KR20150026441A - Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same - Google Patents

Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same Download PDF

Info

Publication number
KR20150026441A
KR20150026441A KR1020130105288A KR20130105288A KR20150026441A KR 20150026441 A KR20150026441 A KR 20150026441A KR 1020130105288 A KR1020130105288 A KR 1020130105288A KR 20130105288 A KR20130105288 A KR 20130105288A KR 20150026441 A KR20150026441 A KR 20150026441A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal layer
substrate
layer
net
display panel
Prior art date
Application number
KR1020130105288A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102126714B1 (en
Inventor
조성호
박진석
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020130105288A priority Critical patent/KR102126714B1/en
Priority to US14/284,191 priority patent/US9349983B2/en
Priority to CN201410397514.5A priority patent/CN104425762B/en
Priority to TW103128008A priority patent/TWI674670B/en
Publication of KR20150026441A publication Critical patent/KR20150026441A/en
Priority to US15/132,161 priority patent/US9741783B2/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102126714B1 publication Critical patent/KR102126714B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/02Details
    • H05B33/04Sealing arrangements, e.g. against humidity
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/87Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/871Self-supporting sealing arrangements
    • H10K59/8722Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/82Cathodes
    • H10K50/828Transparent cathodes, e.g. comprising thin metal layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842Containers
    • H10K50/8426Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/302Details of OLEDs of OLED structures
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays

Abstract

A display panel includes a first substrate, a second substrate which is located to face the first substrate, a sealing bottom layer which is located outside a display unit which includes a plurality of pixels and is formed on the first substrate, and a sealing member which is interposed between the sealing bottom layer and the second substrate and bonds the first substrate to the second substrate. The sealing bottom layer includes a mesh metal layer with a mesh structure.

Description

표시 패널 및 이를 포함하는 유기 발광 표시 장치{DISPLAY PANEL AND ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a display panel and an OLED display including the OLED display panel.

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표시 패널 및 이를 포함하는 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display panel and an organic light emitting display device including the same.

유기 발광 소자는 수분과 산소에 매우 민감하여, 수분이나 산소에 노출되면 그 특성이 변형되어 기능이 저하되고 수명이 단축될 수 있다. 따라서, 유기 발광 소자를 실링하여 외부의 수분과 산소 침투를 억제하는 기술이 연구되고 있다.Organic light emitting devices are very sensitive to moisture and oxygen, and when they are exposed to moisture or oxygen, their characteristics may be deformed, resulting in deterioration of function and shortened lifetime. Therefore, a technique for sealing the organic light emitting element to suppress external moisture and oxygen penetration has been researched.

최근에는 무기물질인 프릿(frit)에 레이저를 조사하여 기판을 접착하는 유기 발광 표시 장치가 제안되었다. 이러한 프릿은 공극이 물분자보다 작아 수분 침투를 억제하는 데 있어서 우수하므로, 수분 침투에 의한 유기 발광 표시 장치의 기능 저하를 방지할 수 있다. 하지만, 프릿은 기판과의 접착력이 낮아 박리 불량이 발생할 수 있는 단점이 있다.In recent years, an organic light emitting display device has been proposed in which a substrate is bonded by irradiating a frit, which is an inorganic substance, with a laser. Such a frit is smaller than a water molecule and is superior in suppressing moisture penetration, so that it is possible to prevent degradation of the function of the organic light emitting display device due to moisture penetration. However, the frit has a disadvantage in that peeling failure may occur due to low adhesion to the substrate.

본 발명의 일 목적은 기판의 박리 불량을 방지할 수 있는 표시 패널을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a display panel capable of preventing defective separation of a substrate.

본 발명의 다른 목적은 상기 표시 패널을 포함하는 유기 발광 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an organic light emitting display device including the display panel.

다만, 본 발명의 목적은 상기 목적들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.It should be understood, however, that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and may be variously modified without departing from the spirit and scope of the present invention.

본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 표시 패널은 제 1 기판, 상기 제 1 기판에 대향하여 위치하는 제 2 기판, 복수의 화소들을 포함하는 표시부의 외측에 위치하고, 상기 제 1 기판 상에 형성된 실링 하부층, 및 상기 실링 하부층과 상기 제 2 기판 사이에 개재되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 서로 접착하는 실링 부재를 포함하고, 상기 실링 하부층은 그물형(mesh) 구조를 갖는 그물형 금속층을 포함할 수 있다.In order to accomplish one object of the present invention, a display panel according to embodiments of the present invention includes a first substrate, a second substrate facing the first substrate, a second substrate located outside the display unit including a plurality of pixels, A sealing lower layer formed on the first substrate and a sealing member interposed between the sealing lower layer and the second substrate to adhere the first substrate and the second substrate to one another, ) Structure. ≪ / RTI >

일 실시예에 의하면, 상기 실링 하부층은 상기 제 1 기판 상에 형성된 제 1 절연층, 상기 표시부에 형성된 게이트 전극과 동일한 물질로 구성되고 상기 제 1 절연층 상에 형성된 제 1 금속층, 및 상기 제 1 금속층 상에 형성된 제 2 절연층을 더 포함하고, 상기 그물형 금속층은 상기 제 2 절연층 상에 형성될 수 있다.According to one embodiment, the sealing lower layer comprises a first insulating layer formed on the first substrate, a first metal layer formed of the same material as the gate electrode formed on the display portion and formed on the first insulating layer, And a second insulating layer formed on the metal layer, wherein the net-like metal layer may be formed on the second insulating layer.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 상기 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층, 및 상기 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성되고 상기 제 2 금속층 상에 형성된 제 3 금속층을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the net-like metal layer may include a second metal layer made of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion, and a material same as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display portion, And a third metal layer formed thereon.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층의 적어도 일부는 상기 제 1 금속층과 연결될 수 있다.According to an embodiment, at least a part of the net-like metal layer may be connected to the first metal layer.

일 실시예에 의하면, 상기 제 1 절연층, 상기 제 1 금속층, 및 상기 제 2 절연층 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가질 수 있다.According to an embodiment, at least a part of each of the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer may have a net-like structure.

일 실시예에 의하면, 상기 제 1 절연층, 상기 제 1 금속층, 상기 제 2 절연층, 및 상기 그물형 금속층 간에 단차가 형성될 수 있다.According to an embodiment, a step may be formed between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, and the net-like metal layer.

일 실시예에 의하면, 상기 제 1 금속층은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나일 수 있다.According to an embodiment, the first metal layer may include at least one of aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), tungsten (W), copper (Cu), gold (Au), silver (Ag) , And alloys formed from combinations thereof.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 상기 제 1 금속층의 가장자리로부터 100㎛ 내지 150㎛의 거리를 두고 형성될 수 있다.According to an embodiment, the net-like metal layer may be formed at a distance of 100 to 150 mu m from the edge of the first metal layer.

일 실시예에 의하면, 상기 제 1 절연층은 상기 표시부에 형성된 버퍼층 및 게이트 절연막과 각각 동일한 물질로 구성된 복수의 층들을 포함하는 다중층 구조를 가질 수 있다.According to an embodiment, the first insulating layer may have a multi-layer structure including a plurality of layers each made of the same material as the buffer layer and the gate insulating layer formed on the display portion.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 선폭이 3㎛ 내지 10㎛인 그물형 구조를 가질 수 있다.According to an embodiment, the net-like metal layer may have a net-like structure having a line width of 3 to 10 mu m.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 선간 거리가 3㎛ 내지 10㎛인 그물형 구조를 가질 수 있다.According to an embodiment, the net-like metal layer may have a net-like structure having a line-to-line distance of 3 to 10 mu m.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 상기 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the net-like metal layer may include a second metal layer made of the same material as the source / drain electrodes formed in the display portion.

일 실시예에 의하면, 상기 제 2 금속층은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나일 수 있다.According to an embodiment, the second metal layer may include at least one of Al, Mo, Cr, W, Cu, Au, Ag, , And alloys formed from combinations thereof.

일 실시예에 의하면, 상기 제 2 금속층의 두께는 0.3㎛ 내지 0.7㎛일 수 있다.According to one embodiment, the thickness of the second metal layer may be 0.3 탆 to 0.7 탆.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 상기 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성된 제 3 금속층을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the net-like metal layer may include a third metal layer formed of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display portion.

일 실시예에 의하면, 상기 제 3 금속층은 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 은(Ag), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the third metal layer may be any one of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), silver (Ag), and alloys formed from combinations thereof.

일 실시예에 의하면, 상기 제 3 금속층의 두께는 0.1㎛ 내지 0.5㎛일 수 있다.According to one embodiment, the thickness of the third metal layer may be 0.1 탆 to 0.5 탆.

본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 화소들을 구비하는 표시 패널, 상기 화소들에 스캔 신호를 제공하는 스캔 구동부, 상기 화소들에 데이터 신호를 제공하는 데이터 구동부, 및 상기 스캔 구동부 및 상기 데이터 구동부를 제어하는 타이밍 제어부를 포함하고, 상기 표시 패널은 제 1 기판, 상기 제 1 기판에 대향하여 위치하는 제 2 기판, 상기 복수의 화소들을 포함하는 표시부의 외측에 위치하고, 상기 제 1 기판 상에 형성된 실링 하부층, 및 상기 실링 하부층과 상기 제 2 기판 사이에 개재되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 서로 접착하는 실링 부재를 포함하고, 상기 실링 하부층은 상기 제 1 기판 상에 형성된 제 1 절연층, 상기 표시부에 형성된 게이트 전극과 동일한 물질로 구성되고, 상기 제 1 절연층 상에 형성된 제 1 금속층, 상기 제 1 금속층 상에 형성된 제 2 절연층, 및 상기 제 2 절연층 상에 형성된 그물형 구조를 갖는 그물형 금속층을 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an organic light emitting display including a display panel including a plurality of pixels, a scan driver for supplying a scan signal to the pixels, And a timing controller for controlling the scan driver and the data driver, wherein the display panel includes a first substrate, a second substrate positioned opposite the first substrate, a plurality of pixels, And a sealing member disposed on the outer side of the display section and formed on the first substrate and bonded between the sealing lower layer and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate to each other, The lower layer is made of the same material as the gate electrode formed on the display portion, The may include a first metal layer, a second insulating layer, and wherein the net-like metal layer having a net-like structure formed on the second insulating layer formed on said first metal layer formed on the first insulating layer.

