KR20130104341A - Method of transferring substrate, robot for transferring substrate and substrate treatment system having the same - Google Patents

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Abstract

기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템에 관한 것이다. 기판 이송 방법에 따르면, (a) 로드락 챔버에 다수 공급된 기판들을 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 모듈들에 각각 반입하는 단계; (b) 제2,3 아암을 이용하여 로드락 챔버로부터 2장의 기판들을 반출해서 대기하는 단계; (c) 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 기판 이송 로봇의 제1 아암을 이용하여 반출한 후, 대기 상태의 2장의 기판들을 빈 공정 모듈에 반입하는 단계; 및 (d) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;를 포함한다. A substrate transfer method, a substrate transfer robot, and a substrate processing system including the same. According to a substrate transfer method, (a) loading a plurality of substrates supplied into a load lock chamber into process modules using a substrate transfer robot, respectively; (b) unloading two substrates from the load lock chamber using the second and third arms to wait; (c) exporting the two substrates processed in the process module using the first arm of the substrate transfer robot, and then importing the two substrates in the standby state into the empty process module; And (d) importing two substrates taken out from the process module into the load lock chamber.

Description

기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템{Method of transferring substrate, robot for transferring substrate and substrate treatment system having the same}Method of transferring substrate, robot for transferring substrate and substrate treatment system having the same}

본 발명은 반도체소자, 디스플레이소자 등을 제조하기 위한 기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate transfer method, a substrate transfer robot, and a substrate processing system including the same for manufacturing a semiconductor device, a display device, and the like.

일반적으로, 반도체소자, 디스플레이소자는 웨이퍼 또는 글라스기판(이하 기판으로 통칭함)에 대해 박막 증착, 식각 등의 각종 공정을 거쳐 제조된다. 최근에는 공정의 효율을 높이기 위해 클러스터 기판처리시스템이 주로 사용되고 있다. In general, semiconductor devices and display devices are manufactured through various processes such as thin film deposition and etching on a wafer or a glass substrate (hereinafter referred to as a substrate). Recently, the cluster substrate processing system is mainly used to increase the efficiency of the process.

클러스터 기판처리시스템에서, 이송 챔버(transport chamber)는 사각 또는 다각의 형상으로 이루어지고, 중앙에 이송 로봇이 설치된다. 그리고, 이송 챔버의 한쪽에는 로드락 챔버(load lock chamber)가 배치되고, 다른 쪽에는 공정 모듈(process module)들이 배치된다. In the cluster substrate processing system, the transport chamber has a square or polygonal shape and a transfer robot is installed at the center. A load lock chamber is disposed on one side of the transfer chamber and process modules are disposed on the other side.

초기의 클러스터 기판처리시스템에서, 이송 로봇은 기판을 1장씩 로드락 챔버로부터 공정 모듈로 이송하고, 공정 모듈에서 공정 처리된 기판을 로드락 챔버로 이송하는 동작을 반복 수행하는 것이 일반적이었다. 하지만, 이러한 방식은 제품의 생산성을 저하시키는 문제가 있었는바, 이를 해결하기 위해 다양한 방안이 제안되고 있다. In the early cluster substrate processing system, it was common for the transfer robot to repeatedly transfer the substrates from the load lock chamber to the process module one by one, and transfer the substrate processed in the process module to the load lock chamber. However, this method has a problem of lowering the productivity of the product, various methods have been proposed to solve this problem.

그 일 예로, 기판을 2장씩 로드락 챔버로부터 공정 모듈로 이송하고, 공정 모듈에서 공정 처리된 기판을 로드락 챔버로 이송하는 동작을 반복 수행할 수 있는 이송 로봇이 있다. 이송 로봇은 아암(arm)의 단부에 2개의 엔드 이펙터(end effecter)들을 구비한다. 여기서, 엔드 이펙터들은 각각 기판을 1장씩 맡아서 이송하도록 기능함으로써, 이송 로봇이 기판을 2장씩 동시에 이송할 수 있게 한다. For example, there is a transfer robot capable of repeatedly transferring the substrates from the load lock chamber to the process module, and transferring the substrate processed by the process module to the load lock chamber. The transfer robot has two end effectors at the end of the arm. Here, each of the end effectors functions to take one substrate and transfer the substrate, thereby enabling the transfer robot to transfer two substrates simultaneously.

그런데, 전술한 이송 로봇은 엔드 이펙터들 사이의 간격이 고정된 구조를 갖는다. 즉, 엔드 이펙터들은 아암의 단부에 회전 가능하게 설치된 지지 부재의 양단에 고정된다. 따라서, 엔드 이펙터들은 기판을 2장씩 동시에 이송할 수 밖에 없다. 또한, 엔드 이펙터들은 2장의 기판들을 공정 모듈 내로 로딩한 상태에서, 기판들의 중심이 설정된 위치에 맞지 않는 경우, 기판들의 각 중심을 순차적으로 맞추도록 동작해야 한다. 이로 인해, 기판들의 중심을 동시에 맞추는 것에 비해 시간이 더 소요되어, 생산성 저하의 원인이 될 수 있다. However, the above-described transfer robot has a structure in which the distance between end effectors is fixed. That is, the end effectors are fixed to both ends of the support member rotatably installed at the end of the arm. Therefore, the end effectors have no choice but to simultaneously transfer two substrates at a time. In addition, the end effectors should be operated to sequentially center each center of the substrates when the two substrates are loaded into the process module and the centers of the substrates do not match the set positions. As a result, it takes more time than centering the substrates at the same time, which may cause a decrease in productivity.

게다가, 공정 모듈 내로 1장의 기판만을 공급할 상황인 경우, 예컨대 공정 모듈로 공급될 기판이 마지막에 1장만 존재하는 경우에도, 엔드 이펙터들이 공정 모듈로 모두 진입해야 한다. 이에 따라, 엔드 이펙터들 중 하나가 공정 모듈 내로 진입하도록 동작하는 것에 비해 분진 발생 가능성이 높아지는 문제가 있을 수 있다. In addition, in the situation where only one substrate is to be supplied into the process module, for example, even when there is only one substrate to be supplied to the process module at the end, all of the end effectors must enter the process module. Accordingly, there may be a problem in that the probability of dust generation becomes higher than one of the end effectors is operated to enter the process module.

본 발명의 과제는 2장의 기판들을 공정 모듈 또는 로드락 챔버로 동시에 이송할 수 있을 뿐 아니라, 1장의 기판만을 이송할 수 있으며, 기판 이송 효율을 높일 수 있는 기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템을 제공함에 있다.The object of the present invention is to not only transfer two substrates to the process module or load lock chamber at the same time, but also to transfer only one substrate, substrate transfer method that can improve the substrate transfer efficiency, substrate transfer robot and the like It is to provide a substrate processing system.

상기의 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 이송 방법은, The substrate transfer method according to the present invention for achieving the above object,

이송 챔버; 상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버; 상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및 상기 이송 챔버 내에 배치되어 상기 로드락 챔버와 공정 모듈들 간에 기판을 이송하는 것으로, Transfer chamber; A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates; Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And disposed in the transfer chamber to transfer a substrate between the load lock chamber and process modules,

상하부 중 어느 한쪽에서 2장의 기판을 동시에 이송하도록 동작하는 제1 아암과, 다른 쪽에서 1장의 기판을 개별 이송하도록 동작하는 제2,3 아암을 구비하는 기판 이송 로봇;을 포함하는 기판처리시스템의 기판 이송 방법으로서, (a) 로드락 챔버에 다수 공급된 기판들을 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 모듈들에 각각 반입하는 단계; (b) 제2,3 아암을 이용하여 로드락 챔버로부터 2장의 기판들을 반출해서 대기하는 단계; (c) 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 기판 이송 로봇의 제1 아암을 이용하여 반출한 후, 대기 상태의 2장의 기판들을 빈 공정 모듈에 반입하는 단계; 및 (d) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;를 포함한다. A substrate transfer robot having a first arm operable to simultaneously transfer two substrates from one of the upper and lower parts, and a second and third arms operable to individually transfer one substrate from the other side; A transfer method, comprising: (a) loading a plurality of substrates supplied to a load lock chamber into process modules using a substrate transfer robot, respectively; (b) unloading two substrates from the load lock chamber using the second and third arms to wait; (c) exporting the two substrates processed in the process module using the first arm of the substrate transfer robot, and then importing the two substrates in the standby state into the empty process module; And (d) importing two substrates taken out from the process module into the load lock chamber.

