KR20120012028A - High heat dissipation low temperature co-fired ceramics - Google Patents

High heat dissipation low temperature co-fired ceramics Download PDF

Info

Publication number
KR20120012028A
KR20120012028A KR1020100073884A KR20100073884A KR20120012028A KR 20120012028 A KR20120012028 A KR 20120012028A KR 1020100073884 A KR1020100073884 A KR 1020100073884A KR 20100073884 A KR20100073884 A KR 20100073884A KR 20120012028 A KR20120012028 A KR 20120012028A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
high heat
heat dissipation
heat
insulating layer
low
Prior art date
Application number
KR1020100073884A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101187029B1 (en
Inventor
김종철
Original Assignee
주식회사 이글래스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 이글래스 filed Critical 주식회사 이글래스
Priority to KR20100073884A priority Critical patent/KR101187029B1/en
Publication of KR20120012028A publication Critical patent/KR20120012028A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101187029B1 publication Critical patent/KR101187029B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203Cooling of mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/095Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
    • H01L2924/097Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
    • H01L2924/09701Low temperature co-fired ceramic [LTCC]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Abstract

PURPOSE: A high heat dissipation low fired ceramic substrate is provided to laminate high heat dissipation insulating layers comprised of glass and non-oxide powder on a heat conductive layer comprised of a metallic board, thereby comprising a multilayer structure of the high heat dissipation insulating layer and the heat conductive layer. CONSTITUTION: A high heat dissipation low fired ceramic substrate is comprised of a heat conductive layer(1) and a high heat dissipation insulating layer(2). A high heat dissipation low fired ceramic substrate is comprised of a dual multilayer structure of the heat conductive layer and the high heat dissipation insulating layer. The heat conductive layer is comprised of a metallic board which has excellent thermal conductance such as aluminum. The high heat dissipation insulating layer is comprised of high heat dissipation low fired ceramic in which low temperature glass is added into silicon carbide as an additive. The high heat dissipation low fired ceramic of the high heat dissipation insulating layer is comprised of a non-metallic oxide such as the silicon carbide and boron nitride and low melting point glass which includes 5 to 30 percent of low fired glass.

Description

고방열 저온소성 세라믹 기판{HIGH HEAT DISSIPATION LOW TEMPERATURE CO-FIRED CERAMICS}High heat dissipation low temperature sintered ceramic substrate {HIGH HEAT DISSIPATION LOW TEMPERATURE CO-FIRED CERAMICS}

본 발명은 각종 전자회로 및 전자부품에서 발생하는 열을 효과적으로 외부 전달하여 냉각을 도와주는 고방열 저온소성 세라믹 기판에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 금속 기판으로 이루어진 열전도층에 다량의 개기공(open pore)을 보유한 고방열 절연층을 적층시켜 저온소성에 의해 복합층 구조를 갖도록 함으로써, 열전도성 향상을 위한 금속기판과 고방열 절연층의 적층 부가에 의해 방열효과와 전기절연성을 동시에 향상시킨 전자부품용 방열 저온소성 세라믹 기판에 관한 것이다.
The present invention relates to a high heat dissipation low temperature sintered ceramic substrate which helps cooling by effectively transferring heat generated from various electronic circuits and electronic components, and more particularly, a large amount of open pores in a heat conductive layer made of a metal substrate. By stacking a high heat-insulating insulation layer having a) and having a composite layer structure by low-temperature firing, a metal substrate and a high heat-insulating layer for the thermal conductivity improvement at the same time to improve the heat dissipation effect and electrical insulation A heat dissipation low temperature fired ceramic substrate.

일반적으로 반도체, PCB, 디스플레이 장치 등의 각종 전자부품은 소재 자체의 특성과 각 부품의 연결부위에서 발생하는 전기적 저항으로 인하여 기기 작동시에 발열을 수반하게 된다. In general, various electronic components such as semiconductors, PCBs, display devices, etc. are accompanied by heat generation during the operation of the device due to the characteristics of the material itself and the electrical resistance generated at the connection portion of each component.

이렇게 발생되는 열은 작동부품의 온도를 증가시킴으로써 전자기기의 내구연한을 단축시키는 원인으로 작용하며, 특히 중앙처리장치(CPU), 메모리(memory), 플라즈마 디스플레이 모니터 또는 액정 디스플레이 모니터의 회로나 램프 등의 각종 전자회로 소자는 일정 온도 이상에서 오작동을 일으키거나 해당 부품의 최대 성능을 발휘하기 어려운 경향이 있다. Heat generated in this way acts as a cause of shortening the endurance of electronic equipment by increasing the temperature of operating parts, especially circuits and lamps of CPU, memory, plasma display monitor or liquid crystal display monitor. The various electronic circuit elements of the device tend to malfunction or exhibit the maximum performance of the part above a certain temperature.

그리고, 최근의 전자부품 소형화 및 집적화는 단위 면적에 포함되는 회로 수의 증가로 인하여 더욱 심각한 발열을 초래하고 있으며, 따라서 이러한 전자부품의 냉각이 매우 중요한 문제로 대두되었다. In recent years, miniaturization and integration of electronic components have caused more serious heat generation due to an increase in the number of circuits included in a unit area, and thus cooling of such electronic components has become a very important problem.

냉각을 위한 방법으로는 현재 미국특허 제6409475호, 미국특허 제6935130에서 개시된 냉각팬을 이용한 능동형 냉각방식이 가장 높은 냉각성능을 나타내기는 하나, 이 경우 냉각팬에서 발생하는 소음, 냉각장치의 운전을 위한 전력 사용 등이 문제시되며, 또한 추가적인 전기회로 및 부품공간을 구성해야 하므로 최근 전자제품의 발전추세인 제품의 경박단소화를 어렵게 하는 등의 문제점을 가지고 있다.As a method for cooling, the active cooling method using the cooling fan disclosed in US Patent No. 6409475 and US Pat. No. 6,595,130 has the highest cooling performance, but in this case, the noise generated from the cooling fan and the operation of the cooling device are prevented. The use of power for such a problem is problematic, and additional electric circuits and component spaces must be configured, and thus, there is a problem such as making it difficult to reduce the light weight of the product, which is the recent development trend of electronic products.

