KR20130104341A - Method of transferring substrate, robot for transferring substrate and substrate treatment system having the same - Google Patents
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Abstract
기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템에 관한 것이다. 기판 이송 방법에 따르면, (a) 로드락 챔버에 다수 공급된 기판들을 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 모듈들에 각각 반입하는 단계; (b) 제2,3 아암을 이용하여 로드락 챔버로부터 2장의 기판들을 반출해서 대기하는 단계; (c) 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 기판 이송 로봇의 제1 아암을 이용하여 반출한 후, 대기 상태의 2장의 기판들을 빈 공정 모듈에 반입하는 단계; 및 (d) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;를 포함한다. A substrate transfer method, a substrate transfer robot, and a substrate processing system including the same. According to a substrate transfer method, (a) loading a plurality of substrates supplied into a load lock chamber into process modules using a substrate transfer robot, respectively; (b) unloading two substrates from the load lock chamber using the second and third arms to wait; (c) exporting the two substrates processed in the process module using the first arm of the substrate transfer robot, and then importing the two substrates in the standby state into the empty process module; And (d) importing two substrates taken out from the process module into the load lock chamber.
Description
본 발명은 반도체소자, 디스플레이소자 등을 제조하기 위한 기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate transfer method, a substrate transfer robot, and a substrate processing system including the same for manufacturing a semiconductor device, a display device, and the like.
일반적으로, 반도체소자, 디스플레이소자는 웨이퍼 또는 글라스기판(이하 기판으로 통칭함)에 대해 박막 증착, 식각 등의 각종 공정을 거쳐 제조된다. 최근에는 공정의 효율을 높이기 위해 클러스터 기판처리시스템이 주로 사용되고 있다. In general, semiconductor devices and display devices are manufactured through various processes such as thin film deposition and etching on a wafer or a glass substrate (hereinafter referred to as a substrate). Recently, the cluster substrate processing system is mainly used to increase the efficiency of the process.
클러스터 기판처리시스템에서, 이송 챔버(transport chamber)는 사각 또는 다각의 형상으로 이루어지고, 중앙에 이송 로봇이 설치된다. 그리고, 이송 챔버의 한쪽에는 로드락 챔버(load lock chamber)가 배치되고, 다른 쪽에는 공정 모듈(process module)들이 배치된다. In the cluster substrate processing system, the transport chamber has a square or polygonal shape and a transfer robot is installed at the center. A load lock chamber is disposed on one side of the transfer chamber and process modules are disposed on the other side.
초기의 클러스터 기판처리시스템에서, 이송 로봇은 기판을 1장씩 로드락 챔버로부터 공정 모듈로 이송하고, 공정 모듈에서 공정 처리된 기판을 로드락 챔버로 이송하는 동작을 반복 수행하는 것이 일반적이었다. 하지만, 이러한 방식은 제품의 생산성을 저하시키는 문제가 있었는바, 이를 해결하기 위해 다양한 방안이 제안되고 있다. In the early cluster substrate processing system, it was common for the transfer robot to repeatedly transfer the substrates from the load lock chamber to the process module one by one, and transfer the substrate processed in the process module to the load lock chamber. However, this method has a problem of lowering the productivity of the product, various methods have been proposed to solve this problem.
그 일 예로, 기판을 2장씩 로드락 챔버로부터 공정 모듈로 이송하고, 공정 모듈에서 공정 처리된 기판을 로드락 챔버로 이송하는 동작을 반복 수행할 수 있는 이송 로봇이 있다. 이송 로봇은 아암(arm)의 단부에 2개의 엔드 이펙터(end effecter)들을 구비한다. 여기서, 엔드 이펙터들은 각각 기판을 1장씩 맡아서 이송하도록 기능함으로써, 이송 로봇이 기판을 2장씩 동시에 이송할 수 있게 한다. For example, there is a transfer robot capable of repeatedly transferring the substrates from the load lock chamber to the process module, and transferring the substrate processed by the process module to the load lock chamber. The transfer robot has two end effectors at the end of the arm. Here, each of the end effectors functions to take one substrate and transfer the substrate, thereby enabling the transfer robot to transfer two substrates simultaneously.
그런데, 전술한 이송 로봇은 엔드 이펙터들 사이의 간격이 고정된 구조를 갖는다. 즉, 엔드 이펙터들은 아암의 단부에 회전 가능하게 설치된 지지 부재의 양단에 고정된다. 따라서, 엔드 이펙터들은 기판을 2장씩 동시에 이송할 수 밖에 없다. 또한, 엔드 이펙터들은 2장의 기판들을 공정 모듈 내로 로딩한 상태에서, 기판들의 중심이 설정된 위치에 맞지 않는 경우, 기판들의 각 중심을 순차적으로 맞추도록 동작해야 한다. 이로 인해, 기판들의 중심을 동시에 맞추는 것에 비해 시간이 더 소요되어, 생산성 저하의 원인이 될 수 있다. However, the above-described transfer robot has a structure in which the distance between end effectors is fixed. That is, the end effectors are fixed to both ends of the support member rotatably installed at the end of the arm. Therefore, the end effectors have no choice but to simultaneously transfer two substrates at a time. In addition, the end effectors should be operated to sequentially center each center of the substrates when the two substrates are loaded into the process module and the centers of the substrates do not match the set positions. As a result, it takes more time than centering the substrates at the same time, which may cause a decrease in productivity.
게다가, 공정 모듈 내로 1장의 기판만을 공급할 상황인 경우, 예컨대 공정 모듈로 공급될 기판이 마지막에 1장만 존재하는 경우에도, 엔드 이펙터들이 공정 모듈로 모두 진입해야 한다. 이에 따라, 엔드 이펙터들 중 하나가 공정 모듈 내로 진입하도록 동작하는 것에 비해 분진 발생 가능성이 높아지는 문제가 있을 수 있다. In addition, in the situation where only one substrate is to be supplied into the process module, for example, even when there is only one substrate to be supplied to the process module at the end, all of the end effectors must enter the process module. Accordingly, there may be a problem in that the probability of dust generation becomes higher than one of the end effectors is operated to enter the process module.
본 발명의 과제는 2장의 기판들을 공정 모듈 또는 로드락 챔버로 동시에 이송할 수 있을 뿐 아니라, 1장의 기판만을 이송할 수 있으며, 기판 이송 효율을 높일 수 있는 기판 이송 방법, 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템을 제공함에 있다.The object of the present invention is to not only transfer two substrates to the process module or load lock chamber at the same time, but also to transfer only one substrate, substrate transfer method that can improve the substrate transfer efficiency, substrate transfer robot and the like It is to provide a substrate processing system.
