턴 마스크를 구비하여야 하며, 패턴 마스크 주변은 마스크 프레임에 고정되어 있다.The deposition mask generally has a pattern mask with a predetermined tension to maintain the structural shape, and the periphery of the pattern mask is fixed to the mask frame.

증착 마스크는 표시소자의 전극패턴 크기 및 정밀도 등 전극패턴 품질에 직접적 영향을 미치며, 증착 마스크의 패턴 마스크 두께가 얇을수록 증착 공정에서 표시소자의 전극패턴의 품질이 향상되기 때문에 증착 마스크의 패턴 마스크는 얇을수록 좋다.Since the deposition mask directly affects the electrode pattern quality such as the electrode pattern size and accuracy of the display device and the thinner the pattern mask thickness of the deposition mask, the higher the quality of the electrode pattern of the display device in the deposition process, The thinner the better.

그러나 패턴 마스크가 너무 얇거나 크기가 커지면 증착 마스크를 제조하는 과정에서 변형 및 손상이 쉽게 발생하게 되므로 표시소자의 고정세화 및 대형화에 있어서 어려움이 발생하게 된다.However, if the pattern mask is too thin or too large in size, deformation and damage may easily occur in the process of manufacturing the deposition mask, so that it becomes difficult to make the display device finer and larger.

도 1 내지 도 6는 종래기술의 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법을 설명하고 있다.FIGS. 1 to 6 illustrate a conventional deposition mask for a display device and a method of manufacturing the same.

도 1은 일반적인 표시소자용 증착 마스크를 보인 평면 구성도이며, 도 2는 도 1의 1A-1A' 단면도를 나타내고 있다.FIG. 1 is a plan view showing a deposition mask for a general display device, and FIG. 2 is a sectional view taken along line 1A-1A 'of FIG.

일반적으로 표시소자의 박막을 증착하는데 사용되는 증착 마스크는 미세형상의 패턴부(11)와 그 주변에 패턴형성이 되어있지 않은 비유효부(12)로 구성된 패턴 마스크(10)와, 패턴 마스크(10)를 고정(23)하고 구조적 강도를 유지하기 위한 마스크 프레임(20)으로 구비되어 있다.In general, a deposition mask used for depositing a thin film of a display element includes a pattern mask 10 composed of a fine pattern portion 11 and an ungrooved portion 12 not formed around the fine pattern portion 11, and a pattern mask 10 (23) and a mask frame (20) for maintaining the structural strength.

도 3은 도 1의 패턴 마스크를 나타낸 부품도로써, 일반적으로 패턴 마스크(10)는 철(Fe) 또는 철니켈(Fe-Ni), 철니켈코발트(Fe-Ni-Co)합금등과 같은 저열팽창 금속 또는 합금을 주로 사용하고 있으며, 포토리소그라피법과 전주법을 이용하여 미세형상의 패턴부(11)와 주변 비유효부(12)로 구성되어 있다.The pattern mask 10 is generally made of a material such as iron (Fe) or iron nickel (Fe-Ni), iron nickel cobalt (Fe-Ni-Co) A thermally expanding metal or an alloy is mainly used and is composed of a fine pattern part 11 and a peripheral non-fatliquoring part 12 by photolithography and electrophoresis.

도 4는 도 1의 마스크 프레임을 나타낸 부품도로써, 일반적으로 마스크 프레임(20)은 금속 또는 금속합금, 고분자합성수지를 사용하고 있으며, 패턴 마스크(10)을 고정지지하기 위한 구조적 강도를 유지하고 있다.Fig. 4 is a view showing the mask frame of Fig. 1. In general, the mask frame 20 is made of a metal or a metal alloy or a polymer synthetic resin, and has a structural strength for fixing and supporting the pattern mask 10 .

여기서 패턴 마스크(10)의 비유효부(12)와 마스크 프레임(20)은 용접 또는 점착법에 의해 고정(23)되어진다.Here, the ungrooved portion 12 of the pattern mask 10 and the mask frame 20 are fixed 23 by welding or sticking.

