KR20140073238A

KR20140073238A - Micro electro mechanical systems device and apparatus for compensating tremble

Info

Publication number: KR20140073238A
Application number: KR1020120141240A
Authority: KR
Inventors: 고용준; 서정기; 이종현; 문승환
Original assignee: 엘지이노텍 주식회사; 광주과학기술원
Priority date: 2012-12-06
Filing date: 2012-12-06
Publication date: 2014-06-16
Also published as: KR102029783B1

Abstract

The present invention provides a MEMS device including a fixed substrate; a first driver relatively moved in a first direction with regard to the fixed substrate; a second driver relatively moved in a second direction different from the first direction with regard to the first driver; and an elastic part electrically and physically connecting the fixed substrate and the first driver. The elastic part delivers different voltages to the first driver through a plurality of insulated springs. Therefore, it is advantageous in image stabilization by being moved in the first direction and the second direction with regard to the substrate. Also, the driver can be firmly fixed by using a double folded spring. The number of power supply sources for operation in two direction can be reduced by separating a portion of the double folded spring and applying different voltages.

Description

BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a MEMS device,

실시예는 멤스 소자 및 흔들림 보정 장치에 관한 것이다.An embodiment relates to a MEMS element and a shake correction apparatus.

CCD(Charge Coupled Device) 센서와 CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 센서는 동영상 및 정지영상을 촬영하는 2차원 센서의 일종이며 전자식 카메라를 구성하는데 핵심적인 역할을 하고 있다. 특히 CCD센서는 화질면에서 CMOS 센서 보다 우수한 특성을 내나, 소모 전력 및 복잡한 구성의 단점 때문에 CMOS 영상센서가 그 시장의 점유율을 높여 가고 있으며 최근에 와서는 CMOS 센서도 화질면에서도 개선이 따르고 있다. 이러한 이미지 센서들이 발달하면서 디지털 카메라의 사용이 일반화되고, 셀룰러 폰(cellular phone)과 같은 휴대용 단말기에도 카메라 장치가 설치되기에 이르렀다.Charge Coupled Device (CCD) and Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) sensors are two-dimensional sensors that capture moving images and still images and play a key role in the construction of electronic cameras. Especially, CCD sensor has better characteristics than CMOS sensor in image quality, but CMOS image sensor is increasing its market share due to power consumption and complicated configuration. Recently, CMOS sensor has also improved in image quality. As these image sensors have developed, the use of digital cameras has become common, and camera devices have also been installed in portable terminals such as cellular phones.

상기한 이미지 센서들을 이용한 일반적인 동영상뿐만 아니라 정지 영상 촬영 카메라에 있어서 카메라의 외부적인 요소에 의한 떨림, 즉 손떨림 혹은 차량 탑재등에 의한 진동에 의하여 불안정하게 떨리는 영상이 촬영되는 경우가 많다. 이러한 불안정한 영상을 해소하기 위하여 그 움직임을 보상하는 장치 등이 제안되었다. 이러한 움직임 안정화 장치는 움직임 검출부와 움직임 보정 부분으로 나누어진다. 움직임 검출부는 자이로 센서(Gyro Sensor) 등에 의한 기구의 움직임을 예측하는 방법과 영상 신호처리에 의하여 영상의 움직임 부분을 매 프레임 검출하는 방법이 제안되고 사용된다. 또한, 검출된 움직임 정보를 굴절 가능한 렌즈(액티브 프리즘)를 사용하여 입사광을 임의로 굴절시키거나 이미지 센서의 입력 위치를 제어함으로써 불안정한 영상을 해소하고 선명한 영상을 얻게 된다.In many cases, unstable images are captured not only by a general moving image using the above-described image sensors but also by a shaking caused by an external element of the camera in a still image photographing camera, that is, a vibration caused by camera shake or vehicle mounting. And a device for compensating for such unstable images has been proposed. Such a motion stabilization apparatus is divided into a motion detection section and a motion correction section. A motion detection unit is proposed and used for a method of predicting a motion of a mechanism by a gyro sensor or the like, and a method of detecting every frame of a motion part of an image by a video signal processing. In addition, by using the lens (active prism) capable of refracting the detected motion information, the incident light is arbitrarily refracted or the input position of the image sensor is controlled, thereby eliminating the unstable image and obtaining a clear image.

이러한 카메라의 움직임에 따른 불안정한 영상 해소를 위하여 보이스 코일 모터(voice coil motor)를 이용하여 렌즈를 구동시키는 기술이 미국 등록특허 제5,398,132호(1995. 3. 14)에 개시되고 있다. 개시된 영상 안정화 장치는 보정 렌즈의 일측에 피치 코일(pitch coil)과 피치 요크(pitch yoke)를 설치하여 제1 방향으로 보정 렌즈를 구동시키고, 타측에 요 코일(yaw coil)과 요 요크(yaw yoke)를 설치하여 제1 방향에 수직하는 제2 방향으로 보정 렌즈를 구동시키는 구성이다. 즉, 카메라의 움직임에 따라 보정 렌즈를 구동시켜 광축을 원래의 위치로 복귀시킴으로써 영상을 안정화시키는 것이다.A technique for driving a lens using a voice coil motor is disclosed in U.S. Patent No. 5,398,132 (March 14, 1995) to solve unstable images caused by camera movement. The disclosed image stabilization apparatus includes a pitch coil and a pitch yoke at one side of a correction lens to drive a correction lens in a first direction and a yaw coil and a yaw yoke Is provided to drive the correction lens in a second direction perpendicular to the first direction. That is, the image is stabilized by driving the correction lens according to the movement of the camera to restore the optical axis to the original position.

그러나, 최근에는 랩탑(lap-top) 컴퓨터, 휴대 전화 등 휴대용 단말기들에 카메라 장치가 장착되어 휴대용 단말기의 기능 확장에 기여하고 있으나, 사용자의 손떨림 등에 의한 영상을 보정하기 위한 장치들은 휴대용 단말기의 소형, 경량화에 장애가 되고 있다.However, in recent years, a camera device has been installed in portable terminals such as a lap-top computer and a mobile phone, thereby contributing to the expansion of functions of the portable terminal. However, devices for correcting the image due to user's hand- , Which is an obstacle to weight reduction.

실시예는 향상된 신뢰성 및 내구성을 가지고, 효과적으로 흔들림 및 떨림을 보정하는 멤스 소자 및 흔들림 보정 장치를 제공하고자 한다.Embodiments provide a MEMS element and a shake correction apparatus that have improved reliability and durability and effectively correct shaking and tremble.

실시예는 고정기판, 상기 고정기판에 대하여 제1 방향으로 상대 이동되는 제1 구동부, 상기 제1 구동부에 대하여 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 상대 이동되는 제2 구동부, 그리고 상기 고정기판과 상기 제1 구동부를 물리적 전기적으로 연결하는 탄성부를 포함하고, 상기 탄성부는 서로 절연되어 있는 복수의 스프링을 통하여 서로 다른 전압을 상기 제1 구동부에 전달하는 멤스 소자를 제공한다.An embodiment of the present invention provides a liquid crystal display device including a fixed substrate, a first driving unit that moves relative to the fixed substrate in a first direction, a second driving unit that moves relative to the first driving unit in a second direction different from the first direction, And an elastic part physically and electrically connecting the first driving part, wherein the elastic part transmits different voltages to the first driving part through a plurality of insulated springs.

한편, 실시예는 고정기판, 상기 고정기판에 대하여 제1 방향으로 상대 이동되는 제1 구동부, 상기 제1 구동부에 대하여 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 상대 이동되는 제2 구동부, 상기 제2 구동부 내에 배치되는 광학 소자, 그리고 상기 고정기판과 상기 제1 구동부를 물리적 전기적으로 연결하는 탄성부를 포함하고, 상기 탄성부는 서로 절연되어 있는 복수의 스프링을 통하여 서로 다른 전압을 상기 제1 구동부에 전달하는 흔들림 보정 장치를 제공한다.On the other hand, an embodiment includes a fixed substrate, a first driving unit that moves relative to the fixed substrate in a first direction, a second driving unit that moves relative to the first driving unit in a second direction different from the first direction, And an elastic part physically and electrically connecting the fixed substrate and the first driving part, wherein the elastic part transmits different voltages to the first driving part through a plurality of insulated springs A shake correction device is provided.

실시예에 따른 멤스 소자는 기판에 대해서 제1 방향 및 제2 방향으로 이동할 수 있어 흔들림 보정에 유리하다. 또한, 더블 폴디드 스프링을 사용함으로써 구동부가 견고하게 고정될 수 있다.The MEMS device according to the embodiment can move in the first direction and the second direction with respect to the substrate, which is advantageous for the sway correction. Further, by using the double folded spring, the driving portion can be firmly fixed.

그리고 더블 폴디스 스프링의 일부를 분리하여 서로 다른 전압을 인가함으로써, 두 방향으로 동작을 위한 전원 공급원의 수효를 줄일 수 있다.By separating a portion of the double pole dis springs and applying different voltages, the number of power sources for operation in both directions can be reduced.