상기의 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 이송 방법은, The substrate transfer method according to the present invention for achieving the above object,
이송 챔버; 상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버; 상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및 상기 이송 챔버 내에 배치되어 상기 로드락 챔버와 공정 모듈들 간에 기판을 이송하는 것으로, Transfer chamber; A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates; Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And disposed in the transfer chamber to transfer a substrate between the load lock chamber and process modules,
상하부 중 어느 한쪽에서 2장의 기판을 동시에 이송하도록 동작하는 제1 아암과, 다른 쪽에서 1장의 기판을 개별 이송하도록 동작하는 제2,3 아암을 구비하는 기판 이송 로봇;을 포함하는 기판처리시스템의 기판 이송 방법으로서, (a) 로드락 챔버에 다수 공급된 기판들을 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 모듈들에 각각 반입하는 단계; (b) 제2,3 아암을 이용하여 로드락 챔버로부터 2장의 기판들을 반출해서 대기하는 단계; (c) 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 기판 이송 로봇의 제1 아암을 이용하여 반출한 후, 대기 상태의 2장의 기판들을 빈 공정 모듈에 반입하는 단계; 및 (d) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;를 포함한다. A substrate transfer robot having a first arm operable to simultaneously transfer two substrates from one of the upper and lower parts, and a second and third arms operable to individually transfer one substrate from the other side; A transfer method, comprising: (a) loading a plurality of substrates supplied to a load lock chamber into process modules using a substrate transfer robot, respectively; (b) unloading two substrates from the load lock chamber using the second and third arms to wait; (c) exporting the two substrates processed in the process module using the first arm of the substrate transfer robot, and then importing the two substrates in the standby state into the empty process module; And (d) importing two substrates taken out from the process module into the load lock chamber.
본 발명에 따른 기판 이송 로봇은, The substrate transfer robot according to the present invention,
로드락 챔버와 공정 모듈 간에 기판을 이송하기 이송 챔버 내에 설치되는 것으로, 상기 이송 챔버 내에 설치된 로봇 몸체; 상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 형성되며, 2장의 기판들을 안착시켜 이송하는 제1 아암; 상기 제1 아암의 상부 또는 하부에서 동일 평면 상에 좌우로 배치되어 상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 각각 형성되며, 각각 1장의 기판을 안착시켜 이송하는 제2,3 아암; 및 상기 제1,2,3 아암을 구동시키는 구동 유닛을 포함한다. A robot body installed in the transfer chamber for transferring the substrate between the load lock chamber and the process module; A first arm installed on the robot body and configured to move forward and backward, and seating and transporting two substrates; Second and third arms disposed on the same plane in the upper or lower portion of the first arm and installed on the robot body and respectively formed to move forward and backward, respectively, for seating and transporting one substrate; And a drive unit for driving the first, second, and third arms.
그리고, 본 발명에 따른 기판처리시스템은, And, the substrate processing system according to the present invention,
이송 챔버; 상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버; 상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및 상기 이송 챔버 내에 배치되는 기판 이송 로봇;을 포함한다. Transfer chamber; A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates; Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And a substrate transfer robot disposed in the transfer chamber.
본 발명에 따르면, 제1 아암은 공정처리 후의 기판을 2장씩 공정 모듈로부터 로드락 챔버로 이송하는 역할을 전담할 수 있고, 서로 독립 가능하게 제어되는 제2,3 아암은 공정처리 전의 기판을 1장씩 맡아서 로드락 챔버로부터 공정 모듈로 이송하는 역할을 전담할 수 있다. According to the present invention, the first arm may be responsible for transferring the substrate after the process from the process module to the load lock chamber by two sheets, and the second and third arms controlled independently of each other may serve as the substrate before the process. Each one can be assigned to transfer from the load lock chamber to the process module.
이에 따라, 기판들을 한번에 2장씩 로드락 챔버와 공정 모듈 간에 이송할 수 있을 뿐 아니라, 공정 모듈에서 공정 처리된 웨이퍼와 이송 챔버 내에서 공정을 위해 대기 중인 웨이퍼 간에 교체를 신속하게 할 수 있다. 또한, 제2,3 아암에 의해 공정 모듈 내로 로딩되는 2장의 기판들의 각 중심을 설정된 위치에 동시에 맞출 수 있게 되므로, 중심을 맞추는데 소요되는 시간을 최소화할 수 있다. Accordingly, not only can the substrates be transferred between the load lock chamber and the process module two sheets at a time, but also the replacement between the wafer processed in the process module and the wafer waiting for processing in the transfer chamber can be performed quickly. In addition, since the centers of the two substrates loaded into the process module by the second and third arms can be simultaneously aligned with the set positions, the time required for the centering can be minimized.
또한, 본 발명에 따르면, 공정 모듈 내로 1장의 기판만을 공급할 상황인 경우, 아암들의 동작을 최소화하여 1장의 기판을 처리할 수 있으므로, 분진 발생 가능성을 낮출 수 있다. In addition, according to the present invention, when only one substrate is supplied into the process module, since the operation of the arms can be processed by minimizing the operation of the arms, the possibility of dust generation can be reduced.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리시스템에 대한 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 로봇에 대한 분해 사시도.
도 3은 도 2의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 측 단면도.
도 4는 도 3의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 평면도.
도 5a 내지 도 5h는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법을 설명하기 위한 도면.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법에 있어서, 최종 1장 남은 기판 이송하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법에 있어서, 기판들의 각 센터를 맞춰 공정 모듈에 로딩하는 과정을 설명하기 위한 도면.1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is an exploded perspective view of a substrate transfer robot according to an embodiment of the present invention.
3 is a side cross-sectional view of the substrate transfer robot of FIG. 2 assembled;
4 is a plan view of the substrate transfer robot of FIG. 3 assembled;
5A to 5H are views for explaining a substrate transfer method according to an embodiment of the present invention.
6A to 6C are diagrams for explaining a method for transferring the last one remaining substrate in the substrate transfer method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a view illustrating a process of loading a process module by aligning each center of substrates in a substrate transfer method according to an exemplary embodiment of the present invention.