대한민국특허 출원번호 10-2003-0019297에 의하면, 표시소자의 미세형상의 전극패턴 품질, 즉 패턴의 크기 및 정밀도를 개선하기 위하여 다수의 개구부를 가진 마스크 프레임 개구부에 패턴 마스크를 구분하여 개별적으로 고정시킨 증착 마스크로써 패턴 마스크와 마스크 프레임를 용접 또는 점착법으로 고정 부착하는 것을 제안하고 있다.According to Korean Patent Application No. 10-2003-0019297, in order to improve the quality of the fine pattern electrode pattern of the display element, that is, the size and the precision of the pattern, the pattern mask is separately fixed to the mask frame openings having a plurality of openings It is proposed that the pattern mask and the mask frame are fixedly attached by welding or adhesion as a deposition mask.

그러나 본 제안의 경우 다수의 개구부를 구비한 마스크 프레임을 구비하여야 하고, 그에 대응하는 패턴 마스크를 개별로 구분 제작하여 마스크 프레임 개구부에 개별로 구분 고정시켜야 하므로 제조비용이 높아질 뿐만 아니라, 마스크 프레임에 고정 부착된 패턴 마스크의 장력을 유지하기 위한 방법이 제안되고 있지 않아 증착 마스크의 변형으로 인한 증착 마스크의 대형화에 어려운 문제점이 있다.However, in the case of the present proposal, the mask frame having a plurality of openings must be provided, and the corresponding pattern masks must be individually separately manufactured and fixed separately to the mask frame openings, so that the manufacturing cost is increased, A method for maintaining the tension of the attached pattern mask has not been proposed and it is difficult to increase the size of the deposition mask due to the deformation of the deposition mask.

또한, 대한민국특허 출원번호 10-2003-0045019에 의하면 종래기술의 증착 마스크는 증착 마스크 내 패턴 마스크의 균일한 장력을 유지하기 위하여 스트레칭(인장) 머신을 사용하고 있으며, 도 5 및 도 6 는 본 종래기술의 표시소자용 증착 마스크 제조방법 설명도를 나타내고 있다.Korean Patent Application No. 10-2003-0045019 discloses a deposition mask of the prior art that uses a stretching machine to maintain uniform tension of a pattern mask in a deposition mask, Technology of a deposition mask for a display element.

패턴 마스크(10)를 스트레칭 머신에 의해 인위적 기계적으로 인장 (스트레칭,S)시킨 상태에서 패턴 마스크(10)의 비유효부(12)를 마스크 프레임(20))에 고정(23)시켜 패턴 마스크(10)가 균일한 장력을 유지하도록 하고 있다.The unfiltered portion 12 of the pattern mask 10 is fixed (23) to the mask frame 20 while the pattern mask 10 is artificially mechanically stretched (stretched, S) by a stretching machine, To maintain a uniform tension.

그러나 본 종래기술은 본 기술에서 지적했듯이 패턴 마스크(10)의 인위적기계적인 인장(S)으로 인해 패턴 형상에 변형이 발생하는 단점이 있으며, 이와 같은 패턴 형상의 변형에 대한 문제점을 해결하기 위하여 본 제안에서 패턴 형성이 되어있지 않은 패턴 마스크(10)의 비유효부(12)에 부분적 에칭으로 패턴이 형성되어 있는 패턴부(11)와 유사한 인장력이 작용하도록 제안하고 있다.However, as pointed out in the present technology, this prior art has a disadvantage in that deformation occurs in the pattern shape due to an artificial mechanical tension (S) of the pattern mask 10. In order to solve such a problem of deformation of the pattern shape, It is proposed in the proposal that a tensile force similar to that of the pattern portion 11 in which the pattern is formed by partial etching is applied to the unaffected portion 12 of the pattern mask 10 which is not patterned.