실시예에 따른 멤스 소자가 구비된 카메라 등의 흔들림이 보정될 수 있다. 즉, 실시예에 따른 멤스 소자는 손떨림 등을 보정할 수 있다.The shaking of the camera or the like provided with the MEMS element according to the embodiment can be corrected. That is, the MEMS device according to the embodiment can correct hand shake or the like.

도 1은 실시예에 따른 흔들림 보정 장치의 상면도이다.
도 2는 도 1의 단면도이다.
도 3은 도 1의 사시도이다.
도 4 내지 도 8은 도 1의 구성 요소별 확대도이다.
도 9는 도 1의 흔들림 보정 장치의 전압을 나타내는 상태도이다.
도 10 내지 도 13은 도 1의 흔들림 보정 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 14는 실시예에 따른 흔들림 보정 장치가 적용되는 카메라 모듈의 단면도이다.
도 15는 도 14의 렌즈부의 분해사시도이다.1 is a top view of a shake correction apparatus according to an embodiment.
2 is a cross-sectional view of Fig.
3 is a perspective view of FIG.
4 to 8 are enlarged views of the components of Fig.
9 is a state diagram showing the voltage of the shake correction apparatus of Fig.
Figs. 10 to 13 are sectional views for explaining a manufacturing method of the shake correction apparatus of Fig. 1. Fig.
14 is a sectional view of a camera module to which the shake correction apparatus according to the embodiment is applied.
15 is an exploded perspective view of the lens unit of Fig.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

본 발명은 흔들림 보정 기능을 가지는 멤스 소자를 제공한다.The present invention provides a MEMS element having a shake correction function.

이하에서는 도 1 내지 도 8을 참고하여 본 발명의 실시예에 따른 흔들림 보정 장치를 설명한다. Hereinafter, a shake correction apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. FIG.

도 1은 실시예에 따른 흔들림 보정 장치의 상면도이고, 도 2는 도 1의 단면도이고, 도 3은 도 1의 사시도이고, 도 4 내지 도 8은 도 1의 구성 요소별 확대도이다.FIG. 1 is a top view of the shake correction apparatus according to the embodiment, FIG. 2 is a sectional view of FIG. 1, FIG. 3 is a perspective view of FIG. 1, and FIGS. 4 to 8 are enlarged views of the components of FIG.

도 1을 참고하면, 실시예에 따른 흔들림 보정 장치는 고정 기판(110), 외부 구동부(120), 내부 구동부(130) 및 복수의 탄성부(300, 310, 320, 330)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the shake correction apparatus includes a fixed substrate 110, an external driving unit 120, an internal driving unit 130, and a plurality of elastic units 300, 310, 320, and 330.

상기 고정 기판(110)은 외부 구동부(120), 내부 구동부(130) 및 복수의 탄성부(300, 310, 320, 330)를 지지한다.The fixed substrate 110 supports the external driving part 120, the internal driving part 130 and the plurality of elastic parts 300, 310, 320 and 330.

상기 고정 기판(110)은 플레이트 형상을 가지며, 사각형의 프레임 형상을 가질 수 있다. 이러한 고정 기판(110)은 정사각형일 수 있으며, 6mm·6mm의 면적을 가질 수 있다.The fixed substrate 110 has a plate shape and a rectangular frame shape. The fixed substrate 110 may be square, and may have an area of 6 mm · 6 mm.

상기 고정 기판(110)은 복수의 층상 구조를 가지며, 도 2와 같이 지지 기판(400), 지지 기판(400) 위에 절연층(200) 및 상기 절연층(200) 위에 전극층으로 형성되어 있다.The fixed substrate 110 has a plurality of layered structures and is formed as an electrode layer on the insulating layer 200 and the insulating layer 200 on the supporting substrate 400 and the supporting substrate 400 as shown in FIG.

상기 지지 기판(400)은 실리콘 기판, 유리기판 또는 폴리머 기판일 수 있다.The supporting substrate 400 may be a silicon substrate, a glass substrate, or a polymer substrate.

상기 지지 기판(400)은 300 내지 500μm의 두께를 가지며, 바람직하게는 400μm의 두께를 가질 수 있다. The support substrate 400 has a thickness of 300 to 500 mu m, and preferably 400 mu m.

상기 지지 기판(400) 위에 절연층(200)이 형성되어 있다.An insulating layer 200 is formed on the supporting substrate 400.

상기 절연층(200)은 상기 지지 기판(400)이 실리콘 기판일 경우, 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막으로 형성될 수 있으며, 1.5μm 내외의 두께를 가질 수 있다.When the supporting substrate 400 is a silicon substrate, the insulating layer 200 may be formed of a silicon oxide film or a silicon nitride film, and may have a thickness of about 1.5 μm.

상기 절연층(200) 위에 전극층이 형성되어 있다.An electrode layer is formed on the insulating layer 200.

즉, 상기 고정 기판(110)은 전극층을 패터닝하여 사각형의 각 변을 따라 배치되어 있으며, 서로 분리되어 있는 복수의 전극(111, 113, 114, 116)을 포함한다.That is, the fixed substrate 110 includes a plurality of electrodes 111, 113, 114, and 116 which are arranged along the respective sides of a square by patterning the electrode layers and are separated from each other.

복수의 전극(111, 113, 114, 116)은 실리콘, 구리, 알루미늄, 몰리브덴, 텅스텐 등의 전도성 물질일 수 있으며, 바람직하게는 지지 기판(400)이 실리콘 기판인 경우, 실리콘으로 형성될 수 있다. 상기 전극(111, 113, 114, 116)은 40 내지 60 μm의 두께를 가지며, 바람직하게는 50 μm 내외의 두께를 가질 수 있다.The plurality of electrodes 111, 113, 114 and 116 may be a conductive material such as silicon, copper, aluminum, molybdenum, or tungsten, and may be formed of silicon when the supporting substrate 400 is a silicon substrate . The electrodes 111, 113, 114, and 116 have a thickness of 40 to 60 μm, and preferably about 50 μm.

상기 전극(111, 113, 114, 116)은 y축으로 연장되어 있는 제1 전극(111) 및 제1 전극(111)과 평행하게 배치되어 있는 제2 전극(116), y축과 수직한 x축으로 연장되어 있는 제3 전극(113) 및 제3 전극(113)과 평행하게 배치되어 있는 제4 전극(114)을 포함한다.The electrodes 111, 113, 114 and 116 include a first electrode 111 extending in the y axis and a second electrode 116 arranged in parallel with the first electrode 111, And a fourth electrode 114 disposed in parallel with the third electrode 113 and the third electrode 113 extending axially.

제1 전극(111) 및 제2 전극(116)은 외부로 향하는 제1 장변 및 내부로 향하는 제2 장변을 포함하고, 제2 장변에 외부 구동부(120)를 향하여 복수의 구동편(112, 117)이 형성되어 있다.The first electrode 111 and the second electrode 116 include a first long side facing the outside and a second long side facing toward the inside and a plurality of driving pieces 112 and 117 Is formed.

상기 구동편(112, 117)은 일정한 거리로 이격되어 있는 복수의 돌출부를 포함하며, 상기 복수의 돌출부는 빗살(comb) 형상을 가진다.The driving pieces 112 and 117 include a plurality of protrusions spaced apart by a predetermined distance, and the plurality of protrusions have a comb shape.

제3 및 제4 전극(113, 114)은 도 1 내지 도 2와 같이 x축 방향으로 서로 이격되어 있는 두 개의 전극편(113a, 113b, 114a, 114b)을 포함한다.The third and fourth electrodes 113 and 114 include two electrode pieces 113a, 113b, 114a and 114b which are spaced apart from each other in the x-axis direction as shown in Figs.

즉, 제3 전극(113)은 제2 전극(116)과 이웃하는 제1 전극편(113a) 및 제1 전극편(113a)과 제1 전극(111) 사이에 배치되는 제2 전극편(113b)을 포함한다.That is, the third electrode 113 includes a first electrode piece 113a adjacent to the second electrode 116, a second electrode piece 113b disposed between the first electrode piece 113a and the first electrode 111, ).

상기 제1 전극편(113a)과 제2 전극편(113b)은 제3 전극(113)의 중앙에서 분리되어 이격홀(113c)을 형성한다. The first electrode piece 113a and the second electrode piece 113b are separated from the center of the third electrode 113 to form a spacing hole 113c.

한편, 제4 전극(114)은 제2 전극(116)과 이웃하는 제1 전극편(114a) 및 제1 전극편(114a)과 제1 전극(111) 사이에 배치되는 제2 전극편(114b)을 포함한다.The fourth electrode 114 includes a first electrode piece 114a and a first electrode piece 114a adjacent to the second electrode 116 and a second electrode piece 114b disposed between the first electrode 111 and the first electrode piece 114a. ).

상기 제1 전극편(114a)과 제2 전극편(114b)은 제4 전극(114)의 중앙에서 분리되어 이격홀(114c)을 형성한다. The first electrode piece 114a and the second electrode piece 114b are separated from the center of the fourth electrode 114 to form a spacing hole 114c.

제3 전극(113) 및 제4 전극(114)의 이격홀(113c, 114c)은 서로 마주보도록 형성될 수 있다.The spacing holes 113c and 114c of the third electrode 113 and the fourth electrode 114 may be formed to face each other.

