KR20130057239A - Method for forming nano-micro pattern using sintering of organic-inorganic composite material - Google Patents

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KR20130057239A
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sintering
organic
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이규만
신명동
정상효
최철훈
이희천
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(주)뉴옵틱스
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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a nano-micro pattern by sintering an organic and inorganic complex material is provided to levitate a planar or a cylindrical substrate by a magnetic levitation principle for rotating and transferring the substrate in an axial direction without contacts and radiating plasma, thereby efficiently producing the nano-micro pattern on the surface of the substrate. CONSTITUTION: A manufacturing method of a nano-micro pattern by sintering an organic and inorganic complex material comprises the steps of: preparing a planar or a cylindrical substrate(S100); applying printing ink, in which metal nano-particles are contained, on a substrate in a pattern shape(S200); sintering the metal nano-particles by minutely determining a location so as to selectively irradiate plasma on the pattern on which the printing ink is applied and then irradiating plasma(S300); removing the printing ink which exists on the substrate after the sintering and in which the metal nano-particles are not contained(S400). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S100) Prepare a planar or cylindrical substrate; (S200) Apply printing ink including metal nano-particles in a pattern shape on the substrate; (S300) Sinter the metal nano-particles by irradiating plasma with nano-level minute location determination for selectively irradiating plasma on the pattern on which the printing ink; (S400) Remove the printing ink which contains no metal nano-particles and remains on the substrate after the sintering

Description

유무기 복합소재의 소결에 의한 나노－마이크로 패턴의 제작방법{Method for forming nano-micro pattern using sintering of organic-inorganic composite material}Method for forming nano-micro pattern by sintering organic-inorganic composite materials

본 발명은 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판 상에 금속 나노입자가 포함된 프린팅 잉크를 도포하고 이를 나노급의 미세위치결정을 통해 플라즈마를 조사하여 금속 나노입자를 소결함으로써 나노-마이크로 패턴을 효율적으로 가공할 수 있는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of fabricating a nano-micro pattern by sintering an organic-inorganic composite material, and more particularly, to a printing ink containing metal nanoparticles on a substrate and to plasma coating through the nano-level micro-positioning The present invention relates to a method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering an organic-inorganic composite material capable of efficiently processing a nano-micro pattern by sintering metal nanoparticles.

나노기술(NT, Nano Technology)은 물리학, 화학, 생물학, 전자공학, 및 재료공학 등 여러 과학기술 분야가 융합되어 기존 기술의 한계를 극복하고, 다양한 산업 분야에 기술혁신을 가져다 주었으며, 주로 수 나노 메모리, 바이오 센서, 세포 성장 등을 비롯한 바이오 응용, 광결정(Photoni Crystal)을 이용한 고효율 디스플레이, 태양전지를 비롯한 다양한 광전소자 등 많은 곳에 응용이 시도되고 있다.Nano Technology (NT) is a fusion of several scientific and technological fields, including physics, chemistry, biology, electronics, and materials engineering, overcoming the limitations of existing technologies and bringing technological innovation to various industries. Applications are being attempted in many applications such as biotechnology including memory, biosensors, cell growth, high-efficiency displays using photonic crystal, and various photoelectric devices including solar cells.

더욱 상세하게는, 수 나노에서 수백 나노의 점 혹은 원기둥(Pillar) 구조는 나노 메모리에 응용이 가능하며, 수백 나노의 광결정 구조는 OLED(LED)에서 외부 광효율을 높이기 위한 구조로 응용이 가능하다.More specifically, several nano to several hundred nano point or pillar (Pillar) structure can be applied to nano memory, hundreds of nano photonic crystal structure can be applied as a structure to increase the external light efficiency in OLED (LED).