그러나 본 제안의 경우 또한, 패턴 마스크(10)의 비유효부(12)에 부분적인 에칭을 실시하여야 하고, 고가의 스트레칭 머신을 사용하여야 하기 때문에 제조경비가 높아질 뿐만 아니라 스트레칭 머신에 의한 기계적인 오차한계로 패턴 마스크(10)의 전면에 균일한 장력을 유지하는 것은 어렵다.However, in the case of the present proposal, the non-fatigue portion 12 of the pattern mask 10 must be partially etched, and an expensive stretching machine must be used, so that not only the manufacturing cost is increased but also the mechanical error margin It is difficult to maintain a uniform tension on the entire surface of the pattern mask 10.

표시소자용 증착 마스크의 변형은 표시소자 절연기판상의 전극패턴과의 불일치 원인으로 표시소자의 화상품질 즉, 휘도 불균일성 및 색순도 저하의 문제점을 발생시킨다.The deformation of the evaporation mask for a display element causes a problem of degradation of the image quality of the display element, that is, luminance unevenness and color purity, due to inconsistency with the electrode pattern on the display element insulating substrate.

특히, 표시소자의 고정세화 및 대형화 추세에 따라 증착 마스크의 박형화와 대형화는 필연적이며, 증착 마스크 제조공정에서 증착 마스크의 변형 및 손상은 표시소자의 품질 및 제조비용에 큰 부담이 되고 있다. 보다 공정이 간단하고 제조 소요시간이 짧으며, 제조경비가 저렴하면서도 품질이 향상된 증착 마스크가 요구된다.Particularly, it is inevitable to reduce the size and size of the deposition mask in accordance with the tendency of the display device to become finer and larger, and the deformation and damage of the deposition mask in the process of manufacturing the deposition mask have a great burden on the quality and manufacturing cost of the display device. There is a need for a deposition mask that is simpler in process, shorter in manufacturing time, and less expensive in manufacturing cost and improved in quality.

따라서, 본 발명은 상기의 종래기술의 인위적 기계적인 패턴 마스크 인장력 인가로 증착 마스크 변형 및 손상이 발생하는 것을 방지하고, 제조공정을 단축시켜 제조공정 비용을 절감하기 위한 것으로, 균일한 장력의 패턴 마스크를 구비한 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.Accordingly, the present invention aims to prevent the deformation and damage of the deposition mask by the application of the artificial mechanical pattern mask tensile force of the above-described prior art, shorten the manufacturing process and reduce the manufacturing process cost, And a method of manufacturing the same.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 적어도 미세형상의 패턴을 갖는 패턴 마스크와 그 주변에 패턴 마스크를 고정하는 마스크 프레임으로 구성된 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법에 있어서, 패턴 마스크를 마스크 프레임에 고정하기 위한 고정공정을 구비하고, 고정공정 앞에 적어도 패턴 마스크의 온도가 마스크 프레임의 온도보다 높게 하는 온도조정단계를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a deposition mask for a display device comprising a pattern mask having at least a fine pattern and a mask frame for fixing the pattern mask around the pattern mask, And a temperature adjusting step of fixing at least the pattern mask to a temperature higher than the temperature of the mask frame before the fixing step.

또한, 상기 본 발명에 있어서 온도조정단계에서의 패턴 마스크의 열팽창량(길이)은 마스크 프레임의 열팽창(길이)보다 큰 것을 특징으로 하고 있다. Further, in the present invention, the thermal expansion amount (length) of the pattern mask in the temperature adjusting step is larger than the thermal expansion (length) of the mask frame.

또한, 상기 본 발명에 있어서 온도조정단계는 패턴 마스크를 가열하거나 또는 마스크 프레임을 냉각시키는 수단인 것을 특징으로 한다.Further, in the present invention, the temperature adjusting step is characterized by heating the pattern mask or cooling the mask frame.

