KR20140035646A - 2차 전지 내부 셀 스택 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 지그재그로 접힌 형태로 형성된 분리막 및 상기 분리막이 접혀진 부분에 제1전극판 및 제2전극판이 교번 삽입되어 적층된 구조의 셀 스택을 제조하기 위한 2차 전지 내부 셀 스택 방법에 있어서, 분리막의 연속적으로 공급되는 분리막 공급단계; 상기 분리막의 일측면에 상기 제1전극판이 적층되고, 상기 분리막의 타측면에 상기 제2전극판이 적층되는 제1적층단계; 상기 제1전극판, 분리막, 제2전극판 순으로 적층된 전극적층체가 상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 회전축을 중심으로 일정 방향으로 180도 회전되는 제1회전단계; 일측 방향으로 180도 회전되어 상기 전극적층체의 일측면과 타측면에 분리막이 다시 적층된 상태에서, 일측면에 상기 제1전극판이 적층되고, 타측면에 상기 제2전극판이 적층되는 제2적층단계; 및 상기 제2적층단계에서 적층된 전극적층체가 상기 제1회전단계에서 회전되는 방향과 반대되는 방향으로 180도 회전되는 제2회전단계; 를 포함한다.
Description
본 발명은 2차 전지 내부 셀 스택 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 지그재그로 접힌 형태로 형성된 분리막 및 상기 분리막이 접혀진 부분에 제1전극판 및 제2전극판이 교번 삽입되어 적층되는 구조의 셀 스택을 제조하기 위한 2차 전지 내부 셀 스택 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택에 관한 것이다.
1차 전지와는 달리 충전 및 방전이 가능한 2차 전지는 디지털 카메라, 셀룰러 폰, 노트북 컴퓨터, 하이브리드 자동차 등 첨단 분야의 개발로 활발한 연구가 진행 중이다. 2차 전지로는 니켈-카드뮴 전지, 니켈-메탈 하이드라이드 전지, 니켈-수소 전지, 리튬 2차 전지 등이 있다.
이와 같은 2차 전지 내부 셀 스택을 제작하는 방식은 크게 두 가지로 나뉜다. 소형 2차 전지의 경우 음극판 및 양극판을 분리막 상에 배치하고 이를 말아서(winding) 젤리-롤(jelly-roll) 형태로 제작하는 방식이 많이 사용되며, 보다 많은 전기 용량을 가지는 중대형 2차 전지의 경우에는 음극판, 양극판 및 분리막을 적절한 순서로 적층하여(stacking) 제작하는 방식이 많이 사용된다.
적층식으로 2차 전지 내부 셀 스택을 제작하는 방식은 여러 가지가 있는데, 그 중 Z-폴딩(Z-folding, zigzag folding 또는 accordion folding이라고도 함) 방식에서는 분리막이 지그재그로 접힌 형태를 이루며 그 사이에 음극판 및 양극판이 교번되어 삽입된 형태로 적층되도록 한다.
이와 같은 Z-폴딩 적층 형태로 이루어지는 2차 전지 내부 셀 스택은 미국공개특허 제2005-0048361(공개일2005.03.03, 명칭 : Stacked type lithium ion secondary batteries)호와 같이 이미 여러 선행기술들에 개시되어 있다.
Z-폴딩 적층 형태를 실제로 구현하기 위한 방법에서는 좌우로 이격된 개별 테이블에 음극판및 양극판을 각각 쌓아 두고, 분리막 공급기 및 Z-폴딩 적층 방법이 좌우로 소정 거리만큼 함께 이동하면서 분리막을 지그재그 형태로 접되 다음과 같은 과정을 반복한다.
먼저 (도 3을 기준으로) 전체 장치가 좌측으로 이동했을 때 좌측의 Z-폴딩 적층 방법(10')가 음극판(1)을 흡착하여 두었다가, 우측으로 이동하여 좌측의 Z-폴딩 적층 방법(10')가 중심에 왔을 때 좌측의 Z-폴딩 적층 방법(10')는 상기 분리막(3) 상에 상기 음극판(1)을 놓아 배치한다.
