KR20120056094A - Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof - Google Patents

Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20120056094A
KR20120056094A KR1020100117625A KR20100117625A KR20120056094A KR 20120056094 A KR20120056094 A KR 20120056094A KR 1020100117625 A KR1020100117625 A KR 1020100117625A KR 20100117625 A KR20100117625 A KR 20100117625A KR 20120056094 A KR20120056094 A KR 20120056094A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
mirror
wavelengths
separation
light source
Prior art date
Application number
KR1020100117625A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
연제식
홍대조
김도완
목지수
최운철
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020100117625A priority Critical patent/KR20120056094A/en
Priority to JP2010292134A priority patent/JP2012113277A/en
Publication of KR20120056094A publication Critical patent/KR20120056094A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70566—Polarisation control
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes
    • H01L21/0275—Photolithographic processes using lasers

Abstract

PURPOSE: An exposure wavelength adjusting apparatus and an exposing apparatus using the same are provided to save costs and time required for replacing a filter by omitting the filter. CONSTITUTION: An exposure wavelength adjusting apparatus includes a separation refracting part(23), a mirror, and a partial light transmitting part(27). Light of various wavelengths from a light source is introduced into the separation refracting part such that the light is separated and refracted to output a light having various wavelengths. The mirror changes the path of the light having various wavelengths. The partial light transmitting part partially transmits the reflected light having various wavelengths. The mirror is an operational mirror(24). The operational mirror rotates based on a rotary shaft(24-1) and changes the path of the light having various wavelengths. The operational mirror includes a reflecting side(24-2).

Description

노광 파장 조절 장치 및 그를 이용한 노광기{Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof}Exposure wavelength controller and exposure apparatus using the same

본 발명은 노광 파장 조절 장치 및 그를 이용한 노광기에 관한 것이다.
The present invention relates to an exposure wavelength control device and an exposure machine using the same.

현재까지 사용되는 포토리소그라피 기술을 크게 구분하자면, 처리제품의 세척 및 세정 등을 포함하는 원재료의 전처리과정/감광물질의 도포/노광/에칭이나 에싱과정 등으로 구분되어 질 수 있다. The photolithography technology used to date can be broadly classified into pretreatment of raw materials including application of washing and cleaning of processed products, application of photosensitive materials, exposure, etching and ashing.

물론 처리제품의 종류 등에 따라 전처리나 후처리 과정들은 상이할 수 있으며 이러한 과정은 유사 반복과정을 통해 우리가 흔히 접하는 각종 인쇄회로기판이나 TFTLCD,PDP,FED,OLED 등과 같은 표시장치들을 비롯해 반도체 미세회로나 소자들로 구현되는 것이다.Of course, the pretreatment or post-treatment processes may be different according to the type of processed products, and this process is similar to the process of various printed circuit boards that we commonly encounter through display, such as TFTLCD, PDP, FED, OLED, etc. It is implemented with elements.

노광 공정의 원리는 모재에 회로를 구성할 원하는 물질을 도포하고 그 위에 감광 물질을 덧씌운 후에, 원하는 회로가 새겨진 마스크를 위에 두고 자외선을 투사하면 자외선에 노출된 부분과 노출이 되지 않은 부분으로 감광 물질의 성질이 변하게 되는데 이를 적절한 현상액으로 모재위에 도포된 물질을 제거할 수 있게 되어 원하는 이미지를 얻을 수 있게 되는 것이다.The principle of the exposure process is to apply the desired material to form a circuit on the base material, and then cover the photosensitive material on it, and then, when the UV light is projected on the mask with the desired circuit on it, the photosensitive part is exposed to the exposed and unexposed areas. The properties of the material are changed, which can remove the material applied on the base material with a suitable developer to obtain a desired image.

이와 같은 노광 공정에서 사용되는 감광 물질은 노광기에서 나오는 파장의 특성에 따라 경화도, 현상후의 개구 단면의 형상 등이 변하게 된다.The photosensitive material used in such an exposure process changes the degree of curing, the shape of the opening cross section after development, and the like depending on the characteristics of the wavelength emitted from the exposure machine.