또한, 상기 본 발명에 있어서 패턴 마스크를 가열하는 수단으로 평판 가열판을 이용하여 패턴 마스크를 균일하고 효율적으로 가열하는 것을 특징으로 한다.Further, in the present invention, the pattern mask is heated uniformly and efficiently by means of a plate heating plate as means for heating the pattern mask.

상기와 같은 본 발명에 있어서 패턴 마스크를 마스크 프레임에 고정시 접촉에 의한 열손실로 발명의 효과가 낮아지는 것을 방지하기 위하여 패턴 마스크와 마스크 프레임의 접촉면을 최소화 한다든가, 고정하기 전의 패턴 마스크와 마스크 프레임의 접촉시간을 줄이기 위하여 빠르게 고정하는 것이 좋다. In order to prevent the effect of the present invention from being lowered by heat loss due to contact when the pattern mask is fixed to the mask frame, it is necessary to minimize the contact surface between the pattern mask and the mask frame, It is advisable to fix quickly to reduce the contact time of the frame.

상기와 같은 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법은 패턴 마스크를 마스크 프레임에 고정하기 위한 고정공정을 구비하고, 고정공정 앞에 적어도 패턴 마스크의 온도가 마스크 프레임의 온도보다 높게 하는 온도조정단계가 구비되어 있으므로 온도조정단계에서 패턴 마스크는 마스크 프레임보다 더 많이 팽창하고, 이 상태에서 패턴 마스크를 프레임 마스크에 고정하게 되므로, 상온으로 서서히 냉각하게 되면 마스크 프레임에 고정 부착된 패턴 마스크는 마스크 프레임보다 더 많이 수축하게 되어 자연스럽게 균일한 장력을 구비하게 된다.The deposition mask for a display device of the present invention and the method for fabricating the same may further include a fixing step for fixing the pattern mask to the mask frame. In the fixing step, at least the temperature of the pattern mask is higher than the temperature of the mask frame The pattern mask expands more than the mask frame in the temperature adjusting step. In this state, the pattern mask is fixed to the frame mask. Therefore, when the mask is gradually cooled to room temperature, More shrinkage and more uniform tension is naturally provided.

상기와 같이 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법은 온도조정단계 및 고정공정에서 패턴 마스크와 마스크 프레임의 자연스런 열팽창 및 수축과정을 통해 균일한 장력의 패턴 마스크를 구비하게 되므로 증착 마스크의 변형 및 손상이 발생되지 않아 표시소자의 패턴 품질이 보다 향상될 뿐만 아니라, 고가의 스트레칭 머신에 의한 스트레칭 공정이 없어 보다 공정이 간단하고 제조경비가 낮아지고, 표시소자의 고정세화 및 대형화에 매우 효과적이다.As described above, the deposition mask for a display device and the method of manufacturing the same of the present invention are provided with a pattern mask having uniform tension through a natural thermal expansion and contraction process of the pattern mask and the mask frame in the temperature adjusting step and the fixing step, And the damage is not caused, so that the pattern quality of the display element is further improved. Further, since there is no stretching process by the expensive stretching machine, the process is simpler, the manufacturing cost is lowered, .

도 1은 일반적인 표시소자용 증착 마스크를 보인 평면 구성도.
도 2는 도 1의 1A-1A' 단면도.
도 3은 도 1의 패턴 마스크를 나타낸 부품도.
도 4는 도 1의 마스크 프레임을 나타낸 부품도.
도 5는 종래 기술의 표시소자용 증착 마스크 제조방법 설명도.
도 6은 도 5의 2A-2A' 단면도.
도 7은 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 제조방법 설명도.
도 8은 도 7의 3A-3A' 단면도.
도 9는 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 제조방법의 실시 예.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a planar view showing a deposition mask for a display device according to the present invention. FIG.
2 is a sectional view taken along a line 1A-1A 'of FIG.
FIG. 3 is a part view showing the pattern mask of FIG. 1; FIG.
Fig. 4 is a part view showing the mask frame of Fig. 1; Fig.
5 is an explanatory view of a conventional method of manufacturing a deposition mask for a display device.
6 is a sectional view taken along line 2A-2A 'of FIG. 5;
7 is an explanatory view of a method of manufacturing a deposition mask for a display element according to the present invention.
8 is a sectional view taken along the line 3A-3A 'of FIG.
9 is an embodiment of a method for manufacturing a deposition mask for a display element according to the present invention.

