KR20120075362A - Coating solution for forming transparent film and substrate coated by transparent film - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A coating solution for forming a transparent film is provided to have excellent adhesion with a substrate, scratch resistance, film strength, transparence, etc, and to have excellent chemical resistance, and water repellency at the same time, and to able to form a transparent film with excellent haze because of not blooming phenomenon. CONSTITUTION: A coating solution for forming a transparent film consists of a matrix-forming component, metal oxide particle, and solvent, and comprises acryl silicone resin with average molecular weight range of 5,000-30,000 as a leveling agent. The content of leveling agent is 0.001-7.2 weight% in solid phase. The content of the matrix-forming component is 1-59.9 weight% in solid phase. The content of the metal oxide particle is 0.025-48 weight% in solid phase. The total content of solid phase is 5-60 weight%.

Description

투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막부 기재 {Coating solution for forming transparent film and substrate coated by transparent film} Coating solution for forming transparent film and substrate {Coating solution for forming transparent film and substrate coated by transparent film}

본 발명은 평탄성이 높고 내백화성, 내수성, 내약품성 등이 우수한 투명 피막을 형성하기 위한 도포액 및 상기 투명 피막부 기재에 관한 것이다.
The present invention relates to a coating liquid for forming a transparent coating having high flatness and excellent in whitening resistance, water resistance, chemical resistance, and the like, and the transparent coating part base material.

글래스, 플라스틱 쉬트, 플라스틱 렌즈 등의 기재 표면, 표시 장치 등의 내찰상성을 향상시키기 위해 기재 표면에 하드코팅 기능을 지닌 투명 피막을 형성하는 것이 알려져 있다. 구체적으로는 투명성을 지니는 유기 수지막 또는 무기막을 글라스 및 플라스틱 표시 장치 기재 등의 표면에 형성시키는 것이 행해지고 있다. 이때 유기 수지막 또는 무기막 중에 수지 입자 또는 실리카 등의 무기 입자를 배합시킴으로써 기재와의 밀착성, 내찰상성을 향상시키는 것이 행해지고 있다.
Background Art It is known to form a transparent coating having a hard coating function on the surface of a substrate in order to improve scratch resistance of a surface of a substrate such as glass, a plastic sheet, a plastic lens, or a display device. Specifically, forming an organic resin film or an inorganic film having transparency on the surfaces of glass and plastic display substrates and the like is performed. At this time, by mixing inorganic particles such as resin particles or silica in the organic resin film or the inorganic film, improving adhesion to the substrate and scratch resistance are performed.

그러나 투명 피막에는 투명성 기재와의 밀착성, 막 강도, 내찰상성 등 이외에 내약품성, 내수성, 발수성, 내지문부착성 등이 요구되고 있다. 예를 들면 수적이 부착된 경우 수적을 잔류시키지 않는 것(내수성), 수성펜, 유성펜 등으로 낙서를 시키지 못하게 하고 낙서가 되어도 용이하게 지울 수 있는 것(내수성, 발수성, 발유성), 또한 손가락이 접촉되어도 지문이 부착되지 않고 지문이 부착되어도 용이하게 지울 수 있는 것(내지문부착성)이 요구되고 있다.
However, in addition to adhesion to a transparent substrate, film strength, scratch resistance, and the like, a transparent coating is required for chemical resistance, water resistance, water repellency, anti-fingerprint adhesion, and the like. For example, if water droplets are attached, do not retain the water droplets (water resistance), do not allow graffiti with water-based pens, oil pens, etc. to be easily erased (water-resistant, water-repellent, oil-repellent), or finger touch Even if the fingerprint is attached, it is desired to be able to easily erase it even if the fingerprint is attached (fingerprint resistance).

이와 같은 발수성, 발유성, 내수성, 내지문부착성을 부여하기 위해 레벨링제로서 친수성기를 지닌 실리콘계 수지, 불소 함유 유기 수지 등을 사용하여 왔다(특허문헌 1 ; 특개평10-40834호 공보 등).
In order to impart such water repellency, oil repellency, water resistance and anti-fingerprint property, a silicone resin having a hydrophilic group, a fluorine-containing organic resin, or the like has been used as a leveling agent (Patent Document 1; Japanese Patent Laid-Open No. 10-40834, etc.).

한편 본 출원인은 1 관능 실리콘 수지 모노머를 다른 다관능 실리콘 수지에 병용하는 것과 상기 브리드아웃(bleed out)이 없고 발수성 등이 우수한 투명 피막을 얻는 것이 개시되어 있다(특허문헌 2 ; 특개 2010-126675호 공보).
On the other hand, the present applicant discloses using a monofunctional silicone resin monomer in combination with other polyfunctional silicone resins and obtaining a transparent film excellent in water repellency without the above bleed out (Patent Document 2; Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-126675). report).

특허문헌 1 특개평10-40834호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-40834 특허문헌 2 특개 2010-126675호 공보Patent Document 2 Publication No. 2010-126675

따라서 종래의 방법으로는 발수성, 발유성, 내지문부착성이 어느정도 개량되어도 기재와의 밀착성, 막강도가 불충분하고 발수성이 불충분한 경우도 있다.
Therefore, in the conventional method, even if the water repellency, oil repellency, and fingerprint adhesion are improved to some extent, the adhesion to the substrate and the film strength may be insufficient, and the water repellency may be insufficient.

또한 소수성기를 지닌 수지, 예를 들면 불소 수지를 일부 혼합하여 사용하여도 이 수지가 투명 필름으로부터 이탈되어 즉 브리드아웃이 되어 충분한 내약품성, 내수성, 발수성, 발유성, 내지문부착성을 얻을 수 없는 경우가 많고 얻어진 경우에도 시간 경과에 따른 성능 저하의 문제가 있었다.
In addition, even when a mixture of a hydrophobic group, such as a fluorine resin, is used, the resin is separated from the transparent film, i.e., bridout, and sufficient chemical resistance, water resistance, water repellency, oil repellency, and fingerprint adhesion cannot be obtained. In many cases, even when obtained, there was a problem of performance deterioration over time.

또한 TAC 기재에 투명 피막을 형성하는 경우에는 접착용품으로 밀착시키기 위해 투명 피막부 기재를 비누화욕에 침적시킨 TAC 기재 표면을 비누화 처리 행한 후 종래의 실리콘계 수지를 레벨링제로서 일부 배합하여 사용하여도 레벨링제가 용해되고 투명 피막이 백화되어 헤이즈가 악화되고 투명 피막의 접촉각이 저하되어 내찰상성이 악화되는 등의 문제가 있었다.
In the case of forming a transparent coating on the TAC substrate, the surface of the TAC substrate in which the transparent coating substrate is deposited in a saponification bath is saponified in order to adhere to the adhesive article. There were problems such as dissolution of the transparent film, whitening of the transparent film, deterioration of the haze, deterioration of the contact angle of the transparent film, and deterioration of scratch resistance.

한편 비닐계 수지, 아크릴계 수지 또는 상기 불소계 수지를 레벨링제로서 사용하여도 다른 매트릭스 형성 성분과 상용성에 문제가 있어 얻어진 투명 피막의 경도가 불충분해지는 경우가 있었다.
On the other hand, even when vinyl resin, acrylic resin, or the said fluorine resin is used as a leveling agent, there existed a problem in compatibility with another matrix formation component, and the hardness of the obtained transparent film may become inadequate.

또한 특허문헌 2에서는 투명성 헤이즈는 향상되어도 백화의 억제가 불충분하여 투명 피막의 표면의 평탄성을 필요한 만큼 충족시키지 못하는 것이었다.
Further, in Patent Document 2, even if the transparency haze is improved, the suppression of whitening is insufficient, and the flatness of the surface of the transparent coating is not satisfied as necessary.

본 발명자들은 이와 같은 문제점을 예의 검토한 결과 분자량을 적정 범위로 조정시킨 변성 실리콘계 수지 매트릭스 형성 성분을 레벨링제로서 혼합시켜 사용한다면 상기 과제를 적절히 해소시킨 투명 피막을 얻을 수 있는 것을 발견하고 본 발명을 완성하게 된 것이다.
MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining such a problem, when the modified silicone type resin matrix formation component which adjusted the molecular weight to the appropriate range was mixed and used as a leveling agent, this inventor discovered that the transparent film which suitably solved the said subject was obtained, It is complete.

즉 본 발명에는 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막강도, 투명성 등이 우수하고 또한 내약품성, 발수성이 우수하며 백화하는 것이 없어 헤이즈가 우수한 투명 피막을 형성할 수 있는 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막부 기재를 제공하는 것을 목적으로 한다.
In other words, the present invention has excellent adhesion to the substrate, scratch resistance, film strength, transparency, etc., and also has excellent chemical resistance, water repellency, and no whitening. It is an object to provide a subsidiary.

[1] 매트릭스 형성 성분과 금속 산화물 미립자 및 용매로 이루어진 투명 피막 형성용 도포액에 있어서, [1] A coating liquid for forming a transparent film comprising a matrix forming component, metal oxide fine particles and a solvent,

레벨링제로서 평균 분자량이 5,000?30,000 범위인 아크릴실리콘계 수지를 포함하고 또한 레벨링제의 함유량은 고형분으로서 0.001?7.2 중량% 범위인 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
The coating liquid for transparent film formation containing acrylic silicone resin whose average molecular weight is a range of 5,000-30,000 as a leveling agent, and content of a leveling agent is 0.001 to 7.2 weight% as solid content.

[2] 상기 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 1?59.9 중량% 범위이고 상기 금속 산화물 미립자의 함유량이 고형분으로서 0.025?48 중량%인 전체 고형분 농도가 5?60 중량% 범위인 [1]의 투명 피막 형성용 도포액
[2] The transparency of [1], wherein the concentration of the matrix forming component is in the range of 1 to 59.9 wt% as solids and the total solid concentration is 5 to 60 wt% in the range of 0.025 to 48 wt% as the content of the metal oxide fine particles. Coating liquid for film formation

[3] 상기 금속 산화물 미립자가 실리카, 알루미나, 산화 티탄, 산화 지르코늄, 산화 주석, 오산화안티늄, 산화 인듐 및 그의 복합 산화물, 도핑제를 포함하는 상기 금속 산화물 및 그의 복합 산화물로부터 선택된 적어도 1종 이상의 미립자인 [1] 또는 [2]의 투명 피막 형성용 도포액
[3] at least one or more selected from the above metal oxides and composite oxides thereof, wherein the metal oxide fine particles include silica, alumina, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, titanium pentoxide, indium oxide and complex oxides thereof, and a dopant. Coating liquid for transparent film formation of [1] or [2] which is microparticles | fine-particles

[4] 상기 금속 산화물 미립자가 실리카계 미립자인 [3]의 투명 피막 형성용 도포액
[4] The coating liquid for forming a transparent film of [3], wherein the metal oxide fine particles are silica-based fine particles.

[5] 상기 금속 산화물 미립자가 유기 규소 화합물로 표면 처리되어진 [1]?[4]의 투명 피막 형성용 도포액
[5] The coating solution for forming a transparent film of [1] to [4], wherein the metal oxide fine particles are surface treated with an organosilicon compound.

[6] 상기 금속 산화물 미립자가 평균 입자 크기 5?300 nm 범위인 [1]?[5]의 투명 피막 형성용 도포액
[6] The coating liquid for forming a transparent film of [1] to [5], wherein the metal oxide fine particles have an average particle size in the range of 5 to 300 nm.