이하 첨부된 도면을 참조하여, 바람직한 실시예에 따른 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리시스템에 대한 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 기판처리시스템(1000)에는 기판 핸들링 모듈의 한 종류인 EFEM(Equipment Front End Module, 1100)이 설치된다. EFEM(1100)은 프레임(1110)과, 그 일 측벽에 기판 저장용기 예컨대, FOUP(Front Open Unified Pod, 1210)가 놓여지는 로드 스테이션(load station, 1200)을 포함하여 구성된다. 프레임(1110)의 내부에는 FOUP(1210)의 도어를 개폐하는 개폐부가 설치되고, FOUP(1210)와 공정 파트(1300) 간 기판을 이송하는 대기 로봇(atmospheric robot, 1120)이 설치된다. 대기 로봇(1120)은 2개로 구비될 수 있으며, 대기 로봇(1120)들 사이에 기판을 로드락 챔버(1320)로 보다 신속하게 이송할 수 있도록 버퍼부(1130)가 마련될 수 있다. Referring to FIG. 1, the
공정 파트(1300)는 기판에 각종 공정, 예컨대 증착 또는 식각 공정을 수행하기 위한 것이다. 공정 파트(1300)는 사각 형상의 이송 챔버(1310)와, 이송 챔버(1310)의 하나의 측면에 배치되는 로드락 챔버(1320)와, 3측면에 배치되는 공정 모듈(1330)들, 및 이송 챔버(1310) 내에 설치된 기판 이송 로봇(100)을 포함한 클러스터 시스템으로 구성될 수 있다. 이송 챔버(1310)는 사각 형상으로 이루어진 것으로 도시되어 있으나, 다각 형상으로 이루어지는 것도 가능하다. The
로드락 챔버(1320)는 EFEM(1100)에 마주하게 배치된다. 로드락 챔버(1320)는 2장의 기판들이 횡으로 나란히 배치될 수 있는 듀얼 타입의 챔버로 이루어질 수 있다. 이송 챔버(1310) 내에는 로드락 챔버측 감지센서(1321)가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치될 수 있다. The
예컨대, 2장의 기판들이 로드락 챔버(1320)에 대해 출입할 때, 기판들이 각각 출입하는 경로 상, 2장의 기판들 중 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1321)들이 배치되고, 다른 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1321)들이 배치된다. 여기서, 2개의 감지센서(1321)들은 기판의 좌우에 대응되게 배치된다. 이에 따라, 기판이 로드락 챔버(1320)에 대해 출입하는 과정에서 기판의 위치 정보가 2차원적으로 획득될 수 있다. 물론, 로드락 챔버측 감지센서(1321)는 3개 이상으로 1조를 이룰 수도 있다. For example, when two substrates enter and exit the
로드락 챔버측 감지센서(1321)는 광을 발산하는 발광부와, 발광부로부터 발산한 광을 받아 수광 신호를 처리하는 수광부를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서, 발광부와 수광부는 그 사이로 기판이 통과할 수 있게 배치된다. The load lock
생산성을 높이기 위해, 로드락 챔버(1320)는 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버가 적층된 구조로 이루어질 수 있다. 상부 로드락 챔버는 2장의 기판들이 나란히 공급될 수 있는 듀얼 타입의 챔버로 이루어지고, 하부 로드락 챔버도 2장의 기판들이 나란히 공급될 수 있는 듀얼 타입의 챔버로 이루어질 수 있다. In order to increase productivity, the
공정 모듈(1330)들은 모두 동일한 공정을 수행하도록 구성되거나, 작업의 성격이나 필요에 따라 서로 상이한 공정을 수행하도록 구성될 수 있다. 공정 모듈(1330)들은 이송 챔버(1310)의 각 측면마다 배치될 수 있다. 공정 모듈(1330)들은 상호 분리된 기판 처리 공간을 각각 포함하도록 구성될 수 있다. 기판 처리 공간들에는 각 기판에 대한 공정이 독립되게 수행될 수 있다. The
예컨대, 각각의 공정 모듈(1330)은 2개의 싱글 타입의 공정 챔버들이 횡으로 나란히 배치되어 구성될 수 있다. 각 싱글 타입의 공정 챔버는 1장의 기판이 공급될 수 있게 형성되고, 기판에 대한 공정이 독립되게 수행될 수 있다. 다른 예로, 공정 모듈은 각각 하나의 기판을 처리하는 복수의 기판 처리 공간을 포함하는 단일 공정 챔버 몸체로 구성될 수도 있다. For example, each
이송 챔버(1310) 내에는 공정 모듈측 감지센서(1331)가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치될 수 있다. 예컨대, 2장의 기판들이 공정 모듈(1330)에 대해 출입할 때, 기판들이 각각 출입하는 경로 상, 2장의 기판들 중 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1331)들이 배치되고, 다른 하나에 대응되게 2개의 감지센서(1331)들이 배치된다. 물론, 공정 모듈측 감지센서(1331)는 3개 이상으로 1조를 이룰 수도 있다. 공정 모듈측 감지센서(1331)는 전술한 로드락 챔버측 감지센서(1321)와 동일하게 구성될 수 있다. In the
기판 이송 로봇(100)은 로드락 챔버(1320)와 공정 모듈(1330) 간 기판을 이송하기 위한 것이다.