한편, 나노-마이크로 패턴을 형성하는 기술로는 전자빔 리소그래피, 극자외선(EUV) 패터닝, 간섭 리소그래피(Interference Lithography), 나노 임프린트(Nano Imprint) 및 연성 식각(Soft Lithography), 사출 성형(Injection Molding) 방법이 적용가능하다. 그러나 이러한 방법은 고가의 장비를 필요로 하고, 대면적을 한꺼번에 패터닝하기 어려운 문제가 있었다.Meanwhile, technologies for forming nano-micro patterns include electron beam lithography, extreme ultraviolet (EUV) patterning, interference lithography, nano imprint, soft lithography, and injection molding. This is applicable. However, this method requires expensive equipment and has a problem that it is difficult to pattern a large area at once.

이에, 최근에는 자기조립을 이용한 블록 공중합체(block copolymer) 패터닝, 나노입자 리소그래피(Nanosphere Lithography), 양극산화 알루미늄(Anodic Aluminum Oxide) 등의 바텀 업 패터닝 기술이 관심을 받고 있다. 이러한 방법은 고가의 장비가 필요 없고, 한꺼번에 기판 위에 병렬 패터닝이 가능하여 공정 속도가 빨라 생산성이 높은 장점이 있다. In recent years, bottom-up patterning technologies such as block copolymer patterning using self-assembly, nanosphere lithography, and anodized aluminum oxide have been attracting attention. This method eliminates the need for expensive equipment and allows for parallel patterning on the substrate at once, resulting in high productivity due to faster process speeds.

그러나, 아직 패턴크기를 임의로 제어하기 힘들고 같은 구조를 생산하는 반복 생산성이 떨어진다. 또한, 기존 방법들은 결함(Defect)을 관리하기가 힘들며 대면적 적용이 어려운 문제가 있었다.
However, it is still difficult to control the pattern size arbitrarily and the repeat productivity to produce the same structure is low. In addition, the existing methods are difficult to manage the defect (Defect), there was a problem that difficult to apply a large area.

상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은 자기부상 원리로 평판 또는 원통형의 기판을 부상함으로써 비접촉으로 회전 및 축방향으로 이송하여 플라즈마를 조사할 수 있도록 구현함으로써 기판표면에 나노-마이크로 패턴을 효율적으로 가공할 수 있는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법을 제공하기 위한 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above is realized by the magnetic levitation principle to float the plate or the cylindrical substrate in the non-contact by rotating and axially transported to irradiate the plasma nano- on the substrate surface An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a nano-micro pattern by sintering an organic-inorganic composite material capable of efficiently processing a micro pattern.

또한, 상온 대기압 상에서도 나노-마이크로 패터닝이 가능한 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법을 제공하기 위한 다른 목적이 있다.
In addition, there is another object to provide a method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material that can be nano-micro patterning even at room temperature atmospheric pressure.

본 발명의 상기 목적은 평판형 또는 원통형의 기판을 준비하는 제1단계, 상기 기판 상에 금속 나노입자가 포함된 프린팅 잉크를 패턴 형상으로 도포하는 제2단계, 상기 프린팅 잉크가 도포된 상기 패턴에 선택적으로 플라즈마가 조사되도록 나노급의 미세위치결정을 통해 상기 플라즈마를 조사하여 상기 금속 나노입자를 소결하는 제3단계 및 상기 소결 후 상기 기판 상에 잔존하는 상기 금속 나노입자가 비포함된 상기 프린팅 잉크를 제거하는 제4단계를 포함하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법에 의해 달성된다.The object of the present invention is a first step of preparing a flat plate or cylindrical substrate, a second step of applying a printing ink containing metal nanoparticles on the substrate in a pattern shape, the printing ink is applied to the pattern A third step of sintering the metal nanoparticles by irradiating the plasma through nano-level micropositioning to selectively irradiate the plasma, and the printing ink including the metal nanoparticles remaining on the substrate after the sintering It is achieved by the method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material comprising a fourth step of removing the.