[7] 기재와 기재 위에 형성된 투명 피막으로 되어있고, 상기 투명 피막은 매트릭스 성분과 금속 산화물 미립자로 되고 또한 평균 분자량이 5,000?30,000 범위인 아크릴실리콘계 수지를 레벨링제로서 포함하고, 상기 매트릭스 성분의 함유량이 고형분으로서 20?99.5 중량% 범위이고, 상기 금속 산화물 미립자의 함유량이 고형분으로서 0.5?80 중량% 범위인 투명 피막부 기재
[7] A base film and a transparent film formed on the base material, wherein the transparent film is composed of a matrix component and metal oxide fine particles, and contains an acrylic silicone resin having an average molecular weight in the range of 5,000 to 30,000 as a leveling agent, and the content of the matrix component. As a solid content, it is the range of 20-99.9 weight%, and content of the said metal oxide fine particle is 0.5 to 80 weight% range as solid content

[8] 상기 투명 피막 중의 레벨링제 함유량이 고형분으로서 0.02?12 중량% 범위인 [7]의 투명 피막부 기재
[8] The transparent coating part base material of [7], wherein the leveling agent content in the transparent coating is in the range of 0.02 to 12 wt% as solid content.

[9] 상기 금속 산화물 미립자가 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화 주석, 오산화안티늄, 산화 인듐 및 그의 복합 산화물, 도핑제를 포함하는 산화물, 복합 산화물로부터 선택된 적어도 1종 이상의 미립자인 [7] 또는 [8]의 투명 피막부 기재
[9] The metal oxide fine particles are at least one or more fine particles selected from silica, alumina, titania, zirconia, tin oxide, titanium pentoxide, indium oxide and complex oxides thereof, oxides including dopants, and complex oxides [7] Or the transparent coating part base material of [8]

[10] 상기 금속 산화물 미립자가 실리카계 미립자인 [7]?[9]의 투명 피막부 기재
[10] The transparent coating part substrate according to [7] to [9], wherein the metal oxide fine particles are silica-based fine particles.

[11] 상기 금속 산화물 미립자가 유기 규소 화합물로 표면 처리 되어있는 [7]?[10]의 투명 피막부 기재
[11] The transparent coating part substrate of [7] to [10], wherein the metal oxide fine particles are surface treated with an organosilicon compound.

[12] 상기 금속 산화물 미립자의 평균 입자 크기가 5?300 nm 범위인 [7]?[11]의 투명 피막부 기재
[12] The transparent coating part substrate of [7] to [11], wherein the average particle size of the metal oxide fine particles is in the range of 5 to 300 nm.

[13] 상기 투명 피막의 접촉각(CA1)이 60?110° 범위이고 상기 투명 피막의 표면을 비누화(Saponification) 처리시켜 그 후 접촉각(CA2)과 접촉각 차이가 10° 이하인 [7]?[12]의 투명 피막부 기재
[13] The contact angle (CA 1 ) of the transparent film is in the range of 60 to 110 ° and the surface of the transparent film is saponified, and then the difference between the contact angle (CA 2 ) and the contact angle is 10 ° or less. 12] transparent coating part base material

[14] 상기 투명 피막의 헤이즈가 1.0% 이하인 [7]?[13]의 투명 피막부 기재
[14] The transparent coating part substrate of [7] to [13], wherein the haze of the transparent coating is 1.0% or less.

[15] 상기 투명 피막의 표면 거칠기(Ra)가 20 nm 이하인 [7]?[14]의 투명 피막부 기재
[15] The transparent coating part substrate of [7] to [14], wherein the surface roughness Ra of the transparent coating is 20 nm or less.

본 발명은 매트릭스 형성 성분에 소정 범위의 분자량의 아크릴실리콘계 수지 매트릭스 성분을 소량 배합시켜 사용하는 것에 의해 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막 강도, 투명성 등이 우수하고 내약품성, 내수성이 우수하고 표면이 평탄하며 평활하고 백화되지 않는 높은 헤이즈를 지닌 투명 피막을 형성하기 위한 투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막부 기재를 제공하는 것이 가능하다.
According to the present invention, a small amount of the acrylic silicone resin matrix component having a molecular weight in a predetermined range is added to the matrix forming component, thereby providing excellent adhesion to the substrate, scratch resistance, film strength, transparency, etc., and excellent chemical resistance, water resistance, and surface. It is possible to provide a coating film for forming a transparent film and a transparent coating part base material for forming a transparent film having a high haze that is flat, smooth and not whitened.

이하 본 발명에 관한 투명 피막 형성용 도포액을 상세히 설명한다.
Hereinafter, the coating liquid for transparent film formation which concerns on this invention is demonstrated in detail.

[투명 피막 형성용 도포액]
[Coating Liquid for Transparent Film Formation]

본 발명에 의한 투명 피막 형성용 도포액은 레벨링제와 매트릭스 형성 성분 및 금속 산화물 미립자 및 용매로 되어있다.
The coating liquid for transparent film formation by this invention consists of a leveling agent, a matrix formation component, metal oxide fine particles, and a solvent.

레벨링제Leveling agent

레벨링제로서는 아크릴실리콘 수지가 사용된다. 또한 레벨링제로서 관능을 지닌 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막강도, 투명성, 내약품성, 내수성, 발수성, 내지문부착성, 평탄 평활성을 투명 피막에 부여하는 기능을 지닌 것이다.
Acrylic silicone resin is used as a leveling agent. In addition, as a leveling agent, it has a function of imparting adhesion, scratch resistance, film strength, transparency, chemical resistance, water resistance, water repellency, anti-fingerprint property, and flat smoothness to a transparent film.

아크릴실리콘으로는 하기 식 (1)로 표시되는 2 관능 실리콘 수지의 폴리머, 하기 식 (2)로 표시되는 1 관능 실리콘 수지의 폴리머인 실리콘 폴리머를 주쇄로 하고 측쇄에 폴리에스테르기를 매개로 말단에 두 개의 아크릴기 또는 메타크릴기가 결합된 아크릴실리콘계 수지(A)를 들 수 있다.
As the acrylic silicone, a polymer of a bifunctional silicone resin represented by the following formula (1) and a silicone polymer which is a polymer of a monofunctional silicone resin represented by the following formula (2) are used as the main chain, and the side chain is placed at the terminal via a polyester group. And acrylic silicone resins (A) having two acrylic groups or methacryl groups bonded thereto.

(화학식 1, 2)(Formula 1, 2)

Figure pat00001

Figure pat00001

상기 식에서 R1 내지 R4는 수산기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1?6의 알킬기, 옥시알킬기, 폴리에테르기(-O-R), 폴리옥시알킬기((-(O-R)n), 알킬옥시카르보닐기, 폴리에스테르기, 폴리알킬옥시카르보닐기, 우레탄기(-CONH-R), 폴리우레탄기((-CONH-R)n-CONH-R), 아르알킬기이고,Wherein R 1 to R 4 represent a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, oxyalkyl group, polyether group (-OR), polyoxyalkyl group ((-(OR) n), alkyloxycarbonyl group, poly Ester group, polyalkyloxycarbonyl group, urethane group (-CONH-R), polyurethane group ((-CONH-R) n-CONH-R), aralkyl group,

Y, Y1, Y2는 -O-CO-R"-, -CO-O-R", -(O-CO-R")n-, -(CO-O-R")n- (여기서 R"는 2가의 탄화수소기 또는 직접결합을 의미함)로 나타낸 구조, 폴리에스테르기이고, X, X1, X2는 아크릴기, 메타크릴기를 표시하며 동일하거나 상이할 수 있다. Y, Y 1 , Y 2 are -O-CO-R "-, -CO-OR",-(O-CO-R ") n-,-(CO-OR") n- (where R "is 2 And a hydrocarbon group or a direct bond), and a polyester group, and X, X 1 , X 2 represent an acryl group and a methacryl group, and may be the same or different.

n은 1?50의 정수이다.
n is an integer of 1-50.

구체적으로는 디아크릴레이트변성폴리실록산, 디메타크릴레이트변성폴리실록산 및 그들의 혼합물을 들 수 있다.
Specifically, diacrylate modified polysiloxane, dimethacrylate modified polysiloxane, and mixtures thereof are mentioned.

또한 본 발명에서는 하기식 (3)으로 표시되는 아크릴 폴리머를 주쇄로 하고 측쇄에 실리콘이 결합된 아크릴실리콘계 수지(B)를 사용할 수 있다.
Moreover, in this invention, the acrylic polymer represented by following formula (3) can be used as the main chain, and the acrylic silicone resin (B) by which silicone was couple | bonded with the side chain.

(화학식 3)(Formula 3)

Figure pat00002

Figure pat00002

상기 식에서 R1 또는 R2는 수소 또는 CH3이고, R3는 알킬기, 폴리에스테르기, 폴리에테르기, 폴리우레탄기, 아르알킬기 또는 염이고, R4는 Si-OR', -(Si-O)nR' (R은 알킬기 또는 수산기)이고, 2 이상의 폴리머이다.
Wherein R 1 or R 2 is hydrogen or CH 3 , R 3 is an alkyl group, a polyester group, a polyether group, a polyurethane group, an aralkyl group or a salt, and R 4 is Si—OR ′, — (Si-O nR '(R is an alkyl group or a hydroxyl group) and is two or more polymers.

본 발명에서는 이와 같은 아크릴실리콘의 중량 평균 분자량이 5,000?30,000이고 바람직하게는 6,000?20,000 범위인 것이다. 이와 같은 분자량의 것은 레벨링제로서 기능이 우수하다.
In the present invention, the weight average molecular weight of such acrylic silicon is 5,000 to 30,000, preferably 6,000 to 20,000. The thing of such a molecular weight is excellent in a function as a leveling agent.

또한 분자량이 너무 낮으면 도료 중에서 편재되어 함께 녹지 않아 피막 형성 후 비누화 처리를 하는 경우에 용해되어 탈리되므로 백화되기 쉽고 접촉각이 저하되지 않아 충분한 발수성, 내수성 등을 나타내지 않는 경우가 있다. 평균 분자량이 너무 높은 경우에도 도료 중에서 실질적으로 함께 녹지 않기 때문에 상기 레벨링제로서 기능을 하지 못하는 경우가 있다. 이와 같은 매트릭스 형성 성분의 평균 분자량은 테트라하이드로퓨란(THF) 용매를 사용하여 겔퍼미에이션(GPC)법으로 측정시 폴리스틸렌 환산 분자량으로써 측정할 수 있다.
In addition, when the molecular weight is too low, it is unevenly distributed in the paint and does not melt together, so that it dissolves and detaches in the saponification process after forming the film, so that it is easy to whiten and the contact angle does not decrease, so that sufficient water repellency and water resistance may not be exhibited. Even if the average molecular weight is too high, it may not function as the leveling agent because it does not substantially melt together in the paint. The average molecular weight of such a matrix forming component can be measured by the polystyrene conversion molecular weight measured by the gel permeation (GPC) method using a tetrahydrofuran (THF) solvent.