일 실시예에 의하면, 상기 그물형 금속층은 상기 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층, 및 상기 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성되고 상기 제 2 금속층 상에 형성된 제 3 금속층을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the net-like metal layer may include a second metal layer made of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion, and a material same as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display portion, And a third metal layer formed thereon.

일 실시예에 의하면, 상기 제 1 절연층, 상기 제 1 금속층, 및 상기 제 2 절연층 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가질 수 있다.According to an embodiment, at least a part of each of the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer may have a net-like structure.

본 발명의 실시예들에 따른 표시 패널은 기판 상에 열전도율과 광반사 효율을 높일 수 있는 그물형 금속층을 형성하여 실링 부재와 기판 과의 접착력을 높일 수 있다.The display panel according to the embodiments of the present invention can increase the adhesion between the sealing member and the substrate by forming a net-like metal layer on the substrate that can increase the thermal conductivity and the light reflection efficiency.

본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 상기 표시 패널을 구비함으로써 기판의 박리 불량을 방지할 수 있고, 유기 발광 표시 장치의 성능이 장기간 동안 유지되어 수명이 연장될 수 있다.The organic light emitting display according to embodiments of the present invention can prevent the detachment of the substrate by providing the display panel, and the performance of the organic light emitting display device can be maintained for a long period of time and the lifetime can be extended.

다만, 본 발명의 효과는 상기 효과들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the above effects, and may be variously extended without departing from the spirit and scope of the present invention.

도 1a는 그물형 금속층을 포함하지 않는 표시 패널을 나타내는 단면도이고, 도 1b는 본 발명의 실시예들에 따른 그물형 금속층을 포함하는 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 일 예를 나타내는 단면도이다.
도 3는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 또 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 일 예를 나타내는 평면도이다.
도 6는 도 1b의 표시 패널의 효과를 나타내는 그래프이다.
도 7은 본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치를 나타내는 블록도이다.
도 8은 본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치를 포함하는 전자 기기를 나타내는 블록도이다.
1A is a cross-sectional view showing a display panel that does not include a mesh-type metal layer, and FIG. 1B is a cross-sectional view showing a display panel including a mesh-type metal layer according to embodiments of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing an example of a sealing portion of the display panel of Fig. 1B.
3 is a cross-sectional view showing another example of the sealing portion of the display panel of Fig. 1B.
4 is a cross-sectional view showing another example of the sealing portion of the display panel of Fig. 1B.
5 is a plan view showing an example of a sealing portion of the display panel of FIG. 1B.
Fig. 6 is a graph showing the effect of the display panel of Fig. 1b.
7 is a block diagram illustrating an organic light emitting display according to embodiments of the present invention.
8 is a block diagram showing an electronic device including an organic light emitting display according to embodiments of the present invention.

본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.For the embodiments of the invention disclosed herein, specific structural and functional descriptions are set forth for the purpose of describing an embodiment of the invention only, and it is to be understood that the embodiments of the invention may be practiced in various forms, The present invention should not be construed as limited to the embodiments described in Figs.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms may be used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "between" or "neighboring to" and "directly adjacent to" should be interpreted as well.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprise", "having", and the like are intended to specify the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, , Steps, operations, components, parts, or combinations thereof, as a matter of principle.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be construed as meaning consistent with meaning in the context of the relevant art and are not to be construed as ideal or overly formal in meaning unless expressly defined in the present application .

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일하거나 유사한 참조 부호를 사용한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The same or similar reference numerals are used for the same components in the drawings.

도 1a는 그물형 금속층을 포함하지 않는 표시 패널을 나타내는 단면도이고, 도 1b는 본 발명의 실시예들에 따른 그물형 금속층을 포함하는 표시 패널을 나타내는 단면도이다.1A is a cross-sectional view showing a display panel that does not include a mesh-type metal layer, and FIG. 1B is a cross-sectional view showing a display panel including a mesh-type metal layer according to embodiments of the present invention.

도 1a를 참조하면, 그물형 금속층을 포함하지 않는 표시 패널은 제 1 기판(10), 제 2 기판(90), 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(90)을 실링하기 위한 실링 부재(80), 및 실링 하부층(20)을 포함할 수 있다. 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(90)을 실링하기 위해 무기물질인 프릿(frit) 등으로 구성된 실링 부재(80)에 레이저를 조사할 수 있다. 이 때, 실링 부재(80)와 제 1 기판(10)과의 약한 접착력에 의해 발생하는 박리 문제를 해결하기 위해 제 1 기판(10) 상에 실리콘 질화물(SiNx) 등으로 구성된 제 2 절연층(38)을 형성할 수 있다. 또한, 레이저 조사의 효율을 높이기 위해 제 2 절연층(38) 하부에 게이트 전극과 동일한 물질로 구성된 제 1 금속층(36)을 구비할 수 있다. 제 1 금속층(36) 하부에 버퍼층 및 게이트 절연막과 각각 동일한 물질로 구성된 다중층 구조를 가지는 제 1 절연층(32) 추가로 구비하여 제 1 기판(10) 전체의 평탄도를 향상시키고, 불순물들이 확산되는 현상을 방지할 수 있다. 하지만 이와 같은 구조는 제 2 절연층(38)의 낮은 열전도율로 인해 레이저 조사의 효율을 높이는데 한계가 있어, 여전히 실링 부재(80)와 제 1 기판(10)과의 약한 접착력에 의한 박리 문제가 발생할 수 있다. 만일 열전도율을 높이기 위해 제 2 절연층(38)없이 실링 부재(80)와 게이트 라인과 동일한 물질로 구성된 제 1 금속층(36)이 직접 접촉하는 구조를 사용하는 경우, 레이저 조사에 의해 온도가 상승하면 제 1 금속층(36)이 손상될 수 있는 문제점이 발생할 수 있다.1A, a display panel that does not include a mesh-type metal layer includes a first substrate 10, a second substrate 90, a sealing member for sealing the first substrate 10 and the second substrate 90 80, and a sealing bottom layer 20. A laser may be applied to the sealing member 80 made of an inorganic material such as frit for sealing the first substrate 10 and the second substrate 90. [ At this time, in order to solve the peeling problem caused by the weak adhesive force between the sealing member 80 and the first substrate 10, a second insulating layer (for example, silicon nitride (SiNx) 38 may be formed. In order to increase the efficiency of laser irradiation, a first metal layer 36 made of the same material as the gate electrode may be provided under the second insulating layer 38. A first insulating layer 32 having a multilayer structure composed of the same material as the buffer layer and the gate insulating layer is further provided under the first metal layer 36 to improve the flatness of the entire first substrate 10, The diffusion phenomenon can be prevented. However, such a structure has a limitation in raising the efficiency of laser irradiation due to the low thermal conductivity of the second insulating layer 38, and still has a problem of peeling due to a weak adhesive force between the sealing member 80 and the first substrate 10 Lt; / RTI > If the structure in which the sealing member 80 and the first metal layer 36 made of the same material as the gate line are in direct contact without the second insulating layer 38 is used to increase the thermal conductivity, The first metal layer 36 may be damaged.

도 1b를 참조하면, 표시 패널은 제 2 절연층(138) 상에 그물형 금속층(160)을 포함할 수 있다. 구체적으로, 그물형 금속층(160)을 포함하는 표시 패널은 제 1 기판(110), 제 2 기판(190), 제 1 기판(110) 및 제 2 기판(190)을 실링하기 위한 실링 부재(180), 및 실링 하부층(120)을 포함할 수 있다. 실링 하부층(120)은 제 1 기판(110) 상에 버퍼층 및 게이트 절연막과 각각 동일한 물질로 구성된 다중층 구조를 가지는 제 1 절연층(132), 제 1 절연층(132) 상에 게이트 전극과 동일한 물질로 구성된 제 1 금속층(136), 제 1 금속층 상에 층간 절연막과 동일한 물질로 구성된 제 2 절연층(138), 제 2 절연층(138) 상에 소스/드레인 전극 및/또는 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성된 그물형 금속층(160)을 포함할 수 있다. 그물형 금속층(160)은 그물형(mesh) 구조를 가짐으로써 표면적을 넓힐 수 있고, 제 2 절연층(138)의 낮은 열전도율 및 광반사 효율을 보완하여 실링 부재(180)와 제 1 기판(110)과의 접착력을 높일 수 있다. 또한, 그물형 패턴의 선폭과 선간 거리를 조정하여 레이저 조사에 의한 온도 상승에 따라 발생하는 금속층의 손상을 방지할 수 있다. 이와 같이, 표시 패널의 실링 하부층(120)에 그물형 금속층(160)을 포함하는 표시 패널은 그물형 금속층을 포함하지 않는 표시 패널에 비해 실링 부재(180)와 실링 하부층(120)과의 접촉 표면적을 넓힐 수 있을 뿐만 아니라, 열전도율 및 광반사 효율을 높임으로써 실링 부재(180)와 제 1 기판(110)과의 접착력을 높이고 박리 현상을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 1B, the display panel may include a mesh-like metal layer 160 on the second insulating layer 138. Specifically, the display panel including the mesh-type metal layer 160 includes a first substrate 110, a second substrate 190, a sealing member 180 for sealing the first substrate 110 and the second substrate 190 ), And a sealing underlayer (120). The sealing lower layer 120 includes a first insulating layer 132 having a multilayer structure formed of the same material as the buffer layer and the gate insulating layer on the first substrate 110, A second insulating layer 138 made of the same material as the interlayer insulating layer on the first metal layer, a source / drain electrode formed on the second insulating layer 138, and / And a mesh-type metal layer 160 made of the same material as the electrode or the cathode electrode. The mesh type metal layer 160 has a mesh structure to increase the surface area and to compensate the low thermal conductivity and the light reflection efficiency of the second insulating layer 138 to improve the sealing property between the sealing member 180 and the first substrate 110 ) Can be increased. In addition, it is possible to prevent the damage of the metal layer caused by the temperature rise by the laser irradiation by adjusting the line width and line-to-line distance of the net-like pattern. As described above, the display panel including the mesh-type metal layer 160 in the sealing lower layer 120 of the display panel is smaller in the surface area of the contact surface between the sealing member 180 and the sealing lower layer 120 than the display panel not including the mesh- The adhesion between the sealing member 180 and the first substrate 110 can be increased and the peeling phenomenon can be prevented by increasing the thermal conductivity and the light reflection efficiency.