이를 개선하기 위하여 여러 가지 수단이 제시된 바 있으며, 특히 방열판(heat sink) 또는 전자기기의 외피(casing)를 이용하여 외기로 열을 방출하는 수동형 냉각방식이 중요한 수단으로 쓰이고 있다. In order to improve this, various means have been proposed. In particular, a passive cooling method of dissipating heat to the outside by using a heat sink or a casing of an electronic device is used as an important means.

이 경우에는 전자회로의 냉각이 단순히 방열판 또는 외피를 통한 외기로의 복사 또는 대류에 의한 열전도에 의하여 이루어지기 때문에, 장치를 운전하는데 있어 특별히 외부 전력을 필요로 하지 않으며, 무소음 운전이 가능하고, 또한 냉각팬을 사용하는 경우에 비해 장치의 설계에 있어서도 더욱 많은 자유도를 부여할 수 있게 된다. In this case, since the cooling of the electronic circuit is simply performed by heat conduction by radiation or convection to the outside air through the heat sink or shell, no special external power is required to operate the device, and noiseless operation is possible. Compared to the case of using a cooling fan, more freedom in designing the device can be provided.

그러나, 상기와 같이 방열판이나 기기 외피에 의한 열전도에 의하여 냉각을 실시할 경우 전자기기에서 발생하는 열을 효과적으로 방열판 또는 외피로 전달해주는 것이 중요한 문제가 된다.However, when cooling by heat conduction by the heat sink or the device shell as described above, it is important to effectively transfer the heat generated from the electronic device to the heat sink or the shell.

일반적으로 전자회로와 방열판 또는 외피 사이를 단순하게 빈 공간으로 남겨둘 경우에는 공기의 높은 단열능력으로 인하여(열전도도 26.2 W/mK, 27 ℃) 효과적인 열의 확산이 이루어지지 않게 되며, 이에 효과적인 열전도를 위해서는 전자회로와 방열판 또는 외피 사이의 공기층을 최대한 배제하는 것이 필요하다.In general, in case of simply leaving an empty space between the electronic circuit and the heat sink or the outer shell, due to the high heat insulating ability of the air (thermal conductivity 26.2 W / mK, 27 ℃), the effective heat diffusion is not achieved. In order to eliminate the air gap between the electronic circuit and the heat sink or the outer shell as much as possible.

그리고, 방열판 또는 외피는 제품을 보호할 수 있으면서 외관상 보기가 좋아야 하고 동시에 열을 효과적으로 확산시킬 수 있어야 하므로 주로 금속계 소재를 사용하여 제작된다. In addition, the heat sink or the outer shell should be made of metal-based material because it should be able to protect the product and should look good and at the same time be able to diffuse heat effectively.

따라서, 공기층으로 인한 단열효과를 제거하기 위하여 전자회로와 방열판 또는 외피를 접촉 설계할 경우에는 전자회로에 부가되는 전류가 누전되어 전자기기의 오작동이 유발될 수 있으며, 상대적으로 누설되는 전류의 양이 적어 장치의 일반적인 작동이 가능한 경우라 하더라도 전력의 사용효율이 급격히 떨어지게 되고, 사용자의 감전 위험이 발생한다.Therefore, in the case of designing contact between the electronic circuit and the heat sink or the outer skin to remove the insulation effect caused by the air layer, the current applied to the electronic circuit may be shorted, which may cause malfunction of the electronic device. At least, even if the normal operation of the device is possible, the use efficiency of the power drops drastically, and there is a risk of electric shock to the user.

이를 개선하기 위하여 상기의 전자회로와 방열판 또는 기기 외피 사이에 충진제 또는 방열패드를 사용하는 방법이 고안되었다. In order to improve this, a method of using a filler or a heat dissipation pad has been devised between the electronic circuit and the heat dissipation plate or the device shell.

예를 들어, 미국특허 제4842911호에서는 연질의 실리콘 수지를 전자회로와 방열판 사이에 사용하는 방법이 개시되어 있으며, 이때 실리콘 수지는 전자회로에서 발생하는 열을 방열판 또는 기구 외피에 전달하여 열을 대기중으로 확산시킴으로써 전자회로의 냉각을 유도하는 역할을 하게 된다. For example, US Pat. No. 4,831,11 discloses a method of using a soft silicone resin between an electronic circuit and a heat sink, wherein the silicone resin transfers heat generated from the electronic circuit to the heat sink or the outer shell of the device to wait for heat. Diffusion into the medium serves to induce cooling of the electronic circuit.

또한, 미국특허 제5679457호에서는 사용되는 실리콘 수지의 열전도 효율을 향상시킴으로써 냉각효율을 극대화하기 위하여 알루미나(alumina), 그라파이트(graphite), 보론 나이트라이드(boron nitride), 및 티타늄 나이트라이드(titanium nitride) 등 열전도 특성이 우수한 고체 분말을 포함시키는 방법이 개시되어 있다. In addition, US Pat. No. 5679457 discloses alumina, graphite, boron nitride, and titanium nitride to maximize cooling efficiency by improving the thermal conductivity of the silicone resin used. The method of including the solid powder which is excellent in thermal conductivity etc. is disclosed.

상기 방열패드는 전자회로와 방열판 또는 기구 외피에 밀착되는 것이 중요한데, 전자회로와 방열패드 사이에 빈 공간이 발생할 경우 이 부위에서 열전달이 효과적으로 이루어지지 않아 부분적으로 온도가 상승하고, 결국 전자회로의 오작동 유발 및 내구성을 저하시키는 원인으로 작용하게 된다. It is important that the heat dissipation pad is in close contact with the electronic circuit and the heat sink or the outer shell of the device. When an empty space occurs between the electronic circuit and the heat dissipation pad, heat transfer is not effectively performed at this part, and thus the temperature rises in part. It acts as a cause of causing deterioration and durability.