이와 동시에 우측의 Z-폴딩 적층 방법(10')는 양극판(2)을 흡착한다. 이후 다시 좌측으로 이동하여 우측의 Z-폴딩 적층 방법(10')가 중심에 왔을 때 우측의 Z-폴딩 적층 방법(10')는 상기 분리막(3) 상에 상기 양극판(2)을 놓아 배치한다.
물론 이와 동시에 좌측의 Z-폴딩 적층 방법(10')가 음극판(1)을 흡착하여 두게 되며, 이러한 과정이 반복됨에 따라 상기 분리막(3)은 지그재그로 접힌 형태를 이루며, 또한 그 사이사이에 상기 음극판(1) 및 상기 양극판(2)들이 교번 삽입된 형태로 적층되게 된다.
그런데, 이와 같은 종래의 방식은 정렬 상태와 관련해서는 적절히 우수한 결과를 얻을 수 있으나, 단일의 양극판 및 음극판이 한 층씩 적층이 이루어지기 때문에 하나의 셀 스택을 완성하는데 걸리는 시간이 매우 길어지고, 이에 따라 생산성이 현저히 저하되는 문제점이 있다. 따라서 적층되는 양극판과 음극판의 우수한 정렬 상태는 물론이고, 생산 속도를 증가시켜 생산성이 우수한 셀 스택 기술의 개발이 요구된다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 셀 스택을 완성하는데 걸리는 시간을 절약하여 생산성을 향상시키고, 적층되는 양극판과 음극판의 정렬 상태가 일정하게 유지될 수 있도록 하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택을 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 지그재그로 접힌 형태로 형성된 분리막 및 상기 분리막이 접혀진 부분에 제1전극판 및 제2전극판이 교번 삽입되어 적층된 구조의 셀 스택을 제조하기 위한 2차 전지 내부 셀 스택 방법에 있어서, 분리막의 연속적으로 공급되는 분리막 공급 단계; 상기 분리막의 일측면에 상기 제1전극판이 적층되고, 상기 분리막의 타측면에 상기 제2전극판이 적층되는 제1적층단계; 상기 제1전극판, 분리막, 제2전극판 순으로 적층된 전극적층체가 상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 회전축을 중심으로 일정 방향으로 180도 회전되는 제1회전단계; 일정 방향으로 180도 회전되어 상기 전극적층체의 일측면과 타측면에 분리막이 다시 적층된 상태에서, 일측면에 상기 제1전극판이 적층되고, 타측면에 상기 제2전극판이 적층되는 제2적층단계; 및 상기 제2적층 단계에서 적층된 전극적층체가 상기 제1회전단계에서의 회전방향과 반대 방향으로 180도 회전되는 제2회전단계; 를 포함한다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 분리막 공급단계는 상기 셀스택 제조에 필요한 분리막의 길이만큼 상기 분리막이 편평하게 권출될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 제1적층단계는 상기 분리막 공급단계에서 권출된 분리막의 길이방향으로 중간지점에 상기 제1전극판 및 제2전극판이 적층될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 상기 제1적층단계, 제1회전단계, 제2적층단계 및 제2회전단계가 순차적으로 반복 진행되어 정해진 전극수에 맞게 적층되는 반복적층단계를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 상기 분리막의 양끝단이 적층 완료된 전극적층체 측면을 적어도 한 번 이상 감싼 다음 양측면에서 각각 마감처리되는 분리막 마감처리단계를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 제1전극판 및 제2전극판은 음극판 또는 양극판이 일정 크기로 컷팅되어 형성된 모노 셀(mono-cell)이되, 상기 제1전극판이 음극판 및 양극판 중 어느 하나이며, 상기 제2전극판이 상기 제1전극판과 반대되는 극성인 다른 하나일 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 셀 스택은 상기 제1전극판이 양극판/분리막/음극판/분리막/양극판 구조의 바이 셀(bi-cell)이고, 상기 제2전극판이 음극판/분리막/양극판/분리막/음극판 구조의 바이 셀(bi-cell)일 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 셀 스택은 외면을 형성하는 최상층 및 최하층에 음극판이 위치할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 셀 스택은 상기 제1전극판에 연결되는 제1전극탭과, 상기 제2전극판에 연결되는 제2전극탭이 서로 반대되는 측면에 배치되도록, 상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 방향으로 양측면에 각각 배치될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 셀 스택은 상기 제1전극판에 연결되는 제1전극탭과, 상기 제2전극판에 연결되는 제2전극탭이 동일한 측면에 배치되도록, 상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 방향으로 일측 또는 타측면에 배치될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 셀 스택은 본 발명의 2차 전지 내부 셀 스택 적층 방법을 이용하여 제조된다.