매트릭스 형성 성분Matrix forming components

본 발명은 매트릭스 형성 성분으로서 유기 수지 매트릭스 형성 성분이 사용된다. 구체적으로는 종래 공지의 도료 수지를 열거할 수 있으며 구체적으로는 폴리에스테르수지, 폴리카보네이트수지, 폴리아미드수지, 폴리페닐렌옥사이드수지, 열가소성 아크릴수지, 염화비닐수지, 불소수지, 초산비닐수지, 실리콘고무 등의 열가소성 수지, 우레탄수지, 멜라민수지, 규소수지, 부티랄수지, 페놀수지,에폭시수지, 불포화 폴리에스테르수지, 열경화성 아크릴수지, 자외선경화성 아크릴수지 등을 들 수 있다.
In the present invention, an organic resin matrix forming component is used as the matrix forming component. Specifically, conventionally known paint resins may be enumerated, and specifically, polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyphenylene oxide resins, thermoplastic acrylic resins, vinyl chloride resins, fluorine resins, vinyl acetate resins, and silicones. Thermoplastic resins such as rubber, urethane resins, melamine resins, silicon resins, butyral resins, phenol resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, thermosetting acrylic resins, and ultraviolet curing acrylic resins.

유기수지계 매트릭스 성분으로는 구체적으로 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 트리메틸로일프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디트리메티로일프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디에틸아미노메틸메타크릴레이트, 디메틸아미노메틸메타크릴레이트, 디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 디에틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시부틸메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 부톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 2-메타클로일록시에틸호박산, 2-아크로일록시에틸호박산, 2-아크로일록시메틸호박산, 2-메타클로일록시에틸헥사히드로프탈산, 2-아크릴로일록시에틸-2-히드록시에틸프탈산, 2-메타클로일록시에틸아세토포스페이트, 2-메타클로일록시에틸아세토포스페이트, 2-아크릴로일록시에틸아세토포스페이트 및 이의 혼합물 또는 이 수지의 2종 이상의 공중합체 및 변성체 등의 친수성 유기 수지계 매트릭스 형성 성분 또는 비닐기, 우레탄기, 에폭시기, (메타)아크릴로일기, CF2기 등의 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 들 수 있다.
Specific examples of the organic resin matrix components include pentaerythritol triacrylate, trimethylloylpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethyloyl propane tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate. , Diethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2 -Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acryl Rate, methoxy triethylene glycol dimethacrylate, butoxydiethylene glycol methacrylate, tri Ethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 2-methacryloxyethyl succinic acid, 2-acrylooxyethyl succinate, 2-acrylooxymethyl succinic acid, 2-methacryloxyethyl hexahydro Phthalic acid, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalic acid, 2-methacryloyloxyethylacetophosphate, 2-methacryloyloxyethylacetophosphate, 2-acryloyloxyethylacetophosphate and mixtures thereof or in the hydrophilic organic resin matrix-forming component or a vinyl group of the resin of two or more copolymers and modification products, such as, a urethane group, an epoxy group, (meth) acrylic multi having a hydrophobic functional group, such as weather, CF 2 group-functional (meth) acrylic acid Ester resin is mentioned.

구체적으로는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 이소데실메타크릴레이트, n-라우릴아크릴레이트, n-스테아릴아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트, 트리플루오로에틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등이 그의 혼합물 등의 소수성 유기 수지계 매트릭스 형성 성분을 사용할 수 있다.
Specifically, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl Methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1, 6-hexanediol dimethacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, urethane acrylate, etc. can use hydrophobic organic resin matrix formation components, such as a mixture thereof.

본 발명에는 또한 자외선 경화 수지 또는 전자선 경화 수지가 바람직하다. 특히 본 발명에는 자외선 경화 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
In the present invention, an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is also preferable. It is preferable to use ultraviolet curable resin especially for this invention.

구체적인 6 관능 자외선 경화 수지로는 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트를 들 수 있으며 4 관능 자외선 경화 수지로서는 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트를 들 수 있고 3 관능 자외선 경화 수지로서는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 트리메틸로일프로판트리메타크릴레이트, 트리메틸로일프로판트리아크릴레이트, 이소시아누르산트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄프리폴리머, 2 관능성 자외선 경화 수지로서는 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-펜탄디올디메타크릴레이트, 1,4-헥산디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 1,9-노난디올디메타크릴레이트, 1,10-데칸디올디메타크릴레이트, 글리세린디메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 2-메타크로일옥시에틸아세트포스페이트, 2-아크릴로일옥시에틸아세트포스페이트, 폴리플로필렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 3-메틸-1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 3-메틸-1,7-옥탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올디아크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 1,10-데칸디올디아크릴레이트, 2,4-디에틸-1,5-헥산디올디아크릴레이트, 디메틸로일트리시클로데칸디아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 비스페놀A디아크릴레이트, 퍼플루오로케틸에틸메타크릴레이트, 트리플루오로에틸메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
Specific examples of the six-functional UV-curable resin include dipentaerythritol hexaacrylate. Examples of the four-functional UV-curable resin include pentaerythritol tetraacrylate. As methacrylate, trimethylloyl propane triacrylate, isocyanuric acid triacrylate, pentaerythritol hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, bifunctional ultraviolet curing resin, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate , Polypropylene glycol dimethacrylate, 1,4-pentanediol dimethacrylate, 1,4-hexanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol dimethacrylate Acrylate, 1,10-decanedioldimethacrylate, glycerindimethacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 2-methacryloyloxyethyl acetate phosphate, 2-acryloyloxyethyl acetate Phosphate, polyflophylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetraethylene acrylate, triethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol diacrylate, 3-methyl-1,7-octanedioldiacrylate, 1,6-hexanedioldiacrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanedioldiacrylate, 1,9-nonanedioldiacrylate Rate, 1,10-decanedioldiacrylate, 2,4-diethyl-1,5-hexanedioldiacrylate, dimethylloyltricyclodecanediacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxy Propyl methacrylate, bisphenol A diacrylate , Perfluoro butyl ethyl methacrylate location, there may be mentioned ethyl methacrylate, and mixtures thereof trifluoromethyl.

유기 수지 매트릭스 형성 성분은 모노머를 사용할 수 있지만 2량체 이상의 올리고머, 폴리머를 사용할 수도 있다.
As the organic resin matrix forming component, a monomer may be used, but an oligomer or a polymer of two or more dimers may be used.

이러한 자외선 경화 수지를 사용하면 단시간의 처리로 내찰상성이나 경도 등이 우수한 투명 피막을 생산할 수가 있다.
When such an ultraviolet curable resin is used, a transparent coating excellent in scratch resistance, hardness, and the like can be produced in a short time treatment.

금속 산화물 미립자Metal oxide fine particles

본 발명에 이용하는 금속 미립자 산화물 미립자로서는 통상 투명 피막에 사용되는 종래 공지의 금속 산화물 미립자를 이용할 수 있다. 본 발명에서는 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화주석, 오산화안티몬, 산화 인듐 및 그의 복합 산화물, 도핑제를 포함한 산화물, 복합 산화물로부터 선택되는 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.
As metal fine particle oxide fine particles used for this invention, the conventionally well-known metal oxide fine particle normally used for a transparent film can be used. In this invention, it is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from silica, alumina, titania, zirconia, tin oxide, antimony pentoxide, indium oxide and its complex oxide, oxide containing a dopant, and complex oxide.

이것들 입자는 투명 피막의 굴절률, 투명성, 대전 방지 성능 등을 고려하여 적당하게 선택하여 이용할 수 있다.
These particles can be appropriately selected and used in consideration of the refractive index, transparency, antistatic performance and the like of the transparent coating.

본 발명에서는 금속 산화물 미립자 실리카계 입자인 것이 바람직하다.
In the present invention, the metal oxide fine particles are preferably silica particles.

실리카계 미립자로는 실라카를 주성분으로서 포함하는 입자를 의미하고 투명성을 손상시키지는 않는 범위에서 실리카 이외의 성분, 알루미나, 티타니아 등을 포함한 것이어도 괜찮다. 더욱이 본 발명에서는 단분산 된 구상 실리카 미립자가 바람직하다. 이러한 입자를 이용하면 내찰상성, 투명성, 헤이즈 등이 우수한 투명 피막을 수득할 수 있다.
The silica-based fine particles may include particles other than silica, alumina, titania, or the like within the range of meaning particles containing silica as a main component and not impairing transparency. Furthermore, in the present invention, monodisperse spherical silica fine particles are preferred. By using such particles, a transparent coating excellent in scratch resistance, transparency, haze, and the like can be obtained.

금속 산화물 미립자는 유기 규소 화합물(실란 커플링제라고 하기도 함)로 표면 처리된 것이 바람직하고, 표면 처리 방법은 특별한 제한은 없고 종래 공지의 방법을 채용할 수 있으며, 예를 들면 금속 산화물 미립자의 알코올 분산액에 유기 규소 화합물을 첨가하고 필요에 따라 산 또는 알칼리 등의 유기 규소 화합물 가수분해용 촉매를 첨가하여 가수분해하는 것에 의해 표면 처리할 수 있다.
The metal oxide fine particles are preferably surface treated with an organosilicon compound (also referred to as a silane coupling agent), and the surface treatment method is not particularly limited and conventionally known methods can be employed, for example, an alcohol dispersion liquid of metal oxide fine particles. The surface treatment can be carried out by adding an organosilicon compound to the mixture and, if necessary, hydrolysis by adding a catalyst for hydrolysis of an organosilicon compound such as an acid or an alkali.

이와 같이 표면 처리한 금속 산화물 미립자는 유기 용매, 유기 수지 매트릭스 형성 성분에 고분산 시켜, 안정한 도포액을 수득할 수 있으며, 수득되는 투명 피막은 내찰상성, 투명성, 헤이즈 등이 우수하다.
The surface-treated metal oxide fine particles can be highly dispersed in an organic solvent and an organic resin matrix forming component to obtain a stable coating liquid, and the resulting transparent coating is excellent in scratch resistance, transparency, haze, and the like.

금속 산화물 미립자의 평균 입자 지름이 5?300 nm, 더욱이는 8?200 nm의 범위에 있는 것이 바람직하다.
The average particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably in the range of 5 to 300 nm, more preferably 8 to 200 nm.

금속 산화물 미립자의 평균 입자 지름이 너무 작으면 입자가 응집하기 쉽고 응집한 입자를 고분산시키는 것도 곤란해져, 수득되는 투명 피막의 헤이즈가 악화되는 경우가 있다. 금속 산화물 미립자의 평균 입자 지름이 너무 커도 투명 피막의 투명성이 저하되는 것과 함께 헤이즈도 악화되는 경우가 있다.
If the average particle diameter of the metal oxide fine particles is too small, the particles tend to aggregate easily, and it is difficult to high disperse the aggregated particles, and the haze of the obtained transparent film may deteriorate. Even if the average particle diameter of metal oxide microparticles | fine-particles is too big, transparency of a transparent film may fall, and haze may worsen.

중합 개시제Polymerization initiator

본 발명의 도포액에는 이용하는 매트릭스 형성 성분에 따라 중합 개시제가 포함되어 있어도 좋다. 중합 개시제로서는 공지의 것을 특별한 제한 없이 사용하는 것이 가능하고 예를 들면, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 2-히드록시-메틸-2-메틸-페닐-프로판-1-케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등을 들 수 있다. 또 필요에 따라 증감제, 경화 보조제 등의 공지 성분이 포함되어 있어도 좋다.
The coating liquid of this invention may contain the polymerization initiator according to the matrix formation component to be used. As a polymerization initiator, a well-known thing can be used without a restriction | limiting in particular, For example, bis (2, 4, 6- trimethyl benzoyl) phenyl phosphine oxide, bis (2, 6- dimethoxy benzoyl) 2, 4, 4- Trimethylpentylphosphine oxide, 2-hydroxy-methyl-2-methyl-phenyl-propane-1-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxy-cyclo Hexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, and the like. Moreover, if necessary, well-known components, such as a sensitizer and a hardening adjuvant, may be contained.