따라서, 감광 물질의 특성과 노광기에서 나오는 파장의 정합 여부가 중요한데, 종래 기술에 따르면 노광기에서 나오는 파장이 항상 고정되어 있어 하나의 노광기에 대하여 다양한 감광 물질을 사용하기 어렵다는 문제점이 있었다.
Therefore, it is important to match the characteristics of the photosensitive material and the wavelength from the exposure machine. According to the prior art, there is a problem that it is difficult to use various photosensitive materials for one exposure machine because the wavelength of the exposure machine is always fixed.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 광원에서 나오는 다파장 광에서 원하는 파장의 광을 용이하게 선택할 수 있도록 한 노광 파장 조절 장치 및 그를 이용한 노광기를 제공하는 데 있다.
The present invention has been made to solve the above problems, and to provide an exposure wavelength control device and an exposure apparatus using the same to easily select the light of the desired wavelength from the multi-wavelength light from the light source.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치는, 광원에서 출사되는 다파장의 광을 입력받아 분리 굴절시켜 다수의 파장을 출력하는 분리 굴절부; 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 미러; 및 상기 미러에서 반사되는 다수의 파장의 광의 일부를 통과시키는 부분광 통과부를 포함한다.Exposure wavelength control device according to the present invention for achieving the above object, the separation refractive unit for outputting a plurality of wavelengths by receiving and refracting the multi-wavelength light emitted from the light source; A mirror for changing a path of light having a plurality of wavelengths incident upon separation and refraction of the separation refraction unit; And a partial light passing portion through which a part of the light of the plurality of wavelengths reflected by the mirror passes.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치의 상기 미러는 회동축을 중심으로 회전하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 가동 미러인 것을 특징으로 한다.In addition, the mirror of the exposure wavelength control apparatus according to the present invention is characterized in that the movable mirror for changing the path of the light of a plurality of wavelengths that are incident and separated by the refraction in the separation refracting portion while rotating about the rotation axis.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치의 상기 가동 미러는 상기 회동축을 중심으로 회전하면서 입사되는 다파장 광을 반사하는 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 타원경인 것을 특징으로 한다.In addition, the movable mirror of the exposure wavelength control device according to the present invention includes a reflecting surface for reflecting multi-wavelength light incident while rotating about the rotation axis, the reflecting surface is an ellipsoid.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치의 상기 가동 미러는 상기 회동축을 중심으로 회전하면서 입사되는 다파장 광을 반사하는 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 반사된 광이 평행광이 되도록 된 포물경인 것을 특징으로 한다.In addition, the movable mirror of the exposure wavelength control device according to the present invention includes a reflecting surface for reflecting multi-wavelength light incident while rotating about the rotation axis, the reflecting surface is such that the reflected light is parallel light It is characterized by being a parabolic mirror.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치는 상기 가동 미러를 회동축을 중심으로 회전시키는 가동 모터를 더 포함한다.In addition, the exposure wavelength control device according to the present invention further comprises a movable motor for rotating the movable mirror about the rotation axis.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치의 상기 미러는 곡률이 가변하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 곡률 가변 미러인 것을 특징으로 한다.In addition, the mirror of the exposure wavelength control device according to the present invention is characterized in that the curvature variable mirror that changes the path of the light of a plurality of wavelengths incident by being separated and refracted in the separation refracting portion while the curvature is variable.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치는 상기 곡률 가변 미러의 곡률을 가변시키는 곡률 가변 모터를 더 포함한다.In addition, the exposure wavelength control apparatus according to the present invention further comprises a curvature variable motor for varying the curvature of the curvature variable mirror.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치의 상기 광원은 램프 광원인 것을 특징으로 한다.In addition, the light source of the exposure wavelength control device according to the invention is characterized in that the lamp light source.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치의 상기 광원은 복수의 발광 다이오드인 것을 특징으로 한다.In addition, the light source of the exposure wavelength control device according to the invention is characterized in that a plurality of light emitting diodes.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치은 상기 광원의 앞에 위치하며 상기 광원에서 출사되는 광이 주위로 퍼져나가지 않도록 방지하는 광원 커버를 더 포함한다.In addition, the exposure wavelength adjusting device according to the present invention further includes a light source cover positioned in front of the light source and preventing the light emitted from the light source from spreading around.

또한, 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치는 상기 부분광 통과부를 통과한 광을 원하는 위치에 투사하는 렌즈를 더 포함한다.In addition, the exposure wavelength control device according to the present invention further comprises a lens for projecting the light passing through the partial light passing portion to a desired position.

한편, 본 발명에 따른 노광기는 기판을 광에 의해 노광되는 영역으로 이동시키는 롤러부; 기판에 인쇄될 패턴이 새겨진 필름을 장착한 마스크 캐리어; 입력된 기판과 인쇄되는 패턴이 새겨진 필름을 정렬하는 마스크 개리어가 장착된 프레임; 및 광원에서 출사되는 다파장의 광을 분리 굴절시켜 다수의 파장을 형성하고, 형성된 다수의 파장의 광의 경로를 변화시켜 상기 필름이 장착된 상기 기판에 원하는 파장의 광을 노광시키는 노광 파장 조절 장치를 포함한다.On the other hand, the exposure apparatus according to the present invention comprises a roller unit for moving the substrate to the area exposed by light; A mask carrier having a film engraved with a pattern to be printed on a substrate; A frame equipped with a mask carrier for aligning the input substrate with a film engraved with a printed pattern; And an exposure wavelength adjusting device for separating and refracting the multi-wavelength light emitted from the light source to form a plurality of wavelengths, and changing a path of the light having the plurality of wavelengths formed to expose light having a desired wavelength to the substrate on which the film is mounted. Include.

또한, 본 발명에 따른 노광기의 상기 노광 파장 조절 장치는, 광원에서 출사되는 다파장의 광을 입력받아 분리 굴절시켜 다수의 파장을 출력하는 분리 굴절부; 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 미러; 및 상기 미러에서 반사되는 다수의 파장의 광의 일부를 통과시키는 부분광 통과부를 포함한다.In addition, the exposure wavelength control device of the exposure apparatus according to the present invention, the separation refractive unit for outputting a plurality of wavelengths by receiving and refracting the multi-wavelength light emitted from the light source; A mirror for changing a path of light having a plurality of wavelengths incident upon separation and refraction of the separation refraction unit; And a partial light passing portion through which a part of the light of the plurality of wavelengths reflected by the mirror passes.

또한, 본 발명에 따른 노광기는, 상기 부분광 통과부를 통과한 광을 원하는 위치에 노광하는 렌즈를 더 포함한다.Moreover, the exposure machine which concerns on this invention further contains the lens which exposes the light which passed the said partial light passage part to a desired position.

또한, 본 발명에 따른 노광기의 상기 미러는 회동축을 중심으로 회전하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 가동 미러인 것을 특징으로 한다.In addition, the mirror of the exposure apparatus according to the present invention is characterized in that the movable mirror for changing the path of the light of a plurality of wavelengths incident by being separated and refracted by the separation refracting portion while rotating about the rotation axis.

또한, 본 발명에 따른 노광기의 상기 미러는 곡률이 가변하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 곡률 가변 미러인 것을 특징으로 한다.
In addition, the mirror of the exposure apparatus according to the present invention is characterized in that the curvature variable mirror that changes the path of the light of a plurality of wavelengths incident by being separated and refracted by the separation refracting portion while the curvature is variable.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
Prior to this, the terms or words used in this specification and claims are not to be interpreted in a conventional and dictionary sense, and the inventors may appropriately define the concept of terms in order to best describe their own invention. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that the present invention.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 광원에서 나오는 다파장 광에서 원하는 파장의 광을 용이하게 선택할 수 있도록 한다.According to the present invention as described above, it is possible to easily select the light of the desired wavelength from the multi-wavelength light from the light source.

이처럼 광원의 광에서 원하는 파장의 광을 용이하게 선택할 수 있음에 따라 노광기에 상이한 특성을 갖는 다양한 종류의 감광 물질을 사용할 수 있도록 한다.As such, since light of a desired wavelength can be easily selected from the light of the light source, various kinds of photosensitive materials having different characteristics can be used for the exposure machine.

또한, 본 발명에 따르면, 종래 기술에서 사용하는 필터를 사용할 필요가 없어 종래 기술에 따른 필터의 교환에 따른 비용이나 시간을 절약할 수 있다.
In addition, according to the present invention, it is not necessary to use a filter used in the prior art, it is possible to save the cost and time according to the replacement of the filter according to the prior art.

도 1과 2는 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치가 적용되는 노광기의 개략적인 구성도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치의 구성도이다.
도 4는 도 3의 가동 미러에서 반사되는 광을 예시한 도면들이다.
도 5은 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치의 구성도이다.
도 6는 도 5의 곡률 가변 미러에서 반사되는 광을 예시한 도면들이다.1 and 2 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus to which the exposure wavelength control device according to the present invention is applied.
3 is a configuration diagram of an exposure wavelength control device according to a first preferred embodiment of the present invention.
4 is a diagram illustrating light reflected from the movable mirror of FIG. 3.
5 is a configuration diagram of an exposure wavelength control device according to a second preferred embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram illustrating light reflected from the variable curvature mirror of FIG. 5.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시 예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.The objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments in conjunction with the accompanying drawings. In the present specification, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components as possible, even if displayed on different drawings have the same number as possible. In addition, in describing the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1과 2는 본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치가 적용되는 노광기의 개략적인 구성도이다.1 and 2 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus to which the exposure wavelength control device according to the present invention is applied.

본 발명에 따른 노광 파장 조절 장치가 적용되는 노광기는, 도 1 에 도시된 바와 같이, 입력된 기판(2)을 입력부 롤러(1)와 출력부 롤러(8)로 이동시키거나 평활하게 양쪽으로 당기는 롤러부와, 패턴이 새겨진 필름(6)과 마스크 캐리어(5)를 진공으로 흡착하기 위한 진공 홈(4)과, 마스크 캐리어(5)를 장착하여 x, y, z 축 모터를 사용하여 정렬하는 프레임(3)과, 노광 작업시 기판(2)의 양쪽면에 밀착하는 필름(6)을 정렬하고 노광된 기판(2)의 경계를 영상 신호로 인식하기 위한 카메라(7)를 갖고 있다.The exposure apparatus to which the exposure wavelength adjusting device according to the present invention is applied, as shown in FIG. 1, moves the input substrate 2 to the input roller 1 and the output roller 8 or pulls them smoothly to both sides. The roller unit, the vacuum groove 4 for sucking the pattern-engraved film 6 and the mask carrier 5 by vacuum, and the mask carrier 5 are mounted to align using an x, y, z axis motor. The frame 3 and the camera 7 for aligning the film 6 which adheres to both surfaces of the substrate 2 during the exposure operation and recognizing the boundary of the exposed substrate 2 as an image signal are included.

그리고 도 2에 도시된 바와 같이 필름(6)이 밀착하여 정렬된 기판(2)에서 프레임(3)이 제거된 상태에서 노광을 하는 노광 파장 조절 장치(9)를 구비하고 있다.And as shown in FIG. 2, the film 6 is provided with the exposure wavelength control apparatus 9 which exposes in the state in which the frame 3 was removed from the board | substrate 2 arrange | positioned closely.

이와 같은 구성에서 상기 롤러부는, 기판(2)을 자외선 노광 영역으로 입력하는 입력부 롤러(1)와 노광된 기판(2)을 외부로 출력하는 출력부 롤러(8)로 구성된다. In such a configuration, the roller part comprises an input part roller 1 for inputting the substrate 2 into the ultraviolet exposure area and an output part roller 8 for outputting the exposed substrate 2 to the outside.

입력부 롤러(1)는 기판(2)을 물려서 입력하기 위해 2개의 롤러로 구성되며 노광 영역으로 필름을 입력할 때는 프레임(3) 방향으로 회전한다. The input part roller 1 consists of two rollers for biting and inputting the board | substrate 2, and when it inputs a film into an exposure area | region, it rotates to the frame 3 direction.

출력부 롤러(8)는 기판(2)을 물려서 출력하기 위해 2개의 롤러로 구성되며 외부로 필름을 출력할 때는 프레임(3)의 반대 방향으로 회전한다. The output roller 8 is composed of two rollers for biting and outputting the substrate 2 and rotating in the opposite direction of the frame 3 when outputting the film to the outside.

노광 작업을 할 때 입력부 롤러(1)와 출력부 롤러(8)가 프레임(3)의 반대 방향으로 회전하여 기판(2)의 노광될 표면을 평활하게 유지한다. During the exposure operation, the input roller 1 and the output roller 8 rotate in opposite directions of the frame 3 to keep the surface to be exposed of the substrate 2 smooth.

이때, 입력부 롤러(1)와 출력부 롤러(8)는 기판(2)의 노광될 표면이 평활하게 되도록 일정 각도만 회전한다.At this time, the input roller 1 and the output roller 8 rotate only a predetermined angle so that the surface to be exposed of the substrate 2 is smooth.

프레임(3)은, 필름(6)과 마스크 캐리어(5)를 밀착하기 위한 진공 홈(4)과 장착된 마스크 캐리어(5)를 x, y, z축으로 동작시키기 위한 모터로 구성된다.The frame 3 is comprised by the vacuum groove 4 for contact | adhering the film 6 and the mask carrier 5, and the motor for operating the mounted mask carrier 5 on an x, y, and z axis.

프레임(3)의 진공 홈(4)은 마스크 캐리어(5)의 진공 홈(4)과 일직선상에 위치시켜서 외부에 장착된 진공펌프와 연결이 된다. 진공 작업은 필름(6)이 장착된 마스크 캐리어(5)가 프레임(3)에 장착되었을 때만 이루어지며 진공 홈(4)의 개수는 2개 이상이다. The vacuum groove 4 of the frame 3 is positioned in line with the vacuum groove 4 of the mask carrier 5 to be connected to an externally mounted vacuum pump. The vacuum operation is performed only when the mask carrier 5 on which the film 6 is mounted is mounted on the frame 3 and the number of the vacuum grooves 4 is two or more.

마스크 캐리어(5)를 장착한 후에 필름과 필름(6)의 정렬 또는 기판(2)과 필름(6)과의 정렬을 위해 프레임(3)을 x, y, z축으로 동작시키는 모터가 설치된다. After mounting the mask carrier 5, a motor is installed to operate the frame 3 in the x, y and z axes for the alignment of the film and the film 6 or the substrate 2 and the film 6. .

x축과 y축 모터는 프레임(3)이 일정 각도로 회전을 할 수 있도록 둘 중 한 축이 2개 이상의 모터로 구성되기도 하고 또는 두 축 모두 2개 이상의 모터로 구성되기도 한다. The x- and y-axis motors may be composed of two or more motors in one of the two shafts or two or more motors so that the frame 3 can rotate at an angle.

z축 방향의 모터는 3개 이상의 모터로 구성하여 프레임의 각 부분의 높이를 각각 조절할 수 있도록 한다.The motor in the z-axis direction consists of three or more motors to adjust the height of each part of the frame.

카메라(7)는, 필름에 표시된 필름정렬마크를 인식하기 위한 카메라와 기판정렬마크를 인식하기 위한 카메라가 있다. The camera 7 includes a camera for recognizing a film alignment mark displayed on a film and a camera for recognizing a substrate alignment mark.

기판(2)의 양면 노광을 하기 위해서는 기판면을 중심으로 상하에 위치한 노광될 패턴이 새겨진 두장의 필름(6)을 패턴의 위치가 일치하도록 정렬하여야 한다. 이것은 상위에 위치한 필름 또는 하위에 위치한 필름의 특정 영역이 하위에 위치한 필름 또는 상위에 위치한 필름과 일치해야 할 영역을 정렬하기 위함이다. In order to expose both sides of the substrate 2, two films 6 engraved with the pattern to be exposed above and below the substrate surface should be aligned so that the positions of the patterns coincide. This is to align an area where a specific area of the upper film or the lower film should coincide with the lower film or the upper film.

정렬을 하기 위해서는 각각의 필름에 필름정렬마크를 표시한 후에 각각의 필름(6)이 위치한 프레임(3)의 카메라를 사용한다. 카메라에 입력된 영상신호에 따라 프레임(3)에 장착된 모터를 동작시켜서 상하에 위치한 필름(6)의 필름정렬마크를 정렬한다. 기판정렬마크는 노광된 기판 영역과 다음에 노광될 기판 영역을 인식하기 위한 것으로 두 영역 사이의 틈을 최소화하기 위해서 표시한다. To align, mark the film alignment mark on each film and use the camera of the frame 3 on which each film 6 is located. According to the image signal input to the camera to operate the motor mounted on the frame 3 to align the film alignment mark of the film (6) located above and below. The substrate alignment mark is used to recognize the exposed substrate region and the next substrate region to be exposed, and is marked to minimize the gap between the two regions.

다음으로, 노광 파장 조절 장치(9)는 필름(6)이 밀착하여 정렬된 기판(2)에 프레임(3)이 제거된 상태에서 선택된 파장의 광을 노광한다.Next, the exposure wavelength adjusting device 9 exposes the light of the selected wavelength in the state where the frame 3 is removed from the substrate 2 in which the film 6 is in close contact and is aligned.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치의 구성도이다.3 is a configuration diagram of an exposure wavelength control device according to a first embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치는, 광원(20), 광원 커버(21), 광원 컨트롤러(22), 분리 굴절부(23), 가동 미러(24), 가동 모터(25), 모터 제어부(26), 부분광 통과부(27) 및 렌즈(28)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 3, the exposure wavelength control device according to the first embodiment of the present invention includes a light source 20, a light source cover 21, a light source controller 22, a separation refraction unit 23, and a movable mirror 24. ), A movable motor 25, a motor control unit 26, a partial light passing part 27, and a lens 28.

상기 광원(20)은 자외선을 조사하는 광원으로 지지프레임(미도시)에 설치되며, 램프 또는 자외선 발광 다이오드로 구성될 수 있다.The light source 20 is installed on a support frame (not shown) as a light source for irradiating ultraviolet rays, and may be composed of a lamp or an ultraviolet light emitting diode.

여기서, 지지프레임은 광원(20)이 장착되어 이동가능하게 설치될 수 있는 프레임을 지칭하는 것으로서, 그 구조는 특별히 한정되는 것은 아니며, 광원(20)을 장착하기 위한 어떠한 구조도 채용 가능하다 할 것이다.Here, the support frame refers to a frame in which the light source 20 can be mounted and movable, and the structure thereof is not particularly limited, and any structure for mounting the light source 20 may be adopted. .

또한, 광원(20)을 구성하는 자외선 발광 다이오드는 다파장 광을 생성하기 위하여 복수개 구비되는 것이 바람직하다. In addition, a plurality of ultraviolet light emitting diodes constituting the light source 20 are preferably provided in order to generate multi-wavelength light.

그리고, 광원 커버(21)는 광원(20)으로부터 출사되는 자외선이 작업자의 건강에 영향을 미칠 수 있어 이러한 자외선으로부터 작업자를 보호할 수 있도록 하는 것으로 일예로, 원통형이나 원뿔형 형상을 가지고 있어 광원(20)의 앞에 부착되어 광이 주위로 퍼져나가는 것을 방지한다.In addition, the light source cover 21 may protect the worker from the ultraviolet light due to the ultraviolet light emitted from the light source 20 to affect the health of the worker. For example, the light source cover 21 may have a cylindrical or conical shape. ) To prevent light from spreading around.

그리고, 광원 컨트롤러(22)는 광원(20)을 제어하여 노광 강도 및 노광 범위를 제어하기 위한 것으로서, 광원(20)과 연결되도록 구성된다.The light source controller 22 controls the light source 20 to control the exposure intensity and the exposure range, and is configured to be connected to the light source 20.

여기서, 광원 컨트롤러(22)는 광원(20)이 복수개의 자외선 발광 다이오드로 구성되는 경우에 개개의 자외선 발광 다이오드의 발광 파워 및 온/오프를 제어하도록 설치된다. 즉, 개개의 자외선 발광 다이오드의 발광파워를 제어함으로써 노광 강도를 제어할 수 있게 되고, 개개의 자외선 발광 다이오드의 온/오프를 제어함으로써 필요한 영역의 자외선 발광 다이오드를 사용하여 노광 범위를 제어할 수 있게 된다.Here, the light source controller 22 is provided to control the light emission power and on / off of each ultraviolet light emitting diode when the light source 20 is composed of a plurality of ultraviolet light emitting diodes. That is, the exposure intensity can be controlled by controlling the light emitting power of the individual ultraviolet light emitting diodes, and the exposure range can be controlled using the ultraviolet light emitting diodes in the required area by controlling the on / off of the individual ultraviolet light emitting diodes. do.

다음으로, 분리 굴절부(23)는 광원(20)에서 출사되는 다파장의 광을 입력받아 분리 굴절시켜 다수의 파장을 출력하는 것으로, 일예로 프리즘이 사용될 수 있다.Next, the separation refracting unit 23 receives multiple wavelengths of light emitted from the light source 20 to separate and refraction and output a plurality of wavelengths. For example, a prism may be used.

그리고, 가동 미러(24)는 광원(20)에서 생성되고 분리 굴절부(23)에서 분리 굴절되어 출력되는 다수의 파장의 광을 반사시켜 그 진행 경로를 변경하는 것으로 회동축(24-1)과 반사면(24-2)으로 이루어져 있다.In addition, the movable mirror 24 reflects the light having a plurality of wavelengths generated by the light source 20 and separated and refracted by the separation refracting unit 23 to change the traveling path of the rotating shaft 24-1. It consists of the reflecting surface 24-2.

여기에서, 회동축(24-1)은 반사면(24-2)이 회동축을 중심으로 회전할 수 있도록 하는 역활을 제공한다.Here, the rotating shaft 24-1 provides a role for allowing the reflecting surface 24-2 to rotate about the rotating shaft.

상기 반사면(24-2)은 상기 광원(20)의 위치를 일 초점으로 하고, 광이 집속되는 지점을 다른 초점으로 하는 타원경이거나, 상기 광원(20)의 위치를 일 초점으로 하고 광원(20)에서 출사되고, 반사된 광이 평행광이 되도록 된 포물경일 수 있다.The reflecting surface 24-2 is an ellipsoidal mirror having the position of the light source 20 as one focal point and the point where the light is focused as another focal point, or the light source 20 having the position of the light source 20 as one focal point. 20 and may be a parabolic mirror whose reflected light is parallel light.

이러한 가동 미러(24)는 회동축(24-1)을 중심으로 회전하면서 구동되어 분리 굴절부(23)에서 분사되어 입사된 광을 도 4의 (a) 내지 (c)에 도시된 것처럼 변화시킨다.The movable mirror 24 is driven while rotating about the rotational shaft 24-1 to change the incident light injected by the split refraction portion 23 as shown in FIGS. 4A to 4C. .

다음으로, 구동 모터(25)는 가동 미러(24)를 회동축을 중심으로 회전하도록 구동하는 것으로 가동 미러(24)와 별도로 제작되거나 일체로 제작될 수 있다.Next, the drive motor 25 may be manufactured separately from the movable mirror 24 or integrally manufactured by driving the movable mirror 24 to rotate about the rotation shaft.

이러한 구동 모터(25)는 여러가지 다양한 모터를 사용할 수 있으며, 바람직하게 초음파 모터를 사용할 수 있다.The drive motor 25 may use a variety of different motors, preferably an ultrasonic motor.

그리고, 모터 제어부(26)는 상기 구동 모터(25)를 제어하여 가동 미러(24)를 원하는 각도만큼 회전시키기 위한 것으로, 상기 구동 모터(25)를 여러가지 방식으로 제어할 수 있으며, 바람직하게 정밀 제어를 위하여 펄스폭 변조 방식으로 제어할 수 있다.In addition, the motor controller 26 is for controlling the drive motor 25 to rotate the movable mirror 24 by a desired angle, and may control the drive motor 25 in various ways, preferably precise control. The pulse width modulation method can be used for the control.

다음으로, 부분광 통과부(27)는 상기 가동 미러(24)에서 반사되어 입사되는 광에서 원하는 파장의 광만을 통과시키기 위한 것으로 슬릿이나 특정한 파장대의 광을 통과시키는 광학 필터 등으로 구성할 수 있다.Next, the partial light passing portion 27 is for passing only light of a desired wavelength in the light reflected by the movable mirror 24 and may be configured as an slit or an optical filter for passing light of a specific wavelength band. .

한편, 렌즈(28)는 상기 가동 미러(24)에서 반사되어 상기 부분광 통광부(27)를 통과한 광을 집광하여 기판의 원하는 위치에 노광하기 위한 것으로 일예로 집광 렌즈가 사용될 수 있다.On the other hand, the lens 28 is used to collect the light reflected from the movable mirror 24 and passed through the partial light transmitting portion 27 to expose to a desired position of the substrate, for example, a condenser lens may be used.

상기 본 발명의 제1 실시예에서는 상기 분리 굴절부(23)에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 미러로 가동 미러(24)를 사용하였으며, 가동 미러(24)를 구동하는 모터로 가동 모터(25)를 사용하였으나, 이와 달리 상기 분리 굴절부(23)에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 미러로 곡률을 가변하는 곡률 가변 미러와 상기 곡률 가변 미러의 곡률을 가변시키는 곡률 가변 모터를 사용할 수 있다. 아래에 도 5와 도 6은 이러한 다른 실시예를 도시하고 있다.In the first embodiment of the present invention, the movable mirror 24 is used as a mirror for changing a path of light having a plurality of wavelengths incident by being separated and refracted by the separation refracting unit 23 and driving the movable mirror 24. Although the movable motor 25 was used as the motor, the curvature variable mirror and the curvature variable mirror of which the curvature is varied by the mirror changing the path of the light having a plurality of wavelengths incident upon the separation refracting portion 23 are incident. A curvature variable motor that varies the curvature can be used. 5 and 6 below illustrate this alternative embodiment.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치의 구성도이다.5 is a configuration diagram of an exposure wavelength control device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치는, 광원(20), 광원 커버(21), 광원 컨트롤러(22), 분리 굴절부(23), 곡률 가변 미러(24'), 곡률 가변 모터(25'), 모터 제어부(26), 부분광 통과부(27) 및 렌즈(28)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 5, the exposure wavelength control device according to the second embodiment of the present invention includes a light source 20, a light source cover 21, a light source controller 22, a separation refraction unit 23, and a curvature variable mirror ( 24 '), the curvature variable motor 25', the motor control part 26, the partial light passage part 27, and the lens 28 are provided.

이와 같은 구성의 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치는 가변 미러(24) 대신에 곡률 가변 미러(24')와 가동 모터(24) 대신에 곡률 가변 모터(25')를 구비한 점에서 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 파장 조절 장치와 상이하며 그 외 구성요소에서는 동일하다.The exposure wavelength adjusting device according to the second embodiment of the present invention having such a configuration includes a curvature variable mirror 24 'instead of the variable mirror 24 and a curvature variable motor 25' instead of the movable motor 24. In this respect, it is different from the exposure wavelength adjusting device according to the first embodiment of the present invention and is identical in other components.

상기 차이점에 대하여 살펴보면, 상기 곡률 가변 미러(24')는 곡률을 가변시켜 상기 분리 굴절부(23)에서 분리 굴절되어 입사되는 광의 경로를 변화시킨다.As to the difference, the curvature-variable mirror 24 ′ varies the curvature to change the path of the light incident by being split and refracted by the split refraction unit 23.

이러한 곡률 가변 미러(24')는 곡률을 가변하면서 분리 굴절부(23)에서 분사되어 입사된 광을 도 6의 (a) 내지 (c)에 도시된 것처럼 변화시킨다.The variable curvature mirror 24 'varies the curvature while varying the curvature and changes the incident light as shown in Figs. 6A to 6C.

다음으로, 곡률 가변 모터(25')는 곡률 가변 미러(24')의 곡률을 가변하는 것으로, 곡률 가변 미러(24')와 별도로 제작되거나 일체로 제작될 수 있다.Next, the curvature variable motor 25 'varies the curvature of the curvature variable mirror 24' and may be manufactured separately from or integrally with the curvature variable mirror 24 '.

이러한 곡률 가변 모터(25')는 여러가지 다양한 모터를 사용할 수 있으며, 바람직하게 초음파 모터를 사용할 수 있다.The curvature variable motor 25 ′ may use a variety of motors, preferably an ultrasonic motor.

이와 같은 곡률 가변 모터(25')는 모터 제어부(26)에 의해 제어되며, 곡률 가변 미러(24')의 곡률을 원하는 값으로 가변시킨다.Such a curvature variable motor 25 'is controlled by the motor control section 26, and varies the curvature of the curvature variable mirror 24' to a desired value.

한편, 위에서 구체적으로 설명한 구성요소 이외의 구성과 기능이 제1 실시예와 동일하여 상세한 설명은 생략한다.
On the other hand, the configuration and functions other than the components specifically described above are the same as in the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.
Although the above has been illustrated and described with respect to the preferred embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above-described specific embodiments, it is common in the technical field to which the invention belongs without departing from the spirit of the invention claimed in the claims. Various modifications can be made by those skilled in the art, and these modifications should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention.

1: 입력부 롤러 2: 기판
3 : 프레임 4: 진공 홈
5 : 마스크 캐리어 6 : 필름
7 : 카메라 8 : 출력부 롤러
9 : 노광 파장 조절 장치 20 : 광원
21 : 광원 커버 22 : 광원 컨트롤러
23 : 분리 굴절부 24 : 가동 미러
24': 곡률 가변 미러 25 : 가동 모터
25': 곡률 가변 모터 26 : 모터 제어부
27 : 부분광 통과부 28 : 렌즈1: input roller 2: substrate
3: frame 4: vacuum groove
5: mask carrier 6: film
7: camera 8: output roller
9 exposure wavelength adjusting device 20 light source
21: light source cover 22: light source controller
23: separate refraction 24: movable mirror
24 ': curvature variable mirror 25: movable motor
25 ': curvature variable motor 26: motor control unit
27: partial light passing portion 28: the lens

Claims (16)

광원에서 출사되는 다파장의 광을 입력받아 분리 굴절시켜 다수의 파장을 출력하는 분리 굴절부;
상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 미러; 및
상기 미러에서 반사되는 다수의 파장의 광의 일부를 통과시키는 부분광 통과부를 포함하는 노광 파장 조절 장치.A separation refraction unit configured to receive multiple wavelengths of light emitted from the light source and to separate and refract the light to output a plurality of wavelengths;
A mirror for changing a path of light having a plurality of wavelengths incident upon separation and refraction of the separation refraction unit; And
And a partial light passing portion configured to pass a portion of the light having a plurality of wavelengths reflected by the mirror. 청구항 1에 있어서,
상기 미러는
회동축을 중심으로 회전하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 가동 미러인 것을 특징으로 하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 1,
The mirror is
And a movable mirror which rotates about a rotational axis and changes a path of light having a plurality of wavelengths incident on the split refraction portion. 청구항 2에 있어서,
상기 가동 미러는 상기 회동축을 중심으로 회전하면서 입사되는 다파장 광을 반사하는 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 타원경인 것을 특징으로 하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 2,
The movable mirror includes a reflecting surface reflecting multi-wavelength light incident while rotating about the rotation axis, the reflecting surface is an elliptical mirror. 청구항 2에 있어서,
상기 가동 미러는 상기 회동축을 중심으로 회전하면서 입사되는 다파장 광을 반사하는 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 반사된 광이 평행광이 되도록 된 포물경인 것을 특징으로 하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 2,
And the movable mirror includes a reflecting surface reflecting multi-wavelength light incident while rotating about the rotational axis, wherein the reflecting surface is a parabolic mirror such that the reflected light becomes parallel light. 청구항 2에 있어서,
상기 가동 미러를 회동축을 중심으로 회전시키는 가동 모터를 더 포함하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 2,
And a movable motor for rotating the movable mirror about the rotation axis. 청구항 1에 있어서,
상기 미러는
곡률이 가변하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 곡률 가변 미러인 것을 특징으로 하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 1,
The mirror is
And a curvature-variable mirror that varies a curvature and changes a path of light having a plurality of wavelengths incident upon separation and refraction at the separation refraction unit. 청구항 6에 있어서,
상기 곡률 가변 미러의 곡률을 가변시키는 곡률 가변 모터를 더 포함하는 노광 파장 조절 장치.The method of claim 6,
And a curvature variable motor configured to vary the curvature of the variable curvature mirror. 청구항 1에 있어서,
상기 광원은 램프 광원인 것을 특징으로 하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 1,
And the light source is a lamp light source. 청구항 1에 있어서,
상기 광원은 복수의 발광 다이오드인 것을 특징으로 하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 1,
And the light source is a plurality of light emitting diodes. 청구항 1에 있어서,
상기 광원의 앞에 위치하며 상기 광원에서 출사되는 광이 주위로 퍼져나가지 않도록 방지하는 광원 커버를 더 포함하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 1,
And a light source cover positioned in front of the light source to prevent light emitted from the light source from spreading around. 청구항 1에 있어서,
상기 부분광 통과부를 통과한 광을 원하는 위치에 투사하는 렌즈를 더 포함하는 노광 파장 조절 장치.The method according to claim 1,
And a lens for projecting the light passing through the partial light passing portion to a desired position. 기판을 광에 의해 노광되는 영역으로 이동시키는 롤러부;
기판에 인쇄될 패턴이 새겨진 필름을 장착한 마스크 캐리어;
입력된 기판과 인쇄되는 패턴이 새겨진 필름을 정렬하는 마스크 개리어가 장착된 프레임; 및
광원에서 출사되는 다파장의 광을 분리 굴절시켜 다수의 파장을 형성하고, 형성된 다수의 파장의 광의 경로를 변화시켜 상기 필름이 장착된 상기 기판에 원하는 파장의 광을 노광시키는 노광 파장 조절 장치를 포함하는 노광기.A roller unit for moving the substrate to an area exposed by light;
A mask carrier having a film engraved with a pattern to be printed on a substrate;
A frame equipped with a mask carrier for aligning the input substrate with a film engraved with a printed pattern; And
An exposure wavelength control device for separating and refracting the multi-wavelength light emitted from the light source to form a plurality of wavelengths, and changing a path of the light having the plurality of wavelengths formed to expose the light having a desired wavelength to the substrate on which the film is mounted. Exposure machine. 청구항 12항에 있어서,
상기 노광 파장 조절 장치는,
광원에서 출사되는 다파장의 광을 입력받아 분리 굴절시켜 다수의 파장을 출력하는 분리 굴절부;
상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 미러; 및
상기 미러에서 반사되는 다수의 파장의 광의 일부를 통과시키는 부분광 통과부를 포함하는 노광기.The method of claim 12,
The exposure wavelength control device,
A separation refraction unit configured to receive multiple wavelengths of light emitted from the light source and to separate and refract the light to output a plurality of wavelengths;
A mirror for changing a path of light having a plurality of wavelengths incident upon separation and refraction of the separation refraction unit; And
And a partial light passing portion for passing a portion of light of a plurality of wavelengths reflected by the mirror. 청구항 13에 있어서,
상기 부분광 통과부를 통과한 광을 원하는 위치에 노광하는 렌즈를 더 포함하는 노광기.The method according to claim 13,
And a lens for exposing the light passing through the partial light passing portion to a desired position. 청구항 13에 있어서,
상기 미러는
회동축을 중심으로 회전하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 가동 미러인 것을 특징으로 하는 노광기.The method according to claim 13,
The mirror is
And a movable mirror which rotates about a rotational axis and changes a path of light having a plurality of wavelengths incident on the split refraction portion and incident. 청구항 13에 있어서,
상기 미러는
곡률이 가변하면서 상기 분리 굴절부에서 분리 굴절되어 입사되는 다수의 파장의 광의 경로를 변화시키는 곡률 가변 미러인 것을 특징으로 하는 노광기.The method according to claim 13,
The mirror is
And a curvature-variable mirror that varies a curvature and changes a path of light having a plurality of wavelengths incident upon separation and refraction in the separation refraction unit.
KR1020100117625A 2010-11-24 2010-11-24 Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof KR20120056094A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100117625A KR20120056094A (en) 2010-11-24 2010-11-24 Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof
JP2010292134A JP2012113277A (en) 2010-11-24 2010-12-28 Exposure wavelength adjustment device and exposure machine utilizing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100117625A KR20120056094A (en) 2010-11-24 2010-11-24 Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20120056094A true KR20120056094A (en) 2012-06-01

Family

ID=46497509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100117625A KR20120056094A (en) 2010-11-24 2010-11-24 Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2012113277A (en)
KR (1) KR20120056094A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104614834A (en) * 2015-02-04 2015-05-13 深圳市华星光电技术有限公司 Automatic filter replacing device of exposure machine and exposure machine
CN105573065B (en) * 2015-12-21 2017-12-26 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 Mechanism is replaced for the zirconium film in extreme ultraviolet engraving device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000235266A (en) * 1998-12-18 2000-08-29 Nsk Ltd Contacting method for contact aligner
JP2003008122A (en) * 2001-06-21 2003-01-10 Gigaphoton Inc Laser device and aligner using the same
JP2006171319A (en) * 2004-12-15 2006-06-29 Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd Scanning exposure apparatus
JP4587170B2 (en) * 2005-01-20 2010-11-24 キヤノン株式会社 Exposure apparatus and device manufacturing method
JP2008263092A (en) * 2007-04-13 2008-10-30 Orc Mfg Co Ltd Projection exposure device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012113277A (en) 2012-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4844568A (en) Scanning type projection exposure system
US8139199B2 (en) Exposure method, exposure apparatus, light converging pattern formation member, mask, and device manufacturing method
TWI491997B (en) Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns
US20120264066A1 (en) Optical Imaging Writer System
KR100296778B1 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method using the apparatus
JP2005522733A (en) Light modulation engine
JP6245342B2 (en) Device manufacturing method
TWI432917B (en) Exposure apparatus
JP2008263092A (en) Projection exposure device
TWI463270B (en) Laser exposure apparatus
US20200174377A1 (en) Light source apparatus, illumination apparatus, exposure apparatus, and method for manufacturing object
US9030646B2 (en) Exposure apparatus and photomask used therein
KR20120056094A (en) Exposure wavelength controller and Exposure apparatus using thereof
JP2007017895A (en) Exposure apparatus
TWI664505B (en) Shutter unit, lithography apparatus, and method of manufacturing article
US8072580B2 (en) Maskless exposure apparatus and method of manufacturing substrate for display using the same
JP2004022880A (en) Method and apparatus for exposure
KR100995392B1 (en) Marking apparatus having digital micromirror device
JP2007017897A (en) Exposure apparatus and cleaning method
JP2003337428A (en) Exposure device
TWI448840B (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN105242495A (en) Photoetching exposure device
KR940000818Y1 (en) Stepper alignment apparatus for exposure of wafer edge
CN111505908A (en) Illumination optical system, exposure apparatus, and article manufacturing method
JP3788587B2 (en) Substrate exposure equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application