바람직하게는, 상기 기판은 유리, 실리콘 웨이퍼, 폴리이미드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate) 또는 폴리카보네이트(Polycarbonate) 중 어느 하나 이상을 포함하는 내열성을 갖는 소재로 구성된 것을 특징으로 한다.Preferably, the substrate is made of a material having heat resistance including at least one of glass, silicon wafer, polyimide, polyethylene terephthalate, or polycarbonate.

또한 바람직하게는, 상기 프린팅 잉크는 유무기 복합소재로 구성된 것을 특징으로 한다.Also preferably, the printing ink is characterized in that composed of an organic-inorganic composite material.

또한 바람직하게는, 상기 유무기 복합소재는 금속 나노입자에 PEG(Poly Ethylene Glycol)와 글리세린을 포함시킨 것을 특징으로 한다.Also preferably, the organic-inorganic composite material is characterized in that the metal nanoparticles include PEG (Poly Ethylene Glycol) and glycerin.

또한 바람직하게는, 상기 프린팅 잉크는 포토레지스트 또는 플라즈마에 대한 내성을 갖는 잉크기반의 식각 레지스트 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.Also preferably, the printing ink may include any one of an ink-based etching resist having resistance to photoresist or plasma.

또한 바람직하게는, 상기 제3단계에서 상기 플라즈마를 형성하기 위한 플라즈마 형성가스는 O₂, CF₄, CHF₃, H₂ 또는 Ar 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.Also preferably, in the third step, the plasma forming gas for forming the plasma may include any one or more of O 2, CF₄, CHF 3, H 2 or Ar.

또한 바람직하게는, 상기 제3단계에서 상기 나노급의 미세위치결정은 자기부상 나노스테이지 또는 압전모터를 이용하여 구현되는 것을 특징으로 한다.
Also preferably, in the third step, the nano-level fine positioning may be implemented using a magnetic levitation nanostage or a piezoelectric motor.

상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은 자기부상 원리로 평판 또는 원통형의 기판을 부상함으로써 비접촉으로 회전 및 축방향으로 이송하여 플라즈마를 조사할 수 있도록 구현함으로써 기판표면에 나노-마이크로 패턴을 효율적으로 가공할 수 있는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법을 제공할 수 있는 효과가 있다.The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above is realized by the magnetic levitation principle to float the plate or the cylindrical substrate in the non-contact by rotating and axially transported to irradiate the plasma nano- on the substrate surface There is an effect that can provide a method for producing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material that can efficiently process the micro pattern.

또한, 상온 대기압 상에서도 나노-마이크로 패터닝이 가능한 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법을 제공할 수 있는 다른 효과가 있다.In addition, there is another effect that can provide a method for manufacturing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material that can be nano-micro patterning even at room temperature atmospheric pressure.

도 1은 본 발명에 따른 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법을 나타낸 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering an organic-inorganic composite material according to the present invention.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms and the inventor may appropriately define the concept of the term in order to best describe its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are merely the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.

이하 첨부된 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명에 따른 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법을 나타낸 흐름도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명은 평판형 또는 원통형의 기판을 준비하는 제1단계에 의해 개시된다(S100).1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering an organic-inorganic composite material according to the present invention. As shown in FIG. 1, the present invention is initiated by a first step of preparing a flat or cylindrical substrate (S100).

이때, 기판은 유리, 실리콘 웨이퍼, 폴리이미드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate) 또는 폴리카보네이트(Polycarbonate) 중 어느 하나 이상을 포함하는 내열성을 갖는 소재로 구성된 것이 바람직하다. In this case, the substrate is preferably made of a material having a heat resistance including at least one of glass, silicon wafer, polyimide, polyethylene terephthalate, or polycarbonate.

기판의 위치가 제어되면, 기판 상에 금속 나노입자가 포함된 프린팅 잉크를 패턴 형상으로 도포하는 제2단계를 거치게 된다(S200).When the position of the substrate is controlled, a second step of applying a printing ink including metal nanoparticles on the substrate in a pattern shape is performed (S200).