용매menstruum

본 발명에 이용하는 용매로서는 상기 매트릭스 형성 성분, 필요에 따라서 이용하는 중합 개시제를 용해 또는 분산할 수 있는 것과 동시에 상기 금속 산화물 미립자를 균일하게 분산할 수 있는 종래 공지의 용매를 이용할 수 있다.
As a solvent used for this invention, the conventionally well-known solvent which can melt | dissolve or disperse the said matrix formation component and the polymerization initiator used as needed, and can disperse | distribute the said metal oxide fine particle uniformly can be used.

구체적으로는 물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-프로판올(IPA), 부탄올, 디아세톤알코올, 퍼퓨릴 알코올(Furfurylalcohol), 테트라히드로퍼퓨릴알코올 등의 알코올 류; 초산 메틸, 초산 에틸, 초산 이소프로필, 초산 프로필, 초산 이소부틸, 초산 부틸, 초산 이소펜틸, 초산 펜틸, 초산 3-메톡시부틸, 초산 2-에틸부틸, 초산 시클로헥실, 에틸렌글리콜모노아세테이트 등의 에스테르 류, 에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 글리콜 류; 디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 에테르 류를 포함하는 친수성 용매, 초산 프로필, 초산 이소부틸, 초산부틸, 초산이소펜틸, 초산펜틸, 초산 3-메톡시부틸, 초산 2-에틸부틸, 초산시클로헥실, 에틸렌글리콜모노아세테이트 등의 에스테르 류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸메틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 디프로필케톤, 메틸펜틸케톤, 디이소부틸케톤 등의 케톤 류; 톨루엔 등 극성 용매를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용하여도 되고 또는 2종 이상 혼합하여 사용하여도 된다.
Specifically water; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfurylalcohol and tetrahydrofurfuryl alcohol; Methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol monoacetate, etc. Glycols such as esters, ethylene glycol and hexylene glycol; Diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol Hydrophilic solvent containing ethers such as monoethyl ether, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol mono Esters such as acetates; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone and diisobutyl ketone; And polar solvents such as toluene. These may be used independently, or may mix and use 2 or more types.

투명 피막 형성용 도포액의 조성Composition of Coating Liquid for Transparent Film Formation

투명 피막 형성용 도포액 중의 레벨링제를 포함하는 매트릭스 형성 성분의 농도는 고형분으로 하여 1?59.9 중량%, 더욱이는 2?59.4 중량%의 범위 있는 것이 바람직하다. 투명 피막 형성용 도포액 중의 매트릭스 형성 성분이 적으면 수득되는 투명 피막 중의 매트릭스 성분이 적어지고, 금속 산화물 미립자의 함유량이 너무 많아져서 내찰상성이 불충분하게 되는 경우가 있다. 또한 1회의 도포로 후막의 투명 피막을 형성할 수 없는 경우가 있고, 반복하여 도포, 건조를 필요로 하여 생산성이 저하되는 문제가 있다.
It is preferable that the density | concentration of the matrix formation component containing the leveling agent in the coating liquid for transparent film formation is 1 to 59.9 weight%, Furthermore, it is the range of 2 to 59.4 weight% as solid content. When there are few matrix forming components in the coating liquid for transparent film formation, the matrix component in the transparent film obtained will become small, content of metal oxide fine particles may become large too much, and scratch resistance may become inadequate. Moreover, the transparent film of a thick film may not be able to be formed by one application | coating, and there exists a problem that productivity is reduced by requiring application | coating and drying repeatedly.

투명 피막 형성용 도포액 중의 매트릭스 형성 성분이 너무 많아져도 수득되는 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자의 함유량이 적어져서 기재와의 밀착성, 충분한 내찰상성, 강도 등이 수득되지 않는 경우가 있다.
Even if there are too many matrix forming components in the coating liquid for transparent film formation, content of the metal oxide fine particle in the transparent film obtained may become small, and adhesiveness with a base material, sufficient scratch resistance, strength, etc. may not be obtained.

투명 피막 형성용 도포액 중의 레벨링제로서의 아크릴 실리콘의 농도는 고형분으로서 0.001?7.2 중량%, 더욱이는 0.002?6 중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.
It is preferable that the density | concentration of the acrylic silicone as a leveling agent in the coating liquid for transparent film formation exists in the range of 0.001 to 7.2 weight%, Furthermore, 0.002 to 6 weight% as solid content.

레벨링제의 농도가 적으면 도포 후의 건조 공정에 있어서, 도막 표면의 표면장력을 낮게 유지하지 못하고(표면 장력이 높아짐), 표면 평활성이 나쁘고, 오렌지 껍질과 같은 외관 불량이 생기는 경우가 있다. 또한 투명 피막의 접촉각도 작아져 내수성이나 발수성이 불충분해지는 경우가 있다. 레벨링제가 너무 많아도 투명 피막의 경도, 강도가 불충분해지는 경우가 있다.
When the concentration of the leveling agent is small, in the drying step after coating, the surface tension of the coating film surface cannot be kept low (surface tension is high), the surface smoothness is poor, and appearance defects such as orange peel may occur. Moreover, the contact angle of a transparent film also becomes small, and water resistance and water repellency may become inadequate. Even if there are too many leveling agents, the hardness and strength of a transparent film may become inadequate.

투명 피막 형성용 도포액 중의 금속 산화물 미립자의 농도는 고형분으로서 0.025?48 중량%, 더욱이는 0.1?40 중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.
The concentration of the metal oxide fine particles in the coating liquid for forming a transparent film is preferably in the range of 0.025 to 48% by weight, and more preferably 0.1 to 40% by weight as solid content.

금속 산화물 미립자가 적으면 수득되는 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자의 함유량이 적어져서 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막경도, 막 강도 등이 불충분해지는 경우가 있다. 금속 산화물 미립자가 너무 많아도 수득되는 투명 피막 중의 매트릭스 성분의 함유량이 적어져서 기재와의 밀착성, 내찰상성이 불충분해진다.
When there are few metal oxide microparticles | fine-particles, content of the metal oxide microparticles | fine-particles in the transparent film obtained may become small, and adhesiveness with a base material, abrasion resistance, film hardness, film strength, etc. may become inadequate. Even if there are too many metal oxide fine particles, content of the matrix component in the transparent film obtained will become small, and adhesiveness with a base material and scratch resistance will become inadequate.

투명 피막 형성용 도포액의 전체 고형분 농도는 5?60 중량%, 더욱이는 10?50 중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 전체 고형분 농도가 적으면 1회의 도포로 막 두께가 0.5 ㎛ 이상의 투명 피막을 수득하는 것이 곤란해지는 경우가 있으며, 반복 도포, 건조를 반복하면 수득되는 투명 피막의 경도나 내찰성이 불충분해지거나 헤이즈 또는 외관이 나빠지고 생산성이 문제가 되는 경우가 있다. 전체 고형분 농도가 너무 많아도 도포액의 점도가 높아져서 도포성이 저하하거나 수득되는 투명 피막의 헤이즈가 높아지거나 표면의 거칠기가 커져 내찰상성이 불충해지는 경우가 있다.
It is preferable that the total solid content concentration of the coating liquid for transparent film formation exists in the range of 5-60 weight%, Furthermore, it is 10-50 weight%. If the total solid content is small, it may be difficult to obtain a transparent film having a thickness of 0.5 μm or more in one coating. If repeated application and drying are repeated, the hardness and the scratch resistance of the transparent film obtained are insufficient, or the haze or The appearance may deteriorate and productivity may become a problem. Even if the total solid content is too high, the viscosity of the coating liquid may be high, so that the applicability is lowered, the haze of the obtained transparent film is increased, or the surface roughness is large, resulting in insufficient scratch resistance.

이러한 투명 피막 형성용 도포액을 이용한 투명 피막의 형성 방법은 디핑 법, 스프레이 법, 스피나 법, 롤러 코트 법, 그라비아 인쇄법, 마이크로그라비아 인쇄법 등의 공지의 방법으로 기재에 도포, 건조하고 그 다음에 자외선 조사, 가열 처리 등 통상의 방법에 의해 경화시킴으로써 투명 피막을 형성할 수 있다.
The method of forming a transparent film using the coating liquid for forming a transparent film is applied to a substrate by a known method such as dipping method, spray method, spinner method, roller coat method, gravure printing method, microgravure printing method, and then dried. Next, a transparent film can be formed by hardening by a conventional method, such as ultraviolet irradiation and heat processing.

수득한 투명 피막부 기재의 투명 피막의 막 두께는 0.5?20 ㎛의 범위에 있으며, 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막 경도, 막 강도, 투명성, 헤이즈 등이 우수한 것과 동시에 표면이 평탄하여 비누화 처리를 하여도 백화되는 일이 없으며, 내수성, 내약품성 등이 뛰어나다.
The film thickness of the transparent film of the obtained transparent film part base material exists in the range of 0.5-20 micrometers, and it is excellent in adhesiveness with a base material, abrasion resistance, film hardness, film strength, transparency, haze, etc., and the surface is flat and saponification process is carried out. Even if it is not whitening, water resistance, chemical resistance and the like is excellent.

이어서 본 발명에 관한 투명 피막부 기재에 관해서 설명한다.
Next, the transparent coating part base material which concerns on this invention is demonstrated.

[투명 피막부 기재]
[Transparent coating part description]

본 발명에 관한 투명 피막부 기재는 기재와 기재 상에 형성된 투명 피막이거나 상기 투명 피막이 매트릭스 성분과 금속 산화물 미립자로부터 이루어진 것이다.
The transparent coating part base material which concerns on this invention is a transparent film formed on the base material and the base material, or the said transparent film consists of a matrix component and metal oxide fine particles.

기재materials

본 발명에 이용하는 기재로서는 공지의 것을 특별한 제한 없이 사용하는 것이 가능하며, 유리, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, PET, TAC 등의 플라스틱 시트, 플라스틱 필름 등 플라스틱 패널 등을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리카보네이트, 아크릴, PET, TAC 등의 기재, 특히 TAC 기재는 기재를 일부 용해시키거나 팽윤시켜 투명 피막 성분이 상호 진입하여 경계의 계면이 불선명하게 되기 때문에 간섭 무늬를 억제할 수 있으므로 매우 적절하게 이용할 수 있다.
As a base material used for this invention, a well-known thing can be used without a restriction | limiting in particular, Plastic sheets, such as glass, polycarbonate, acrylic resin, PET, and TAC, plastic panels, such as a plastic film, etc. are mentioned. In particular, substrates such as polycarbonate, acrylic, PET, and TAC, in particular, TAC substrates can suppress interference fringes because some of the substrates are dissolved or swelled so that the transparent coating components enter each other and the interface at the boundary becomes unclear. It can use suitably.

투명 피막 Transparent film

투명 피막은 매트릭스 성분과 금속 산화물 미립자 또는 매트릭스 성분과 레벨링제를 포함하고 있다.
The transparent coating contains a matrix component and metal oxide fine particles or a matrix component and a leveling agent.