본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택은 분리막의 일측면과 타측면에 각각 제1전극판 및 제2전극판을 적층시킨 상태에서 시계방향으로 180도 회전시킨 다음, 다시 제1전극판 및 제2전극판을 적층시켜 반시계방향으로 180도 회전하는 와인딩 방식으로 셀을 적층시킴으로써, 셀 스택을 완성하는데 걸리는 시간을 절약하여 생산성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.
다시 말해, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택은 생산시간을 획기적으로 단축함으로써, 생산성을 극대화하고, 생산비용을 크게 저감시켜 상품성을 최대화할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택은 와인딩 방식으로 셀을 적층시키는 과정에서 분리막에 일정한 인장력이 가해짐으로써, 적층되는 양극판과 음극판의 정렬 상태가 일정하게 유지될 수 있으며, 이를 통해 이차전지의 이차전지의 성능 및 안전성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.
아울러, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택은 분리막의 양측면에 각각 바이 셀 형태의 제1전극판 및 제2전극판이 개재될 수 있어, 스태킹 횟수를 줄이는 것이 가능해져 생산속도를 크게 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 순차적으로 도시한 단면도.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 도시한 사시도.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 도시한 단면도.
도 5는 도 1의 방법으로 제조된 셀 스택을 나타낸 사시도.
도 6은 도 1의 방법으로 제조된 또 다른 셀 스택을 나타낸 사시도.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 도시한 사시도.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 도시한 단면도.
도 5는 도 1의 방법으로 제조된 셀 스택을 나타낸 사시도.
도 6은 도 1의 방법으로 제조된 또 다른 셀 스택을 나타낸 사시도.
이하, 상술한 바와 같은 특징을 가지는 본 발명에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택을 첨부된 도면을 참조로 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 순차적으로 도시한 단면도이며, 도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 도시한 단면도이며, 도 5는 도 1의 방법으로 제조된 셀 스택을 나타낸 사시도이고, 도 6은 도 1의 방법으로 제조된 또 다른 셀 스택을 나타낸 사시도이다.
본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 지그재그로 접힌 형태로 형성된 분리막(100) 및 분리막(100)이 접혀진 부분에 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 교번 삽입되어 적층된 구조의 셀 스택(1)을 제조하기 위한 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 크게, 분리막 공급단계(510), 제1적층단계(520), 제1회전단계(530), 제2적층단계(540) 및 제2회전단계(550)를 포함한다.
분리막 공급단계(510)는 분리막(100)이 연속적으로 공급되는 단계로, 이 때, 분리막(100)은 릴 타입의 분리막(100)이 일정 속도로 권출되며 공급되며, 분리막(100)의 길이방향으로 양측에서 일정한 힘의 인장력이 가해져 편평하게 펴진 상태에서 일정한 응력을 갖도록 하는 것이 바람직하다.
도 1(b)에 도시된 바와 같이, 제1적층단계(520)는 분리막(100)의 일측면에 1전극판이 적층되고, 분리막(100)의 타측면에 제2전극판(300)이 적층되는 단계이다.
이 때, 제1전극판(200), 분리막(100), 제2전극판(300)은 압착롤과 같은 구성을 이용하여 열과 압력으로 서로 라미네이션 될 수 있다.
이를 통해, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 후술되는 제1회전단계(530) 및 제2회전단계(550)에서 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 이탈되지 않아 정렬이 용이하도록 할 수 있다.
특히, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 상기 셀스택 제조에 필요한 분리막의 길이만큼 분리막이 편평하게 권출된 상태에서, 분리막의 길이방향으로 중간지점에 제1전극판 및 제2전극판이 적층되는 것이 바람직하다.