특히, 실리콘계의 연질 수지를 사용할 경우에는 낮은 모듈러스로 인하여 전자기구에의 밀착성이 용이하게 확보될 뿐만 아니라 수지 자체의 점착성으로 인하여 기구 조립과정도 간단히 이루어지는 장점이 있다. In particular, in the case of using a silicone-based soft resin, the adhesiveness to the electronic device is easily secured due to the low modulus, and the device assembly process is also simplified due to the adhesiveness of the resin itself.

이러한 장점을 극대화시키기 위하여, 미국특허 제5950066호에는 액상의 실리콘 수지를 사용하는 방법이 개시되어 있고, 미국특허 제6946190호에는 그리스(grease) 등을 사용하는 방법이 개시되어 있다. In order to maximize this advantage, US Patent No. 5950066 discloses a method of using a liquid silicone resin, US Patent No. 6946190 discloses a method of using grease (grease) and the like.

하지만, 위와 같은 액상 제품의 경우에는 밀착성은 매우 용이하게 확보되는 장점은 있으나, 취급이 곤란하여 작업성이 떨어지고, 이를 보완하기 위한 기구설계가 복잡하게 되어 전체 장비의 제조원가를 상승시키는 등 다른 문제점을 유발하게 된다. However, in the case of the liquid product as described above, the adhesiveness has the advantage of being very easily secured, but it is difficult to handle and the workability is reduced, and the mechanical design for compensating for this is complicated, thereby increasing the manufacturing cost of the whole equipment. Will cause.

또한, 액상화시키지 않으면서 충분한 열전도 효율을 달성할 수 있는 밀착성을 확보하기 위해서는 최대한 연질 수지를 사용해야 하는데, 이 경우에는 실리콘 수지의 기계적 물성이 지나치게 낮아지므로 작업 도중 방열패드가 쉽게 파손되는 등 문제점이 있게 된다. In addition, in order to secure the adhesiveness that can achieve sufficient thermal conductivity efficiency without liquefaction, a soft resin should be used as much as possible. In this case, since the mechanical properties of the silicone resin are too low, there is a problem that the heat radiation pad is easily damaged during the operation. do.

이를 보완하기 위하여 연질 실리콘 수지와 유리섬유 또는 금속포일 등을 적층하는 방법이 미국특허 제 4574879 호, 제 4602678 호 및 제 4810563 호에 개시된 바 있다.In order to compensate for this, a method of laminating a soft silicone resin and glass fibers or metal foils has been disclosed in US Pat. Nos. 4,574,879, 4,602,678 and 48,105,63.

이와 같이 방열패드와 전자회로 및 방열판 사이의 밀착성 확보가 이루어지는 경우에는 방열패드 자체의 열전도 효율을 향상시킴으로써 냉각효과를 극대화시킬 수 있다. As such, when the adhesion between the heat radiating pad, the electronic circuit and the heat sink is secured, the cooling effect can be maximized by improving the heat conduction efficiency of the heat radiating pad itself.

하지만, 고분자 물질의 열전도 효율은 일반적으로 상온에서 5 W/mK 이하로 고분자 물질만을 방열패드로 사용했을 경우에는 금속 또는 무기물 등에 비해 매우 낮은 수준의 냉각효과를 얻게 된다.However, the thermal conductivity efficiency of the polymer material is generally 5 W / mK or less at room temperature, when only the polymer material is used as a heat radiation pad to obtain a very low level of cooling effect compared to metal or inorganic materials.

최근 전자회로의 고집적화로 인한 방출열 증가의 효과적인 대응을 위해서 그리고 플라즈마 디스플레이 패널 또는 액정 디스플레이 패널 등에서 발산되는 높은 열을 냉각하기 위해서는 열전도 효율을 더욱 개선해야 한다.In order to effectively cope with the increase in the emission heat due to the recent high integration of electronic circuits and to cool the high heat emitted from the plasma display panel or the liquid crystal display panel, the heat conduction efficiency should be further improved.

또한, 방열패드는 우수한 냉각효과 외에도 높은 전기절연 특성을 보유해야 하는데, 그 이유는 금속 소재로 이루어져 있는 방열판 또는 제품 외피로 전류의 누설이 일어날 경우 전력의 낭비는 물론 기기의 오작동 및 내구성 저하, 안전사고의 위험을 초래할 수 있기 때문이다.In addition to the excellent cooling effect, the heat sink pad must have high electrical insulation properties, because the heat sink or product enclosure made of metal material can cause the leakage of electric power, malfunction of the device, deterioration of durability and safety. This can cause an accident.

그러나, 종래의 방열패드는 최근 개발된 각종 전자제품에서 목적 달성을 위한 열전도성 및 전기절연 특성을 동시에 만족시키지 못하고 있으며, 특히 사용이 급증 추세에 있는 반도체 집적회로, 디스플레이 패널의 발광소자나 램프 등에 적용하기 위해서는 열전도성과 전기절연 특성을 보다 강화시킨 새로운 방열세라믹기판의 개발이 절실한 실정이다.
However, the conventional heat dissipation pads do not satisfy the thermal conductivity and electrical insulation properties for achieving the purpose in various electronic products recently developed, and in particular, semiconductor integrated circuits, light emitting devices and lamps of display panels, etc., which are rapidly increasing in use. In order to apply it, there is an urgent need for the development of a new heat-dissipating ceramic substrate with enhanced thermal conductivity and electrical insulation properties.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 발명한 것으로서,Therefore, the present invention is invented to solve the above problems,

금속기판으로 이루어진 열전도층과, 다량의 개기공(open pore)을 보유한 저온소성세라믹 기판으로 이루어진 고방열 절연층을 적층시켜 열전도층과 고방열 절연층의 복합층 구조로 구성함으로써, 열전도성 향상과 함께 고방열 절연층의 적층 부가에 의해 열전도성과 전기절연성을 동시에 향상시킨 전자부품용 방열 저온소성세라믹 기판를 제공하는데 그 목적이 있다.
The heat conduction layer made of a metal substrate and the high heat insulation insulating layer made of a low temperature plastic ceramic substrate having a large amount of open pores are laminated to form a composite layer structure of a heat conduction layer and a high heat insulation insulating layer. It is an object of the present invention to provide a heat-dissipating low-temperature plastic ceramic substrate for electronic components, which has improved thermal conductivity and electrical insulation at the same time by laminating a high heat-dissipating layer.