도 2는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 일 예를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing an example of a sealing portion of the display panel of Fig. 1B.

도 2를 참조하면, 표시 패널의 실링부는 제 1 기판(110), 제 2 기판(190), 제 1 기판(110) 및 제 2 기판(190)을 실링하는 실링 부재(180), 및 실링 부재(180)와 제 1 기판(110)과의 접착력 향상을 위해 제 1 기판(110) 상에 형성된 그물형 금속층(160)을 포함하는 실링 하부층(120)으로 구성될 수 있다.2, the sealing portion of the display panel includes a first substrate 110, a second substrate 190, a sealing member 180 sealing the first substrate 110 and the second substrate 190, And a sealing lower layer 120 including a net-like metal layer 160 formed on the first substrate 110 to improve adhesion between the first substrate 110 and the first substrate 110. [

구체적으로, 제 1 기판(110) 또는 제 2 기판(190)은 베이스 기판 또는 봉지 기판이 될 수 있다. 또한 제 1 기판(110) 또는 제 2 기판(190)은 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 투명 금속 산화물 기판 등과 같은 투명 절연 기판으로 구성될 수 있다. 여기서, 상기 투명 플라스틱 기판은 폴리이미드계 수지, 아크릴계 수지, 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지, 술폰산계 수지 등을 포함할 수 있다.Specifically, the first substrate 110 or the second substrate 190 may be a base substrate or an encapsulation substrate. The first substrate 110 or the second substrate 190 may be a transparent insulating substrate such as a glass substrate, a transparent plastic substrate, or a transparent metal oxide substrate. Here, the transparent plastic substrate may include a polyimide resin, an acrylic resin, a polyacrylate resin, a polycarbonate resin, a polyether resin, a polyethylene terephthalate resin, a sulfonic acid resin, or the like.

실링 부재(180)는 표시부의 외곽을 둘러쌓아 외부로부터 유기 발광 소자로 수분 또는 산소가 침투되지 않도록 보호할 수 있다. 따라서, 실링 부재(180)는 수분 또는 산소의 침투 억제력이 우수한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 실링 부재(180)는 별도의 흡습제를 사용할 필요가 없는 무기물질인 프릿(frit)과 같은 소재로 만들어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 실링 부재(180)는 레이저 등을 조사하여 용융한 후, 경화되면서 제 1 기판(110) 및 제 2 기판(190)을 밀봉시킬 수 있다. 일 실시예에서, 실링 부재(180)는 레이저에 의한 효율적인 실링을 위해 단면이 사다리꼴 형태로 형성될 수 있다.The sealing member 180 surrounds the outer periphery of the display unit and can protect moisture or oxygen from being permeated into the organic light emitting element from the outside. Therefore, the sealing member 180 can be formed of a material having excellent penetration suppression ability of moisture or oxygen. For example, the sealing member 180 may be made of a material such as frit, which is an inorganic material that does not require the use of a separate moisture absorbent, but is not limited thereto. The sealing member 180 may be irradiated with a laser or the like to be melted, and then the first substrate 110 and the second substrate 190 may be sealed while being cured. In one embodiment, the sealing member 180 may be formed in a trapezoidal shape in cross section for efficient sealing by a laser.

실링 하부층(120)은, 제 1 기판(110) 상에 형성된 제 1 절연층(132), 제 1 절연층(132) 상에 형성된 제 1 금속층(136), 제 1 금속층(136) 상에 형성된 제 2 절연층(138), 및 제 2 절연층(138) 상에 그물형 금속층(160)으로 구성될 수 있다.The sealing bottom layer 120 includes a first insulating layer 132 formed on the first substrate 110, a first metal layer 136 formed on the first insulating layer 132, a second metal layer 136 formed on the first metal layer 136, A second insulating layer 138, and a mesh-type metal layer 160 on the second insulating layer 138.

제 1 절연층(132)은 제 1 기판(110) 상에 형성될 수 있으며, 표시부에 형성된 버퍼층 및 게이트 절연막과 각각 동일한 물질로 구성된 복수의 층들을 포함하는 다중층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제 1 절연층(132)은 버퍼층과 동일한 물질로 구성된 층(133)을 구비하여 제 1 기판(110) 전체의 평탄도를 향상시키고, 불순물들이 확산되는 현상을 방지할 수 있으며, 접촉 표면적을 넓히는 효과도 얻을 수 있다. 또한, 제 1 절연층(132)은 게이트 절연막과 동일한 물질로 구성된 층(134)을 구비할 수 있다. 따라서 제 1 절연층(132)은 버퍼층과 동일한 물질인 실리콘 산화물(SiOx), 알루미늄 산화물(AlOx), 산화 하프늄(HfOx) 등의 절연성 산화물 등을 포함할 수 있으며, 게이트 절연막과 동일한 물질인 실리콘 산화물(SiOx), 알루미늄 산화물(AlOx), 지르코늄 산화물(ZrOx) 등의 금속 산화물 등을 포함할 수 있다. 그 밖에도 제 1 절연층(132) 필요에 따라 다양한 방법으로 다중층을 구성함으로써 실링 부재(180)와 실링 하부층의 접촉 표면적을 넓힐 수 있다.The first insulating layer 132 may be formed on the first substrate 110 and may have a multi-layer structure including a plurality of layers each made of the same material as the buffer layer and the gate insulating layer formed on the display portion. For example, the first insulating layer 132 may include a layer 133 made of the same material as the buffer layer to improve the flatness of the entire first substrate 110, prevent diffusion of impurities, An effect of widening the contact surface area can be obtained. In addition, the first insulating layer 132 may include a layer 134 composed of the same material as the gate insulating layer. Therefore, the first insulating layer 132 may include an insulating oxide such as silicon oxide (SiOx), aluminum oxide (AlOx), hafnium oxide (HfOx), or the like which is the same material as the buffer layer, (SiOx), aluminum oxide (AlOx), and zirconium oxide (ZrOx). In addition, the first insulating layer 132 can be formed in multiple layers in various ways as required, thereby widening the contact surface area of the sealing member 180 and the sealing underlayer.

제 1 금속층(136)은 제 1 절연층(132) 상에 형성될 수 있으며, 표시부의 게이트 전극 형성 시 함께 형성할 수 있어, 게이트 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 금속층(136)은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나로 형성될 수 있다.The first metal layer 136 may be formed on the first insulating layer 132 and may be formed together with the gate electrode of the display portion and may be formed of the same material as the gate electrode. In one embodiment, the first metal layer 136 is formed of a metal such as aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), tungsten (W), copper (Cu), gold (Au) ), And an alloy formed from a combination thereof.

제 2 절연층(138)은 제 1 금속층(136) 상에 형성될 수 있으며, 표시부의 게이트 전극 등과 트랜지스터 소스/드레인 전극 등을 절연시킬 수 있는 층간 절연막(Inter Layer Dielectric; ILD) 형성 시 함께 형성할 수 있어, 층간 절연막과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 따라서, 제 2 절연층(138)은 실리콘 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제 2 절연층(138)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 실리콘 탄질화물, 실리콘 산탄화물 등을 사용하여 형성될 수 있다. 이들은 단독으로 또는 서로 조합되어 사용될 수 있다. 또한 제 2 절연층(138)은 그물형 금속층(160)과 제 1 금속층(136)을 연결시키기 위한 컨택홀을 포함할 수 있다.The second insulating layer 138 may be formed on the first metal layer 136 and may be formed together with an interlayer dielectric (ILD) that can insulate the gate electrode of the display portion and the transistor source / And can be formed of the same material as the interlayer insulating film. Accordingly, the second insulating layer 138 may include a silicon compound. For example, the second insulating layer 138 may be formed using silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbonitride, silicon oxycarbide, or the like. These may be used alone or in combination with each other. The second insulating layer 138 may include a contact hole for connecting the mesh-type metal layer 160 to the first metal layer 136.

그물형 금속층(160)은 제 2 절연층(138) 상에 형성될 수 있으며, 표시부에 형성되는 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층(162), 및 제 2 금속층(162) 상에 표시부에 형성되는 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성된 제 3 금속층(164)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 그물형 금속층(160)의 적어도 일부는 제 1 금속층(136)과 연결될 수 있다. 그물형 금속층(160)과 제 1 금속층(136)을 연결함으로써, 기판을 이동시키거나 다른 장치와 결합하는 공정 등에서 발생할 수 있는 정전기를 제 1 금속층(136)으로 분산시키고 정전기에 의한 불량을 방지할 수 있다. 제 2 금속층(162)은 제 2 절연층(138) 상에 그물형태로 패터닝되어 열전도율 및 광반사 효율을 높이는 역할을 수행할 수 있다. 제 2 금속층(162)은 표시부의 소스/드레인 전극 형성 시 함께 형성할 수 있어, 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 제 2 금속층(162)은 효율적으로 열전도율 및 광반사 효율을 높이기 위해 열전도율 및 반사율이 높은 금속을 사용할 수 있다. 일 실시예에서, 제 2 금속층(162)은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제 2 금속층(162)의 두께는 0.3㎛ 내지 0.7㎛로 형성할 수 있다. 제 2 금속층(162)의 두께는 편의를 위해 표시부의 소스/드레인 전극과 동일한 두께로 형성될 수 있으나 접촉 표면적을 확보하기 위해 0.5㎛이상의 두께로 형성하는 것이 바람직하다. 제 3 금속층(164)은 제 2 금속층(162)상에 그물형태로 패터닝되어 열전도율 및 광반사 효율을 높이는 역할을 수행할 수 있다. 제 3 금속층(164)은 표시부의 애노드 전극 또는 캐소드 전극 형성 시 함께 형성할 수 있어, 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 제 3 금속층(164)은 효율적으로 열전도율 및 광반사 효율을 높이기 위해 열전도율 및 반사율이 높은 금속을 사용할 수 있다. 일 실시예에서, 제 3 금속층(164)은 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 은(Ag), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제 3 금속층(164)의 두께는 0.1㎛ 내지 0.5㎛로 형성할 수 있다. 제 3 금속층(164)의 두께는 편의를 위해 표시부의 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 두께로 형성될 수 있으나 접촉 표면적을 확보하기 위해 0.1㎛이상의 두께로 형성하는 것이 바람직하다. 일 실시예에서, 제 3 금속층(164)은 제 3 금속층(164)을 식각하는 공정에서 제 2 금속층(162)이 데미지를 입지 않도록 제 2 금속층(162)을 감싸는 형태로 구성될 수 있다.The mesa-shaped metal layer 160 may be formed on the second insulating layer 138 and may include a second metal layer 162 formed of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion and a second metal layer 162 formed on the second metal layer 162 And a third metal layer 164 made of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display unit. In one embodiment, at least a portion of the net-like metal layer 160 may be connected to the first metal layer 136. By connecting the net-like metal layer 160 and the first metal layer 136, static electricity, which may be generated in a process of moving the substrate or coupling with another device, is dispersed in the first metal layer 136 and a failure due to static electricity is prevented . The second metal layer 162 may be patterned in the form of a net on the second insulating layer 138 to enhance thermal conductivity and light reflection efficiency. The second metal layer 162 may be formed together with the source / drain electrodes of the display portion, and may be formed of the same material as the source / drain electrodes. The second metal layer 162 may be made of a metal having a high thermal conductivity and a high reflectivity to enhance the thermal conductivity and the light reflection efficiency. In one embodiment, the second metal layer 162 is formed of a metal such as aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), tungsten (W), copper (Cu), gold (Au) ), And an alloy formed from a combination thereof. In one embodiment, the thickness of the second metal layer 162 may be 0.3 탆 to 0.7 탆. The thickness of the second metal layer 162 may be the same as the thickness of the source / drain electrode of the display for convenience, but it is preferable that the thickness of the second metal layer 162 is 0.5 m or more in order to secure a contact surface area. The third metal layer 164 may be patterned in the form of a net on the second metal layer 162 to enhance thermal conductivity and light reflection efficiency. The third metal layer 164 may be formed together with the anode electrode or the cathode electrode of the display unit, and may be formed of the same material as the anode electrode or the cathode electrode. The third metal layer 164 may be made of a metal having a high thermal conductivity and a high reflectance so as to enhance the thermal conductivity and the light reflection efficiency. In one embodiment, the third metal layer 164 may be formed of any one of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), silver (Ag), and alloys formed from combinations thereof. In one embodiment, the thickness of the third metal layer 164 may be 0.1 占 퐉 to 0.5 占 퐉. For the sake of convenience, the thickness of the third metal layer 164 may be the same as that of the anode electrode or the cathode electrode of the display unit, but it is preferable that the thickness of the third metal layer 164 is 0.1 m or more in order to secure a contact surface area. In one embodiment, the third metal layer 164 may be configured to surround the second metal layer 162 so that the second metal layer 162 is not damaged in the process of etching the third metal layer 164.

실링 하부층(120)은 실링 부재(180)와 실링 하부층(120)의 접촉 표면적을 넓히기 위한 다양한 구조를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 절연층(132), 제 1 금속층(136), 및 제 2 절연층(138) 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가질 수 있다. 즉 제 1 절연층(132), 제 1 금속층(136), 및 제 2 절연층(138)에 대해 그물 모양의 구조를 갖도록 제 1 기판(110)까지 홀을 형성하여 접촉 표면적을 넓힘으로써 실링 부재(180)와 제 1 기판(110)과의 접착력을 효과적으로 높일 수 있다. 여기서, 접촉 표면적을 충분히 넓히기 위해 홀의 깊이를 1.7㎛이상으로 형성하는 것이 바람직하다. 일 실시예에서, 제 1 절연층(132), 제 1 금속층(136), 제 2 절연층(138), 및 그물형 금속층(160) 간에 단차가 형성될 수 있다. 실링 하부층(120)을 계단식으로 구성하여 실링 하부층(120)과 실링 부재(180)의 접촉 표면적을 더욱 넓힐 수 있고, 식각 공정시 다른 층이 데미지를 받지 않도록 패터닝할 수 있다.The sealing bottom layer 120 may have a variety of structures for widening the contact surface area of the sealing member 180 and the sealing bottom layer 120. In one embodiment, at least a portion of each of the first insulating layer 132, the first metal layer 136, and the second insulating layer 138 may have a net-like structure. A hole is formed up to the first substrate 110 so as to have a net-like structure with respect to the first insulating layer 132, the first metal layer 136, and the second insulating layer 138 to widen the contact surface area, The adhesive force between the first substrate 110 and the second substrate 180 can be effectively increased. Here, in order to sufficiently widen the contact surface area, it is preferable to form the hole with a depth of 1.7 mu m or more. In one embodiment, a step may be formed between the first insulating layer 132, the first metal layer 136, the second insulating layer 138, and the meshed metal layer 160. The sealing lower layer 120 may be formed in a stepwise manner to further widen the contact surface area between the sealing lower layer 120 and the sealing member 180 and to pattern the other layers so as not to be damaged during the etching process.

도 3는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 다른 예를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing another example of the sealing portion of the display panel of Fig. 1B.

도 3을 참조하면, 실링 하부층(120)의 그물형 금속층은 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층(162)을 포함할 수 있다. 구체적으로, 실링 하부층(120)은 제 1 절연층(132), 제 1 금속층(136), 제 2 절연층(138), 및 제 2 금속층(162)으로 이루어진 그물형 금속층을 포함할 수 있다. 제 2 금속층(162)은 표시부의 소스/드레인 전극 형성 시 함께 형성할 수 있어, 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 제 2 금속층(162)은 효율적으로 열전도율 및 광반사 효율을 높이기 위해 열전도율 및 반사율이 높은 금속을 사용할 수 있다. 일 실시예에서, 제 2 금속층(162)은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제 2 금속층(162)의 두께는 0.3㎛ 내지 0.7㎛로 형성할 수 있다. 제 2 금속층(162)의 두께는 편의를 위해 표시부의 소스/드레인 전극과 동일한 두께로 형성될 수 있으나 접촉 표면적을 확보하기 위해 0.5㎛이상의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 3, the meshed metal layer of the sealing lower layer 120 may include a second metal layer 162 formed of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion. Specifically, the sealing bottom layer 120 may comprise a net-like metal layer comprised of a first insulating layer 132, a first metal layer 136, a second insulating layer 138, and a second metal layer 162. The second metal layer 162 may be formed together with the source / drain electrodes of the display portion, and may be formed of the same material as the source / drain electrodes. The second metal layer 162 may be made of a metal having a high thermal conductivity and a high reflectivity to enhance the thermal conductivity and the light reflection efficiency. In one embodiment, the second metal layer 162 is formed of a metal such as aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), tungsten (W), copper (Cu), gold (Au) ), And an alloy formed from a combination thereof. In one embodiment, the thickness of the second metal layer 162 may be 0.3 탆 to 0.7 탆. The thickness of the second metal layer 162 may be the same as the thickness of the source / drain electrode of the display for convenience, but it is preferable that the thickness of the second metal layer 162 is 0.5 m or more in order to secure a contact surface area.

표시 패널의 실링부는 실링 하부층(120)외에도 제 1 기판(110), 제 2 기판(190), 및 제 1 기판(110)와 제 2 기판(190)을 실링하는 실링 부재(180)로 구성될 수 있다. 다만, 이에 대해서는 상술한 바 있으므로, 그에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The sealing portion of the display panel may include a sealing substrate 180 sealing the first substrate 110, the second substrate 190, and the first substrate 110 and the second substrate 190 in addition to the sealing lower layer 120 . However, since this has been described above, a duplicate description thereof will be omitted.

도 4는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 또 다른 예를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing another example of the sealing portion of the display panel of Fig. 1B.

도 4을 참조하면, 실링 하부층(120)의 그물형 금속층은 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성된 제 3 금속층(164)을 포함할 수 있다. 구체적으로, 실링 하부층(120)은 제 1 절연층(132), 제 1 금속층(136), 제 2 절연층(138), 및 제 3 금속층(164)으로 이루어진 그물형 금속층을 포함할 수 있다. 제 3 금속층(164)은 표시부의 애노드 전극 또는 캐소드 전극 형성 시 함께 형성할 수 있어, 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 제 3 금속층(164)은 효율적으로 열전도율 및 광반사 효율을 높이기 위해 열전도율 및 반사율이 높은 금속을 사용할 수 있다. 일 실시예에서, 제 3 금속층(164)은 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 은(Ag), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제 3 금속층(164)의 두께는 0.1㎛ 내지 0.5㎛로 형성할 수 있다. 제 3 금속층(164)의 두께는 편의를 위해 표시부의 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 두께로 형성될 수 있으나 접촉 표면적을 확보하기 위해 0.1㎛이상의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 4, the net-like metal layer of the sealing lower layer 120 may include a third metal layer 164 formed of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display portion. Specifically, the sealing bottom layer 120 may include a mesh-type metal layer consisting of a first insulating layer 132, a first metal layer 136, a second insulating layer 138, and a third metal layer 164. The third metal layer 164 may be formed together with the anode electrode or the cathode electrode of the display unit, and may be formed of the same material as the anode electrode or the cathode electrode. The third metal layer 164 may be made of a metal having a high thermal conductivity and a high reflectance so as to enhance the thermal conductivity and the light reflection efficiency. In one embodiment, the third metal layer 164 may be formed of any one of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), silver (Ag), and alloys formed from combinations thereof. In one embodiment, the thickness of the third metal layer 164 may be 0.1 占 퐉 to 0.5 占 퐉. For the sake of convenience, the thickness of the third metal layer 164 may be the same as that of the anode electrode or the cathode electrode of the display unit, but it is preferable that the thickness of the third metal layer 164 is 0.1 m or more in order to secure a contact surface area.