즉, 제1적층단계(520)에서 적층되는 제1전극판 및 제2전극판의 중심선과, 분리막의 길이방향으로의 중심선이 일치되도록 적층된다.
도 1(c)에 도시된 바와 같이, 제1회전단계(530)는 제1전극판(200), 분리막(100), 제2전극판(300) 순으로 적층된 전극적층체가 분리막(100)이 공급되는 방향과 수직이며, 전극적층체의 중심에 위치한 회전축을 중심으로 일정 방향으로 180도 회전되는 단계이다.
일 예로, 도 1(c)에서는 좌측으로부터 제1전극판(200)-분리막(100)-제2전극판(300) 순으로 적층된 전극적층체가 시계방향으로 180도 회전되어, 좌측으로부터 분리막(100)-제2전극판(300)-분리막(100)-제1전극판(200)-분리막(100) 순으로 적층된다.
도 1(d)에 도시된 바와 같이, 제2적층단계(540)는 일정 방향으로 180도 회전되어 전극적층체의 일측면과 타측면에 분리막(100)이 다시 적층된 상태에서, 일측면에 제1전극판(200)이 적층되고, 타측면에 제2전극판(300)이 적층된다.
제1적층단계(520) 및 제2적층단계(540)에서 알 수 있듯이, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택(1) 적층 방법은 적층 과정에 있어서, 분리막(100)의 일측에는 제1전극판(200)이 공급되고, 타측에는 제2전극판(300)이 공급된다.
이에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 서로 다른 극성의 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 교번되어 적층된 구조를 가질 수 있다.
도 1(e)에 도시된 바와 같이, 제2회전단계(550)는 제2적층단계(540)에서 적층된 전극적층체가 제1회전단계(530)에서 회전된 방향과 반대방향으로 180도 회전되는 단계이다.
일 예로, 도 1(e)에서는 좌측으로부터 제1전극판(200)-분리막(100)-제2전극판(300)-분리막(100)-제1전극판(200)-분리막(100)-제2전극판(300) 순으로 적층된 전극적층체가 반시계 방향으로 180도 회전되어, 좌측으로부터 분리막(100)-제2전극판(300)-분리막(100)-제1전극판(200)-분리막(100)-제2전극판(300)-분리막(100)-제1전극판(200)-분리막(100) 순으로 적층된다.
본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 상술한 바와 같은 과정, 즉, 제1적층단계(520), 제1회전단계(530), 제2적층단계(540), 제2회전단계(550)가 순차적으로 반복 진행되어 정해진 전극수에 맞게 적층되는 반복적층단계(560)를 포함할 수 있다.
이에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 필요한 용량의 이차전지를 위한 셀 스택(1)을 와인딩 방법을 통해 제조할 수 있다.
도 1(g)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법은 분리막(100)의 양끝단이 적층 완료된 전극적층체 측면을 적어도 한 번 이상 감싼 다음 양측면에서 각각 마감처리되는 분리막 마감처리단계(570)를 포함할 수 있다.
도 1(g)에 도시된 실시예에서는 분리막(100)의 양끝단이 적층 완료된 전극적층체의 측면을 한번 감싼 다음 반대측면에서 마감처리되는 실시예가 도시되어 있으나, 마감처리되는 영역은 측면이 될 수도 있으며, 전극적층체의 측면을 두번 이상 감싼 다음 마감처리될 수도 있다.
이 때, 분리막(100)의 단부는 열융착 도는 접착테이프와 같은 접착수단을 붙여서 마무리 할 수 있으며, 분리막(100)이 마감되는 방법은 상술한 바와 같은 실시예 외에도, 얼마든지 다양하게 변경 실시 가능하다.
한편, 도 1 내지 3에 도시된 바와 같이, 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)은 음극판(410) 또는 양극판(420)이 일정 크기로 컷팅되어 형성된 모노 셀(mono-cell)이되, 제1전극판(200)이 음극판(410) 및 양극판(420) 중 어느 하나이며, 제2전극판(300)이 제1전극판(200)과 반대되는 극성인 다른 하나일 수 있다.
이 경우, 도 1(g)에 도시된 것처럼, 적층 완료된 셀 스택(1)은 분리막(100)을 중심으로 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 교번되어 적층되는 형태를 갖게 된다.