상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 고방열 저온소성 세라믹 기판은,The high heat dissipation low temperature calcined ceramic substrate of the present invention for achieving the above object,

전자부품용 기판에 있어서, 열전도성 금속 기판으로 구성된 열전도층과; 상기 열전도층에 비산화물 세라믹 분말과 글래스로 이루어진 고방열 절연층이 적층된 복합층 구조로 이루어진 것을 특징으로 한다. An electronic component substrate, comprising: a thermal conductive layer composed of a thermally conductive metal substrate; The high thermal insulation layer made of non-oxide ceramic powder and glass is laminated on the heat conductive layer.

상기 열전도성 금속은 알루미늄, 철, 구리 로 이루어진 군으로부터 선택되며, 상기 비산화물 세라믹 분말은 실리콘카바이드, 실리콘나이트라이드, 탄화붕소, 알루미늄나이트라이드 로 이루어진 군으로부터 선택된 금속산화물이이고, 상기 비산화물 세라믹 분말은 직경이 1 ㎛에서 40 ㎛ 범위 내로 이루어진다. The thermally conductive metal is selected from the group consisting of aluminum, iron and copper, and the non-oxide ceramic powder is a metal oxide selected from the group consisting of silicon carbide, silicon nitride, boron carbide, and aluminum nitride, and the non-oxide ceramic The powder is comprised in the range of 1 μm to 40 μm in diameter.

또한, 상기 글래스는 고방열 절연층의 전체중량 100 중량부에 대하여 5 ~ 30 중량부로 함유한다.
In addition, the glass is contained in 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the high heat radiation insulating layer.

본 발명의 고방열 저온소성 세라믹 기판은,The high heat dissipation low temperature fired ceramic substrate of the present invention,

금속기판으로 이루어진 열전도층에 비산화물 분말과 글래스로 이루어진 고방열 절연층을 적층시켜 열전도층과 고방열 절연층의 복합층 구조로 구성함으로써, 열전도성 향상을 위한 금속기판의 첨가와 함께 고방열 절연층의 적층 부가에 의해 열전도성과 전기절연성을 동시에 향상되는 장점이 있다.A high heat insulating layer made of non-oxide powder and glass is laminated on a heat conductive layer made of a metal substrate to form a composite layer structure of a heat conducting layer and a high heat insulating layer, thereby adding a metal substrate for improving thermal conductivity and high heat insulating insulation. There is an advantage in that the thermal conductivity and the electrical insulation are simultaneously improved by the lamination of the layers.

또한, 본 발명의 기판은 냉각을 요하는 각종 전자부품을 대상으로 널리 사용될 수 있으며, 특히 우수한 냉각효율 및 절연 특성으로 인하여 높은 전기절연 특성이 요구되면서 발열량이 큰 전자부품, 예를 들어 컴퓨터 중앙처리장치(CPU)나 메모리 등의 반도체 집적회로, 또는 플라즈마 디스플레이 패널의 발광소자나 액정 디스플레이 패널의 램프 등 디스플레이 장치의 발광원을 냉각하는데 효과적으로 사용될 수 있다.
In addition, the substrate of the present invention can be widely used for a variety of electronic components that require cooling, particularly electronic components, such as computer central processing that generates a large amount of heat generated while high electrical insulation properties are required due to excellent cooling efficiency and insulation characteristics It can be effectively used to cool a light emitting source of a display device such as a semiconductor integrated circuit such as a device (CPU) or a memory, or a light emitting element of a plasma display panel or a lamp of a liquid crystal display panel.

도 1은 본 발명에 따른 고방열 저온소성 세라믹 기판의 일 실시예를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a high heat dissipation low temperature fired ceramic substrate according to the present invention.

이하에서는 본 발명을 첨부된 도면과 함께 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 고방열 저온소성 세라믹 기판의 일 실시예를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a high heat dissipation low temperature fired ceramic substrate according to the present invention.

본 발명은 각종 전자회로 및 전자부품에서 발생하는 열을 효과적으로 외부 전달하여 냉각을 도와주는 고방열 저온소성 세라믹 기판에 관한 것으로서, 열전도성 금속기판으로 이루어진 열전도층에 다량의 기공을 함유한 고방열 절연층을 적층시켜 열전도층과 고방열 절연층의 복합층 구조로 구성함으로써, 열전도성 향상을 위한 금속기판과 함께 고방열 절연층의 적층 부가에 의해 방열효과와 전기절연성을 동시에 향상시킨 것이다. The present invention relates to a high heat dissipation low temperature sintered ceramic substrate which effectively cools heat by externally transferring heat generated from various electronic circuits and electronic components, and includes high heat dissipation insulation containing a large amount of pores in a heat conductive layer made of a heat conductive metal substrate. By stacking the layers to form a composite layer structure of a heat conducting layer and a high heat radiation insulating layer, the heat dissipation effect and the electrical insulation are improved simultaneously by the lamination of the high heat radiation insulation layer together with the metal substrate for improving the thermal conductivity.