본 발명에 따른 기판 이송 로봇은, The substrate transfer robot according to the present invention,

로드락 챔버와 공정 모듈 간에 기판을 이송하기 이송 챔버 내에 설치되는 것으로, 상기 이송 챔버 내에 설치된 로봇 몸체; 상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 형성되며, 2장의 기판들을 안착시켜 이송하는 제1 아암; 상기 제1 아암의 상부 또는 하부에서 동일 평면 상에 좌우로 배치되어 상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 각각 형성되며, 각각 1장의 기판을 안착시켜 이송하는 제2,3 아암; 및 상기 제1,2,3 아암을 구동시키는 구동 유닛을 포함한다. A robot body installed in the transfer chamber for transferring the substrate between the load lock chamber and the process module; A first arm installed on the robot body and configured to move forward and backward, and seating and transporting two substrates; Second and third arms disposed on the same plane in the upper or lower portion of the first arm and installed on the robot body and respectively formed to move forward and backward, respectively, for seating and transporting one substrate; And a drive unit for driving the first, second, and third arms.

그리고, 본 발명에 따른 기판처리시스템은, And, the substrate processing system according to the present invention,

이송 챔버; 상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버; 상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및 상기 이송 챔버 내에 배치되는 기판 이송 로봇;을 포함한다. Transfer chamber; A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates; Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And a substrate transfer robot disposed in the transfer chamber.

본 발명에 따르면, 제1 아암은 공정처리 후의 기판을 2장씩 공정 모듈로부터 로드락 챔버로 이송하는 역할을 전담할 수 있고, 서로 독립 가능하게 제어되는 제2,3 아암은 공정처리 전의 기판을 1장씩 맡아서 로드락 챔버로부터 공정 모듈로 이송하는 역할을 전담할 수 있다. According to the present invention, the first arm may be responsible for transferring the substrate after the process from the process module to the load lock chamber by two sheets, and the second and third arms controlled independently of each other may serve as the substrate before the process. Each one can be assigned to transfer from the load lock chamber to the process module.

이에 따라, 기판들을 한번에 2장씩 로드락 챔버와 공정 모듈 간에 이송할 수 있을 뿐 아니라, 공정 모듈에서 공정 처리된 웨이퍼와 이송 챔버 내에서 공정을 위해 대기 중인 웨이퍼 간에 교체를 신속하게 할 수 있다. 또한, 제2,3 아암에 의해 공정 모듈 내로 로딩되는 2장의 기판들의 각 중심을 설정된 위치에 동시에 맞출 수 있게 되므로, 중심을 맞추는데 소요되는 시간을 최소화할 수 있다. Accordingly, not only can the substrates be transferred between the load lock chamber and the process module two sheets at a time, but also the replacement between the wafer processed in the process module and the wafer waiting for processing in the transfer chamber can be performed quickly. In addition, since the centers of the two substrates loaded into the process module by the second and third arms can be simultaneously aligned with the set positions, the time required for the centering can be minimized.

또한, 본 발명에 따르면, 공정 모듈 내로 1장의 기판만을 공급할 상황인 경우, 아암들의 동작을 최소화하여 1장의 기판을 처리할 수 있으므로, 분진 발생 가능성을 낮출 수 있다. In addition, according to the present invention, when only one substrate is supplied into the process module, since the operation of the arms can be processed by minimizing the operation of the arms, the possibility of dust generation can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리시스템에 대한 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 로봇에 대한 분해 사시도.
도 3은 도 2의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 측 단면도.
도 4는 도 3의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 평면도.
도 5a 내지 도 5h는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법을 설명하기 위한 도면.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법에 있어서, 최종 1장 남은 기판 이송하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법에 있어서, 기판들의 각 센터를 맞춰 공정 모듈에 로딩하는 과정을 설명하기 위한 도면.
1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is an exploded perspective view of a substrate transfer robot according to an embodiment of the present invention.
3 is a side cross-sectional view of the substrate transfer robot of FIG. 2 assembled;
4 is a plan view of the substrate transfer robot of FIG. 3 assembled;
5A to 5H are views for explaining a substrate transfer method according to an embodiment of the present invention.
6A to 6C are diagrams for explaining a method for transferring the last one remaining substrate in the substrate transfer method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a view illustrating a process of loading a process module by aligning each center of substrates in a substrate transfer method according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여, 바람직한 실시예에 따른 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리시스템에 대한 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판처리시스템(1000)에는 기판 핸들링 모듈의 한 종류인 EFEM(Equipment Front End Module, 1100)이 설치된다. EFEM(1100)은 프레임(1110)과, 그 일 측벽에 기판 저장용기 예컨대, FOUP(Front Open Unified Pod, 1210)가 놓여지는 로드 스테이션(load station, 1200)을 포함하여 구성된다. 프레임(1110)의 내부에는 FOUP(1210)의 도어를 개폐하는 개폐부가 설치되고, FOUP(1210)와 공정 파트(1300) 간 기판을 이송하는 대기 로봇(atmospheric robot, 1120)이 설치된다. 대기 로봇(1120)은 2개로 구비될 수 있으며, 대기 로봇(1120)들 사이에 기판을 로드락 챔버(1320)로 보다 신속하게 이송할 수 있도록 버퍼부(1130)가 마련될 수 있다. Referring to FIG. 1, the substrate processing system 1000 is equipped with an equipment front end module (EFEM) 1100, which is a type of substrate handling module. The EFEM 1100 includes a frame 1110 and a load station 1200 on which a substrate storage container, for example, a front open unified pod (FOUP) 1210, is placed. An opening and closing part for opening and closing the door of the FOUP 1210 is installed inside the frame 1110, and an atmospheric robot 1120 for transferring a substrate between the FOUP 1210 and the process part 1300 is installed. The standby robot 1120 may be provided in two, and a buffer unit 1130 may be provided to transfer the substrate to the load lock chamber 1320 more quickly between the standby robots 1120.

공정 파트(1300)는 기판에 각종 공정, 예컨대 증착 또는 식각 공정을 수행하기 위한 것이다. 공정 파트(1300)는 사각 형상의 이송 챔버(1310)와, 이송 챔버(1310)의 하나의 측면에 배치되는 로드락 챔버(1320)와, 3측면에 배치되는 공정 모듈(1330)들, 및 이송 챔버(1310) 내에 설치된 기판 이송 로봇(100)을 포함한 클러스터 시스템으로 구성될 수 있다. 이송 챔버(1310)는 사각 형상으로 이루어진 것으로 도시되어 있으나, 다각 형상으로 이루어지는 것도 가능하다. The process part 1300 is for performing various processes, such as a deposition or etching process, on the substrate. The process part 1300 includes a rectangular transfer chamber 1310, a load lock chamber 1320 disposed on one side of the transfer chamber 1310, process modules 1330 disposed on three sides, and a transfer. It may be configured as a cluster system including the substrate transfer robot 100 installed in the chamber 1310. The transfer chamber 1310 is illustrated as being made of a rectangular shape, but may be made of a polygonal shape.

로드락 챔버(1320)는 EFEM(1100)에 마주하게 배치된다. 로드락 챔버(1320)는 2장의 기판들이 횡으로 나란히 배치될 수 있는 듀얼 타입의 챔버로 이루어질 수 있다. 이송 챔버(1310) 내에는 로드락 챔버측 감지센서(1321)가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치될 수 있다. The load lock chamber 1320 is disposed facing the EFEM 1100. The load lock chamber 1320 may be configured as a dual type chamber in which two substrates may be arranged side by side. In the transfer chamber 1310, a plurality of load lock chamber side sensors 1321 may be provided in pairs to correspond to one set for each substrate.

예컨대, 2장의 기판들이 로드락 챔버(1320)에 대해 출입할 때, 기판들이 각각 출입하는 경로 상, 2장의 기판들 중 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1321)들이 배치되고, 다른 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1321)들이 배치된다. 여기서, 2개의 감지센서(1321)들은 기판의 좌우에 대응되게 배치된다. 이에 따라, 기판이 로드락 챔버(1320)에 대해 출입하는 과정에서 기판의 위치 정보가 2차원적으로 획득될 수 있다. 물론, 로드락 챔버측 감지센서(1321)는 3개 이상으로 1조를 이룰 수도 있다. For example, when two substrates enter and exit the load lock chamber 1320, two sensing sensors 1321 are disposed to correspond to one of the two substrates on a path through which the substrates respectively enter and exit, and correspond to the other one. Two detection sensors 1321 are arranged. Here, the two detection sensors 1321 are disposed to correspond to the left and right sides of the substrate. Accordingly, position information of the substrate may be obtained two-dimensionally as the substrate enters and exits from the load lock chamber 1320. Of course, the load lock chamber-side detection sensor 1321 may form a set of three or more.