매트릭스 성분Matrix components

매트릭스 성분은 상기한 매트릭스 형성 성분의 경화물이다. 투명 피막 중의 매트릭스 성분의 함유량은 20?99.5 중량%, 더욱이는 40?99 중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 매트릭스 성분이 적으면 수득되는 투명 피막 중의 매트릭스 성분의 함유량이 적어져서 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다. 매트릭스 성분이 너무 많아도 수득되는 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자의 함유량이 적어져서 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다.
The matrix component is a cured product of the matrix forming component described above. It is preferable that content of the matrix component in a transparent film exists in the range of 20-99.9 weight%, Furthermore, 40-99 weight%. When there are few matrix components, content of the matrix component in the transparent film obtained may become small and scratch resistance may become inadequate. Even if there are too many matrix components, content of the metal oxide fine particle in the obtained transparent film may become small and scratch resistance may become inadequate.

레벨링제Leveling agent

레벨링제는 피막 중에서 경화물로 되어, 그 함유량은 고형분으로서 0.02?12 중량%, 더욱이는 0.04?10 중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 레벨링제가 적으면 상기한 바와 같이 도포 후의 공정에 있어서, 도막 표면의 표면장력을 낮게 유지하지 못하고(표면장력이 높아짐), 표면 평활성이 나쁘고 오렌지 껍질과 같은 외관 불량이 생기는 경우가 있다. 또한 투명 피막의 접촉각도 낮아져 내수성이 불충분해지는 경우가 있다. 레벨링제가 너무 많아도 투명 피막의 경도 또는 강도가 불충분해지는 경우가 있다.
It is preferable that a leveling agent turns into hardened | cured material in a film, and the content exists in the range of 0.02-12 weight%, Furthermore, 0.04-10 weight% as solid content. When there are few leveling agents, in the process after application | coating as mentioned above, surface tension of a coating film surface may not be kept low (surface tension becomes high), surface smoothness may be bad, and appearance defects, such as an orange peel, may arise. Moreover, the contact angle of a transparent film also becomes low and water resistance may become inadequate. Even if there are too many leveling agents, the hardness or strength of a transparent film may become inadequate.

또한 투명 피막 중에서 레벨링제로서 사용되는 아크릴 실리콘의 경화물은 투명 피막의 상부 표면에 비교적 편재하고 있으며, 매트릭스 성분 중의 아크릴 실리콘 수지 폴리머 경화물의 비율이 높은 경우는 투명 피막 중에 미립 상태에서 존재하여 투명 피막의 경도 또는 강도가 불충분해지는 경우가 있다.
In addition, the cured product of acrylic silicone used as a leveling agent in the transparent coating is relatively ubiquitous on the upper surface of the transparent coating, and when the ratio of the cured acrylic silicone polymer polymer in the matrix component is high, it is present in the fine state in the transparent coating to make the transparent coating. May have insufficient hardness or strength.

레벨링제가 상부에 편재하고 있으면 도막 표면의 표면장력을 저하시킬 수 있기 때문에 표면 평활성이 양호하고 외관 얼룩짐 발생이 감소하며 또한 접촉각도 높아져 내수성이 우수한 투명 피막을 수득할 수 있다.
When the leveling agent is ubiquitous, the surface tension of the surface of the coating film can be lowered, so that the surface smoothness is good, the appearance unevenness is reduced, and the contact angle is high, thereby obtaining a transparent film having excellent water resistance.

또한 레벨링제가 하부에 편재하고 있는 경우는 기재와의 친화성을 지니기 때문에 습윤제로서 작용하므로 기재 상에 이물질이 존재해도 이를 덮는 것이 가능하고 이물질에 의한 결함 등이 없는 투명 피막을 수득할 수 있다.
In addition, when the leveling agent is ubiquitous, since it has affinity with the substrate, it acts as a humectant, so that even if a foreign substance is present on the substrate, it is possible to cover it and to obtain a transparent film free from defects caused by the foreign substance.

금속 산화물 미립자Metal oxide fine particles

본 발명의 투명 피막에 이용하는 금속 산화물 미립자로서는 상기한 금속 산화물 미립자를 사용한다.
As metal oxide fine particles used for the transparent film of this invention, said metal oxide fine particles are used.

투명 피막 중의 금속 산화물 미립자의 함유량은 고형분으로서 0.5?80 중량%, 더욱이는 1?60 중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 금속 산화물 미립자가 적으면 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자의 함유량이 적기 때문에 금속 산화물 미립자를 사용하는 현저한 효과가 얻어지지 않는 경우 예를 들면 투명 피막의 기재와의 밀착성, 투명 강도 등이 불충분해지는 경우가 있다.
It is preferable that content of the metal oxide microparticles | fine-particles in a transparent film exists in the range of 0.5 to 80 weight%, Furthermore, 1 to 60 weight% as solid content. When there are few metal oxide fine particles, since there is little content of metal oxide fine particles in a transparent film, when the remarkable effect of using metal oxide fine particles is not acquired, for example, adhesiveness with the base material of a transparent film, transparency strength, etc. may become inadequate. .

금속 산화물 미립자가 너무 많아도 투명 피막의 헤이즈, 투명성이 나빠지는 경우가 있으며 또한 매트릭스 성분이 적기 때문에 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막강도가 불충분해지는 경우가 있다.
Even if there are too many metal oxide fine particles, the haze and transparency of a transparent film may worsen, and since there are few matrix components, adhesiveness with a base material, abrasion resistance, and film strength may become inadequate.

통상 투명 피막의 막 두께는 0.5?30 ㎛, 더욱이는 1?20 ㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 투명 피막의 막 두께가 얇으면 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있으며, 너무 두꺼워도 막의 수축에 의해 컬링(curling)을 일으키거나 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우가 있다.
Usually, it is preferable that the film thickness of a transparent film exists in the range of 0.5-30 micrometers, Furthermore, 1-20 micrometers. When the film thickness of the transparent film is thin, scratch resistance may be insufficient, and even if too thick, curling may occur due to shrinkage of the film or adhesion with the substrate may be insufficient.

본 발명에서 형성되는 투명 피막은 상기한 구성 성분으로 되기 때문에 표면이 평탄하고, 표면 거칠기(Ra)가 20 nm 이하로 된다. 특히 투명 피막으로서는 Ra가 15 nm 이하인 것이 바람직하다. 표면 거칠기(Ra)가 이 범위에 있으면 도막의 표면 평활성이 높고 접촉각이 크므로 내수성이나 발수성이 우수하다. 또한 내찰상성이나 막경도가 높다. 이러한 표면 거칠기(Ra)는 레이저 현미경에 의해서 측정할 수 있다.
Since the transparent film formed by this invention becomes said component, the surface is flat and surface roughness Ra becomes 20 nm or less. Especially as a transparent film, it is preferable that Ra is 15 nm or less. When surface roughness Ra exists in this range, since the surface smoothness of a coating film is high and a contact angle is large, it is excellent in water resistance and water repellency. In addition, scratch resistance and film hardness are high. Such surface roughness Ra can be measured by a laser microscope.

또한 본 발명에서 형성되는 투명 피막의 접촉각(CA1)은 60?110°의 범위 에 있다. 투명 피막으로서는 70?100°의 범위에 있는 것이 바람직하다. 투명 피막의 접촉각(CA1)이 이 범위에 있으면 내수성이 높고 필요에 따라서 본 발명의 투명 피막 위에 다른 투명 피막, 예를 들면 반사 방지막을 적층시켰을 경우에 서로의 밀착성도 유지할 수 있고, 내찰상성, 막강도 등이 저하되지 않는다. 또한 접촉각이 상기 범위를 벗어나면 투명 피막이 백화되어 헤이즈가 악화되고 내찰상성이 나빠지는 경우가 있다.
In addition, the contact angle (CA 1 ) of the transparent film formed in the present invention is in the range of 60 ~ 110 °. As a transparent film, it is preferable to exist in the range of 70-100 degree. When the contact angle CA 1 of the transparent film is within this range, the water resistance is high, and if necessary, when the other transparent film, for example, an antireflection film is laminated on the transparent film of the present invention, adhesion to each other can be maintained, and scratch resistance, The film strength does not decrease. Moreover, when a contact angle is out of the said range, a transparent film may whiten, a haze may deteriorate, and abrasion resistance may worsen.

또한 본 발명의 투명 피막은 상기 접촉각(CA1)과 투명 피막을 비누화 처리한 후의 접촉각(CA2)의 접촉각 차이가 10°이하가 된다. 특히 이 차이는 8°이하인 것 보다 효과적이다. 또한 비누화 처리 전후로 접촉각 차이가 크고 이와 같이 굴절률 차이가 작으면 투명 피막의 백화가 진행되고 투명성, 헤이즈 등이 불충해지는 경우가 있다.
In addition, the transparent coating film of the invention has a contact angle difference of the contact angle (CA 2) after the saponification treatment for the transparent film wherein the contact angle (CA 1) is not more than 10 °. In particular, this difference is more effective than 8 ° or less. In addition, when the contact angle difference is large and the refractive index difference is small before and after the saponification treatment, the whitening of the transparent film proceeds, and transparency, haze and the like may be insufficient.

접촉각은 전자동 접촉각계(협화계면과학(주) 제 : DM 700)에 의해 측정할 수 있다.
The contact angle can be measured by a fully automatic contact angle meter (manufactured by Cooperative Interface Science Co., Ltd .: DM 700).

또한 투명 피막의 헤이즈는 1.0% 이하에 있으며, 특히 0.8% 이하인 것이 바람직하다.
Moreover, the haze of a transparent film exists in 1.0% or less, and it is especially preferable that it is 0.8% or less.

투명 피막의 헤이즈가 이 범위에 있으면 투명성이 놓고 광학 박막으로서의 용도, 예를 들면 액정표시 장치 등의 표시 화면에 사용한 경우 콘트라스트, 명도, 정밀도 등의 표시성능이 우수해진다.
When the haze of a transparent film exists in this range, transparency is set and when it is used as an optical thin film, for example, for display screens, such as a liquid crystal display device, display performance, such as contrast, brightness, and precision, becomes excellent.

표면 거칠기를 조정하려면 본 발명에 따른 아크릴 실리콘계 레벨링제의 사용 또는 그 양의 변화로 조정한다. 헤이즈를 조정하려면 이용하는 금속 산화물 미립자의 입자 지름, 함유량 이외에 본 발명에 이용하는 아크릴 실리콘계 레벨링제의 사용 또는 그 양의 변화로 조정한다. 접촉각을 조정하려면 : 본 발명에 따른 아크릴 실리콘계 레벨링제의 사용 또는 그 사용량 변화로 조정한다. 접촉각 차이를 조정하려면 알칼리에 용해하기 어려운 소정의 평균 분자량의 범위에 있는 아크릴 실리콘계 레벨링제를 사용한다. 또한 이를 임의적으로 조정하는 것이 아니라 상호 관계로 조정시키는 것이다.
To adjust the surface roughness, the use of the acrylic silicone-based leveling agent according to the present invention or the amount thereof is changed. In order to adjust a haze, it adjusts by use of the acrylic silicone type leveling agent used for this invention, or the change of the quantity other than the particle diameter and content of the metal oxide fine particle to be used. To adjust the contact angle: The use of the acrylic silicone leveling agent according to the present invention or the amount of use thereof is adjusted. In order to adjust a contact angle difference, the acrylic silicone type leveling agent in the range of predetermined average molecular weight which is hard to melt | dissolve in alkali is used. In addition, it is not to adjust arbitrarily, but to coordinate with each other.