The
기판 이송 로봇(100)은 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 구성될 수 있다. The
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 로봇에 대한 분해 사시도이며, 도 3은 도 2의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 측 단면도이다. 그리고, 도 4는 도 3의 기판 이송 로봇이 조립된 상태에서의 평면도이다. 2 is an exploded perspective view of the substrate transfer robot according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a side cross-sectional view in the assembled state of the substrate transfer robot of FIG. 4 is a plan view in a state where the substrate transfer robot of FIG. 3 is assembled.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 기판 이송 로봇(100)은, 로봇 몸체(110)와, 제1,2,3 아암(121,122,123)과, 구동 유닛을 포함하여 구성된다. 2 to 4, the
로봇 몸체(110)는 이송 챔버(1310) 내에 설치된다. 로봇 몸체(110)는 제1 내지 제3 아암(121,122,123)을 지지하는 한편, 구동 유닛의 제1 내지 제6 엑추에이터(141,142,143,144.145,146)가 내장될 수 있게 한다. The
제1 아암(121)은 로봇 몸체(110)에 설치되며, 전후진 운동 가능하도록 형성된다. 그리고, 제1 아암(121)은 단부에 2장의 기판(W)들을 안착시켜 이송한다. 제2,3 아암(122,123)은 제1 아암(121)의 하부에서 동일 평면 상에 좌우로 배치되어 로봇 몸체(110)에 설치되며, 전후진 운동 가능하도록 각각 형성된다. 제2,3 아암(122,123)은 각 단부에 1장의 기판(W)을 안착시켜 이송한다. 제2,3 아암(122,123)은 제1 아암(121)의 상부에 설치되는 것도 물론 가능하다. The
구동 유닛은 제1,2,3,4,5,6 엑추에이터(141,142,143,144,145,146), 및 제1,2,3 회전축(151,152,153)을 포함하여 구성될 수 있다. 제1 내지 제3 엑추에이터(141,142,143)는 제1 내지 제3 아암(121,122,123)을 독립되게 전후진 운동시켜, 기판(W)들을 전후방으로 이송시킬 수 있게 한다. 제1 내지 제3 엑추에이터(141,142,143)는 회전 구동부 등을 포함하여 구성될 수 있다. The driving unit may include first, second, third, fourth, fifth, and
제4 액추에이터(144)는 제2,3 아암(122,123) 중 어느 하나, 예컨대 제3 아암(123)을 회전 운동시키기 위한 것이다. 제5 액추에이터(145)는 제1 아암(121)과 제2 아암(122)을 공히 회전 운동시키기 위한 것이다. 물론, 제4 액추에이터(144)가 제2 아암(122)을 회전 운동시키고, 제5 액추에이터(145)가 제1 아암(121)과 제3 아암(123)을 공히 회전 운동시키는 것도 가능하다. The
제6 엑추에이터(146)는 제1 내지 제3 아암(121,122,123) 전체를 승강시켜, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)의 높이를 조절할 수 있게 한다. 제6 액추에이터(146)는 회전 모터와, 동력전달수단인 타이밍 벨트 또는 볼 스크류 등을 포함하여 구성될 수 있다. The
제1,2,3 회전축(151,152,153)은 제1,2,3 아암(121,122,123)에 각각 결합한다. 제1 내지 제3 회전축(151,152,153)은 제1 내지 제3 엑추에이터(141,142,143)에 의해 각각 회전함에 따라, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)을 서로 독립적으로 전후진 운동시킬 수 있다. The first, second and
제1 아암(121)과 제2 아암(122)이 제5 엑추에이터(145)에 의해 공히 회전하는 경우, 제1 회전축(151)과 제2 회전축(153)은 제5 엑추에이터(145)에 의해 함께 회전할 수 있다. 제1 내지 제3 회전축(151,152,153)은 로봇 몸체(110)에 동일 축 상으로 설치될 수 있다. When the
전술한 구성의 기판 이송 로봇(100)은 제1 내지 제3 아암(121,122,123)이 전후진 운동이 독립되게 제어 가능하므로, 다음과 같은 이점이 있을 수 있다. 예를 들어, 기판들에 대한 공정 처리시 불량을 방지하기 위해, 공정처리 전의 기판들은 각 센터가 공정 모들(1330)의 설정 위치에 맞춰 로딩될 필요가 있다. 이 경우, 제2,3 아암(122,123)은 공정처리 전의 기판을 1장씩 맡아서 로드락 챔버(1320)로부터 공정 모듈(1330)로 이송하는 역할을 전담할 수 있다. 이때, 제2,3 아암(121,122)은 독립 제어 가능하므로, 2장의 기판들의 각 센터를 공정 모듈(1330)의 설정 위치에 동시에 맞춰 로딩할 수 있다. 따라서, 기판들의 로딩에 소요되는 시간을 최소화할 수 있다. Since the
한편, 공정처리 후의 기판들을 로드락 챔버(1320)로 로딩하는 과정은 공정처리 전의 기판들을 공정 모듈(1330)로 로딩하는 과정보다 기판들에 대해 정밀한 위치 제어가 필요 없을 수 있다. 이 경우, 제1 아암(121)은 공정처리 후의 기판을 2장씩 공정 모듈(1330)로부터 로드락 챔버(1320)로 이송하는 역할을 전담할 수 있으므로, 전체 기판 이송 시간을 단축할 수 있다. 또한, 제1 아암(121)이 제2,3 아암(122,123)과 같이 구성되는 것과 비교해서, 구성을 단순화할 수 있고, 그에 따른 제조비용이 절감될 수 있다. Meanwhile, the process of loading the substrates after the process into the
그리고, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)이 전후진 운동이 독립되게 제어 가능하므로, 제2,3 아암(122,123)이 로드락 챔버(1320)로부터 기판들을 반출하여 대기한 상태에서, 제1 아암(121)은 공정 모듈(1330)에서 공정처리 후의 기판들을 반출할 수 있다. 그 직후, 제2,3 아암(122,123)은 대기 중인 기판들을 빈 공정 모듈(1330) 내로 반입함으로써, 공정처리 후의 기판과 공정처리 전의 기판 간에 교체를 신속하게 할 수 있다. In addition, since the first to
한편, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)은 전후진 운동시 스트로크(stroke)가 동일하게 설정될 수 있게 일부 구성요소의 크기에 차이가 있을 수 있으나, 실질적인 구성은 동일하게 이루어질 수 있다. 이하에서는, 제1 아암(121)을 중심으로 상세히 설명하기로 한다. On the other hand, the first to
제1 아암(121)은 전후진 운동 가능한 구조로서, 후방 메인 바(131)와, 후방 서브 바(132)와, 링크 부재(133)와, 전방 메인 바(134)와, 전방 서브 바(135)와, 지지 부재(136), 및 엔드 이펙터(end effecter, 137)를 포함할 수 있다. The
후방 메인 바(131)는 일단이 제1 회전축(151)에 결합하고, 타단이 링크 부재(133)에 결합한다. 여기서, 후방 메인 바(131)는 제1 회전축(151)에 고정되어 제1 회전축(151)과 함께 회전하며, 링크 부재(133)에 힌지 결합하여 링크 부재(133)에 대해 회전 가능하게 된다. The rear
후방 서브 바(132)는 후방 메인 바(131)의 옆에 나란히 배치된다. 그리고, 후방 서브 바(132)는 일단이 제1,2 가이드 축(161,162) 중 하나, 예컨대 제2 가이드 축(162)과 회전 가능하게 결합하고, 타단이 링크 부재(133)에 회전 가능하게 결합한다. 여기서, 제1,2 가이드 축(161,162)은 로봇 몸체(110)의 상부로 각각 돌출되게 설치된 것이다. 제1 가이드 축(161)에는 제2,3 아암(122)(123)의 각 후방 서브 바가 회전 가능하게 결합된다. 후방 서브 바(132)는 전방 서브 바(135)와 함께, 제1 회전축(151)에 의해 후방 메인 바(131)가 회전 운동하면, 엔드 이펙터(137)가 직선 운동할 수 있게 한다. The
링크 부재(133)는 후방 메인 바(131)와 전방 메인 바(134)를 서로 연결하고, 후방 서브 바(132)와 전방 서브 바(135)를 서로 연결하기 위한 것이다. 전방 메인 바(134)와 전방 서브 바(135)는 일단이 링크 부재(133)에 회전 가능하게 각각 결합하고, 타단이 지지 부재(136)에 회전 가능하게 각각 결합한다. The
전방 메인 바(134)는 링크 부재(133)와 후방 메인 바(131)가 결합하는 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합할 수 있다. 그리고, 전방 서브 바(135)는 링크 부재(133)와 후방 서브 바(132)가 결합하는 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합할 수 있다. 지지 부재(136)는 기판(W)이 안착되는 엔드 이펙터(137)를 지지하기 위한 것이다. 엔드 이펙터(137)는 지지 부재(136)의 단부에 고정된다. 제1 아암(121)의 경우, 엔드 이펙터(137)는 2장의 기판(W)들이 함께 안착되도록 형성된다. 그리고, 제2,3 아암(122)(123)의 경우, 각 엔드 이펙터(137')는 1장의 기판(W)이 안착되도록 형성된다.
The front
전술한 구성의 기판처리시스템(1000)에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 방법에 의해 기판을 이송하는 방법을 도 1과 함께, 도 5a 내지 도 5h를 참조하여, 설명하면 다음과 같다. In the
먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, FOUP(1210)에 적재된 다수의 기판들은 로드 스테이션(1200)에 위치된다. 그러면, EPEM(1100)에 구비된 대기 로봇(1120)들은 FOUP(1210)에 적재된 기판들을 로드락 챔버(1320)로 반입하고, 공정 모듈(1330)을 거쳐 공정 처리되어 로드락 챔버(1320)로 반입된 기판들을 수거하여 FOUP(1210)에 적재하는 과정을 반복 수행한다. First, as shown in FIG. 1, a number of substrates loaded in the
여기서, 대기 로봇(1120)들 중 어느 하나에 의해 버퍼부(1130)와 FOUP(1210) 간에 기판을 이송시키면, 다른 하나에 의해서는 버퍼부(1130)와 로드락 챔버(1320) 간에 기판을 이송시킬 수 있다. 이에 따라, 기판 이송 효율을 높일 수 있게 된다. Here, when the substrate is transferred between the
대기 로봇(1120)에 의해 로드락 챔버(1320)의 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버에 기판이 2장씩 반입되면, 기판 이송 로봇(100)을 이용하여, 로드락 챔버(1320)에 반입된 다수의 기판들을 2장씩 반출하여 공정 모듈 (1330)들에 각각 공급한다. When two substrates are loaded into the upper load lock chamber and the lower load lock chamber of the
예를 들어, 도 5a에 도시된 바와 같이, 로드락 챔버(1320)의 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버 중 어느 한쪽에 2장의 기판들(W1,W2)이 반입되면, 제2,3 아암(122,123)을 로드락 챔버(1320)로 전진시켜 엔드 이펙터(137')들에 2장의 기판들(W1,W2)을 각각 안착시킨다. For example, as shown in FIG. 5A, when two substrates W1 and W2 are loaded into either one of the upper load lock chamber and the lower load lock chamber of the
이후, 도 5b에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123)을 후진시켜 엔드 이펙터(137')들에 안착된 2장의 기판들(W1,W2)을 반출한다. 이후, 도 5c에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123)을 공정 모듈(1330) 쪽으로 회전시킨 후, 제2,3 아암(122,123)을 전진시켜 공정 모듈(1330)에 2장의 기판들(W1,W2)을 1장씩 반입한다. 이 과정을 반복 수행하면, 도 5d에 도시된 바와 같이 모든 공정 모듈(1330)들에 기판들(W1,W2,W3,W4,W5,W6)을 반입될 수 있다. Thereafter, as shown in FIG. 5B, the second and
이후, 도 5e에 도시된 바와 같이, 로드락 챔버(1320)에 기판들(W7,W8)이 공급되어 적재된 상태에서, 제2,3 아암(122,123)을 전진시켜 엔드 이펙터(137')들에 기판들(W7,W8)을 안착시킨다. 이후, 제2,3 아암(122,123)을 후진시켜 기판들(W7,W8)을 반출시킨다. 이후, 도 5f에 도시된 바와 같이, 제1 아암(121)과 제2,3 아암(122,123) 모두를 최초 기판들(W1,W2)이 공급된 공정 모듈(1330) 쪽으로 회전시킨다. Thereafter, as shown in FIG. 5E, in the state in which the substrates W7 and W8 are loaded and loaded in the
이후, 도 5g에 도시된 바와 같이, 제1 아암(121)을 기판들(W1,W2)이 공정 처리된 공정 모듈(1330)로 전진시켜 기판들(W1,W2)을 엔드 이펙터(137)에 안착시킨 후, 제1 아암(121)을 후진시켜 반출한다. 그 직후, 제2,3 아암(122,123)에 대기 중인 기판들(W7,W8)을 빈 공정 모듈(1330)에 공급한다. 이와 같이, 제2,3 아암(122,123)을 이용하여 기판들(W7,W8)을 대기시킨 상태에서, 제1 아암(121)을 이용하여, 공정 처리된 기판들(W1,W2)을 공정 모듈(1330)로부터 반출시킨 직후, 대기시킨 기판들(W7,W8)을 공정 모듈(1330)로 공급하게 되므로, 기판 교체를 보다 신속하게 할 수 있게 된다. Subsequently, as shown in FIG. 5G, the
이후, 도 5h에 도시된 바와 같이, 제1 아암(121)을 로드락 챔버(1320) 쪽으로 회전시켜, 반출된 기판들(W1,W2)을 로드락 챔버(1320) 내로 반입한다. 여기서, 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버 중 어느 한쪽에 기판들이 적재되어 있는 상태라면, 비어 있는 다른 쪽으로 기판들(W1,W2)을 반입시킨다. Subsequently, as shown in FIG. 5H, the
도 5e 내지 도 5h에 도시된 과정을 반복 수행하면, 나머지 공정 모듈(1330)들에 공정 처리된 기판들(W3,W4,W5,W6)을 새로운 기판들로 각각 신속하게 교체할 수 있게 된다. 또한, 기판들을 2장씩 이송시켜가며 공정 처리할 수 있으므로, 생산성 향상에 기여할 수 있게 된다. By repeating the process illustrated in FIGS. 5E to 5H, the substrates W3, W4, W5 and W6 processed in the remaining
한편, 전술한 바와 같이 기판들을 처리하는 과정에서, 로드락 챔버(1320)에 1장의 기판이 존재하는 경우, 예컨대, 1장의 기판이 최종 존재하는 경우가 있을 수 있다. 이 경우, 도 6a 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 1장 남은 기판(WR)을 처리할 수 있다. Meanwhile, in the process of processing the substrates as described above, when one substrate is present in the
먼저, 도 6a에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123) 중 어느 하나, 예컨대 제2 아암(122)만을 로드락 챔버(1320)로 전진시켜 엔드 이펙터(137')에 기판(WR)을 안착시킨 후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 제2 아암(122)을 후진시켜 기판(WR)을 반출한다. First, as shown in FIG. 6A, only one of the second and
이후, 도 6c에 도시된 바와 같이, 제2 아암(122)과 함께 제1,3 아암(121,123)을 공정 처리된 기판들(WE1,WE2)이 적재된 공정 모듈(1330)로 회전시킨다. 이후, 제1 아암(121)을 전진시켜 공정 처리된 기판들(WE1,WE2)을 반출한다. 그 직후, 제2 아암(122)에 의해 대기 상태의 1장의 기판(WR)을 공정 모듈(1330)로 반입한다. 이때, 공정 모듈(1330)은 기판 처리 공간들에서 공정 처리가 독립되게 수행되도록 구성되는 경우, 1장의 기판(WR)을 수용한 기판 처리 공간에서만 공정 처리를 위한 동작이 수행되면 되고, 이와 인접한 기판 처리 공간에서는 공정 처리를 위한 동작이 수행되지 않아도 되는 이점이 있게 된다. Thereafter, as shown in FIG. 6C, the first and
이후, 제1 아암(121)을 로드락 챔버(1320) 쪽으로 회전시켜, 반출된 기판들(WE1,WE2)을 로드락 챔버(1320) 내로 반입한다. 공정 모듈(1330)에서 최종 1장의 기판(WR)에 대해 공정 처리 완료되면, 제1 내지 제3 아암(121,122,123) 중 하나, 예컨대 제1 아암(121)을 동작시켜 공정 모듈(1330)로부터 반출한 후, 로드락 챔버(1320)로 반입할 수 있다. 이와 같이, 1장의 기판(WR)이 남은 경우, 제1 내지 제3 아암(121,122,123)의 동작을 최소화할 수 있으므로, 분진 발생 가능성을 최대한 낮출 수 있다. Thereafter, the
한편, 제2,3 아암(122,123)의 엔드 이펙터(137')들에 각각 안착된 기판들을 공정 모듈(1330) 내로 로딩하기 전에, 기판들이 엔드 이펙터(137')들 상에 정확하게 위치되지 않을 수 있다. 그 원인은 FOUP(1210)에 기판들이 잘못 위치되어 적재된 상태에서 로드락 챔버(1320)로 그대로 공급되거나, 기판이 FOUP(1210)로부터 로드락 챔버(1320)로 이송되는 과정에서 위치가 변경됨으로 인해 기인할 수 있다. 또는, 그 원인은 기판이 로드락 챔버(1320)로부터 반출되어 공정 모듈(1330) 쪽으로 이송되는 과정에서 위치가 변경됨으로 인해 기인할 수도 있다. Meanwhile, before loading the substrates seated in the
만일, 부정확하게 위치된 기판들이 공정 모듈(1330) 내에 그대로 로딩되면, 기판 공정 처리시 불량이 발생할 수 있다. 이를 방지하기 위해, 기판들의 각 센터를 공정 모듈(1330) 내의 설정 위치에 맞춰서 공정 모듈(1330) 내로 로딩할 수 있다. If incorrectly positioned substrates are loaded into the
예컨대, 도 7에 도시된 바와 같이, 제2,3 아암(122,123)은 전후진 및 회전 동작이 서로 독립적으로 이루어질 수 있다. 따라서, 제2 아암(122)에 안착된 기판(W1)의 센터(C1)를 전후 좌우 이동시켜가며 공정 모듈(1330) 내에 위치한 스테이지(1332a) 상의 설정 위치(C3)에 맞춰서 공정 모듈(1330) 내로 로딩함과 동시에, 제3 아암(123)에 안착된 기판(W2)의 센터(C2)를 전후좌우 이동시켜가며 공정 모듈(1330) 내에 위치한 스테이지(1332b) 상의 설정 위치(C4)에 맞춰서 공정 모듈(1330) 내로 신속하게 로딩함이 가능하다. For example, as illustrated in FIG. 7, the second and
기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)를 설정 위치(C3,C4)로 맞추는 방법은 다양할 수 있다. 그 일 예로 공정 모듈측 감지센서(1331)들을 이용할 수 있다. 이 경우, 기판들(W1,W2)을 공정 모듈(1330) 내로 진입시키는 과정에서 이송 챔버(1310)내의 공정 모듈측 감지센서(1331)들로부터 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 획득한다. 이렇게 획득된 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 후, 그 결과를 토대로 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)가 설정 위치(C3,C4)에 맞춰져 공정 모듈(1330) 내로 로딩되게 제2,3 아암(122,123)을 독립 제어할 수 있다. 기준 위치 정보는 기판이 엔드 이펙터에 정상적으로 위치된 상태에서 공정 모듈(1330) 내로 로딩될 때를 가정하여 미리 설정된 위치 정보에 해당할 수 있다. The centers C1 and C2 of the substrates W1 and W2 may be adjusted to the set positions C3 and C4. For example, the process module
다른 예로, 내의 로드락 챔버측 감지센서(1321)들로부터 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 획득할 수도 있다. 이렇게 획득된 기판들(W1,W2)의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 후, 그 결과를 토대로 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)가 설정 위치(C3,C4)에 맞춰져 공정 모듈(1330) 내로 로딩되게 제2,3 아암(122,123)을 독립 제어할 수 있다. As another example, each position information of the substrates W1 and W2 may be obtained from the load lock chamber-
물론, 공정 모듈측 감지센서(1331)와 로드락 챔버측 감지센서(1321)를 모두 이용해서, 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)가 설정 위치(C3,C4)에 맞춰져 공정 모듈(1330) 내로 로딩되게 제2,3 아암(122,123)을 독립 제어할 수도 있다. 이 경우, 공정 모듈측 감지센서(1331)로부터 획득된 위치 정보를 토대로, 공정 모듈(1330) 내로 로딩될 기판들(W1,W2)의 각 센터 위치(C1,C2)를 설정 위치(C3,C4)로 맞출 때, 로드락 챔버측 감지센서(1321)들로부터 획득된 위치 정보는 보정을 행하는데 이용될 수 있다. 따라서, 기판들(W1,W2)의 각 센터(C1,C2)를 설정 위치(C3,C4)에 보다 정밀하게 맞출 수 있다.Of course, by using both the process
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation and that those skilled in the art will recognize that various modifications and equivalent arrangements may be made therein. It will be possible. Accordingly, the true scope of protection of the present invention should be determined only by the appended claims.