로드락 챔버측 감지센서(1321)는 광을 발산하는 발광부와, 발광부로부터 발산한 광을 받아 수광 신호를 처리하는 수광부를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서, 발광부와 수광부는 그 사이로 기판이 통과할 수 있게 배치된다. The load lock chamber side sensor 1321 may include a light emitting unit for emitting light, and a light receiving unit for receiving a light emitted from the light emitting unit and processing a light receiving signal. Here, the light emitting portion and the light receiving portion are disposed to allow the substrate to pass therebetween.

생산성을 높이기 위해, 로드락 챔버(1320)는 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버가 적층된 구조로 이루어질 수 있다. 상부 로드락 챔버는 2장의 기판들이 나란히 공급될 수 있는 듀얼 타입의 챔버로 이루어지고, 하부 로드락 챔버도 2장의 기판들이 나란히 공급될 수 있는 듀얼 타입의 챔버로 이루어질 수 있다. In order to increase productivity, the load lock chamber 1320 may have a structure in which an upper load lock chamber and a lower load lock chamber are stacked. The upper load lock chamber may be configured as a dual type chamber in which two substrates may be supplied side by side, and the lower load lock chamber may be configured as a dual type chamber in which two substrates may be supplied side by side.

공정 모듈(1330)들은 모두 동일한 공정을 수행하도록 구성되거나, 작업의 성격이나 필요에 따라 서로 상이한 공정을 수행하도록 구성될 수 있다. 공정 모듈(1330)들은 이송 챔버(1310)의 각 측면마다 배치될 수 있다. 공정 모듈(1330)들은 상호 분리된 기판 처리 공간을 각각 포함하도록 구성될 수 있다. 기판 처리 공간들에는 각 기판에 대한 공정이 독립되게 수행될 수 있다. The process modules 1330 may all be configured to perform the same process, or may be configured to perform different processes depending on the nature or needs of the work. Process modules 1330 may be disposed on each side of transfer chamber 1310. The process modules 1330 may be configured to each include separate substrate processing spaces. In the substrate processing spaces, a process for each substrate may be performed independently.

예컨대, 각각의 공정 모듈(1330)은 2개의 싱글 타입의 공정 챔버들이 횡으로 나란히 배치되어 구성될 수 있다. 각 싱글 타입의 공정 챔버는 1장의 기판이 공급될 수 있게 형성되고, 기판에 대한 공정이 독립되게 수행될 수 있다. 다른 예로, 공정 모듈은 각각 하나의 기판을 처리하는 복수의 기판 처리 공간을 포함하는 단일 공정 챔버 몸체로 구성될 수도 있다. For example, each process module 1330 may be configured with two single-type process chambers arranged side by side. Each single type of process chamber is formed such that one substrate can be supplied, and the process for the substrate can be performed independently. As another example, the process module may be comprised of a single process chamber body that includes a plurality of substrate processing spaces, each processing a single substrate.

이송 챔버(1310) 내에는 공정 모듈측 감지센서(1331)가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치될 수 있다. 예컨대, 2장의 기판들이 공정 모듈(1330)에 대해 출입할 때, 기판들이 각각 출입하는 경로 상, 2장의 기판들 중 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1331)들이 배치되고, 다른 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1331)들이 배치된다. 물론, 공정 모듈측 감지센서(1331)는 3개 이상으로 1조를 이룰 수도 있다. 공정 모듈측 감지센서(1331)는 전술한 로드락 챔버측 감지센서(1321)와 동일하게 구성될 수 있다. In the transfer chamber 1310, a plurality of process module side detection sensors 1331 may be provided in pairs corresponding to each pair of substrates. For example, when two substrates enter and exit the process module 1330, two sensing sensors 1331 are disposed to correspond to one of the two substrates on a path through which the substrates enter and exit each other, and correspond to the other one. Two detection sensors 1331 are disposed. Of course, the process module side detection sensor 1331 may form a set of three or more. The process module side sensor 1331 may be configured in the same manner as the load lock chamber side sensor 1321 described above.

기판 이송 로봇(100)은 로드락 챔버(1320)와 공정 모듈(1330) 간 기판을 이송하기 위한 것이다.
The substrate transfer robot 100 transfers a substrate between the load lock chamber 1320 and the process module 1330.

기판 이송 로봇(100)은 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 구성될 수 있다. The substrate transfer robot 100 may be configured as shown in FIGS. 2 to 4.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 로봇에 대한 분해 사시도이며, 도 3은 도 2의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 측 단면도이다. 그리고, 도 4는 도 3의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 평면도이다. 2 is an exploded perspective view of the substrate transfer robot according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a side cross-sectional view in the assembled state of the substrate transfer robot of FIG. 4 is a plan view in a state where the substrate transfer robot of FIG. 3 is assembled.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 기판 이송 로봇(100)은, 로봇 몸체(110)와, 제1,2,3 아암(121,122,123)과, 구동 유닛을 포함하여 구성된다. 2 to 4, the substrate transfer robot 100 includes a robot body 110, first, second, and third arms 121, 122, and 123, and a driving unit.

로봇 몸체(110)는 이송 챔버(1310) 내에 설치된다. 로봇 몸체(110)는 제1 내지 제3 아암(121,122,123)을 지지하는 한편, 구동 유닛의 제1 내지 제6 엑추에이터(141,142,143,144.145,146)가 내장될 수 있게 한다. The robot body 110 is installed in the transfer chamber 1310. The robot body 110 supports the first to third arms 121, 122, 123, and allows the first to sixth actuators 141, 142, 143, 144. 145, 146 of the drive unit to be embedded.

제1 아암(121)은 로봇 몸체(110)에 설치되며, 전후진 운동 가능하도록 형성된다. 그리고, 제1 아암(121)은 단부에 2장의 기판(W)들을 안착시켜 이송한다. 제2,3 아암(122,123)은 제1 아암(121)의 하부에서 동일 평면 상에 좌우로 배치되어 로봇 몸체(110)에 설치되며, 전후진 운동 가능하도록 각각 형성된다. 제2,3 아암(122,123)은 각 단부에 1장의 기판(W)을 안착시켜 이송한다. 제2,3 아암(122,123)은 제1 아암(121)의 상부에 설치되는 것도 물론 가능하다. The first arm 121 is installed on the robot body 110 and is formed to be capable of forward and backward movement. Then, the first arm 121 seats and transports two substrates W at the end. The second and third arms 122 and 123 are disposed on the same plane from the bottom of the first arm 121 and installed on the robot body 110, respectively, and are formed to be capable of forward and backward movement. The second and third arms 122 and 123 mount and transport one substrate W at each end. Of course, the second and third arms 122 and 123 may be installed above the first arm 121.

구동 유닛은 제1,2,3,4,5,6 엑추에이터(141,142,143,144,145,146), 및 제1,2,3 회전축(151,152,153)을 포함하여 구성될 수 있다. 제1 내지 제3 엑추에이터(141,142,143)는 제1 내지 제3 아암(121,122,123)을 독립되게 전후진 운동시켜, 기판(W)들을 전후방으로 이송시킬 수 있게 한다. 제1 내지 제3 엑추에이터(141,142,143)는 회전 구동부 등을 포함하여 구성될 수 있다. The driving unit may include first, second, third, fourth, fifth, and sixth actuators 141, 142, 143, 144, 145, and 146, and first, second, and third rotating shafts 151, 152, and 153. The first to third actuators 141, 142, and 143 independently move the first to third arms 121, 122, 123 to move forward and backward to transfer the substrates W back and forth. The first to third actuators 141, 142, and 143 may include a rotation driver and the like.

제4 액추에이터(144)는 제2,3 아암(122,123) 중 어느 하나, 예컨대 제3 아암(123)을 회전 운동시키기 위한 것이다. 제5 액추에이터(145)는 제1 아암(121)과 제2 아암(122)을 공히 회전 운동시키기 위한 것이다. 물론, 제4 액추에이터(144)가 제2 아암(122)을 회전 운동시키고, 제5 액추에이터(145)가 제1 아암(121)과 제3 아암(123)을 공히 회전 운동시키는 것도 가능하다. The fourth actuator 144 is for rotating the one of the second and third arms 122 and 123, for example, the third arm 123. The fifth actuator 145 is for rotating the first arm 121 and the second arm 122 together. Of course, it is also possible that the fourth actuator 144 rotates the second arm 122 and the fifth actuator 145 rotates the first arm 121 and the third arm 123 together.

제6 엑추에이터(146)는 제1 내지 제3 아암(121,122,123) 전체를 승강시켜, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)의 높이를 조절할 수 있게 한다. 제6 액추에이터(146)는 회전 모터와, 동력전달수단인 타이밍 벨트 또는 볼 스크류 등을 포함하여 구성될 수 있다. The sixth actuator 146 raises and lowers the entire first to third arms 121, 122, and 123 to adjust the height of the first to third arms 121, 122, and 123. The sixth actuator 146 may include a rotary motor and a timing belt or a ball screw, which are power transmission means.

제1,2,3 회전축(151,152,153)은 제1,2,3 아암(121,122,123)에 각각 결합한다. 제1 내지 제3 회전축(151,152,153)은 제1 내지 제3 엑추에이터(141,142,143)에 의해 각각 회전함에 따라, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)을 서로 독립적으로 전후진 운동시킬 수 있다. The first, second and third rotation shafts 151, 152 and 153 are coupled to the first, second and third arms 121, 122 and 123, respectively. As the first to third rotation shafts 151, 152, 153 rotate by the first to third actuators 141, 142, 143, respectively, the first to third arms 121, 122, 123 may independently move forward and backward.

제1 아암(121)과 제2 아암(122)이 제5 엑추에이터(145)에 의해 공히 회전하는 경우, 제1 회전축(151)과 제2 회전축(153)은 제5 엑추에이터(145)에 의해 함께 회전할 수 있다. 제1 내지 제3 회전축(151,152,153)은 로봇 몸체(110)에 동일 축 상으로 설치될 수 있다. When the first arm 121 and the second arm 122 rotate together by the fifth actuator 145, the first rotational axis 151 and the second rotational axis 153 are joined together by the fifth actuator 145. Can rotate The first to third rotation shafts 151, 152 and 153 may be installed on the same axis on the robot body 110.

전술한 구성의 기판 이송 로봇(100)은 제1 내지 제3 아암(121,122,123)이 전후진 운동이 독립되게 제어 가능하므로, 다음과 같은 이점이 있을 수 있다. 예를 들어, 기판들에 대한 공정 처리시 불량을 방지하기 위해, 공정처리 전의 기판들은 각 센터가 공정 모들(1330)의 설정 위치에 맞춰 로딩될 필요가 있다. 이 경우, 제2,3 아암(122,123)은 공정처리 전의 기판을 1장씩 맡아서 로드락 챔버(1320)로부터 공정 모듈(1330)로 이송하는 역할을 전담할 수 있다. 이때, 제2,3 아암(121,122)은 독립 제어 가능하므로, 2장의 기판들의 각 센터를 공정 모듈(1330)의 설정 위치에 동시에 맞춰 로딩할 수 있다. 따라서, 기판들의 로딩에 소요되는 시간을 최소화할 수 있다. Since the substrate transfer robot 100 having the above-described configuration can control the first to third arms 121, 122, and 123 independently of the forward and backward movements, the substrate transfer robot 100 may have the following advantages. For example, in order to prevent defects in the processing of the substrates, the substrates before the processing need each center to be loaded at a predetermined position of the process modules 1330. In this case, the second and third arms 122 and 123 may be in charge of transferring the substrate before the process to the process module 1330 from the load lock chamber 1320. In this case, since the second and third arms 121 and 122 may be independently controlled, each center of the two substrates may be loaded at the same time according to the setting position of the process module 1330. Therefore, the time required for loading the substrates can be minimized.

한편, 공정처리 후의 기판들을 로드락 챔버(1320)로 로딩하는 과정은 공정처리 전의 기판들을 공정 모듈(1330)로 로딩하는 과정보다 기판들에 대해 정밀한 위치 제어가 필요 없을 수 있다. 이 경우, 제1 아암(121)은 공정처리 후의 기판을 2장씩 공정 모듈(1330)로부터 로드락 챔버(1320)로 이송하는 역할을 전담할 수 있으므로, 전체 기판 이송 시간을 단축할 수 있다. 또한, 제1 아암(121)이 제2,3 아암(122,123)과 같이 구성되는 것과 비교해서, 구성을 단순화할 수 있고, 그에 따른 제조비용이 절감될 수 있다. Meanwhile, the process of loading the substrates after the process into the load lock chamber 1320 may not require precise position control with respect to the substrates than the process of loading the substrates before the process into the process module 1330. In this case, since the first arm 121 may be dedicated to transferring the substrates after the process treatment from the process module 1330 to the load lock chamber 1320, the entire substrate transfer time may be shortened. In addition, compared to the first arm 121 is configured as the second and third arms 122 and 123, the configuration can be simplified, and thus the manufacturing cost can be reduced.

그리고, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)이 전후진 운동이 독립되게 제어 가능하므로, 제2,3 아암(122,123)이 로드락 챔버(1320)로부터 기판들을 반출하여 대기한 상태에서, 제1 아암(121)은 공정 모듈(1330)에서 공정처리 후의 기판들을 반출할 수 있다. 그 직후, 제2,3 아암(122,123)은 대기 중인 기판들을 빈 공정 모듈(1330) 내로 반입함으로써, 공정처리 후의 기판과 공정처리 전의 기판 간에 교체를 신속하게 할 수 있다. In addition, since the first to third arms 121, 122, and 123 can control forward and rearward movement independently, the first and third arms 122, 123 carry the substrates from the load lock chamber 1320 and wait for the first arms. The 121 may carry out the substrates after the processing in the processing module 1330. Immediately thereafter, the second and third arms 122 and 123 may bring the standby substrates into the empty process module 1330, thereby enabling a quick replacement between the substrate after processing and the substrate before processing.

한편, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)은 전후진 운동시 스트로크(stroke)가 동일하게 설정될 수 있게 일부 구성요소의 크기에 차이가 있을 수 있으나, 실질적인 구성은 동일하게 이루어질 수 있다. 이하에서는, 제1 아암(121)을 중심으로 상세히 설명하기로 한다. On the other hand, the first to third arms 121, 122, 123 may have a difference in the size of some components so that the stroke (stroke) during the forward and backward movements can be set the same, the actual configuration may be the same. Hereinafter, the first arm 121 will be described in detail.

제1 아암(121)은 전후진 운동 가능한 구조로서, 후방 메인 바(131)와, 후방 서브 바(132)와, 링크 부재(133)와, 전방 메인 바(134)와, 전방 서브 바(135)와, 지지 부재(136), 및 엔드 이펙터(end effecter, 137)를 포함할 수 있다. The first arm 121 has a structure capable of moving forward and backward and includes a rear main bar 131, a rear sub bar 132, a link member 133, a front main bar 134, and a front sub bar 135. ), A support member 136, and an end effecter 137.

후방 메인 바(131)는 일단이 제1 회전축(151)에 결합하고, 타단이 링크 부재(133)에 결합한다. 여기서, 후방 메인 바(131)는 제1 회전축(151)에 고정되어 제1 회전축(151)과 함께 회전하며, 링크 부재(133)에 힌지 결합하여 링크 부재(133)에 대해 회전 가능하게 된다. The rear main bar 131 has one end coupled to the first rotation shaft 151 and the other end coupled to the link member 133. Here, the rear main bar 131 is fixed to the first rotation shaft 151 and rotates together with the first rotation shaft 151, and hinged to the link member 133 to be rotatable with respect to the link member 133.

후방 서브 바(132)는 후방 메인 바(131)의 옆에 나란히 배치된다. 그리고, 후방 서브 바(132)는 일단이 제1,2 가이드 축(161,162) 중 하나, 예컨대 제2 가이드 축(162)과 회전 가능하게 결합하고, 타단이 링크 부재(133)에 회전 가능하게 결합한다. 여기서, 제1,2 가이드 축(161,162)은 로봇 몸체(110)의 상부로 각각 돌출되게 설치된 것이다. 제1 가이드 축(161)에는 제2,3 아암(122)(123)의 각 후방 서브 바가 회전 가능하게 결합된다. 후방 서브 바(132)는 전방 서브 바(135)와 함께, 제1 회전축(151)에 의해 후방 메인 바(131)가 회전 운동하면, 엔드 이펙터(137)가 직선 운동할 수 있게 한다. The rear sub bar 132 is disposed side by side next to the rear main bar 131. In addition, one end of the rear sub bar 132 is rotatably coupled to one of the first and second guide shafts 161 and 162, for example, the second guide shaft 162, and the other end is rotatably coupled to the link member 133. do. Here, the first and second guide shafts 161 and 162 are installed to protrude to the upper portion of the robot body 110, respectively. Each rear sub-bar of the second and third arms 122 and 123 is rotatably coupled to the first guide shaft 161. The rear sub bar 132, together with the front sub bar 135, allows the end effector 137 to linearly move when the rear main bar 131 rotates by the first rotation shaft 151.

링크 부재(133)는 후방 메인 바(131)와 전방 메인 바(134)를 서로 연결하고, 후방 서브 바(132)와 전방 서브 바(135)를 서로 연결하기 위한 것이다. 전방 메인 바(134)와 전방 서브 바(135)는 일단이 링크 부재(133)에 회전 가능하게 각각 결합하고, 타단이 지지 부재(136)에 회전 가능하게 각각 결합한다. The link member 133 connects the rear main bar 131 and the front main bar 134 to each other and the rear sub bar 132 and the front sub bar 135 to each other. One end of the front main bar 134 and the front sub bar 135 is rotatably coupled to the link member 133, and the other end is rotatably coupled to the support member 136, respectively.

전방 메인 바(134)는 링크 부재(133)와 후방 메인 바(131)가 결합하는 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합할 수 있다. 그리고, 전방 서브 바(135)는 링크 부재(133)와 후방 서브 바(132)가 결합하는 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합할 수 있다. 지지 부재(136)는 기판(W)이 안착되는 엔드 이펙터(137)를 지지하기 위한 것이다. 엔드 이펙터(137)는 지지 부재(136)의 단부에 고정된다. 제1 아암(121)의 경우, 엔드 이펙터(137)는 2장의 기판(W)들이 함께 안착되도록 형성된다. 그리고, 제2,3 아암(122)(123)의 경우, 각 엔드 이펙터(137')는 1장의 기판(W)이 안착되도록 형성된다.
The front main bar 134 may be rotatably coupled to the rotation center axis to which the link member 133 and the rear main bar 131 are coupled. In addition, the front sub bar 135 may be rotatably coupled to a rotation center axis to which the link member 133 and the rear sub bar 132 are coupled. The support member 136 is for supporting the end effector 137 on which the substrate W is seated. The end effector 137 is fixed to the end of the support member 136. In the case of the first arm 121, the end effector 137 is formed such that the two substrates W are seated together. In the case of the second and third arms 122 and 123, each end effector 137 ′ is formed so that one substrate W is seated.

전술한 구성의 기판처리시스템(1000)에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법에 의해 기판을 이송하는 방법을 도 1과 함께, 도 5a 내지 도 5h를 참조하여, 설명하면 다음과 같다. In the substrate processing system 1000 having the above-described configuration, a method of transferring a substrate by a substrate transfer method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5A to 5H together with FIG. 1 as follows. .

먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, FOUP(1210)에 적재된 다수의 기판들은 로드 스테이션(1200)에 위치된다. 그러면, EPEM(1100)에 구비된 대기 로봇(1120)들은 FOUP(1210)에 적재된 기판들을 로드락 챔버(1320)로 반입하고, 공정 모듈(1330)을 거쳐 공정 처리되어 로드락 챔버(1320)로 반입된 기판들을 수거하여 FOUP(1210)에 적재하는 과정을 반복 수행한다. First, as shown in FIG. 1, a number of substrates loaded in the FOUP 1210 are located in the load station 1200. Then, the atmospheric robots 1120 included in the EPEM 1100 carry the substrates loaded in the FOUP 1210 into the load lock chamber 1320, and are processed through the process module 1330 to load the chamber 1320. Subsequently, the boards are collected and loaded into the FOUP 1210.

여기서, 대기 로봇(1120)들 중 어느 하나에 의해 버퍼부(1130)와 FOUP(1210) 간에 기판을 이송시키면, 다른 하나에 의해서는 버퍼부(1130)와 로드락 챔버(1320) 간에 기판을 이송시킬 수 있다. 이에 따라, 기판 이송 효율을 높일 수 있게 된다. Here, when the substrate is transferred between the buffer unit 1130 and the FOUP 1210 by one of the atmospheric robots 1120, the substrate is transferred between the buffer unit 1130 and the load lock chamber 1320 by the other. You can. As a result, the substrate transfer efficiency can be increased.

대기 로봇(1120)에 의해 로드락 챔버(1320)의 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버에 기판이 2장씩 반입되면, 기판 이송 로봇(100)을 이용하여, 로드락 챔버(1320)에 반입된 다수의 기판들을 2장씩 반출하여 공정 모듈 (1330)들에 각각 공급한다. When two substrates are loaded into the upper load lock chamber and the lower load lock chamber of the load lock chamber 1320 by the atmospheric robot 1120, the substrate is transferred to the load lock chamber 1320 using the substrate transfer robot 100. Two substrates are taken out and supplied to the process modules 1330, respectively.

예를 들어, 도 5a에 도시된 바와 같이, 로드락 챔버(1320)의 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버 중 어느 한쪽에 2장의 기판들(W1,W2)이 반입되면, 제2,3 아암(122,123)을 로드락 챔버(1320)로 전진시켜 엔드 이펙터(137')들에 2장의 기판들(W1,W2)을 각각 안착시킨다. For example, as shown in FIG. 5A, when two substrates W1 and W2 are loaded into either one of the upper load lock chamber and the lower load lock chamber of the load lock chamber 1320, the second and third arms are provided. The two substrates W1 and W2 are seated on the end effectors 137 ′ by advancing the 122 and 123 to the load lock chamber 1320.

이후, 도 5b에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123)을 후진시켜 엔드 이펙터(137')들에 안착된 2장의 기판들(W1,W2)을 반출한다. 이후, 도 5c에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123)을 공정 모듈(1330) 쪽으로 회전시킨 후, 제2,3 아암(122,123)을 전진시켜 공정 모듈(1330)에 2장의 기판들(W1,W2)을 1장씩 반입한다. 이 과정을 반복 수행하면, 도 5d에 도시된 바와 같이 모든 공정 모듈(1330)들에 기판들(W1,W2,W3,W4,W5,W6)을 반입될 수 있다. Thereafter, as shown in FIG. 5B, the second and third arms 122 and 123 are retracted to take out the two substrates W1 and W2 seated on the end effectors 137 ′. Thereafter, as shown in FIG. 5C, the second and third arms 122 and 123 are rotated toward the process module 1330, and then the second and third arms 122 and 123 are advanced to advance the two substrates to the process module 1330. Import one (W1, W2) piece of paper. If the process is repeated, the substrates W1, W2, W3, W4, W5, and W6 may be loaded into all the process modules 1330 as shown in FIG. 5D.

이후, 도 5e에 도시된 바와 같이, 로드락 챔버(1320)에 기판들(W7,W8)이 공급되어 적재된 상태에서, 제2,3 아암(122,123)을 전진시켜 엔드 이펙터(137')들에 기판들(W7,W8)을 안착시킨다. 이후, 제2,3 아암(122,123)을 후진시켜 기판들(W7,W8)을 반출시킨다. 이후, 도 5f에 도시된 바와 같이, 제1 아암(121)과 제2,3 아암(122,123) 모두를 최초 기판들(W1,W2)이 공급된 공정 모듈(1330) 쪽으로 회전시킨다. Thereafter, as shown in FIG. 5E, in the state in which the substrates W7 and W8 are loaded and loaded in the load lock chamber 1320, the second and third arms 122 and 123 are advanced to end end effectors 137 ′. The substrates W7 and W8 are seated on the substrate. Thereafter, the second and third arms 122 and 123 are reversed to carry out the substrates W7 and W8. Thereafter, as shown in FIG. 5F, both the first arm 121 and the second and third arms 122 and 123 are rotated toward the process module 1330 supplied with the original substrates W1 and W2.

이후, 도 5g에 도시된 바와 같이, 제1 아암(121)을 기판들(W1,W2)이 공정 처리된 공정 모듈(1330)로 전진시켜 기판들(W1,W2)을 엔드 이펙터(137)에 안착시킨 후, 제1 아암(121)을 후진시켜 반출한다. 그 직후, 제2,3 아암(122,123)에 대기 중인 기판들(W7,W8)을 빈 공정 모듈(1330)에 공급한다. 이와 같이, 제2,3 아암(122,123)을 이용하여 기판들(W7,W8)을 대기시킨 상태에서, 제1 아암(121)을 이용하여, 공정 처리된 기판들(W1,W2)을 공정 모듈(1330)로부터 반출시킨 직후, 대기시킨 기판들(W7,W8)을 공정 모듈(1330)로 공급하게 되므로, 기판 교체를 보다 신속하게 할 수 있게 된다. Subsequently, as shown in FIG. 5G, the first arm 121 is advanced to the process module 1330 in which the substrates W1 and W2 are processed to move the substrates W1 and W2 to the end effector 137. After seating, the first arm 121 is moved backward and taken out. Immediately thereafter, the substrates W7 and W8 waiting on the second and third arms 122 and 123 are supplied to the empty process module 1330. As described above, the substrates W1 and W2 are processed using the first arm 121 while the substrates W7 and W8 are held by using the second and third arms 122 and 123. Immediately after the release from the 1330, the standby substrates W7 and W8 are supplied to the process module 1330, so that the substrate replacement can be performed more quickly.

이후, 도 5h에 도시된 바와 같이, 제1 아암(121)을 로드락 챔버(1320) 쪽으로 회전시켜, 반출된 기판들(W1,W2)을 로드락 챔버(1320) 내로 반입한다. 여기서, 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버 중 어느 한쪽에 기판들이 적재되어 있는 상태라면, 비어 있는 다른 쪽으로 기판들(W1,W2)을 반입시킨다. Subsequently, as shown in FIG. 5H, the first arm 121 is rotated toward the load lock chamber 1320 to bring the taken-out substrates W1 and W2 into the load lock chamber 1320. Here, if the substrates are loaded in one of the upper load lock chamber and the lower load lock chamber, the substrates W1 and W2 are loaded into the other empty.

도 5e 내지 도 5h에 도시된 과정을 반복 수행하면, 나머지 공정 모듈(1330)들에 공정 처리된 기판들(W3,W4,W5,W6)을 새로운 기판들로 각각 신속하게 교체할 수 있게 된다. 또한, 기판들을 2장씩 이송시켜가며 공정 처리할 수 있으므로, 생산성 향상에 기여할 수 있게 된다. By repeating the process illustrated in FIGS. 5E to 5H, the substrates W3, W4, W5 and W6 processed in the remaining process modules 1330 may be quickly replaced with new substrates, respectively. In addition, since the substrate can be processed by transferring the sheet by two, it is possible to contribute to productivity improvement.

한편, 전술한 바와 같이 기판들을 처리하는 과정에서, 로드락 챔버(1320)에 1장의 기판이 존재하는 경우, 예컨대, 1장의 기판이 최종 존재하는 경우가 있을 수 있다. 이 경우, 도 6a 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 1장 남은 기판(WR)을 처리할 수 있다. Meanwhile, in the process of processing the substrates as described above, when one substrate is present in the load lock chamber 1320, for example, one substrate may be finally present. In this case, as shown in FIGS. 6A to 6C, one remaining substrate WR can be processed.

먼저, 도 6a에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123) 중 어느 하나, 예컨대 제2 아암(122)만을 로드락 챔버(1320)로 전진시켜 엔드 이펙터(137')에 기판(WR)을 안착시킨 후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 제2 아암(122)을 후진시켜 기판(WR)을 반출한다. First, as shown in FIG. 6A, only one of the second and third arms 122 and 123, for example, the second arm 122, is advanced to the load lock chamber 1320 so that the substrate WR may be connected to the end effector 137 ′. 6B, the second arm 122 is retracted and the substrate WR is carried out, as shown in FIG. 6B.

이후, 도 6c에 도시된 바와 같이, 제2 아암(122)과 함께 제1,3 아암(121,123)을 공정 처리된 기판들(WE1,WE2)이 적재된 공정 모듈(1330)로 회전시킨다. 이후, 제1 아암(121)을 전진시켜 공정 처리된 기판들(WE1,WE2)을 반출한다. 그 직후, 제2 아암(122)에 의해 대기 상태의 1장의 기판(WR)을 공정 모듈(1330)로 반입한다. 이때, 공정 모듈(1330)은 기판 처리 공간들에서 공정 처리가 독립되게 수행되도록 구성되는 경우, 1장의 기판(WR)을 수용한 기판 처리 공간에서만 공정 처리를 위한 동작이 수행되면 되고, 이와 인접한 기판 처리 공간에서는 공정 처리를 위한 동작이 수행되지 않아도 되는 이점이 있게 된다. Thereafter, as shown in FIG. 6C, the first and third arms 121 and 123 are rotated together with the second arm 122 to the process module 1330 loaded with the processed substrates WE1 and WE2. Thereafter, the first arm 121 is advanced to take out the processed substrates WE1 and WE2. Immediately thereafter, one substrate WR in the standby state is carried into the process module 1330 by the second arm 122. In this case, when the process module 1330 is configured to independently perform process processing in substrate processing spaces, an operation for process processing may be performed only in a substrate processing space accommodating one substrate WR, and the substrate adjacent thereto In the processing space, there is an advantage that an operation for processing the process does not have to be performed.

이후, 제1 아암(121)을 로드락 챔버(1320) 쪽으로 회전시켜, 반출된 기판들(WE1,WE2)을 로드락 챔버(1320) 내로 반입한다. 공정 모듈(1330)에서 최종 1장의 기판(WR)에 대해 공정 처리 완료되면, 제1 내지 제3 아암(121,122,123) 중 하나, 예컨대 제1 아암(121)을 동작시켜 공정 모듈(1330)로부터 반출한 후, 로드락 챔버(1320)로 반입할 수 있다. 이와 같이, 1장의 기판(WR)이 남은 경우, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)의 동작을 최소화할 수 있으므로, 분진 발생 가능성을 최대한 낮출 수 있다. Thereafter, the first arm 121 is rotated toward the load lock chamber 1320 to bring the taken-out substrates WE1 and WE2 into the load lock chamber 1320. When the process is completed on the last substrate WR in the process module 1330, one of the first to third arms 121, 122, and 123, for example, the first arm 121 is operated to be taken out of the process module 1330. Then, it may be carried into the load lock chamber 1320. As such, when one substrate WR is left, the operations of the first to third arms 121, 122, and 123 can be minimized, and the possibility of dust generation can be minimized.

한편, 제2,3 아암(122,123)의 엔드 이펙터(137')들에 각각 안착된 기판들을 공정 모듈(1330) 내로 로딩하기 전에, 기판들이 엔드 이펙터(137')들 상에 정확하게 위치되지 않을 수 있다. 그 원인은 FOUP(1210)에 기판들이 잘못 위치되어 적재된 상태에서 로드락 챔버(1320)로 그대로 공급되거나, 기판이 FOUP(1210)로부터 로드락 챔버(1320)로 이송되는 과정에서 위치가 변경됨으로 인해 기인할 수 있다. 또는, 그 원인은 기판이 로드락 챔버(1320)로부터 반출되어 공정 모듈(1330) 쪽으로 이송되는 과정에서 위치가 변경됨으로 인해 기인할 수도 있다. Meanwhile, before loading the substrates seated in the end effectors 137 ′ of the second and third arms 122 and 123 into the process module 1330, the substrates may not be correctly positioned on the end effectors 137 ′. have. The reason for this is that the substrates are supplied to the load lock chamber 1320 in the state in which the substrates are misplaced and loaded in the FOUP 1210 or the position is changed in the process of transferring the substrate from the FOUP 1210 to the load lock chamber 1320. May be due. Alternatively, the cause may be due to a change in position in the process in which the substrate is removed from the load lock chamber 1320 and transferred to the process module 1330.

만일, 부정확하게 위치된 기판들이 공정 모듈(1330) 내에 그대로 로딩되면, 기판 공정 처리시 불량이 발생할 수 있다. 이를 방지하기 위해, 기판들의 각 센터를 공정 모듈(1330) 내의 설정 위치에 맞춰서 공정 모듈(1330) 내로 로딩할 수 있다. If incorrectly positioned substrates are loaded into the processing module 1330 as they are, a defect may occur in processing the substrate. To prevent this, each center of the substrates may be loaded into the process module 1330 at a set position in the process module 1330.

예컨대, 도 7에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123)은 전후진 및 회전 동작이 서로 독립적으로 이루어질 수 있다. 따라서, 제2 아암(122)에 안착된 기판(W1)의 센터(C1)를 전후 좌우 이동시켜가며 공정 모듈(1330) 내에 위치한 스테이지(1332a) 상의 설정 위치(C3)에 맞춰서 공정 모듈(1330) 내로 로딩함과 동시에, 제3 아암(123)에 안착된 기판(W2)의 센터(C2)를 전후좌우 이동시켜가며 공정 모듈(1330) 내에 위치한 스테이지(1332b) 상의 설정 위치(C4)에 맞춰서 공정 모듈(1330) 내로 신속하게 로딩함이 가능하다. For example, as illustrated in FIG. 7, the second and third arms 122 and 123 may be moved forward and backward independently of each other. Therefore, the process module 1330 is aligned with the set position C3 on the stage 1332a positioned in the process module 1330 by moving the center C1 of the substrate W1 seated on the second arm 122 back and forth. Simultaneously with loading, the center C2 of the substrate W2 seated on the third arm 123 is moved back and forth and left and right to match the set position C4 on the stage 1332b located in the process module 1330. It is possible to quickly load into module 1330.

기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)를 설정 위치(C3,C4)로 맞추는 방법은 다양할 수 있다. 그 일 예로 공정 모듈측 감지센서(1331)들을 이용할 수 있다. 이 경우, 기판들(W1,W2)을 공정 모듈(1330) 내로 진입시키는 과정에서 이송 챔버(1310)내의 공정 모듈측 감지센서(1331)들로부터 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 획득한다. 이렇게 획득된 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 후, 그 결과를 토대로 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)가 설정 위치(C3,C4)에 맞춰져 공정 모듈(1330) 내로 로딩되게 제2,3 아암(122,123)을 독립 제어할 수 있다. 기준 위치 정보는 기판이 엔드 이펙터에 정상적으로 위치된 상태에서 공정 모듈(1330) 내로 로딩될 때를 가정하여 미리 설정된 위치 정보에 해당할 수 있다. The centers C1 and C2 of the substrates W1 and W2 may be adjusted to the set positions C3 and C4. For example, the process module side detection sensors 1331 may be used. In this case, in the process of entering the substrates W1 and W2 into the process module 1330, each position information of the substrates W1 and W2 is obtained from the sensor module side sensing sensors 1331 in the transfer chamber 1310. do. After the respective position information of the substrates W1 and W2 thus obtained are compared with the reference position information, the centers C1 and C2 of the substrates W1 and W2 are set to the set positions C3 and C4 based on the result. The second and third arms 122 and 123 may be independently controlled to fit into the process module 1330. The reference position information may correspond to preset position information on the assumption that the substrate is loaded into the process module 1330 in a state where the substrate is normally positioned at the end effector.

다른 예로, 내의 로드락 챔버측 감지센서(1321)들로부터 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 획득할 수도 있다. 이렇게 획득된 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 후, 그 결과를 토대로 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)가 설정 위치(C3,C4)에 맞춰져 공정 모듈(1330) 내로 로딩되게 제2,3 아암(122,123)을 독립 제어할 수 있다. As another example, each position information of the substrates W1 and W2 may be obtained from the load lock chamber-side detection sensors 1321. After the respective position information of the substrates W1 and W2 thus obtained are compared with the reference position information, the centers C1 and C2 of the substrates W1 and W2 are set to the set positions C3 and C4 based on the result. The second and third arms 122 and 123 may be independently controlled to fit into the process module 1330.

물론, 공정 모듈측 감지센서(1331)와 로드락 챔버측 감지센서(1321)를 모두 이용해서, 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)가 설정 위치(C3,C4)에 맞춰져 공정 모듈(1330) 내로 로딩되게 제2,3 아암(122,123)을 독립 제어할 수도 있다. 이 경우, 공정 모듈측 감지센서(1331)로부터 획득된 위치 정보를 토대로, 공정 모듈(1330) 내로 로딩될 기판들(W1,W2)의 각 센터 위치(C1,C2)를 설정 위치(C3,C4)로 맞출 때, 로드락 챔버측 감지센서(1321)들로부터 획득된 위치 정보는 보정을 행하는데 이용될 수 있다. 따라서, 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)를 설정 위치(C3,C4)에 보다 정밀하게 맞출 수 있다.Of course, by using both the process module side sensor 1331 and the load lock chamber side sensor 1321, the centers C1 and C2 of the substrates W1 and W2 are aligned to the set positions C3 and C4. The second and third arms 122 and 123 may be independently controlled to be loaded into the process module 1330. In this case, the center positions C1 and C2 of the substrates W1 and W2 to be loaded into the process module 1330 are set based on the position information acquired from the process module side sensor 1331. ), Position information obtained from the load lock chamber side sensor 1321 can be used to perform the correction. Therefore, the centers C1 and C2 of the substrates W1 and W2 can be more precisely aligned with the set positions C3 and C4.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation and that those skilled in the art will recognize that various modifications and equivalent arrangements may be made therein. It will be possible. Accordingly, the true scope of protection of the present invention should be determined only by the appended claims.

100..진공 로봇 121..제1 아암
122..제2 아암 123..제3 아암
1100..EFEM 1120..대기 로봇
1210..FOUP 1310..이송 챔버
1320..로드락 챔버 1330..공정 모듈
100 .. vacuum robot 121 .. 1st arm
122..second arm 123 .. third arm
1100..EFEM 1120..Standby Robot
1210.FOUP 1310..Transfer chamber
1320. Load lock chamber 1330 Process module

Claims (21)

이송 챔버; 상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버; 상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및 상기 이송 챔버 내에 배치되어 상기 로드락 챔버와 공정 모듈들 간에 기판을 이송하는 것으로, 상하부 중 어느 한쪽에서 2장의 기판을 동시에 이송하도록 동작하는 제1 아암과, 다른 쪽에서 1장의 기판을 개별 이송하도록 동작하는 제2,3 아암을 구비하는 기판 이송 로봇;을 포함하는 기판처리시스템의 기판 이송 방법으로서,
(a) 로드락 챔버에 다수 공급된 기판들을 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 모듈들에 각각 반입하는 단계;
(b) 제2,3 아암을 이용하여 로드락 챔버로부터 2장의 기판들을 반출해서 대기하는 단계;
(c) 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 기판 이송 로봇의 제1 아암을 이용하여 반출한 후, 대기 상태의 2장의 기판들을 빈 공정 모듈에 반입하는 단계; 및
(d) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;
를 포함하는 기판 이송 방법.
Transfer chamber; A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates; Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And a first arm disposed in the transfer chamber to transfer a substrate between the load lock chamber and the process modules, the first arm operative to simultaneously transfer two substrates at one of the upper and lower sides, and one substrate at the other. A substrate transfer method of a substrate processing system comprising; a substrate transfer robot having a second and third arms to operate.
(a) loading a plurality of substrates supplied to the load lock chamber into the process modules using a substrate transfer robot;
(b) unloading two substrates from the load lock chamber using the second and third arms to wait;
(c) exporting the two substrates processed in the process module using the first arm of the substrate transfer robot, and then importing the two substrates in the standby state into the empty process module; And
(d) importing two substrates taken out of the process module into the load lock chamber;
Substrate transfer method comprising a.
제1항에 있어서,
상기 (c) 단계는,
제2,3 아암을 독립 제어하여 제2 아암에 안착된 기판의 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 로딩함과 동시에, 제3 아암에 안착된 기판의 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 로딩하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
The method of claim 1,
The step (c)
Independently controlling the second and third arms, the center of the substrate seated on the second arm is loaded into the process module according to the set position in the process module, and the center of the substrate seated on the third arm is set at the set position in the process module. And a step of loading into the process module accordingly.
제2항에 있어서,
상기 이송 챔버 내에는 공정 모듈측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되며;
상기 (c) 단계는, 상기 제2,3 아암에 의해 기판들을 공정 모듈로 반입하는 과정에서 공정 모듈측 감지센서들로부터 획득된 기판들의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 결과를 토대로 제2,3 아암을 독립 제어해서, 기판들의 각 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 각각 로딩하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
The method of claim 2,
In the transfer chamber, two pairs of process module-side detection sensors are arranged to correspond to one pair for each substrate;
In the step (c), the second and third arms are based on a result of comparing the respective position information of the substrates obtained from the process module-side sensor in the process of bringing the substrates into the process module with the reference position information. And 3 independently controlling the arms to load each center of the substrates into the process module at a predetermined position in the process module.
제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 이송 챔버 내에는 로드락 챔버측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되며;
상기 (b) 단계는, 상기 기판들을 로드락 챔버로부터 반출하는 과정에서 로드락 챔버측 감지센서들로부터 획득된 기판들의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 결과를 토대로 제2,3 아암을 독립 제어해서, 기판들의 각 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 각각 로딩하는 것을 특징으로 하는 기판 이송방법.
The method according to claim 2 or 3,
In the transfer chamber, a plurality of load lock chamber-side detection sensors are provided in pairs, one pair for each substrate;
In the step (b), the second and third arms are independent based on a result of comparing respective position information of the substrates obtained from the load lock chamber-side sensor sensors with the reference position information in the process of removing the substrates from the load lock chamber. Controlling and loading each center of the substrates into the process module according to a predetermined position in the process module.
제1항에 있어서,
(e) 로드락 챔버에 1장의 기판이 존재하는 경우, 제2,3 아암 중 하나의 아암만을 동작시켜 기판을 로드락 챔버로부터 반출하여 대기하는 단계;
(f) 제1 아암을 이용하여 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 반출한 후, 대기 상태의 1장의 기판을 빈 공정 모듈로 반입하는 단계; 및
(g) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
The method of claim 1,
(e) if there is one substrate in the load lock chamber, operating only one of the second and third arms to take the substrate out of the load lock chamber and to wait;
(f) taking out two substrates processed in the process module using the first arm, and then importing one substrate in the standby state into the empty process module; And
(g) importing two substrates taken out of the process module into the load lock chamber;
Substrate transfer method characterized in that it further comprises.
제1항에 있어서,
로드락 챔버는 2장의 기판들이 공급될 수 있게 각각 형성된 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버가 적층되어 구성되며;
상기 (d) 단계는, 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버 중 어느 한쪽에 기판들이 적재되어 있는 상태라면, 비어 있는 다른 쪽으로 기판들을 반입하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
The method of claim 1,
The load lock chamber is formed by stacking an upper load lock chamber and a lower load lock chamber respectively formed to supply two substrates;
Wherein (d), if the substrate is loaded in any one of the upper load lock chamber and the lower load lock chamber, the substrate transfer method comprising the step of bringing the substrate to the other empty.
제1항에 있어서,
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판 처리 공간을 포함하는 2개의 공정 챔버들이 횡으로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
The method of claim 1,
The process module is a substrate transfer method, characterized in that the two process chambers each comprising a substrate processing space is arranged arranged horizontally.
제1항에 있어서,
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판을 처리하는 복수의 기판 처리 공간을 포함하는 단일 공정 챔버 몸체로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
The method of claim 1,
Wherein said process module comprises a single process chamber body comprising a plurality of substrate processing spaces each processing a substrate.
로드락 챔버와 공정 모듈 간에 기판을 이송하기 이송 챔버 내에 설치되는 것으로,
상기 이송 챔버 내에 설치된 로봇 몸체;
상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 형성되며, 2장의 기판들을 안착시켜 이송하는 제1 아암;
상기 제1 아암의 상부 또는 하부에서 동일 평면 상에 좌우로 배치되어 상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 각각 형성되며, 각각 1장의 기판을 안착시켜 이송하는 제2,3 아암; 및
상기 제1,2,3 아암을 구동시키는 구동 유닛;
을 포함하는 기판 이송 로봇.
It is installed in the transfer chamber for transferring the substrate between the load lock chamber and the process module,
A robot body installed in the transfer chamber;
A first arm installed on the robot body and configured to move forward and backward, and seating and transporting two substrates;
Second and third arms disposed on the same plane in the upper or lower portion of the first arm and installed on the robot body and respectively formed to move forward and backward, respectively, for seating and transporting one substrate; And
A drive unit for driving the first, second and third arms;
Substrate transfer robot comprising a.
제9항에 있어서,
상기 구동 유닛은,
상기 제1 내지 제3 아암과 각각 결합하는 제1,2,3 회전축;
상기 제1 내지 제3 아암을 독립되게 전후진 운동시키기 위한 제1,2,3 엑추에이터;
상기 제2,3 아암 중 어느 하나를 회전 운동시키기 위한 제4 액추에이터;
상기 제2,3 아암 중 다른 하나와 상기 제1 아암을 공히 회전 운동시키기 위한 제5 엑추에이터; 및
상기 제1 내지 제3 아암 전체를 승강시키기 위한 제6 엑추에이터;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇.
10. The method of claim 9,
The driving unit includes:
First, second and third rotational shafts respectively coupled to the first to third arms;
First, second and third actuators for independently moving the first to third arms forward and backward;
A fourth actuator for rotating one of the second and third arms;
A fifth actuator for rotating the first arm and the other of the second and third arms in parallel; And
A sixth actuator for elevating the entirety of the first to third arms;
Substrate transfer robot comprising a.
제10항에 있어서,
상기 제1,2,3 회전축은 상기 로봇 몸체에 동일 축 상으로 설치된 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇.
The method of claim 10,
And the first, second and third rotation axes are installed on the same axis on the robot body.
제10항에 있어서,
상기 제1 내지 제3 아암의 각각은:
상기 제1 내지 제3 회전축 중 하나와 결합하는 후방 메인 바,
상기 로봇 몸체에 설치된 제1,2 가이드 축 중 하나와 회전 가능하게 결합하고 상기 후방 메인 바의 옆에 나란히 배치되는 후방 서브 바,
상기 후방 메인 바와 상기 후방 서브 바와 각각 회전 가능하게 결합하는 링크 부재,
상기 링크 부재와 상기 후방 메인 바가 결합하는 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합하는 전방 메인 바,
상기 링크 부재와 상기 후방 서브 바가 결합한 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합하고 상기 전방 메인 바의 옆에 나란히 배치되는 전방 서브 바,
상기 전방 메인 바와 상기 전방 서브 바와 각각 회전 가능하게 결합하는 지지 부재, 및
상기 지지 부재에 고정되는 엔드 이펙터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇.
The method of claim 10,
Each of the first to third arms is:
A rear main bar engaging with one of the first to third rotational shafts,
A rear sub-bar rotatably coupled to one of the first and second guide shafts installed in the robot body and disposed side by side of the rear main bar;
Link members rotatably coupled to the rear main bar and the rear sub bar, respectively;
A front main bar rotatably coupled to a rotation center axis to which the link member and the rear main bar are coupled;
A front sub bar rotatably coupled to a rotation center axis where the link member and the rear sub bar are coupled and disposed side by side of the front main bar,
Support members rotatably coupled to the front main bar and the front sub bar, respectively;
And an end effector fixed to said support member.
제12항에 있어서,
상기 제1 아암의 엔드 이펙터는 2장의 기판들이 안착되도록 형성되고, 상기 제2,3 아암의 각 엔드 이펙터는 1장의 기판이 안착되도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇.
The method of claim 12,
The end effector of the first arm is formed so that two substrates are seated, each end effector of the second and third arms is formed so that one substrate is seated.
이송 챔버;
상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버;
상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및
상기 이송 챔버 내에 배치되는 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 기판 이송 로봇;
을 포함하는 기판처리시스템.
Transfer chamber;
A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates;
Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And
The substrate transfer robot of any one of Claims 9-13 arrange | positioned in the said transfer chamber;
Substrate processing system comprising a.
제14항에 있어서,
상기 이송 챔버 내에는 공정 모듈측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되어 기판들이 공정 모듈로 반입하는 과정에서 기판들의 각 위치 정보를 획득하도록 된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
15. The method of claim 14,
In the transfer chamber, a plurality of process module-side sensor sensors are formed in pairs to correspond to each pair of substrates so as to acquire respective position information of the substrates while the substrates are brought into the process module. .
제14항 또는 제15항에 있어서,
상기 이송 챔버 내에는 로드락 챔버측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되어 기판들이 로드락 챔버로부터 반출하는 과정에서 기판의 각 위치 정보를 획득하도록 된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
16. The method according to claim 14 or 15,
In the transfer chamber, a plurality of load lock chamber-side detection sensors are formed in pairs to correspond to each pair of substrates so as to acquire respective position information of the substrate in the process of taking out the substrates from the load lock chamber. Processing system.
제14항에 있어서,
상기 로드락 챔버는 횡으로 2장의 기판이 배치되도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
15. The method of claim 14,
The load lock chamber is a substrate processing system, characterized in that the two substrates are arranged to be arranged laterally.
제14항에 있어서,
상기 로드락 챔버는 2장의 기판들이 공급될 수 있게 각각 형성된 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버가 적층되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
15. The method of claim 14,
The load lock chamber is a substrate processing system, characterized in that the upper load lock chamber and the lower load lock chamber formed so that the two substrates can be supplied are stacked.
제18항에 있어서,
상기 상부 및 하부 로드락 챔버는 횡으로 2장의 기판이 배치되도록 각각 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
19. The method of claim 18,
And the upper and lower load lock chambers are configured such that two substrates are disposed transversely.
제14항에 있어서,
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판 처리 공간을 포함하는 2개의 공정 챔버들이 횡으로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
15. The method of claim 14,
The process module is a substrate processing system, characterized in that the two process chambers each comprising a substrate processing space is arranged arranged horizontally.
제14항에 있어서,
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판을 처리하는 복수의 기판 처리 공간을 포함하는 단일 공정 챔버 몸체로 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
15. The method of claim 14,
Wherein said process module comprises a single process chamber body comprising a plurality of substrate processing spaces each processing a substrate.
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