도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 고방열 저온소성 세라믹 기판은 열전도층(1)과 고방열 절연층(2)의 가장 기본적인 구성으로 되어 있으며, 열전도층(1)과 고방열 절연층(2)을 상하로 적층시킨 이중 복합층 구조로 되어 있다. As shown, the high heat dissipation low temperature calcined ceramic substrate according to the embodiment of the present invention has the most basic configuration of the heat conduction layer 1 and the high heat dissipation insulation layer 2, and the heat conduction layer 1 and the high heat dissipation insulation layer. It has a double composite layer structure in which (2) is laminated up and down.

여기서, 열전도층(1)은 알루미늄과 같이 열전도성이 우수한 고열전도성 금속기판으로 이루어지고, 고방열 절연층(2)은 실리콘 카바이드에 저온 글래스를 결합제로 첨가해 소성한 고방열 저온소성세라믹으로 이루어진다.Here, the thermal conductive layer (1) is made of a high thermal conductive metal substrate having excellent thermal conductivity, such as aluminum, the high heat insulating insulating layer (2) is made of a high heat dissipation low temperature calcined ceramics by adding a low-temperature glass as a binder to silicon carbide. .

상기 고방열 절연층(2)의 고방열 저온소성세라믹는 실리콘 카바이드, 보론 나이트라이드 같은 비금속산화물과; 이 비금속산화물이 600℃이하에서 소성이 가능하도록 400℃이하에서 액상을 형상하는 산화비스무스를 50%이상 함유하는 저온소성용 글래스를 5%이상 30%이하를 함유하는 저융점 글래스로 구성된다. The high heat dissipation low temperature calcined ceramic of the high heat dissipation insulating layer 2 may include non-metal oxides such as silicon carbide and boron nitride; The non-metal oxide is composed of low melting glass containing 5% or more and 30% or less of low-temperature fired glass containing 50% or more of bismuth oxide forming a liquid phase at 400 ° C or less so that the nonmetal oxide can be fired at 600 ° C or less.

바람직하게는, 상기 열전도층(1)은 열전도성 금속기판으로 열전도성이 좋은 알루미늄, 구리, 스테인레스강 등이 사용 가능하다.Preferably, the thermally conductive layer 1 is a thermally conductive metal substrate, and aluminum, copper, stainless steel, or the like having good thermal conductivity may be used.

고분자 물질의 열전도 효율은 일반적으로 상온에서 5 W/mK 이하로 고분자 물질만을 방열패드로 사용했을 경우에는 금속 또는 무기물 등에 비해 매우 낮은 수준의 냉각효과를 얻게 된다. 여기에 알루미나나 실리콘 카바이드 같은 첨가제를 넣은 방열패드의 열전도 효율은 일반적으로 상온에서 10 W/mK 이하로 금속 또는 무기물 등에 비해 상대적으로 낮은 수준의 냉각효과를 얻게 된다. 열전도층(1)에 사용가능한 금속으로는 열전도도가 50 W/m K 이상인 것으로, 구체적으로 예를 들면 알루미늄(237 W/m K), 철(80.2 W/m K), 구리(401 W/m K), 니켈(90.7 W/m K), 은(429 W/m K) 등 열의 양도체인 금속의 사용이 가능하며, 그라파이트(graphite, 129 W/m K)와 같이 열전도 특성이 뛰어난 비금속계 분말의 사용도 가능하다.In general, the thermal conductivity efficiency of the polymer material is 5 W / mK or less at room temperature, when only the polymer material is used as a heat radiation pad, a very low level of cooling effect is obtained compared to metals or inorganic materials. Heat conduction efficiency of the thermal radiation pad containing an additive such as alumina or silicon carbide is generally 10 W / mK or less at room temperature, and the cooling effect is relatively low compared to metals or inorganic materials. Metals usable for the thermal conductive layer 1 are those having a thermal conductivity of 50 W / m K or more, specifically, for example, aluminum (237 W / m K), iron (80.2 W / m K), and copper (401 W / mK), nickel (90.7 W / m K), silver (429 W / m K) and other metals that are good conductors of heat can be used. The use of powders is also possible.

위에 보인 바와 같이 금속 재료는 유기 고분자 또는 무기계 소재 등에 비하여 뛰어난 열전도성을 보유하고 있으며, 따라서 금속기판이 포함된 열전도층은 냉각효율을 높은 수준으로 올려주는 역할을 하게 된다.As shown above, the metal material has excellent thermal conductivity compared to an organic polymer or an inorganic material, and thus the thermal conductive layer including the metal substrate serves to raise the cooling efficiency to a high level.

한편, 상기 열전도층(1)만으로는 전자회로 또는 디스플레이용 램프의 방열 성능을 충분히 발휘하지 못하는데, 이는 열을 방출하기 위해서는 공기와의 대류현상에 의해 열이 전달되어야 하지만, 금속은 기공이 없는 관계로 표면적이 적어 열을 방출하는 표면적이 부족해서 열이 공기중으로 방출이 느려지고 이로 인해 전체적인 열전달, 즉 방열은 효율이 감소하게 된다. On the other hand, the heat conduction layer 1 alone does not sufficiently exhibit the heat dissipation performance of the electronic circuit or the lamp for the display. In order to dissipate heat, heat must be transferred by convection with air, but the metal has no pores. Due to the low surface area, the lack of surface area for heat dissipation slows the release of heat into the air, thereby reducing the overall heat transfer, ie heat dissipation efficiency.

그러므로, 본 발명에서는 열전도층(1)과 함께 별도 고방열 절연층(2)을 적층시켜 열전도성 및 전기절연성과 고방열 특성을 동시에 만족하는 고방열 저온동시소성세라믹스를 구성하였다.Therefore, in the present invention, a high heat radiation insulating layer 2 is laminated together with the heat conductive layer 1 to form a high heat dissipation low temperature co-fired ceramics which satisfies thermal conductivity, electrical insulation and high heat dissipation at the same time.