이때, 도포되는 프린팅 잉크는 유무기 복합소재를 포함하여 구성된 것이 바람직하나 포토레지스트 또는 플라즈마에 대한 내성을 갖는 잉크기반의 식각 레지스트일 수도 있다. 유무기 복합소재의 경우에는 금속 나노입자에 PEG(Poly Ethylene Glycol)와 글리세린을 포함시킨 것을 한 예로 들 수 있다.In this case, the printing ink to be applied is preferably configured to include an organic-inorganic composite material, but may be an ink-based etching resist having resistance to photoresist or plasma. In the case of organic-inorganic composite materials, one example is to include PEG (Poly Ethylene Glycol) and glycerin in the metal nanoparticles.

포토레지스트를 사용하는 경우, 기존에는 스핀 또는 스프레이, 슬릿다이 등의 방법으로 포토레지스트를 기판의 전면적에 코팅한 후, 필요한 부분에만 UV/E-Beam 등의 노광으로 패턴을 형성하고, 패턴이 형성된 포토레지스트 층을 현상(Development)하여 습식(산으로 부식) 또는 건식(플라즈마로 깎아냄) 식각을 진행하였으나, 본 발명에서는 원하는 부분에만 선택적으로 포토레지스트를 도포하고 노광 및 현상함으로써, 필요한 부분에만 직접 패턴이 형성되도록 할 수 있게 된다. 이러한 공정에 의해 포토레지스트의 소모량을 줄일 수 있는 잇점이 있다.In the case of using a photoresist, conventionally, the photoresist is coated on the entire surface of the substrate by a method such as spin, spray, or slit die, and then a pattern is formed by exposing UV / E-Beam only to a necessary part, and the pattern is formed. Although the photoresist layer was developed by wet (corrosion with acid) or dry (plasma-cut) etching, the present invention selectively applied the photoresist to only the desired part, exposed and developed, thereby directly The pattern can be formed. This process has the advantage of reducing the consumption of the photoresist.

또한 잉크기반의 식각 레지스트인 경우, 잉크가 플라즈마 작용시 열에너지가 발생하여 이로 인해 내성이 저하되는 경향이 있으므로 고내열 잉크이며, 실란류, 에폭시류 등을 합성하여 신뢰성을 향상시킬 수 있어야 한다. 이러한 잉크기반의 식각 레지스트에는 주석 산화물 기반 TCO(Transparent Conductive Oxides) 재료인 불소함유 산화주석(FTO), 안티몬(ATO), 카드뮴(CTO) 주석 산화물과 산화아연 기반 TCO 재료인 진성 ZnO(i-ZnO), 알루미늄산화아연(AZO), 갈륨산화아연(GZO), 기타 산화아연, 그리고 신흥 대체 TCO 재료인 산화인듐아연(IZO), Multi-component Amorphous TCOs(MATCOs), p형 전도특성 TCO 등이 있다.In addition, in the case of an ink-based etching resist, since the ink generates heat energy during plasma action, the resistance tends to be lowered, and thus, the ink is a high heat-resistant ink, and silanes, epoxys, and the like must be synthesized to improve reliability. Such ink-based etching resists include tin oxide-based transparent conductive oxides (TCO) materials, fluorine-containing tin oxide (FTO), antimony (ATO), cadmium (CTO) tin oxide, and zinc oxide-based TCO materials, intrinsic ZnO (i-ZnO). ), Aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO), other zinc oxides, and emerging alternative TCO materials, indium zinc oxide (IZO), multi-component Amorphous TCOs (MATCOs), and p-type conductive TCO. .

이렇게, 고가의 포토레지스트를 사용하는 대신에 플라즈마에 대한 내성을 갖는 잉크기반의 식각 레지스트를 사용하여도 동일한 결과가 예상되며, 잉크젯 프린팅 기법의 적용이 가능하여 진공이 아닌 상온 대기압 분위기에서도 공정이 이루어질 수 있는 장점이 있다.In this way, the same result can be expected by using an ink-based etching resist having resistance to plasma instead of using an expensive photoresist, and the inkjet printing technique can be applied so that the process can be performed at atmospheric pressure instead of vacuum. There are advantages to it.