이러한 이격홀(113c, 114c)은 제3 전극(113) 및 제4 전극(114)의 각 전극편(113a, 113b, 114a, 114b)을 전기적으로 분리하며, 제1 내지 제4 전극(111, 116, 113, 114)의 경계인 모서리 영역에도 형성되어 있다. 상기 이격홀(113c, 114c)에 의해 전극층 하부의 절연층(200)이 노출될 수 있다. These spacing holes 113c and 114c electrically isolate the respective electrode pieces 113a, 113b, 114a and 114b of the third electrode 113 and the fourth electrode 114 and electrically connect the first to fourth electrodes 111, 116, 113, and 114, respectively. The insulating layer 200 under the electrode layer can be exposed by the spacing holes 113c and 114c.

이와 같이 고정 기판(110)은 제1 내지 제4 전극(111, 116, 113, 114)이 전기적으로는 절연되어 있으나 물리적으로는 절연층(200) 및 지지기판(400)에 의해 연결되어 폐루프 상태인 프레임을 형성하며, 내부에 개구부를 형성한다.Although the first to fourth electrodes 111, 116, 113 and 114 are electrically insulated from each other, the fixed substrate 110 is physically connected by the insulating layer 200 and the supporting substrate 400, And forms an opening in the inside.

한편, 상기 고정 기판(110)의 내부에 형성되어 있는 개구부에 외부 구동부(120) 및 내부 구동부(130)가 배치되어 있다.The external driving unit 120 and the internal driving unit 130 are disposed in the opening formed in the fixed substrate 110.

외부 구동부(120)는 내부에 개구부를 포함하며, 고정 기판(110)의 각각의 전극과 대응되는 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)를 포함한다.The external driving unit 120 includes an opening and includes four driving units 121, 126, 123 and 124 corresponding to the respective electrodes of the fixed substrate 110.

상세하게는, 외부 구동부(120)는 제1 전극(111)과 대응하도록 형성되는 제1 구동부(121), 제2 전극(116)과 대응하도록 형성되는 제2 구동부(126), 제3 전극(113)과 대응하도록 형성되는 제3 구동부(123) 및 제4 전극(114)과 대응하도록 형성되는 제4 구동부(124)를 포함한다.The external driving unit 120 includes a first driving unit 121 formed to correspond to the first electrode 111, a second driving unit 126 formed to correspond to the second electrode 116, And a fourth driving unit 124 formed to correspond to the third driving unit 123 and the fourth electrode 114 formed to correspond to the first and second electrodes 113 and 113, respectively.

제1 구동부(121)는 제1 전극(111)과 대응하여 y축을 따라 연장되어 있는 몸체부(121a)를 가지며, 상기 몸체부(121a)는 고정 기판(110)을 향하는 제1 장변 및 내부 구동부(130)를 향하는 제2 장변을 가진다.The first driving part 121 has a body part 121a extending along the y axis corresponding to the first electrode 111. The body part 121a has a first long side facing the fixed substrate 110, Lt; RTI ID = 0.0 > 130 < / RTI >

상기 제1 장변에는 제1 전극(111)의 구동편(112)과 대응되도록 외부 구동편(122)이 형성되어 있다.An external driving member 122 is formed on the first long side so as to correspond to the driving member 112 of the first electrode 111.

상기 외부 구동편(122)은 일정한 거리로 이격되어 있는 복수의 돌출부를 포함하며, 상기 복수의 돌출부는 빗살(comb) 형상을 가진다.The external driving member 122 includes a plurality of protrusions spaced apart from each other by a predetermined distance, and the plurality of protrusions have a comb shape.

제1 전극(111)의 구동편(112)과 상기 제1 구동부(121)의 외부 구동편(122)은 복수의 돌출부가 서로 이격되어 지그재그로 배치되어 있다. The driving piece 112 of the first electrode 111 and the outer driving piece 122 of the first driving part 121 are arranged in a zigzag manner with a plurality of protrusions being spaced apart from each other.

제1 전극(111)의 구동편(112)과 상기 제1 구동부(121)의 외부 구동편(122)의 돌출부의 길이, 두께 및 형상이 동일하게 형성되어 이격 거리는 동일하다. The length, thickness, and shape of the projecting portions of the driving member 112 of the first electrode 111 and the external driving member 122 of the first driving member 121 are the same, and the spacing distance is the same.

한편, 제2 장변에는 몸체부(121a)를 향하여 오목하게 함몰되어 있는 복수의 함몰부(121b, 121c)가 형성되어 있으며, 구체적으로, 제2 장변의 중앙 영역에 형성되는 제1 함몰부(121b) 및 제1 함몰부(121b)의 양 측면에 균일하게 형성되어 있는 2 개의 제2 함몰부(121c)를 포함한다. On the other hand, on the second long side, a plurality of depressions 121b and 121c recessed toward the body portion 121a are formed. Specifically, the first depressions 121b formed in the central region of the second long side And two second depressions 121c uniformly formed on both sides of the first depression 121b.

제1 함몰부(121b)는 이후 설명할 탄성부(330)가 형성되는 영역으로, 함몰된 영역이 사각형을 이루며, 제2 함몰부(121c)는 제1 함몰부(121b)보다 함몰된 깊이가 얕게 형성될 수 있다.The first depressed portion 121b is a region where the elastic portion 330 to be described later is formed and the depressed region has a quadrilateral shape and the second depressed portion 121c has a depressed depth than the first depressed portion 121b It can be formed shallowly.

제2 구동부(126)는 제2 전극(116)과 대응하여 y축을 따라 연장되어 있는 몸체부(126a)를 가지며, 상기 몸체부(126a)는 고정 기판(110)을 향하는 제1 장변 및 내부 구동부(130)를 향하는 제2 장변을 가진다.The second driving part 126 has a body part 126a extending along the y axis corresponding to the second electrode 116. The body part 126a has a first long side facing the fixed substrate 110, Lt; RTI ID = 0.0 > 130 < / RTI >

상기 제1 장변에는 제2 전극(116)의 구동편(117)과 대응되도록 외부 구동편(127)이 형성되어 있다.An external driving member 127 is formed on the first long side to correspond to the driving member 117 of the second electrode 116.

상기 외부 구동편(127)은 일정한 거리로 이격되어 있는 복수의 돌출부를 포함하며, 상기 복수의 돌출부는 빗살(comb) 형상을 가진다.The external driving member 127 includes a plurality of protrusions spaced apart by a predetermined distance, and the plurality of protrusions have a comb shape.

제2 전극(116)의 구동편(117)과 상기 제2 구동부(126)의 외부 구동편(127)은 복수의 돌출부가 서로 이격되어 지그재그로 배치되어 있다. The driving part 117 of the second electrode 116 and the external driving part 127 of the second driving part 126 are arranged in a zigzag manner with a plurality of protrusions being spaced apart from each other.

제2 전극(116)의 구동편(117)과 상기 제2 구동부(126)의 외부 구동편(127)의 돌출부의 길이, 두께 및 형상이 동일하게 형성되어 이격 거리는 동일하다. The lengths, thicknesses, and shapes of the projecting portions of the driving member 117 of the second electrode 116 and the external driving member 127 of the second driving member 126 are the same, and the spacing distance is the same.

한편, 제2 장변에는 몸체부(126a)를 향하여 오목하게 함몰되어 있는 복수의 함몰부(126b, 126c)가 형성되어 있으며, 구체적으로, 제2 장변의 중앙 영역에 형성되는 제1 함몰부(126b) 및 제1 함몰부(126b)의 양 측면에 균일하게 형성되어 있는 2 개의 제2 함몰부(126c)를 포함한다. On the other hand, a plurality of depressions 126b and 126c recessed toward the body portion 126a are formed on the second long side. Specifically, the first depressed portion 126b formed in the central region of the second long side And two second depressions 126c uniformly formed on both sides of the first depression 126b.

제1 함몰부(126b)는 이후 설명할 탄성부(320)가 형성되는 영역으로, 함몰된 영역이 사각형을 이루며, 제2 함몰부(126c)는 제1 함몰부(126b)보다 함몰된 깊이가 얕게 형성될 수 있다.The first depressed portion 126b is a region where the elastic portion 320 to be described later is formed and the depressed region has a quadrilateral shape and the second depressed portion 126c has a depressed depth than the first depressed portion 126b It can be formed shallowly.

이때, 제1 구동부(121)의 단변의 길이와 제2 구동부(126)의 단변의 길이는 서로 다를 수 있다. At this time, the length of the short side of the first driver 121 and the length of the short side of the second driver 126 may be different from each other.

즉, 도 1 내지 도 4와 같이, 제1 구동부(121)의 단변의 길이가 제2 구동부(126)의 단변의 길이보다 짧게 형성될 수 있으며, 제2 구동부(126)는 제2 함몰부(126c)의 양 측면이 비대칭으로 형성되어 단변과 연결되는 측면의 길이가 타 측면의 길이보다 더 길 수 있다.1 to 4, the length of the short side of the first driving unit 121 may be shorter than the length of the short side of the second driving unit 126, and the second driving unit 126 may include a second concave 126c may be formed asymmetrically so that the length of the side connected to the short side may be longer than the length of the other side.