표시 패널의 실링부는 실링 하부층(120)외에도 제 1 기판(110), 제 2 기판(190), 및 제 1 기판(110)와 제 2 기판(190)을 실링하는 실링 부재(180)로 구성될 수 있다. 다만, 이에 대해서는 상술한 바 있으므로, 그에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The sealing portion of the display panel may include a sealing substrate 180 sealing the first substrate 110, the second substrate 190, and the first substrate 110 and the second substrate 190 in addition to the sealing lower layer 120 . However, since this has been described above, a duplicate description thereof will be omitted.

도 5는 도 1b의 표시 패널의 실링부의 일 예를 나타내는 평면도이다.5 is a plan view showing an example of a sealing portion of the display panel of FIG. 1B.

도 5를 참조하면, 실링 하부층은 그물모양의 그물형 금속층을 포함하여 실링 부재와 제 1 기판과의 접착력을 높이고, 그물형 금속층과 제 1 금속층을 연결하여 정전기에 의한 불량을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 5, the sealing lower layer may include a net-like metal layer to increase the adhesion between the sealing member and the first substrate and connect the net-like metal layer and the first metal layer to prevent a failure due to static electricity.

구체적으로, 표시 패널의 실링 하부층은 제 1 절연층, 제 1 금속층, 제 2 절연층, 및 그물형 금속층 간에 단차를 형성하거나 제 1 절연층, 제 1 금속층, 및 제 2 절연층의 일부에 홀을 형성하여 그물형 구조로 패터닝함으로써 실링 부재와의 접촉 표면적을 넓힐 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 절연층, 제 1 금속층, 제 2 절연층, 및 그물형 금속층 간에 단차가 형성될 수 있다. 예를 들어, 기판 상에 제 1 절연층을 형성하고, 제 1 절연층 상에 제 1 금속층을 형성할 수 있다. 제 1 금속층 상의 일부분에 제 2 절연층을 형성하고, 제 2 절연층 상에 그물형 금속층을 그물형으로 형성할 수 있다. 이에 따라 표시 패널의 실링부는 제 1 금속층과 실링 부재가 접촉하는 부분(210), 제 2 절연층과 실링 부재가 접촉하는 부분(230), 및 그물형 금속층과 실링 부재가 접촉하는 부분(250)을 포함할 수 있다. 이와 같이 제 1 금속층 상에 제 2 절연층을 형성하고, 제 2 절연층 상에 그물형 금속층을 형성할 때, 각 층간 단차가 있도록 계단식으로 구성함으로써, 접촉 표면적을 넓힐 수 있고, 식각 공정시 다른 층이 데미지를 받지 않도록 패터닝할 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 절연층, 제 1 금속층, 및 제 2 절연층 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가질 수 있다. 즉, 제 1 절연층, 제 1 금속층, 및 제 2 절연층의 일부분에 대해 홀(270)을 형성하여 그물형 금속층과 같은 모양의 그물형 구조를 형성할 수 있다. 이와 같이, 홀을 형성하여 실링 부재와 실링 하부층의 접촉 표면적을 넓힐 수 있고, 실링 부재와 제 1 기판과의 접착력 효과적으로 높일 수 있다. 여기서, 접촉 표면적을 충분히 넓히기 위해 홀의 깊이를 1.7㎛이상으로 형성하는 것이 바람직하다. 일 실시예에서, 상기 그물형 금속층은 상기 제 1 금속층의 가장자리로부터 100㎛ 내지 150㎛의 거리를 두고 형성될 수 있다. 제 1 금속층의 가장자리로부터 그물형 금속층 간의 거리(W1)를 100㎛ 내지 150㎛로 형성하여 제 1 절연층, 제 1 금속층, 제 2 절연층, 및 그물형 금속층 간에 단차를 형성할 수 있는 공간을 마련할 수 있다. 일 실시예에서, 그물형 금속층은 선폭(W2)이 3㎛ 내지 10㎛인 그물형 구조를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 그물형 금속층은 선간 거리(W3)가 3㎛ 내지 10㎛인 그물형 구조를 가질 수 있다. 그물형 금속층의 선폭(W2)과 선간 거리(W3)는 레이저에 대한 열전도율과 광반사 효율을 높이면서도 레이저 에너지에 의해 손상되지 않도록 각각 10㎛이하가 되도록 형성함이 바람직하다.Specifically, the sealing lower layer of the display panel is formed by forming a step between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, and the net-like metal layer, or by forming a hole in a part of the first insulating layer, So that the contact surface area with the sealing member can be widened. In one embodiment, a step may be formed between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, and the net-like metal layer. For example, a first insulating layer may be formed on a substrate, and a first metal layer may be formed on the first insulating layer. A second insulating layer may be formed on a portion of the first metal layer and a mesh-type metal layer may be formed on the second insulating layer. Accordingly, the sealing portion of the display panel includes a portion 210 where the first metal layer and the sealing member contact each other, a portion 230 where the second insulating layer and the sealing member contact each other, and a portion 250 where the mesh- . ≪ / RTI > When the second insulating layer is formed on the first metal layer and the mesh-type metal layer is formed on the second insulating layer in such a manner as to have a stepped step between the respective layers, the contact surface area can be widened, The layer can be patterned so as not to be damaged. In one embodiment, at least some of each of the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer may have a net-like structure. That is, a hole 270 may be formed in a portion of the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer to form a net-like structure having the same shape as the net-like metal layer. As described above, the contact surface area between the sealing member and the sealing lower layer can be increased by forming the hole, and the adhesion between the sealing member and the first substrate can be effectively increased. Here, in order to sufficiently widen the contact surface area, it is preferable to form the hole with a depth of 1.7 mu m or more. In one embodiment, the net-like metal layer may be formed at a distance of 100 mu m to 150 mu m from the edge of the first metal layer. The distance W1 between the net-like metal layers from the edge of the first metal layer is set to be 100 mu m to 150 mu m so that a space capable of forming a step between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, . In one embodiment, the net-like metal layer may have a net-like structure with a line width W2 of 3 mu m to 10 mu m. In one embodiment, the net-like metal layer may have a net-like structure with a line-to-line distance W3 of 3 mu m to 10 mu m. The line width W2 and the line-to-line distance W3 of the net-like metal layer are preferably formed so as to be 10 占 퐉 or less so as not to be damaged by the laser energy while increasing the thermal conductivity and light reflection efficiency for the laser.

그물형 금속층의 적어도 일부에서 정전기에 의한 불량을 방지할 수 있도록 제 1 금속층과 연결되는 연결부(290)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 반복되는 그물형 금속층 패턴마다 중앙선상에 그물형 금속층과 제 1 금속층이 연결되는 연결부(290)들을 포함할 수 있다. 표시 패널을 이동시키는 공정, 또는 다른 장치와 결합하는 공정 등에서 정전기가 발생할 수 있는데 이러한 정전기로 인해 표시 패널의 불량이 발생할 수 있다. 이 때 그물형 금속층과 제 1 금속층을 연결함으로써 정전기를 분산시키는 효과를 얻을 수 있으므로, 정전기에 의한 표시 패널의 불량을 방지할 수 있다.And a connection portion 290 connected to the first metal layer so as to prevent a failure due to static electricity in at least a part of the net-like metal layer. For example, each of the repeating patterns of the net-like metal layer may include connecting portions 290 connecting the net-like metal layer and the first metal layer on the center line. Static electricity may be generated in a process of moving the display panel or in a process of combining with another device. Such static electricity may cause a failure of the display panel. At this time, since the effect of dispersing the static electricity can be obtained by connecting the net-like metal layer and the first metal layer, the failure of the display panel due to the static electricity can be prevented.

도 6는 도 1b의 표시 패널의 효과를 나타내는 그래프이다.Fig. 6 is a graph showing the effect of the display panel of Fig. 1b.

도 6을 참조하면, 접촉 표면적 증가에 따른 박리 강도의 변화와 실링부에 그물형 금속층을 적용한 경우 박리 강도의 변화를 확인할 수 있다. 실링 부재로 프릿을 사용하고, 프릿에 레이저를 조사하여 제 1 기판과 제 2 기판을 실링한 경우 6.08kgf의 박리 강도를 가질 수 있다. 박리 강도는 실링 부재와의 접촉 표면적에 따라 커지는데, 접촉 표면적이 8.7% 증가한 경우 박리 강도는 6.28kgf, 접촉 표면적이 13.4% 증가한 경우 박리 강도는 6.42kgf로 증가할 수 있다. 또한, 표면적 증가가 13.4%로 같은 표면적인 경우라도, 그물형 금속층을 구비하는 경우 열전도율과 레이저에 대한 광반사 효율이 늘어나므로 박리 강도가 6.88kgf로 증가할 수 있다. 결과적으로, 실링 하부층에 그물형 금속층을 형성하는 경우, 약 13% 정도의 박리 강도가 향상될 수 있다. 따라서, 실링 하부층에 그물형 금속층을 형성하고, 접촉 표면적을 넓히기 위해 제 1 절연층, 제 1 금속층, 제 2 절연층, 및 그물형 금속층 간에 단차를 형성하거나, 제 1 절연층, 제 1 금속층, 및 제 2 절연층은 그물형 금속층과 동일한 모양으로 패터닝하여 홀을 형성함으로써 박리 강도를 높일 수 있다.Referring to FIG. 6, a change in the peel strength according to the increase of the contact surface area and a change in the peel strength in the case of applying the net-like metal layer to the sealing portion can be confirmed. When the frit is used as the sealing member and the frit is irradiated with a laser to seal the first substrate and the second substrate, a peel strength of 6.08 kgf can be obtained. The peel strength increases with the contact surface area with the sealing member. If the contact surface area is increased by 8.7%, the peel strength is 6.28 kgf, and when the contact surface area is increased by 13.4%, the peel strength can be increased to 6.42 kgf. Further, even in the case where the surface area increase is 13.4% and the same surface area, when the mesh type metal layer is provided, the thermal conductivity and the light reflection efficiency for the laser are increased, and the peel strength can be increased to 6.88 kgf. As a result, when the mesh-type metal layer is formed on the lower sealing layer, the peel strength of about 13% can be improved. Therefore, it is possible to form a step between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, and the net-like metal layer to form a net-like metal layer in the sealing lower layer and to widen the contact surface area, And the second insulating layer may be patterned in the same pattern as the mesh-like metal layer to form holes, thereby increasing the peel strength.

도 7은 본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치를 나타내는 블록도이다.7 is a block diagram illustrating an organic light emitting display according to embodiments of the present invention.

도 7을 참조하면, 유기 발광 표시 장치(300)는 표시 패널(320), 스캔 구동부(340), 데이터 구동부(360) 및 타이밍 제어부(380)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 스캔 구동부(340), 데이터 구동부(380) 및 타이밍 제어부(380)는 하나의 집적 회로(Integrated Circuit; IC)로 구현될 수 있다. 다른 실시예에서, 스캔 구동부(340), 데이터 구동부(360) 및 타이밍 제어부(380)는 서로 다른 집적 회로들로 구현될 수 있다.7, the organic light emitting diode display 300 may include a display panel 320, a scan driver 340, a data driver 360, and a timing controller 380. Referring to FIG. In one embodiment, the scan driver 340, the data driver 380, and the timing controller 380 may be implemented as a single integrated circuit (IC). In another embodiment, the scan driver 340, the data driver 360, and the timing controller 380 may be implemented with different integrated circuits.

표시 패널(320)은 실링부(310)를 포함하며, 실링부(310)는 도 2에 도시된 표시 패널의 그물형 금속층을 포함하는 실링부일 수 있다. 구체적으로, 표시 패널(320)은 제 1 기판, 제 1 기판에 대향하여 위치하는 제 2 기판, 복수의 화소를 포함하는 표시부의 외측에 위치하고 제 1 기판 상에 형성된 실링 하부층, 실링 하부층과 제 2 기판 사이에 개재되어 제 1 기판과 제 2 기판을 서로 접착하는 실링 부재를 포함하고, 실링 하부층은 제 1 기판 상에 형성된 제 1 절연층, 표시부에 형성된 게이트 전극과 동일한 물질로 구성되고 제 1 절연층 상에 형성된 제 1 금속층, 제 1 금속층 상에 형성된 제 2 절연층, 및 제 2 절연층 상에 형성된 그물형 구조를 갖는 그물형 금속층을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 그물형 금속층은 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층, 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성되고 제 2 금속층 상에 형성된 제 3 금속층을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 절연층, 제 1 금속층, 및 제 2 절연층은 그물형 금속층 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 그물형 금속층의 적어도 일부는 제 1 금속층과 연결될 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 절연층, 제 1 금속층, 제 2 절연층, 및 그물형 금속층 간에 단차가 를 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 절연층은 상기 표시부에 형성된 버퍼층 및 게이트 절연막과 각각 동일한 물질로 구성된 복수의 층들을 포함하는 다중층 구조일 수 있다. 다만, 이에 대해서는 상술한 바 있으므로, 그에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이와 같이 표시 패널(320)은 실링 하부층에 그물형 금속층을 포함하여, 실링부에 대해 레이저 조사 시 열전도율과 광반사 효율을 높임으로써 실링 부재와 제 1 기판과의 접착력을 높일 수 있다. 특히 제 1 절연층, 제 1 금속층, 및 제 2 절연층에 홀을 형성하고 단차를 형성함으로써 실링 부재와 실링 하부층의 접촉 표면적을 넓혀 접착력을 더욱 향상시킬 수 있다. 따라서, 유기 발광 표시 장치(300)는 기판의 박리 불량을 방지하여 외부로부터 수분과 산소가 침투되지 않도록 보호함으로써 성능이 장기간 동안 유지되고 수명이 연장될 수 있다.The display panel 320 may include a sealing portion 310 and the sealing portion 310 may be a sealing portion including a mesh-type metal layer of the display panel shown in Fig. Specifically, the display panel 320 includes a first substrate, a second substrate opposed to the first substrate, a sealing lower layer positioned outside the display portion including a plurality of pixels and formed on the first substrate, a sealing lower layer, And a sealing member interposed between the substrates to bond the first substrate and the second substrate to each other, wherein the sealing lower layer comprises a first insulating layer formed on the first substrate, a first insulating layer formed of the same material as the gate electrode formed on the display portion, A first metal layer formed on the first metal layer, a second insulating layer formed on the first metal layer, and a net-like metal layer having a net-like structure formed on the second insulating layer. In one embodiment, the net-like metal layer includes a second metal layer made of the same material as the source / drain electrode formed on the display portion, a third metal layer made of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display portion, can do. In one embodiment, the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer may have a net-like structure, at least a portion of each of the net-like metal layers. In one embodiment, at least a portion of the net-like metal layer may be connected to the first metal layer. In one embodiment, a step difference may be formed between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, and the net-like metal layer. In one embodiment, the first insulating layer may have a multilayer structure including a plurality of layers each made of the same material as the buffer layer and the gate insulating film formed on the display portion. However, since this has been described above, a duplicate description thereof will be omitted. As described above, the display panel 320 includes a net-like metal layer on the lower sealing layer, thereby enhancing the adhesive force between the sealing member and the first substrate by increasing the thermal conductivity and the light reflection efficiency of the sealing portion during laser irradiation. In particular, by forming holes in the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer and forming a step, the contact surface area between the sealing member and the sealing lower layer can be widened to further improve the adhesive force. Therefore, the organic light emitting diode display 300 can prevent the peeling failure of the substrate and protect the moisture and oxygen from penetration from the outside, so that the performance can be maintained for a long time and the lifetime can be prolonged.

또한 표시 패널(320)은 복수의 스캔 라인들(SL1, SL2, ..., SLn)을 통해 스캔 구동부(340)와 연결되고, 복수의 데이터 라인들(DL1, DL2, ..., DLm)을 통해 데이터 구동부(360)와 연결된다. 일 실시예에서, 복수의 스캔 라인들(SL1, SL2, ..., SLn)과 복수의 데이터 라인들(DL1, DL2, ..., DLm)이 화소 회로(315)로 연결되기 위해 실링부(310)를 통과하는 경우, 스캔 라인들(SL1, SL2, ..., SLn)과 데이터 라인들(DL1, DL2, ..., DLm)이 실링부(310)를 통과하는 부분은 실링 하부층을 형성하지 않음으로서 표시 패널(320)을 구동하는데 있어서 영향을 받지 않도록 패터닝할 수 있다. 표시 패널(320)은 복수의 스캔 라인들(SL1, SL2, ..., SLn) 및 복수의 데이터 라인들(DL1, DL2, ..., DLm)의 교차부마다 위치되는 n*m 개의 화소 회로(315)들을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 화소 회로(315)들은 적색 화소 회로들, 녹색 화소 회로들 및 청색 화소 회로들을 포함할 수 있다.The display panel 320 is connected to the scan driver 340 through a plurality of scan lines SL1, SL2, ..., and SLn and includes a plurality of data lines DL1, DL2, ..., DLm, And is connected to the data driver 360 through the data driver 360. In order to connect the plurality of scan lines SL1 to SLn and the plurality of data lines DL1 to DLm to the pixel circuit 315, The portion where the scan lines SL1, SL2, ..., SLn and the data lines DL1, DL2, ..., DLm pass through the sealing portion 310, So that the display panel 320 can be patterned so as not to be affected by driving. The display panel 320 includes n * m pixels (pixels) located at intersections of the plurality of scan lines SL1, SL2, ..., SLn and the plurality of data lines DL1, DL2, Circuitry 315. < / RTI > In one embodiment, the pixel circuits 315 may include red pixel circuits, green pixel circuits, and blue pixel circuits.

스캔 구동부(340)는 복수의 스캔 라인들(SL1, SL2, ..., SLn)을 통해 복수의 화소 회로들 각각에 스캔 신호를 제공한다. 데이터 구동부(360)는 복수의 데이터 라인들(DL1, DL2, ..., DLm)을 통해 복수의 화소 회로들 각각에 데이터 신호를 제공한다. 타이밍 제어부(380)는 복수의 타이밍 제어 신호들(CTL1, CTL2)을 생성하여 스캔 구동부(340) 및 데이터 구동부(360)에 공급함으로써 이들을 제어한다.The scan driver 340 provides scan signals to the plurality of pixel circuits through the plurality of scan lines SL1, SL2, ..., SLn. The data driver 360 provides a data signal to each of the plurality of pixel circuits through a plurality of data lines DL1, DL2, ..., DLm. The timing controller 380 generates a plurality of timing control signals CTL1 and CTL2 and supplies them to the scan driver 340 and the data driver 360 to control them.

도 8은 본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치를 포함하는 전자 기기를 나타내는 블록도이다.8 is a block diagram showing an electronic device including an organic light emitting display according to embodiments of the present invention.

도 8을 참조하면, 전자 기기(400)는 프로세서(410), 메모리 장치(420), 저장 장치(430), 입출력 장치(440), 파워 서플라이(450) 및 유기 발광 표시 장치(460)를 포함할 수 있다. 전자 기기(400)는 비디오 카드, 사운드 카드, 메모리 카드, USB 장치 등과 통신하거나, 또는 다른 시스템들과 통신할 수 있는 여러 포트(port)들을 더 포함할 수 있다.8, the electronic device 400 includes a processor 410, a memory device 420, a storage device 430, an input / output device 440, a power supply 450, and an organic light emitting display device 460 can do. The electronic device 400 may further include a plurality of ports capable of communicating with, or communicating with, video cards, sound cards, memory cards, USB devices, and the like.

프로세서(410)는 특정 계산들 또는 태스크(task)들을 수행할 수 있다. 실시예에 따라, 프로세서(410)는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(CPU) 등일 수 있다. 프로세서(410)는 어드레스 버스(address bus), 제어 버스(control bus) 및 데이터 버스(data bus) 등을 통하여 다른 구성 요소들에 연결될 수 있다. 실시예에 따라서, 프로세서(410)는 주변 구성요소 상호연결(Peripheral Component Interconnect; PCI) 버스와 같은 확장 버스에도 연결될 수 있다.The processor 410 may perform certain calculations or tasks. According to an embodiment, the processor 410 may be a microprocessor, a central processing unit (CPU), or the like. The processor 410 may be coupled to other components via an address bus, a control bus, and a data bus. In accordance with an embodiment, the processor 410 may also be coupled to an expansion bus, such as a Peripheral Component Interconnect (PCI) bus.