상기와 같이 본 발명에서는 매트릭스 성분과 함께 레벨링제로서 소정의 평균 분자량의 아크릴 실리콘을 사용하고 있으므로 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막강도, 투명성 등이 우수한 것과 동시에 내약품성, 내수성, 발수성, 내지문 부착성이 우수하고 표면이 평탄, 평활하고 한편 백화 현상 없이 헤이즈가 우수한 투명 피막부 기재를 제공할 수 있다.
As described above, in the present invention, acrylic silicone having a predetermined average molecular weight is used as the leveling agent together with the matrix component, so that the adhesion, scratch resistance, film strength, transparency, etc. to the substrate are excellent, and chemical resistance, water resistance, water repellency, and fingerprint It is possible to provide a transparent coating substrate having excellent adhesion, smooth and smooth surface and excellent haze without whitening.

이러한 투명 피막은 상기한 도포액을 도포하고 경화되는 것으로 제작가능하다.
Such a transparent film can be produced by applying and curing the coating solution described above.

[실시예]
[Example]

이하 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만 본 발명은 이러한 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

[실시예 1]
[Example 1]

투명 피막 형성용 도포액(1)의 제조Preparation of the coating liquid 1 for transparent film formation

실리카 미립자 분산액(니끼쇼쿠바이가세이(주) 제; OSCAL1432; 평균 입자 지름 12 nm, SiO2 농도 30.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.46) 100g에 γ-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란 4.50g(신월 실리콘주 제; KBM-503, SiO2 성분 81.2%)를 혼합하여 초 순수한 물을 3.1g 첨가하고 50℃에서 20시간 교반하여 고형분 농도 30.5 중량%의 표면 처리한 실리카 미립자 분산액(1)을 수득하였다.
Silica fine particle dispersion (you kkisyo Cuba divalent assay (Co., Ltd.); OSCAL1432; average particle size 12 nm, SiO 2 concentration of 30.5% by weight, dispersing medium: isopropanol, refractive index of particles 1.46) γ- meth acryloxy propyl trimethoxy silane and 4.50 to 100g g (Shinwol Silicone Co., Ltd .; KBM-503, 81.2% of SiO 2 component) were mixed, 3.1 g of ultrapure water was added, and stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain a surface-treated silica fine particle dispersion having a solid content of 30.5 wt% (1) Obtained.

그 후 로터리 증발기로 프로필렌글리콜모노프로필에테르(PGME)에 용매 치환하여 고형분 농도 40.5 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(1)을 수득하였다.
Thereafter, solvent substitution was performed on propylene glycol monopropyl ether (PGME) using a rotary evaporator to obtain silica fine particle PGME dispersion (1) having a solid content concentration of 40.5% by weight.

이어서 고형분 농도 40.5 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(1) 51.85g과 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (공영사 화학(주) 제: DPE-6A) 18.80g과 1,6-헥산디올디아크릴레이트 (공영사 화학(주) 제: 라이트아크릴레이트 SR-238F) 4.20g과 아크리실리콘계 레벨링제(남본화성(주) 제 : 디스파론 NSH-8430HF) 0.20g과 광중합 개시제(ciba재팬(주) 제 : 이르가큐어 184, PGME에서 고형분 농도 10%에 용해) 12.60g과 PGME 4.35g과 아세톤 10.0g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(1)을 제조하였다. 이 때 레벨링제의 분자량을 측정한 결과, 평균 분자량은 11,000이었다.
Subsequently, 51.85 g of silica fine particles PGME dispersion (1) and 18.80 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPE-6A manufactured by Kogyo Chemical Co., Ltd.) at a solid content concentration of 40.5% by weight (1,6-hexanediol diacrylate) Kogyo Chemical Co., Ltd. make: 4.20 g of light acrylate SR-238F, 0.20 g of acrylic-based leveling agent (Nambon Chemical Co., Ltd. make: Disparon NSH-8430HF), and photoinitiator (ciba Japan Co., Ltd. make) : Irgacure 184, dissolved in 10% solids concentration in PGME) 12.60 g, 4.35 g of PGME, and 10.0 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating solution (1) for forming a transparent film having a solid content of 42.0 wt%. As a result of measuring the molecular weight of the leveling agent, the average molecular weight was 11,000.

투명 피막부 기재(1)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 1

투명 피막 형성용 도포액(1)을 TAC 필름 (파낙(주) 제: FT-PB80UL-M, 두께: 80 ㎛, 굴절률 : 1.51)에 바코트법(#14)으로 도포하여 80℃에서 120초간 건조한 후, 300 mJ/cm2의 자외선을 조사하여 경화시켜 투명 피막부 기재(1)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
The coating liquid 1 for transparent film formation was apply | coated to TAC film (made by Panak Co., Ltd .: FT-PB80UL-M, thickness: 80 micrometers, refractive index: 1.51) by the bar coat method (# 14) for 120 second at 80 degreeC. After drying, 300 mJ / cm 2 ultraviolet ray was irradiated and cured to prepare a transparent coating part substrate 1. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율 및 헤이즈는 헤이즈미터(스가 시험기(주) 제)에 의해 측정되었다. 또한 도포액의 TAC 필름은 전광선 투과율이 9.32%, 헤이즈가 0.2%이었다.
The total light transmittance and the haze of the obtained transparent coating part substrate were measured by a haze meter (manufactured by Suga Tester Co., Ltd.). In addition, the TAC film of the coating liquid had a total light transmittance of 9.32% and a haze of 0.2%.

또한 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 이하의 방법으로 측정, 평가하여 결과를 표에 나타낸다.
Moreover, adhesiveness, soap-resistant, abrasion resistance, pencil hardness, and surface roughness are measured and evaluated by the following method, and a result is shown in a table | surface.

내비누화성 평가Soap resistance evaluation

비누화 테스트 방법 : 투명 피막부 기재(1)를 40℃의 10 wt% NaOH 수용액에 80초 침지한다. 비누화 테스트 전후의 투명 피막 표면의 접촉각(CA1) 및 (CA2)를 전자동 접촉각계(교와계면 과학(주) 제 : DM 700)에 의해 측정하고 접촉각 차이를 구하고, 결과를 표에 나타냈다.
Saponification test method: The transparent coating part base material 1 is immersed in 40 degreeC 10 wt% NaOH aqueous solution for 80 second. The contact angles CA 1 and CA 2 on the surface of the transparent film before and after the saponification test were measured by a fully automatic contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd .: DM 700) to obtain a contact angle difference, and the results are shown in the table.

내찰상성의 측정Measurement of scratch resistance

#0000 강철솜을 이용하여 하중 2kg/cm2에서 10회 접동하고 막의 표면을 육안으로 관찰하고 이하의 기준으로 평가하고 결과를 표 1에 나타낸다.
Sliding 10 times under a load of 2kg / cm 2 using # 0000 steel wool, the surface of the membrane was visually observed, evaluated according to the following criteria, and the results are shown in Table 1.

평가기준:Evaluation standard:

각 항목의 상처가 확인되지 않는다 : ◎The wound of each item is not confirmed: ◎

각 항목의 상처가 약간 확인된다. : ○Each item has a slight wound. : ○

각 항목의 상처가 다수 확인된다. : △Many wounds of each item are confirmed. : △

표면이 전체적으로 깎아져 있다. : ×
The surface is entirely carved. : ×

밀착성Adhesion

투명 피막부 기재(F-1)의 표면이 나이프로 가로 세로 1 mm의 간격으로 11개의 평행한 상처를 만들고 100개의 칸을 만들고, 이것에 셀로판 테이프(등록상표)를 접착하고 이어서 셀로판 테이프(등록상표)를 박리했을 때에 피막에 박리되지 않고 남아있는 칸의 수를 이하의 4 단계로 분류하여 밀착성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타난다.
The surface of the transparent coating base material (F-1) is made with 11 parallel wounds and 100 cells at intervals of 1 mm by a knife, and then adheres to the cellophane tape (registered trademark), and then the cellophane tape (registration) When peeling off the trademark), the number of cells remaining without peeling off the coating was classified into the following four steps to evaluate the adhesion. The results are shown in Table 1.

남아 있는 칸의 수가 95개 이상 : ◎95 or more spaces remaining: ◎

남아 있는 칸의 수가 90?94개 : ○Number of spaces remaining 90 ~ 94: ○

남아 있는 칸의 수가 85?89개 : △85 to 89 spaces remaining: △

남아 있는 칸의 수가 84개 이하 : ×
Number of spaces remaining 84 or less: ×

연필 경도의 측정Measurement of pencil hardness

JIS-K-5600에 준하여 연필 경도 시험기에 의해 측정하였다.
It measured by the pencil hardness tester according to JIS-K-5600.

표면 거칠기의 측정Measurement of surface roughness

레이저 현미경 법에 의해 측정하였다.
It measured by the laser microscopy.

[실시예 2]
Example 2

투명 피막 형성용 도포액(2)의 제조Preparation of the coating liquid 2 for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 아크릴 실리콘계 레벨링제를 0.05g 혼합한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(2)을 제조하였다.
In Example 1, the coating liquid 2 for transparent film formation of 42.0 weight% of solid content concentration was produced like it except having mixed 0.05g of acrylic silicone leveling agents.

투명 피막부 기재(2)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 2

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(2)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(2)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material 2 was manufactured similarly except having used the coating liquid for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[실시예 3]
Example 3

투명 피막 형성용 도포액(2)의 제조Preparation of the coating liquid 2 for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 아크릴 실리콘계 레벨링제를 1.0g 혼합한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(3)을 제조하였다.
In Example 1, the coating liquid 3 for transparent film formation of 42.0 weight% of solid content concentration was produced like it except having mixed 1.0g of acrylic silicone type leveling agents.

투명 피막부 기재(3)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 3

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(3)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(3)을 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material 3 was manufactured similarly except having used the coating liquid 3 for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[실시예 4]
[Example 4]

투명 피막 형성용 도포액(4)의 제조Preparation of the coating liquid 4 for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 아크릴 실리콘게 레벨링제(남본 화성(주)제: 디스파론 SF-8363)을 혼합한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(4)를 제조하였다. 이 때 레벨링제의 분자량을 측정한 결과 평균 분자량은 7,500이었다.
In Example 1, the coating liquid 4 for transparent film formation of 42.0 weight% of solid content concentration was carried out similarly except having mixed acrylic silicone crab leveling agent (Nambon Chemical Co., Ltd. make: Disparon SF-8363). Prepared. At this time, the average molecular weight was 7,500 when the molecular weight of the leveling agent was measured.

투명 피막부 기재(4)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 4

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(4)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(4)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material 4 was produced similarly except having used the coating liquid 4 for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[실시예 5]
Example 5

투명 피막 형성용 도포액(5)의 제조Preparation of the coating liquid 5 for transparent film formation

실리카 미립자 분산액 (니끼쇼쿠바이가세이(주) 제: CATALOID SI-50 ; 평균 입자 지름 25 nm, 분산매수, SiO2 농도 48 중량%) 1000g에 순수한 물을 600g 첨가하여 30% 농도로 하고, 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제: 다이아이온 SK1B) 336g를 이용하여 80℃에서 3시간 이온 교환하여 고형분 농도 30 중량%의 실리카 미립자 분산액(2)을 수득하였다.
To 600 g of silica fine particle dispersion (Nikishokubai Kasei Co., Ltd. product: CATALOID SI-50; average particle diameter 25 nm, dispersion number, SiO 2 concentration 48% by weight), 600 g of pure water was added to make 30% concentration, and cation 336 g of an exchange resin (Mitsubishi Chemical Corporation: Dion SK1B) was ion-exchanged at 80 ° C. for 3 hours to obtain a silica fine particle dispersion 2 having a solid content concentration of 30% by weight.