100..진공 로봇 121..제1 아암
122..제2 아암 123..제3 아암
1100..EFEM 1120..대기 로봇
1210..FOUP 1310..이송 챔버
1320..로드락 챔버 1330..공정 모듈100 ..
122..
1100..
1320.
Claims (21)
(a) 로드락 챔버에 다수 공급된 기판들을 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 모듈들에 각각 반입하는 단계;
(b) 제2,3 아암을 이용하여 로드락 챔버로부터 2장의 기판들을 반출해서 대기하는 단계;
(c) 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 기판 이송 로봇의 제1 아암을 이용하여 반출한 후, 대기 상태의 2장의 기판들을 빈 공정 모듈에 반입하는 단계; 및
(d) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;
를 포함하는 기판 이송 방법. Transfer chamber; A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates; Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And a first arm disposed in the transfer chamber to transfer a substrate between the load lock chamber and the process modules, the first arm operative to simultaneously transfer two substrates at one of the upper and lower sides, and one substrate at the other. A substrate transfer method of a substrate processing system comprising; a substrate transfer robot having a second and third arms to operate.
(a) loading a plurality of substrates supplied to the load lock chamber into the process modules using a substrate transfer robot;
(b) unloading two substrates from the load lock chamber using the second and third arms to wait;
(c) exporting the two substrates processed in the process module using the first arm of the substrate transfer robot, and then importing the two substrates in the standby state into the empty process module; And
(d) importing two substrates taken out of the process module into the load lock chamber;
Substrate transfer method comprising a.
상기 (c) 단계는,
제2,3 아암을 독립 제어하여 제2 아암에 안착된 기판의 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 로딩함과 동시에, 제3 아암에 안착된 기판의 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 로딩하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법. The method of claim 1,
The step (c)
Independently controlling the second and third arms, the center of the substrate seated on the second arm is loaded into the process module according to the set position in the process module, and the center of the substrate seated on the third arm is set at the set position in the process module. And a step of loading into the process module accordingly.
상기 이송 챔버 내에는 공정 모듈측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되며;
상기 (c) 단계는, 상기 제2,3 아암에 의해 기판들을 공정 모듈로 반입하는 과정에서 공정 모듈측 감지센서들로부터 획득된 기판들의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 결과를 토대로 제2,3 아암을 독립 제어해서, 기판들의 각 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 각각 로딩하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법. The method of claim 2,
In the transfer chamber, two pairs of process module-side detection sensors are arranged to correspond to one pair for each substrate;
In the step (c), the second and third arms are based on a result of comparing the respective position information of the substrates obtained from the process module-side sensor in the process of bringing the substrates into the process module with the reference position information. And 3 independently controlling the arms to load each center of the substrates into the process module at a predetermined position in the process module.
상기 이송 챔버 내에는 로드락 챔버측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되며;
상기 (b) 단계는, 상기 기판들을 로드락 챔버로부터 반출하는 과정에서 로드락 챔버측 감지센서들로부터 획득된 기판들의 각 위치 정보를 기준 위치 정보와 비교한 결과를 토대로 제2,3 아암을 독립 제어해서, 기판들의 각 센터를 공정 모듈 내의 설정 위치에 맞춰 공정 모듈 내로 각각 로딩하는 것을 특징으로 하는 기판 이송방법. The method according to claim 2 or 3,
In the transfer chamber, a plurality of load lock chamber-side detection sensors are provided in pairs, one pair for each substrate;
In the step (b), the second and third arms are independent based on a result of comparing respective position information of the substrates obtained from the load lock chamber-side sensor sensors with the reference position information in the process of removing the substrates from the load lock chamber. Controlling and loading each center of the substrates into the process module according to a predetermined position in the process module.
(e) 로드락 챔버에 1장의 기판이 존재하는 경우, 제2,3 아암 중 하나의 아암만을 동작시켜 기판을 로드락 챔버로부터 반출하여 대기하는 단계;
(f) 제1 아암을 이용하여 공정 모듈에서 공정 처리된 2장의 기판들을 반출한 후, 대기 상태의 1장의 기판을 빈 공정 모듈로 반입하는 단계; 및
(g) 공정 모듈로부터 반출된 2장의 기판들을 로드락 챔버로 반입하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법. The method of claim 1,
(e) if there is one substrate in the load lock chamber, operating only one of the second and third arms to take the substrate out of the load lock chamber and to wait;
(f) taking out two substrates processed in the process module using the first arm, and then importing one substrate in the standby state into the empty process module; And
(g) importing two substrates taken out of the process module into the load lock chamber;
Substrate transfer method characterized in that it further comprises.
로드락 챔버는 2장의 기판들이 공급될 수 있게 각각 형성된 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버가 적층되어 구성되며;
상기 (d) 단계는, 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버 중 어느 한쪽에 기판들이 적재되어 있는 상태라면, 비어 있는 다른 쪽으로 기판들을 반입하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법. The method of claim 1,
The load lock chamber is formed by stacking an upper load lock chamber and a lower load lock chamber respectively formed to supply two substrates;
Wherein (d), if the substrate is loaded in any one of the upper load lock chamber and the lower load lock chamber, the substrate transfer method comprising the step of bringing the substrate to the other empty.
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판 처리 공간을 포함하는 2개의 공정 챔버들이 횡으로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.The method of claim 1,
The process module is a substrate transfer method, characterized in that the two process chambers each comprising a substrate processing space is arranged arranged horizontally.
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판을 처리하는 복수의 기판 처리 공간을 포함하는 단일 공정 챔버 몸체로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법. The method of claim 1,
Wherein said process module comprises a single process chamber body comprising a plurality of substrate processing spaces each processing a substrate.
상기 이송 챔버 내에 설치된 로봇 몸체;
상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 형성되며, 2장의 기판들을 안착시켜 이송하는 제1 아암;
상기 제1 아암의 상부 또는 하부에서 동일 평면 상에 좌우로 배치되어 상기 로봇 몸체에 설치되고, 전후진 운동 가능하도록 각각 형성되며, 각각 1장의 기판을 안착시켜 이송하는 제2,3 아암; 및
상기 제1,2,3 아암을 구동시키는 구동 유닛;
을 포함하는 기판 이송 로봇. It is installed in the transfer chamber for transferring the substrate between the load lock chamber and the process module,
A robot body installed in the transfer chamber;
A first arm installed on the robot body and configured to move forward and backward, and seating and transporting two substrates;
Second and third arms disposed on the same plane in the upper or lower portion of the first arm and installed on the robot body and respectively formed to move forward and backward, respectively, for seating and transporting one substrate; And
A drive unit for driving the first, second and third arms;
Substrate transfer robot comprising a.