메모리 장치(420)는 전자 기기(400)의 동작에 필요한 데이터들을 저장할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(420)는 EPROM(Erasable Programmable Read-Only Memory), EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory), 플래시 메모리(Flash Memory), PRAM(Phase Change Random Access Memory), RRAM(Resistance Random Access Memory), NFGM(Nano Floating Gate Memory), PoRAM(Polymer Random Access Memory), MRAM(Magnetic Random Access Memory), FRAM(Ferroelectric Random Access Memory) 등과 같은 비휘발성 메모리 장치 및/또는 DRAM(Dynamic Random Access Memory), SRAM(Static Random Access Memory), 모바일 DRAM 등과 같은 휘발성 메모리 장치를 포함할 수 있다.The memory device 420 may store data necessary for operation of the electronic device 400. [ For example, the memory device 420 may be an erasable programmable read-only memory (EPROM), an electrically erasable programmable read-only memory (EEPROM), a flash memory, a phase change random access memory (PRAM) Volatile memory devices such as a random access memory (RAM), a nano floating gate memory (NFGM), a polymer random access memory (PoRAM), a magnetic random access memory (MRAM), a ferroelectric random access memory (FRAM) Memory, a static random access memory (SRAM), a mobile DRAM, and the like.

저장 장치(430)는 솔리드 스테이트 드라이브(Solid State Drive; SSD), 하드 디스크 드라이브(Hard Disk Drive; HDD), 씨디롬(CD-ROM) 등을 포함할 수 있다. 입출력 장치(440)는 키보드, 키패드, 터치패드, 터치스크린, 마우스 등과 같은 입력 수단, 및 스피커, 프린터 등과 같은 출력 수단을 포함할 수 있다. 파워 서플라이(450)는 전자 기기(400)의 동작에 필요한 파워를 공급할 수 있다.The storage device 430 may include a solid state drive (SSD), a hard disk drive (HDD), a CD-ROM, and the like. The input / output device 440 may include input means such as a keyboard, a keypad, a touch pad, a touch screen, a mouse and the like, and output means such as a speaker, a printer and the like. The power supply 450 can supply the power necessary for the operation of the electronic device 400.

유기 발광 표시 장치(460)는 도 7의 유기 발광 표시 장치(300)일 수 있으며 도 1b에 도시된 표시 패널을 포함할 수 있다. 따라서 유기 발광 표시 장치(460)는 실링 부재와 기판의 결합력 향상으로 기판의 박리 불량을 방지할 수 있고, 유기 발광 표시 장치의 성능이 장기간 동안 유지되어 수명이 연장될 수 있다.The organic light emitting display device 460 may be the organic light emitting display device 300 of FIG. 7 and may include the display panel shown in FIG. 1B. Therefore, the organic light emitting diode display 460 can prevent the peeling failure of the substrate by improving the bonding force between the sealing member and the substrate, and the performance of the organic light emitting display device can be maintained for a long period of time.

이상, 본 발명의 실시예들에 따른 표시 패널 및 이를 포함하는 유기 발광 표시 장치에 대하여 도면을 참조하여 설명하였지만, 상기 설명은 예시적인 것으로서 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 수정 및 변경될 수 있을 것이다. 예를 들어, 상기에서는 스캔 구동부 및 데이터 구동부가 표시 패널의 실링부 외부에 형성된 것으로 설명하였으나, 표시 패널의 구조는 이에 한정되는 것이 아니다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. It will be appreciated by those skilled in For example, in the above description, the scan driver and the data driver are formed outside the sealing portion of the display panel, but the structure of the display panel is not limited thereto.

본 발명은 유기 발광 표시 장치를 구비한 전자 기기에 다양하게 적용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명은 컴퓨터, 노트북, 디지털 카메라, 비디오 캠코더, 휴대폰, 스마트폰, 스마트패드, 피엠피(PMP), 피디에이(PDA), MP3 플레이어, 차량용 네비게이션, 비디오폰, 감시 시스템, 추적 시스템, 동작 감지 시스템, 이미지 안정화 시스템 등에 적용될 수 있다.The present invention can be variously applied to an electronic apparatus having an organic light emitting display. For example, the present invention may be applied to a computer, a notebook, a digital camera, a video camcorder, a mobile phone, a smart phone, a smart pad, a PMP, a PDA, an MP3 player, A motion detection system, an image stabilization system, and the like.

상기에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. You will understand.

110 : 제 1 기판 120 : 실링 하부층
132 : 제 1 절연층 136 : 제 1 금속층
138 : 제 2 절연층 160 : 그물형 금속층
162 : 제 2 금속층 164 : 제 3 금속층
180 : 실링 부재 190 : 제 2 기판
110: first substrate 120: sealing lower layer
132: first insulating layer 136: first metal layer
138: second insulating layer 160: net-like metal layer
162: second metal layer 164: third metal layer
180: sealing member 190: second substrate

Claims (20)

제 1 기판;
상기 제 1 기판에 대향하여 위치하는 제 2 기판;
복수의 화소들을 포함하는 표시부의 외측에 위치하고, 상기 제 1 기판 상에 형성된 실링 하부층; 및
상기 실링 하부층과 상기 제 2 기판 사이에 개재되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 서로 접착하는 실링 부재를 포함하고,
상기 실링 하부층은 그물형(mesh) 구조를 갖는 그물형 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
A first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A sealing lower layer located on the outside of the display portion including a plurality of pixels and formed on the first substrate; And
And a sealing member interposed between the sealing lower layer and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate to each other,
Wherein the sealing lower layer comprises a net-like metal layer having a mesh structure.
제 1 항에 있어서, 상기 실링 하부층은,
상기 제 1 기판 상에 형성된 제 1 절연층;
상기 표시부에 형성된 게이트 전극과 동일한 물질로 구성되고, 상기 제 1 절연층 상에 형성된 제 1 금속층; 및
상기 제 1 금속층 상에 형성된 제 2 절연층을 더 포함하고,
상기 그물형 금속층은 상기 제 2 절연층 상에 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널.
The method of claim 1,
A first insulating layer formed on the first substrate;
A first metal layer formed of the same material as the gate electrode formed on the display portion, the first metal layer formed on the first insulating layer; And
And a second insulating layer formed on the first metal layer,
And the net-like metal layer is formed on the second insulating layer.
제 2 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은,
상기 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층; 및
상기 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성되고, 상기 제 2 금속층 상에 형성된 제 3 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the net-
A second metal layer made of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion; And
And a third metal layer formed on the second metal layer, the third metal layer being made of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display unit.
제 2 항에 있어서, 상기 그물형 금속층의 적어도 일부는 상기 제 1 금속층과 연결되는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 2, wherein at least a part of the mesh-type metal layer is connected to the first metal layer. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 절연층, 상기 제 1 금속층, 및 상기 제 2 절연층 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 2, wherein at least a part of each of the first insulating layer, the first metal layer, and the second insulating layer has a net-like structure. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 절연층, 상기 제 1 금속층, 상기 제 2 절연층, 및 상기 그물형 금속층 간에 단차가 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 2, wherein a step is formed between the first insulating layer, the first metal layer, the second insulating layer, and the net-like metal layer. 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 금속층은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표시 패널.
3. The method of claim 2,
The first metal layer may be formed of at least one selected from the group consisting of Al, Mo, Cr, W, Cu, Au, Ag, Wherein the first electrode and the second electrode are formed of a metal.
제 2 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은 상기 제 1 금속층의 가장자리로부터 100㎛ 내지 150㎛의 거리를 두고 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 2, wherein the mesh-type metal layer is formed at a distance of 100 to 150 탆 from the edge of the first metal layer. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 절연층은 상기 표시부에 형성된 버퍼층 및 게이트 절연막과 각각 동일한 물질로 구성된 복수의 층들을 포함하는 다중층 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 2, wherein the first insulating layer has a multilayer structure including a plurality of layers each made of the same material as the buffer layer and the gate insulating layer formed on the display portion. 제 1 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은 선폭이 3㎛ 내지 10㎛인 그물형 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 1, wherein the net-like metal layer has a net-like structure having a line width of 3 to 10 mu m. 제 1 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은 선간 거리가 3㎛ 내지 10㎛인 그물형 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 1, wherein the net-like metal layer has a net-like structure having a line-to-line distance of 3 占 퐉 to 10 占 퐉. 제 1 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은 상기 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 1, wherein the net-like metal layer includes a second metal layer made of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion. 제 12 항에 있어서, 상기 제 2 금속층은 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표시 패널.13. The method of claim 12, wherein the second metal layer comprises at least one of Al, Mo, Cr, W, Cu, Au, Ag, Ni, , And an alloy formed from a combination thereof. 제 12 항에 있어서, 상기 제 2 금속층의 두께는 0.3㎛ 내지 0.7㎛인 것을 특징으로 하는 표시 패널.13. The display panel according to claim 12, wherein the thickness of the second metal layer is 0.3 mu m to 0.7 mu m. 제 1 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은 상기 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성된 제 3 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 1, wherein the net-like metal layer comprises a third metal layer made of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display portion. 제 15 항에 있어서, 상기 제 3 금속층은 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 은(Ag), 및 이들의 조합으로부터 형성되는 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 15, wherein the third metal layer is any one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), silver (Ag), and combinations thereof. 제 15 항에 있어서, 상기 제 3 금속층의 두께는 0.1㎛ 내지 0.5㎛인 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 15, wherein the thickness of the third metal layer is 0.1 탆 to 0.5 탆. 복수의 화소들을 구비하는 표시 패널;
상기 화소들에 스캔 신호를 제공하는 스캔 구동부;
상기 화소들에 데이터 신호를 제공하는 데이터 구동부; 및
상기 스캔 구동부 및 상기 데이터 구동부를 제어하는 타이밍 제어부를 포함하고,
상기 표시 패널은,
제 1 기판;
상기 제 1 기판에 대향하여 위치하는 제 2 기판;
상기 복수의 화소들을 포함하는 표시부의 외측에 위치하고, 상기 제 1 기판 상에 형성된 실링 하부층; 및
상기 실링 하부층과 상기 제 2 기판 사이에 개재되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 서로 접착하는 실링 부재를 포함하고,
상기 실링 하부층은 상기 제 1 기판 상에 형성된 제 1 절연층;
상기 표시부에 형성된 게이트 전극과 동일한 물질로 구성되고, 상기 제 1 절연층 상에 형성된 제 1 금속층;
상기 제 1 금속층 상에 형성된 제 2 절연층; 및
상기 제 2 절연층 상에 형성된 그물형 구조를 갖는 그물형 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 표시 장치.
A display panel having a plurality of pixels;
A scan driver for supplying a scan signal to the pixels;
A data driver for providing a data signal to the pixels; And
And a timing controller for controlling the scan driver and the data driver,
In the display panel,
A first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A sealing lower layer located on the outside of the display portion including the plurality of pixels and formed on the first substrate; And
And a sealing member interposed between the sealing lower layer and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate to each other,
Wherein the lower sealing layer comprises: a first insulating layer formed on the first substrate;
A first metal layer formed of the same material as the gate electrode formed on the display portion, the first metal layer formed on the first insulating layer;
A second insulating layer formed on the first metal layer; And
And a mesh-type metal layer having a net-like structure formed on the second insulating layer.
제 18 항에 있어서, 상기 그물형 금속층은,
상기 표시부에 형성된 소스/드레인 전극과 동일한 물질로 구성된 제 2 금속층; 및
상기 표시부에 형성된 애노드 전극 또는 캐소드 전극과 동일한 물질로 구성되고, 상기 제 2 금속층 상에 형성된 제 3 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 표시 장치.
19. The method of claim 18, wherein the net-
A second metal layer made of the same material as the source / drain electrodes formed on the display portion; And
And a third metal layer formed on the second metal layer, the third metal layer being made of the same material as the anode electrode or the cathode electrode formed on the display unit.
제 18 항에 있어서, 상기 제 1 절연층, 상기 제 1 금속층, 및 상기 제 2 연층 각각의 적어도 일부는 그물형 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 유기 발광 표시 장치.The organic light emitting diode display according to claim 18, wherein at least a part of each of the first insulating layer, the first metal layer, and the second semiconductor layer has a mesh structure.
KR1020130105288A 2013-09-03 2013-09-03 Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same KR102126714B1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130105288A KR102126714B1 (en) 2013-09-03 2013-09-03 Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same
US14/284,191 US9349983B2 (en) 2013-09-03 2014-05-21 Display panel and organic light emitting display device comprising the same
CN201410397514.5A CN104425762B (en) 2013-09-03 2014-08-13 Display panel and organic light-emitting display device including the display panel
TW103128008A TWI674670B (en) 2013-09-03 2014-08-15 Display panel
US15/132,161 US9741783B2 (en) 2013-09-03 2016-04-18 Display panel and organic light emitting display device comprising the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130105288A KR102126714B1 (en) 2013-09-03 2013-09-03 Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150026441A true KR20150026441A (en) 2015-03-11
KR102126714B1 KR102126714B1 (en) 2020-06-26