이 고형분 농도 30 중량%의 실리카 미립자 분산액(2)를 한외여과막을 이용하여 메탄올로 용매 치환하여 고형분 농도 30 중량%의 실리카 미립자 메탄올 분산액(2)을 수득하였다.
The silica fine particle dispersion 2 having a solid content concentration of 30% by weight was solvent-substituted with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a silica fine particle dispersion 2 with a solid content concentration of 30% by weight.

이어서 이 실리카 미립자 메탄올 분산액(2) 100g에 γ-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란 4.50g (신월실리콘주 제: KBM-503, SiO2 성분 81.2%)을 혼합하여 초 순순한 물을 3.1g 첨가하고 50℃에서 20시간 교반하여 표면 처리한 실리카 미립자 분산액(2)을 수득하였다(고형분 농도 30.5 중량%).
Next, 4.50 g of gamma -methacryloxypropyl trimethoxysilane (made by Shinwol Silicon Co., Ltd .: KBM-503, SiO2 component 81.2%) was mixed with 100 g of this silica fine particle methanol dispersion (2), and 3.1 g of ultrapure water was added, and 50 It stirred at 20 degreeC for 20 hours, and obtained the silica fine particle dispersion 2 surface-treated (solid content concentration 30.5 weight%).

로터리 증발기로 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGM)에 용매 치환하여 고형분 농도 40 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(2)을 수득하였다.
Solvent substitution of propylene glycol monomethyl ether (PGM) with a rotary evaporator yielded a silica particulate PGME dispersion (2) having a solid content of 40% by weight.

그 다음에 실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.5 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(1) 대신에 실리카 미립자 PGME 분산액(2)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(5)을 제조하였다.
Next, in Example 1, the coating liquid for transparent film formation of 42.0 weight% of solid content concentration similarly except having used the silica fine particle PGME dispersion (2) instead of the silica particle PGME dispersion liquid (4) of solid content concentration 40.5 weight%. (5) was prepared.

투명 피막부 기재(5)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 5

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(5)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(5)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material 5 was manufactured similarly except having used the coating liquid 5 for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[실시예 6]
Example 6

투명 피막 형성용 도포액(6)의 제조Preparation of the coating liquid 6 for transparent film formation

실리카 미립자 분산액(니끼쇼쿠바이가세이(주) 제: CATALOID SI-80P; 평균 입자 지름 80 nm, SiO2 농도 40 중량%, 분산매 ; 물) 1000g에 순수한 물을 333g 첨가하여 고형분 농도를 30 중량%로 조절하고, 이어서 양이온 교환수지 (미츠비시 화학(주) 제 다이아이온 SK1B) 336g을 이용하고 80℃에서 3시간 이온 교환하여 세정을 실시하여 고형분 농도 30 중량%의 실리카 미립자 분산액(3)을 수득하였다. 이 분산액을 한외여과막을 이용하여 메탄올로 용매 치환하여 고형분 농도 30 중량%의 실리카 미립자 메탄올 분산액(3)을 수득하였다.
333 g of pure water was added to 1000 g of silica fine particle dispersion (Nikishokubai Kasei Co., Ltd. product: CATALOID SI-80P; average particle diameter 80 nm, SiO 2 concentration 40 weight%, dispersion medium; water), and solid content concentration was 30 weight% Then, 336 g of a cation exchange resin (Diion SK1B manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) was ion-exchanged at 80 ° C. for 3 hours to obtain silica fine particle dispersion 3 having a solid content concentration of 30% by weight. . This dispersion was solvent-substituted with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a silica particulate methanol dispersion (3) having a solid content concentration of 30% by weight.

실리카 미립자 메탄올 분산액(3) 100g에 γ-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란 4.50g (신월 실리콘주제: KBM-503, SiO2 성분 81.2%)를 혼합하고 초 순수한 물을 3.1g 첨가하고 50℃에서 20시간 교반하여 고형분 농도 30.5 중량%의 표면 처리한 실리카 미립자 메탄올 분산액(3)을 수득하였다.
100 g of silica fine particle methanol dispersion (3) was mixed with 4.50 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (New Moon silicone topic: KBM-503, SiO2 component 81.2%), 3.1 g of ultrapure water was added, After stirring for a time, the surface-treated silica fine particles methanol dispersion liquid 3 having a solid content concentration of 30.5% by weight was obtained.

그 후 로터리 증발기로 프로필렌글리콜모노프로필에테르(PGME)에 용매 치환하여 고형분 농도 40.5 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(3)을 수득하였다.
Thereafter, solvent substitution was performed on propylene glycol monopropyl ether (PGME) using a rotary evaporator to obtain silica fine particle PGME dispersion (3) having a solid content concentration of 40.5% by weight.

그 다음에 실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.5% 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(1) 대신에 실리카 미립자 PGME 분산액(3)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(6)을 제조하였다.
Then, in Example 1, the same application | coating for transparent film formation as the solid content concentration 42.0 weight% was carried out similarly except having used the silica fine particle PGME dispersion liquid 3 instead of the silica particle PGME dispersion liquid of 40.5% weight% of solid content concentration. Liquid 6 was prepared.

투명 피막부 기재(6)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 6

실시예 1에 있어서, 투명 피막의 형성용 도포액(6)을 이용한 것 이외에는 동일하게 투명 피막부 기재(6)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material 6 was similarly manufactured except having used the coating liquid 6 for formation of a transparent film. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도 , 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesion, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness and the surface roughness of the obtained transparent coating part substrate were measured and the results are shown in the table.

[실시예 7]
Example 7

투명 피막 형성용 도포액(7)의 제조Preparation of the coating liquid 7 for transparent film formation

P 도핑 산화 주석 미립자의 제조Preparation of P Doped Tin Oxide Fine Particles

순수한 물 8060g에 질산암모늄 13g과 15% 암모니아수 20g을 넣고 교반하여 50℃로 승온시켰다. 이 중에 순수한 물 4290g에 주석산칼륨 1519g을 용해한 액을 10시간에 걸쳐 롤러 펌프로 첨가하였다. 이 때 pH 제어기로 pH를 8.8로 유지하도록 농도 10 중량%의 초산을 첨가하여 조절하였다. 첨가 종료 후 1시간 50℃를 유지한 후 농도 10 중량%의 초산을 첨가하고 pH를 3.0까지 내렸다. 이어서 한외여막으로 농축하고 꺼냈다. 이 때 꺼낸 액체의 양은 6000g로 고형분(SnO2) 농도는 12 중량%이었다. 이 슬러리 중에 농도 16 중량%의 인산 수용액 264g을 첨가하고 0.5시간 교반하였다. 이것을 건조하고 700℃에서 2시간 소성하여 P 도핑 산화 주석 미립자를 제조하였다. 수득된 P 도핑 산화주석 미립자의 평균 입자 지름은 15 nm이었다.
13 g of ammonium nitrate and 20 g of 15% aqueous ammonia were added to 8060 g of pure water, and the mixture was stirred and heated to 50 ° C. Among them, a solution in which 1519 g of potassium stannate was dissolved in 4290 g of pure water was added by a roller pump over 10 hours. At this time, the pH was adjusted by adding 10% by weight of acetic acid to maintain the pH at 8.8. After the addition was completed, the mixture was maintained at 50 ° C for 1 hour, and then acetic acid having a concentration of 10% by weight was added, and the pH was lowered to 3.0. Subsequently, it was concentrated by ultrafiltration and taken out. The amount of liquid taken out at this time was 6000 g, and the solid content (SnO 2 ) concentration was 12% by weight. In this slurry, 264 g of an aqueous solution of phosphoric acid having a concentration of 16% by weight was added and stirred for 0.5 hour. It was dried and calcined at 700 ° C. for 2 hours to prepare P-doped tin oxide fine particles. The average particle diameter of the obtained P dope tin oxide fine particle was 15 nm.

표면 처리 P 도핑 산화 주석 미립자 분산액의 제조Preparation of Surface Treatment P Doped Tin Oxide Fine Particle Dispersions

P 도핑 산화 주석 미립자 217g, 이온 교환수 335g을 2L 유리 비커에 넣어 농도 20 중량%의 KOH 수용액 50g을 첨가한 후, 석영 비드(0.15 mm) 1000g을 넣어 비드 밀로 충분히 교반하여 분쇄 분산시킨 후 325 메쉬 (구경 44 마이크로)의 스테인레스제 철망으로 석영 비드와 분산액을 분리하고 더욱이는 철망 상에 남아있는 석영 비드를 이온 교환수 1560g로 세정한 액을 충분히 혼합하고 이 액을 90℃ 1시간 가열 처리한 후, 실온까지 냉각시키고 음이온 교환수지 96g을 넣어 1시간 교반한 후, 음이온 교환수지를 분리, 이어서 양이온 교환수지 96g를 넣어 1시간 교반한 후 양이온 수지를 분리하여 P 도핑 산화 미립자 수분산액(농도 10 중량%)을 수득하였다.
217 g of P-doped tin oxide fine particles and 335 g of ion-exchanged water were added to a 2 L glass beaker, and then 50 g of a 20% by weight aqueous KOH solution was added. After separating the quartz beads and the dispersion liquid with a stainless steel wire (44 micrometers in diameter), and further mixing the solution of the quartz beads remaining on the wire mesh with 1560 g of ion-exchanged water and heat-treating the solution at 90 DEG C for 1 hour. After cooling to room temperature, adding 96 g of anion exchange resin and stirring for 1 hour, then separating the anion exchange resin, then adding 96 g of cation exchange resin, stirring for 1 hour, and then separating the cation resin to disperse the P-doped oxidized particulate aqueous dispersion (concentration of 10 wt%). %) Was obtained.

농도 10 중량%이 P 도핑 산화 주석 미립자의 수산액 2000g에 커플링제로서 규산 에틸(타마화학제 에틸실리케이트 28 SiO2 성분 28.8%) 20.8g (P 도핑 산화주석 미립자와의 중량비 = 100/3)와 메탄올 2000g을 넣어 50℃에서 18시간 교반하여 표면 처리를 실시하였다. 이 후에 에탄올에 용매 치환하여 농도 30 중량%의 실란 커플링제로 표면 처리한 P 도핑 산화 주석 미립자의 에탄올 분산액을 제조하였다.
10 wt% of the concentration was added to 2000 g of the aquatic solution of P-doped tin oxide fine particles and 20.8 g of ethyl silicate (28.8% of ethyl silicate 28 SiO 2 component from Tama Chemical Co.) as a coupling agent (weight ratio with P-doped tin oxide fine particles = 100/3) 2000 g of methanol was added and the mixture was stirred at 50 ° C. for 18 hours to carry out surface treatment. Thereafter, ethanol dispersion of P-doped tin oxide fine particles surface-treated with a silane coupling agent having a concentration of 30 wt% by solvent substitution with ethanol was prepared.

그 후 로터리 증발기로 프로필렌글리콜모노프로필에테르(PGME)에 용매 치환하여 고형분 농도 40.5 중량%의 P 도핑 산화 주석 미립자 PGME 분산액을 수득하였다.
Thereafter, solvent substitution was performed on propylene glycol monopropyl ether (PGME) using a rotary evaporator to obtain a P-doped tin oxide fine particle PGME dispersion having a solid content concentration of 40.5% by weight.