따라서, 제2 구동부(126)는 몸체부(126a)의 양 단에서 수직하게 절곡되어 x축을 따라 연장되는 두 개의 절곡부(126d, 126e)를 포함한다.Accordingly, the second driving portion 126 includes two bending portions 126d and 126e that are bent perpendicularly at both ends of the body portion 126a and extend along the x-axis.

두 개의 절곡부(126d, 126e)는 이후에 설명할 탄성부(300, 310)와의 연결을 수행한다. The two bent portions 126d and 126e perform connection with the elastic portions 300 and 310 to be described later.

한편, 제3 구동부(123) 및 제4 구동부(124)는 도 5와 같이 서로 동일한 형상을 가질 수 있다.The third driving unit 123 and the fourth driving unit 124 may have the same shape as shown in FIG.

즉, 상기 제3 구동부(123) 및 제4 구동부(124)는 제3 전극(113) 및 제4 전극(114)과 각각 대응하도록 x축을 향하여 배치되어 있는 몸체부(123a, 124a)를 포함한다.That is, the third driving unit 123 and the fourth driving unit 124 include body portions 123a and 124a disposed to face the third electrode 113 and the fourth electrode 114, respectively, toward the x-axis .

상기 몸체부(123a, 124a)는 x축을 향하여 길게 연장되어 있는 두 개의 장변을 포함하고, 제1 장변은 제3 및 제4 전극(113, 114)과 각각 대향하고, 제2 장변은 내부 구동부(130)와 대향한다.Each of the body portions 123a and 124a includes two long sides extended toward the x axis. The first long side is opposed to the third and fourth electrodes 113 and 114, and the second long side is connected to the internal driver 130).

상기 제2 장변에는 내부 구동부(130)와 마주하는 내부 구동편(125, 128)이 형성되어 있다. At the second long side, internal driving parts 125 and 128 facing the internal driving part 130 are formed.

제3 및 제4 전극(114)의 내부 구동편(125, 128)은 제2 장변을 따라 일정한 거리로 이격되어 있는 복수의 돌출부를 포함하며, 상기 복수의 돌출부는 빗살(comb) 형상을 가진다.The inner driving pieces 125 and 128 of the third and fourth electrodes 114 include a plurality of protrusions spaced apart from each other by a predetermined distance along the second long side, and the plurality of protrusions have a comb shape.

한편, 제1 장변에는 탄성부(300, 310)를 수용하기 위한 함몰부(123b, 124b)가 형성되어 있으며, 상기 함몰부(123b, 124b)의 양쪽 측면의 길이는 서로 다를 수 있다.On the other hand, depressions 123b and 124b for accommodating the elastic parts 300 and 310 are formed on the first long side, and lengths of both sides of the depressed parts 123b and 124b may be different from each other.

즉, 제2 구동부(126)를 향하는 측면의 길이가 제1 구동부(121)를 향하는 측면의 길이보다 짧을 수 있으며, 이는 제2 구동부(126)의 절곡부(126)가 배치되도록 하기 위함이다.That is, the length of the side surface facing the second driving unit 126 may be shorter than the length of the side surface facing the first driving unit 121, so that the bent portion 126 of the second driving unit 126 is disposed.

한편, 상기 제3 및 제4 구동부(123, 124)의 몸체부(123a, 124a)는 제1 구동부(121)를 향하는 일단변에 상기 제1 구동부(121)의 제2 함몰부(121c)와 대응하는 돌출부(123c, 124c)를 형성할 수 있다.The body portions 123a and 124a of the third and fourth driving portions 123 and 124 are connected to the second depressed portion 121c of the first driving portion 121 at one end side toward the first driving portion 121, Corresponding protrusions 123c and 124c can be formed.

이와 같이 외부 구동부(120)를 이루는 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)는 제1 및 제2 구동부(121, 126)의 외부 구동편(122, 127)이 고정 기판(110)의 구동편(112, 117)과 대응하여 x축 이동을 위한 빗살 전극을 형성하고, 제3 및 제4 구동부(123, 124)의 내부 구동편(125, 128)이 내부 구동부(130)와 대응하여 y축 이동을 위한 빗살 전극을 형성한다.The external driving parts 122 and 127 of the first and second driving parts 121 and 126 are driven by the driving of the fixed substrate 110 And the inner drive pieces 125 and 128 of the third and fourth drive units 123 and 124 correspond to the inner drive unit 130 in the y Thereby forming an interdigital electrode for axial movement.

이러한 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)는 전극층으로 형성되며, 전기적으로 절연되어 있으나, 구동부(121, 126, 123, 124)는 물리적으로 고정되어 하나의 프레임을 이룬다. The four driving units 121, 126, 123 and 124 are formed as electrode layers and are electrically insulated, but the driving units 121, 126, 123 and 124 are physically fixed to form one frame.

즉, 상기 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)의 물리적 고정을 위하여 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)를 이루는 전극층 하부에 절연층(200) 및 지지기판(400)의 일부가 잔재하고 있다.In order to physically fix the four driving portions 121, 126, 123, and 124, an insulating layer 200 and a portion of the supporting substrate 400 are formed under the electrode layers constituting the four driving portions 121, 126, 123, .

이때, 상기 4개의 구동부(121, 126, 123, 124) 사이를 지지하는 지지기판(400)의 두께는 고정기판(110)의 지지기판(400) 보다 작은 두께, 바람직하게는 1/2의 두께를 가질 수 있다. At this time, the thickness of the supporting substrate 400 supporting the four driving portions 121, 126, 123, and 124 is smaller than that of the supporting substrate 400 of the fixed substrate 110, Lt; / RTI >

상기 절연층(200)은 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)의 이격 공간에 노출되어 있으며, 절연층(200)은 구동부(121, 126, 123, 124) 사이의 이격 공간 주변 영역까지 확장되어 형성되어 있다.The insulating layer 200 is exposed to the spacing spaces of the four driving portions 121, 126, 123 and 124 and the insulating layer 200 is spaced apart from the driving spacers 121, 126, 123, Respectively.

한편, 내부 구동부(130)는 외부 구동부(120)의 4개의 구동부(121, 126, 123, 124)가 형성하는 개구부 내에 배치되어 있으며, 도 6과 같이 몸체부(133) 및 내부 구동편(132)을 포함한다.The internal drive unit 130 is disposed in an opening formed by the four drive units 121, 126, 123, and 124 of the external drive unit 120 and includes a body portion 133 and an internal drive member 132 ).

몸체부(133)는 폐루프를 이루는 프레임 형상을 가지며, x축 방향의 두 변에 외부 구동부(120)를 향하여 내부 구동편(132)이 형성되어 있다.The body portion 133 has a frame shape forming a closed loop, and the internal driving piece 132 is formed on the two sides in the x-axis direction toward the external driving portion 120.

상기 내부 구동편(132)은 일정한 거리로 이격되어 있는 복수의 돌출부를 포함하며, 상기 복수의 돌출부는 빗살(comb) 형상을 가진다.The inner drive piece 132 includes a plurality of protrusions spaced apart from each other by a predetermined distance, and the plurality of protrusions have a comb shape.

상기 내부 구동부(130)의 내부 구동편(132)과 대응되는 외부 구동부(120)의 제3 및 제4 전극(113, 114)의 내부 구동편(125, 128)은 복수의 돌출부가 서로 이격되어 지그재그로 배치되어 있다. The inner driving pieces 125 and 128 of the third and fourth electrodes 113 and 114 of the outer driving part 120 corresponding to the inner driving part 132 of the inner driving part 130 are spaced apart from each other And are disposed in a zigzag manner.

두 개의 내부 구동편(125, 128, 132)의 돌출부의 길이, 두께 및 형상이 동일하게 형성되어 이격 거리는 동일하다. The protrusions of the two inner drive pieces 125, 128 and 132 have the same length, thickness and shape, and the spacing distance is the same.

몸체부(133)의 y축 방향의 두 변에는 뒤에서 설명할 탄성부(300, 310, 320, 330)가 연결되는 연결단(134)이 형성되어 있으며, 상기 연결단(134)은 두 변의 중앙 영역에 돌출되어 형성된다.A connecting end 134 is formed at two sides in the y-axis direction of the body part 133 to connect the elastic parts 300, 310, 320 and 330 to be described later. As shown in Fig.

상기 연결단(134)은 사각형의 형상을 가질 수 있다.The connection end 134 may have a rectangular shape.

한편, 상기 흔들림 보정 장치(100)는 복수의 탄성부(300, 310, 320, 330)를 포함한다.Meanwhile, the shake correction apparatus 100 includes a plurality of elastic portions 300, 310, 320, and 330.

제1 탄성부(300) 및 제2 탄성부(310)는 고정 기판(110)과 외부 구동부(120)를 연결하고, 제3 탄성부(320) 및 제4 탄성부(330)는 외부 구동부(120)와 내부 구동부(130)를 연결한다.The first elastic part 300 and the second elastic part 310 connect the fixed substrate 110 and the external driving part 120 and the third elastic part 320 and the fourth elastic part 330 connect the external driving part 120 and the internal driver 130 are connected to each other.