Family

ID=52581866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130105288A KR102126714B1 (en) 2013-09-03 2013-09-03 Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same

Country Status (4)

Country Link
US (2) US9349983B2 (en)
KR (1) KR102126714B1 (en)
CN (1) CN104425762B (en)
TW (1) TWI674670B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10825885B2 (en) 2018-10-05 2020-11-03 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus having a common power supply wiring in the peripheral
US11552152B2 (en) 2018-01-23 2023-01-10 Samsung Display Co., Ltd. Display device including a power supply voltage wiring having openings

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102126714B1 (en) * 2013-09-03 2020-06-26 삼성디스플레이 주식회사 Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same
KR102399574B1 (en) 2015-04-03 2022-05-19 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display apparatus
KR102403001B1 (en) * 2015-07-13 2022-05-30 삼성디스플레이 주식회사 Organic light-emitting display apparatus and manufacturing the same
CN105185810A (en) 2015-08-07 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate and manufacturing method, display panel and display apparatus
KR102439308B1 (en) * 2015-10-06 2022-09-02 삼성디스플레이 주식회사 Display apparutus
JP6552977B2 (en) * 2016-02-08 2019-07-31 タイガースポリマー株式会社 Elastic sheet for sealing device and method of manufacturing the same
CN205582942U (en) * 2016-03-11 2016-09-14 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 Substrate and display device
KR102568631B1 (en) * 2016-04-15 2023-08-21 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting diode display device
CN107768533B (en) * 2016-08-18 2020-02-21 上海和辉光电有限公司 AMOLED packaging structure and method
KR20180069975A (en) * 2016-12-15 2018-06-26 엘지디스플레이 주식회사 Display Device
CN107046104A (en) * 2017-01-10 2017-08-15 广东欧珀移动通信有限公司 OLED encapsulating structures and preparation method thereof
CN106876606A (en) * 2017-03-16 2017-06-20 京东方科技集团股份有限公司 Display panel and display device
CN107492599A (en) * 2017-08-10 2017-12-19 京东方科技集团股份有限公司 Organic light-emitting diode packaging structure and its manufacture method
CN108598284B (en) * 2018-05-14 2020-02-14 昆山国显光电有限公司 Display panel, display panel preparation method and display device
CN109243305B (en) * 2018-09-17 2021-10-12 京东方科技集团股份有限公司 Display panel, display device, and method for manufacturing display panel
CN109524566B (en) * 2018-11-28 2021-05-14 武汉天马微电子有限公司 Display panel and display device
CN115280510A (en) * 2021-02-26 2022-11-01 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate, manufacturing method thereof and display device
CN113393761B (en) * 2021-06-04 2022-09-23 昆山国显光电有限公司 Display module and display device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050082260A (en) * 2004-02-18 2005-08-23 삼성에스디아이 주식회사 Flat display device
KR20110041321A (en) * 2009-10-15 2011-04-21 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating for dual panel type organic electro-luminescent device

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100466627B1 (en) * 2001-02-27 2005-01-15 삼성에스디아이 주식회사 Multi display device
US7049051B2 (en) * 2003-01-23 2006-05-23 Akustica, Inc. Process for forming and acoustically connecting structures on a substrate
JP2004265837A (en) * 2003-03-04 2004-09-24 Seiko Epson Corp Display panel and electronic equipment equipped with its display panel, as well as manufacturing method of display panel and electronic equipment equipped with its display panel
US7221096B2 (en) * 2005-05-03 2007-05-22 Lg.Philips Lcd Co., Ltd Active matrix organic light emitting display panel
US7569926B2 (en) * 2005-08-26 2009-08-04 Innovative Micro Technology Wafer level hermetic bond using metal alloy with raised feature
KR100688792B1 (en) 2006-01-27 2007-03-02 삼성에스디아이 주식회사 Flat panel display and method of the same
US7462931B2 (en) * 2006-05-15 2008-12-09 Innovative Micro Technology Indented structure for encapsulated devices and method of manufacture
JP2010080341A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Toshiba Mobile Display Co Ltd Display
KR101587097B1 (en) 2009-09-30 2016-01-21 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating for dual panel type organic electro-luminescent device
KR101664182B1 (en) 2010-04-27 2016-10-10 엘지디스플레이 주식회사 Organic electro-luminescent device
KR20120044654A (en) 2010-10-28 2012-05-08 삼성모바일디스플레이주식회사 Display device, manufacturing method of the display device, organic light emitting diode display
KR101769068B1 (en) 2010-12-14 2017-08-18 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting diode display
KR101813906B1 (en) * 2011-03-15 2018-01-03 삼성디스플레이 주식회사 Display panel
US8975105B2 (en) * 2011-06-20 2015-03-10 Raytheon Company Hermetically sealed wafer packages
KR102126714B1 (en) * 2013-09-03 2020-06-26 삼성디스플레이 주식회사 Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050082260A (en) * 2004-02-18 2005-08-23 삼성에스디아이 주식회사 Flat display device
KR20110041321A (en) * 2009-10-15 2011-04-21 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating for dual panel type organic electro-luminescent device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11552152B2 (en) 2018-01-23 2023-01-10 Samsung Display Co., Ltd. Display device including a power supply voltage wiring having openings
US10825885B2 (en) 2018-10-05 2020-11-03 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus having a common power supply wiring in the peripheral

Also Published As

Publication number Publication date
CN104425762A (en) 2015-03-18
TW201523863A (en) 2015-06-16
TWI674670B (en) 2019-10-11
US9741783B2 (en) 2017-08-22
CN104425762B (en) 2018-08-24
US20150060789A1 (en) 2015-03-05
US20160233290A1 (en) 2016-08-11
US9349983B2 (en) 2016-05-24
KR102126714B1 (en) 2020-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102126714B1 (en) Display panel and organic light emitting display apparatus comprising the same
JP7376635B2 (en) display device
KR102514449B1 (en) Display device
US9991465B2 (en) Display device having crack prevention portion
US9299750B2 (en) Organic light emitting diode display device including touch panel
KR102543688B1 (en) Display device and manufacturing method of display device
CN107819006B (en) Display device
JP2018205744A (en) Organic light-emitting display device having touchscreen and method of manufacturing the same
US10741612B2 (en) Display device and method for manufacturing the same
KR102267602B1 (en) Organic light emitting display device and manufacturing method of the same
US10824198B2 (en) Function panel, manufacturing method thereof and display device
KR20110024552A (en) Display device
KR20220031889A (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
CN113540180A (en) Display device
US9450203B2 (en) Organic light-emitting diode display with glass encapsulation and peripheral welded plastic seal
KR102230692B1 (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
US20180045994A1 (en) Liquid crystal display
KR20210080811A (en) Organic light emitting display device
CN113035908A (en) Organic light emitting display device
KR102319829B1 (en) Organic light emitting display device
JP6454250B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
KR102621564B1 (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
KR102652441B1 (en) Organic light emitting display device
KR20240029650A (en) Display device
KR20220105208A (en) Display device and method of manufacturing for the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)