상기 구동 유닛은,
상기 제1 내지 제3 아암과 각각 결합하는 제1,2,3 회전축;
상기 제1 내지 제3 아암을 독립되게 전후진 운동시키기 위한 제1,2,3 엑추에이터;
상기 제2,3 아암 중 어느 하나를 회전 운동시키기 위한 제4 액추에이터;
상기 제2,3 아암 중 다른 하나와 상기 제1 아암을 공히 회전 운동시키기 위한 제5 엑추에이터; 및
상기 제1 내지 제3 아암 전체를 승강시키기 위한 제6 엑추에이터;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇. 10. The method of claim 9,
The driving unit includes:
First, second and third rotational shafts respectively coupled to the first to third arms;
First, second and third actuators for independently moving the first to third arms forward and backward;
A fourth actuator for rotating one of the second and third arms;
A fifth actuator for rotating the first arm and the other of the second and third arms in parallel; And
A sixth actuator for elevating the entirety of the first to third arms;
Substrate transfer robot comprising a.
상기 제1,2,3 회전축은 상기 로봇 몸체에 동일 축 상으로 설치된 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇. The method of claim 10,
And the first, second and third rotation axes are installed on the same axis on the robot body.
상기 제1 내지 제3 아암의 각각은:
상기 제1 내지 제3 회전축 중 하나와 결합하는 후방 메인 바,
상기 로봇 몸체에 설치된 제1,2 가이드 축 중 하나와 회전 가능하게 결합하고 상기 후방 메인 바의 옆에 나란히 배치되는 후방 서브 바,
상기 후방 메인 바와 상기 후방 서브 바와 각각 회전 가능하게 결합하는 링크 부재,
상기 링크 부재와 상기 후방 메인 바가 결합하는 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합하는 전방 메인 바,
상기 링크 부재와 상기 후방 서브 바가 결합한 회전 중심 축 상에 회전 가능하게 결합하고 상기 전방 메인 바의 옆에 나란히 배치되는 전방 서브 바,
상기 전방 메인 바와 상기 전방 서브 바와 각각 회전 가능하게 결합하는 지지 부재, 및
상기 지지 부재에 고정되는 엔드 이펙터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇. The method of claim 10,
Each of the first to third arms is:
A rear main bar engaging with one of the first to third rotational shafts,
A rear sub-bar rotatably coupled to one of the first and second guide shafts installed in the robot body and disposed side by side of the rear main bar;
Link members rotatably coupled to the rear main bar and the rear sub bar, respectively;
A front main bar rotatably coupled to a rotation center axis to which the link member and the rear main bar are coupled;
A front sub bar rotatably coupled to a rotation center axis where the link member and the rear sub bar are coupled and disposed side by side of the front main bar,
Support members rotatably coupled to the front main bar and the front sub bar, respectively;
And an end effector fixed to said support member.
상기 제1 아암의 엔드 이펙터는 2장의 기판들이 안착되도록 형성되고, 상기 제2,3 아암의 각 엔드 이펙터는 1장의 기판이 안착되도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇. The method of claim 12,
The end effector of the first arm is formed so that two substrates are seated, each end effector of the second and third arms is formed so that one substrate is seated.
상기 이송 챔버의 한쪽에 배치되고, 2장의 기판들이 공급될 수 있게 형성된 로드락 챔버;
상기 이송 챔버의 다른 쪽에 각각 배치되며, 상호 분리된 기판 처리 공간을 포함하는 공정 모듈들; 및
상기 이송 챔버 내에 배치되는 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 기판 이송 로봇;
을 포함하는 기판처리시스템. Transfer chamber;
A load lock chamber disposed on one side of the transfer chamber and configured to supply two substrates;
Process modules disposed on the other side of the transfer chamber, the process modules including separate substrate processing spaces; And
The substrate transfer robot of any one of Claims 9-13 arrange | positioned in the said transfer chamber;
Substrate processing system comprising a.
상기 이송 챔버 내에는 공정 모듈측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되어 기판들이 공정 모듈로 반입하는 과정에서 기판들의 각 위치 정보를 획득하도록 된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.15. The method of claim 14,
In the transfer chamber, a plurality of process module-side sensor sensors are formed in pairs to correspond to each pair of substrates so as to acquire respective position information of the substrates while the substrates are brought into the process module. .
상기 이송 챔버 내에는 로드락 챔버측 감지센서가 복수 개씩 2조를 이루어 기판마다 1조씩 대응되게 배치되어 기판들이 로드락 챔버로부터 반출하는 과정에서 기판의 각 위치 정보를 획득하도록 된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템. 16. The method according to claim 14 or 15,
In the transfer chamber, a plurality of load lock chamber-side detection sensors are formed in pairs to correspond to each pair of substrates so as to acquire respective position information of the substrate in the process of taking out the substrates from the load lock chamber. Processing system.
상기 로드락 챔버는 횡으로 2장의 기판이 배치되도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.15. The method of claim 14,
The load lock chamber is a substrate processing system, characterized in that the two substrates are arranged to be arranged laterally.
상기 로드락 챔버는 2장의 기판들이 공급될 수 있게 각각 형성된 상부 로드락 챔버와 하부 로드락 챔버가 적층되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템. 15. The method of claim 14,
The load lock chamber is a substrate processing system, characterized in that the upper load lock chamber and the lower load lock chamber formed so that the two substrates can be supplied are stacked.
상기 상부 및 하부 로드락 챔버는 횡으로 2장의 기판이 배치되도록 각각 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템. 19. The method of claim 18,
And the upper and lower load lock chambers are configured such that two substrates are disposed transversely.
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판 처리 공간을 포함하는 2개의 공정 챔버들이 횡으로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.15. The method of claim 14,
The process module is a substrate processing system, characterized in that the two process chambers each comprising a substrate processing space is arranged arranged horizontally.
상기 공정 모듈은 각각 하나의 기판을 처리하는 복수의 기판 처리 공간을 포함하는 단일 공정 챔버 몸체로 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.15. The method of claim 14,
Wherein said process module comprises a single process chamber body comprising a plurality of substrate processing spaces each processing a substrate.
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2012
- 2012-03-13 KR KR1020120025751A patent/KR20130104341A/en not_active Application Discontinuation
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