상기 고방열 절연층(2)은 절연성을 저하시키지 않는 다량의 개기공을 함유하는 탄화규소 같은 고열전도성 비산화물 세라믹을 함유하는 저온동시소성 세라믹을 사용하여 구성된다.The high heat dissipation insulating layer 2 is made of a low temperature co-fired ceramic containing a high thermal conductivity non-oxide ceramic such as silicon carbide containing a large amount of open pores that does not lower the insulation.

고방열 절연층(2)에서 세라믹소재의 절연 특성으로 인하여 세라믹소재 단독으로도 충분한 절연효과를 얻을 수 있으나, 개기공 구조에 의한 절연특성이 다소 감소할 수는 있다.In the high heat-dissipating layer 2, due to the insulating properties of the ceramic material, a sufficient insulating effect can be obtained even with the ceramic material alone, but the insulating property due to the open pore structure may be slightly reduced.

이를 보완하기 위하여 열전도 특성이 상대적으로 우수한 비산화물 세라믹 분말을 필러로 사용하며, 구체적으로 실리콘 카바이드 및 보론 나이트라이드 등 금속산화물을 첨가하는 방법이 알려져 있는데, 본 발명의 고방열 절연층에서는 이러한 재료들의 사용이 가능하며, 상기 나열된 비산화물 세라믹 중에 선택된 1종 또는 2종 이상의 사용이 가능하다.In order to compensate for this, a non-oxide ceramic powder having a relatively excellent thermal conductivity is used as a filler, and a method of adding a metal oxide such as silicon carbide and boron nitride is known, and in the high heat insulating layer of the present invention, It is possible to use one or two or more selected from the non-oxide ceramics listed above.

본 발명의 목적을 달성하기 위해서 상기 비산화물 세라믹 분말은 고방열 절연층의 전체중량 100 중량부에 대하여 60 ~ 95 중량부로 사용하고, 보다 바람직하게는 80 ~ 95 중량부로 제한하는 것이 좋다.In order to achieve the object of the present invention, the non-oxide ceramic powder is preferably used in an amount of 60 to 95 parts by weight, and more preferably 80 to 95 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total weight of the high heat dissipation insulating layer.

고방열 절연층에서 비산화물 세라믹 분말의 양이 상기 50 중량부 미만이 되면 개기공(open pore)이 감소하여 방열특성이 떨어지는 문제가 있고, 반면 비산화물 세라믹 분말이 상기 95 중량부를 초과하면 분말의 분산이 어려워지고 제품의 강도가 지나치게 감소하는 문제점이 있어 바람직하지 않다.If the amount of the non-oxide ceramic powder in the high heat-dissipating layer is less than 50 parts by weight, the open pore is reduced to reduce the heat dissipation characteristics, whereas if the non-oxide ceramic powder exceeds 95 parts by weight of the powder Dispersion becomes difficult and the strength of the product is excessively reduced, which is not preferable.

또한, 본 발명에 사용되는 비산화물 세라믹 분말로는 직경 1 ㎛에서 40 ㎛ 범위인 것이 적당하며, 보다 바람직하게는 5 ㎛에서 20 ㎛ 범위의 직경인 것이 좋다.In addition, the non-oxide ceramic powder used in the present invention is suitably in the range of 1 μm to 40 μm in diameter, and more preferably in the range of 5 μm to 20 μm.

같은 양의 비산화물 세라믹 분말이 사용되는 경우에서 사용되는 분말의 직경은 작은 경우가 유리하나, 비산화물 세라믹 분말의 직경이 상기 5 ㎛ 미만이면 제품의 겉보기 밀도가 내려가고 분진으로 인하여 사용이 어려우며, 20 ㎛ 초과시에는 글래스와의 혼합이 어려워지는 문제점이 있다.
In the case where the same amount of non-oxide ceramic powder is used, the diameter of the powder used is advantageous, but when the diameter of the non-oxide ceramic powder is less than 5 μm, the apparent density of the product decreases and it is difficult to use due to dust. When it exceeds 20 µm, there is a problem in that mixing with glass becomes difficult.

비금속산화물계 분말과 저융점 글래스의 복합체(composite)로 구성되는 고방열 절연층의 제조는 기존에 알려진 복합재료(composite material)를 제조하는 여러 가지 방법에 의하여 가능하다.The manufacture of a high heat dissipation layer composed of a composite of a non-metal oxide powder and a low melting glass is possible by various methods of manufacturing a composite material known in the art.

예를 들어, 비산화물계 분말과 글래스를 정해진 비율대로 볼밀에서 습식 혼합하는 경우, 세라믹 분말은 단순히 강한 전단력을 부가할 수 있는 고속 모터에 의하여도 혼합이 가능하며, 보다 뛰어난 분산효과를 얻기 위하여 분산제의 사용도 가능하다.For example, when wet mixing a non-oxide-based powder and glass in a predetermined ratio in a ball mill, the ceramic powder can be mixed even by a high speed motor that can simply add a strong shearing force, and dispersants can be used to obtain a superior dispersion effect. It is also possible to use.

또한, 고분자결합제를 이용하여 비산화물금속계 또는 글래스 분말의 마스터 배치(master batch)를 제조한 후에 이를 시트 성형기 등을 이용하여 시트(sheet) 형상으로 제조하는 것도 가능하다. 이렇게 제조된 시트를 금속기판(1) 위 또는 위와 아래에 위치시키고 소성함으로서 금속세라믹 복합체를 만드는 것이 가능하다.In addition, it is also possible to prepare a master batch of a non-oxide metal-based or glass powder using a polymer binder, and then prepare it in a sheet shape using a sheet molding machine or the like. It is possible to make a metal ceramic composite by placing the sheet thus prepared on or above and below the metal substrate 1 and firing.

이때 열전도층(1)과 고방열 절연층(2)은 600℃ 이하에서 저온소성함으로서 융착하는 것도 가능하다. 소성온도의 결정은 적정 개기공의 함량을 고려하여 결정한다.At this time, the heat conductive layer 1 and the high heat dissipation insulating layer 2 can be fused by low temperature baking at 600 degrees C or less. Determination of the firing temperature is determined in consideration of the appropriate amount of open pores.