이하, 본 발명 및 그의 실시 예를 도 7 내지 도 9를 참조하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention and its embodiments will be described in more detail with reference to Figs. 7 to 9. Fig.

본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시 예로 인해 한정되는 것으로 해석해서는 안 된다. 본 실시 예는 당 분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 쉽고 확실하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. The present embodiments are provided to enable those skilled in the art to more easily and reliably explain the present invention.

본 발명의 표시소자용 증착 마스크는 표시소자(Display Device)를 제조하기 위하여 절연기판상에 전극용 박막을 형성하기 위한 것으로, 특히, 유기EL표시소자(Organic Electroluminescence Display Device)의 절연기판상에 금속 및 유기물의 미세형상 패턴을 구비하는데 적용될 수 있다.The deposition mask for a display device of the present invention is for forming an electrode thin film on an insulating substrate for manufacturing a display device, and more particularly, to a method for forming a metal thin film on an insulating substrate of an organic EL display device (Organic Electroluminescence Display Device) And microstructural patterns of organic matter.

도 7는 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 제조방법 설명도이고, 도 8는 도 7의 3A-3A' 단면도를 나타내고 있다.FIG. 7 is an explanatory view of a method of manufacturing a deposition mask for a display device according to the present invention, and FIG. 8 is a sectional view taken along line 3A-3A 'in FIG.

표시소자의 박막을 증착하는데 사용되는 증착 마스크는, 미세형상의 패턴부(11)와 그 주변에 패턴형성이 되어있지 않은 비유효부(12)로 구성된 패턴 마스크(10)와, 패턴 마스크(10)를 고정(23) 및 지지하고 구조적 강도를 유지하기 위한 마스크 프레임(20)으로 구성되어 있다.The deposition mask used for depositing the thin film of the display element includes a pattern mask 10 composed of a fine pattern portion 11 and an ungrooved portion 12 not formed around the fine pattern portion 11, And a mask frame 20 for supporting and fixing the frame 23 and maintaining the structural strength.

상기 본 발명에 있어서 패턴 마스크(10)는 철(Fe) 또는 철니켈(Fe-Ni), 철니켈코발트(Fe-Ni-Co)합금등과 같은 저열팽창 금속 또는 합금을 주로 사용하고 있으며, 포토리소그라피법과 전주법을 이용하여 미세형상의 패턴부(11)와 주변 비유효부(12)로 구성되어 있다.In the present invention, the pattern mask 10 mainly uses a low thermal expansion metal or alloy such as Fe or Fe-Ni, Fe-Ni-Co alloy, And is composed of a fine pattern part 11 and a peripheral non-fatliquoring part 12 by lithography and electrophoresis.

상기 본 발명에 있어서 마스크 프레임(20)은 금속 또는 금속합금, 고분자합성수지, 유리, 세라믹 등을 사용하고 있으며, 패턴 마스크(10)을 고정지지하기 위한 구조적 강도를 유지하고 있다.In the present invention, the mask frame 20 uses a metal or a metal alloy, a polymer synthetic resin, a glass, a ceramic, or the like, and maintains the structural strength for fixing and supporting the pattern mask 10.

여기서 패턴 마스크(10)의 비유효부(12)와 마스크 프레임(20)은 용접 또는 점착법, 열융착에 의해 고정(23)되어 진다.Here, the unfiltered portion 12 of the pattern mask 10 and the mask frame 20 are fixed (23) by welding, pressure bonding, or thermal fusion.