이에 따라, 도 1에 도시된 방법을 통해 제조된 셀 스택(1)은 필요한 전극수에 맞추어 적층되는 횟수를 유동적으로 조절할 수 있다.
또 다른 실시예로, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법에서는 상기 제1전극판(200)이 양극판(420)-분리막(100)-음극판(410)-분리막(100)-양극판(420) 구조의 바이 셀(bi-cell)이고, 상기 제2전극판(300)이 음극판(410)-분리막(100)-양극판(420)-분리막(100)-음극판(410) 구조의 바이 셀(bi-cell)일 수도 있다.
이 경우, 적층 완료된 셀 스택(1)은 분리막(100)을 중심으로 양극판(420)이 최외측면에 적층된 형태의 바이 셀인 제1전극판(200)과, 음극판(410)이 최외측면에 적층된 형태의 바이 셀인 제2전극판(300)이 교번되어 적층되는 형태를 갖게 된다.
이에 따라, 도 4에 도시된 방법을 통해 제조된 셀 스택(1)은 정해진 전극 수를 채우기 위해 적층되는 횟수가 도 1에 도시된 방법보다 현저하게 줄어들어 생산속도가 크게 향상될 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법에서는 셀 스택(1)의 외면을 형성하는 최상층 및 최하층에 음극판(410)이 위치되도록 하는 것이 바람직하다.
이는 셀 스택(1)이 양극판(420)과 음극판(410)의 대면 구조로 적층되었을 때, 가능하면 음극이 많은 면적을 차지하도록 구성함으로써, 리튬 이차전지에 사용되는 경우, 충방전시 리튬 금속 등이 음극에서 수지상 성장(dendrite)하는 현상을 최대한 억제하기 위함이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법이용하여 제조되는 셀 스택(1)은 제1적층단계(520)에서부터 분리막(100) 양측면에 적층되는 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 제1전극탭(210) 및 제2전극탭(310)이 연결된 상태로 적층되되, 상기 제1전극판(200)에 연결되는 제1전극탭(210)과, 상기 제2전극판(300)에 연결되는 제2전극탭(310)이 동일한 측면에 배치되도록 할 수 있다.
다시 말해, 셀 스택(1)은 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 분리막(100) 공급 방향과 수직인 방향으로 일측 또는 타측면에 한꺼번에 배치될 수 있다.
또 다른 실시예로, 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택 방법을 이용하여 제조되는 셀 스택(1)은 제1적층단계(520)에서부터 분리막(100) 양측면에 적층되는 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 제1전극탭(210) 및 제2전극탭(310)이 연결된 상태로 적층되되, 상기 제1전극판(200)에 연결되는 제1전극탭(210)과, 상기 제2전극판(300)에 연결되는 제2전극탭(310)이 서로 반대되는 측면에 배치되도록 할 수 있다.
다시 말해, 셀 스택(1)은 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 분리막(100) 공급 방향과 수직인 방향으로 양측면에 각각 배치될 수 있다.
이에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택(1) 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택(1)은 생산시간을 획기적으로 단축함으로써, 생산성을 극대화하고, 생산비용을 크게 저감시켜 상품성을 최대화할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택(1) 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택(1)은 와인딩 방식으로 셀을 적층시키는 과정에서 분리막(100)에 일정한 인장력이 가해짐으로써, 적층되는 양극판(420)과 음극판(410)의 정렬 상태가 일정하게 유지될 수 있으며, 이를 통해 이차전지의 이차전지의 성능 및 안전성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.
아울러, 본 발명의 실시예에 따른 2차 전지 내부 셀 스택(1) 적층 방법 및 이를 이용하여 제조되는 셀 스택(1)은 분리막(100)의 양측면에 각각 바이 셀 형태의 제1전극판(200) 및 제2전극판(300)이 개재될 수 있어, 스태킹 횟수를 줄이는 것이 가능해져 생산속도를 크게 향상시킬 수 있다.
본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.