그 다음에 실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.5 중량%의 실리카 미립자 PGME 분산액(1) 대신에 P 도핑 산화 주석 미립자 PGME 분산액을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(7)을 제조하였다.
Next, in Example 1, the coating liquid for transparent film formation of 42.0 weight% of solid content concentration was carried out similarly except having used P-doped tin oxide fine particle PGME dispersion liquid instead of the silica fine particle PGME dispersion liquid of 40.5 weight% of solid content concentration. (7) was prepared.

투명 피막부 기재(7)의 제조Preparation of the transparent coating part base material 7

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(7)을 이용하고 바코트 #20을 이용하여 도포한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(7)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material 7 was produced similarly except having apply | coated using the coating liquid 7 for transparent film formation, and using Barcoat # 20. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[비교예 1]
Comparative Example 1

투명 피막 형성용 도포액(R1)의 제조Preparation of coating liquid (R1) for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 아크릴 실리콘계 레벨링제 (남본 화성(주) 제 : 디스파론 NSH-8430 HF)를 혼합하지 않았던 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R1)을 제조하였다.
The coating liquid (R1) for forming a transparent coating film having a solid content concentration of 42.0 wt% in the same manner as in Example 1, except that the acrylic silicon-based leveling agent (Nambon Chemical Co., Ltd .: Disparon NSH-8430HF) was not mixed. Was prepared.

투명 피막부 기재(R1)의 제조Preparation of the transparent coating part base material R1

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R1)을 이용한 것 이외에는 동일하게 투명 피막부 기재(R1)을 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material R1 was similarly manufactured except having used the coating liquid R1 for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[비교예 2]
Comparative Example 2

투명 피막 형성용 도포액(R2)의 제조Preparation of coating liquid (R2) for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 아크릴 실리콘계 레벨링제 (남본 화성(주) 재; 디스파론 UVX-271)를 혼합한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(2)을 제조하였다. 이 때 레벨링제의 분자량을 측정한 결과, 평균 분자량은 4,000이었다.
In Example 1, the coating liquid 2 for transparent film formation of 42.0 weight% of solid content concentration was produced similarly except mixing acrylic silicone type leveling agent (Nambon Chemical Co., Ltd. material; Disparon UVX-271). It was. As a result of measuring the molecular weight of the leveling agent, the average molecular weight was 4,000.

투명 피막부 기재(R2)의 제조Preparation of the transparent coating part base material R2

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R2)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(R2)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material R2 was produced similarly except having used the coating liquid R2 for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[비교예 3]
Comparative Example 3

투명 피막 형성용 도포액(R3)의 제조Preparation of coating liquid (R3) for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 아크릴글리코계 레벨링제 (남본화성(주) 제: 디스파론 UVX-2280)을 혼합한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 42.0%의 투명 피막 형성용 도포액(R3)을 제조하였다. 이 때 레벨링제의 분자량을 측정한 결과, 평균 분자량은 35,000이었다.
In Example 1, the coating liquid (R3) for transparent film formation of 42.0% of solid content concentration was manufactured similarly except having mixed the acrylic glyco type leveling agent (Nambon Chemical Co., Ltd. product: Disparon UVX-2280). It was. As a result of measuring the molecular weight of the leveling agent, the average molecular weight was 35,000.

투명 피막부 기재(R3)의 제조Preparation of the transparent coating part base material R3

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R3)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(R3)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material R3 was produced similarly except having used the coating liquid R3 for transparent film formation. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

[비교예 4]
[Comparative Example 4]

투명 피막 형성용 도포액(R4)의 제조Preparation of coating liquid (R4) for transparent film formation

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.5 중량%의 실리카졸의 프로필렌글리콜 모노프로필에테르 분산액 37.04g과 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 (공영사 화학(주) 제: DPE-6A) 12.00g과 디메틸롤트리시클로데칸디아크릴레이트 1.6-헥산디올디아크릴레이트 (공영사 화학(주) 제: 라이트아크릴레이트 SR-238F) 3.00g와 아크릴실리콘계 레벨링제 (남본 화성(주) 제 : 디스파론 NSH-8430 HF) 30g과 광중합 개시제(ciba재팬(주) 제 : 이르가큐어 184, PGME에서 고형분 농도 20%에 용해) 4.50g와 PGME 3.46g과 아세톤 10.0g를 충분히 혼합하여 고형분 농도 30 중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R4)을 제조하였다.
37.04 g of propylene glycol monopropyl ether dispersions of silica sol with a solid content concentration of 40.5% by weight, 12.00 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPE-6A manufactured by Kogyo Chemical Co., Ltd.) and dimethylol tricyclo Decanediacrylate 1.6-hexanedioldiacrylate (manufactured by Kogyo Chemical Co., Ltd .: Lightacrylate SR-238F) 3.00 g and an acrylic silicone leveling agent (Nambon Chemical Co., Ltd .: Disparon NSH-8430 HF) 30 g and a photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd .: Irgacure 184, dissolved in PGME at 20% solids concentration) 4.50 g, PGME 3.46 g, and acetone 10.0 g are sufficiently mixed to form a transparent film having a solid concentration of 30% by weight. Coating liquid R4 was prepared.

투명 피막부 기재(R4)의 제조Preparation of the transparent coating part base material R4

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R4)을 이용하고 바코트 #20을 이용하여 도포한 것 이외에는 동일하게 하여 투명 피막부 기재(R4)를 제조하였다. 투명 피막의 막 두께는 6 ㎛이었다.
In Example 1, the transparent coating part base material R4 was similarly manufactured except having apply | coated using the coating liquid R4 for transparent film formation, and using Barcoat # 20. The film thickness of the transparent film was 6 micrometers.

수득된 투명 피막부 기재에 대해서 전광선 투과율, 헤이즈, 밀착성, 내비누화성, 내찰상성, 연필 경도, 표면 거칠기를 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
The total light transmittance, the haze, the adhesiveness, the soap resistance, the scratch resistance, the pencil hardness, and the surface roughness of the obtained transparent coating part base material were measured and the results are shown in the table.

Figure pat00003
Figure pat00003

Figure pat00004
Figure pat00004

Figure pat00005
Figure pat00005

Claims (15)

매트릭스 형성 성분과 금속 산화물 미립자 및 용매로 이루어진 투명 피막 형성용 도포액에 있어서,
레벨링제로서 평균 분자량이 5,000?30,000 범위인 아크릴실리콘계 수지를 포함하고 레벨링제의 함유량은 고형분으로서 0.001?7.2 중량% 범위인 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
In the coating liquid for transparent film formation which consists of a matrix formation component, metal oxide fine particles, and a solvent,
The coating liquid for transparent film formation containing acrylic silicone type resin whose average molecular weights are a range of 5,000-30,000 as a leveling agent, and content of a leveling agent is 0.001-7.2 weight% as solid content.
제 1항에 있어서, 상기 매트릭스 형성 성분의 농도는 고형분으로서 1?59.9 중량% 범위이고 상기 금속 산화물 미립자의 함유량은 고형분으로서 0.025?48 중량%이고 전체 고형분 농도가 5?60 중량% 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
The method of claim 1, wherein the concentration of the matrix forming component is in the range of 1 to 59.9% by weight as solids, the content of the metal oxide fine particles is 0.025 to 48% by weight as solids, and the total solids concentration is in the range of 5 to 60% by weight. Coating liquid for transparent film formation
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 실리카, 알루미나, 산화 티탄, 산화 지르코늄, 산화 주석, 오산화안티늄, 산화 인듐 또는 그의 복합 산화물, 도핑제를 포함하는 상기 금속 산화물 또는 그의 복합 산화물로부터 선택된 적어도 1종 이상의 미립자임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
The metal oxide according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide fine particles include silica, alumina, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, titanium pentoxide, indium oxide or a composite oxide thereof, or a dopant. Coating liquid for forming a transparent film, characterized in that at least one fine particle selected from an oxide
제 3항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 실리카계 미립자임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
The coating liquid for forming a transparent film according to claim 3, wherein the metal oxide fine particles are silica-based fine particles.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 유기 규소 화합물로 표면 처리되어진 것임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
The coating liquid for forming a transparent film according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal oxide fine particles are surface treated with an organosilicon compound.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 평균 입자 크기 5?300 nm 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액
The coating liquid for forming a transparent film according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal oxide fine particles have an average particle size in the range of 5 to 300 nm.
기재와 기재 위에 형성된 투명 피막으로 되어 있고, 상기 투명 피막은 매트릭스 성분과 금속 산화물 미립자로 되어 있고, 평균 분자량이 5,000?30,000 범위인 아크릴실리콘계 수지를 레벨링제로서 포함하고, 상기 매트릭스 성분의 함유량이 고형분으로서 20?99.5 중량% 범위이고, 상기 금속 산화물 미립자의 함유량이 고형분으로서 0.5?80 중량% 범위임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
It consists of a base material and the transparent film formed on the base material, The transparent film consists of a matrix component and metal oxide microparticles | fine-particles, Comprising an acrylic silicone resin with an average molecular weights of 5,000-30,000 as a leveling agent, Content of the said matrix component is solid content In the range of 20 to 99.5% by weight, and the content of the metal oxide fine particles is in the range of 0.5 to 80% by weight as a solid content.
제 7항에 있어서, 상기 투명 피막 중의 레벨링제 함유량은 고형분으로서 0.02?12 중량% 범위임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
8. The transparent coating part substrate according to claim 7, wherein the leveling agent content in the transparent coating is in a range of 0.02 to 12 wt% as solid content.
제 7항 또는 제 8항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화 주석, 오산화안티늄, 산화 인듐 또는 그의 복합 산화물, 도핑제를 포함하는 산화물 또는 복합 산화물로부터 선택된 적어도 1종 이상의 미립자임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
The metal oxide fine particle of claim 7 or 8, wherein the metal oxide fine particles are at least one selected from silica, alumina, titania, zirconia, tin oxide, titanium pentoxide, indium oxide or a complex oxide thereof, or an oxide including a dopant or a complex oxide. Transparent coating part base material characterized by fine particles or more
제 7항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 실리카계 미립자임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
The transparent coating part substrate according to any one of claims 7 to 9, wherein the metal oxide fine particles are silica-based fine particles.
제 7항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 유기 규소 화합물로 표면 처리되어진 것임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
The transparent coating part substrate according to any one of claims 7 to 10, wherein the metal oxide fine particles are surface treated with an organosilicon compound.
제 7항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자의 평균 입자 크기는 5?300 nm 범위임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
The transparent coating part substrate according to any one of claims 7 to 11, wherein the average particle size of the metal oxide fine particles is in the range of 5 to 300 nm.
제 7항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명 피막의 접촉각(CA1)은 60?110° 범위이고, 상기 투명 피막의 표면을 비누화(Saponification) 처리시킨 후 접촉각(CA2)과 접촉각 차이가 10° 이하임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
Of claim 7 to 12 according to any one of items, and is 60? 110 ° range of the contact angle (CA 1) of the transparent film, then the surface of the clearcoat of saponification (Saponification) processing the contact angle (CA 2) and Transparent coating part base material characterized in that the contact angle difference is 10 ° or less
제 7항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명 피막의 헤이즈는 1.0% 이하임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재
The transparent film part substrate according to any one of claims 7 to 13, wherein the haze of the transparent film is 1.0% or less.
제 7항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명 피막의 표면 거칠기(Ra)는 20 nm 이하임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재The transparent coating part substrate according to any one of claims 7 to 14, wherein the surface roughness Ra of the transparent coating is 20 nm or less.
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