상기와 같은 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법은 패턴 마스크(10)를 마스크 프레임(20)에 고정하기 위한 고정공정을 구비하고, 고정공정 앞에 적어도 패턴 마스크의 온도가 마스크 프레임의 온도보다 높게 하여 패턴 마스크의 열팽창량(길이)을 마스크 프레임의 열팽창량(길이)보다 크게 하는 온도조정단계가 구비되는 것을 특징으로 하고 있다.The deposition mask for a display device and the method for manufacturing the same of the present invention include a fixing process for fixing the pattern mask 10 to the mask frame 20, (Length) of the pattern mask is made larger than the thermal expansion amount (length) of the mask frame.

상기와 같은 본 발명에 있어서 온도조정단계에서의 패턴 마스크의 팽창(E)은 마스크 프레임보다 열에 의해 자연스럽게 더 많이 팽창(E)하고, 이 상태에서 패턴 마스크(10)를 프레임 마스크(20)에 고정(23)한 후, 증착 마스크를 상온으로 서서히 냉각하게 되면 마스크 프레임(20)에 고정(23) 부착된 패턴 마스크(10)는 마스크 프레임(20)보다 더 많이 수축하게 되어 자연스럽게 균일한 장력을 구비하게 된다.In the present invention as described above, the expansion (E) of the pattern mask in the temperature adjusting step naturally expands (E) more naturally by heat than the mask frame. In this state, the pattern mask 10 is fixed The pattern mask 10 attached to the mask frame 20 is shrunk more than the mask frame 20 and naturally uniform tension is applied to the mask mask 20 .

도 9는 본 발명의 표시소자용 증착 마스크 제조방법의 실시 예를 나타내고 있다.Fig. 9 shows an embodiment of a method of manufacturing a deposition mask for a display device according to the present invention.

본 발명의 실시 예에 있어서 패턴 마스크(10)은 열팽창계수 4.18 x 10-6/℃ (260℃기준) 저열팽창 재질인 철니켈(Fe-Ni)의 금속합금재를 사용하였으며, 패턴 마스크와 마스크 프레임이 고정(23)되는 고정공정에서 패턴 마스크와 마스크 프레임의 접촉에 의한 열손실을 최소화하기 위하여 패턴 마스크와 마스크 프레임의 접촉 면적을 최소화 하도록 접촉폭을 최소화 하였다.In the embodiment of the present invention, the pattern mask 10 is made of a metal alloy material of Fe-Ni which is a material having a low thermal expansion coefficient of 4.18 x 10 < -6 > / DEG C (based on 260 DEG C) The contact width is minimized so as to minimize the contact area between the pattern mask and the mask frame in order to minimize the heat loss due to the contact between the pattern mask and the mask frame in the fixing process in which the frame is fixed (23).

본 발명의 실시 예에 있어서 온도조정단계는 패턴 마스크(10)를 가열하는 패턴 마스크 가열단계로 구비하였으며, 평면으로 구성된 평판 가열판(30)상면에 패턴 마스크를 접촉시켜 평판 가열판(30)에 의해 패턴 마스크 전면에 약 80℃의 균일한 온도를 유지할 수 있도록 하였다.In the embodiment of the present invention, the temperature adjusting step includes a pattern mask heating step for heating the pattern mask 10, and the pattern mask is brought into contact with the upper surface of the planar heating plate 30, Uniform temperature of about 80 캜 can be maintained over the entire surface of the mask.

상기 본 발명 실시 예의 패턴 마스크 가열단계에서 패턴 마스크(10)가 일정온도을 유지하면 고정공정에서 준비한 마스크 프레임(20)과 빠르게 용접고정(23)을 실시하고 가열판(30)을 제거한 후 서서히 냉각시킨다.If the pattern mask 10 is kept at a predetermined temperature in the pattern mask heating step of the embodiment of the present invention, the mask frame 20 prepared in the fixing step is quickly and securely fixed to the welding fixture 23, and the heating plate 30 is removed.