1 : 셀 스택
100 : 분리막
200 : 제1전극판 210 : 제1전극탭
300 : 제2전극판 310 : 제2전극탭
410 : 음극판 420 : 양극판
510 : 분리막 공급단계 520 : 제1적층단계
530 : 제1회전단계 540 : 제2적층단계
550 : 제2회전단계 560 : 반복적층단계
570 : 분리막 마감처리단계
100 : 분리막
200 : 제1전극판 210 : 제1전극탭
300 : 제2전극판 310 : 제2전극탭
410 : 음극판 420 : 양극판
510 : 분리막 공급단계 520 : 제1적층단계
530 : 제1회전단계 540 : 제2적층단계
550 : 제2회전단계 560 : 반복적층단계
570 : 분리막 마감처리단계
Claims (11)
- 지그재그로 접힌 형태로 형성된 분리막 및 상기 분리막이 접혀진 부분에 제1전극판 및 제2전극판이 교번 삽입되어 적층된 구조의 셀 스택을 제조하기 위한 2차 전지 내부 셀 스택 방법에 있어서,
분리막이 연속적으로 공급되는 분리막 공급단계;
상기 분리막의 일측면에 상기 제1전극판이 적층되고, 상기 분리막의 타측면에 상기 제2전극판이 적층되는 제1적층단계;
상기 제1전극판, 분리막, 제2전극판 순으로 적층된 전극적층체가 상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 회전축을 중심으로 일정 방향으로 180도 회전되는 제1회전단계;
일정 방향으로 180도 회전되어 상기 전극적층체의 일측면과 타측면에 분리막이 다시 적층된 상태에서, 일측면에 상기 제1전극판이 적층되고, 타측면에 상기 제2전극판이 적층되는 제2적층단계; 및
상기 제2적층단계에서 적층된 전극적층체가 상기 제1회전단계에서의 회전방향과 반대방향으로 180도 회전되는 제2회전단계; 를 포함하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 분리막 공급단계는
상기 셀스택 제조에 필요한 분리막의 길이만큼 상기 분리막이 편평하게 권출되는 것을 특징으로 하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 2항에 있어서,
상기 제1적층단계는
상기 분리막 공급단계에서 권출된 분리막의 길이방향으로 중간지점에 상기 제1전극판 및 제2전극판이 적층되는 것을 특징으로 하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 3항에 있어서,
상기 2차 전지 내부 셀 스택 방법은
상기 제1적층단계, 제1회전단계, 제2적층단계 및 제2회전단계가 순차적으로 반복 진행되어 정해진 전극수에 맞게 적층되는 반복적층단계를 포함하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 4항에 있어서,
상기 2차 전지 내부 셀 스택 방법은
상기 분리막의 양끝단이 적층 완료된 전극적층체 측면을 적어도 한 번 이상 감싼 다음 양측면에서 각각 마감처리되는 분리막 마감처리단계를 포함하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 제1전극판 및 제2전극판은
음극판 또는 양극판이 일정 크기로 컷팅되어 형성된 모노 셀(mono-cell)이되,
상기 제1전극판이 음극판 및 양극판 중 어느 하나이며,
상기 제2전극판이 상기 제1전극판과 반대되는 극성인 다른 하나인 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 셀 스택은
상기 제1전극판이 양극판/분리막/음극판/분리막/양극판 구조의 바이 셀(bi-cell)이고,
상기 제2전극판이 음극판/분리막/양극판/분리막/음극판 구조의 바이 셀(bi-cell)인 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 셀 스택은
외면을 형성하는 최상층 및 최하층에 음극판이 위치하는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 8항에 있어서,
상기 셀 스택은
상기 제1전극판에 연결되는 제1전극탭과, 상기 제2전극판에 연결되는 제2전극탭이 서로 반대되는 측면에 배치되도록,
상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 방향으로 양측면에 각각 배치되는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 8항에 있어서,
상기 셀 스택은
상기 제1전극판에 연결되는 제1전극탭과, 상기 제2전극판에 연결되는 제2전극탭이 동일한 측면에 배치되도록,
상기 분리막이 공급되는 방향과 수직인 방향으로 일측 또는 타측면에 배치되는 2차 전지 내부 셀 스택 방법.
- 제 1항 내지 10항 중 어느 한 항에 의한 2차 전지 내부 셀 스택 적층 방법을 이용하여 제조되는 셀 스택.
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