상기와 같은 금속 나노입자가 포함된 프린팅 잉크가 패턴 상에 도포되면, 프린팅 잉크가 도포된 패턴에 선택적으로 플라즈마가 조사되도록 나노급의 미세위치결정을 통해 플라즈마를 조사함으로써 금속 나노입자를 소결하는 제3단계를 거치게 된다(S300).When the printing ink containing the metal nanoparticles as described above is applied onto the pattern, the agent for sintering the metal nanoparticles by irradiating the plasma through nano-level micropositioning so that the plasma is selectively irradiated to the pattern to which the printing ink is applied It goes through three steps (S300).

더욱 상세하게는, 금속 나노입자를 포함하는 프린팅 잉크에 플라즈마가 조사되면 고형상의 금속 나노입자만 단단한 펠렛의 형태로 잔존하고, 금속 나노입자를 비포함한 프린팅 잉크는 증발하게 된다. 유무기 복합소재인 경우에는 고형상의 무기물만 남고, 유기물은 증발하게 되는 것이다.More specifically, when plasma is irradiated to the printing ink including the metal nanoparticles, only the solid metal nanoparticles remain in the form of hard pellets, and the printing ink without the metal nanoparticles evaporates. In the case of organic-inorganic composite materials, only solid inorganic matters remain, and organic matters evaporate.

여기에서, 나노급의 미세위치결정은 자기부상 나노스테이지 또는 압전모터를 이용하여 구현되는 것이 바람직하다. 전자의 경우에는 등속미세운동이 가능하다는 장점이 있으며, 후자의 경우는 구름베어링(Roller bearing)을 이용하여 움직이는 직선이송기구로 리드를 이동하고, 미세위치 결정부분에서는 마이크로 이하 단위의 압전소자 변위를 이용하는 것으로서 전자의 경우와 같은 등속운동이 어렵다는 단점은 있지만 이러한 프린팅의 과정에서는 등속운동이 굳이 필요하지 않으므로 상대적으로 비용이 절감되는 효과가 있다.Here, nano-class micropositioning is preferably implemented using a magnetic levitation nanostage or piezoelectric motor. In the former case, there is an advantage that the constant velocity fine motion is possible. In the latter case, the lead is moved by a linear transport mechanism moving by using a roller bearing, and in the micro positioning part, the piezoelectric element displacement in micro-units is reduced. The use of the former has the disadvantage that the constant velocity is difficult as in the case of the former, but in this printing process, the constant velocity is not necessarily required, and thus the cost is relatively reduced.

이때, 플라즈마를 형성하기 위한 플라즈마 형성가스는 O₂, CF₄, CHF₃, H₂ 또는 Ar 중 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하며, 플라즈마를 형성하기 위한 전원장치의 전압은 2,000v 내지 100,000v, 그리고 주파수는 2,000Hz 내지 100,000Hz인 것이 바람직하다.At this time, the plasma forming gas for forming the plasma preferably contains any one or more of O₂, CF₄, CHF₃, H₂ or Ar, the voltage of the power supply for forming the plasma is 2,000v to 100,000v, and the frequency is It is preferable that they are 2,000 Hz-100,000 Hz.

플라즈마가 조사되어 소결되면, 소결 후 기판 상에 잔존하는 금속 나노입자가 비포함된 프린팅 잉크를 제거하는 제4단계를 거치게 된다(S400).When the plasma is irradiated and sintered, a fourth step of removing the printing ink containing metal nanoparticles remaining on the substrate after sintering is performed (S400).

이때, 금속 나노입자가 비포함된 프린팅 잉크의 제거는 필름 또는 기판의 세정에 의해 수행된다.At this time, the removal of the printing ink containing no metal nanoparticles is performed by cleaning the film or the substrate.

본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.Although the present invention has been shown and described with reference to the preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments and those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Various changes and modifications will be possible.

Claims (7)

평판형 또는 원통형의 기판을 준비하는 제1단계;
상기 기판 상에 금속 나노입자가 포함된 프린팅 잉크를 패턴 형상으로 도포하는 제2단계;
상기 프린팅 잉크가 도포된 상기 패턴에 선택적으로 플라즈마가 조사되도록 나노급의 미세위치결정을 통해 상기 플라즈마를 조사하여 상기 금속 나노입자를 소결하는 제3단계; 및
상기 소결 후 상기 기판 상에 잔존하는 상기 금속 나노입자가 비포함된 상기 프린팅 잉크를 제거하는 제4단계
를 포함하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.
A first step of preparing a flat or cylindrical substrate;
A second step of applying a printing ink including metal nanoparticles on the substrate in a pattern shape;
A third step of sintering the metal nanoparticles by irradiating the plasma through nano-level micropositioning so that the plasma is selectively irradiated to the pattern to which the printing ink is applied; And
A fourth step of removing the printing ink containing no metal nanoparticles remaining on the substrate after the sintering
Method of producing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material comprising a.
제 1 항에 있어서,
상기 기판은 유리, 실리콘 웨이퍼, 폴리이미드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate) 또는 폴리카보네이트(Polycarbonate) 중 어느 하나 이상을 포함하는 내열성을 갖는 소재로 구성된 것을 특징으로 하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.
The method of claim 1,
The substrate is nano by sintering the organic-inorganic composite material, characterized in that composed of a material having a heat resistance comprising at least one of glass, silicon wafer, polyimide, polyethylene terephthalate or polycarbonate (Polycarbonate) -Micro pattern manufacturing method.
제 1 항에 있어서,
상기 프린팅 잉크는 유무기 복합소재로 구성된 것을 특징으로 하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.
The method of claim 1,
The printing ink is a manufacturing method of the nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material, characterized in that composed of an organic-inorganic composite material.
제 3 항에 있어서,
상기 유무기 복합소재는 금속 나노입자에 PEG(Poly Ethylene Glycol)와 글리세린을 포함시킨 것을 특징으로 하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.
The method of claim 3, wherein
The organic-inorganic composite material is a method of producing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material, characterized in that the metal nanoparticles including PEG (Poly Ethylene Glycol) and glycerin.
제 1 항에 있어서,
상기 프린팅 잉크는 포토레지스트 또는 플라즈마에 대한 내성을 갖는 잉크기반의 식각 레지스트 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.
The method of claim 1,
The printing ink is a method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material, characterized in that any one of an ink-based etching resist having a resistance to photoresist or plasma.
제 1 항에 있어서,
상기 제3단계에서
상기 플라즈마를 형성하기 위한 플라즈마 형성가스는 O₂, CF₄, CHF₃, H₂ 또는 Ar 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.
The method of claim 1,
In the third step
Plasma forming gas for forming the plasma is a method of producing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material, characterized in that it comprises any one or more of O₂, CF₄, CHF₃, H₂ or Ar.
제 1 항에 있어서,
상기 제3단계에서
상기 나노급의 미세위치결정은 자기부상 나노스테이지 또는 압전모터를 이용하여 구현되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합소재의 소결에 의한 나노-마이크로 패턴의 제작방법.The method of claim 1,
In the third step
The nano-level micro-location is a method of manufacturing a nano-micro pattern by sintering the organic-inorganic composite material, characterized in that implemented using a magnetic levitation nanostage or piezoelectric motor.
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KR20160110742A (en) * 2015-03-11 2016-09-22 (재)한국나노기술원 manufacturing method of metal-oxide nano particle patterned and metal-oxide nano particle patterned thereby

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