상기와 같은 본 발명에 있어서 패턴 온도조정단계에서의 패턴 마스크(10)의 팽창(E)은 마스크 프레임(20)보다 열에 의해 자연스럽게 더 많이 팽창하고, 이 상태에서 패턴 마스크(10)를 프레임 마스크(20)에 고정(30)한 후, 상온으로 서서히 냉각하게 되면 마스크 프레임(20)에 고정 부착된 패턴 마스크(10)는 마스크 프레임(20)보다 더 많이 수축하게 되어 자연스럽게 균일한 장력을 구비하게 된다.The expansion (E) of the pattern mask 10 in the pattern temperature adjusting step of the present invention as described above naturally expands more naturally by the heat than the mask frame 20, and in this state, the pattern mask 10 is transferred to the frame mask 20 and then gradually cooled to room temperature, the pattern mask 10 fixedly attached to the mask frame 20 contracts more than the mask frame 20, resulting in natural uniform tension .

본 발명의 표시소자용 증착 마스크 및 그 제조방법은 표시소자(Display Device)를 제조하기 위하여 절연기판상에 전극 박막을 형성하기 위한 것으로, 특히, 유기EL표시소자(Organic Electroluminescence Display Device)의 고정세화 및 대형화가 가능하도록 절연기판상에 금속 및 유기물의 박막 증착에 적합한 것이다.The present invention provides a deposition mask for a display device and a method of manufacturing the same that are used for forming an electrode thin film on an insulating substrate for manufacturing a display device, And is suitable for thin film deposition of metal and organic materials on an insulating substrate so that it can be made larger.

10:패턴 마스크 11:패턴부 12:비유효부
20:마스크 프레임 23:고정 30: 평면가열판
S:인장(스트레칭) E:패턴 마스크의 팽창
10: pattern mask 11: pattern part 12: non-affinity part
20: mask frame 23: fixed 30: flat heating plate
S: stretching (stretching) E: expansion of pattern mask

Claims (4)

적어도 미세형상의 패턴을 갖는 패턴 마스크와 그 주변에 패턴 마스크를 고정하는 마스크 프레임으로 구성된 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법에 있어서 패턴 마스크를 마스크 프레임에 고정하기 위한 고정공정을 구비하고, 고정공정 앞에 적어도 패턴 마스크의 온도가 마스크 프레임의 온도보다 높게 유지하는 온도조정단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법There is provided a deposition mask for a display device comprising a pattern mask having a pattern of at least a fine pattern and a mask frame for fixing the pattern mask around the pattern mask and a fixing step for fixing the pattern mask to the mask frame, And a temperature adjusting step of keeping at least the temperature of the pattern mask higher than the temperature of the mask frame in front of the mask frame and a manufacturing method thereof 청구항 1 에 있어서 온도조정단계에서의 패턴 마스크의 열팽창량(길이)은 마스크 프레임의 열팽창(길이)보다 큰 것을 특징으로 하는 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법. The deposition mask for a display element according to claim 1, wherein a thermal expansion amount (length) of the pattern mask in the temperature adjustment step is larger than a thermal expansion (length) of the mask frame. 청구항 1 에 있어서 온도조정단계는 적어도 패턴 마스크를 가열하거나 또는 마스크 프레임을 냉각시키는 수단인 것을 특징으로 하는 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법The deposition mask for a display device according to claim 1, wherein the temperature adjustment step is a step of heating at least the pattern mask or cooling the mask frame, and a method of manufacturing the same 청구항 3 에 있어서 패턴 마스크를 가열하는 수단으로 평판 가열판을 이용하는 것을 특징으로 하는 표시소자용 증착 마스크 및 그의 제조방법 A vapor deposition mask for a display element characterized by using a flat plate heating plate as means for heating a pattern mask according to claim 3 and a method of manufacturing the same
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