상세하게는, 도 7 및 도 8과 같이 제1 탄성부 내지 제4 탄성부(300, 310, 320, 330)는 더블 폴디드 타입(double folded type)의 스프링으로 구성된다. Specifically, as shown in FIGS. 7 and 8, the first to fourth elastic portions 300, 310, 320, and 330 are formed of a double folded type spring.

제1 및 제2 탄성부(300, 310)는 변형된 더블 폴디스 타입의 스프링으로서, 제3 및 제4 구동부(123, 124)의 제2 함몰부(123b, 124b)에 배치되어 있다. The first and second elastic parts 300 and 310 are deformed double pole disc type springs which are disposed in the second depression parts 123b and 124b of the third and fourth driving parts 123 and 124.

제1 탄성부(300)는 제1 고정부(301) 및 제2 고정부(302)를 포함한다.The first elastic portion 300 includes a first fixing portion 301 and a second fixing portion 302.

제1 고정부(301)는 제3 구동부(123)의 절곡부(126e)로부터 제2 함몰부(123b)를 향하여 절곡 연장되어 있는 제1 스프링(301a), 상기 고정 기판(110)의 제3 전극(113)의 제1 전극편(113a)으로부터 연장되어 상기 제1 스프링(301a)과 이웃하게 배치되는 제2 스프링(301b)을 포함한다.The first fixing part 301 includes a first spring 301a which is bent and extended from the bent part 126e of the third driving part 123 toward the second depression part 123b, And a second spring 301b extending from the first electrode piece 113a of the electrode 113 and disposed adjacent to the first spring 301a.

상기 제1 고정부(301)는 제1 스프링(301a)과 제2 스프링(301b)의 끝단을 서로 연결하는 제1 연결부(301c)를 더 포함하며, 상기 제1 연결부(301c)는 제2 함몰부(123b)의 바닥변과 평행하게 형성되어 있다.The first fixing part 301 further includes a first connecting part 301c connecting the ends of the first spring 301a and the second spring 301b to each other, And is formed parallel to the bottom side of the portion 123b.

제2 고정부(302)는 제1 고정부(301)와 이웃하게 형성되어 제2 함몰부(123b)에 배치되어 있다.The second fixing part 302 is formed adjacent to the first fixing part 301 and disposed in the second depression part 123b.

제2 고정부(302)는 제3 구동부(123)의 몸체부(123a)로부터 제2 함몰부(123b)를 향하여 절곡 연장되어 있는 제3 스프링(302a), 상기 고정 기판(110)의 제3 전극(113)의 제2 전극(116)편으로부터 연장되어 상기 제3 스프링(302a)과 이웃하게 배치되는 제4 스프링(302b)을 포함한다.The second fixing part 302 includes a third spring 302a bent and extended from the body 123a of the third driving part 123 toward the second depression part 123b, And a fourth spring 302b extending from the second electrode 116 of the electrode 113 and disposed adjacent to the third spring 302a.

상기 제2 탄성부(310)는 제3 스프링(302a)과 제4 스프링(302b)의 끝단을 서로 연결하는 제2 연결부(302c)를 더 포함하며, 상기 제2 연결부(302c)는 제2 함몰부(123b)의 바닥변과 평행하게 형성되어 있다.The second elastic portion 310 further includes a second connection portion 302c connecting the ends of the third spring 302a and the fourth spring 302b to each other, And is formed parallel to the bottom side of the portion 123b.

제1 및 제2 연결부(301c, 302c)는 이격되어 서로 이웃하게 배치되어 있으며, 제1 및 제2 연결부(301c, 302c)를 전기적으로 절연하면서 물리적으로 고정하기 위하여 제1 및 제2 연결부(301c, 302c) 하부의 이격 공간에 절연층(200) 및 지지기판(400)이 잔재하고 있다.The first and second connection portions 301c and 302c are spaced apart from each other and are disposed adjacent to each other. In order to physically fix the first and second connection portions 301c and 302c while electrically insulating the first and second connection portions 301c and 302c, And 302c, the insulating layer 200 and the supporting substrate 400 remain.

이때, 상기 제1 및 제2 연결부(301c, 302c) 사이를 지지하는 지지기판(400)의 두께는 고정기판(110)의 지지기판(400) 보다 작은 두께, 바람직하게는 1/2의 두께를 가질 수 있다. The thickness of the support substrate 400 supporting the first and second connection portions 301c and 302c is smaller than that of the support substrate 400 of the fixed substrate 110, Lt; / RTI >

제1 탄성부(300)에 의해 고정 기판(110)과 외부 구동부(120)의 2 및 3 구동부(126, 123)가 물리적으로 연결되어 있다. The first and second elastic members 300 and 300 are physically connected to the fixed substrate 110 and the second and third driving units 126 and 123 of the external driving unit 120, respectively.

한편, 제2 탄성부(310)는 제1 고정부(311) 및 제2 고정부(312)를 포함한다.The second elastic portion 310 includes a first fixing portion 311 and a second fixing portion 312.

제1 고정부(312)는 제2 구동부(126)의 절곡부(126d)로부터 제2 함몰부(124b)를 향하여 절곡 연장되어 있는 제1 스프링(312a), 상기 고정 기판(110)의 제4 전극(114)의 제1 전극편(114a)으로부터 연장되어 상기 제1 스프링(312a)과 이웃하게 배치되는 제2 스프링(312b)을 포함한다.The first fixing part 312 includes a first spring 312a which is bent and extended from the bent part 126d of the second driving part 126 toward the second depression part 124b, And a second spring 312b extending from the first electrode piece 114a of the electrode 114 and disposed adjacent to the first spring 312a.

상기 제1 고정부(311)는 제1 스프링(311a)과 제2 스프링(311b)의 끝단을 서로 연결하는 제1 연결부(311c)를 더 포함하며, 상기 제1 연결부(311c)는 함몰부(124b)의 바닥변과 평행하게 형성되어 있다.The first fixing portion 311 may further include a first connection portion 311c connecting the ends of the first spring 311a and the second spring 311b to each other and the first connection portion 311c may include a depression 124b, respectively.

제2 고정부(312)는 제1 고정부(311)와 이웃하게 형성되어 함몰부(124b)에 배치되어 있다.The second fixing portion 312 is formed adjacent to the first fixing portion 311 and disposed in the depression 124b.

제2 고정부(312)는 제4 구동부(124)의 몸체부(124a)로부터 함몰부(124b)를 향하여 절곡 연장되어 있는 제3 스프링(312a), 상기 고정 기판(110)의 제4 전극(114)의 제2 전극편(114b)으로부터 연장되어 상기 제3 스프링(312a)과 이웃하게 배치되는 제4 스프링(312b)을 포함한다.The second fixing part 312 includes a third spring 312a which extends from the body part 124a of the fourth driving part 124 toward the depressed part 124b, And a fourth spring 312b extending from the second electrode piece 114b of the second electrode 114 and disposed adjacent to the third spring 312a.

상기 제2 탄성부(310)는 제3 스프링(312a)과 제4 스프링(312b)의 끝단을 서로 연결하는 제2 연결부(312c)를 더 포함하며, 상기 제2 연결부(312c)는 함몰부(124b)의 바닥변과 평행하게 형성되어 있다.The second elastic portion 310 may further include a second connection portion 312c connecting the ends of the third spring 312a and the fourth spring 312b to each other and the second connection portion 312c may include a depression 124b, respectively.

제1 및 제2 연결부(311c, 312c)는 이격되어 서로 이웃하게 배치되어 있으며, 제1 및 제2 연결부(311c, 312c)를 전기적으로 절연하면서 물리적으로 고정하기 위하여 제1 및 제2 연결부(311c, 312c) 하부의 이격 공간에 절연층(200)이 잔재하고 있다.The first and second connection portions 311c and 312c are spaced apart from each other and are disposed adjacent to each other. The first and second connection portions 311c and 312c are electrically connected to each other to electrically fix the first and second connection portions 311c and 312c. And 312c, the insulating layer 200 remains in the spaced-apart space.

제2 탄성부(310)에 의해 고정 기판(110)과 외부 구동부(120)의 제2 및 4 구동부(126, 124)가 물리적으로 연결되어 있다. The second elastic part 310 physically connects the fixed substrate 110 to the second and fourth driving parts 126 and 124 of the external driving part 120.

한편, 제3 탄성부(320) 및 제4 탄성부(330)는 외부 구동부(120)와 내부 고구동(130)를 고정하며 외부 구동부(120)의 제1 및 제2 구동부(121, 126)의 제1 함몰부(121b, 126b)에 각각 배치된다. The third elastic part 320 and the fourth elastic part 330 fix the external driving part 120 and the internal high driving part 130 and are connected to the first and second driving parts 121 and 126 of the external driving part 120, The first depressed portions 121b and 126b, respectively.

제3 탄성부(320)는 나란히 배치되는 4개의 스프링(321-324)을 포함한다. The third elastic portion 320 includes four springs 321-324 arranged side by side.

상세하게는, 제1 구동부(121)로부터 제1 함몰부(121b)를 향하여 절곡 연장되어 있는 제1 스프링(321), 내부 구동부(130)의 연결단(134)으로부터 연장되어 상기 제1 스프링(321)과 이웃하게 배치되는 제2 및 제3 스프링(322, 323), 제1 구동부(121)의 몸체부(121a)로부터 제1 함몰부(121b)의 다른 측면을 향하여 절곡 연장되어 있는 제4 스프링(324)을 포함한다.A first spring 321 bent and extended from the first driving part 121 toward the first depression 121b and a second spring extending from the connecting end 134 of the internal driving part 130, Second and third springs 322 and 323 which are arranged adjacent to the first driving part 121 and the second driving part 121 and the second driving part 121 and the second driving part 121. [ And a spring 324.

상기 제3 탄성부(320)는 제1 내지 제4 스프링(321-324)의 끝단을 서로 연결하는 연결부(335)를 더 포함하며, 상기 연결부(335)는 함몰부(121b)의 바닥변과 평행하게 형성되어 있다.The third elastic part 320 further includes a connecting part 335 connecting ends of the first through fourth springs 321-324. The connecting part 335 is connected to the bottom side of the depressed part 121b, And is formed in parallel.

제4 탄성부(330)는 나란히 배치되는 4개의 스프링(331-334)을 포함한다. The fourth elastic portion 330 includes four springs 331-334 arranged side by side.

상세하게는, 제2 구동부(126)로부터 제1 함몰부(126b)를 향하여 절곡 연장되어 있는 제1 스프링(331), 내부 구동부(130)의 연결단(134)으로부터 연장되어 상기 제1 스프링(331)과 이웃하게 배치되는 제2 및 제3 스프링(332, 333), 제2 구동부(126)의 몸체부(126a)로부터 제1 함몰부(126b)의 다른 측면을 향하여 절곡 연장되어 있는 제4 스프링(334)을 포함한다.A first spring 331 bent and extended from the second driving portion 126 toward the first depression 126b and a second spring extending from the connecting end 134 of the internal driving portion 130, Second and third springs 332 and 333 which are disposed adjacent to the first depression part 331 and the fourth depression part 332 which extend from the body part 126a of the second driving part 126 toward the other side of the first depression part 126b, And a spring 334.

상기 제4 탄성부(330)는 제1 내지 제4 스프링(331-334)의 끝단을 서로 연결하는 연결부(335)를 더 포함하며, 상기 연결부(335)는 함몰부(126b)의 바닥변과 평행하게 형성되어 있다.The fourth elastic part 330 further includes a connection part 335 connecting ends of the first through fourth springs 331-334 and the connection part 335 is connected to the bottom side of the depression part 126b And is formed in parallel.

이와 같이 형성되는 4개의 탄성부(300, 310, 320, 330)는 서로 동일한 수효의 스프링을 포함하며, 흔들림 보정 장치(100)의 4개의 변의 중앙 영역에 배치되어 서로 마주하며 형성되어 장력을 분산시킬 수 있다.The four elastic portions 300, 310, 320, and 330 formed as described above include springs of the same number as each other. The four elastic portions 300, 310, 320, and 330 are disposed in the central region of the four sides of the shake correction apparatus 100, .

또한, 서로 대칭적으로 형성되어 전체적으로 균형을 이루어 소자 신뢰성이 확보될 수 있다.In addition, they can be formed symmetrically with each other so that the overall reliability of the device can be ensured.

이러한 4개의 탄성부(300, 310, 320, 330)는 연결부(301c, 302c, 311c, 312c) 하부의 절연층(200)을 제외하고 전극층만으로 구성되어 각 구성 요소의 물리적 연결뿐 아니라, 전기적 연결을 수행한다.The four elastic portions 300, 310, 320 and 330 are formed of only the electrode layers except for the insulating layer 200 under the connection portions 301c, 302c, 311c and 312c, .

이하에서는 도 9를 참고하여 실시예의 전기적 연결을 설명한다.Hereinafter, the electrical connection of the embodiment will be described with reference to FIG.

도 9는 도 1의 흔들림 보정 장치의 전압을 나타내는 상태도이다.9 is a state diagram showing the voltage of the shake correction apparatus of Fig.

도 9를 참고하면, 흔들림 보정을 위한 x축 및 y축 방향의 이동을 위하여, 도 9와 같이 총 5개의 전압이 공급된다.Referring to FIG. 9, for movement in the x-axis and y-axis directions for shake correction, a total of five voltages are supplied as shown in FIG.

제1 전압(V1)은 제4 전극(114)의 제1 전극편(114a)으로 인가되어, 제2 탄성부(310)의 제1 고정부(311)를 따라 외부 구동부(120)의 제2 구동부(126)에 인가되고, 제4 탄성부(330)를 따라 내부 구동부(130) 전체에 인가된다.The first voltage V1 is applied to the first electrode piece 114a of the fourth electrode 114 and the second voltage V1 is applied to the second electrode 111 of the second driving unit 120 along the first fixing unit 311 of the second elastic unit 310 And is applied to the entire inner drive part 130 along the fourth elastic part 330. As shown in FIG.

이러한 제1 전압(V1)은 내부 구동부(130)와 연결되는 제3 탄성부(330)를 따라 제1 구동부(121)에까지 인가되며, 제1 탄성부(300)의 제1 고정부(301)에 의해 고정 기판(110)의 제3 전극(113)의 제1 전극편(113a)까지 인가된다.The first voltage V1 is applied to the first driving part 121 along the third elastic part 330 connected to the internal driving part 130 and is applied to the first fixing part 301 of the first elastic part 300, To the first electrode piece 113a of the third electrode 113 of the fixed substrate 110. [

제1 전압(V1)은 접지 전압(ground)일 수 있다.The first voltage V1 may be a ground voltage.

다음으로, 제2 전압(V2)은 제4 전극(114)의 제2 전극편(114b)으로 인가되어, 제2 탄성부(310)의 제2 고정부(312)를 따라 외부 구동부(120)의 제3 구동부(123)에 인가된다.The second voltage V2 is applied to the second electrode piece 114b of the fourth electrode 114 and is electrically connected to the external driving part 120 along the second fixing part 312 of the second elastic part 310. [ The third drive unit 123 of FIG.

다음으로, 제3 전압(V3)은 제3 전극(113)의 제2 전극편(113b)으로 인가되어, 제1 탄성부(300)의 제2 고정부(302)를 따라 외부 구동부(120)의 제3 구동부(123)에 인가된다.The third voltage V3 is applied to the second electrode part 113b of the third electrode 113 and is applied to the external driving part 120 along the second fixing part 302 of the first elastic part 300. [ The third drive unit 123 of FIG.

다음으로, 제4 전압(V4)은 제2 전극(116)으로 인가되고, 제5 전압(V5)은 제1 전극(111)으로 인가된다.Next, the fourth voltage V4 is applied to the second electrode 116, and the fifth voltage V5 is applied to the first electrode 111.

이와 같이 2개의 탄성부(300, 310)를 변형된 더블 폴디드 스프링을 적용함으로써 4개의 탄성부(300, 310, 320, 330)만으로 4개의 빗살 전극을 이루는 서로 대향하는 두 개의 돌출부가 서로 다른 전극 값을 가질 수 있다.By applying the modified double folded springs to the two elastic portions 300 and 310 as described above, the two protruding portions of the four elastic portions 300, 310, 320, and 330 constituting the four comb electrodes, It can have an electrode value.

또한, 내부 구동부(130)와 외부 구동부(120)의 이동 방향이 서로 교차하므로 상대 동작 시에 서로 간섭을 일으키지 않는다. In addition, since the moving directions of the internal driver 130 and the external driver 120 cross each other, they do not interfere with each other during the relative operation.

탄성부(300, 310, 320, 330)를 이용하여 전압 인가를 유도하면서, 탄성부(300, 310, 320, 330)의 일부를 변형하여 2개의 전압이 동시에 인가되므로 탄성부(300, 310, 320, 330)의 수효가 감소할 수 있다. The elastic portions 300, 310, 320, and 330 are deformed to deform the elastic portions 300, 310, 320, 330 while simultaneously applying the two voltages while inducing the voltage application using the elastic portions 300, 320, and 330 may be reduced.

이러한 흔들림 보정 장치(100)는 x축으로 이동 시에 제1 전압(V1)이 걸린 상태에서 제4 및 제5 전압(V4, V5)을 제어함으로 x축으로 외부 구동부(120)를 이동할 수 있으며, y축으로 이동 시에 제1 전압(V1)이 걸린 상태에서 제2 및 제3 전압(V2, V3)을 제어함으로써 y축으로 내부 구동부(130)를 이동할 수 있다. The shake correction apparatus 100 controls the fourth and fifth voltages V4 and V5 in a state in which the first voltage V1 is applied when moving in the x-axis, thereby moving the external driving unit 120 along the x-axis the internal drive unit 130 can be moved in the y-axis direction by controlling the second and third voltages V2 and V3 in a state in which the first voltage V1 is applied when moving in the y-axis.

이와 같이 흔들림 보정 장치(100)의 내부 구동부(130) 내의 개구부에 적어도 하나의 렌즈가 배치되어 상기 렌즈의 위치를 전압에 의해 보정함으로써 흔들림이 보정될 수 있다. In this way, at least one lens is disposed in the opening of the internal driver 130 of the shake correction apparatus 100, and the shake can be corrected by correcting the position of the lens by the voltage.

이하에서는 도 10 내지 도 13을 참고하여 실시예의 흔들림 보정 장치를 제조하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the shake correction apparatus of the embodiment will be described with reference to FIGS. 10 to 13. FIG.

먼저, 도 10과 같이 베이스 기판을 준비한다.First, a base substrate is prepared as shown in FIG.

상기 베이스 기판은 지지 기판(400) 위에 절연층(200) 및 전극층(150)이 형성되어 있는 구조를 가진다.The base substrate has a structure in which an insulating layer 200 and an electrode layer 150 are formed on a supporting substrate 400.

상기 절연층(200)은 상기 지지 기판(400)이 실리콘 기판일 경우, 실리콘 산화막 또는 실리콘질화막으로 형성될 수 있으며, 1.5μm 내외의 두께를 가질 수 있다.When the supporting substrate 400 is a silicon substrate, the insulating layer 200 may be formed of a silicon oxide film or a silicon nitride film, and may have a thickness of about 1.5 μm.

상기 전극층(150)은 실리콘, 구리, 알루미늄, 몰리브덴, 텅스텐 등의 전도성 물질일 수 있으며, 바람직하게는 지지 기판(400)이 실리콘 기판인 경우, 실리콘으로 형성될 수 있다. 상기 전극층(150)은 40 내지 60 μm의 두께를 가지며, 바람직하게는 50 μm 내외의 두께를 가질 수 있다.The electrode layer 150 may be a conductive material such as silicon, copper, aluminum, molybdenum, or tungsten. Preferably, the electrode layer 150 may be formed of silicon when the supporting substrate 400 is a silicon substrate. The electrode layer 150 has a thickness of 40 to 60 μm, preferably about 50 μm.

즉, 내부에 실리콘 절연층(200)을 포함하는 실리콘 기판일 수 있으며, 상기 지지 기판(400) 및 전극층(150)의 상하부에 각각 외부 절연층(141, 151)이 형성되어 있다.The external insulating layers 141 and 151 are formed on the upper and lower portions of the support substrate 400 and the electrode layer 150, respectively.

상기 외부 절연층(141, 151)은 1.5μm 내외의 두께를 가지는 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막일 수 있다.The outer insulating layers 141 and 151 may be a silicon oxide film or a silicon nitride film having a thickness of about 1.5 μm.

다음으로, 도 11과 같이 상부의 전극층(150)을 디자인에 따라 식각하여 각각의 구동부 및 전극을 형성한다.Next, as shown in FIG. 11, the upper electrode layer 150 is etched according to the design to form the respective drivers and electrodes.

상세하게는 상기 외부 절연층(151) 위에 포토 마스크(152)를 형성한 뒤, 외부 절연층(200)을 식각하고, 상기 포토 마스크(152)에 의해 노출된 전극층을 제거함으로써 패턴을 형성할 수 있다.A pattern can be formed by forming a photomask 152 on the external insulating layer 151 and then etching the external insulating layer 200 and removing the electrode layer exposed by the photomask 152 have.

이때, 식각 공정으로 반응성 이온 식각(RIE)을 진행할 수 있다.At this time, reactive ion etching (RIE) can be performed by the etching process.

다음으로, 도 12와 같이 하부의 외부 절연층(141) 위에 포토 마스크(142)를 형성한 뒤, 패터닝하여 지지 기판(400)을 제거한다.Next, a photomask 142 is formed on the lower external insulating layer 141 as shown in FIG. 12, and then the supporting substrate 400 is removed by patterning.

상세하게는, 지지 기판(400) 위의 외부 절연층(141) 위에 포토 마스크(142)를 형성한 뒤, 외부 절연층(200)을 패터닝하고, 노출된 지지 기판(400)을 제거함으로써 패턴을 형성할 수 있다.Specifically, the photomask 142 is formed on the external insulating layer 141 on the supporting substrate 400, the external insulating layer 200 is patterned, and the exposed supporting substrate 400 is removed, .

이때, 지지 기판(400) 중 탄성부(300, 310, 320, 330)의 제1 및 제2 연결부 사이 및 4개의 구동부(121, 126, 123, 124) 사이의 하부에는 고정기판(110)의 지지기판(400)보다 작은 두께를 갖도록 선택적으로 식각한다.이러한 선택적 식각은 두번 식각하거나, 노광을 단계적으로 진행하는 마스크를 이용하여 진행할 수 있다. At this time, between the first and second connection portions of the elastic portions 300, 310, 320 and 330 of the supporting substrate 400 and between the four driving portions 121, 126, 123 and 124, It is selectively etched so as to have a thickness smaller than that of the supporting substrate 400. This selective etching may be performed twice using a mask or a mask for progressing the exposure stepwise.

이때, 하부의 공정 전에 상부 패턴을 보호하기 위하여 상부에 보호층(도시하지 않음)을 형성할 수 있다. At this time, a protective layer (not shown) may be formed on the upper portion to protect the upper pattern before the lower process.

다음으로, 상부의 보호층을 제거한 뒤, 도 13과 같이 디자인에 따라 내부의 실리콘 절연층(200)을 식각한다.Next, after the upper protective layer is removed, the inner silicon insulation layer 200 is etched according to the design as shown in FIG.

이때, 내부의 실리콘 절연층(200)의 식각은 가스 플라즈마 에칭을 수행할 수 있으며, 산화 불소 가스를 사용할 수 있다. At this time, the etching of the silicon insulating layer 200 inside can be performed by gas plasma etching, and a fluorine oxide gas can be used.

따라서, 일부의 전극층 패턴 하부에만 선택적으로 절연층(200)이 잔류하게 된다. 예를 들어, 제1 및 제2 탄성부(300, 310)의 연결부(301c, 302c, 311c, 312c) 하부에 이격되는 두 개의 연결부(301c, 302c, 311c, 312c)를 고정하기 위하여 절연층(200)이 잔재하고, 외부 구동부(120)의 복수의 구동부를 서로 절연하면서 물리적으로 고정하기 위하여 하부에 절연층(200)이 잔재할 수 있다.Therefore, the insulating layer 200 is selectively left only under a part of the electrode layer pattern. For example, in order to fix two connection portions 301c, 302c, 311c, and 312c spaced apart from the connection portions 301c, 302c, 311c, and 312c of the first and second elastic portions 300 and 310, The insulating layer 200 may remain on the lower part of the external driving part 120 in order to physically fix the plural driving parts of the external driving part 120 while insulating them from each other.

이와 같이 형성되는 멤스 소자인 흔들림 보정 장치는 구동부가 부유 상태를 유지하면서 일부 스프링에 의해 고정됨으로써 전압 인가에 의해 운동할 수 있다.The shake correction apparatus, which is a MEMS element thus formed, can be moved by voltage application by being fixed by a part of the springs while the driving unit is kept floating.

이하에서는 도 14 및 도 15를 참고하여 상기 흔들림 보정 장치가 적용되는 카메라 모듈을 설명한다.Hereinafter, a camera module to which the shake correction apparatus is applied will be described with reference to FIGS. 14 and 15. FIG.

도 14는 도 1의 흔들림 보정 장치가 적용된 카메라 모듈의 단면도이고, 도 15는 도 14의 렌즈부의 분해 사시도이다.FIG. 14 is a sectional view of a camera module to which the shake correction apparatus of FIG. 1 is applied, and FIG. 15 is an exploded perspective view of the lens unit of FIG.

도 14에서 상기 촬상 렌즈의 렌즈 형태는 임의로 도시하였다.In Fig. 14, the shape of the lens of the imaging lens is arbitrarily shown.

카메라 모듈은 제1 렌즈부(11), 제2 렌즈부(31) 및 액추에이터(104)가 배치된 하우징(80), 홀더(90) 및 인쇄회로기판(70)을 포함한다.The camera module includes a housing 80 in which a first lens unit 11, a second lens unit 31 and an actuator 104 are arranged, a holder 90 and a printed circuit board 70.

하우징(80)은 상기 제1렌즈부(11) 및 제2렌즈부(31)를 포함하는 액추에이터(104)를 포함한다.The housing 80 includes an actuator 104 including the first lens unit 11 and the second lens unit 31.

상기 제1 렌즈부(11)는 제1 렌즈(10) 및 제2 렌즈(20)를 포함하고, 상기 제2 렌즈부(31)는 제3 렌즈(30) 및 제4 렌즈(40)를 포함한다.The first lens unit 11 includes a first lens 10 and a second lens 20 and the second lens unit 31 includes a third lens 30 and a fourth lens 40 do.

그리고, 상기 제1렌즈부(11)는 제1경통(101)에 장착되고, 상기 제1렌즈부(11) 및 제2렌즈부(31)는 인쇄회로기판(70)에 배치된 수광 소자(60)로 광을 집광시킨다. The first lens unit 11 is mounted on the first lens barrel 101 and the first lens unit 11 and the second lens unit 31 are mounted on the printed circuit board 70 60).

그리고, 상기 제1경통(101) 및 제2 렌즈부(31)은 액추에이터(104)를 포함하는 커버에 배치될 수 있다.The first lens barrel 101 and the second lens barrel 31 may be disposed on a cover including the actuator 104. [

상기 제2렌즈부(31)를 지지하는 흔들림 보정 장치(100)는 상기 액추에이터(104)에 포함되거나 별도로 형성될 수 있다.The shake correction apparatus 100 for supporting the second lens unit 31 may be included in the actuator 104 or separately formed.

상기 액추에이터(104)는 상기 렌즈들의 위치를 조정하여 초점을 조절하여, 자동 초점 및 광학줌 기능이 구현될 수 있도록 한다.The actuator 104 adjusts the focus by adjusting the position of the lenses so that the auto focus and optical zoom functions can be implemented.

상기 액추에이터(104)는 상기 제1렌즈부(11)를 상하로 이동시켜 초점을 조절할 수 있으며, 음성코일모터(VCM: Voice Coil Motor) 타입의 액추에이터를 이용할 수 있다.The actuator 104 can adjust the focus by moving the first lens unit 11 up and down, and a voice coil motor (VCM) type actuator can be used.

한편, 상기 흔들림 보정 장치(100)의 각 전극에 인가되는 전압을 제어하여 흔들림을 보정할 수 있다. Meanwhile, the shake can be corrected by controlling the voltage applied to each electrode of the shake correction apparatus 100.

도 15에서는 흔들림 보정 장치(100)가 제2 렌즈부(31)를 동시에 이동하도록 형성됨으로 기재하였으나, 이와 달리 하나의 렌즈만을 이동하여 흔들림으로 보정할 수 있다.In FIG. 15, it is described that the shake correction apparatus 100 is formed so as to move the second lens unit 31 at the same time. Alternatively, only one lens can be moved and corrected by shaking.

어느 하나의 렌즈만을 이동시켜 포커싱을 하는 경우, 이동시키고자 하는 렌즈에만 상기 흔들림 보정 장치(100)가 형성될 수 있다.When focusing is performed by moving only one lens, the shake correction apparatus 100 may be formed only on the lens to be moved.

또한, 상기 액추에이터(104)가 상기 제2 렌즈부(31)에만 장착되어, 렌즈 어셈블리 전체를 구동하는 것과 비교하여 소비전력을 줄일 수 있다.In addition, the actuator 104 is mounted only on the second lens unit 31, so that power consumption can be reduced as compared with driving the entire lens assembly.

이어서, 상기 하우징(80)의 하부에 배치된 홀더(90)는 상기 제2렌즈부(31)의 하부에 위치하며 필터(50)를 포함한다.The holder 90 disposed at the lower portion of the housing 80 is located below the second lens unit 31 and includes a filter 50.

상기 필터(50)는 적외선 차단 필터로 이루어질 수 있다.The filter 50 may be an infrared cut filter.

상기 필터(50)는 외부 빛으로부터 방출되는 복사열이 상기 수광 소자(60)에 전달되지 않도록 차단시키는 기능을 한다.The filter 50 functions to prevent radiation heat emitted from external light from being transmitted to the light receiving element 60.

즉, 상기 필터(50)는 가시광선은 투과시키고, 적외선은 반사시켜 외부로 유출되도록하는 구조를 가진다.That is, the filter 50 has a structure that transmits visible light and reflects infrared light to the outside.

상기 필터(50)를 상기 홀더(90)에 배치하였지만, 이에 한정되지 않고, 상기 렌즈들 사이에도 선택적으로 위치하거나, 상기 제1렌즈부(11) 또는 제2렌즈부(31)의 렌즈에 적외선 차단 물질이 코팅(coating)될 수 있다.The filter 50 is disposed in the holder 90 but the present invention is not limited to this and the filter 50 may be selectively disposed between the lenses or may be disposed in the holder 90 such that the infrared rays are incident on the lenses of the first lens unit 11 or the second lens unit 31, The barrier material may be coated.

그리고, 상(像)이 맺히는 상기 수광 소자(60)는 피사체 영상에 대응하는 광신호를 전기적인 신호로 변환하는 이미지 센서로 이루어질 수 있으며, 상기 이미지 센서는 CCD(Charge Coupled Device) 또는 CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 센서로 이루어질 수 있다.The image sensor may be a charge coupled device (CCD) or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) device. The image sensor may be a charge coupled device (CCD) Metal oxide semiconductor) sensor.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

흔들림 보정 장치 100
고정 기판 110
외부 구동부 120
내부 구동부 130
탄성부 300-330Shake correction apparatus 100
The fixed substrate 110
The external driver 120
The internal driver 130
Elastic part 300-330

Claims

Fixed substrate,
A first driving unit that moves relative to the fixed substrate in a first direction,
A second driving unit that is relatively moved with respect to the first driving unit in a second direction different from the first direction,
An elastic part for physically and electrically connecting the fixed substrate and the first driving part;
Lt; / RTI >
The elastic portion
And transmits different voltages to the first driving unit through a plurality of springs insulated from each other
MEMS device.

The method according to claim 1,
The elastic portion
And an insulation portion physically connecting the plurality of insulated springs.

3. The method of claim 2,
The elastic portion
MEMS element with double folded spring.

The method of claim 3,
The insulating portion
The MEMS element is formed of an island-shaped insulating material.

5. The method of claim 4,
The MEMS element
Having a rectangular shape,
The fixed substrate includes:
And four electrodes extending along the sides and electrically separated from each other.

6. The method of claim 5,
The fixed substrate
A first electrode extending in the second direction and a second electrode extending in parallel with the first electrode,
A third electrode extending in the second direction and a fourth electrode extending in parallel with the third electrode,
/ RTI >
And the third and fourth electrodes are separated into two electrically isolated small electrodes.

The method according to claim 6,
The first driving unit
A plurality of electrodes disposed inside the four electrodes of the fixed substrate,
And four opaque portions opposed to the four electrodes.

8. The method of claim 7,
The elastic portion
A first elastic part connecting the third electrode and the first driving part, and
And a second elastic part connecting the fourth electrode and the first driving part,
Lt; / RTI >
The first elastic portion
A first fixing unit connecting the first small electrode of the third electrode and the first driving unit, and
And a second fixing part (20) connecting the second small electrode of the third electrode
Wherein the first and second fixing portions are connected to different less driving portions of the first driving portion.

9. The method of claim 8,
The second elastic portion
A first fixing unit connecting the first small electrode of the fourth electrode and the first driving unit, and
And a second fixing part (4) for connecting the second small electrode of the fourth electrode
Wherein the first and second fixing portions are connected to different less driving portions of the first driving portion.

10. The method of claim 9,
The first fixing portion
A first spring extending from the first small electrode,
A second spring extending from the first drive, and
And a first connection portion connecting the ends of the first and second springs to each other,
Lt; / RTI >
The second fixing portion
A third spring extending from the second small electrode,
A fourth spring extending from the first driving portion, and
And a second connection portion connecting the ends of the third and fourth springs to each other,
Lt; / RTI >
Wherein the first connecting portion and the second connecting portion are physically connected to each other through the insulating portion.

11. The method of claim 10,
And a comb electrode is formed between the first and second electrodes and the first driving unit
MEMS device.

12. The method of claim 11,
And a single elastic part fixing the first driving part and the second driving part
MEMS device.

13. The method of claim 12,
And the second driving unit is disposed in the plurality of small driving portions of the first driving unit.

14. The method of claim 13,
Wherein the single elastic part is formed on a y-axis side of the first driving part and the second driving part.

15. The method of claim 14,
And a comb electrode is formed on the x-axis sides of the first driving unit and the second driving unit.

Fixed substrate,
A first driving unit that moves relative to the fixed substrate in a first direction,
A second driving unit that is relatively moved with respect to the first driving unit in a second direction different from the first direction,
An optical element disposed in the second driving portion, and
An elastic part for physically and electrically connecting the fixed substrate and the first driving part;
Lt; / RTI >
The elastic portion
And transmits different voltages to the first driving unit through a plurality of springs insulated from each other.

17. The method of claim 16,
The optical element
A shake correction device comprising an image sensor.

18. The method of claim 17,
The optical element
Further comprising a lens opposed to the image sensor.

17. The method of claim 16,
Wherein the elastic portion comprises a double folded spring.

20. The method of claim 19,
The fixed substrate
The support substrate,
An insulating layer on the supporting substrate, and
A plurality of electrodes extending along the sides of the insulating layer,
And a shake correction device.

21. The method of claim 20,
Wherein the elastic portion further includes an insulating portion physically connecting the plurality of insulated springs,
Wherein the insulating portion is an island-shaped insulating material patterned from the insulating layer.

22. The method of claim 21,
And a single elastic part fixing the first driving part and the second driving part
Shake correction device.

17. The method of claim 16,
Wherein the first direction and the second direction are perpendicular to each other.

17. The method of claim 16,
And an interdigital electrode is formed between the fixed substrate and the first driving unit and between the first driving unit and the second driving unit.

17. The method of claim 16,
A plurality of electrodes of the fixed substrate,
Wherein the first driver and the second driver are formed of silicon.