또한, 이러한 방법으로 제조된 고방열 절연층 기판은 다양한 적층방식이 가능하고, 본 발명은 열전도층 또는 고방열 절연층 및 이들의 복합체를 제조하기 위한 특정의 제조방법에 의하여 한정되지 않는다. In addition, the high heat radiation insulating layer substrate produced by this method is possible in a variety of lamination method, the present invention is not limited by a specific manufacturing method for producing a heat conductive layer or high heat insulating insulating layer and composites thereof.

한편, 열전도층(1)과 고방열 절연층(2)이 적층된 구조에서 한쪽 면에 점착층을 부가하는 것이 가능하며, 점착층은 본 발명의 고방열 저온동시소성세라믹스 기판을 보다 손쉽고 신뢰성 있게 발열부위에 접착시켜주는 역할을 하게 된다.On the other hand, in the structure in which the thermal conductive layer 1 and the high heat radiation insulating layer 2 are laminated, it is possible to add an adhesive layer on one side, and the adhesive layer makes the high heat dissipation low temperature simultaneous firing ceramic substrate of the present invention easier and more reliable. It is attached to the heating part.

상기 점착층은 도시한 예와 같이 방열기판의 한쪽 면에, 또는 필요한 경우 양쪽 면에 모두 적층시켜 제조 가능하고, 재료로는 공지된 감압성 점착제(pressure sensitive adhesive) 등의 사용이 가능하며, 이는 코팅 등의 방법으로 도포할 수 있다.The adhesive layer may be manufactured by laminating on one side of the heat dissipation substrate or on both sides, if necessary, as shown in the example, and as a material, a known pressure sensitive adhesive may be used. It can apply by methods, such as a coating.

열전도층(1)과 고방열 절연층(2)이 적층된 구조에서 표면코팅층을 부가하여 사용가능하며, 표면코팅제는 목적에 따라 방열패드의 외관에 광택(gloss)을 부가하거나 또는 제품 표면의 끝적임(tackiness) 등을 제거하기 위하여 사용될 수 있다.In the structure in which the thermal conductive layer 1 and the high heat insulating layer 2 are laminated, a surface coating layer can be used, and the surface coating agent adds a gloss to the appearance of the heat dissipation pad or the end of the surface of the product according to the purpose. It can be used to eliminate tackiness and the like.

표면코팅제의 소재로는 목적에 따라 아크릴, 폴리우레탄, 폴리에스터, 실리콘 등 표면 도장의 목적으로 사용되는 모든 종류의 고분자 물질 중에 선택하여 사용할 수 있다. 그러나, 표면코팅제가 지나치게 딱딱할 경우 방열기판의 밀착성을 저하시키는 문제점이 발생할 수 있으므로 주의하여야 한다.As the material of the surface coating agent, it can be used by selecting from all kinds of high molecular materials used for the purpose of surface coating such as acrylic, polyurethane, polyester, silicone according to the purpose. However, care should be taken when the surface coating agent is too hard as it may cause a problem of reducing the adhesion of the heat radiation substrate.

접착제로는 핫멜트 접착제, 용제형 접착제, 수분산형 접착제, 무용제형 접착제 등의 사용이 가능하나, 환경문제 및 제품의 생산속도를 빠르게 하기 위해서는 EVA(Ethylene-Vinyl Acetate copolymer), 폴리에스터, 폴리우레탄 등의 핫멜트 접착제 또는 아크릴 등의 무용제형 접착제의 사용이 유리하다.As adhesives, hot melt adhesives, solvent adhesives, water dispersion adhesives, and solvent-free adhesives can be used, but in order to speed up the production of environmental problems and products, EVA (Ethylene-Vinyl Acetate copolymer), polyester, polyurethane, etc. The use of a solvent-free adhesive such as hot melt adhesive or acrylic is advantageous.

이와 같이 하여, 본 발명에 따른 고방열 저온동시세라믹스기판은 열전도성 금속기판과 비산화물 세라믹 분말을 함유한 다공성 저온동시소성 세라믹스의 절연층을 적층시킨 구조로 구성됨으로써, 열전도성과 전기절연성, 방열특성이 동시에 향상되는 장점을 가진다.Thus, the high heat dissipation low temperature co-ceramic substrate according to the present invention has a structure in which an insulating layer of a porous low temperature co-fired ceramics containing a thermally conductive metal substrate and a non-oxide ceramic powder is laminated, thereby providing thermal conductivity, electrical insulation, and heat dissipation characteristics. This has the advantage of being improved at the same time.

이러한 본 발명의 방열 기판는 냉각을 요하는 각종 전자부품을 대상으로 널리 사용될 수 있으며, 특히 우수한 냉각효율 및 절연 특성으로 인하여 발열량이 크고 동시에 높은 전기절연 특성을 요구하는 전자부품, 예를 들어 컴퓨터 중앙처리장치(CPU)나 메모리 등의 반도체 집적회로, 또는 플라즈마 디스플레이 패널의 발광소자나 액정 디스플레이 패널의 램프 등 디스플레이 장치의 발광원을 냉각하는데 효과적으로 사용될 수 있다.
Such a heat dissipation board of the present invention can be widely used for various electronic components requiring cooling, and in particular, electronic components, such as computer central processing, which generate a large amount of heat and require high electrical insulation at the same time due to excellent cooling efficiency and insulation characteristics. It can be effectively used to cool a light emitting source of a display device such as a semiconductor integrated circuit such as a device (CPU) or a memory, or a light emitting element of a plasma display panel or a lamp of a liquid crystal display panel.

1 : 열전도층
2 : 고방열 절연층
1: thermal conductive layer
2: high heat insulation layer

Claims (5)

전자부품용 기판에 있어서,
열전도성 금속 기판으로 구성된 열전도층과;
상기 열전도층에 비산화물 세라믹 분말과 글래스로 이루어진 고방열 절연층이 적층된 복합층 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 고방열 저온소성 세라믹 기판.
In the board for electronic components,
A thermal conductive layer composed of a thermally conductive metal substrate;
A high heat dissipation low temperature sintered ceramic substrate, characterized in that the thermal conductive layer is composed of a composite layer structure in which a high heat dissipation insulating layer made of non-oxide ceramic powder and glass is laminated.
제1항에 있어서,
상기 열전도성 금속은 알루미늄, 철, 구리 로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 고방열 저온소성 세라믹 기판.
The method of claim 1,
The thermally conductive metal is a high heat-radiation low-temperature ceramic substrate, characterized in that selected from the group consisting of aluminum, iron, copper.
제1항에 있어서,
상기 비산화물 세라믹 분말은 실리콘카바이드, 실리콘나이트라이드, 탄화붕소, 알루미늄나이트라이드 로 이루어진 군으로부터 선택된 금속산화물인 것을 특징으로 하는 고방열 저온소성 세라믹 기판.
The method of claim 1,
The non-oxide ceramic powder is a high heat radiation low-temperature ceramic substrate, characterized in that the metal oxide selected from the group consisting of silicon carbide, silicon nitride, boron carbide, aluminum nitride.
제1항에 있어서,
상기 비산화물 세라믹 분말은 직경이 1 ㎛에서 40 ㎛ 범위 내로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고방열 저온소성 세라믹 기판.
The method of claim 1,
The non-oxide ceramic powder is a high heat radiation low-temperature ceramic substrate, characterized in that made in the range of 1 ㎛ to 40 ㎛ diameter.
제1항에 있어서,
상기 글래스는 고방열 절연층의 전체중량 100 중량부에 대하여 5 ~ 30 중량부로 함유하는 것을 특징으로 하는 고방열 저온소성 세라믹 기판.
The method of claim 1,
The glass is a high heat-resistant low-temperature fired ceramic substrate, characterized in that containing 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the high heat radiation insulating layer.
KR20100073884A 2010-07-30 2010-07-30 High heat dissipation low temperature co-fired ceramics KR101187029B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20100073884A KR101187029B1 (en) 2010-07-30 2010-07-30 High heat dissipation low temperature co-fired ceramics

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20100073884A KR101187029B1 (en) 2010-07-30 2010-07-30 High heat dissipation low temperature co-fired ceramics

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120012028A true KR20120012028A (en) 2012-02-09
KR101187029B1 KR101187029B1 (en) 2012-09-28

Family

ID=45836047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20100073884A KR101187029B1 (en) 2010-07-30 2010-07-30 High heat dissipation low temperature co-fired ceramics

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101187029B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108321177A (en) * 2018-02-02 2018-07-24 北京京东方显示技术有限公司 A kind of flexible display panels, preparation method and wearable device
CN111018539A (en) * 2019-11-26 2020-04-17 中国科学院合肥物质科学研究院 Low-temperature co-fired ceramic material of dual-phase ceramic filler and preparation method thereof

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3973407B2 (en) * 2001-11-15 2007-09-12 電気化学工業株式会社 Method for producing aluminum nitride sintered body
KR100757901B1 (en) * 2006-04-07 2007-09-11 전자부품연구원 Printed circuit board and fabricating method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108321177A (en) * 2018-02-02 2018-07-24 北京京东方显示技术有限公司 A kind of flexible display panels, preparation method and wearable device
CN111018539A (en) * 2019-11-26 2020-04-17 中国科学院合肥物质科学研究院 Low-temperature co-fired ceramic material of dual-phase ceramic filler and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR101187029B1 (en) 2012-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6349543B2 (en) COOLING STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING COOLING STRUCTURE
US20140158409A1 (en) hBN INSULATOR LAYERS AND ASSOCIATED METHODS
KR101757229B1 (en) Composite multi-layer sheet with EMI shield and heat radiation and Manufacturing method thereof
CN102573417B (en) Shell structure and electronic device having the same
US20060263570A1 (en) Thermal lamination module
JP2016028880A (en) Composite sheet and production method of the same, and electronic equipment using composite sheet
CN204047017U (en) A kind of heat conductive pad
KR20070057356A (en) Heat dissipation pad for electronic part with improved thermoconductive and electric insulating properties
TW201528927A (en) New heat spreading packaging design
KR101043346B1 (en) Organo-inorganic hybrid composition with excellent thermal radiation and thermal radiation sheet of thin layer type which uses this
KR101603582B1 (en) Thermal diffusion sheet having a flexible layer of ceramic-carbon composite
US20150040388A1 (en) Application of Dielectric Layer and Circuit Traces on Heat Sink
KR20170080096A (en) Radiating sheet
KR101187029B1 (en) High heat dissipation low temperature co-fired ceramics
KR20100073364A (en) Heat sink having high radiation ceramic coating layer, method of manufacturing the same and metal pcb
JP2006196593A (en) Semiconductor device and heat sink
CN104708869A (en) Aluminum-based copper-clad plate with high thermal conductivity and manufacturing method thereof
KR101992749B1 (en) Multi heat spreader
KR101531630B1 (en) Thin-heat film and heat-radiation sheet comparing the same
JP5411174B2 (en) Circuit board and manufacturing method thereof
KR20180055014A (en) Graphite sheet having excellent plane thermal conduction for heat radiation solution, Heat radiation solution containing the same and Manufacturing method thereof
KR101419740B1 (en) Bi-layer ceramic substrate for heat dissipation and method for manufacturing the same
CN114106723A (en) Insulation shielding composite film capable of storing heat and having high safety and application thereof
KR102683532B1 (en) Heat dissipation interface sheet material for inner, middle and outer parts of electronic components
CN212086769U (en) Heat conduction film structure

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150924

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee