KR20110137385A - Near infrared ray-absorbable adhesive composition - Google Patents

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KR20110137385A
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니폰 쇼쿠바이 컴파니 리미티드
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Abstract

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 디이모늄염(A1)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)와, 용매(S2)를 함유한다. 상기 디이모늄염(A1)을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리 후, 1시간 이상 정치하고, 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 측정된 상기 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가, 0.5 이하이다. 바람직하게는, 상기 용매(S1)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이다. 바람직하게는, 상기 용매(S2)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이다. The near-infrared absorption adhesive composition of this invention contains dimonium salt (A1), resin (B) whose calculation glass transition point is 0 degrees C or less, and solvent (S2). After adjusting the liquid mixture which mixed the said dimonium salt (A1) with respect to the solvent (S1) at the ratio of 0.01 mass%, this mixture liquid was sonicated for 30 minutes, and left still for 1 hour or more, and then the supernatant liquid of this liquid mixture was The absorbance (X) at lambda max of the supernatant liquid contained in a cell having an optical path length of 1 mm and measured in a range of 350 nm or more and 1500 nm or less by an ultraviolet visible spectrophotometer is 0.5 or less. Preferably, the solvent (S1) is toluene and / or ethyl acetate. Preferably, the solvent (S2) is toluene and / or ethyl acetate.

Description

근적외선 흡수 점착제 조성물{Near infrared ray-absorbable adhesive composition}Near infrared ray-absorbable adhesive composition

본 발명은, 근적외선 흡수 점착제 조성물, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물에 사용되는 근적외선 흡수 혼합물, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물을 함유하는 근적외선 흡수재 등에 관한 것이다.This invention relates to a near-infrared absorption adhesive composition, the near-infrared absorption mixture used for this near-infrared absorption adhesive composition, and the near-infrared absorber containing this near-infrared absorption adhesive composition.

최근 들어, 박형이며 대화면에 적용할 수 있는 액정 디스플레이나 PDP(Plasma Display Panel) 등의 박형 디스플레이가 주목되어 있다. 박형 디스플레이는 파장이 800 nm~1100 nm인 근적외선을 발생시킨다. 이 근적외선이 가전용 리모콘의 오작동을 유발하는 것이 문제가 되고 있다. 또한, CCD 카메라 등에 사용되는 광반도체소자도 근적외선영역의 감도가 높기 때문에, 근적외선의 제거가 필요하다. 이에, 근적외선의 흡수능이 높고, 가시영역의 투명성이 높은 근적외선 흡수재료가 요구되고 있다. Recently, a thin display such as a liquid crystal display or a plasma display panel (PDP) that can be applied to a large screen is attracting attention. Thin displays produce near-infrared light with a wavelength of 800 nm to 1100 nm. It is a problem that this near-infrared radiation causes malfunction of the remote controller for home appliances. In addition, since optical semiconductor elements used in CCD cameras and the like also have high sensitivity in the near infrared region, the near infrared rays need to be removed. Accordingly, there is a demand for a near infrared absorbing material having high absorption ability of near infrared rays and high transparency of visible region.

근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소로서는, 종래, 시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 포르피린계 색소, 금속 디티올 착체계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 디이모늄계 색소 또는 무기 산화물 입자가 사용되고 있다. 그 중에서도, 디이모늄계 색소는 근적외선의 흡수능이 높고, 가시광영역에서의 투명성이 높은 것으로부터 많이 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1, 2 참조). As a near-infrared absorbing pigment which absorbs near infrared rays, a cyanine dye, a polymethine dye, a squarylium dye, a porphyrin dye, a metal dithiol complex dye, a phthalocyanine dye, a dimonium dye, or an inorganic oxide particle is conventionally used. have. Especially, dimonium pigment | dye is used abundantly because it has high absorption ability of near-infrared rays, and high transparency in visible region (for example, refer patent document 1, 2).

또한, PDP는, 패널 내부에 봉입(封入)된 비활성 기체, 특히 네온을 주체로 한 가스 중에서 방전을 발생시켜, 그때 발생하는 진공 자외선에 의해, 패널 내부의 셀에 마련된 R, G, B의 형광체를 발광시킨다. 따라서, 이 발광과정에서 PDP의 작동에 불필요한 전자파도 동시에 방출된다. 이 전자파도 차폐되는 것이 필요하다. 또한, 반사광을 억제하기 위해 반사 방지 필름, 번쩍거림 방지 필름(안티글레어 필름)도 필요하다. 이 때문에, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는, 근적외선 흡수 필름, 전자파 차폐 필름 및 반사 방지 필름을, 지지체인 유리나 충격 흡수재 위에 적층하여 제작되는 것이 일반적이다. 이러한 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는, PDP의 전면측(前面側)에 재치(載置)된다. 이러한 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는, 접착제나 점착제를 사용하여, 지지체인 유리나 충격 흡수재 위에 직접 첩합(貼合)되어 사용되는 경우도 있다. In addition, the PDP generates a discharge in an inert gas enclosed inside the panel, particularly a gas mainly composed of neon, and the phosphors of R, G, and B provided in the cells inside the panel by the vacuum ultraviolet rays generated at that time. Emits light. Therefore, in this light emission process, electromagnetic waves unnecessary for the operation of the PDP are simultaneously emitted. This electromagnetic wave also needs to be shielded. In addition, an antireflection film and an antiglare film (antiglare film) are also required to suppress the reflected light. For this reason, it is common that the optical filter for plasma displays is produced by laminating a near-infrared absorbing film, an electromagnetic wave shielding film, and an antireflection film on glass or a shock absorber serving as a support. Such an optical filter for plasma display is mounted on the front side of a PDP. Such an optical filter for plasma display may be used by directly bonding on glass or an impact absorber which is a support body using an adhesive agent and an adhesive.

최근 들어, 광학 필터의 박층화나, 광학 필터의 제조공정의 간략화를 목적으로, 점착제에 근적외선 흡수 색소를 함유시켜서 근적외선 흡수 필름과 점착제층을 일체화시키는 시도가 이루어지고 있다(특허문헌 3 및 특허문헌 4). In recent years, for the purpose of thinning an optical filter and simplifying the manufacturing process of an optical filter, an attempt is made to integrate a near-infrared absorbing film and an adhesive layer by including a near-infrared absorbing dye in an adhesive (patent document 3 and patent document 4). ).

특허문헌 1 : 일본국 특허공개 제2003-96040호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 2003-96040

특허문헌 2 : 일본국 특허공개 제2000-80071호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-80071

특허문헌 3 : 일본국 특허 제3621322호Patent Document 3: Japanese Patent No. 3621322

특허문헌 4 : 국제공개 WO2008/026786 공보Patent Document 4: International Publication WO2008 / 026786

디이모늄계 색소는 내구성이 떨어지는 경우가 있어, 근적외선 흡수능의 저하나 착색은, 광반도체소자나 디스플레이 용도로 사용할 때의 중대한 문제가 될 수 있다. 특히, 점착제 수지와 같은 유리 전이점(Tg)이 낮은 수지 중에서는 색소의 열화(劣化)가 심하다.  Dimonium pigment | dye may be inferior in durability, and the fall of near-infrared absorption ability and coloring may become a serious problem when using it for an optical semiconductor element or a display use. In particular, in a resin with a low glass transition point (Tg) such as an adhesive resin, deterioration of the dye is severe.

일본국 특허공개 제2005-325292호 공보에는 디이모늄 양이온의 알킬기에 할로겐원자를 도입함으로써 내구성을 향상시킨 디이모늄 색소가 개시되어 있다. 확실히 이 디이모늄 색소와 고Tg 바인더 수지를 사용한 근적외선 차단 필터의 경우는, 종래의 디이모늄 색소와 비교하여 내구성의 향상이 보인다. 그러나, 열화가 심한 저Tg의 점착제 수지와의 조합의 경우는, 그 내구성은 불충분해지기 쉽다. 국제공개 WO2008/026786 공보에서는, 디이모늄 색소를 적절히 한정함으로써, 점착제 조성물 중에 있어서의 색소의 내구성을 향상시키고 있다. 본 발명에서는, 국제공개 WO2008/026786 공보의 발명과는 다른 관점에서, 점착제 수지 중에 있어서의 디이모늄 색소의 내구성을 향상시킬 수 있는 기술을 발견하였다.Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-325292 discloses a dimonium pigment having improved durability by introducing a halogen atom into an alkyl group of a dimonium cation. In the case of the near-infrared cut off filter using this dimonium pigment | dye and high Tg binder resin, the improvement of durability is seen compared with the conventional dimonium pigment | dye. However, in the case of the combination with the low Tg adhesive resin which is severely deteriorated, the durability tends to be insufficient. In WO2008 / 026786, the durability of the dye in the pressure-sensitive adhesive composition is improved by appropriately limiting the dimonium pigment. In the present invention, a technique which can improve the durability of the dimonium pigment | dye in adhesive resin was discovered from a viewpoint different from the invention of international publication WO2008 / 026786.

본 발명은, 가시영역의 투명성과 근적외선 흡수능의 지속성이 높은 근적외선 흡수재를 제작하는데 유용한 근적외선 흡수 점착제 조성물, 및 그 근적외선 흡수 점착제 조성물을 제작하는데 유용한 근적외선 흡수 혼합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition useful for producing a near-infrared absorbent material having high transparency in the visible region and high persistence of near-infrared absorbing capacity, and a near-infrared absorbent mixture useful for producing the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition.

본 발명자들은, 점착제 수지 중에 있어서의 디이모늄 색소의 내구성의 향상에 대해서 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 특정 조건에 있어서의 용해도 또는 특정 조건에 있어서 측정되는 흡광도가, 점착제 수지 중에 있어서의 디이모늄 색소의 내구성과 상관하는 것을 발견하였다. 본 발명자는, 상기 용해도 또는 상기 흡광도가 적절한 값으로 된 경우, 색소의 내구성이 우수한 근적외선 흡수 점착제 조성물이 얻어지는 것을 발견하였다.The present inventors earnestly examined about the improvement of the durability of the dimonium pigment | dye in adhesive resin. As a result, it was found that the solubility in specific conditions or the absorbance measured under specific conditions correlated with the durability of the dimonium pigment in the adhesive resin. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor discovered that the near-infrared absorption adhesive composition excellent in the durability of a pigment | dye is obtained when the said solubility or the said absorbance becomes an appropriate value.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하인 디이모늄염(A1)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)와, 용매(S2)를 함유하는 근적외선 흡수 점착제 조성물이다. 이 흡광도(X)의 측정에서는, 먼저, 디이모늄염(A1)을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리하고, 1시간 이상 정치한다. 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 흡광도가 측정된다. 이 측정에 의해, λmax 및 그 λmax에 있어서의 흡광도(X)가 결정된다.The near-infrared absorption adhesive composition of this invention contains the dimonium salt (A1) whose absorbance (X) in (lambda) max of a supernatant liquid is 0.5 or less, resin (B) whose calculated glass transition point is 0 degrees C or less, and near-infrared rays containing a solvent (S2). Absorption adhesive composition. In the measurement of this absorbance (X), first, the mixed liquid which mixed the dimonium salt (A1) in the ratio of 0.01 mass% with respect to the solvent S1 is adjusted, and this mixed liquid is sonicated for 30 minutes, and left to stand for 1 hour or more. do. Then, the supernatant liquid of this liquid mixture is put into the cell of 1 mm of optical path length, and absorbance is measured in the range of 350 nm or more and 1500 nm or less with an ultraviolet visible spectrophotometer. By this measurement, the absorbance X at λmax and its λmax is determined.

바람직하게는, 상기 용매(S1)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이 된다. 바람직하게는, 상기 용매(S2)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이 된다. Preferably, the solvent (S1) is toluene and / or ethyl acetate. Preferably, the solvent (S2) is toluene and / or ethyl acetate.

바람직하게는, 상기 용매(S1)와 상기 용매(S2)가 동일하다. Preferably, the solvent (S1) and the solvent (S2) are the same.

바람직하게는, 상기 근적외선 흡수 점착제 조성물에 있어서의 상기 디이모늄염(A1)의 배합량은, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 모든 고형분의 합계 질량에 대해 0.5 질량% 이상이다. Preferably, the compounding quantity of the said dimonium salt (A1) in the said near-infrared absorption adhesive composition is 0.5 mass% or more with respect to the total mass of all solid content contained in this near-infrared absorption adhesive composition.

본 발명의 다른 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 용매(S3)와, 이 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 디이모늄염(A2)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)를 함유한다. Another near-infrared absorption adhesive composition of this invention is solvent (S3), the dimonium salt (A2) whose solubility (Y) with respect to this solvent (S3) is less than 0.01 mass%, and resin (B) whose calculation glass transition point is 0 degrees C or less. ).

바람직하게는, 상기 용매(S3)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이다.Preferably, the solvent (S3) is toluene and / or ethyl acetate.

바람직하게는, 상기 수지(B)의 산가가 0 이상 300 이하이다. Preferably, the acid value of the said resin (B) is 0 or more and 300 or less.

바람직하게는, 상기 수지(B)의 계산 용해도 파라미터가 10.2 이하이다. Preferably, the calculated solubility parameter of the said resin (B) is 10.2 or less.

바람직하게는, 상기 수지(B)는, 하기 배합의 모노머 혼합물을 중합하여 얻어진다. Preferably, the said resin (B) is obtained by superposing | polymerizing the monomer mixture of the following formulation.

(1) 탄소수가 1 이상 12 이하인 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르:60 질량% 이상 99.9 질량% 이하.(1) (meth) acrylic acid ester which has a C1-C12 alkyl group: 60 mass% or more and 99.9 mass% or less.

(2) 관능기 함유 모노머:0.1 질량% 이상 20 질량% 이하. (2) Functional group containing monomer: 0.1 mass% or more and 20 mass% or less.

(3) 기타 공중합 가능한 단량체:0 질량% 이상 30 질량% 이하. (3) Other copolymerizable monomers: 0 mass% or more and 30 mass% or less.

바람직하게는, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 프탈로시아닌계 색소를 추가로 함유한다. Preferably, this near-infrared absorption adhesive composition further contains a phthalocyanine type pigment | dye.

본 발명의 다른 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 디이모늄염(A1)을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리 후, 1시간 이상 정치하고, 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 측정된 상기 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하인 디이모늄염(A1)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)와, 용매(S2)를 함유하는 근적외선 흡수 점착제 조성물이다. 상기 디이모늄염(A1)은, 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만이다.Another near-infrared absorption adhesive composition of this invention adjusts the liquid mixture which mixed the dimonium salt (A1) by 0.01 mass% with respect to the solvent (S1), and left this mixture liquid for 1 hour or more after sonicating for 30 minutes. Then, the dimonium salt whose absorbance (X) in (lambda) max of the said supernatant liquid measured in the range of 350 nm or more and 1500 nm or less by putting the supernatant liquid of this liquid mixture into the cell of 1 mm of optical path lengths by the ultraviolet-visible spectrophotometer It is a near-infrared absorption adhesive composition containing (A1), resin (B) whose calculation glass transition point is 0 degrees C or less, and a solvent (S2). The dimonium salt (A1) has a solubility (Y) in the solvent (S3) of less than 0.01% by mass.

바람직하게는, 상기 용매(S1)와 상기 용매(S2)가 동일하고, 상기 용매(S3)와 이 용매(S1)가 동일하다.Preferably, the solvent S1 and the solvent S2 are the same, and the solvent S3 and the solvent S1 are the same.

본 발명의 근적외선 흡수재는, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 포함한다.The near-infrared absorber of this invention contains the near-infrared absorption adhesive composition in any one of the above.

바람직하게는, 상기 근적외선 흡수재는, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수 점착제 조성물이 투명기재에 적층되어 된다.Preferably, in the near-infrared absorber, any one of the above-mentioned near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive compositions is laminated on a transparent substrate.

상기 근적외선 흡수재는, 상기 투명기재에 도포된 후에, 상기 용매(S2) 또는 상기 용매(S3)가 휘발되어 되는 것이어도 된다.After the near-infrared absorber is applied to the transparent substrate, the solvent (S2) or the solvent (S3) may be volatilized.

바람직하게는, 상기 근적외선 흡수재는, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수 점착제 조성물이 전자파를 차폐할 수 있는 전자파 차폐재에 적층되어 된다. 상기 수지(B)의 산가는 0 이상 35 이하이다.Preferably, the said near-infrared absorber is laminated | stacked on the electromagnetic wave shielding material in which the near-infrared absorption adhesive composition in any one of the above can shield an electromagnetic wave. The acid value of the said resin (B) is 0 or more and 35 or less.

바람직하게는, 상기 전자파 차폐재는 상기 투명기재를 포함한다.Preferably, the electromagnetic shielding material includes the transparent substrate.

본 발명의 박형 디스플레이용 광학 필터는, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수재를 사용해서 된다.The near-infrared absorber in any one of the above may be used for the optical filter for thin displays of this invention.

본 발명의 박형 디스플레이는, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수 점착제 조성물, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수재 또는 상기 광학 필터를 사용해서 된다.The thin display of this invention uses any of the above-mentioned near-infrared absorption adhesive compositions, any of the above-mentioned near-infrared absorbers, or the said optical filter.

본 발명의 근적외선 흡수 혼합물은, 근적외선 흡수 점착제 조성물에 사용된다. 이 근적외선 흡수 혼합물은, 디이모늄염(A1)을 용매(Sm)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리 후, 1시간 이상 정치하고, 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 측정된 상기 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하인 디이모늄염(A1)과, 용매(Sm)를 함유하고 있다. The near-infrared absorption mixture of this invention is used for a near-infrared absorption adhesive composition. This near-infrared absorption mixture adjusts the liquid mixture which mixed the dimonium salt (A1) by 0.01 mass% with respect to the solvent (Sm), and left this mixture liquid for 1 hour or more after sonication for 30 minutes, after that, The supernatant of the mixed solution was placed in a cell of 1 mm of optical path length and the dimonium salt (A1) having an absorbance (X) at lambda max of λmax of the supernatant measured in the range of 350 nm or more and 1500 nm or less by an ultraviolet visible spectrophotometer and , Solvent (Sm) is contained.

바람직하게는, 이 근적외선 흡수 혼합물에 있어서, 상기 용매(Sm)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이다.Preferably, in this near infrared absorption mixture, the solvent (Sm) is toluene and / or ethyl acetate.

본 발명의 다른 근적외선 흡수 혼합물도, 근적외선 흡수 점착제 조성물용이다. 이 근적외선 흡수 혼합물은, 용매(S3)와, 이 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 디이모늄염(A2)을 함유하고 있다.Another near-infrared absorption mixture of this invention is also for near-infrared absorption adhesive compositions. This near-infrared absorption mixture contains the solvent (S3) and the dimonium salt (A2) whose solubility (Y) with respect to this solvent (S3) is less than 0.01 mass%.

바람직하게는, 이 근적외선 흡수 혼합물에 있어서, 상기 용매(S3)는 톨루엔 및/또는 초산에틸이다.Preferably, in this near infrared absorption mixture, the solvent (S3) is toluene and / or ethyl acetate.

본 발명의 또 다른 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 상기 중 어느 하나의 근적외선 흡수 혼합물을 사용해서 된다.Another near-infrared absorption adhesive composition of this invention may use any of the above-mentioned near-infrared absorption mixtures.

바람직하게는, 상기 다른 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 상기 근적외선 흡수 혼합물과 수지 조성물(P)을 사용해서 된다. 이 수지 조성물(P)은, 용매(S2)와, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)를 포함하고 있다.Preferably, the said other near-infrared absorption adhesive composition uses the said near-infrared absorption mixture and resin composition (P). This resin composition (P) contains the solvent (S2) and resin (B) whose calculation glass transition point is 0 degrees C or less.

바람직하게는, 상기 수지 조성물(P)에 있어서의 수지(B)의 배합량은 50 질량% 이상이다.Preferably, the compounding quantity of resin (B) in the said resin composition (P) is 50 mass% or more.

본 발명의 근적외선 흡수 혼합물을 사용한 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 디이모늄 색소의 내구성이 우수하다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 사용한 근적외선 흡수 재료는, 디이모늄 색소의 근적외선 흡수능이 장기간에 걸쳐 유지될 수 있다. 따라서, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물을, 광반도체소자나 박형 디스플레이용 광학 필터의 제작에 사용하면, 광학 필터의 박층화나, 광학 필터의 제조공정의 간략화가 가능해진다. The near-infrared absorption adhesive composition using the near-infrared absorption mixture of this invention is excellent in the durability of a dimonium pigment | dye. The near-infrared absorbing material using the near-infrared absorption adhesive composition of this invention can maintain the near-infrared absorption ability of a dimonium pigment | dye over a long term. Therefore, when this near-infrared absorption adhesive composition is used for manufacture of the optical filter for optical semiconductor elements or a thin display, thinning of an optical filter and simplification of the manufacturing process of an optical filter are attained.

도 1은 실시예 2의 시험체의 시험 전(초기)에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 2는 실시예 2의 시험체의 내열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 3은 실시예 2의 시험체의 내습열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 4는 실시예 2의 시험체의 내광시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 5는 비교예 1의 시험체의 시험 전(초기)에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 6은 비교예 1의 시험체의 내열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 7은 비교예 1의 시험체의 내습열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 8은 비교예 1의 시험체의 내광시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a graph which shows the transmission spectrum before (initial stage) the test of the test body of Example 2. FIG.
2 is a graph showing the transmission spectrum after the heat resistance test of the test body of Example 2. FIG.
3 is a graph showing a transmission spectrum after a heat-and-moisture resistance test of the test body of Example 2. FIG.
4 is a graph showing the transmission spectrum after the light test of the test body of Example 2. FIG.
5 is a graph showing the transmission spectrum before (initial) the test body of Comparative Example 1. FIG.
6 is a graph showing the transmission spectrum after the heat resistance test of the test body of Comparative Example 1. FIG.
7 is a graph showing a transmission spectrum after a wet and heat test of the test body of Comparative Example 1. FIG.
8 is a graph showing the transmission spectrum after the light resistance test of the test body of Comparative Example 1.

이하에 있어서, 본 발명의 실시형태가 설명된다. 또한, 본원에 있어서, 디이모늄염(A1) 및 디이모늄염(A2)과 구별되고 있는 것은, 양자가 상이해도 되는 것을 나타내기 위함이다. 또한 이 구별의 목적은, 청구항 및 명세서의 기재를 명확하게 위함이기도 하다. 이하에 설명되는 바와 같이, 결과적으로, 디이모늄염(A1) 및 디이모늄염(A2)은, 동일해도 된다. 본원의 디이모늄염에 관하여, (A1) 및 (A2)의 기호를 부가하지 않고, 간단히 「디이모늄염」으로 기재한 경우에는, 디이모늄염(A1) 및 디이모늄염(A2)의 양쪽에 적용되는 것을 의미한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, embodiment of this invention is described. In addition, in this application, what is distinguished from a dimonium salt (A1) and a dimonium salt (A2) is to show that both may differ. In addition, the purpose of this distinction is also to clearly describe the claims and the specification. As described below, as a result, the dimonium salt (A1) and the dimonium salt (A2) may be the same. Regarding the dimonium salt of the present application, without adding the symbols of (A1) and (A2), and simply described as "dimonium salt", both of the dimonium salt (A1) and the dimonium salt (A2) Means to apply.

또한 본원에 있어서, 용매가 (S1), (S2), (S3), (S4) 및 (Sm)으로 구별되고 있는 것은, 이들이 서로 상이해도 되는 것을 나타내기 위함이다. 또한 이 구별의 목적은, 청구항 및 명세서의 기재를 명확하게 하기 위함이기도 하다. 이하에 설명되는 바와 같이, 결과적으로, 용매(S1), (S2), (S3), (S4) 및 (Sm)으로부터 선택되는 2개 또는 3개 이상은, 동일해도 된다. 또한, 용매(S1), (S2), (S3), (S4) 및 (Sm)의 모두가 동일해도 된다.In addition, in this application, the solvent is distinguished by (S1), (S2), (S3), (S4), and (Sm) in order to show that they may differ from each other. The purpose of this distinction is also to clarify the description of the claims and the specification. As described below, as a result, two or three or more selected from the solvents S1, S2, S3, S4, and Sm may be the same. In addition, all of the solvents (S1), (S2), (S3), (S4) and (Sm) may be the same.

용매(S1), (S2), (S3), (S4) 또는 (Sm)은, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되어 있어도 된다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물에 있어서, 용매(S1), (S2), (S3), (S4) 또는 (Sm)은, 휘발에 의해 소멸되어 있어도 된다. The solvent (S1), (S2), (S3), (S4) or (Sm) may be contained in the near-infrared absorption adhesive composition of this invention. In the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, solvent (S1), (S2), (S3), (S4) or (Sm) may be extinguished by volatilization.

1. 디이모늄염(디이모늄 색소) A1Dimonium salt (dimonium pigment) A1

본 발명에 사용되는 디이모늄염(A1)은, 후술되는 방법으로 측정되는 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하이다.As for the dimonium salt (A1) used for this invention, the absorbance (X) in (lambda) max of the supernatant liquid measured by the method mentioned later is 0.5 or less.

디이모늄 색소(A1)의 디이모늄 양이온으로서, 하기 화학식 1로 나타내어지는 디이모늄 양이온이 예시된다. As a dimonium cation of a dimonium pigment | dye (A1), the dimonium cation represented by following General formula (1) is illustrated.

Figure pct00001
Figure pct00001

바람직한 디이모늄 색소는, 하기 화학식 1S로 표시되는 바와 같이, 상기 화학식 1로 나타내어지는 디이모늄 양이온과, 디이모늄 음이온 Z-로 된다. Preferable dimonium pigment | dye becomes a dimonium cation represented by the said General formula (1), and a dimonium anion Z <-> as represented by following General formula (1S).

[화학식 1S][Formula 1S]

Figure pct00002
Figure pct00002

단, 화학식 1 및 화학식 1S 중에 있어서, R1~R8은, 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 알킬기 또는 치환기를 갖는 알킬기를 나타낸다. 화학식 1S 중에 있어서, Z-는 디이모늄 음이온을 나타낸다.However, in Formula 1 and Formula 1S, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkyl group having a substituent. In the general formula (1S), Z represents a dimonium anion.

R1~R8이 알킬기 또는 치환기를 갖는 알킬기인 경우, 그 알킬기의 탄소수는, R1~R8의 각각에 대해서, 1 이상 2 이하가 바람직하고, 2 이상 12 이하가 보다 바람직하다.When R <1> -R <8> is an alkyl group or an alkyl group which has a substituent, 1 or more and 2 or less are preferable and, as for carbon number of this alkyl group, each of R <1> -R <8> , 2 or more and 12 or less are more preferable.

R1~R8을 구성하는 할로겐원자로서는, 예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드원자를 들 수 있다. As a halogen atom which comprises R <1> -R <8> , a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example.

바람직한 R1~R8으로서, 탄소수가 1~10인 직쇄, 분지상 및 지환식 알킬기를 들 수 있다. 이러한 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-아밀기, 이소아밀기, 1-메틸부틸기, 1-에틸프로필기, 1,2-디메틸프로필기, 1,1-디메틸프로필기, 네오펜틸기, n-헥실기, 시클로헥실기, 등을 들 수 있다. 다른 바람직한 R1~R8으로서, 4,4,4-트리플루오로부틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기 및 퍼플루오로부틸기를 들 수 있다. R1~R8은 모두 동일해도 되고, 각각 상이해도 된다. As preferable R <1> -R <8> , a C1-C10 linear, branched and alicyclic alkyl group is mentioned. As such an alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-amyl group, isoamyl group, 1 Methylbutyl, 1-ethylpropyl, 1,2-dimethylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, neopentyl, n-hexyl and cyclohexyl groups. 4,4,4-trifluorobutyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, and perfluorobutyl group are mentioned as another preferable R <1> -R <8> . R 1 to R 8 may all be the same or different from each other.

보다 바람직하게는 R1~R8은, 탄소수가 3~5인 직쇄 또는 분지상의 알킬기이다. 더욱 바람직하게는, R1~R8은, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, n-아밀기 또는 이소아밀기이고, n-부틸기, 이소부틸기 또는 이소아밀기가 더욱 바람직하며, 이소부틸기가 특히 바람직하다.More preferably, R <1> -R <8> is a C3-C5 linear or branched alkyl group. More preferably, R 1 to R 8 are n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, n-amyl group or isoamyl group, and n-butyl group, isobutyl group or iso Amyl group is more preferable, and isobutyl group is especially preferable.

또한, R1~R8의 알킬기에 결합 가능한 치환기로서는, 시아노기; 히드록실기; 불소원자, 염소원자, 브롬원자 등의 할로겐원자; 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시프로폭시기, 메톡시부톡시기, 에톡시부톡시기 등의 탄소수 2~8의 알콕시알콕시기; 메톡시메톡시메톡시기, 메톡시메톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기 등의 탄소수 3~15의 알콕시알콕시알콕시기; 알릴옥시기; 페녹시기, 톨릴옥시기, 크실릴옥시기, 나프틸옥시기 등의 탄소수 6~12의 아릴옥시기; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로폭시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기, n-부톡시카르보닐기 등의 탄소수 2~7의 알콕시카르보닐기; 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, n-프로필카르보닐옥시기, n-부틸카르보닐옥시기 등의 탄소수 2~7의 알킬카르보닐옥시기; 메톡시카르보닐옥시기, 에톡시카르보닐옥시기, n-프로폭시카르보닐옥시기, n-부톡시카르보닐옥시기 등의 탄소수 2~7의 알콕시카르보닐옥시기 등이 있다. 치환기가 결합한 알킬기의 바람직한 예로서, 메톡시에틸기를 들 수 있다. 즉, R1~R8의 바람직한 일례로서, 메톡시에틸기를 들 수 있다.Moreover, as a substituent which can couple | bond with the alkyl group of R <1> -R <8> , it is a cyano group; Hydroxyl group; Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; Alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group and n-butoxy group; Alkoxyalkoxy groups having 2 to 8 carbon atoms such as methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxypropoxy group, methoxybutoxy group and ethoxybutoxy group; An alkoxyalkoxyalkoxy group having 3 to 15 carbon atoms such as a methoxy methoxy methoxy group, a methoxy methoxy ethoxy group, a methoxy ethoxy ethoxy group, and an ethoxy ethoxy ethoxy group; Allyloxy group; C6-C12 aryloxy groups, such as a phenoxy group, a tolyloxy group, a xylyloxy group, and a naphthyloxy group; Alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group and n-butoxycarbonyl group; C2-C7 alkylcarbonyloxy groups, such as a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, and n-butylcarbonyloxy group; And alkoxycarbonyloxy groups having 2 to 7 carbon atoms such as methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyloxy group, n-butoxycarbonyloxy group and the like. A methoxyethyl group is mentioned as a preferable example of the alkyl group which the substituent couple | bonded. That is, a methoxyethyl group is mentioned as a preferable example of R <1> -R <8> .

디이모늄 음이온은 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 디이모늄 음이온은, 헥사플루오로안티몬산 이온, 과염소산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 테트라플루오로붕산 이온, 트리플루오로메탄설폰산 이온, 톨루엔설폰산 이온, 비스(트리플루오로메탄설폰산)이미드 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 트리스(트리플루오로메탄설폰산)메티드 이온 등이다. 보다 바람직한 디이모늄 음이온으로서, 헥사플루오로안티몬산 이온[SbF6 -] 및 트리스(트리플루오로메탄설폰산)메티드 이온[(CF3SO2)3C-]을 들 수 있다.The dimonium anion is not particularly limited. Preferred dimonium anions are hexafluoroantimonate ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, trifluoromethanesulfonic acid ion, toluenesulfonic acid ion, bis (trifluoromethanesulfonic acid ) Imide ion, tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion, tris (trifluoromethanesulfonic acid) methion ion, etc. More preferred dimonium anions include hexafluoroantimonate ion [SbF 6 ] and tris (trifluoromethanesulfonic acid) methion ion [(CF 3 SO 2 ) 3 C ].

바람직한 본 발명의 디이모늄염(A1)은, 디이모늄 양이온 1개에 대해, 2개의 음이온이 결합하는 형태이다.The preferable dimonium salt (A1) of this invention is a form in which two anions couple | bond with one dimonium cation.

디이모늄염(A1)으로서, 트리스(트리플루오로메틸설포닐)메티드산-N,N,N',N'-테트라키스(p-디(iso-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디이모늄 및 헥사플루오로안티몬산-N,N,N',N'-테트라키스{p-디(iso-부틸)아미노페닐}-p-페닐렌디이모늄을 들 수 있다. 이들의 제조방법은, 후술하는 합성예에 의해 설명된다. 이들은, 점착제 조성물 중에 있어서의 내구성이 높기 때문에, 특히 바람직하다.As dimonium salt (A1), tris (trifluoromethylsulfonyl) methic acid-N, N, N ', N'- tetrakis (p-di (iso-butyl) aminophenyl) -p-phenylenedi Immonium and hexafluoroantimonic acid-N, N, N ', N'-tetrakis {p-di (iso-butyl) aminophenyl} -p-phenylenedimonium. These manufacturing methods are demonstrated by the synthesis example mentioned later. Since these are high in durability in an adhesive composition, they are especially preferable.

디이모늄 색소(A1)는, 분산되기 쉬운 형태로 되는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 디이모늄 색소는, 분쇄 등에 미세화되어 있는 것이 바람직하다. 이 미세화의 방식으로서는, 습식 및 건식 중 어느 것도 채용 가능하다. 습식의 미세화 수법으로서는, 비드 밀이나 볼 밀 외에, 액류(液流)에 의한 미세화, 또는 레이저나 초음파를 사용한 미세화가 채용 가능하다. 건식의 미세화 수법으로서는, 볼 밀, 아트라이터 외에, 롤 밀이나 기류에 의한 미세화가 채용 가능하다. 보다 바람직하게는, 지르코니아 비드, 유리 비드, 알루미나 비드 등의 입자를 사용하여 디이모늄 색소를 분쇄하는 방법이 채용 가능하다. 예를 들면, 지르코니아 입자를 사용한 분쇄방법으로서, 디이모늄 색소와 용매(S4)와 지르코니아 비드가 혼합되어 되는 액상 혼합물을 만들고, 이 액상 혼합물을 용기 내에서 진탕한 후, 지르코니아 비드를 분리하는 방법이 예시된다. 바람직한 용매(S4)로서, 분쇄 대상인 디이모늄염을 사용하여 상기 방법으로 측정된 흡광도(X)가 0.5 이하가 되는 용매(S1)를 들 수 있다. 다른 바람직한 용매(S4)로서, 분쇄 대상인 디이모늄염을 사용하여 상기 방법으로 측정된 용해도(Y)가 0.01% 미만이 되는 용매(S3)를 들 수 있다.It is preferable that a dimonium pigment | dye (A1) becomes a form which is easy to disperse. Preferably, it is preferable that the dimonium pigment | dye is refine | miniaturized by grinding | pulverization. As the method of miniaturization, either wet or dry can be employed. As a wet refinement method, besides a bead mill and a ball mill, refinement | miniaturization by liquid flow or refinement | miniaturization using a laser or an ultrasonic wave is employable. As a dry refinement method, in addition to a ball mill and an attritor, refinement | miniaturization by a roll mill and airflow is employable. More preferably, a method of pulverizing the dimonium pigment using particles such as zirconia beads, glass beads, alumina beads and the like can be employed. For example, as a grinding method using zirconia particles, a liquid mixture in which a dimonium pigment, a solvent (S4) and zirconia beads are mixed is made, and the liquid mixture is shaken in a container, followed by separation of zirconia beads. This is illustrated. As preferable solvent (S4), the solvent (S1) by which the absorbance (X) measured by the said method using the dimonium salt which is a grinding | pulverization object becomes 0.5 or less is mentioned. As another preferable solvent (S4), the solvent (S3) whose solubility (Y) measured by the said method using the dimonium salt which is a grinding | pulverization object becomes less than 0.01% is mentioned.

2. 디이모늄염(디이모늄 색소) A22. Dimonium salt (dimonium pigment) A2

본 발명에 사용되는 디이모늄염(A2)은, 후술되는 방법으로 측정되는 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만이다.The dimonium salt (A2) used for this invention is less than 0.01 mass% in solubility (Y) measured by the method mentioned later.

디이모늄 색소(A2)의 디이모늄 양이온으로서, 상기 화학식 1로 나타내어지는 디이모늄 양이온이 예시된다.As a dimonium cation of a dimonium pigment | dye (A2), the dimonium cation represented by the said General formula (1) is illustrated.

바람직한 디이모늄 색소는, 상기 화학식 1S로 표시되는 바와 같이, 상기 화학식 1로 나타내어지는 디이모늄 양이온과, 상기 디이모늄 음이온 Z-로 된다. Preferable dimonium pigment | dye becomes a dimonium cation represented by the said General formula (1), and the said dimonium anion Z <-> as represented by the said General formula (1S).

상기 화학식 1 또는 상기 화학식 1S에 있어서, R1~R8이 알킬기 또는 치환기를 갖는 알킬기인 경우, 그 알킬기의 탄소수는, R1~R8의 각각에 대해서, 1 이상 22 이하가 바람직하고, 2 이상 12 이하가 보다 바람직하다. In the above formula (1) or the general formula 1S, R 1 ~ R and 8 are an alkyl group having an alkyl group or a substituent, the number of carbon atoms of the alkyl group is, for each of R 1 ~ R 8, and is less than 1 but not more than 22 preferably, 2 12 or more are more preferable.

R1~R8을 구성하는 할로겐원자로서는, 예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드원자를 들 수 있다.As a halogen atom which comprises R <1> -R <8> , a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example.

바람직한 R1~R8으로서, 상기 디이모늄 색소(A1)와 동일한, 탄소수 1~10의 직쇄, 분지상 및 지환식 알킬기를 들 수 있다.As preferable R <1> -R <8> , the C1-C10 linear, branched and alicyclic alkyl group similar to the said dimonium pigment | dye (A1) is mentioned.

디이모늄 음이온은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 디이모늄 음이온으로서, 상기 디이모늄 색소(A1)와 동일한 디이모늄 음이온을 들 수 있다.The dimonium anion is not particularly limited. For example, the dimonium anion similar to the said dimonium pigment | dye (A1) is mentioned as a dimonium anion.

바람직한 본 발명의 디이모늄염(A2)은, 디이모늄 양이온 1개에 대해, 2개의 음이온이 결합하는 형태이다.The preferable dimonium salt (A2) of this invention is a form in which two anions couple | bond with one dimonium cation.

디이모늄염(A2)으로서, 트리스(트리플루오로메틸설포닐)메티드산-N,N,N',N'-테트라키스(p-디(iso-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디이모늄 및 헥사플루오로안티몬산-N,N,N',N'-테트라키스{p-디(iso-부틸)아미노페닐}-p-페닐렌디이모늄을 들 수 있다. 이들의 제조방법은, 후술하는 합성예에 의해 설명된다. 이들은, 점착제 조성물 중에 있어서의 내구성이 높기 때문에, 특히 바람직하다.As the dimonium salt (A2), tris (trifluoromethylsulfonyl) methic acid-N, N, N ', N'-tetrakis (p-di (iso-butyl) aminophenyl) -p-phenylenedi Immonium and hexafluoroantimonic acid-N, N, N ', N'-tetrakis {p-di (iso-butyl) aminophenyl} -p-phenylenedimonium. These manufacturing methods are demonstrated by the synthesis example mentioned later. Since these are high in durability in an adhesive composition, they are especially preferable.

디이모늄 색소(A2)는, 분산되기 쉬운 형태로 되는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 디이모늄 색소는, 분쇄 등에 의해 미세화되어 있는 것이 바람직하다. 이 미세화의 방식으로서는, 상기 디이모늄 색소(A1)와 동일한 습식 및 건식 모두가 채용 가능하다. 이 디이모늄 색소(A2)에 있어서도, 상기 디이모늄 색소(A1)와 동일, 보다 바람직하게는, 지르코니아 비드, 유리 비드, 알루미나 비드 등의 입자를 사용하여 디이모늄 색소를 분쇄하는 방법이 채용 가능하다. 예를 들면, 지르코니아 입자를 사용한 분쇄방법으로서, 디이모늄 색소(A2)와, 이 디이모늄 색소(A2)의 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 용매(S3)와, 지르코니아 비드를 혼합한 액체를 만들고, 이 액체를 용기 내에서 진탕한 후, 지르코니아 비드를 분리하는 방법이 예시된다.It is preferable that a dimonium pigment | dye (A2) becomes a form which is easy to disperse. Preferably, it is preferable that the dimonium pigment | dye is refine | miniaturized by grinding | pulverization. As this method of refinement | miniaturization, both the wet and the dry method similar to the said dimonium pigment | dye (A1) are employable. Also in this dimonium pigment | dye (A2), the same method as the said dimonium pigment | dye (A1), More preferably, the method of grind | pulverizing a dimonium pigment | dye using particle | grains, such as a zirconia bead, a glass bead, an alumina bead, Adoption is possible. For example, as a grinding | pulverization method using a zirconia particle, the dimonium pigment | dye (A2), the solvent (S3) whose solubility (Y) of this dimonium pigment | dye (A2) is less than 0.01 mass%, and zirconia beads were mixed. A method of making a liquid, shaking the liquid in a container, and then separating the zirconia beads is illustrated.

3. 용매(S1) 및 흡광도(X)의 측정3. Determination of Solvent (S1) and Absorbance (X)

용매(S1)는, 디이모늄염의 상청액의 상기 흡광도(X)를 측정할 때 사용된다. 또한 용매(S1)는, 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되어 있어도 된다.The solvent (S1) is used when measuring the absorbance (X) of the supernatant of the dimonium salt. In addition, the solvent (S1) may be contained in the near-infrared absorption adhesive composition.

용매(S1)로서는, 측정되는 디이모늄염의 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만이 되는 것이 바람직하다. 이 용해도(Y)의 측정의 상세에 대해서는, 후술된다. 용매(S1)로서, 톨루엔, 초산에틸, 크실렌, 초산부틸 및 메틸시클로헥산이 예시된다. 톨루엔 및 초산에틸이 특히 바람직하다. As solvent (S1), it is preferable that the solubility (Y) of the dimonium salt measured becomes less than 0.01 mass%. The detail of the measurement of this solubility (Y) is mentioned later. As the solvent S1, toluene, ethyl acetate, xylene, butyl acetate and methylcyclohexane are exemplified. Toluene and ethyl acetate are particularly preferred.

[상청액의 흡광도(X)의 측정][Measurement of Absorbance (X) of Supernatant]

이 흡광도(X)의 측정에서는, 디이모늄염을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리하여, 1시간 이상 정치하였다. 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 측정이 이루어진다. 광로장 1 ㎜의 셀은 석영제이다. 측정은 자외 가시 분광광도계에 의해 행해진다. 이 자외 가시 분광광도계로서, 시마즈 제작소 제조의 UV-3100이 사용된다. 측정범위는 350 nm 이상 1500 nm 이하가 된다. λmax는, 측정된 파장범위에 있어서 흡광도가 최대가 되는 파장을 의미한다. 흡광도는, 투과율을 T(%)로 할 때, 하기 식에 의해 구해진다.In this measurement of absorbance (X), the mixed liquid which mixed the dimonium salt in the ratio of 0.01 mass% with respect to the solvent (S1) was adjusted, this mixed liquid was sonicated for 30 minutes, and left still for 1 hour or more. Then, the supernatant liquid of this mixed liquid is put into the cell of 1 mm of optical path length, and a measurement is performed. The cell having an optical path length of 1 mm is made of quartz. The measurement is performed by an ultraviolet visible spectrophotometer. As this ultraviolet visible spectrophotometer, UV-3100 by Shimadzu Corporation is used. The measuring range is 350 nm or more and 1500 nm or less. (lambda) max means the wavelength whose absorbance becomes the largest in the measured wavelength range. An absorbance is calculated | required by the following formula, when making transmittance T (%).

흡광도=-log(T/100) Absorbance = -log (T / 100)

혼합방법 및 상청액의 채취방법은, 이하와 같다. 먼저, 디이모늄염을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액 50 밀리리터가 만들어진다. 이 혼합에 사용되는 혼합용기는, 스크류캡(screw cap) 병이다. 이 스크류캡 병의 외경은 40 ㎜이고, 높이는 75 ㎜이다. 이 혼합용기에 있어서, 상기 50 밀리리터의 혼합액의 액면(액의 최상면)의 높이는 50 ㎜이다. 이 혼합액을 초음파 처리하고, 추가로 1시간 이상 정치한 후, 액면(액의 최상면)에서 5 ㎜까지의 부분의 상청액이 채취되어, 측정에 사용된다. 또한, 바람직하게는, 1시간 이상 정치된 후의 상기 혼합액에 있어서, 혼합용기의 바닥면에는, 용해되지 않은 디이모늄염이 침전되어 있다. 이 측정에 있어서, 용매(S1)의 온도는, 25℃가 된다. 초음파의 부여에는, 브란손(BRANSON)사 제조의 탁상형 초음파 세정기(상품명「브란소니크 3510J-DTH」)가 사용되었다. 이 탁상형 초음파 세정기의 탱크에 물을 가득 채우고, 이 물이 가득 채워진 탱크 안에 상기 혼합용기를 배치하여, 40000 Hz 이상(42 kHz)의 주파수로 탱크를 진동시켜서, 상기 혼합용기 주의 혼합액에 초음파를 부여하였다. The mixing method and the collection method of the supernatant are as follows. First, 50 milliliters of the mixed liquid which mixed dimonium salt in 0.01 mass% with respect to the solvent (S1) is produced. The mixing vessel used for this mixing is a screw cap bottle. The outer diameter of this screw cap bottle is 40 mm and the height is 75 mm. In this mixing vessel, the height of the liquid surface (the uppermost surface of the liquid) of the 50 milliliter liquid mixture is 50 mm. After this mixed solution is sonicated and left to stand for one hour or more, the supernatant of a portion up to 5 mm from the liquid surface (top surface of the liquid) is collected and used for the measurement. Preferably, in the mixed solution after being left for 1 hour or more, an insoluble dimonium salt is precipitated on the bottom surface of the mixed container. In this measurement, the temperature of the solvent S1 is 25 ° C. A table-type ultrasonic cleaner (brand name "Bransonique 3510J-DTH") made by BRANSON was used for the provision of the ultrasonic waves. A tank of this table type ultrasonic cleaner is filled with water, the mixing vessel is placed in a tank filled with water, and the tank is vibrated at a frequency of 40000 Hz or more (42 kHz), and ultrasonic waves are applied to the mixed liquid of the mixing container. Given.

본 발명에서는, 용매(S1)에 대한 상기 흡광도(X)가 0.5 이하인 경우, 점착제 수지(B) 중에 있어서의 디이모늄염의 내구성이 향상 가능한 것을 발견하였다. 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 흡광도(X)는 0.5 이하가 바람직하고, 0.3 이하가 보다 바람직하며, 0.25 이하가 보다 바람직하다. 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 보다 바람직하게는, 용매(S1)가 톨루엔 또는 초산에틸 중 어느 하나에 있어서, 흡광도(X)가 0.5 이하가 되는 것이 바람직하고, 0.3 이하가 보다 바람직하며, 0.25 이하가 보다 바람직하고, 0.15 이하가 더욱 바람직하다. 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 더욱 바람직하게는, 용매(S1)가 톨루엔 및 초산에틸 중 어느 것이더라도, 흡광도(X)가 0.5 이하가 되는 것이 바람직하고, 0.3 이하가 보다 바람직하며, 0.25 이하가 보다 바람직하다. In this invention, when the said absorbance (X) with respect to the solvent (S1) is 0.5 or less, it discovered that the durability of the dimonium salt in adhesive resin (B) can improve. From the viewpoint of the durability of the dimonium salt, the absorbance (X) is preferably 0.5 or less, more preferably 0.3 or less, and even more preferably 0.25 or less. From the viewpoint of the durability of the dimonium salt, More preferably, the solvent (S1) in either of toluene or ethyl acetate, it is preferable that the absorbance (X) is 0.5 or less, 0.3 or less is more preferable, 0.25 The following is more preferable, and 0.15 or less are further more preferable. From the viewpoint of the durability of the dimonium salt, More preferably, even if the solvent (S1) is either toluene or ethyl acetate, it is preferable that absorbance (X) is 0.5 or less, 0.3 or less is more preferable, 0.25 or less Is more preferable.

4. 용매(S2)4. Solvent (S2)

용매(S2)는, 점착제 조성물에 포함될 수 있다. 이 용매(S2)는, 점착제 조성물의 점도를 조정하기 위한 희석 용매로서 사용되어도 된다. 용매(S2)에 의해, 점착제 조성물의 점도가, 기재 등으로의 도포에 적합한 점도로 조정된다. 이 점도에 의해, 점착제 조성물층의 두께가 조정될 수 있다.The solvent (S2) may be included in the pressure-sensitive adhesive composition. This solvent (S2) may be used as a dilution solvent for adjusting the viscosity of an adhesive composition. By solvent (S2), the viscosity of an adhesive composition is adjusted to the viscosity suitable for application | coating to a base material etc .. By this viscosity, the thickness of an adhesive composition layer can be adjusted.

용매(S2)로서, 톨루엔, 초산에틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 초산부틸, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.Toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl acetate, butyl cellosolve, propylene glycol n-propyl ether, propylene glycol n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are used as the solvent (S2). Can be mentioned.

본 발명에서는, 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 용매(S2)는, 톨루엔 및/또는 초산에틸인 것이 바람직한 것이 판명되었다. 본 발명에서는, 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 용매(S2)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이고, 또한, 용매(S1)가 톨루엔 및/또는 초산에틸인 것이 보다 바람직한 것이 판명되었다. 또한, 본 발명에서는, 용매(S1)와 용매(S2)가 동일한 것이 바람직한 것이 판명되었다.In the present invention, from the viewpoint of the durability of the dimonium salt, it has been found that the solvent (S2) is preferably toluene and / or ethyl acetate. In the present invention, from the viewpoint of the durability of the dimonium salt, it has been found that the solvent (S2) is toluene and / or ethyl acetate, and the solvent (S1) is more preferably toluene and / or ethyl acetate. Moreover, in this invention, it turned out that it is preferable that solvent (S1) and solvent (S2) are the same.

5. 용매(S3) 및 용해도(Y)의 측정방법5. Measurement method of solvent (S3) and solubility (Y)

바람직한 점착제 조성물은, 용매(S3)와, 이 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 디이모늄염을 포함한다. 이 용매(S3)는, 용해도(Y)의 측정에 사용된다.Preferable adhesive composition contains solvent (S3) and the dimonium salt whose solubility (Y) with respect to this solvent (S3) is less than 0.01 mass%. This solvent (S3) is used for the measurement of solubility (Y).

용매(S3)는, 사용되는 디이모늄염에 의해 각종 선택될 수 있다. 용매(S3)의 예로서, 톨루엔, 초산에틸, 크실렌, 초산부틸 및 메틸시클로헥산이 예시된다. 톨루엔 및/또는 초산에틸이 특히 바람직하다.The solvent (S3) can be variously selected by the dimonium salt used. Toluene, ethyl acetate, xylene, butyl acetate, and methylcyclohexane are illustrated as an example of the solvent (S3). Toluene and / or ethyl acetate are particularly preferred.

이 용매(S3)는, 상기 용매(S2)와 마찬가지로, 희석용매로서 이용되어도 된다. 상기 용매(S2)로서 바람직한 용매가, 용매(S3)로서도 바람직하다. 상기 용매(S1)로서 바람직한 용매가, 용매(S3)로서도 바람직하다.This solvent (S3) may be used as a diluting solvent similarly to the said solvent (S2). A solvent preferable as the solvent (S2) is also preferable as the solvent (S3). A solvent preferable as the solvent (S1) is also preferable as the solvent (S3).

[용해도(Y)의 측정방법][Measuring method of solubility (Y)]

디이모늄염의 함유 비율이 0.01 질량%, 0.1 질량%, 1.0 질량%, 2.0 질량% 및 5.0 질량%인 5종류의 샘플을 조정하여, 각각 초음파 교반한다. 교반시간은 30분 이상이 되고, 용매의 온도는 25℃가 된다. 다음으로, 각 샘플의 각각에 대해서, 잔사가 있는지 여부를 확인한다. 잔사는, 여과 후의 여과지 상에 잔사가 있는지 여부를 육안으로 관찰함으로써 확인한다. 잔사의 유무에 따라, 용해도(Y)가 결정된다. 5.0 질량%의 샘플(및 다른 샘플)에 잔사가 확인되지 않은 경우, 「용해도(Y)가 5 질량% 이상이다」라고 판단된다. 0.01 질량%의 샘플(및 다른 샘플)에 잔사가 확인된 경우, 「용해도(Y)가 0.01 질량% 미만이다」라고 판단된다. 0.1 질량%의 샘플에 잔사가 확인되고 또한 0.01 질량%의 샘플에 잔사가 확인되지 않은 경우, 「용해도(Y)가 0.01 질량% 이상 0.1 질량% 미만이다」라고 판단된다.Five kinds of samples whose content ratio of dimonium salt is 0.01 mass%, 0.1 mass%, 1.0 mass%, 2.0 mass%, and 5.0 mass% are adjusted, and ultrasonically stirred respectively. The stirring time is 30 minutes or more, and the temperature of the solvent is 25 ° C. Next, about each sample, it is confirmed whether there is a residue. The residue is confirmed by visually observing whether or not there is a residue on the filter paper after filtration. The solubility (Y) is determined by the presence or absence of a residue. When no residue is confirmed in a 5.0 mass% sample (and other samples), it is judged that "solubility (Y) is 5 mass% or more". When a residue is confirmed by 0.01 mass% of samples (and other samples), it is judged that "solubility (Y) is less than 0.01 mass%". When a residue is confirmed by the 0.1 mass% sample and a residue is not confirmed by the 0.01 mass% sample, it is judged that "solubility (Y) is 0.01 mass% or more and less than 0.1 mass%".

6. 희석용매6. Diluent Solvent

근적외선 흡수 점착제 조성물에는, 희석용매가 포함되어 있어도 된다. 이 희석용매는, 상기 용매[용매(S1), (S2), (S3), (S4) 및 (Sm)] 중 어느 하나여도 된다. 이 희석용매는, 상기 용매(S1), (S2), (S3), (S4) 및 (Sm)으로부터 선택되는 2종 이상이어도 된다. 또한, 희석용매는, 상기 용매[용매(S1), (S2), (S3), (S4) 및 (Sm)] 이외의 용매여도 된다. 희석용매에 의해, 점착제 조성물의 점도가, 기재 등으로의 도포에 적합한 점도로 조정될 수 있다. 이 점도에 의해, 점착제 조성물층의 두께가 조정될 수 있다.The dilute solvent may be contained in the near-infrared absorption adhesive composition. The diluting solvent may be any of the solvents (solvent (S1), (S2), (S3), (S4) and (Sm)). 2 or more types chosen from said solvent (S1), (S2), (S3), (S4), and (Sm) may be sufficient as this dilution solvent. The diluent solvent may be a solvent other than the solvents (solvent (S1), (S2), (S3), (S4) and (Sm)). By dilution solvent, the viscosity of an adhesive composition can be adjusted to the viscosity suitable for application | coating to a base material etc .. By this viscosity, the thickness of an adhesive composition layer can be adjusted.

희석용매로서, 톨루엔, 초산에틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 초산부틸, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.Toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl acetate, butyl cellosolve, propylene glycol n-propyl ether, propylene glycol n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. are mentioned as a diluting solvent. have.

디이모늄염의 내구성의 관점에서, 희석용매는, 톨루엔 및/또는 초산에틸인 것이 바람직하다. From the viewpoint of the durability of the dimonium salt, the diluting solvent is preferably toluene and / or ethyl acetate.

또한, 희석용매는 사용되지 않아도 된다. 예를 들면, 후술하는 혼합물(M1)에 포함되는 용매만으로, 근적외선 흡수 점착제 조성물의 점도가 적절히 조정되어도 된다.In addition, the diluent solvent does not need to be used. For example, only the solvent contained in the mixture (M1) mentioned later may adjust suitably the viscosity of a near-infrared absorption adhesive composition.

7. 근적외선 흡수 혼합물(이하, 혼합물(M1)이라고도 한다)7. Near infrared absorption mixture (hereinafter also referred to as mixture M1)

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물의 제조방법은, 디이모늄염과 용매(Sm)가 혼합되어 혼합물(M1)이 제작되는 제1 공정과, 이 혼합물(M1)이 수지(B)(후술)에 혼합되는 제2 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 바람직한 용매(Sm)는, 상기 용매(S1) 또는 상기 용매(S3)이다. 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 이 용매(Sm)는, 톨루엔 및/또는 초산에틸인 것이 바람직한 것이 판명되었다. 또한, 디이모늄염의 내구성의 관점에서, 이 용매(Sm)는, 근적외선 흡수 점착제 조성물의 희석용매와 동일한 것이 바람직하다. The manufacturing method of the near-infrared absorption adhesive composition of this invention is the 1st process of mixing a dimonium salt and a solvent (Sm), and producing a mixture (M1), and this mixture (M1) is mixed with resin (B) (described later). It is preferable to include the 2nd process which becomes. Preferable solvent Sm is the said solvent (S1) or the said solvent (S3). In view of the durability of the dimonium salt, it was found that this solvent (Sm) is preferably toluene and / or ethyl acetate. Moreover, it is preferable that this solvent (Sm) is the same as the dilution solvent of a near-infrared absorption adhesive composition from a viewpoint of the durability of a dimonium salt.

혼합물(M1)의 제조방법으로서, 디이모늄염을 분쇄하기 위한 입자를 사용한 방법이 예시된다. 이 제조방법으로서, 상기 디이모늄 색소(A1)의 미세화의 방식으로서 나타내어진 것과 동일한, 습식 및 건식의 방법이 채용 가능하다. 예를 들면, 지르코니아 입자를 사용한 혼합물(M1)의 제조방법으로서, 디이모늄 색소와 용매(S4)와 지르코니아 비드가 혼합되어 되는 액상 혼합물을 만들고, 이 액상 혼합물을 용기 내에서 진탕한 후, 지르코니아 비드를 분리하는 방법이 예시된다. 바람직한 상기 용매(S4)로서, 분쇄 대상인 디이모늄염을 사용하여 상기 방법으로 측정된 흡광도(X)가 0.5 이하가 되는 용매(S1)를 들 수 있다. 바람직한 상기 용매(S4)로서, 분쇄 대상인 디이모늄염을 사용하여 상기 방법으로 측정된 용해도(Y)가 0.01% 미만이 되는 용매(S3)를 들 수 있다.As a manufacturing method of the mixture M1, the method using the particle | grains for grind | pulverizing a dimonium salt is illustrated. As this manufacturing method, the same wet and dry methods as those shown as the method of miniaturization of the said dimonium pigment | dye (A1) can be employ | adopted. For example, as a method for producing a mixture (M1) using zirconia particles, a liquid mixture in which a dimonium pigment, a solvent (S4) and zirconia beads are mixed is made, and the liquid mixture is shaken in a container, followed by zirconia A method of separating the beads is illustrated. As said preferable solvent (S4), the solvent (S1) by which the absorbance (X) measured by the said method using the dimonium salt which is a grinding | pulverization object becomes 0.5 or less is mentioned. As said preferable solvent (S4), the solvent (S3) by which the solubility (Y) measured by the said method using the dimonium salt which is grind | pulverization object becomes less than 0.01% is mentioned.

근적외선 흡수능의 관점에서, 이 혼합물(M1)에 있어서의 디이모늄염의 배합량은, 3 질량% 이상이 바람직하고, 4 질량% 이상이 보다 바람직하며, 5 질량% 이상이 특히 바람직하다. 취급의 점도의 관점에서, 이 혼합물(M1)에 있어서의 디이모늄염의 배합량은, 95 질량% 이하가 바람직하다. 또한, 이 디이모늄염의 배합량은, 혼합물(M1)의 질량에 대한, 이 혼합물(M1)에 배합된 디이모늄염의 질량의 비율로 표시된다.From the viewpoint of the near infrared absorptivity, the blending amount of the dimonium salt in this mixture (M1) is preferably 3 mass% or more, more preferably 4 mass% or more, particularly preferably 5 mass% or more. From the viewpoint of the viscosity of the handling, the blending amount of the dimonium salt in this mixture (M1) is preferably 95 mass% or less. In addition, the compounding quantity of this dimonium salt is represented by the ratio of the mass of the dimonium salt mix | blended with this mixture M1 with respect to the mass of the mixture M1.

일단 혼합물(M1)이 만들어진 후, 이 혼합물(M1)을 후술하는 수지(B)와 혼합함으로써, 근적외선 흡수 점착제 조성물 중에 있어서의 디이모늄염의 분상상태가 개선된다. 그 이유는, 수지(B)가 분산제로서 기여하고 있기 때문으로 생각된다.After the mixture M1 is once formed, the mixture M1 is mixed with a resin (B) described later to improve the phase separation state of the dimonium salt in the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition. The reason is considered that resin (B) contributes as a dispersing agent.

또한, 상기 혼합물(M1)에는, 각종 첨가제가 첨가되어도 되는 이 첨가제로서, 음이온성, 양이온성 또는 비이온성의 계면활성제나 고분자계 분산제 등을 들 수 있다.Moreover, anionic, cationic, or nonionic surfactant, a polymeric dispersing agent, etc. are mentioned as this additive which various additives may be added to the said mixture M1.

8. 수지(B)8. Resin (B)

본 발명의 수지(B)는, 유리 전이 온도가 0℃ 이하의 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 본 발명의 수지(B)는, 점착성을 가지고 있다. 이 점착성은, 근적외선 흡수 점착제 조성물과 피착체의 직접적인 접착을 가능하게 한다. 접착제를 개재시키지 않고, 근적외선 흡수 점착제 조성물과 피착체가 접착될 수 있다. 본원에 있어서, 이 수지(B)를 점착제 수지라고도 한다.Resin (B) of this invention will not be specifically limited if glass transition temperature is 0 degrees C or less. Resin (B) of this invention has adhesiveness. This adhesiveness enables direct adhesion of the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition and the adherend. The near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition and the adherend can be adhered without interposing the adhesive. In this application, this resin (B) is also called adhesive resin.

8-1. 유리 전이 온도8-1. Glass transition temperature

피착체로의 점착성을 부여하는 관점에서, 점착제 수지(B)의 유리 전이 온도는, 0℃ 이하가 바람직하고, -10℃ 이하가 보다 바람직하며, -20℃ 이하가 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 -30℃ 이하이다. 0℃보다도 높은 경우, 점착성이 부족한 경우가 있다. 유리 전이 온도는 시차주사열량계(Differential Scanning Calorimeter)나 동적 점탄성 측정에 의해 손실정접(tanδ)의 극대치 온도를 구함으로써도 얻어지나, 본원에서 말하는 유리 전이 온도는, 하기의 Fox의 식에 의해 구해지는 계산 유리 전이 온도를 의미한다. 수지(B)의 중합에 사용되는 단량체는, 하기 식으로 표시되는 Fox의 식을 사용하여 계산된 계산 유리 전이 온도 Tg가 소정의 값을 만족하고 있으면 특별히 한정되지 않는다. From a viewpoint of providing adhesiveness to a to-be-adhered body, 0 degrees C or less is preferable, as for the glass transition temperature of an adhesive resin (B), -10 degrees C or less is more preferable, -20 degrees C or less is more preferable, More preferably, It is -30 degrees C or less. When it is higher than 0 degreeC, adhesiveness may be insufficient. The glass transition temperature is also obtained by obtaining the maximum temperature of the loss tangent (tanδ) by differential scanning calorimeter or dynamic viscoelasticity measurement, but the glass transition temperature referred to herein is determined by the following Fox equation. Calculated means glass transition temperature. The monomer used for the polymerization of the resin (B) is not particularly limited as long as the calculated glass transition temperature Tg calculated using the formula of Fox represented by the following formula satisfies a predetermined value.

1/(Tg+273)=Σ[Wi/(Tgi+273)] : Fox의 식1 / (Tg + 273) = Σ [Wi / (Tgi + 273)]: Fox expression

Tg(℃) : 계산 유리 전이 온도Tg (° C.): Calculated glass transition temperature

Wi : 각 단량체의 중량분율Wi: weight fraction of each monomer

Tgi(℃) : 각 단량체 성분의 단독 중합체의 유리 전이 온도 Tgi (° C.): glass transition temperature of homopolymer of each monomer component

8-2. 산가8-2. Acid

점착제 수지(B)에는, 피착체와의 밀착성 향상 및 점착력 증대를 목적으로, 아크릴산 등의 카르복실기 함유 단량체가 공중합되는 것이 일반적이다. 단, 카르복실기 등의 관능기는 디이모늄 색소를 열화시키기 때문에, 점착제 수지(B)의 산가는 300 이하가 바람직하고, 100 이하가 보다 바람직하며, 80 이하가 더욱 바람직하다. 디이모늄염의 내구성의 관점에서는, 점착제 수지(B)의 산가는, 0 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하며, 10 이상이 더욱 바람직하다. 「산가」란, 점착제 수지 1 g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 ㎎량을 말한다. 산가의 측정방법의 상세는 후술된다.It is common for adhesive resin (B) to copolymerize carboxyl group-containing monomers, such as acrylic acid, for the purpose of improving adhesiveness with a to-be-adhered body, and increasing adhesive force. However, since functional groups, such as a carboxyl group, deteriorate a dimonium pigment | dye, 300 or less are preferable, as for the acid value of adhesive resin (B), 100 or less are more preferable, and 80 or less are still more preferable. From the viewpoint of the durability of the dimonium salt, 0 or more is preferable, as for the acid value of adhesive resin (B), 5 or more are more preferable, and 10 or more are more preferable. An "acid value" means the amount of mg of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the adhesive resin. The detail of the acid value measuring method is mentioned later.

예를 들면, 후술되는 투명기재가 유리인 경우, 유리 표면(유리와 근적외선 흡수 점착제 조성물층의 계면)에서는, 다음의 (반응 1)이 일어나고 있다고 추측되고 있다. 유리 중의 Na+ 이온은 확산에 의해 유리 표면으로 나오는 것으로 생각되고 있다. 이 Na+ 이온은, 근적외선 흡수 점착제 조성물 중에 존재하는 H2O(또는 점착제 조성물의 도포 전에 유리 표면에 부착되어 있던 H2O)와 반응하여, NaOH가 생성되는 것으로 생각된다.For example, when the transparent base material mentioned later is glass, it is inferred that the following (reaction 1) occurs on the glass surface (interface of glass and a near-infrared absorption adhesive composition layer). Na + ions in the glass are thought to come out of the glass surface by diffusion. The Na + ions, reacts with H 2 O (or H 2 O before applying the pressure-sensitive adhesive composition adhering to the glass surface) present in the near infrared absorbing pressure-sensitive adhesive composition, it is believed that NaOH is generated.

(반응 1) Na+ + H2O → NaOH + H+(유리 내부로)(Reaction 1) Na + + H 2 O → NaOH + H + (into glass)

이 NaOH는 디이모늄염을 열화시킨다. 수지(B)에 카르복실기가 존재하는 경우, 이 카르복실기가 Na+를 트랩한다. 이 트랩에 의해, NaOH의 생성이 억제되어, 디이모늄염의 열화가 억제되는 것으로 생각된다. 특히, 내습열성의 평가에서는, H2O가 많이 존재하기 때문에, 상기 반응 1이 일어나기 쉽다. 따라서, 특히 내습열성의 관점에서는, 상기 산가는 큰 편이 바람직하고, 구체적으로는, 전술한 바와 같이, 0 이상이 바람직하며, 5 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하다.This NaOH degrades the dimonium salt. When a carboxyl group exists in resin (B), this carboxyl group traps Na <+> . It is thought that this trap suppresses production of NaOH and suppresses deterioration of the dimonium salt. In particular, in the evaluation of moisture-heat resistance, since much H 2 O exists, the reaction 1 is likely to occur. Therefore, especially from a viewpoint of moisture-and-moisture resistance, the larger the acid value is preferable, specifically, as mentioned above, 0 or more are preferable, 5 or more are more preferable, and 10 or more are more preferable.

한편, 수지(B)의 산가가 과도하게 높은 경우, 수지(B)에 대한 디이모늄염의 용해도가 증가되어, 회합체(X)가 감소하기 쉽다. 따라서, 특히 고온에서의 내구성을 평가하는 내열성의 관점에서는, 상기 산가는 작은 편이 바람직하고, 구체적으로는, 전술한 바와 같이, 300 이하가 바람직하고, 100 이하가 보다 바람직하며, 80 이하가 더욱 바람직하다.On the other hand, when the acid value of resin (B) is excessively high, solubility of the dimonium salt with respect to resin (B) increases, and association | aggregate (X) tends to decrease. Therefore, especially from the viewpoint of the heat resistance which evaluates durability at high temperature, the said acid value is smaller one, and specifically, as mentioned above, 300 or less are preferable, 100 or less are more preferable, 80 or less is more preferable. Do.

후술하는 바와 같이, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물로 되는 근적외선 흡수층을 갖는 광학 필터의 경우는, 금속층을 포함하는 전자파 차폐층이 이 근적외선 흡수층에 적층되는 경우가 있다. 특히, 이 금속층이 근적외선 흡수층에 적층되는 경우에는, 디이모늄염의 열화가 억제되어, 색소, 금속층 및 점착제의 변색이 방지될 수 있다는 관점에서, 수지(B)의 산가는 35 이하가 특히 바람직하다. 디이모늄염의 분산상태가 개선된다는 관점에서, 이 산가는 0 이상이 바람직하다.As mentioned later, in the case of the optical filter which has a near-infrared absorption layer which becomes the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, the electromagnetic wave shielding layer containing a metal layer may be laminated | stacked on this near-infrared absorption layer. In particular, when the metal layer is laminated on the near infrared absorbing layer, the acid value of the resin (B) is particularly preferably 35 or less from the viewpoint that deterioration of the dimonium salt can be suppressed and discoloration of the dye, the metal layer, and the adhesive can be prevented. . From the viewpoint of improving the dispersion state of the dimonium salt, this acid value is preferably zero or more.

8-3. 계산 용해성 파라미터8-3. Calculation Solubility Parameter

점착제 수지(B)의 계산 용해성 파라미터가 높은 경우에는 디이모늄 색소의 내구성이 떨어지는 경우가 있기 때문에, 용해성 파라미터는 10.2 이하인 것이 바람직하다. 계산 용해성 파라미터는, 「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE」(1974년, Vol.14, No.2)의 147 페이지~154 페이지에 기재된 방법에 의해 계산되는 값이다. 이하에 그 방법을 개략적으로 설명한다.When the calculation solubility parameter of an adhesive resin (B) is high, since the durability of a dimonium pigment | dye may be inferior, it is preferable that a solubility parameter is 10.2 or less. The calculated solubility parameter is a value calculated by the method described in pages 147 to 154 of "POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE" (1974, Vol. 14, No. 2). The method is outlined below.

단독 중합체의 용해성 파라미터(δ)는, 그 중합체를 형성하고 있는 구성 단위의 증발 에너지(△ei) 및 몰 체적(△vi)을 토대로, 하기 식의 계산법에 의해 산출된다.The solubility parameter (δ) of a homopolymer is calculated by the calculation method of the following formula based on the evaporation energy (Δei) and molar volume (Δvi) of the structural unit which forms the polymer.

Figure pct00003
Figure pct00003

△ei: i 성분의 원자 또는 원자단의 증발 에너지Δei: evaporation energy of atom or atom group of component i

△vi: i 성분의 원자 또는 원자단의 몰 체적Δvi: molar volume of atoms or atom groups of component i

공중합체의 용해성 파라미터는, 그 공중합체를 구성하는 각 구성 단량체의 증발 에너지에 몰 분율을 곱하여 합산한 것(Σ△Ei)을, 각 구성 단량체의 몰 체적에 몰 분율을 곱하여 합산한 것(Σ△Vi)으로 나눠, 1/2승을 취함으로써 산출된다. The solubility parameter of the copolymer is a product obtained by multiplying the evaporation energy of each constituent monomer constituting the copolymer by multiplying the mole fraction (ΣΔEi) by multiplying the mole volume of each constituent monomer by the mole fraction (Σ It is calculated by dividing by ΔVi) and taking the power of 1/2.

8-4. 공중합체 조성8-4. Copolymer composition

점착제 수지(B)는 공중합체여도 된다. 점착제 수지(B)는, 수산기를 함유하는 (메타)아크릴산 에스테르와 다른 화합물의 공중합체인 것이 바람직하다. 더 나아가서는, 디이모늄 색소의 내구성의 관점에서, 점착제 수지(B)는, 지환식, 다환성 지환식, 방향환식 또는 다환성 방향환식의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르가 5~40 질량% 공중합된 공중합체인 것이 바람직하다. 디이모늄 색소의 내구성이 향상되는 이유는 불명확하지만, 이들 지환식, 다환성 지환식, 방향환식, 다환성 방향환식의 알킬기 부분과 디이모늄 색소가 스타킹 구조를 취함으로써, 내열성과 내습열성을 향상시키는 것으로 생각된다.Copolymer may be sufficient as adhesive resin (B). It is preferable that adhesive resin (B) is a copolymer of the (meth) acrylic acid ester containing a hydroxyl group, and another compound. Furthermore, from the viewpoint of the durability of a dimonium pigment | dye, adhesive resin (B) has 5-40 mass of (meth) acrylic acid ester which has an alicyclic, polycyclic alicyclic, an aromatic ring, or a polycyclic aromatic ring alkyl group. It is preferred that it is% copolymer copolymerized. Although the reason why the durability of a dimonium pigment | dye improves is unclear, these alicyclic, polycyclic alicyclic, aromatic ring, and polycyclic aromatic ring alkyl group part and dimonium pigment | dye take a stocking structure, and it is heat resistance and heat and moisture resistance It is thought to improve.

바람직하게는, 상기 수지(B)가, 하기 단량체(p1)~(p3)를 공중합해서 되는 수지이다.Preferably, the said resin (B) is resin which copolymerizes the following monomer (p1)-(p3).

(p1) 탄소수가 1 이상 12 이하인 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르(p1) (meth) acrylic acid esters having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms

(p2) 관능기 함유 모노머 (p2) Functional group containing monomer

(p3) 기타 공중합 가능한 단량체 (p3) other copolymerizable monomers

단량체의 바람직한 비율은, (p1)의 (메타)아크릴산 에스테르가 60 질량% 이상 99.9 질량% 이하이고, (p2)의 관능기 함유 모노머가 0.1 질량% 이상 20 질량% 이하이며, (p3)의 기타 공중합 가능한 단량체가 0 질량% 이상 30 질량% 이하이다. 보다 바람직하게는, (p2)의 관능기 함유 모노머의 비율은, 0.1 질량% 이상 10 질량% 이하이다. The preferred proportion of the monomer is 60% by mass to 99.9% by mass of the (meth) acrylic acid ester of (p1), 0.1% by mass to 20% by mass of the functional group-containing monomer of (p2), and other copolymerization of (p3). Possible monomers are 0 mass% or more and 30 mass% or less. More preferably, the ratio of the functional group containing monomer of (p2) is 0.1 mass% or more and 10 mass% or less.

디이모늄 색소의 내구성의 관점에서, 보다 바람직하게는, 상기 단량체(p1)에 있어서의 알킬기는, 직쇄형, 분지형 및 지환식의 알킬기이다.From the viewpoint of the durability of the dimonium pigment | dye, More preferably, the alkyl group in the said monomer (p1) is a linear, branched, and alicyclic alkyl group.

상기 (p1)의 (메타)아크릴산 에스테르의 예로서, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, i-옥틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, n-노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, n-데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, n-도데실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. As an example of the (meth) acrylic acid ester of said (p1), methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl ( Meta) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, i-octyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dish Clofentanil (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-dodecyl (meth) acrylic The rate etc. are mentioned.

상기 (p2)의 관능기 함유 모노머로서, 수산기 또는 카르복실기 함유 모노머가 바람직하고, 수산기 또는 카르복실기 함유 (메타)아크릴 모노머가 보다 바람직하다. 디이모늄 색소의 내구성의 관점에서, 카르복실기 함유 (메타)아크릴 모노머가 바람직하다. 카르복실기 함유 (메타)아크릴 모노머의 카르복실기는 가교점이 된다. 따라서, 카르복실기 함유 (메타)아크릴 모노머의 배합량으로, 점착성의 조정이 가능하다. 또한, 다른 이유에 의해, 카르복실기 함유 (메타)아크릴 모노머의 카르복실기는, 내구성의 향상에 기여하고 있는 것으로 생각된다. 그 이유의 상세는, 전술한 바와 같다.As a functional group containing monomer of said (p2), a hydroxyl group or a carboxyl group-containing monomer is preferable, and a hydroxyl group or a carboxyl group-containing (meth) acryl monomer is more preferable. From the viewpoint of the durability of the dimonium pigment | dye, a carboxyl group-containing (meth) acryl monomer is preferable. The carboxyl group of a carboxyl group-containing (meth) acryl monomer becomes a crosslinking point. Therefore, adhesive adjustment is possible with the compounding quantity of a carboxyl group-containing (meth) acryl monomer. Moreover, it is thought that the carboxyl group of a carboxyl group-containing (meth) acryl monomer contributes to the improvement of durability for another reason. The detail of the reason is as above-mentioned.

카르복실기 함유 (메타)아크릴 모노머로서, 아크릴산 및 메타크릴산이 바람직하게 사용된다.As the carboxyl group-containing (meth) acrylic monomer, acrylic acid and methacrylic acid are preferably used.

수산기 함유 (메타)아크릴 모노머의 예로서, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 수산기 함유 (메타)아크릴 모노머의 수산기는, 가교점이 될 수 있다. 따라서, 수산기 함유 (메타)아크릴 모노머는, 점착물성의 조정에 기여한다. 상기 (p2)가 수산기 함유 (메타)아크릴 모노머인 경우, 이 수산기 함유 (메타)아크릴 모노머의 비율은, 모노머 전량에 대해, 0.1 질량% 이상 10 질량% 이하가 특히 바람직하다.Examples of hydroxyl group-containing (meth) acryl monomers include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like. The hydroxyl group of a hydroxyl-containing (meth) acryl monomer can be a crosslinking point. Therefore, a hydroxyl-containing (meth) acryl monomer contributes to adjustment of adhesive property. When said (p2) is a hydroxyl-containing (meth) acryl monomer, the ratio of this hydroxyl-containing (meth) acryl monomer is especially preferable 0.1 mass% or more and 10 mass% or less with respect to monomer whole quantity.

상기 (p3)의, 기타 공중합 가능한 단량체로서, 벤질(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 밖에, 상기 (p3)의 예로서, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에톡시에틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트류; α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 스티렌 등으로 대표되는 스티렌계 단량체; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르 등으로 대표되는 비닐에테르계 단량체; 푸마르산; 푸마르산의 모노알킬에스테르; 푸마르산의 디알킬에스테르; 말레산; 말레산의 모노알킬에스테르; 말레산의 디알킬에스테르; 이타콘산; 이타콘산의 모노알킬에스테르; 이타콘산의 디알킬에스테르; (메타)아크릴로니트릴; 염화비닐; 염화비닐리덴; 초산비닐; 비닐케톤; 비닐피리딘; 비닐카르바졸 등을 들 수 있다. 또한, 카르복실기, 옥사졸리닐기, 피롤리도닐기, 플루오로알킬기 등의 관능기를 갖는 단량체도, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 공중합해도 된다. As the other copolymerizable monomer of (p3), benzyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate , Phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, and the like. . In addition, as an example of said (p3), (meth) acrylates, such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, and ethoxy ethoxyethyl (meth) acrylate; styrene monomers such as α-methylstyrene, vinyltoluene, styrene, and the like; Vinyl ether monomers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether and isobutyl vinyl ether; Fumaric acid; Monoalkyl esters of fumaric acid; Dialkyl esters of fumaric acid; Maleic acid; Monoalkyl esters of maleic acid; Dialkyl esters of maleic acid; Itaconic acid; Monoalkyl esters of itaconic acid; Dialkyl esters of itaconic acid; (Meth) acrylonitrile; Vinyl chloride; Vinylidene chloride; Vinyl acetate; Vinyl ketones; Vinylpyridine; Vinyl carbazole and the like. Moreover, you may copolymerize the monomer which has functional groups, such as a carboxyl group, an oxazolinyl group, a pyrrolidoneyl group, and a fluoroalkyl group, in the range which does not impair the objective of this invention.

보다 바람직한 점착제 수지(B)는, 하기 (m1)~(m4)를 공중합해서 되는 수지이다. More preferable adhesive resin (B) is resin obtained by copolymerizing following (m1)-(m4).

(m1) 지환식, 다환성 지환식, 방향환식 또는 다환성 방향환식의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르. (m1) (meth) acrylic acid ester which has an alicyclic, polycyclic alicyclic, aromatic or polycyclic aromatic ring alkyl group.

(m2) 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르. 단, 이 알킬기는, 직쇄형 또는 분지형이고, 이 알킬기의 탄소수는 1 이상 10 이하이다. (m2) (meth) acrylic acid ester which has an alkyl group. However, this alkyl group is linear or branched, and carbon number of this alkyl group is 1 or more and 10 or less.

(m3) 관능기 함유 모노머(m3) Functional group containing monomer

(m4) 기타 공중합 가능한 단량체. (m4) Other copolymerizable monomers.

공중합체의 수지(B)에 있어서, 단량체의 바람직한 비율은, (m1)의 (메타)아크릴산 에스테르가 5 질량% 이상 40 질량% 이하이고, (m2)의 (메타)아크릴산 에스테르가 60 질량% 이상 95 질량% 이하이며, (m3)의 관능기 함유 모노머가 0.1 질량% 이상 20 질량% 이하이고, (m4)의 기타 단량체가 0 질량% 이상 20 질량% 이하이다. In resin (B) of a copolymer, the preferable ratio of a monomer is 5 mass% or more and 40 mass% or less of (meth) acrylic acid ester of (m1), and 60 mass% or more of (meth) acrylic acid ester of (m2) 95 mass% or less, the functional group containing monomer of (m3) is 0.1 mass% or more and 20 mass% or less, and the other monomer of (m4) is 0 mass% or more and 20 mass% or less.

상기 (m1)의 (메타)아크릴산 에스테르의 예로서는, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. As an example of the (meth) acrylic acid ester of said (m1), cyclohexyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl Oxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (Meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, etc. are mentioned.

상기 (m2)의 (메타)아크릴산 에스테르의 예로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, i-옥틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. As an example of the (meth) acrylic acid ester of said (m2), methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, i-octyl (meth) acrylate, etc. are mentioned.

상기 (m3)의 관능기 함유 모노머로서는, 상기 (p2)의 관능기 함유 모노머로서 예시된 것을 들 수 있다.As a functional group containing monomer of said (m3), the thing illustrated as a functional group containing monomer of said (p2) is mentioned.

상기 (m4)의 단량체의 예로서는, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에톡시에틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트류; α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 스티렌 등으로 대표되는 스티렌계 단량체; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르 등으로 대표되는 비닐에테르계 단량체; 푸마르산; 푸마르산의 모노알킬에스테르; 푸마르산의 디알킬에스테르; 말레산; 말레산의 모노알킬에스테르; 말레산의 디알킬에스테르; 이타콘산; 이타콘산의 모노알킬에스테르; 이타콘산의 디알킬에스테르; (메타)아크릴로니트릴; 염화비닐; 염화비닐리덴; 초산비닐; 비닐케톤; 비닐피리딘; 비닐카르바졸 등을 들 수 있다. Examples of the monomer of (m4) include (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, and ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate; styrene monomers such as α-methylstyrene, vinyltoluene, styrene, and the like; Vinyl ether monomers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether and isobutyl vinyl ether; Fumaric acid; Monoalkyl esters of fumaric acid; Dialkyl esters of fumaric acid; Maleic acid; Monoalkyl esters of maleic acid; Dialkyl esters of maleic acid; Itaconic acid; Monoalkyl esters of itaconic acid; Dialkyl esters of itaconic acid; (Meth) acrylonitrile; Vinyl chloride; Vinylidene chloride; Vinyl acetate; Vinyl ketones; Vinylpyridine; Vinyl carbazole and the like.

점착제 수지(B)의 중합에 사용되는 개시제로서, 과산화물계, 아조계 등, 시판의 것을 사용할 수 있다. 과산화물계의 개시제로서는, 퍼부틸 O, 퍼헥실 O(모두 일본 유지 제조) 등의 퍼옥시에스테르계; 퍼로일 L, 퍼로일 O(모두 일본 유지 제조) 등의 퍼옥시디카보네이트계; 나이퍼 BW, 나이퍼 BMT(모두 일본 유지 제조) 등의 디아실퍼옥사이드계; 퍼헥사 3M, 퍼헥사 MC(모두 일본 유지 제조) 등의 퍼옥시케탈계; 퍼부틸 P, 퍼쿠밀 D(모두 일본 유지 제조) 등의 디알킬퍼옥사이드계; 퍼쿠밀 P, 퍼멘타 H(모두 일본 유지 제조) 등의 하이드로퍼옥사이드계 등을 들 수 있다. 아조계의 개시제로서는 ABN-E, ABN-R, ABN-V(모두 일본 히드라진 공업 제조) 등을 들 수 있다. As an initiator used for superposition | polymerization of adhesive resin (B), commercially available things, such as a peroxide type and an azo type, can be used. As an initiator of a peroxide type | system | group, peroxy ester type, such as perbutyl O and perhexyl O (all are manufactured by Japanese fats and oils); Peroxydicarbonates such as peroyl L and peroyl O (both manufactured by Japanese fats and oils); Diacyl peroxides such as Naiper BW and Naiper BMT (all manufactured by Japanese Fats and Oils); Peroxy ketal system, such as per hexa 3M and per hexa MC (all are manufactured by Japanese fats and oils); Dialkyl peroxides such as perbutyl P and Percumyl D (both manufactured by Japanese fats and oils); Hydroperoxide systems, such as Percumyl P and Permanta H (all are manufactured by Japanese fats and oils), etc. are mentioned. As an azo initiator, ABN-E, ABN-R, ABN-V (all are manufactured by Nippon Hydrazine Industry), etc. are mentioned.

점착제 수지(B)의 중합시에는 필요에 따라 연쇄 이동제를 사용해도 된다. 연쇄 이동제는 특별히 제약되지 않고, 노멀도데실메르캅탄, 디티오글리콜, 티오글리콜산옥틸, 메르캅토에탄올 등의 티올 화합물 등을 사용할 수 있다.In the case of superposition | polymerization of adhesive resin (B), you may use a chain transfer agent as needed. The chain transfer agent is not particularly limited, and thiol compounds such as normal dodecyl mercaptan, dithioglycol, octyl thioglycolate and mercaptoethanol can be used.

또한, 점착제 수지(B)의 중합은 무용제로 행해도 되고, 유기용제 중에서 행해도 된다. 유기용제 중에서 중합할 때에는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용제; 초산에틸, 초산부틸 등의 에스테르계 용제; 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제; 기타 공지의 유기용제를 사용할 수 있다. 사용하는 유기용제의 종류는 얻어지는 수지의 용해성, 중합온도를 고려해서 결정되나, 건조시의 잔존 용제의 남기 어려운 점에서 톨루엔, 초산에틸, 메틸에틸케톤 등의 비점이 120℃ 이하인 유기용제가 바람직하다. 또한, 디이모늄 색소의 내구성의 관점에서, 디이모늄 색소의 용해도(Y)가 5 질량% 미만인 유기용제가 바람직하고, 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 유기용제가 보다 바람직하다. In addition, superposition | polymerization of adhesive resin (B) may be performed in a non-solvent, and may be performed in the organic solvent. When superposing | polymerizing in an organic solvent, Aromatic solvents, such as toluene and xylene; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Ketone solvents such as methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone; Other known organic solvents can be used. The type of organic solvent to be used is determined in consideration of the solubility of the resin obtained and the polymerization temperature. However, an organic solvent having a boiling point of toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone or the like is preferably 120 ° C. or less in view of the difficulty of remaining of the residual solvent during drying. . Moreover, from the viewpoint of the durability of a dimonium pigment | dye, the organic solvent whose solubility (Y) of a dimonium pigment | dye is less than 5 mass% is preferable, and the organic solvent whose solubility (Y) is less than 0.01 mass% is more preferable.

또한, 점착제 수지(B)는 단일 조성으로 되는 것이어도 되고, 상이한 조성의 폴리머를 복합화한 폴리머 알로이나 폴리머 블렌드여도 된다.In addition, the adhesive resin (B) may be made into a single composition or may be a polymer alloy or a polymer blend obtained by complexing polymers of different compositions.

분지형 수지를 얻기 위해서는 마크로 모노머, 다관능 모노머, 다관능 개시제, 다관능 연쇄 이동제를 사용할 수 있다. 마크로 모노머로서는, AA-6, AA-2, AS-6, AB-6, AK-5(모두 도아 고세이 제조) 등을 사용할 수 있다. 다관능 모노머로서는, 라이트에스엘 EG, 라이트에스엘 1,4BG, 라이트에스테르 NP, 라이트에스테르 TMP(모두 교에이샤 화학사 제조) 등을 들 수 있다. 다관능 개시제로서는, 퍼테트라 A, BTTB-50(모두 일본 유지 제조), 트리고녹스 17-40MB, 퍼카독스 12-XL25(모두 가야쿠 아쿠조 제조) 등을 들 수 있다. 다관능 연쇄 이동제로서는 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(티오글리콜레이트) 등을 사용할 수 있다.In order to obtain branched resin, a macromonomer, a polyfunctional monomer, a polyfunctional initiator, and a polyfunctional chain transfer agent can be used. As the macromonomer, AA-6, AA-2, AS-6, AB-6, AK-5 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), or the like can be used. Examples of the polyfunctional monomers include light SL EG, light SL 1,4BG, light ester NP, light ester TMP (all manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd.), and the like. Examples of the polyfunctional initiator include Pertetra A, BTTB-50 (all manufactured by Japanese fats and oils), Trigonox 17-40MB, Percadox 12-XL25 (all manufactured by Kayaku Akujo), and the like. As the polyfunctional chain transfer agent, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), and the like can be used.

9. 근적외선 흡수 점착제 조성물9. NIR absorption adhesive composition

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물의 경우는, 상기 흡광도(X) 또는 상기 용해도(Y)가 고려된 디이모늄 색소가 사용되고 있기 때문에, 근적외선 흡수능의 지속성이 우수하다. 또한, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 가시영역의 투명성이 우수하다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 점착성을 갖는 수지를 함유하기 때문에, 피착체에 대해 용이하게 접착될 수 있다. In the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, since the dimonium pigment | dye which considered the said absorbance (X) or the said solubility (Y) is used, it is excellent in the sustainability of near-infrared absorption ability. Moreover, this near-infrared absorption adhesive composition is excellent in transparency of a visible region. Since the near-infrared absorption adhesive composition of this invention contains resin which has adhesiveness, it can adhere easily to a to-be-adhered body.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물에는, 다른 근적외선 흡수 색소가 첨가되어도 된다. 병용될 수 있는 다른 근적외선 흡수 색소로서는, 공지의 시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 포르피린계 색소, 금속 디티올 착체계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 디이모늄계 색소, 무기 산화물 입자 등을 들 수 있다.Another near-infrared absorbing pigment may be added to the near-infrared absorption adhesive composition of this invention. Other near-infrared absorbing dyes that can be used in combination include known cyanine dyes, polymethine dyes, squarylium dyes, porphyrin dyes, metal dithiol complex dyes, phthalocyanine dyes, dimonium dyes, inorganic oxide particles and the like. Can be mentioned.

바람직한 다른 색소(디이모늄 색소 이외의 색소)는, 상기 디이모늄 색소에 대해 켄쳐 효과를 나타낼 수 있는 색소이다. 켄쳐 효과란, 여기상태에 있는 활성 분자를 탈여기시키는 효과이다. 본 발명의 경우, 디이모늄 색소 분자, 디이모늄 음이온 또는 디이모늄 양이온을 탈여기하여 안정화시키는 효과를 갖는 다른 색소가 바람직하다. 켄쳐 효과의 관점에서, 이 다른 색소로서, 프탈로시아닌계 색소가 바람직하고, 중심금속이 바나듐인 프탈로시아닌 색소가 특히 바람직하다.Preferred other dyes (dyes other than the dimonium dye) are dyes capable of exhibiting the quencher effect with respect to the dimonium dye. The quencher effect is an effect of de-exciting an active molecule in an excited state. In the case of the present invention, other pigments having the effect of de-exciting and stabilizing a dimonium pigment molecule, a dimonium anion or a dimonium cation are preferable. From the viewpoint of the quencher effect, as this other pigment | dye, a phthalocyanine type pigment | dye is preferable and the phthalocyanine dye whose center metal is vanadium is especially preferable.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 박형 디스플레이용 광학 필터로서 사용하는 경우에는, 상기 디이모늄 색소와 함께 최대 흡수 파장이 800~950 nm인 프탈로시아닌계 색소, 최대 흡수 파장이 800~950 nm인 시아닌계 색소 또는 최대 흡수 파장이 800~950 nm인 금속 디티올 착체계 색소가 병용되는 것이 바람직하다. 이 병용에 의해, 800~1100 nm의 근적외선이 효과적으로 흡수될 수 있다. 내구성이 양호한 근적외선 흡수 점착제 조성물을 얻는 관점에서, 프탈로시아닌 색소가 병용되는 것이 특히 바람직하다. 이 병용에 의해, 차폐되어야 하는 근적외선의 파장영역 모두가 컷트되어, 디이모늄염의 내구성이 향상된다. 디이모늄염의 내구성이 고려되어, 그 산가가 0 이상 35 이하인 수지(B)가 근적외선 흡수 점착제 조성물에 사용되는 경우, 이 병용되는 프탈로시아닌계 색소로서는, 중심금속이 구리인 프탈로시아닌계 화합물이 특히 바람직하다.When using the near-infrared absorption adhesive composition of this invention as an optical filter for thin displays, the phthalocyanine pigment | dye of 800-950 nm of maximum absorption wavelengths and the cyanine system of 800-950 nm of maximum absorption wavelengths are mentioned with the said dimonium pigment | dye. It is preferable to use together a pigment | dye or the metal dithiol complex system pigment | dye of 800-950 nm of maximum absorption wavelengths. By this combination, the near infrared of 800-1100 nm can be absorbed effectively. It is especially preferable that a phthalocyanine pigment is used together from a viewpoint of obtaining a durable near-infrared absorption adhesive composition. By this combination, all the near-infrared wavelength ranges which should be shielded are cut, and the durability of a dimonium salt improves. When durability of a dimonium salt is considered and resin (B) whose acid value is 0-35 is used for a near-infrared absorption adhesive composition, the phthalocyanine type compound whose core metal is copper is especially preferable as this combined phthalocyanine type pigment | dye. .

본 발명에서 사용할 수 있는 프탈로시아닌계 화합물로서는, 근적외선 흡수능이 우수한 것이라면 특별히 제한되지 않고, 공지의 프탈로시아닌계 화합물을 사용할 수 있다. 바람직한 프탈로시아닌계 화합물로서, 하기 화학식 가로 표시되는 화합물, 또는 하기 화학식 나로 표시되는 화합물을 들 수 있다. As a phthalocyanine type compound which can be used by this invention, if it is excellent in near-infrared absorption ability, it will not specifically limit, A well-known phthalocyanine type compound can be used. As a preferable phthalocyanine type compound, the compound represented by the following general formula or the compound represented by the following general formula (B) is mentioned.

[화학식 가로 나타내어지는 프탈로시아닌계 화합물][Phthalocyanine-based compound represented by the formula]

[화학식 가][Formula A]

Figure pct00004
Figure pct00004

상기 화학식 가에 있어서, A1~A16은 관능기를 나타낸다. 상기 화학식 가에 있어서, A1~A16은, 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 히드록시설포닐기, 카르복실기, 티올기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알킬기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알콕시기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴옥시기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬옥시기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알킬티오기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴티오기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬티오기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알킬설포닐기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴설포닐기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬설포닐기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 아실기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 알콕시카르보닐기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴옥시카르보닐기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 아랄킬옥시카르보닐기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 알킬카르보닐옥시기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴카르보닐옥시기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 8~20개의 아랄킬카르보닐옥시기, 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 복소환기, 치환되어 있어도 되는 아미노기, 치환되어 있어도 되는 아미노설포닐기 또는 치환되어 있어도 되는 아미노카르보닐기를 나타낸다. A1~A16의 관능기는 동종(同種) 또는 이종(異種) 중 어느 것이어도 되고, 동종의 경우에 있어서도 동일 또는 상이해도 되며, 관능기끼리가 연결기를 매개로 연결되어 있어도 된다. M1은 2개의 수소원자, 2가의 금속원자, 3가의 치환 금속원자, 4가의 치환 금속원자 또는 옥시금속을 나타낸다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「아실기」란, 일간 공업신문사 발행의 제3판 과학기술용어 대사전의 17 페이지에 기재되는 정의와 동일하고, 구체적으로는, 유기산으로부터 히드록실기가 제거된 기로, 식:RCO-(R은, 지방기, 지환기 또는 방향족기이다)로 표시되는 기이다.In the above formula, A 1 to A 16 represent a functional group. In the above formula (A), A 1 to A 16 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a hydroxylsulfonyl group, a carboxyl group, a thiol group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted, and substituted. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted , Aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted, arylthio group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, or carbon atom having 7 Or 20 aralkylthio groups, optionally substituted alkylsulfonyl groups having 1 to 20 carbon atoms, optionally substituted 6 to 20 arylsulfonyl groups, and optionally substituted Aralkyl sulfonyl group having 7 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted, alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted, and aryloxy having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted A carbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted, an arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, or a substitution An aralkylcarbonyloxy group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted, a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted, an amino group which may be substituted, an aminosulfonyl group which may be substituted, or an aminocarbonyl group which may be substituted Indicates. The functional group of A <1> -A <16> may be any of the same kind, or different types, and may be the same or different also in the case of the same kind, and functional groups may be connected through the coupling group. M 1 represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or an oxymetal. In addition, in this specification, an "acyl group" is the same as the definition described on page 17 of the 3rd edition of the scientific and technical term metabolism issue of the daily industrial newspaper, and specifically, it is group which the hydroxyl group was removed from the organic acid, Formula: RCO- (R is a group represented by an aliphatic group, an alicyclic group, or an aromatic group).

(말단이 아미노기 이외의 관능기인 경우)(When the terminal is a functional group other than an amino group)

상기 화학식 가에 있어서, 관능기 A1~A16의 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 등의 직쇄, 분지 또는 환상(環狀)의 알킬기를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, iso-프로필옥시기, n-부틸옥시기, iso-부틸옥시기, sec-부틸옥시기, t-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 시클로헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 알콕시기를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴옥시기로서는, 페녹시기, 나프톡시기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬기로서는, 벤질기, 페네틸기, 디페닐메틸기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬옥시기로서는, 벤질옥시기, 페네틸옥시기, 디페닐메틸옥시기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알킬티오기로서는, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, n-헥실티오기, 시클로헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기, 2-에틸헥실티오기 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬티오기를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴티오기로서는, 페닐티오기, 나프틸티오기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아랄킬티오기로서는, 벤질티오기, 페네틸티오기, 디페닐메틸티오기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 알킬설포닐기로서는, 메틸설포닐기, 에틸설포닐기, n-프로필설포닐기, iso-프로필설포닐기, n-부틸설포닐기, iso-부틸설포닐기, sec-부틸설포닐기, t-부틸설포닐기, n-펜틸설포닐기, n-헥실설포닐기, 시클로헥실설포닐기, n-헵틸설포닐기, n-옥틸설포닐기, 2-에틸헥실설포닐기, 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬설포닐기를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20개의 아릴설포닐기로서는, 페닐설포닐기, 나프틸설포닐기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 아랄킬설포닐기로서는, 벤질설포닐기, 페네틸설포닐기, 디페닐메틸설포닐기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~20개의 아실기로서는 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기, n-프로필카르보닐기, iso-프로필카르보닐기, n-부틸카르보닐기, iso-부틸카르보닐기, sec-부틸카르보닐기, t-부틸카르보닐기, n-펜틸카르보닐기, n-헥실카르보닐기, 시클로헥실카르보닐기, n-헵틸카르보닐기, n-옥틸카르보닐기, 2-에틸헥실카르보닐기 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬카르보닐기, 벤질카르보닐기, 페닐카르보닐기 등의 아릴카르보닐기, 벤조일기 등의 아랄킬카르보닐기를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 알콕시카르보닐기로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, iso-프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, iso-부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, t-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 2-에틸헥실옥시카르보닐기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아릴옥시카르보닐기로서는, 페녹시카르보닐, 나프틸카르보닐기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 8~20개의 아랄킬옥시카르보닐기로서는, 벤질옥시카르보닐기, 페네틸옥시카르보닐기, 디페닐메틸옥시카르보닐기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 알킬카르보닐옥시기로서는, 아세틸옥시기, 에틸카르보닐옥시기, n-프로필카르보닐옥시기, iso-프로필카르보닐옥시기, n-부틸카르보닐옥시기, iso-부틸카르보닐옥시기, sec-부틸카르보닐옥시기, t-부틸카르보닐옥시기, n-펜틸카르보닐옥시기, n-헥실카르보닐옥시기, 시클로헥실카르보닐옥시기, n-헵틸카르보닐옥시기, 3-헵틸카르보닐옥시기, n-옥틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7~20개의 아릴카르보닐옥시기로서는, 벤조일옥시기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 8~20개의 아랄킬카르보닐옥시기로서는, 벤질카르보닐옥시기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 2~20개의 복소환기로서는, 피롤기, 이미다졸기, 피페리딘기, 모르폴린기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. In the formula (A), examples of the halogen atoms of the functional groups A 1 to A 16 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group and n-pen Although linear, branched, or cyclic alkyl groups, such as a methyl group, n-hexyl group, a cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. are mentioned, It is limited to these. no. Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso-butyloxy group, sec-butyloxy group, linear, branched or cyclic such as t-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, etc. Although an alkoxy group is mentioned, It is not limited to these. Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms that may be substituted include a phenyl group and a naphthyl group, but are not limited thereto. Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms that may be substituted include a phenoxy group, a naphthoxy group, and the like, but are not limited thereto. Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms that may be substituted include, but are not limited to, a benzyl group, a phenethyl group, a diphenylmethyl group, and the like. Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzyloxy group, phenethyloxy group, diphenylmethyloxy group, and the like. Examples of the alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted include methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group and sec-butyl Straight chains, branches, such as thio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, n-hexylthio group, cyclohexylthio group, n-heptylthio group, n-octylthio group, 2-ethylhexylthio group, or Although cyclic alkylthio group is mentioned, It is not limited to these. Examples of the arylthio group having 6 to 20 carbon atoms that may be substituted include a phenylthio group, a naphthylthio group, and the like, but are not limited thereto. Examples of the aralkylthio group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzylthio group, phenethylthio group, diphenylmethylthio group, and the like. Examples of the alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted include methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, iso-propylsulfonyl group, n-butylsulfonyl group, iso-butylsulfonyl group and sec-butyl Linear, branched, such as sulfonyl, t-butylsulfonyl, n-pentylsulfonyl, n-hexylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, n-heptylsulfonyl, n-octylsulfonyl, 2-ethylhexylsulfonyl, etc. Or a cyclic alkylsulfonyl group, although not limited thereto. Examples of the arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, and the like. Examples of the aralkyl sulfonyl group which may be substituted include, but are not limited to, benzylsulfonyl group, phenethylsulfonyl group, diphenylmethylsulfonyl group, and the like. Examples of the acyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted are methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n Arylcarbonyl groups, such as pentylcarbonyl group, n-hexylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, n-heptylcarbonyl group, n-octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, such as linear, branched or cyclic alkylcarbonyl group, benzylcarbonyl group, and phenylcarbonyl group Although aralkylcarbonyl groups, such as a diary, are mentioned, It is not limited to these. Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, iso-propyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, iso-butyloxycarbonyl group, sec-butyloxy Carbonyl, t-butyloxycarbonyl, n-pentyloxycarbonyl, n-hexyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, n-heptyloxycarbonyl, n-octyloxycarbonyl, 2-ethylhexyloxycarbonyl, etc. may be mentioned. It is not limited to. Examples of the aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include phenoxycarbonyl, naphthylcarbonyl group, and the like, but are not limited thereto. Examples of the aralkyloxycarbonyl group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzyloxycarbonyl group, phenethyloxycarbonyl group, diphenylmethyloxycarbonyl group, and the like. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted include an acetyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, an n-propylcarbonyloxy group, an iso-propylcarbonyloxy group, and an n-butylcarbonyloxy group. , iso-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group, n-pentylcarbonyloxy group, n-hexylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, n- Heptylcarbonyloxy group, 3-heptylcarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group, etc. are mentioned, It is not limited to these. Examples of the arylcarbonyloxy group having 7 to 20 carbon atoms that may be substituted include a benzoyloxy group and the like, but are not limited thereto. Examples of the aralkylcarbonyloxy group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzylcarbonyloxy group. Examples of the heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a pyrrole group, an imidazole group, a piperidine group, a morpholine group, and the like.

또한, 상기 화학식 가에 있어서, 관능기 A1~A16의 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 아랄킬기, 아랄킬옥시기, 알킬티오기, 아릴티오기, 아랄킬티오기, 알킬설포닐기, 아릴설포닐기, 아랄킬설포닐기, 아실기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 아랄킬옥시카르보닐기, 알킬카르보닐옥시기, 아릴카르보닐옥시기, 아랄킬카르보닐옥시기 또는 복소환기가 치환되어 있는 경우, 이들 관능기 A1~A16에 존재하는 치환기로서, 예를 들면, 할로겐원자, 아실기, 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 할로겐화알킬기, 할로겐화알콕시기, 니트로기, 아미노기, 알킬아미노기, 알킬카르보닐아미노기, 아릴아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 알콕시설포닐기, 알킬티오기, 카르바모일기, 아릴옥시카르보닐기, 시아노기, 복소환기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 치환기는 복수 개 존재하고 있어도 되고, 복수 개 존재하는 경우에는 동종 또는 이종 중 어느 것이어도 되며, 동종의 경우에 있어서도 동일 또는 상이해도 된다. 또한, 치환기끼리가 연결기를 매개로 연결되어 있어도 된다.Further, in the above formula, coming functional group A 1 ~ A 16 alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, aralkyl kilok group, alkylthio group, arylthio group, aralkyl kilti come, alkylsulfonyl group, When arylsulfonyl group, aralkyl sulfonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, aralkylcarbonyloxy group or heterocyclic group are substituted As the substituents present in these functional groups A 1 to A 16 , for example, a halogen atom, acyl group, alkyl group, phenyl group, alkoxy group, halogenated alkyl group, halogenated alkoxy group, nitro group, amino group, alkylamino group, alkylcarbonylamino group , Arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, sia Although angi group, a heterocyclic group, etc. are mentioned, It is not limited to these. Two or more these substituents may exist, and when two or more exist, they may be the same or different types, and may be the same or different also in the case of the same types. In addition, substituents may be connected through the coupling group.

(말단이 아미노기인 관능기의 경우)(In the case of functional group whose terminal is an amino group)

상기 화학식 가에 있어서, 관능기 A1~A16의 치환되어 있어도 되는 아미노기, 치환되어 있어도 되는 아미노설포닐기, 치환되어 있어도 되는 아미노카르보닐기로의 치환기로서는, 수소원자; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬기; 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기; 벤질기, 페네틸기 등의 아랄킬기; 아세틸기, 에틸카르보닐기, n-프로필카르보닐기, iso-프로필카르보닐기, n-부틸카르보닐기, iso-부틸카르보닐기, sec-부틸카르보닐기, t-부틸카르보닐기, n-펜틸카르보닐기, n-헥실카르보닐기, 시클로헥실카르보닐기, n-헵틸카르보닐기, 3-헵틸카르보닐기, n-옥틸카르보닐기 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬카르보닐기; 벤조일기, 나프틸카르보닐기 등의 아릴카르보닐기; 벤질카르보닐기 등의 아랄킬카르보닐기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니고, 이들 치환기는 추가로 치환기로 치환되어 있어도 된다. 이들 치환기는 0개, 1개 또는 2개 존재하고 있어도 되고, 2개 존재하는 경우에는 서로가 동종 또는 이종 중 어느 것이어도 되며, 동종의 경우에 있어서도 동일 또는 상이해도 된다. 또한, 치환기가 2개인 경우, 치환기끼리가 연결기를 매개로 연결되어 있어도 된다.In the above formula (A), examples of the substituent to the amino group which may be substituted of the functional groups A 1 to A 16 , the aminosulfonyl group which may be substituted, and the aminocarbonyl group which may be substituted include a hydrogen atom; Linear, branched or cyclic alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group and cyclohexyl group; Aryl groups, such as a phenyl group and a naphthyl group; Aralkyl groups such as benzyl and phenethyl; Acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, n-hexylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, linear, branched or cyclic alkylcarbonyl groups such as n-heptylcarbonyl group, 3-heptylcarbonyl group and n-octylcarbonyl group; Aryl carbonyl groups, such as a benzoyl group and a naphthyl carbonyl group; Although aralkylcarbonyl groups, such as a benzylcarbonyl group, etc. are mentioned, These are not limited to these, These substituents may further be substituted by the substituent. 0, 1, or 2 of these substituents may exist, and when two exist, they may mutually be the same or different, and may be the same or different also in the case of the same type. In addition, when there are two substituents, substituents may be connected through the coupling group.

상기 치환되어 있어도 되는 아미노기, 치환되어 있어도 되는 아미노설포닐기 또는 치환되어 있어도 되는 아미노카르보닐기로의 치환기인 알킬기, 아릴기, 아랄킬기, 알킬카르보닐기, 아릴카르보닐기, 아랄킬카르보닐기 등에 추가로 존재하고 있어도 되는 치환기로서, 예를 들면, 할로겐원자, 아실기, 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 할로겐화알킬기, 할로겐화알콕시기, 니트로기, 아미노기, 알킬아미노기, 알킬카르보닐아미노기, 아릴아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 알콕시설포닐기, 알킬티오기, 카르바모일기, 아릴옥시카르보닐기, 시아노기, 복소환기를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 치환기는 복수 개 존재하고 있어도 되고, 복수 개 존재하는 경우에는 동종 또는 이종 중 어느 것이어도 되며, 동종의 경우에 있어서도 동일 또는 상이해도 된다. 또한, 치환기끼리가 연결기를 매개로 연결되어 있어도 된다.Substituents which may be further present in the alkyl group, the aryl group, the aralkyl group, the alkylcarbonyl group, the arylcarbonyl group, the aralkylcarbonyl group, etc. which are substituted with the above-mentioned amino group which may be substituted, the aminosulfonyl group which may be substituted, or the aminocarbonyl group which may be substituted. As the halogen atom, acyl group, alkyl group, phenyl group, alkoxy group, halogenated alkyl group, halogenated alkoxy group, nitro group, amino group, alkylamino group, alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxy, Although carbonyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, and heterocyclic group are mentioned, It is not limited to these. Two or more these substituents may exist, and when two or more exist, they may be the same or different types, and may be the same or different also in the case of the same types. In addition, substituents may be connected through the coupling group.

또한, 금속 M1으로서의 2가의 금속의 예로서는, Cu(II), Co(II), Zn(II), Fe(II), Ni(II), Ru(II), Rh(II), Pd(II), Pt(II), Mn(II), Mg(II), Ti(II), Be(II), Ca(II), Ba(II), Cd(II), Hg(II), Pb(II), Sn(II) 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 3가의 치환 금속원자의 예로서는, Al-F, Al-Cl, Al-Br, Al-I, Fe-Cl, Ga-F, Ga-Cl, Ga-I, Ga-Br, In-F, In-Cl, In-Br, In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Al-C6H5, Al-C6H4(CH3), In-C6H5, In-C6H4(CH3), In-C6H5, Mn(OH), Mn(OC6H5), Mn〔OSi(CH3)3〕, Ru-Cl 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 4가의 치환 금속원자의 예로서는, CrCl2, SiF2, SiCl2, SiBr2, SiI2, ZrCl2, GeF2, GeCl2, GeBr2, GeI2, SnF2, SnCl2, SnBr2, TiF2, TiCl2, TiBr2, Ge(OH)2, Mn(OH)2, Si(OH)2, Sn(OH)2, Zr(OH)2, Cr(R1)2, Ge(R1)2, Si(R1)2, Sn(R1)2, Ti(R1)2{R1은, 알킬기, 페닐기, 나프틸기 또는 그들의 유도체를 나타낸다}, Cr(OR2)2, Ge(OR2)2, Si(OR2)2, Sn(OR2)2, Ti(OR2)2, {R2는, 알킬기, 페닐기, 나프틸기, 트리알킬실릴기, 디알킬알콕시실릴기 또는 그들의 유도체를 나타낸다}, Sn(SR3)2, Ge(SR3)2{R3는, 알킬기, 페닐기, 나프틸기 또는 그들의 유도체를 나타낸다} 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 옥시금속의 예로서는, VO, MnO, TiO 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. Examples of the divalent metal as the metal M 1 include Cu (II), Co (II), Zn (II), Fe (II) ), Pt (II), Mn (II), Mg (II), Ti (II), Be (II), Ca (II), Ba (II), Cd (II), Hg (II), Pb (II ), Sn (II) and the like, but are not limited thereto. Examples of trivalent substituted metal atoms include Al-F, Al-Cl, Al-Br, Al-I, Fe-Cl, Ga-F, Ga-Cl, Ga-I, Ga-Br, In-F, In- Cl, In-Br, In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Al-C 6 H 5 , Al-C 6 H 4 (CH 3 ), In-C 6 H 5 , In-C 6 H 4 (CH 3 ), In-C 6 H 5 , Mn (OH), Mn (OC 6 H 5 ), Mn [OSi (CH 3 ) 3 ], Ru-Cl and the like. It is not limited to these. Tetravalent examples of the substituted metal atom, CrCl 2, SiF 2, SiCl 2, SiBr 2, SiI 2, ZrCl 2, GeF 2, GeCl 2, GeBr 2, GeI 2, SnF 2, SnCl 2, SnBr 2, TiF 2, TiCl 2 , TiBr 2 , Ge (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Si (OH) 2 , Sn (OH) 2 , Zr (OH) 2 , Cr (R1) 2 , Ge (R1) 2 , Si ( R1) 2, Sn (R1) 2, Ti (R 1) 2 {R 1 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or derivatives thereof}, Cr (oR 2) 2 , Ge (oR 2) 2, Si ( OR 2 ) 2 , Sn (OR 2 ) 2 , Ti (OR 2 ) 2 , {R 2 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a trialkylsilyl group, a dialkylalkoxysilyl group or a derivative thereof}, Sn ( SR 3 ) 2 and Ge (SR 3 ) 2 {wherein R 3 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or derivatives thereof), and the like, but is not limited thereto. Examples of the oxymetals include, but are not limited to, VO, MnO, TiO, and the like.

[화학식 나로 나타내어지는 프탈로시아닌계 화합물][Phthalocyanine-based compound represented by Formula I]

[화학식 나][Formula I]

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 화학식 나에 있어서, B1~B24는 관능기를 나타낸다. B1~B24의 각각은, 상기 화학식 가에 있어서 A1~A16으로 나타내어진 관능기 중 어느 하나이다. B1~B24의 관능기는 동종 또는 이종 중 어느 것이어도 되고, 동종의 경우에 있어서도 동일 또는 상이해도 되며, 관능기끼리가 연결기를 매개로 연결되어 있어도 된다.In the formula (B), B 1 to B 24 represent a functional group. Each of B 1 to B 24 is any one of the functional groups represented by A 1 to A 16 in the above formula. The functional group of B 1 to B 24 may be any of the same kind or different kinds, and may be the same or different in the case of the same kind, and the functional groups may be connected via a linking group.

상기 화학식 나에 있어서, M2는 2개의 수소원자, 2가의 금속원자, 3가의 치환 금속원자, 4가의 치환 금속원자 또는 옥시금속을 나타낸다. M2의 예는, 상기 화학식 가에 있어서의 M1의 예와 동일하나, 이들에 한정되지 않는다.In the formula (B), M 2 represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or an oxymetal. Examples of M 2 are the same as those of M 1 in the above formula, but are not limited thereto.

구체적인 프탈로시아닌계 화합물로서, 상품명 이엑스칼라 IR-10A, 이엑스칼라 IR-12, 이엑스칼라 IR-14, 이엑스칼라 IR-906, 이엑스칼라 IR-910, TX-EX-820 및 TX-EX-915(모두 니폰 쇼쿠바이 제조)를 들 수 있다. As a specific phthalocyanine type compound, brand names EXcala IR-10A, EXcala IR-12, EXcala IR-14, EXcala IR-906, EXcala IR-910, TX-EX-820, and TX- EX-915 (all are the Nippon Shokubai Co., Ltd.) can be mentioned.

또한, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물에는 근적외선 흡수 색소로서 시아닌계 색소가 병용되어도 된다. 시아닌계 색소는 근적외선 흡수능이 우수한 것이라면 특별히 제한되지 않으나, 인돌륨계 양이온 또는 벤조티아졸륨계 양이온과, 상대 음이온(counter anion)으로 되는 염을 바람직하게 사용할 수 있다. 인돌륨계 양이온 또는 벤조티아졸륨계 양이온으로서는, 상기 화학식 a~i로 나타내어지는 양이온을 바람직하게 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. In addition, in the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, a cyanine dye may be used together as a near-infrared absorption pigment. The cyanine-based dye is not particularly limited as long as it has excellent near-infrared absorptive capacity, but salts of indoleium-based or benzothiazolium-based cations and counter anions can be preferably used. Examples of the indoleium cation or the benzothiazolium cation include cations represented by the formulas (a) to (i) above, but are not limited thereto.

[화학식 a](A)

Figure pct00006
Figure pct00006

[화학식 b][Formula b]

Figure pct00007
Figure pct00007

[화학식 c][Formula c]

Figure pct00008
Figure pct00008

[화학식 d][Formula d]

Figure pct00009
Figure pct00009

[화학식 e][Formula e]

Figure pct00010
Figure pct00010

[화학식 f][Formula f]

Figure pct00011
Figure pct00011

[화학식 g][Formula g]

Figure pct00012
Figure pct00012

[화학식 h][Formula h]

Figure pct00013
Figure pct00013

[화학식 i][Formula i]

Figure pct00014
Figure pct00014

인돌륨계 양이온 또는 벤조티아졸륨계 양이온의 상대 음이온은, 특별히 제한되지 않고, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 과염소산 이온, 질산 이온, 벤젠설폰산 이온, p-톨루엔설폰산 이온, 메틸황산 이온, 에틸황산 이온, 프로필황산 이온, 테트라플루오로붕산 이온, 테트라페닐붕산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 벤젠설핀산 이온, 초산 이온, 트리플루오로초산 이온, 프로피온산 이온, 안식향산 이온, 옥살산 이온, 숙신산 이온, 말론산 이온, 올레산 이온, 스테아르산 이온, 구연산 이온, 일수소이인산 이온, 이수소일인산 이온, 펜타클로로주석산 이온, 클로로설폰산 이온, 플루오로설폰산 이온, 트리플루오로메탄설폰산 이온, 헥사플루오로비산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 몰리브덴산 이온, 텅스텐산 이온, 티탄산 이온, 지르콘산 이온, 황산 이온, 바나딘산 이온, 붕산 이온 등을 사용할 수 있다.The counter anion of the indoleum cation or the benzothiazolium cation is not particularly limited and is not limited to chloride ions, bromide ions, iodide ions, perchlorate ions, nitrate ions, benzenesulfonic acid ions, p-toluenesulfonic acid ions, and methyl sulfate Ions, ethyl sulfate, propyl sulfate, tetrafluoroborate ions, tetraphenylborate ions, hexafluorophosphate ions, benzenesulfinic acid ions, acetate ions, trifluoroacetic acid ions, propionic acid ions, benzoic acid ions, oxalic acid ions, Succinate ion, malonic acid ion, oleic acid ion, stearic acid ion, citric acid ion, dihydrogen diphosphate ion, dihydrogen monophosphate ion, pentachlorotartrate ion, chlorosulfonic acid ion, fluorosulfonic acid ion, trifluoromethanesulfonic acid ion , Hexafluorobiate ion, hexafluoroantimonate ion, molybdate ion, tungstate ion, titanate ion, zirconic acid On, it can be used such as sulfuric acid ion, a bar Nadine acid ion and boric acid ion.

보다 구체적으로는, 상기 화학식 a로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, 아메리칸 다이소스사 제조의 ADS812MI(상대 음이온은 요오드화물 이온); 상기 화학식 b로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 S0712(상대 음이온은 헥사플루오로인산 이온); 상기 화학식 c로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 S0726(상대 음이온은 염화물 이온); 상기 화학식 d로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, 아메리칸 다이소스사 제조의 ADS780MT(상대 음이온은 p-톨루엔설폰산 이온); 상기 화학식 e로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 S0006(상대 음이온은 과염소산 이온); 상기 화학식 f로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 S0081(상대 음이온은 과염소산 이온); 상기 화학식 g로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 S0773(상대 음이온은 테트라플루오로붕산 이온); 상기 화학식 h로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 상품명 S0772(상대 음이온은 테트라플루오로붕산 이온); 상기 화학식 i로 표시되는 양이온을 포함하는 시아닌계 색소로서, FEW 케미컬사 제조의 상품명 S0734(상대 음이온은 테트라플루오로붕산 이온) 등의 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다. 시아닌계 색소를 사용함으로써 가시영역의 투명성이 높은 근적외선 흡수 점착제 조성물이 얻어진다. More specifically, it is a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said general formula a, and it is ADS812MI (the relative anion is iodide ion) by American Daisos Corporation; As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said Formula (b), S0712 by a FEW Chemical company (relative anion is hexafluorophosphate ion); As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said Formula (c), S0726 (relative anion is a chloride ion) by FEW Chemical Company; As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said Formula d, ADS780MT (As an anion is p-toluenesulfonic acid ion) by the American Daisos company; As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said Formula (e), S0006 (relative anion is a perchlorate ion) by FEW Chemical Company; As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said general formula f, S0081 (relative anion is a perchlorate ion) by FEW Chemical Company; As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said general formula g, S0773 by a FEW Chemical company (relative anion is tetrafluoroborate ion); As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said Formula (h), Brand name S0772 by a FEW Chemical company (A counter anion is tetrafluoroborate ion); As a cyanine pigment | dye containing the cation represented by the said Formula (i), what is marketed, such as brand name S0734 by a FEW Chemical company (relative anion is tetrafluoroborate ion), can be used. By using a cyanine pigment | dye, the near-infrared absorption adhesive composition with high transparency of a visible region is obtained.

본 발명의 디이모늄 색소의 배합량, 또는 본 발명의 디이모늄 색소와 기타 근적외선 흡수 색소를 합계한 배합량은, 색소의 종류와 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 10~30 ㎛의 박막으로서 사용하는 경우, 배합량은, 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 모든 고형분의 합계 질량에 대해, 바람직하게는 0.01~10 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.1~5 질량%이다. 예를 들면, 디이모늄 색소와 프탈로시아닌계 색소를 병용하는 경우, 이들 색소를 합계한 배합량은, 수지의 고형분에 대해, 바람직하게는 0.01~10 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.1~5 질량%이다. 배합량이 0.01 질량% 미만이면, 충분한 근적외선 흡수능을 달성할 수 없게 될 가능성이 있다. 반대로 10 질량%를 초과하면, 첨가에 걸맞는 효과가 얻어지지 않아 경제적이지 못할뿐 아니라, 반대로 가시영역에서의 투명성이 손상될 가능성이 있다.The compounding quantity of the dimonium pigment | dye of this invention or the compounding quantity which totaled the dimonium pigment | dye of this invention and other near-infrared absorbing dye can be suitably selected according to the kind and use of a pigment | dye. When using the near-infrared absorption adhesive composition of this invention as a thin film of 10-30 micrometers, compounding quantity becomes like this. Preferably it is 0.01-10 mass% with respect to the total mass of all solid content contained in a near-infrared absorption adhesive composition, More preferably, Is 0.1-5 mass%. For example, when using a dimonium pigment | dye and a phthalocyanine pigment | dye together, the compounding quantity which totaled these pigment | dyes becomes like this. Preferably it is 0.01-10 mass% with respect to solid content of resin, More preferably, it is 0.1-5 mass%. to be. If the blending amount is less than 0.01% by mass, there is a possibility that sufficient near-infrared absorptivity cannot be achieved. On the contrary, when it exceeds 10 mass%, the effect suitable for addition is not obtained and it is not economical, On the contrary, transparency in the visible region may be impaired.

후술하는 바와 같이, 디이모늄염의 배합량이 높게 설정된 근적외선 흡수 점착제 조성물에 의하면, 이것을 장기간 보관해도, 디이모늄염의 개선된 분산상태 및 이 디이모늄염의 우수한 근적외선 흡수능이 안정하게 유지될 수 있다. 이 관점에서, 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 모든 고형분의 합계질량에 대한, 디이모늄염의 배합량은, 0.5 질량% 이상이 바람직하고, 1.0 질량% 이상이 보다 바람직하며, 1.5 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 2.0 질량% 이상이 더욱 바람직하며, 2.9 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 4.7 질량% 이상이 특히 바람직하다.As will be described later, according to the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition in which the compounding amount of the dimonium salt is set high, even if it is stored for a long time, the improved dispersion state of the dimonium salt and the excellent near-infrared absorption capacity of the dimonium salt can be stably maintained. From this viewpoint, 0.5 mass% or more is preferable, as for the compounding quantity of the dimonium salt with respect to the total mass of all solid content contained in a near-infrared absorption adhesive composition, 1.0 mass% or more is more preferable, 1.5 mass% or more is more preferable. More preferably at least 2.0 mass%, still more preferably at least 2.9 mass%, particularly preferably at least 4.7 mass%.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은 가시영역의 투명성, 근적외선 흡수능의 지속성, 양호한 점착성을 특징으로 한다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물에는, 필요에 따라 가시광을 흡수하는 색소가 첨가되어도 된다. 가시광을 흡수하는 색소로서는, 시아닌계, 프탈로시아닌계, 나프탈로시아닌계, 포르피린계, 테트라아자포르피린계, 금속 디티올 착체계, 스쿠아릴륨계, 아줄레늄계, 디페닐메탄계, 트리페닐메탄계, 옥사진계, 아진계, 티오피릴륨계, 비오로겐계, 아조계, 아조 금속 착체계, 비스아조계, 안트라퀴논계, 페릴렌계, 인단트론계, 니트로소계, 인디코계, 아조메틴계, 크산텐계, 옥사놀계, 인도아닐린계, 퀴놀린계, 디케토피롤로피롤계 등, 종래 공지의 색소를 널리 사용할 수 있다.The near-infrared absorptive pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is characterized by transparency of visible region, persistence of near-infrared absorptive capacity, and good adhesion. The pigment | dye which absorbs visible light may be added to the near-infrared absorption adhesive composition of this invention as needed. Examples of the dyes that absorb visible light include cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, porphyrin, tetraazaporphyrin, metal dithiol complexes, squarylium, azulenium, diphenylmethane, triphenylmethane and jade. Photo system, azine system, thiopyryllium system, biorogen system, azo system, azo metal complex system, bis azo system, anthraquinone system, perylene system, indanthrone system, nitroso system, indico system, azomethine system, xanthene system, Conventionally well-known pigment | dyes, such as an oxanol system, indoaniline system, quinoline system, diketopyrrolopyrrole system, can be used widely.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 PDP용 광학 필터로서 사용하는 경우는, 불필요한 네온 발광을 흡수하기 위해 최대 흡수 파장이 550~650 nm인 가시 흡수 색소를 병용하는 것이 바람직하다. 네온 발광을 흡수하는 색소의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 시아닌 색소, 테트라아자포르피린 색소를 사용할 수 있다. 구체적으로는 아데카 아쿠르즈 TY-102(아데카 공업사 제조), 아데카크루즈 TY-14(아데카 공업사 제조), 아데카크루즈 TY-15(아데카 공업사 제조), TAP-2(야마다 화학공업 제조), TAP-18(야마다 화학공업 제조), TAP-45(야마다 화학공업 제조), 상품명 NK-5451(하야시바라 생물화학연구소 제조), NK-5532(하야시바라 생물화학연구소 제조), NK-5450(하야시바라 생물화학연구소 제조) 등을 들 수 있다. 네온 발광을 흡수하기 위한 색소의 첨가량은, 색소의 종류에 따라 다르나, 최대 흡수 파장에서의 투과율이 20~80% 정도가 되도록 첨가하는 것이 바람직하다.When using the near-infrared absorption adhesive composition of this invention as an optical filter for PDP, it is preferable to use together the visible absorption pigment | dye whose maximum absorption wavelength is 550-650 nm in order to absorb unnecessary neon light emission. Although the kind of pigment | dye which absorbs neon light emission is not specifically limited, A cyanine pigment | dye and a tetraaza porphyrin pigment | dye can be used. Specifically, Adeka Aquars TY-102 (made by Adeka Ind. Co., Ltd.), Adeca Cruise TY-14 (Adeca Ind. Co., Ltd.), Adeca cruise TY-15 (Adeka Ind. Co., Ltd.), TAP-2 (Yamada Chemical Co., Ltd.) Production), TAP-18 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.), TAP-45 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.), trade name NK-5451 (manufactured by Hayashibara Biochemistry Research Institute), NK-5532 (manufactured by Hayashibara Biochemistry Research Institute), NK-5450 ( Hayashibara Biochemical Research Institute) etc. are mentioned. Although the addition amount of the pigment | dye for absorbing neon light emission changes with kinds of pigment | dye, it is preferable to add so that the transmittance | permeability in a maximum absorption wavelength may be about 20 to 80%.

또한, 근적외선 흡수 점착제 조성물로 되는 박막의 색조를 조정하기 위해, 조색용 가시광 흡수 색소를 첨가해도 된다. 조색용 색소의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 1:2 크롬 착체, 1:2 코발트 착체, 구리프탈로시아닌, 안트라퀴논, 디케토피롤로피롤 등을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 오라졸블루 GN(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 오라졸블루 BL(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 오라졸레드 2B(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 오라졸레드 G(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 오라졸블랙 CN(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 오라졸옐로 2GLN(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 오라졸옐로 2RLN(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조), 마이크로리스 DPP 레드 B-K(씨바 스페셜티 케미컬즈 제조) 등을 들 수 있다. Moreover, in order to adjust the hue of the thin film which becomes a near-infrared absorption adhesive composition, you may add the coloring visible light absorbing dye. Although the kind of coloring pigment is not specifically limited, 1: 2 chromium complex, 1: 2 cobalt complex, copper phthalocyanine, anthraquinone, diketopyrrolopyrrole, etc. can be used. Specifically, orazolblue GN (made by Ciba Specialty Chemicals), orazolblue BL (made by Ciba Specialty Chemicals), orazoled 2B (made by Ciba Specialty Chemicals), orazoled G (made by Ciba Specialty Chemicals) ), Orazolblack CN (made by Ciba Specialty Chemicals), orazol yellow 2GLN (made by Ciba Specialty Chemicals), orazol yellow 2RLN (made by Ciba Specialty Chemicals), microless DPP red BK (made by Ciba Specialty Chemicals) Etc. can be mentioned.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 필요에 따라, 그 성능을 상실하지 않는 범위에서 희석용제나 첨가제, 경화제를 1종 도는 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The near-infrared absorption adhesive composition of this invention may contain 1 type or 2 or more of diluent solvent, an additive, and a hardening agent in the range which does not lose the performance as needed.

전술한 바와 같이, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 바람직하게는, 디이모늄염과 용매(Sm)가 혼합되어 혼합물(M1)이 만들어지는 제1 공정과, 이 혼합물(M1)이 수지(B)에 혼합되는 제2 공정을 포함하는 제조방법에 의해 제조된다. 이 제조방법의 경우는, 이 제2 공정에 있어서, 이 수지(B)와 전술한 용매(S2)를 포함하는 수지 조성물(P)을 준비하고, 이 수지 조성물(P)에, 전술한 혼합물(M1)이 혼합되어도 된다. 이 경우, 이 혼합물(M1)과 수지 조성물(P)을 포함하는 근적외선 흡수 점착제 조성물을, 후술하는 투명 기재에 도포함으로써, 도막으로서의 근적외선 흡수재를 얻을 수 있다.As mentioned above, the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, Preferably, the 1st process of mixing a dimonium salt and a solvent (Sm) and making a mixture (M1), and this mixture (M1) make resin (B) It is manufactured by the manufacturing method including the 2nd process mixed with). In the case of this manufacturing method, in this 2nd process, the resin composition (P) containing this resin (B) and the solvent (S2) mentioned above is prepared, and this resin composition (P) has mentioned the mixture ( M1) may be mixed. In this case, the near-infrared absorber as a coating film can be obtained by apply | coating the near-infrared absorption adhesive composition containing this mixture (M1) and resin composition (P) to the transparent base material mentioned later.

수지 조성물(P)에 포함되는 수지(B)가, 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 디이모늄염의 분상상태의 개선 및 내구성의 향상에 기여할 수 있다는 관점에서, 이 수지 조성물(P)에 있어서의 수지(B)의 배합량은, 30 질량% 이상이 바람직하고, 45 질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 이 수지(B)의 배합량은, 수지 조성물(P)의 질량에 대한, 이 수지 조성물(P)의 불휘발분의 질량의 비율로 표시된다.The resin in this resin composition (P) is a viewpoint that resin (B) contained in resin composition (P) can contribute to the improvement of the powdered state of the dimonium salt contained in a near-infrared absorption adhesive composition, and the improvement of durability. 30 mass% or more is preferable, and, as for the compounding quantity of (B), 45 mass% or more is more preferable. In addition, the compounding quantity of this resin (B) is represented by the ratio of the mass of the non volatile matter of this resin composition (P) with respect to the mass of the resin composition (P).

상기 제조방법의 경우는, 수지(B)를 많이 포함하는 수지 조성물(P)을 사용한 경우, 디이모늄염의 배합량이 높은 근적외선 흡수 점착제 조성물이 얻어진다. 이 경우, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물을 장기간 보관하더라도, 디이모늄염의 개선된 분산상태 및 이 디이모늄염의 우수한 근적외선 흡수능이 안정하게 유지되는 것이 판명되었다. 또한, 디이모늄염의 배합량이 높은 근적외선 흡수 점착제 조성물의 사용은, 근적외선 흡수 점착제 조성물로부터 형성되는 도막의 박막화를 달성할 수 있다.In the case of the said manufacturing method, when the resin composition (P) containing much resin (B) is used, the near-infrared absorption adhesive composition with a high compounding quantity of dimonium salt is obtained. In this case, even when the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition is stored for a long time, it has been found that the improved dispersion state of the dimonium salt and the excellent near-infrared absorption capacity of the dimonium salt remain stable. Moreover, use of the near-infrared absorption adhesive composition with a high compounding quantity of dimonium salt can achieve thin film formation of the coating film formed from a near-infrared absorption adhesive composition.

근적외선 흡수 점착제 조성물에 있어서의, 디이모늄염의 개선된 분산상태, 및 그 우수한 근적외선 흡수능이 안정하게 유지된다는 관점에서, 이 수지 조성물(P)에 있어서의 수지(B)의 배합량은, 전술한 값보다도 더욱 높은 값이 되는 것이 바람직하다. 이 관점에서, 이 수지 조성물(P)에 있어서의 수지(B)의 배합량은, 50 질량% 이상이 바람직하고, 55 질량% 이상이 보다 바람직하며, 60 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 65 질량% 이상이 특히 바람직하다. 또한, 취급의 점도의 관점에서, 이 수지 조성물(P)에 있어서의 수지(B)의 배합량은 80 질량% 이하가 바람직하다. From the viewpoint that the improved dispersion state of the dimonium salt in the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition and the excellent near-infrared absorbing ability are maintained stably, the compounding amount of the resin (B) in the resin composition (P) is the value described above. It is desirable to be higher than. From this viewpoint, 50 mass% or more is preferable, as for the compounding quantity of resin (B) in this resin composition (P), 55 mass% or more is more preferable, 60 mass% or more is more preferable, 65 mass% The above is especially preferable. Moreover, from a viewpoint of the viscosity of handling, 80 mass% or less is preferable for the compounding quantity of resin (B) in this resin composition (P).

근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함될 수 있는 희석용제는 한정되지 않고, 상기 용제(S2) 또는 상기 용제(S4)로서 예시한 것이 바람직하다.The diluting solvent which can be contained in a near-infrared absorption adhesive composition is not limited, It is preferable to illustrate as the said solvent (S2) or the said solvent (S4).

도공시에 있어서, 근적외선 흡수 점착제 조성물의 점도는, 도공기의 종류에 따라 적절히 선택되나, 마이크로그라비아 코터 등과 같은 직경이 작은 그라비아 키스 리버스방식으로 도공하는 경우는 1~1000 mPa·s, 다이 코터 등 압출(押出)방식으로 도공하는 경우는 100~10000 mPa·s가 일반적이다. 근적외선 흡수 점착제 조성물의 고형분은 도료 점도에 맞춰 조정된다.At the time of coating, the viscosity of the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition is appropriately selected depending on the type of coating machine. However, when coating with a small diameter gravure kiss reverse method such as a microgravure coater or the like, 1 to 1000 mPa · s, a die coater, etc. When coating by extrusion method, 100-10000 mPa * s is common. Solid content of a near-infrared absorption adhesive composition is adjusted according to paint viscosity.

또한, 근적외선 흡수 점착제 조성물이 함유할 수 있는 첨가제로서는, 필름이나 코팅막 등을 형성하는 수지 조성물에 사용되는 종래 공지의 첨가제가 사용될 수 있다. 이 첨가제로서, 분산제, 레벨링제, 소포제, 점성 조정제, 광택 제거제, 점착 부여제, 대전 방지제, 산화 방지제, 자외선 흡수재, 광 안정화제, 소광제, 경화제, 안티블로킹제 등을 들 수 있다. 또한, 경화제로서는 이소시아네이트 화합물, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 아민계 화합물, 이민계 화합물, 옥사졸린 화합물, 실란커플링제, UV 경화제 등을 사용할 수 있다.Moreover, as an additive which a near-infrared absorption adhesive composition can contain, the conventionally well-known additive used for the resin composition which forms a film, a coating film, etc. can be used. As this additive, a dispersing agent, a leveling agent, an antifoamer, a viscosity regulator, a gloss remover, a tackifier, an antistatic agent, antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a quencher, a hardening | curing agent, an antiblocking agent, etc. are mentioned. As the curing agent, an isocyanate compound, a thiol compound, an epoxy compound, an amine compound, an imine compound, an oxazoline compound, a silane coupling agent, a UV curing agent, or the like can be used.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 광학용, 농업용, 건축용 또는 차량용 근적외선 흡수재료, 감광지 등의 화상기록재료, 광디스크용 등의 정보기록용 재료, 색소 증감형 태양전지 등의 태양전지, 반도체 레이저광 등을 광원으로 하는 감광재료, 안정(眼精)피로 방지재에 사용될 수 있다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 특히 필름이나 시트형상으로의 사용이 바람직하다.The near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is an optical, agricultural, building or vehicle near-infrared absorbing material, an image recording material such as a photosensitive paper, an information recording material such as an optical disk, a solar cell such as a dye-sensitized solar cell, a semiconductor laser light. It can be used for the photosensitive material which uses a light source etc. as a light source, and a stable fatigue prevention material. The near-infrared absorption adhesive composition of this invention is especially preferable to use in the form of a film or a sheet.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 디이모늄염의 배합량은, 근적외선 흡수능의 관점에서, 0.4 질량% 이상이 바람직하다. 근적외선 흡수 점착제 조성물을 장기간 보관하더라도, 디이모늄염의 개선된 분산상태 및 이 디이모늄염의 우수한 근적외선 흡수능이 안정하게 유지된다는 관점에서, 이 디이모늄염의 배합량은, 0.5 질량% 이상이 바람직하다. 후술하는, 고온 보존에 있어서의 디이모늄 색소의 열화 억제의 관점에서, 이 디이모늄염의 배합량은, 1.0 질량% 이상이 보다 바람직하고, 1.5 질량% 이상이 더욱 바람직하며, 1.9 질량% 이상이 특히 바람직하다. 경제적인 관점에서, 이 디이모늄염의 배합량은, 50 질량% 이하가 바람직하고, 30 질량% 이하가 바람직하다. As for the compounding quantity of the dimonium salt contained in the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, 0.4 mass% or more is preferable from a viewpoint of near-infrared absorption ability. Even when the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition is stored for a long time, from the viewpoint that the improved dispersion state of the dimonium salt and the excellent near-infrared absorbing capacity of the dimonium salt are maintained stably, the blending amount of the dimonium salt is preferably 0.5% by mass or more. From the viewpoint of suppressing deterioration of the dimonium pigment in high temperature storage, which will be described later, the blending amount of the dimonium salt is more preferably 1.0 mass% or more, still more preferably 1.5 mass% or more, and 1.9 mass% or more. Particularly preferred. From an economic viewpoint, 50 mass% or less is preferable and, as for the compounding quantity of this dimonium salt, 30 mass% or less is preferable.

본 발명에서는, 보존 또는 이송에 있어서의 근적외선 흡수 점착제 조성물의 온도는 한정되지 않는다. 근적외선 흡수능의 열화 억제 및 디이모늄염의 변질 억제의 관점에서, 이 온도는, 40℃ 이하가 바람직하고, 30℃ 이하가 보다 바람직하며, 25℃ 이하가 더욱 바람직하다. 단, 디이모늄염의 배합량이 높게 된 경우, 높은 보존온도에 기인하는 단점이 효과적으로 억제되는 것이 판명되었다. 이 관점에서는, 근적외선 흡수 점착제 조성물에 있어서, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 모든 고형분의 합계질량에 대한 디이모늄염의 배합량이 0.5 질량% 이상인 경우, 보존 또는 이송에 있어서의 최고온도 Tmax는, 40℃ 이상인 것이 바람직하고, 45℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 50℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이 경우 예를 들면, 하계에 있어서의 보존 또는 이송에 있어서, 냉장이 불필요해질 수 있다. 근적외선 흡수능의 열화를 억제하는 관점에서, 최고온도 Tmax는, 80℃ 이하가 바람직하고, 70℃ 이하가 보다 바람직하다.In this invention, the temperature of a near-infrared absorption adhesive composition in storage or conveyance is not limited. From a viewpoint of suppressing deterioration of near-infrared absorptivity and deterioration suppression of a dimonium salt, 40 degrees C or less is preferable, 30 degrees C or less is more preferable, 25 degrees C or less is further more preferable. However, when the compounding quantity of dimonium salt became high, it turned out that the disadvantage caused by high storage temperature is suppressed effectively. From this viewpoint, in the near-infrared absorption adhesive composition, when the compounding quantity of the dimonium salt with respect to the total mass of all the solid content contained in this near-infrared absorption adhesive composition is 0.5 mass% or more, the maximum temperature Tmax in storage or conveyance is 40 It is preferable that it is C or more, It is more preferable that it is 45 degreeC or more, It is still more preferable that it is 50 degreeC or more. In this case, refrigeration may become unnecessary, for example in storage or conveyance in summer. From a viewpoint of suppressing deterioration of near-infrared absorption ability, 80 degrees C or less is preferable and, as for the maximum temperature Tmax, 70 degrees C or less is more preferable.

디이모늄 색소의 고농도화에 기인하는 상기 효과를 더욱 높이는 관점에서, 상기 배합량이 0.5 질량% 이상인 경우, 보존 또는 이송에 있어서의 최저온도 Tmin은, 30℃ 이상인 것이 바람직하고, 35℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 40℃ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 45℃ 이상인 것이 더욱 바람직하며, 50℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of further enhancing the effect due to the high concentration of the dimonium pigment, when the compounding amount is 0.5% by mass or more, the minimum temperature Tmin in storage or transport is preferably 30 ° C or more, more preferably 35 ° C or more. It is preferable, it is more preferable that it is 40 degreeC or more, It is more preferable that it is 45 degreeC or more, It is more preferable that it is 50 degreeC or more.

또한, 상기 최고온도 Tmax란, 보존 또는 이송의 전기간 중에 있어서의 최고의 온도를 의미한다. 보존 또는 이송의 전기간에 있어서, 디이모늄 색소 함유 조성물의 온도가 T1℃~T2℃(T1<T2)의 범위에서 변화된 경우, 상기 최고온도 Tmax는, 상기 온도 T2이다.In addition, the said maximum temperature Tmax means the highest temperature in the whole period of storage or conveyance. When the temperature of the dimonium pigment | dye containing composition changes in the range of T1 degreeC-T2 degreeC (T1 <T2) during the preservation or transfer period, the said maximum temperature Tmax is the said temperature T2.

고온 보존에 있어서의 디이모늄 색소의 열화 억제의 관점에서, 상기 배합비율 Rp는, 전술한 범위로 되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said compounding ratio Rp becomes the range mentioned above from a viewpoint of suppressing deterioration of the dimonium pigment | dye in high temperature storage.

또한, 상기 최저온도 Tmin은, 보존 또는 이송의 전기간 중에 있어서의 최저의 온도를 의미한다. 보존 또는 이송의 전기간에 있어서, 디이모늄 색소 함유 조성물의 온도가 T1℃~T2℃(T1<T2)의 범위에서 변화된 경우, 상기 최저온도 Tmin은, 상기 온도 T1이다. In addition, the said minimum temperature Tmin means the minimum temperature in the whole period of storage or conveyance. When the temperature of the dimonium pigment | dye containing composition changes in the range of T1 degreeC-T2 degreeC (T1 <T2) during the preservation or transfer period, the said minimum temperature Tmin is said temperature T1.

10. 근적외선 흡수재10. NIR absorber

본 발명의 근적외선 흡수재는, 상기 근적외선 흡수 점착제 조성물을 포함한다. 본 발명의 근적외선 흡수재는, 상기 근적외선 흡수 점착제 조성물을 필름형상으로 성형한 것이어도 되고, 투명기재 상에 상기 근적외선 흡수 점착제 조성물을 포함하는 도막을 적층한 것이어도 된다.The near-infrared absorber of this invention contains the said near-infrared absorption adhesive composition. The near-infrared absorptive material of this invention may shape | mold the said near-infrared absorptive pressure-sensitive adhesive composition in the form of a film, or may laminate the coating film containing the near-infrared absorptive pressure-sensitive adhesive composition on a transparent substrate.

투명기재로서는, 일반적으로 광학재에 사용 가능한 것으로서, 실질적으로 투명하면 특별히 제한은 없다. 구체적인 예로서는 유리; 시클로폴리올레핀, 비결정질 폴리올레핀 등의 올레핀계 폴리머; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 메타크릴계 폴리머; 초산비닐이나 할로겐화비닐 등의 비닐계 폴리머; PET 등의 폴리에스테르; 폴리카보네이트, 부티랄 수지 등의 폴리비닐아세탈; 폴리아릴에테르계 수지; 락톤 고리 함유 수지 필름 등을 들 수 있다. 또한, 그 투명기재에는, 코로나방전처리, 화염처리, 플라즈마처리, 글로우방전처리, 조면화(粗面化)처리, 약품처리 등의 종래 공지의 방법에 의한 표면처리나, 앵커 코트제나 프라이머 등의 코팅이 실시되어도 된다. 또한, 상기 투명기재를 구성하는 기재 수지에는, 공지의 첨가제, 내열 노화 방지제, 활제(滑劑), 대전 방지제 등의 배합이 가능하다. 상기 투명기재는, 공지의 사출성형, T다이성형, 캘린더성형, 압축성형 등의 방법이나, 유기용제에 용융시켜서 캐스팅하는 방법 등을 사용하여, 필름 또는 시트형상으로 성형된다. 이러한 투명기재를 구성하는 기재는, 미연신이어도 되고 연신되어 있어도 되며, 또한 다른 기재와 적층되어 있어도 된다.As a transparent base material, generally, it can be used for an optical material, and if it is substantially transparent, there will be no restriction | limiting in particular. Specific examples include glass; Olefin polymers such as cyclopolyolefins and amorphous polyolefins; Methacryl-based polymers such as polymethyl methacrylate; Vinyl polymers such as vinyl acetate and vinyl halide; Polyesters such as PET; Polyvinyl acetals such as polycarbonate and butyral resin; Polyaryl ether resins; Lactone ring containing resin film, etc. are mentioned. In addition, the transparent base material includes surface treatment by conventionally known methods such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, and chemical treatment, and an anchor coat agent and a primer. Coating may be performed. Moreover, the base resin which comprises the said transparent base material can mix | blend a well-known additive, a heat resistant aging agent, a lubricating agent, an antistatic agent, etc .. The transparent base material is molded into a film or sheet shape using known injection molding, T-die molding, calendar molding, compression molding, or the like by melting in an organic solvent and casting. The base material constituting such a transparent base material may be unstretched or stretched, or may be laminated with another base material.

코팅법으로 근적외선 흡수 필름을 얻는 경우의 투명기재로서는 PET 필름이 바람직하고, 특히 이접착(易接着)처리를 한 PET 필름이 바람직하다. 구체적으로는 코스모샤인 A4300(도요 보세키 제조), 루밀라 U34(도오레 제조), 메리넥스 705(데이진 듀폰 제조) 등을 들 수 있다. 또한, TAC(트리아세틸셀룰로오스) 필름, 반사 방지 필름, 번쩍거림 방지 필름, 충격 흡수 필름, 전자파 차폐 필름, 자외선 흡수 필름 등의 기능성 필름도 투명기재로서 사용할 수 있다. 이것에 의해, 간편하게 박형 디스플레이용이나 광반도체소자용 광학 필터를 제작할 수 있다. 투명기재는, 필름인 것이 바람직하다. As a transparent base material in the case of obtaining a near-infrared absorbing film by a coating method, PET film is preferable and especially the PET film which carried out the easily adhesive process is preferable. Specifically, Cosmoshine A4300 (made by Toyo Boseki), Lumila U34 (made by Toray), Merinex 705 (made by Teijin Dupont), etc. are mentioned. Moreover, functional films, such as a TAC (triacetyl cellulose) film, an antireflection film, an anti-glare film, an impact absorption film, an electromagnetic wave shielding film, and an ultraviolet absorbing film, can also be used as a transparent base material. Thereby, the optical filter for thin display and optical semiconductor element can be manufactured simply. It is preferable that a transparent base material is a film.

이들 중, 유리, PET 필름, 락톤 고리 함유 수지 필름, 이접착성 PET 필름, TAC 필름, 반사 방지 필름 및 전자파 차폐 필름이 투명기재로서 바람직하게 사용된다. 투명기재로서, 유리 등의 무기 기재를 사용하는 경우에는, 알칼리 성분이 적은 것이 근적외선 흡수 색소의 내구성의 관점에서 바람직하다.Among them, glass, PET film, lactone ring-containing resin film, easily adhesive PET film, TAC film, antireflection film, and electromagnetic wave shielding film are preferably used as the transparent substrate. When using inorganic base materials, such as glass, as a transparent base material, it is preferable from a viewpoint of the durability of a near-infrared absorbing dye that there are few alkali components.

본 발명의 근적외선 흡수재의 두께는, 일반적으로 0.1 ㎛~10 ㎜ 정도가 되나, 목적에 따라 적절히 결정된다. 또한 근적외선 흡수재에 포함되는 근적외선 흡수 색소의 함유량도 목적에 따라 적절히 결정된다.Although the thickness of the near-infrared absorber of this invention becomes about 0.1 micrometer-about 10 mm generally, it determines suitably according to the objective. Moreover, content of the near-infrared absorbing pigment contained in a near-infrared absorber is also suitably determined according to the objective.

본 발명의 근적외선 흡수재를 제작하는 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 예를 들면 다음의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, (I) 수지와 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 혼련하고, 가열성형하여 수지판 또는 필름을 제작하는 방법; (II) 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물과 모노머 또는 올리고머를 중합촉매의 존재하에 캐스트 중합하고, 수지판 또는 필름을 제작하는 방법; (III) 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 상기 투명기재 상에 코팅하는 방법 등이다.Although it does not specifically limit as a method of manufacturing the near-infrared absorber of this invention, For example, the following method can be used. For example, (I) the method of kneading a resin and the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, heat-molding, and producing a resin plate or a film; (II) a method of cast polymerizing the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition and monomer or oligomer of the present invention in the presence of a polymerization catalyst to produce a resin plate or film; (III) The method of coating the near-infrared absorption adhesive composition of this invention on the said transparent base material.

(I)의 제작방법으로서는, 사용하는 수지에 의해 가공온도, 필름화(수지판화) 조건 등이 다소 상이하나, 통상, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 수지의 분체 또는 펠릿에 첨가하고, 150~350℃로 가열, 용해시킨 후, 성형하여 수지판을 제작하는 방법, 압출기에 의해 필름화(수지판화)하는 방법 등을 들 수 있다.As the manufacturing method of (I), although processing temperature, film forming (resin engraving) conditions, etc. differ somewhat with the resin to be used, Usually, the near-infrared absorption adhesive composition of this invention is added to the resin powder or pellet, and it is 150- After heating and dissolving at 350 degreeC, the method of shaping | molding and producing a resin plate, the method of film-forming (resin engraving) by an extruder, etc. are mentioned.

(II)의 제작방법으로서는, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물과 모노머 또는 올리고머를 중합촉매의 존재하에 캐스트 중합하고, 그들의 혼합물을 틀(型) 내에 주입하고, 반응시켜서 경화시키거나, 또는 금형에 흘려넣고 틀 내에서 단단한 제품이 될 때까지 고화시켜서 성형하는 방법을 들 수 있다. 많은 수지가 이 과정으로 성형 가능하다. 그러한 수지의 구체예로서 아크릴 수지, 디에틸렌글리콜 비스(알릴카보네이트) 수지, 에폭시 수지, 페놀-포름알데히드 수지, 폴리스티렌 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 경도, 내열성, 내약품성이 우수한 아크릴 시트가 얻어지는 메타크릴산메틸의 괴상(塊狀) 중합에 의한 캐스팅법이 바람직하다.As the method for producing (II), the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition and monomer or oligomer of the present invention are cast-polymerized in the presence of a polymerization catalyst, and a mixture thereof is injected into a mold, reacted and cured or flowed into a mold. And molding by solidifying the mold until it becomes a solid product in the mold. Many resins can be molded in this process. Specific examples of such resins include acrylic resins, diethylene glycol bis (allylcarbonate) resins, epoxy resins, phenol-formaldehyde resins, polystyrene resins, silicone resins, and the like. Especially, the casting method by the bulk polymerization of methyl methacrylate from which the acrylic sheet excellent in hardness, heat resistance, and chemical resistance is obtained is preferable.

중합촉매로서는 공지의 라디칼 열중합개시제를 이용할 수 있고, 예를 들면 벤조일퍼옥시드, p-클로로벤조일퍼옥시드, 디이소프로필퍼옥시카보네이트 등의 과산화물, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물을 들 수 있다. 그 사용량은 혼합물의 총량에 대해, 일반적으로 0.01~5 질량%이다. 열중합에 있어서의 가열온도는, 일반적으로 40~200℃이고, 중합시간은 일반적으로 30분~8시간 정도이다. 또한 열중합 이외에, 광중합개시제나 증감제를 첨가하여 광중합하는 방법도 이용할 수 있다.A well-known radical thermal polymerization initiator can be used as a polymerization catalyst, For example, Azo compounds, such as peroxides, such as a benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, and azobisisobutyronitrile, are mentioned. Can be. The usage-amount is generally 0.01-5 mass% with respect to the total amount of a mixture. The heating temperature in thermal polymerization is generally 40-200 degreeC, and polymerization time is generally about 30 minutes-about 8 hours. Moreover, in addition to thermal polymerization, the method of photopolymerizing by adding a photoinitiator and a sensitizer can also be used.

(III)의 방법으로서는, 본 발명의 근적외 흡수재료를 투명기재 상에 코팅하는 방법, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 미립자에 고정화하고, 그 미립자를 분산시킨 도료를 투명기재 상에 코팅하는 방법 등이 있다.As the method of (III), the method of coating the near-infrared absorbent material of this invention on a transparent base material, the method of immobilizing the near-infrared absorption adhesive composition of this invention to microparticles | fine-particles, and coating the coating material which disperse | distributed the microparticles | fine-particles on a transparent base material Etc.

기재에 근적외선 흡수 점착제 조성물을 도포할 때는 공지의 도공기를 사용할 수 있다. 예를 들면 콤마 코터 등의 나이프 코터, 슬롯 다이 코터, 립 코터 등의 파운텐 코터, 마이크로 그라비아 코터 등의 키스 코터, 그라비아 코터, 리버스 롤 코터 등의 롤 코터, 플로우 코터, 스프레이 코터, 바 코터를 들 수 있다. 도포 전에 코로나 방전처리, 플라즈마처리 등의 공지의 방법으로 기재의 표면처리를 행해도 된다. 건조·경화방법으로서는, 열풍, 근적외선, UV 경화 등 공지의 방법을 사용할 수 있다. 건조·경화 후는 공지의 보호 필름과 함께 권취(捲取)해도 된다.A well-known coating machine can be used when apply | coating a near-infrared absorption adhesive composition to a base material. For example, a knife coater such as a comma coater, a fountain coater such as a slot die coater, a lip coater, a kiss coater such as a microgravure coater, a roll coater such as a gravure coater, a reverse roll coater, a flow coater, a spray coater, a bar coater Can be mentioned. You may surface-treat a base material by well-known methods, such as a corona discharge process and a plasma process, before application | coating. As a drying and hardening method, well-known methods, such as hot air, near-infrared, and UV hardening, can be used. After drying and hardening, you may wind up with a well-known protective film.

건조방법은 특별히 한정되지 않으나, 열풍건조나 원적외선 건조를 사용할 수 있다. 건조온도는 건조 라인의 길이, 라인속도, 도포량, 잔존 용제량, 기재의 종류 등을 고려하여 결정하면 된다. 기재가 PET 필름의 경우에는, 일반적인 건조온도는 50~150℃이다. 1 라인에 복수의 건조기가 있는 경우는, 각각의 건조기를 상이한 온도, 풍속으로 설정해도 된다. 도공 외관의 양호한 도막을 얻기 위해서는, 입구측 건조조건을 마일드하게 하는 것이 바람직하다.The drying method is not particularly limited, but hot air drying or far infrared drying can be used. The drying temperature may be determined in consideration of the length of the drying line, the line speed, the coating amount, the remaining solvent amount, the kind of the substrate, and the like. When a base material is a PET film, general drying temperature is 50-150 degreeC. When there are a plurality of dryers in one line, each dryer may be set to different temperature and wind speed. In order to obtain a favorable coating film of coating appearance, it is preferable to make mild the inlet side drying conditions.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 가시영역의 투명성 및 근적외선의 흡수능이 높은 우수한 광학 필터의 구성재료가 될 수 있다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 종래의 근적외선 흡수재료와 비교하여 내구성, 특히 내열성 및 내광성이 높기 때문에, 장기간의 보관이나 사용으로도 외관과 근적외선 흡수능이 유지된다. 또한, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 시트나 필름형상으로 하는 것이 용이하기 때문에, 박형 디스플레이용이나 광반도체소자용에 유효하다. 그 밖에, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 적외선을 컷트할 필요가 있는 필터나 필름, 예를 들면 농업용 필름, 단열 필름, 선글래스, 광기록재료 등에도 사용할 수 있다.The near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can be a constituent material of an excellent optical filter having high transparency in the visible region and high absorption ability in the near infrared. Since the near-infrared absorption adhesive composition of this invention has high durability, especially heat resistance and light resistance compared with the conventional near-infrared absorbing material, external appearance and near-infrared absorption ability are maintained by long term storage and use. Moreover, since the near-infrared absorption adhesive composition of this invention is easy to make into a sheet | seat or a film form, it is effective for a thin display and an optical semiconductor element. In addition, the near-infrared absorption adhesive composition of this invention can be used also for the filter and film which need to cut infrared rays, for example, an agricultural film, a heat insulation film, a sunglass, an optical recording material.

11. 광학 필터11. Optical filter

근적외선 흡수재의 바람직한 용도로서, 광학 필터를 들 수 있다. 이 광학 필터는, 상기 근적외선 흡수재를 사용해서 된다. 이 광학 필터는, 광반도체소자용 광학 필터 또는 박형 디스플레이용 광학 필터로서 바람직하다. 이러한 광학 필터는, 가시영역의 전광선투과율이 40% 이상, 바람직하게는 50% 이상, 더욱 바람직하게는 60% 이상이고, 파장 800~1100 nm의 근적외선의 투과율이 30% 이하, 바람직하게는 15% 이하, 더욱 바람직하게는 5% 이하이다. An optical filter is mentioned as a preferable use of a near-infrared absorber. This optical filter should use the said near-infrared absorber. This optical filter is suitable as an optical filter for an optical semiconductor element or an optical filter for a thin display. Such an optical filter has a total light transmittance of 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 60% or more in the visible region, and a transmittance of near infrared rays having a wavelength of 800 to 1100 nm is 30% or less, preferably 15%. Hereinafter, More preferably, it is 5% or less.

본 발명의 광학 필터에는, 상기 근적외선 흡수 점착제 조성물로 되는 근적외선 흡수층 외에, 전자파 차폐층, 반사 방지층, 번쩍거림 방지(안티글레어)층, 흠집 방지층, 색 조정층, 유리 등의 지지체 등이 설치되어 있어도 된다.The optical filter of the present invention may be provided with an electromagnetic wave shielding layer, an antireflection layer, an antiglare (antiglare) layer, a scratch prevention layer, a color adjustment layer, a support such as glass, or the like, in addition to the near infrared absorption layer of the near infrared absorption adhesive composition. do.

광학 필터의 각 층의 구성은 임의로 선택하면 된다. 예를 들면, 바람직하게는 반사 방지층과 번쩍거림 방지층 중 적어도 어느 한층과, 근적외선 흡수층의 적어도 2층을 조합시킨 광학 필터가 바람직하고, 보다 바람직하게는 추가로 전자파 차폐층을 조합시킨 적어도 3층을 갖는 광학 필터이다.What is necessary is just to select the structure of each layer of an optical filter arbitrarily. For example, the optical filter which preferably combined at least one layer of an anti-reflective layer and an anti-glare layer, and at least 2 layers of a near-infrared absorption layer is preferable, More preferably, at least 3 layer which combined the electromagnetic wave shielding layer furthermore It is an optical filter which has.

반사 방지층, 또는 번쩍거림 방지층이 사람쪽의 최표층이 되는 것이 바람직하다. 근적외선 흡수층과 전자파 차폐층 상호간의 적층 순서는 임의이다. 또한, 3층의 사이에는 흠집 방지층, 색 조정층, 충격 흡수층, 지지체, 투명기재 등의 다른 층이 삽입되어 있어도 된다.It is preferable that the antireflection layer or the antiglare layer be the outermost layer on the human side. The order of lamination between the near-infrared absorbing layer and the electromagnetic shielding layer is arbitrary. In addition, other layers, such as a scratch prevention layer, a color adjustment layer, an impact absorption layer, a support body, and a transparent base material, may be inserted between three layers.

각 층을 맞붙일 때에는 코로나처리, 플라즈마처리 등의 물리적인 처리를 해도 되고, 폴리에틸렌이민, 옥사졸린계 폴리머, 폴리에스테르, 셀룰로오스 등의 공지의 고극성 폴리머를 앵커 코트제로서 사용해도 된다.When bonding each layer, physical treatments, such as corona treatment and a plasma treatment, may be performed, and well-known high polar polymers, such as polyethyleneimine, an oxazoline type polymer, polyester, and cellulose, may be used as an anchor coat agent.

박형 디스플레이용 광학 필터에는, 화면을 보기 쉽게 하기 위해서, 반사 방지층 또는 번쩍거림 방지층을 사람쪽의 최표층에 설치하는 것이 바람직하다.In the optical filter for thin display, in order to make a screen easy to see, it is preferable to provide an antireflection layer or an anti-glare layer in the outermost layer of a person.

반사 방지층은, 표면의 반사를 억제하여, 표면으로의 형광등 등의 외광의 비침을 방지하기 위한 것이다. 반사 방지층은, 금속 산화물, 불화물, 규화물, 붕화물, 탄화물, 질화물, 황화물 등의 무기물의 박막으로 되는 경우와, 아크릴 수지, 불소 수지 등의 굴절률이 상이한 수지를 단층 또는 다층으로 적층시킨 것으로 되는 경우가 있고, 전자의 경우의 제조방법으로서, 증착이나 스퍼터링법을 사용하여 단층 또는 다층의 형태로, 투명기재 상에 반사 방지 코팅을 형성시키는 방법이 있다. 또한, 후자의 경우의 제조방법으로서, 투명 필름 상에, 콤마 코터 등의 나이프 코터, 슬롯 코터, 립 코터 등의 파운텐 코터, 그라비아 코터, 플로우 코터, 스프레이 코터, 바 코터를 사용하여 투명기재의 표면에 반사 방지 코팅을 도포하는 방법이 있다.The antireflection layer is for suppressing reflection of the surface and preventing the reflection of external light such as a fluorescent lamp onto the surface. The antireflection layer is a thin film of an inorganic material such as a metal oxide, a fluoride, a silicide, a boride, a carbide, a nitride, a sulfide, or a laminate of a resin having a different refractive index such as an acrylic resin or a fluorine resin in a single layer or a multilayer. As the manufacturing method in the former case, there is a method of forming an antireflective coating on a transparent substrate in the form of a single layer or a multilayer by using vapor deposition or sputtering. Further, in the latter case, a transparent base material is used on a transparent film by using a knife coater such as a comma coater, a slot coater, a lip coater, a fountain coater, a gravure coater, a flow coater, a spray coater or a bar coater. There is a method of applying an antireflective coating to the surface.

번쩍거림 방지층은, 실리카, 멜라민 수지, 아크릴 수지 등의 미분체를 잉크화하고, 종래 공지의 도포법으로, 본 발명의 필터 중 어느 하나의 층 상에 도포하여, 열 또는 광경화시킴으로써 형성된다. 또한, 안티글레어 처리한 필름을 그 필터 상에 첩부(貼付)해도 된다.The anti-glare layer is formed by incorporating fine powders such as silica, melamine resins, acrylic resins, and the like by applying a conventionally known coating method onto any one of the filters of the present invention and heat or photocuring them. Moreover, you may affix the film which carried out antiglare on the filter.

또한, 흠집 방지층은, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 다관능 아크릴레이트 등의 아크릴레이트와 광중합개시제를 유기용제에 용해 또는 분산시킨 도포액을 종래 공지의 도포법으로, 본 발명의 필터 중 어느 하나의 층 상에, 도포하여, 건조시키고, 광경화시킴으로써 형성된다.In addition, the scratch prevention layer is any one of the filters of this invention which apply | coated the coating liquid which melt | dissolved or disperse | distributed the acrylate, such as a urethane acrylate, an epoxy acrylate, and polyfunctional acrylate, and a photoinitiator to the organic solvent, by a conventionally well-known coating method. It is formed by applying, drying and photocuring on the layer of.

반사 방지층 또는 번쩍거림 방지층과 근적외선 흡수층을 갖는 광학 필터는, 반사 방지 필름 또는 번쩍거림 방지 필름의 이면(裏面)에 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물 또는 근적외선 흡수재로 되는 층을 적층시킴으로써 얻어진다. 적층시키는 방법으로서는, 필름형상으로 한 본 발명의 근적외선 흡수층과 반사 방지 필름 또는 번쩍거림 방지 필름을 직접 맞붙여도 되고, 용액화한 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 반사 방지 필름 또는 번쩍거림 방지 필름의 이면에 직접 도포해도 된다. 반사 방지 필름 또는 번쩍거림 방지 필름의 이면에 근적외선 흡수층을 설치하는 경우에는, 자외선에 의한 색소의 열화를 억제하기 위해, 투명기재로서 자외선 흡수 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은 점착성을 가지고 있다. 따라서, 근적외선 흡수층과, 다른 층이 접착되는 경우, 점착제나 접착제가 불필요해질 수 있다. 근적외선 흡수층은, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 포함하는 층이다.The optical filter which has an antireflection layer or an anti-glare layer and a near-infrared absorption layer is obtained by laminating | stacking the layer which becomes the near-infrared absorption adhesive composition or near-infrared absorber of this invention on the back surface of an anti-reflection film or an anti-glare film. As a method of laminating | stacking, the near-infrared absorption layer of this invention made into the film form, an anti-reflective film, or an anti-glare film may be directly stuck together, and the near-infrared absorptive adhesive composition of this invention which liquefied was made into the back surface of an anti-reflection film or an anti-glare film. You may apply directly to. When providing a near-infrared absorption layer on the back surface of an antireflection film or an anti-glare film, it is preferable to use an ultraviolet absorption film as a transparent base material, in order to suppress deterioration of the pigment | dye by an ultraviolet-ray. The near-infrared absorption adhesive composition of this invention has adhesiveness. Therefore, when a near-infrared absorption layer and another layer adhere | attach, an adhesive or an adhesive agent may become unnecessary. The near-infrared absorption layer is a layer containing the near-infrared absorption adhesive composition of this invention.

플라즈마 디스플레이용 광학 필터에는, 패널로부터 발생하는 전자파를 제거하기 위해, 전자파 차폐층을 설치하는 것이 바람직하다.It is preferable to provide an electromagnetic wave shielding layer in the optical filter for plasma displays in order to remove the electromagnetic wave which generate | occur | produces from a panel.

전자파 차폐층은 에칭, 인쇄 등의 수법으로 금속의 메쉬를 필름 상에 패터닝한 것을 수지로 평활화한 필름이나, 섬유 메쉬 상에 금속을 증착시킨 것을 수지 중에 포매(抱埋)한 필름이 사용된다. 이들 필름은 전자파 차폐 필름 또는 전자파 실드 필름으로 칭해지고 있다. As the electromagnetic wave shielding layer, a film obtained by smoothing a pattern of a metal mesh on a film by etching or printing, or a film embedded in a resin by depositing a metal on a fiber mesh is used. These films are called electromagnetic wave shielding films or electromagnetic shielding films.

근적외선 흡수층과 전자파 차폐층의 2층을 갖는 광학 필터는 전자파 방지재료와 근적외선 흡수 점착제 조성물을 복합화함으로써 얻어진다. 복합화시키는 방법으로서는, 필름형상으로 한 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물과 전자파 차폐 필름을 맞붙여도 되고, 용액화한 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 전자파 차폐 필름에 직접 도포해도 된다. 또한, 필름 상의 금속 메쉬를 평활화할 때에 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 사용하는 것도 가능하다. 또한, 금속을 증착한 섬유를 포매할 때, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 사용하는 것도 가능하다.The optical filter which has two layers of a near-infrared absorption layer and an electromagnetic wave shielding layer is obtained by compounding an electromagnetic wave prevention material and a near-infrared absorption adhesive composition. As a method of compounding, the near-infrared absorption adhesive composition of this invention made into the film form, and an electromagnetic wave shielding film may be stuck together, and the near-infrared absorption adhesive composition of this invention which was made into solution may be directly apply | coated to an electromagnetic wave shielding film. Moreover, when smoothing the metal mesh on a film, it is also possible to use the near-infrared absorption adhesive composition of this invention. In addition, when embedding the metal vapor deposited, it is also possible to use the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition of the present invention.

근적외선 흡수층, 반사 또는 번쩍거림 방지층 및 전자파 차폐층의 3층을 갖는 광학 필터로서는, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물로 되는 근적외선 흡수 필름, 반사 또는 번쩍거림 방지 필름, 전자파 차폐 필름의 3장을 맞붙인 것을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물로 되는 근적외선 흡수 필름이, 반사 또는 번쩍거림 방지 필름과, 전자파 차폐 필름 사이에 끼인 구조를 갖는 광학 필터가 바람직하다. 이 광학 필터는, 근적외선 흡수 필름의 점착성을 이용하여 적층되어 있기 때문에, 종래 필름끼리의 맞붙임만을 위해서 설치되어 있던 점착층을 생략하고 제조될 수 있다. 필요에 따라 유리 등의 지지체나 색 조정 필름 등의 기능성 필름을 맞붙여도 된다.As an optical filter which has three layers of a near-infrared absorption layer, a reflection or an anti-glare layer, and an electromagnetic wave shielding layer, three sheets of the near-infrared absorption film, a reflection or an anti-glare film, and an electromagnetic wave shielding film which consist of the near-infrared absorption adhesive composition of this invention were bonded together. Can be used. Preferably, the optical filter which has a structure in which the near-infrared absorption film which becomes the near-infrared absorption adhesive composition of this invention is sandwiched between a reflection or the anti-glare film, and an electromagnetic wave shielding film is preferable. Since this optical filter is laminated | stacked using the adhesiveness of a near-infrared absorbing film, it can be manufactured omitting the adhesive layer provided conventionally only for bonding of films. As needed, you may paste together support bodies, such as glass, and functional films, such as a color adjustment film.

특히, 근적외선 흡수층을 전자파 차폐층에 적층시킨 광학 필터는, 근적외선 흡수 점착제 조성물이 전자파를 차폐할 수 있는 전자파 차폐재에 적층되어 되는 것이다. 이 광학 필터의 경우는, 전자파 차폐층은, 전자파 차폐성 및 화상의 투과성을 갖도록 형성된 것이면 되고, 이 전자파 차폐층의 구성, 조성 등은 특별히 제한되지 않는다. 이 전자파 차폐층을 구성할 수 있는 전자파 차폐재로서는, 금, 구리, 알루미늄 등의 금속의 증착, 도금 등에 의해 형성되는 박막상의 금속층 및 도전성 물질을 포함하는 투명한 도전박막이 예시된다. 전자파 차폐층이 금속층을 갖는 경우에는, 전자파 차폐성 및 화상의 투과성의 관점에서, 이 금속층으로서는, 메쉬상으로 형성된 것(이하, 금속 메쉬층)이 보다 바람직하다. In particular, the optical filter in which the near-infrared absorbing layer is laminated on the electromagnetic wave shielding layer is such that the near-infrared absorbent pressure-sensitive adhesive composition is laminated on an electromagnetic wave shielding material capable of shielding electromagnetic waves. In the case of this optical filter, the electromagnetic wave shielding layer should just be formed so that it may have electromagnetic wave shielding property and the image permeability, and the structure, composition, etc. of this electromagnetic wave shielding layer are not specifically limited. As an electromagnetic wave shielding material which can comprise this electromagnetic wave shielding layer, the transparent conductive thin film containing the thin-film metal layer formed by vapor deposition, plating, etc. of metals, such as gold, copper, aluminum, and an electroconductive substance, is illustrated. In the case where the electromagnetic wave shielding layer has a metal layer, from the viewpoint of electromagnetic wave shielding property and image permeability, one formed in a mesh shape (hereinafter, referred to as a metal mesh layer) is more preferable.

전자파 차폐층을 구성할 수 있는 전자파 차폐재에는, 전술한 투명기재로서의 전자파 차폐 필름도 포함된다. 이 전자파 차폐 필름로서, 에칭, 인쇄 등의 수법으로 금속의 메쉬를 필름 상에 패터닝한 것이 사용되는 경우, 에칭, 인쇄 등의 필름 상에 패터닝된 금속의 메쉬가, 전술한 금속 메쉬층을 구성한다.The electromagnetic wave shielding material which can comprise an electromagnetic wave shielding layer also contains the electromagnetic wave shielding film as a transparent base material mentioned above. As the electromagnetic shielding film, when a metal mesh is patterned on a film by a method such as etching or printing, the metal mesh patterned on the film such as etching or printing constitutes the metal mesh layer described above. .

이 근적외선 흡수층을 전자파 차폐층에 적층시킨 광학 필터에 있어서, 전자장 차폐층이 금속 메쉬층을 갖는 경우에는, 이 금속 메쉬층은 근적외선 흡수층과 맞닿는다. 이러한 광학 필터의 경우는, 근적외선 흡수층에 금속의 메쉬가 직접 첩합(貼合)되어, 메쉬로 되는 금속 메쉬층이 근적외선 흡수층 상에 형성되어도 된다. 근적외선 흡수층을 구리 등의 금속으로 도금한 후에 이를 에칭함으로써, 에칭된 도금층으로 되는 금속 메쉬층이 근적외선 흡수층 상에 형성되어도 된다. 근적외선 흡수층에 팔라듐 등의 촉매를 갖는 페이스트상의 잉크로 메쉬 패턴을 인쇄한 후 이 금속으로 도금함으로써, 메쉬상으로 형성된 도금층으로 되는 금속 메쉬층이 근적외선 흡수층 상에 형성되어도 된다. 추가로 금속 금속 메쉬층이 그 겉쪽에 형성된 전자파 차폐 필름을 사용하여, 이 금속 메쉬층을 근적외선 흡수층에 직접 첩합함으로써, 이 근적외선 흡수층 상에 금속 메쉬층이 적층된 광학 필터가 구성되어도 된다. 또한, 전자파 차폐성의 관점에서, 금속 메쉬층의 두께는 1 ㎛ 이상이 바람직하다. 시야각의 협소화 및 시인성(視認性)의 저하가 방지될 수 있다는 관점에서, 금속 메쉬층의 두께는 10 ㎛ 이하가 바람직하다.In the optical filter in which the near infrared absorbing layer is laminated on the electromagnetic wave shielding layer, when the electromagnetic shielding layer has a metal mesh layer, the metal mesh layer is in contact with the near infrared absorbing layer. In the case of such an optical filter, a metal mesh may be directly bonded to a near-infrared absorption layer, and the metal mesh layer used as a mesh may be formed on a near-infrared absorption layer. By plating the near-infrared absorbing layer with a metal such as copper and then etching it, a metal mesh layer serving as the etched plating layer may be formed on the near-infrared absorbing layer. By printing a mesh pattern with a paste ink having a catalyst such as palladium on the near infrared absorbing layer and plating with the metal, a metal mesh layer serving as a plating layer formed in a mesh shape may be formed on the near infrared absorbing layer. In addition, an optical filter in which a metal mesh layer is laminated on the near infrared absorbing layer may be formed by directly bonding the metal mesh layer to the near infrared absorbing layer using an electromagnetic wave shielding film having a metal metal mesh layer formed on the outside thereof. In addition, from the viewpoint of electromagnetic shielding properties, the thickness of the metal mesh layer is preferably 1 µm or more. From the viewpoint of narrowing of the viewing angle and deterioration of visibility, the thickness of the metal mesh layer is preferably 10 m or less.

전술한 광학 필터와 같이 금속 메쉬층이 근적외선 흡수층에 직접 적층되는 경우, 그 산가가 0 이상 35 이하인 수지(B)를 포함하는 근적외선 흡수 점착제 조성물이 사용되는 것이 바람직하다. 이 경우, 디이모늄염의 양호한 분산상태가 유지되는 동시에, 이 디이모늄염의 열화가 억제되어, 색소, 금속층 및 점착제의 변색이 방지될 수 있기 때문에, 근적외선 흡수능의 지속성이 높은 광학 필터가 얻어질 수 있다.When a metal mesh layer is laminated directly on a near-infrared absorption layer like the optical filter mentioned above, it is preferable that the near-infrared absorption adhesive composition containing resin (B) whose acid value is 0-35 is used. In this case, since a good dispersion state of the dimonium salt is maintained, and deterioration of the dimonium salt can be suppressed and discoloration of the dye, the metal layer and the adhesive can be prevented, an optical filter with high persistence of near infrared absorption ability can be obtained. Can be.

광학 필터의 제조공정이나 필름 구성을 더욱 간략화하기 위해서는, 복수의 기능을 갖는 복합화 필름을 사용하는 것이 좋다. 바람직한 광학 필터는, 1장의 필름에 전자파 차폐층과 반사 또는 번쩍거림 방지층을 포함하는 복합화 필름에, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물로 되는 근적외선 흡수 점착층을 맞붙인 광학 필터이다.In order to simplify the manufacturing process and film structure of an optical filter further, it is good to use the composite film which has several functions. A preferable optical filter is an optical filter which pasted the near-infrared absorption adhesive layer which becomes the near-infrared absorption adhesive composition of this invention to the composite film containing an electromagnetic wave shielding layer and a reflection or anti-glare layer in one film.

본 발명의 박형 디스플레이용 광학 필터는 표시장치로부터 떨어뜨려 설치해도 되고, 표시장치에 직접 첩부해도 된다. 표시장치로부터 떨어뜨려 설치하는 경우는 지지체로서 유리를 사용하는 것이 바람직하다. 표시장치에 직접 맞붙이는 경우에는 유리를 사용하지 않는 광학 필터가 바람직하다.The optical filter for thin displays of this invention may be installed away from a display apparatus, or may be directly affixed on a display apparatus. It is preferable to use glass as a support body when installing away from a display apparatus. In the case of directly adhering to the display device, an optical filter using no glass is preferable.

12. 박형 디스플레이12. Thin display

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물을 적층한 광학 필터를 박형 디스플레이에 탑재하면, 장기간에 걸쳐 양호한 화질이 유지된다. 박형 디스플레이에 관한 본 발명은, 본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물, 본 발명의 근적외선 흡수재, 또는 본 발명의 광학 필터를 사용해서 되는, 박형 디스플레이이다. 표시체에 직접 광학 필터를 맞붙인 박형 디스플레이는 보다 선명한 화질이 얻어진다. 광학 필터를 직접 맞붙이는 경우는 표시체의 유리를 강화유리를 사용하거나, 충격 흡수층을 설치한 광학 필터를 사용하는 것이 바람직하다.When the optical filter which laminated | stacked the near-infrared absorption adhesive composition of this invention is mounted on a thin display, favorable image quality will be maintained over a long period of time. This invention regarding a thin display is a thin display using the near-infrared absorption adhesive composition of this invention, the near-infrared absorber of this invention, or the optical filter of this invention. A thin display in which an optical filter is directly bonded to a display body has a clearer picture quality. When directly attaching an optical filter, it is preferable to use tempered glass for the glass of a display body, or to use the optical filter which provided the impact absorption layer.

본 발명의 광학 필터를 표시장치에 첩부할 때의 점착제로서는, 스티렌부타디엔 고무, 폴리이소프렌 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 천연 고무, 네오프렌 고무, 클로로프렌 고무, 부틸 고무 등의 고무류나 폴리아크릴산메틸, 폴리아크릴산에틸, 폴리아크릴산부틸 등의 폴리아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 사용되어도 되고, 추가로 점착 부여제로서 픽코라이트, 폴리베르, 로진 에스테르 등을 첨가한 것을 사용해도 된다. 또한, 일본국 특허공개 제2004-263084호 공보에서 나타내어져 있는 바와 같이 충격 흡수능을 갖는 점착제를 사용할 수 있으나, 이것에 한정되는 것은 아니다. 점착제를 사용하지 않고, 근적외선 흡수층의 점착성을 이용하여, 본 발명의 광학 필터가 표시장치에 첩부되어도 된다.As an adhesive when affixing the optical filter of this invention to a display apparatus, rubbers, such as styrene butadiene rubber, polyisoprene rubber, polyisobutylene rubber, natural rubber, neoprene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, methyl polyacrylate, poly Polyacrylic-acid alkylesters, such as ethyl acrylate and butyl polyacrylate, etc. are mentioned, These may be used independently, Furthermore, what added the picolite, polyber, rosin ester, etc. may be used as a tackifier. Moreover, although the adhesive which has a shock absorbing ability can be used as shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-263084, it is not limited to this. The optical filter of this invention may be affixed on a display apparatus using the adhesiveness of a near-infrared absorption layer, without using an adhesive.

이 점착층의 두께는, 통상 5~2000 ㎛, 바람직하게는 10~1000 ㎛이다. 점착제층의 표면에 박리 필름을 설치하고, 이 박리 필름에 의해, 광학 필터를 박형 디스플레이의 표면에 맞붙일 때까지의 사이, 점착제층을 보호하여, 점착제층에 먼지 등이 부착되지 않도록 하는 것도 좋다. 이 경우, 필터의 연능부(緣綾部)의 점착제층과 박리 필름 사이에, 점착제층을 설치하지 않는 부분을 형성하거나 비점착성의 필름을 끼우거나 하여 비점착 부분을 형성하고, 이 비점착 부분을 박리 개시부로 하면, 첩착(貼着)시의 작업이 하기 쉽다.The thickness of this adhesion layer is 5-2000 micrometers normally, Preferably it is 10-1000 micrometers. A peeling film may be provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive layer may be protected by the release film until the optical filter adheres to the surface of the thin display to prevent dust or the like from adhering to the pressure-sensitive adhesive layer. . In this case, a non-adhesive part is formed between a pressure-sensitive adhesive layer of the functional part of the filter and a release film by forming a portion without providing the pressure-sensitive adhesive layer or sandwiching a non-adhesive film, thereby forming the non-adhesive portion. When it sets as a peeling start part, the work at the time of sticking is easy to do.

충격 흡수층은 표시장치를 외부로부터의 충격으로부터 보호하기 위한 것이다. 지지체를 사용하지 않는 광학 필터에서 사용하는 것이 바람직하다. 충격 흡수재로서는 일본국 특허공개 제2004-246365호 공보, 일본국 특허공개 제2004-264416호 공보에 나타내어져 있는 바와 같은, 에틸렌-초산비닐 공중합체, 아크릴계 폴리머, 폴리염화비닐, 우레탄계, 실리콘계 수지 등을 사용할 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.The shock absorbing layer is for protecting the display device from an impact from the outside. It is preferable to use it in the optical filter which does not use a support body. As the shock absorber, ethylene-vinyl acetate copolymers, acrylic polymers, polyvinyl chloride, urethanes, silicone resins, etc., as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-246365 and Japanese Patent Laid-Open No. 2004-264416 Can be used, but is not limited to these.

실시예Example

이하에 있어서, 실시예에 의해 본 발명이 구체적으로 설명된다. 이들 실시예는 조금도 본 발명을 제한하는 것은 아니다. 또한, 이하의 성분 비율에 있어서, 특별히 설명되지 않는 한, 「%」는 질량%를 의미하고, 「부」는 질량부를 의미하는 것으로 한다. 평가방법은 이하와 같다. In the following, the present invention is specifically described by way of examples. These examples do not limit the present invention in any way. In addition, in the following component ratios, unless otherwise indicated, "%" means the mass%, and "part" shall mean the mass part. The evaluation method is as follows.

(1) 내열시험(1) Heat test

시험체를 80℃의 항온 항습기 중에 1000시간 정치하고, 시험 전후에서의 350~1500 nm의 투과 스펙트럼을 측정하였다. 투과 스펙트럼의 측정에는 UV-3700(시마즈 제작소 제조)을 사용하였다. 얻어진 시험 전후의 투과 스펙트럼으로부터, λmax에 있어서의 색소 잔존율(%)을 평가하였다. 또한, 얻어진 시험 전후의 투과 스펙트럼으로부터 색차를 계산하여, b*의 변화를 평가하였다. 또한, λmax는, 시험 전의 측정결과를 토대로 결정되었다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. 또한, 시험 전후의 투과 스펙트럼을 토대로, △T가 산출되었다. 이 △T는, 내열시험 후의 투과율(%)에서 내열시험 전의 투과율(%)을 뺀 값(%)이다. 이 △T는, 파장 1000 nm에 있어서의 투과율의 변화이다. 이 △T가 하기의 표에 나타내어진다. The test body was allowed to stand for 1000 hours in an 80 degreeC constant temperature and humidity chamber, and the transmission spectrum of 350-1500 nm before and behind a test was measured. UV-3700 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used for the measurement of the transmission spectrum. The pigment | dye persistence (%) in (lambda) max was evaluated from the transmission spectrum before and behind the obtained test. In addition, the color difference was calculated from the transmission spectrum before and after the obtained test, and the change of b * was evaluated. In addition, (lambda) max was determined based on the measurement result before a test. This evaluation result is shown in the following table | surface. Moreover, ΔT was calculated based on the transmission spectrum before and after the test. ΔT is a value (%) obtained by subtracting the transmittance (%) before the heat resistance test from the transmittance (%) after the heat resistance test. This ΔT is a change in transmittance at a wavelength of 1000 nm. This ΔT is shown in the following table.

(2) 내습열성의 평가(2) Evaluation of heat and humidity resistance

시험체를 60℃, 90%RH의 항온 항습기 중에 1000시간 정치하고, 시험 전후에서의 350~1500 nm의 투과 스펙트럼을 측정하였다. 투과 스펙트럼의 측정에는 UV-3700(시마즈 제작소 제조)을 사용하였다. 얻어진 시험 전후의 투과 스펙트럼으로부터, λmax에 있어서의 색소 잔존율(%)을 평가하였다. 또한, 얻어진 시험 전후의 투과 스펙트럼으로부터 색차를 계산하여, b*의 변화를 평가하였다. 또한, λmax는, 시험 전의 측정결과를 토대로 결정되었다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. 또한, 시험 전후의 투과 스펙트럼을 토대로, △T가 산출되었다. 이 △T는, 내습열시험 후의 투과율(%)에서 내습열시험 전의 투과율(%)을 뺀 값(%)이다. 이 △T는, 파장 1000 nm에 있어서의 투과율의 변화이다. 이 △T가 하기의 표에 나타내어진다. The test body was allowed to stand for 1000 hours in a constant temperature and humidity chamber of 60 degreeC and 90% RH, and the transmission spectrum of 350-1500 nm before and behind a test was measured. UV-3700 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used for the measurement of the transmission spectrum. The pigment | dye persistence (%) in (lambda) max was evaluated from the transmission spectrum before and behind the obtained test. In addition, the color difference was calculated from the transmission spectrum before and after the obtained test, and the change of b * was evaluated. In addition, (lambda) max was determined based on the measurement result before a test. This evaluation result is shown in the following table | surface. Moreover, ΔT was calculated based on the transmission spectrum before and after the test. This (DELTA) T is the value (%) which subtracted the transmittance | permeability (%) before the moisture-resistant heat test from the transmittance | permeability (%) after a moisture-resistant heat test. This ΔT is a change in transmittance at a wavelength of 1000 nm. This ΔT is shown in the following table.

(3) 내광성의 평가(3) evaluation of light resistance

스가 시험기사 제조의 「SX2-75 슈퍼 크세논 웨더 미터」로, 63℃, 50%RH의 환경하, 시험편에, 300~400 nm에 있어서의 조사강도가 60 W/㎡인 빛을 100시간 조사하였다. 이 시험 전후의 각각에 있어서, 350~1500 nm의 빛의 투과 스펙트럼을 측정하였다. 투과 스펙트럼의 측정에는 UV-3700(시마즈 제작소 제조)을 사용하였다. 얻어진 시험 전후의 투과 스펙트럼으로부터, λmax에 있어서의 색소 잔존율(%)을 평가하였다. 또한, 얻어진 시험 전후의 투과 스펙트럼으로부터 색차를 계산하여, b*의 변화를 평가하였다. 또한, λmax는, 시험 전의 측정결과를 토대로 결정되었다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. 또한, 시험 전후의 투과 스펙트럼을 토대로, △T가 산출되었다. 이 △T는, 내광시험 후의 투과율(%)에서 내광시험 전의 투과율(%)을 뺀 값(%)이다. 이 △T는, 파장 1000 nm에 있어서의 투과율의 변화이다. 이 △T가 하기의 표에 나타내어진다. In "SX2-75 super xenon weather meter" made by Suga Test Co., Ltd., the test piece was irradiated with light having a irradiation intensity of 60 W / m 2 at 300 to 400 nm for 100 hours under an environment of 63 ° C. and 50% RH. . In each before and after this test, the transmission spectrum of 350-1500 nm light was measured. UV-3700 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used for the measurement of the transmission spectrum. The pigment | dye persistence (%) in (lambda) max was evaluated from the transmission spectrum before and behind the obtained test. In addition, the color difference was calculated from the transmission spectrum before and after the obtained test, and the change of b * was evaluated. In addition, (lambda) max was determined based on the measurement result before a test. This evaluation result is shown in the following table | surface. Moreover, ΔT was calculated based on the transmission spectrum before and after the test. ΔT is a value (%) obtained by subtracting the transmittance (%) before the light resistance test from the transmittance (%) after the light resistance test. This ΔT is a change in transmittance at a wavelength of 1000 nm. This ΔT is shown in the following table.

전술한 바와 같이, 내열성, 내습열성 및 내광성의 평가에 있어서는, 색소 잔존율(%)이 측정되었다. 시험 후의 λmax에서의 흡광도가 Ax(%)가 되고, 시험 전의 λmax에서의 흡광도가 Bx(%)가 될 때, 색소 잔존율 Px(%)는 하기의 식으로 계산된다.As mentioned above, in evaluation of heat resistance, heat-and-moisture resistance, and light resistance, the pigment | dye persistence (%) was measured. When the absorbance at lambda max after the test is Ax (%) and the absorbance at lambda max before the test is Bx (%), the dye residual ratio Px (%) is calculated by the following equation.

Figure pct00015
Figure pct00015

(4) 디이모늄염의 상기 흡광도(X)(4) the absorbance (X) of the dimonium salt

전술한 방법에 의해 측정되었다.It was measured by the method described above.

(5) 디이모늄염의 상기 용해도(Y)(5) the solubility (Y) of the dimonium salt

5종류의 샘플을 사용한 전술한 측정방법에 의해 측정되었다.It measured by the above-mentioned measuring method using five types of samples.

(6) 산가의 측정(6) measurement of acid value

수지 0.5 g을 정확하게 칭량하고, 톨루엔 50 g을 첨가하여 균일하게 용해시켰다. 지시약으로서 페놀프탈레인/알코올용액을 2~3방울 첨가하고, 0.1 N 수산화칼륨/알코올용액으로 적정하여, 액의 붉은 기가 약 30초에 사라지게 되었을 때를 종점(終点)으로 하였다. 이 때의 적정량과 수지의 고형분으로부터 산가를 구하였다. 산가는, 수지 고형분 1 g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 ㎎로 표시된다.0.5 g of the resin was accurately weighed and 50 g of toluene was added to dissolve uniformly. As an indicator, 2-3 drops of a phenolphthalein / alcohol solution were added, titrated with 0.1 N potassium hydroxide / alcohol solution, and the end point was set when the red group of the solution disappeared in about 30 seconds. The acid value was calculated | required from the appropriate amount at this time and solid content of resin. The acid value is expressed in mg of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the resin solid content.

합성예 1:Synthesis Example 1:

[디이모늄 화합물 a1의 합성 및 근적외선 흡수 혼합물 1의 제작][Synthesis of Dimonium Compound a1 and Preparation of Near-infrared Absorption Mixture 1]

디메틸포름아미드(DMF) 36부 중에, N,N,N',N'-테트라키스(p-디(iso-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디아민 6부를 첨가하고, 60℃로 가열용해하였다. 그 후, 트리스(트리플루오로메틸설포닐)메탄 58.4% 수용액 10.1부를 첨가하였다. 다음으로, DMF 35부에 용해한 질산은 2.32부를 첨가하고, 30분간 가열교반하였다. 불용해분을 여과 분별한 후, 반응액에 물을 첨가하고, 석출된 결정을 여과, 메탄올 세정, 수세 및 건조하여, 8.4부의 트리스(트리플루오로메틸설포닐)메티드산-N,N,N',N'-테트라키스(p-디(iso-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디이모늄(이하, 화합물 a1이라고도 한다)을 얻었다. 이 화합물 a1은, 상기 화학식 2에 있어서의, R1~R8이 모두 iso-부틸기이고, 또한 상기 화학식 2에 있어서의 Z-가 [(CF3SO2)3C-]인 디이모늄염이다. 이 화합물 a1의 상기 흡광도(X)는, 용매가 톨루엔인 경우가 0.138(λmax는 1096 nm)이고, 용매가 초산에틸인 경우가 0.239(λmax는 1081 nm)였다. 이 화합물 a1의 상기 용해도(Y)를 측정한 바, 용매가 톨루엔인 경우가 0.01 질량% 미만이고, 용매가 초산에틸인 경우가 0.01 질량% 미만이었다. In 36 parts of dimethylformamide (DMF), 6 parts of N, N, N ', N'-tetrakis (p-di (iso-butyl) aminophenyl) -p-phenylenediamine was added, and it melt | dissolved at 60 degreeC. It was. Thereafter, 10.1 parts of a 58.4% aqueous solution of tris (trifluoromethylsulfonyl) methane was added. Next, 2.32 parts of nitric acid dissolved in 35 parts of DMF was added, and the mixture was heated and stirred for 30 minutes. After insoluble fractions were separated by filtration, water was added to the reaction solution, and the precipitated crystals were filtered, washed with methanol, washed with water and dried to give 8.4 parts of tris (trifluoromethylsulfonyl) methic acid-N, N, N ', N'-tetrakis (p-di (iso-butyl) aminophenyl) -p-phenylenedimonium (hereinafter also referred to as compound a1) was obtained. The compound a1 is a diimonium salt of the general formula (2) in which R 1 to R 8 are all isobutyl groups and Z - in the general formula ( 2 ) is [(CF 3 SO 2 ) 3 C - ] to be. The absorbance (X) of this compound a1 was 0.138 (λmax was 1096 nm) when the solvent was toluene, and 0.239 (λmax was 1081 nm) when the solvent was ethyl acetate. When the said solubility (Y) of this compound a1 was measured, it was less than 0.01 mass% when the solvent was toluene, and less than 0.01 mass% when the solvent was ethyl acetate.

0.5부의 상기 화합물 a1, 9.5부의 초산에틸 및 25부의 지르코니아 비드를 70 ㎖의 마요네즈병에 넣고, 페인트 쉐이커로 4시간 진탕한 후, 지르코니아 비드를 여과 분별하여, 화합물 a1을 포함하는 근적외선 흡수 혼합물 1을 얻었다. 또한, 지르코니아 비드는 닛카트사 제조이고, 그 입자경은 300 ㎛였다.0.5 parts of the compound a1, 9.5 parts of ethyl acetate and 25 parts of zirconia beads were placed in a 70 ml mayonnaise bottle, shaken with a paint shaker for 4 hours, and then the zirconia beads were filtered off to obtain a near infrared absorption mixture 1 containing compound a1. Got it. In addition, zirconia bead was the Nikkat company make, The particle diameter was 300 micrometers.

합성예 2:Synthesis Example 2:

[근적외선 흡수 혼합물 2의 제작][Production of Near Infrared Absorption Mixture 2]

9.5부의 초산에틸 대신에 9.5부의 톨루엔이 사용된 것 이외에는 합성예 1과 동일하게 하여, 근적외선 흡수 혼합물 2를 얻었다.A near-infrared absorption mixture 2 was obtained in the same manner as in Synthesis example 1 except that 9.5 parts of toluene was used instead of 9.5 parts of ethyl acetate.

합성예 3:Synthesis Example 3:

[디이모늄 화합물 b1의 합성 및 근적외선 흡수 혼합물 3의 제작][Synthesis of Dimonium Compound b1 and Preparation of Near-infrared Absorption Mixture 3]

DMF 30부 중에, N,N,N',N'-테트라키스(아미노페닐)-p-페닐렌디아민 3.8부, iso-부틸브로마이드 21부 및 탄산칼륨 15부를 첨가하고, 80℃에서 1시간, 추가로 90℃에서 7시간, 추가로 130℃에서 1시간 반응시켰다. 냉각 후, 여과하고, 이 반응액(여액)에 이소프로판올 30부를 첨가하여, 5℃ 이하에서 1시간 교반하였다. 생성된 결정을 메탄올로 세정한 후, 건조하여, 엷은 갈색의 결정상 화합물 2.5부를 얻었다. DMF 10부 중에 상기 결정상 화합물 1부를 첨가하고, 60℃로 가열하여 이 결정상 화합물을 용해시킨 액체 A1을 얻었다. DMF 10부에 육플루오르화안티몬산은 0.78부를 용해시켜서 얻어진 액체 B1을, 상기 액체 A1에 첨가하고, 30분 반응시켰다. 냉각 후, 석출된 은을 여과 분별하였다. 이 반응액(여액)에 물 10부를 천천히 적하하고, 적하 후 15분 교반하였다. 생성된 흑색 결정을 여과하고, 50부의 물로 세정하여, 얻어진 케이크(잔사)를 건조하고, 0.5부의 헥사플루오로안티몬산-N,N,N',N'-테트라키스(p-디(iso-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디이모늄(이하, 화합물 b1이라고도 한다)을 얻었다. 이 화합물 b1은, 상기 화학식 2에 있어서의, R1~R8이 모두 iso-부틸기이며, 또한 상기 화학식 2에 있어서의 Z-가 [SbF6 -]인 디이모늄염이다. 이 화합물 b1의 상기 흡광도(X)를 측정한 바, 용매가 톨루엔인 경우가 0.070(λmax는 1088 nm)이고, 용매가 초산에틸인 경우가 0.113(λmax는 1069 nm)이었다. 이 화합물 b1의 상기 용해도(Y)를 측정한 바, 용매가 톨루엔인 경우 0.01 질량% 미만이고, 용매가 초산에틸인 경우 0.01 질량% 미만이었다.In 30 parts of DMF, 3.8 parts of N, N, N ', N'-tetrakis (aminophenyl) -p-phenylenediamine, 21 parts of iso-butylbromide and 15 parts of potassium carbonate were added, at 80 ° C for 1 hour, Furthermore, it was made to react at 90 degreeC for 7 hours, and also at 130 degreeC for 1 hour. After cooling, it filtered, 30 parts of isopropanol were added to this reaction liquid (filtrate), and it stirred at 5 degrees C or less for 1 hour. The resulting crystals were washed with methanol and then dried to obtain 2.5 parts of pale brown crystalline compounds. 1 part of said crystalline compounds were added to 10 parts of DMF, and it heated at 60 degreeC, and obtained liquid A1 which melt | dissolved this crystalline compound. The liquid B1 obtained by dissolving 0.78 parts of antimony hexafluoride in 10 parts of DMF was added to the said liquid A1, and it was made to react for 30 minutes. After cooling, the precipitated silver was separated by filtration. 10 parts of water was slowly dripped at this reaction liquid (filtrate), and it stirred for 15 minutes after dripping. The resulting black crystals were filtered and washed with 50 parts of water to dry the obtained cake (residue), and 0.5 parts of hexafluoroantimonic acid-N, N, N ', N'-tetrakis (p-di (iso- Butyl) aminophenyl) -p-phenylenedimonium (hereinafter also referred to as compound b1) was obtained. The compound b1 is, in the above Formula 2, R 1 ~ R 8 are all the iso- butyl group, and Z in the above formula (2) - is a di-salt aunt-a [SbF 6]. The absorbance (X) of the compound b1 was measured to find that the solvent was toluene in 0.070 (λ max is 1088 nm) and the solvent in ethyl acetate was 0.113 (λ max is 1069 nm). The solubility (Y) of this compound b1 was measured, and when the solvent was toluene, it was less than 0.01 mass%, and when the solvent was ethyl acetate, it was less than 0.01 mass%.

0.5부의 상기 화합물 b1, 9.5부의 초산에틸 및 25부의 지르코니아 비드를 70 ㎖의 마요네즈병에 넣고, 페인트 쉐이커로 4시간 진탕한 후, 지르코니아 비드를 여과 분별하여, 화합물 b1을 포함하는 근적외선 흡수 혼합물 3을 얻었다. 또한, 지르코니아 비드는 니캇트사 제조이고, 그의 입자경은 300 ㎛였다. 0.5 parts of the compound b1, 9.5 parts of ethyl acetate and 25 parts of zirconia beads were placed in a 70 ml mayonnaise bottle, shaken with a paint shaker for 4 hours, and then the zirconia beads were filtered off to obtain a near infrared absorption mixture 3 containing compound b1. Got it. In addition, a zirconia bead was the Nikat company make, and the particle diameter was 300 micrometers.

합성예 4:Synthesis Example 4:

[근적외선 흡수 혼합물 4의 제작][Production of Near Infrared Absorption Mixture 4]

상기 화합물 a1 대신에, 상품명「CIR-1085」(일본 카리트사 제조의 디이모늄 색소)가 사용된 것 이외에는 합성예 2와 동일하게 하여, 근적외선 흡수 혼합물 4를 얻었다. A near-infrared absorption mixture 4 was obtained in the same manner as in Synthesis example 2 except that the trade name "CIR-1085" (dimonium pigment manufactured by Carit Japan Co., Ltd.) was used instead of the compound a1.

이 「CIR-1085」는, 상기 화학식 2에 있어서의, R1~R8이 모두 n-부틸기이며, 또한 상기 화학식 2에 있어서의 Z-가 [(CF3SO2)2N-]인 디이모늄염이다.The "CIR-1085", a in the above formula (2), R 1 ~ R 8 are all the n- butyl group, and Z in the above formula (2) - in-a [(CF 3 SO 2) 2 N] Dimonium salt.

이 「CIR-1085」의 상기 흡광도(X)를 측정한 바, 용매가 톨루엔인 경우가 0.808(λmax는 1084 nm)이고, 용매가 초산에틸인 경우가 0.563(λmax는 1069 nm)이었다. 이 「CIR-1085」의 상기 용해도(Y)를 측정한 바, 용매가 톨루엔인 경우가 0.01 질량% 이상 0.1 질량% 미만이고, 용매가 초산에틸인 경우가 0.01 질량% 이상 0.1 질량% 미만이었다.When the said absorbance (X) of this "CIR-1085" was measured, it was 0.808 ((lambda) max is 1084 nm) when the solvent was toluene, and 0.563 ((lambda) max was 1069 nm) when the solvent was ethyl acetate. When the said solubility (Y) of this "CIR-1085" was measured, it was 0.01 mass% or more and less than 0.1 mass% when the solvent was toluene, and 0.01 mass% or more and less than 0.1 mass% when the solvent was ethyl acetate.

수지 제조예 1:Resin Preparation Example 1:

모노머로서, 360.6 g의 2-에틸헥실아크릴레이트, 60 g의 부틸아크릴레이트, 156 g의 시클로헥실메타크릴레이트, 180 g의 아크릴산 및 5.4 g의 히드록시에틸아크릴레이트를 칭량하고, 충분히 혼합하여, 중합성 모노머 혼합물(1)을 얻었다. As the monomer, 360.6 g of 2-ethylhexyl acrylate, 60 g of butyl acrylate, 156 g of cyclohexyl methacrylate, 180 g of acrylic acid, and 5.4 g of hydroxyethyl acrylate are weighed and mixed sufficiently, The polymerizable monomer mixture (1) was obtained.

160 g의 초산에틸과, 300 g의 중합성 모노머 혼합물(1)을, 온도계, 교반기, 불활성 가스 도입관, 환류냉각기 및 적하 깔때기를 구비한 플라스크에 넣었다. 또한, 상기 적하 깔때기에, 300 g의 중합성 모노머 혼합물(1), 16 g의 초산에틸 및 0.15 g의 나이퍼 BMT-K40(중합개시제, 일본 유지사 제조)을 넣고, 잘 혼합하여, 적하용 혼합물(1)로 하였다.160 g of ethyl acetate and 300 g of a polymerizable monomer mixture (1) were placed in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, an inert gas introduction tube, a reflux cooler, and a dropping funnel. Further, in the dropping funnel, 300 g of a polymerizable monomer mixture (1), 16 g of ethyl acetate, and 0.15 g of Naifer BMT-K40 (polymerization initiator, manufactured by Japan Oil and Fat Company) were added, mixed well, and a dropping mixture was added. It was set as (1).

질소가스를 20 ㎖/분으로 유통시키면서, 플라스크의 내온을 95℃까지 상승시키고, 중합개시제인 나이퍼 BMT-K40(0.15 g)을 플라스크에 투입하여, 중합반응을 개시시켰다. 중합개시제의 투입으로부터 30분 후에, 적하 깔때기로부터의 적하용 혼합물(1)의 적하를 개시하였다. 적하용 혼합물(1)은 90분에 걸쳐 균등하게 적하되었다. 적하용 혼합물(1)의 적하 종료 후, 점도의 상승에 따라 초산에틸로 희석을 적절히 행하면서, 환류온도를 유지하면서 6시간 숙성을 행하였다.While nitrogen gas was passed through at 20 mL / min, the internal temperature of the flask was raised to 95 ° C, and Naper BMT-K40 (0.15 g), which was a polymerization initiator, was charged to the flask to initiate a polymerization reaction. 30 minutes after the addition of the polymerization initiator, dropping of the dropping mixture 1 from the dropping funnel was started. The dropping mixture 1 was dropped evenly over 90 minutes. After completion of the dropwise addition of the dropwise mixture 1, aging was carried out for 6 hours while maintaining the reflux temperature while appropriately diluting with ethyl acetate as the viscosity increased.

반응종료 후, 불휘발분이 약 45%가 되도록 초산에틸로 반응액을 희석하여, 계산 유리 전이 온도(Tg)가 -38.5℃이고, 계산 용해성 파라미터가 9.08인 수지(1)를 얻었다. 이 수지(1)는, 점착제 수지였다. 수지(1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 43만이고, 수지(1)의 산가는 23.4였다. 또한, 불휘발분이 약 45%가 되도록 초산에틸로 희석된 반응액은, 수지 조성물 P1으로도 칭해진다. After the completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate so that the nonvolatile content was about 45% to obtain resin (1) having a calculated glass transition temperature (Tg) of -38.5 ° C and a calculated solubility parameter of 9.08. This resin (1) was adhesive resin. The weight average molecular weight (Mw) of resin (1) was 430,000, and the acid value of resin (1) was 23.4. In addition, the reaction liquid diluted with ethyl acetate so that a non volatile matter may be about 45% is also called resin composition P1.

수지 제조예 2:Resin Preparation Example 2:

모노머로서, 264.6 g의 2-에틸헥실아크릴레이트, 150 g의 부틸아크릴레이트, 180 g의 시클로헥실메타크릴레이트 및 5.4 g의 히드록시에틸아크릴레이트를 칭량하고, 충분히 혼합하여, 중합성 모노머 혼합물(2)을 얻었다. 상기 중합성 모노머 혼합물(1) 대신에, 이 중합성 모노머 혼합물(2)이 사용된 것 외에는 수지 제조예 1과 동일하게 하여, 계산 유리 전이 온도(Tg)가 -35℃, 계산 용해성 파라미터가 8.99인 수지(2)를 얻었다. 이 수지(2)는, 점착제 수지였다. 수지(2)의 중량 평균 분자량(Mw)은 44만이고, 수지(2)의 산가는 0이었다.As the monomer, 264.6 g of 2-ethylhexyl acrylate, 150 g of butyl acrylate, 180 g of cyclohexyl methacrylate, and 5.4 g of hydroxyethyl acrylate are weighed and mixed sufficiently to form a polymerizable monomer mixture ( 2) was obtained. Instead of the polymerizable monomer mixture (1), the polymerizable monomer mixture (2) was used in the same manner as in the resin production example 1, and the calculated glass transition temperature (Tg) was -35 ° C and the calculated solubility parameter was 8.99. Phosphorus resin (2) was obtained. This resin (2) was adhesive resin. The weight average molecular weight (Mw) of resin (2) was 440,000, and the acid value of resin (2) was zero.

수지 제조예 3:Resin Preparation Example 3:

모노머로서, 365.4 g의 2-에틸헥실아크릴레이트, 60 g의 부틸아크릴레이트, 144 g의 시클로헥실메타크릴레이트, 30 g의 아크릴산 및 5.4 g의 히드록시에틸아크릴레이트를 칭량하고, 충분히 혼합하여, 중합성 모노머 혼합물(3)을 얻었다. 상기 중합성 모노머 혼합물(1) 대신에, 이 중합성 모노머 혼합물(3)이 사용된 것 외에는 수지 제조예 1과 동일하게 하여, 계산 유리 전이 온도(Tg)가 -38.96℃, 계산 용해성 파라미터가 9.19인 수지(2)를 얻었다. 이 수지(2)는, 점착제 수지였다. 수지(2)의 중량 평균 분자량(Mw)은 47만이고, 수지(2)의 산가는 39.96이었다.As the monomer, 365.4 g of 2-ethylhexyl acrylate, 60 g of butyl acrylate, 144 g of cyclohexyl methacrylate, 30 g of acrylic acid, and 5.4 g of hydroxyethyl acrylate are weighed and mixed sufficiently, The polymerizable monomer mixture (3) was obtained. Instead of the polymerizable monomer mixture (1), the polymerizable monomer mixture (3) was used in the same manner as in the resin production example 1, and the calculated glass transition temperature (Tg) was -38.96 ° C, and the calculated solubility parameter was 9.19. Phosphorus resin (2) was obtained. This resin (2) was adhesive resin. The weight average molecular weight (Mw) of resin (2) was 470,000, and the acid value of resin (2) was 39.96.

합성예 1~4(근적외선 흡수 혼합물 1~4)의 사양이 하기의 표 1에 나타내어진다. 수지 제조예 1, 2 및 3의 배합과 평가결과가 하기 표 2에 나타내어진다. The specifications of Synthesis Examples 1 to 4 (Near Infrared Absorption Mixtures 1 to 4) are shown in Table 1 below. The compounding and evaluation results of Resin Production Examples 1, 2 and 3 are shown in Table 2 below.

Figure pct00016
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Figure pct00017
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[실시예 1]Example 1

가교제인 코로네이트 L-55E(일본 폴리우레탄사 제조)를 초산에틸용액에 용해하여, 고형분 2.75%의 가교제용액 1을 조정하였다. 수지 제조예 1에서 얻어진 수지(1), 합성예 1에서 얻어진 근적외선 흡수 혼합물 1 및 가교제용액 1을, 고형분 중량비로 100/1/0.25가 되도록 혼합하고, 고형분이 25%가 되도록 희석용제로서의 초산에틸로 희석하여, 근적외선 흡수 점착제 조성물 A1을 얻었다. 또한, 이 고형분 중량비는, (수지(1)/근적외선 흡수 혼합물 1/가교제용액 1)의 순으로 표기되어 있다. Coronate L-55E (manufactured by Japan Polyurethane Co., Ltd.), which is a crosslinking agent, was dissolved in ethyl acetate solution to adjust the crosslinking agent solution 1 having a solid content of 2.75%. The resin (1) obtained in the resin preparation example 1, the near-infrared absorption mixture 1 obtained in the synthesis example 1, and the crosslinking agent solution 1 were mixed so that it might be set to 100/1 / 0.25 by weight ratio of solids, and ethyl acetate as a dilution solvent was made to be 25% of solids. It diluted with and obtained the near-infrared absorption adhesive composition A1. In addition, this solid content weight ratio is described in order of (resin (1) / near-infrared absorption mixture 1 / crosslinking agent solution 1).

근적외선 흡수 점착제 조성물 A1을 어플리케이터로, 이접착처리 PET 필름(도요 보세키사 제조, 코스모샤인 A4300) 상에 도공하였다. 도공시의 두께는, 건조 후의 점착제 조성물층의 두께가 25 ㎛가 되도록 설정하였다. 이어서, 100℃의 열풍 순환 오븐 중에서 2분간 건조시켰다. 이 점착제 조성물 A1으로 되는 층에 이형 필름(실리콘 처리된 PET 필름)을 맞붙힌 후, 23℃에서 7일간 양생시켜서, 근적외선 흡수재 B1을 얻었다. 이형 필름을 벗겨낸 후, 이 근적외선 흡수재 B1을 유리판에 첩부하고, 실시예 1의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. The near-infrared absorption adhesive composition A1 was coated by the applicator on the easily adhesive PET film (Toyo Boseki Co., Cosmoshine A4300). The thickness at the time of coating was set so that the thickness of the adhesive composition layer after drying might be set to 25 micrometers. Then, it dried for 2 minutes in 100 degreeC hot air circulation oven. After bonding a release film (silicone-treated PET film) to the layer which becomes this adhesive composition A1, it cured for 7 days at 23 degreeC, and obtained the near-infrared absorber B1. After peeling off a release film, this near-infrared absorber B1 was affixed on the glass plate and the test body of Example 1 was obtained. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in the following table | surface.

[실시예 2][Example 2]

근적외선 흡수 혼합물 1 대신에 근적외선 흡수 혼합물 2가 사용되고, 희석용매가 초산에틸에서 톨루엔으로 변경된 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. The test body of Example 2 was obtained like Example 1 except having used the near-infrared absorption mixture 2 instead of the near-infrared absorption mixture 1, and changing the dilution solvent from ethyl acetate to toluene. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in the following table | surface.

[실시예 3]Example 3

근적외선 흡수 혼합물 1 대신에 근적외선 흡수 혼합물 3이 사용된 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. The test body of Example 3 was obtained like Example 1 except having used the near-infrared absorption mixture 3 instead of the near-infrared absorption mixture 1. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in the following table | surface.

[실시예 4]Example 4

수지(1) 대신에 수지(2)가 사용된 것 외에는 실시예 2와 동일하게 하여, 실시예 4의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. The test body of Example 4 was obtained like Example 2 except having used resin (2) instead of resin (1). This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in the following table | surface.

[실시예 5]Example 5

수지(1) 대신에 수지(2)가 사용되고, 근적외선 흡수 혼합물 1 대신에 근적외선 흡수 혼합물 3이 사용된 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. The test body of Example 3 was obtained like Example 1 except having used resin (2) instead of resin (1), and used near-infrared absorption mixture 3 instead of near-infrared absorption mixture 1. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in the following table | surface.

[비교예 1]Comparative Example 1

근적외선 흡수 혼합물 1 대신에 근적외선 흡수 혼합물 4가 사용되고, 희석용매가 초산에틸에서 톨루엔으로 변경된 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표에 나타내어진다. The near-infrared absorption mixture 4 was used instead of the near-infrared absorption mixture 1, and the test body of the comparative example 1 was obtained like Example 1 except having changed the dilution solvent from ethyl acetate to toluene. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in the following table | surface.

Figure pct00018
Figure pct00018

Figure pct00019
Figure pct00019

실시예 2의 시험체의 시험 전(초기)에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 1에 나타내어진다. 실시예 2의 시험체의 내열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 2에 나타내어진다. 실시예 2의 시험체의 내습열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 3에 나타내어진다. 실시예 2의 시험체의 내광시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 4에 나타내어진다. 비교예 1의 시험체의 시험 전(초기)에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 5에 나타내어진다. 비교예 1의 시험체의 내열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 6에 나타내어진다. 비교예 1의 시험체의 내습열시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 7에 나타내어진다. 비교예 1의 시험체의 내광시험 후에 있어서의 투과 스펙트럼이, 도 8에 나타내어진다.The transmission spectrum before the test (initial stage) of the test body of Example 2 is shown in FIG. The transmission spectrum after the heat resistance test of the test body of Example 2 is shown in FIG. The transmission spectrum after the moisture-resistant heat test of the test body of Example 2 is shown in FIG. The transmission spectrum after the light test of the test body of Example 2 is shown in FIG. The transmission spectrum before (initial stage) of the test body of the comparative example 1 is shown in FIG. The transmission spectrum after the heat resistance test of the test body of Comparative Example 1 is shown in FIG. 6. The transmission spectrum after the moisture-resistant heat test of the test body of Comparative Example 1 is shown in FIG. 7. The transmission spectrum after the light test of the test body of Comparative Example 1 is shown in FIG. 8.

[실시예 1a]Example 1a

1. 중합성 폴리실록산(M-1)의 합성1. Synthesis of Polymerizable Polysiloxane (M-1)

교반기, 온도계 및 냉각관을 구비한 300 ㎖의 4구 플라스크에 테트라메톡시실란 144.5부, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 23.6부, 물 19.0부, 메탄올 30.0부 및 앰버리스트 15(상품명:오르가노사 제조의 양이온 교환 수지) 5.0부를 넣고, 65℃에서 2시간 교반하여, 반응시켰다. 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 냉각관 대신에 증류탑, 여기에 접속시킨 냉각관 및 유출구를 설치하고, 상압하에서 플라스크 내온을 약 80℃까지 2시간에 걸쳐서 승온하여, 메탄올이 유출되지 않을 때까지 동온도에서 유지하였다. 또한, 2.67×10 kPa의 압력하 90℃의 온도에서, 메탄올이 유출되지 않을 때까지 유지하고, 반응을 추가로 진행시켰다. 재차, 실온까지 냉각한 후, 앰버리스트 15를 여과하여, 수 평균 분자량이 1,800인 중합성 폴리실록산(M-1)을 얻었다. In a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a cooling tube, 144.5 parts of tetramethoxysilane, 23.6 parts of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 19.0 parts of water, 30.0 parts of methanol and Amberlyst 15 (brand name: 5.0 parts of cation exchange resins manufactured by Organo Co., Ltd. were stirred, and stirred at 65 ° C for 2 hours to react. After the reaction mixture was cooled to room temperature, a distillation column, a cooling tube connected thereto and an outlet port were installed instead of the cooling tube, and the flask internal temperature was raised to about 80 ° C. over 2 hours under normal pressure until no methanol was released. It was kept at the same temperature. The reaction was further continued at a temperature of 90 ° C. under a pressure of 2.67 × 10 kPa until methanol did not flow out. After cooling to room temperature again, Amberlyte 15 was filtered to obtain a polymerizable polysiloxane (M-1) having a number average molecular weight of 1,800.

2. 유기 폴리머(P-1)의 합성2. Synthesis of Organic Polymer (P-1)

교반기, 적하구, 온도계, 냉각관 및 N2 가스 도입구를 구비한 1 리터의 플라스크에, 유기용제로서 초산 n-부틸 260부를 넣고, N2 가스를 도입하여, 교반하면서, 플라스크 내온을 110℃까지 가열하였다. 이어서 중합성 폴리실록산(M-1) 12부, tert-부틸메타크릴레이트 19부, 부틸아크릴레이트 94부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 67부, 퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트(라이트에스테르 FM-108, 교에이샤 화학사 제조) 48부 및 2,2'-아조비스-(2-메틸부티로니트릴) 2.5부를 혼합한 용액이, 적하구로부터 3시간에 걸쳐서 적하되었다. 적하 후에도 동온도에서 1시간 교반을 계속한 후, tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 0.1부를 30분 간격으로 2회 첨가하고, 추가로 2시간 가열하여 공중합을 행하였다. 그 결과, 수 평균 분자량이 12,000이고, 중량 평균 분자량이 27,000인 유기 폴리머(P-1)가 초산 n-부틸에 용해된 용액을 얻었다. 얻어진 용액의 고형분은 48.2%였다.Into a 1-liter flask equipped with a stirrer, a dropping port, a thermometer, a cooling tube, and an N2 gas inlet, 260 parts of n-butyl acetate was put as an organic solvent, the N2 gas was introduced, and the flask was heated to 110 ° C while stirring. It was. Then, 12 parts of polymerizable polysiloxane (M-1), 19 parts of tert-butyl methacrylate, 94 parts of butyl acrylate, 67 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, and perfluorooctylethyl methacrylate (light ester FM) -108, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 2.5 parts of 2,2'-azobis- (2-methylbutyronitrile) were added dropwise over 3 hours from the dropping port. After stirring was continued for 1 hour at the same temperature after the dropwise addition, 0.1 part of tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate was added twice at 30 minute intervals, and further heated for 2 hours to copolymerize. As a result, the number average molecular weight was 12,000, and the solution in which the organic polymer (P-1) whose weight average molecular weight is 27,000 was dissolved in n-butyl acetate was obtained. Solid content of the obtained solution was 48.2%.

3. 유기 폴리머 복합 무기 미립자 분산체(S-1)의 합성3. Synthesis of Organic Polymer Composite Inorganic Particulate Dispersion (S-1)

교반기, 2개의 적하구(적하구 α와 적하구 β), 온도계를 구비한 500 ㎖의 4구플라스크에, 초산 n-부틸 200부 및 메탄올 500부를 넣어두고, 내온을 40℃로 조정하였다. 이어서 플라스크 내를 교반하면서, 유기 폴리머(P-1)의 초산 n-부틸용액 10 g, 테트라메톡시실란 30부 및 초산 n-부틸 5부의 혼합액(원료액 A)을 적하구 α로부터 2시간에 걸쳐 적하하는 동시에, 25% 암모니아수 5부, 탈이온수 10부 및 메탄올 15부의 혼합액(원료액 B)을 적하구 β로부터 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 냉각관 대신에 증류탑, 이것에 접속시킨 냉각관 및 유출구를 설치하고, 40 kPa의 압력하, 플라스크 내온을 100℃까지 승온하고, 암모니아, 메탄올 및 초산 n-부틸을 고형분이 30%가 될 때까지 증류 제거하여, 유기 폴리머 복합 무기 미립자가 초산 n-부틸에 분산된 분산체(S-1)를 얻었다. 이 분산체(S-1)에 있어서, 상기 유기 폴리머 복합 무기 미립자 중의 무기 미립자와 유기 폴리머의 비율은, 70/30이었다. 이 비율은, 중량비이다. 얻어진 유기 폴리머 복합 무기 미립자의 평균 입자경은 23.9 nm였다. 또한, 유기 폴리머 복합 무기 미립자 중의 무기 미립자와 유기 폴리머의 비율은, 유기 폴리머 복합 미립자 분산체를 1.33×10 kPa의 압력하, 130℃에서 24시간 건조한 것에 대해서 원소분석을 행하여, 회분을 유기 폴리머 복합 무기 미립자 함유량으로서 구하였다. 또한, 평균 입자경은, 유기 폴리머 복합 무기 미립자 분산체(S-1) 1부를 초산 n-부틸 99부로 희석한 용액을 사용하여, 투과형 전자현미경에 의해 입자를 촬영하고, 임의의 100개의 입자의 직경을 읽어, 그 평균을 평균 입자경으로서 구하였다.200 parts of n-butyl acetate and 500 parts of methanol were put into the 500 ml four-necked flask equipped with the stirrer, the two dropping ports (dropping alpha and d), and the thermometer, and internal temperature was adjusted to 40 degreeC. Subsequently, while stirring the inside of the flask, a mixed solution (raw material liquid A) of 10 g of n-butyl acetate solution, 30 parts of tetramethoxysilane and 5 parts of n-butyl acetate of organic polymer (P-1) was added dropwise from 2 ° to 2 hours. At the same time, a mixture of 5 parts of 25% aqueous ammonia, 10 parts of deionized water, and 15 parts of methanol (raw material B) was added dropwise from the dropping port β over 2 hours. After dropping, a distillation column, a cooling tube and an outlet connected thereto were installed instead of the cooling tube, and the flask internal temperature was raised to 100 ° C under a pressure of 40 kPa, and 30% of the solid content of ammonia, methanol, and n-butyl acetate was added. It distilled off until it obtained, and the dispersion (S-1) which the organic polymer composite inorganic fine particle disperse | distributed to n-butyl acetate was obtained. In this dispersion (S-1), the ratio of the inorganic fine particle and the organic polymer in the said organic polymer composite inorganic fine particle was 70/30. This ratio is weight ratio. The average particle diameter of the obtained organic polymer composite inorganic fine particle was 23.9 nm. In addition, the ratio of the inorganic fine particle and the organic polymer in an organic polymer composite inorganic fine particle performs an elemental analysis about the organic polymer composite fine particle dispersion dried at 130 degreeC for 24 hours under the pressure of 1.33x10 kPa, and the ash content is organic polymer composite It calculated | required as inorganic fine particle content. In addition, the average particle diameter photographed particle | grains by the transmission electron microscope using the solution which diluted one part of organic polymer composite inorganic fine particle dispersion (S-1) with 99 parts of n-butyl acetate, and the diameter of arbitrary 100 particle | grains Was read and the average was calculated | required as average particle diameter.

4. 반사 방지 필름4. Anti-reflection film

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPE-6A, 교에이샤 화학사 제조) 8부 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PE-3A, 교에이샤 화학사 제조) 2부를 혼합하여, 메틸에틸케톤 40부에 용해한 용액을 만들었다. 이 용액에, 광중합개시제(이루가큐어 907, 씨바가이기사 제조) 0.5부를 메틸에틸케톤 2부에 용해한 용액을 첨가하여, 하드코트층 도포액을 조제하였다.8 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (DPE-6A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 2 parts of pentaerythritol triacrylate (PE-3A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) were mixed and dissolved in 40 parts of methyl ethyl ketone. A solution was made. To this solution, a solution in which 0.5 parts of a photopolymerization initiator (Irugacure 907, manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was dissolved in 2 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a hard coat layer coating liquid.

유기 폴리머 복합 무기 미립자 분산체(S-1) 9부, 데스모듈 N3200(상품명, 스미카 바이엘 우레탄사 제조의 이소시아네이트 경화제) 0.3부, 디라우르산 디-n-부틸주석 0.003부 및 메틸이소부틸케톤 110부를 혼합하여, 저굴절률층 도포액을 조제하였다.9 parts of organic polymer composite inorganic fine particle dispersion (S-1), Death module N3200 (brand name, isocyanate hardener made by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.), 0.003 parts of dilauric acid di-n-butyltin, and methyl isobutyl ketone 110 The part was mixed and the low refractive index layer coating liquid was prepared.

두께 188 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(코스모샤인 A4300, 도요 보세키사 제조)에 상기 하드코트층 도포액을, 바 코터를 사용해서 도포하여, 도포층 h를 얻었다. 이 도포층 h를, 100℃에서 15분간 건조한 후, 고압수은등으로 200 mJ/㎠의 자외선을 조사함으로써 경화시켜, 막두께 5 ㎛의 하드코트층을 형성하였다. 이 하드코트층 상에 상기 저굴절률 도포액을 바 코터를 사용해서 도포하여, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 반사 방지막을 제작하였다.The said hard-coat layer coating liquid was apply | coated to the polyethylene terephthalate film (Cosmoshine A4300, Toyo Boseki Co., Ltd.) of thickness 188 micrometers using the bar coater, and the coating layer h was obtained. After drying this coating layer h for 15 minutes at 100 degreeC, it hardened | cured by irradiating an ultraviolet-ray of 200 mJ / cm <2> with a high pressure mercury lamp, and formed the hard-coat layer of a film thickness of 5 micrometers. The said low refractive index coating liquid was apply | coated on this hard-coat layer using the bar coater, and the anti-reflective film was produced on the polyethylene terephthalate film.

필름의 반사 방지막측과는 반대측의 면을 스틸 울로 조면화(粗面化)하였다. 이 조면화된 면에 검은 잉크를 칠하였다. 반사 방지막측의 면의 입사각 5°에 있어서의 경면 반사 스펙트럼을 자외 가시 분광광도계(UV-3100, 시마즈 제작소 제조)를 사용하여 측정하고, 반사율이 최소값을 나타내는 파장 및 그 파장에 있어서의 반사율(최소 반사율)을 구하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 있어서, 반사율이 최소값을 나타내는 파장은 파장 550 nm이고, 그 파장에 있어서의 반사율(최소 반사율)은 0.45%였다.The surface on the opposite side to the anti-reflection film side of the film was roughened with steel wool. This roughened side was painted black ink. The specular reflection spectrum at an incident angle of 5 ° of the surface on the antireflection film side was measured using an ultraviolet visible spectrophotometer (UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation), and the wavelength at which the reflectance exhibited the minimum value and the reflectance at the wavelength (minimum) Reflectance) was obtained. In the obtained antireflection film, the wavelength at which the reflectance exhibited the minimum value was 550 nm, and the reflectance (minimum reflectance) at the wavelength was 0.45%.

상기 반사 방지 필름의 이면측에, 실시예 1에서 얻어진 근적외선 흡수 점착제 조성물 A1에 대해서, 실시예 1과 동일하게 도공 및 건조하여, 광학 필터 1을 얻었다. 광학 필터 1의 근적외선 투과율, 전광선투과율, 내열성, 내습열성, 내광성, 내크랙성 및 내용제성은 양호하였다.Coating and drying were performed similarly to Example 1 about the near-infrared absorption adhesive composition A1 obtained in Example 1 on the back surface side of the said antireflection film, and the optical filter 1 was obtained. Near-infrared transmittance, total light transmittance, heat resistance, moist heat resistance, light resistance, crack resistance, and solvent resistance of the optical filter 1 were good.

[실시예 6]Example 6

프탈로시아닌계 화합물(닛폰 쇼쿠바이 제조의 상품명「이엑스칼라 IR-14」)이 고형분 중량으로 수지(1) 100부에 대해 0.3부가 되도록 첨가된 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 전술한 실시예 1의 결과와 함께 하기의 표 5에 나타내어진다. A phthalocyanine-based compound (trade name "EX-Calar IR-14" manufactured by Nippon Shokubai) was added in the same manner as in Example 1 except that the solid content was added so as to be 0.3 part with respect to 100 parts of the resin (1). A test body was obtained. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. This evaluation result is shown in following Table 5 with the result of Example 1 mentioned above.

[실시예 7]Example 7

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진, 점착제 조성물 A1으로 되는 근적외선 흡수층으로부터 이형 필름을 벗겨낸 후, 이 근적외선 흡수층을 전자파 차폐 필름(다이닛폰 인쇄사 제조)의 동박 메쉬면(이하, 금속 메쉬층)에 첩착하고, 오토클레이브 처리(처리온도:60℃, 처리압력:4기압, 처리시간:30분)를 행하여, 실시예 7의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표 5에 나타내어진다. 이 금속 메쉬층은, 구리로 되는 도금층을 에칭함으로써 형성된 것이다. 이 실시예 7에서는, 점착제 조성물은 이 금속 메쉬층에 적층되어 있다. 표 중, 이 전자파 차폐 필름이 메쉬로 표시되어 있다.After peeling off a release film from the near-infrared absorption layer which becomes adhesive composition A1 obtained by carrying out similarly to Example 1, this near-infrared absorption layer is affixed on the copper foil mesh surface (henceforth a metal mesh layer) of an electromagnetic wave shielding film (made by Dainippon printing company). Then, autoclave treatment (treatment temperature: 60 ° C., treatment pressure: 4 atmospheres, treatment time: 30 minutes) was performed to obtain a test body of Example 7. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. The evaluation results are shown in Table 5 below. This metal mesh layer is formed by etching the plating layer made of copper. In this Example 7, the pressure-sensitive adhesive composition is laminated on this metal mesh layer. In the table, this electromagnetic wave shielding film is shown by the mesh.

[실시예 8]Example 8

수지(1)를 수지(3)로 변경하고, 프탈로시아닌계 화합물(닛폰 쇼쿠바이 제조의 상품명「이엑스칼라 IR-14」)을 고형분 중량으로 수지(3) 100부에 대해 0.3부가 되도록 첨가한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 8의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표 5에 나타내어진다. Resin (1) was changed to resin (3), and the phthalocyanine compound (The Nippon Shokubai make brand name "EX-COL IR-14") was added so that it might be 0.3 part with respect to 100 parts of resin (3) by weight of solid content. A test sample of Example 8 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. The evaluation results are shown in Table 5 below.

[실시예 9]Example 9

수지(1)를 수지(3)로 변경하고, 시험체의 유리판을 실시예 7에서 사용한 전자파 차폐 필름으로 변경하여, 오토클레이브 처리(처리온도:60℃, 처리압력:4기압, 처리시간:30분)를 행한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 9의 시험체를 얻었다. 이 시험체에 대해서, 내열시험, 내습열시험 및 내광시험을 행하였다. 이 평가결과가 하기의 표 5에 나타내어진다. 이 실시예 9에서는, 수지(3)를 포함하는 점착제 조성물이 전자파 차폐 필름의 금속 메쉬층에 적층되어 있다.The resin (1) was changed to the resin (3), the glass plate of the test body was changed to the electromagnetic wave shielding film used in Example 7, and the autoclave treatment (treatment temperature: 60 ° C, treatment pressure: 4 atm, treatment time: 30 minutes) The test body of Example 9 was obtained like Example 1 except having performed). This test body was subjected to a heat resistance test, a damp heat test and a light resistance test. The evaluation results are shown in Table 5 below. In this Example 9, the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin 3 is laminated on the metal mesh layer of the electromagnetic wave shielding film.

Figure pct00020
Figure pct00020

[근적외선 흡수 점착제 조성물의 안정성][Stability of Near-infrared Absorption Adhesive Composition]

이하에 나타내는, 근적외선 흡수능의 유지성의 평가 및 액안정성의 평가를 토대로, 근적외선 흡수 점착제 조성물의 안정성에 대한 검토를 행하였다. The stability of the near-infrared absorption adhesive composition was examined based on the evaluation of the retention of the near-infrared absorptive capacity and the evaluation of liquid stability shown below.

<근적외선 흡수능의 유지성의 평가><Evaluation of Retention of Near Infrared Absorption Capacity>

후술되는 시험체를 사용하여 평가가 이루어졌다. UV-3700(시마즈 제작소 제조)을 사용하여 투과 스펙트럼을 측정하고, 350~1500 nm의 파장범위에 있어서의 λmax를 결정하였다. 시험 전의 λmax와 시험 후의 λmax의 차를 계산하고, 이 차의 절대값을 구하였다. 이 절대값을 토대로, 이하의 평가기준에 의해, 근적외선 흡수능의 유지성을, 「○」「△」 및 「×」의 3단계로 평가하였다. 이 평가결과가, 하기의 표에 나타내어져 있다. Evaluation was performed using the test body mentioned later. Transmission spectrum was measured using UV-3700 (made by Shimadzu Corporation), and (lambda) max in the wavelength range of 350-1500 nm was determined. The difference between lambda max before the test and lambda max after the test was calculated, and the absolute value of the difference was obtained. Based on this absolute value, the retention of near-infrared absorptivity was evaluated in three steps of "(circle)", "(triangle | delta)", and "x" according to the following evaluation criteria. This evaluation result is shown in the following table | surface.

○: 시험 전후의 λmax의 차의 절대값이 10 nm 이하(근적외선 흡수능의 유지성이 우수하다.). (Circle): The absolute value of the difference of (lambda) max before and behind a test is 10 nm or less (excellent retention of a near-infrared absorption ability.).

△: 시험 전후의 λmax의 차의 절대값이 10 nm를 초과하고 30 nm 이하(근적외선 흡수능의 유지성이 조금 우수하다.).(Triangle | delta): The absolute value of the difference of (lambda) max before and behind a test exceeds 10 nm and is 30 nm or less (The retainability of near-infrared absorptivity is slightly excellent.).

×: 시험 전후의 λmax의 차의 절대값이 30 nm를 초과하고 있다(근적외선 흡수능의 유지성이 떨어진다.). X: The absolute value of the difference of (lambda) max before and behind a test exceeds 30 nm (retainability of near-infrared absorptivity is inferior).

<액안정성의 평가><Evaluation of liquid stability>

보존시험의 전후에 있어서의 점착제 조성물의 상태를 육안으로 확인하고, 이하의 평가기준에 의해, 액안정성을, 「○」「△」 및 「×」의 3단계로 평가하였다. 이 평가결과가, 하기의 표에 나타내어져 있다.The state of the adhesive composition before and after a storage test was visually confirmed, and the liquid stability was evaluated in three steps of "(circle)", "(triangle | delta)", and "x" according to the following evaluation criteria. This evaluation result is shown in the following table | surface.

○: 시험 전후에서 비교하면, 액의 색이 동등하고, 색소의 석출물이 보이지 않는다. (Circle): Comparing before and behind a test, the color of liquid is equal and a precipitate of a pigment | dye is not seen.

△: 시험 전후에서 비교하면, 액의 색이 약간 상이하고, 용기의 바닥에 석출물이 약간 보인다. (Triangle | delta): The color of a liquid differs slightly before and after a test, and a deposit is seen a little at the bottom of a container.

×: 시험 전후에서 비교하면, 액의 색이 크게 상이하고, 용기의 바닥에 석출물이 많이 보인다.X: Compared before and after a test, the color of a liquid differs significantly and many precipitates are seen in the bottom of a container.

또한, 소정의 시험기간이 경과할 때까지의 사이에, 액과 접촉하고 있는 용기 내면에 녹이 발생한 것에 대해서는, 시험이 중지되었다.In addition, the test was stopped about the rust which generate | occur | produced on the inner surface of the container which contacted with liquid until the predetermined test period passed.

수지 제조예 4:Resin Preparation Example 4:

상기 수지 제조예 1과 동일하게 하여, 중합반응이 이루어졌다. 반응종료 후의 희석비율만이 변경되었다. 반응종료 후, 불휘발분이 약 65%가 되도록 초산에틸로 반응액을 희석한 것 외에는 상기 수지 제조예 1과 동일하게 하여, 수지 조성물 P2를 얻었다. In the same manner as in the resin preparation example 1, the polymerization reaction was carried out. Only the dilution ratio after completion of the reaction was changed. After the reaction was completed, a resin composition P2 was obtained in the same manner as in the resin preparation example 1 except that the reaction solution was diluted with ethyl acetate so that the nonvolatile content became about 65%.

[실시예 10]Example 10

상기 합성예 3에서 얻어진 근적외선 흡수 혼합물 3과, 상기 수지 제조예 1에서 얻어진 수지 조성물 P1을 사용하였다. 근적외선 흡수 혼합물 3과 수지 조성물 P1을, 고형분 중량비로 1:100(1 질량부의 혼합물 3 고형분에 대해, 100 질량부의 수지 조성물 P1 고형분)의 비율로 혼합하고, 고형분이 40 질량%가 되도록 초산에틸로 희석하여, 근적외선 흡수 점착제 조성물 B1을 얻었다. 0.5 ㎏의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B1을 라미네이트캔 A(상품명「하이브리드 1.3 L캔」;다이니치 제관사 제조)에 넣고, 뚜껑을 덮어 밀봉상태로 하여, 25℃의 항온실에 보관하였다. 보관기간은, 7일, 14일 및 28일의 3종류로 하였다. 7일 경과 후, 14일 경과 후 및 28일 경과 후의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B1의 각각에 대해서 평가를 행하였다. 이들 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다. The near-infrared absorption mixture 3 obtained by the said synthesis example 3, and the resin composition P1 obtained by the said resin manufacture example 1 were used. Near-infrared absorption mixture 3 and resin composition P1 are mixed by the ratio of 1: 100 (100 mass parts of resin composition P1 solid content with respect to 1 mass part of mixture 3 solid content) by solid content weight ratio, and ethyl acetate is used so that solid content may be 40 mass%. It diluted, and obtained the near-infrared absorption adhesive composition B1. 0.5 kg of near-infrared absorption adhesive composition B1 was put into laminated can A (brand name "Hybrid 1.3L can"; the Dai-ichi Co., Ltd. product), the lid was sealed, and it was stored in the 25 degreeC thermostat room. The storage period was three types of 7 days, 14 days, and 28 days. After 7 days, each of the near-infrared absorption adhesive composition B1 after 14 days and 28 days was evaluated. These evaluation results are shown in Table 6 below.

또한, 7일 경과 후, 14일 경과 후 및 28일 경과 후의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B1의 각각에 대해서, 시험체가 제작되었다. 이 시험체의 제작방법은 다음과 같다. 보관기간 경과 후의 상기 근적외선 흡수 점착제 조성물 B1을, 고형분이 25 질량%가 되도록 초산에틸로 희석하여, 점착제 시험용 액체를 얻었다. 어플리케이터를 사용하여, 이 점착제 시험용 액체를, 이접착처리 PET 필름(도요 보세키사 제조, 코스모샤인 A4300) 상에 도공하였다. 도공시의 두께는, 건조 후의 도포층의 두께가 25 ㎛가 되도록 설정하였다. 이어서, 100℃의 열풍 순환 오븐 중에서 2분건 건조시켰다. 이 건조 후의 도포층을 유리판에 첩부하여, 시험체를 얻었다. 따라서, 시험체는 3종류 제작되게 된다. 이들 3종류의 시험체란, 7일 경과 후의 점착제 조성물 B1의 시험체, 14일 경과 후의 점착제 조성물 B1의 시험체 및 28일 경과 후의 점착제 조성물 B1의 시험체이다. 이들의 시험체에 대해서, 근적외선 흡수능의 유지성의 평가가 이루어졌다. 이 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다. In addition, a test body was produced about each of the near-infrared absorption adhesive composition B1 after 7 days, 14 days, and 28 days. The production method of this specimen is as follows. The near-infrared absorption adhesive composition B1 after the storage period passed was diluted with ethyl acetate so that solid content might be 25 mass%, and the adhesive test liquid was obtained. Using the applicator, this adhesive test liquid was coated on an easily adhesive PET film (Toyo Boseki Co., Cosmo Shine A4300). The thickness at the time of coating was set so that the thickness of the application layer after drying might be 25 micrometers. Then, it dried for 2 minutes in 100 degreeC hot air circulation oven. The application layer after this drying was affixed on the glass plate, and the test body was obtained. Therefore, three kinds of test bodies are produced. These three types of test bodies are the test body of the adhesive composition B1 after 7 days of passage, the test body of the adhesive composition B1 after 14 days of passage, and the test body of the adhesive composition B1 after 28 days of passage. About these test bodies, the retention of the near-infrared absorptivity was evaluated. The evaluation results are shown in Table 6 below.

[실시예 11 및 12][Examples 11 and 12]

표 6으로 나타내어지는 사양 외에는 실시예 10과 동일하게 하여, 평가가 이루어졌다. 이들 실시예의 사양 및 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다.Except the specification shown in Table 6, it carried out similarly to Example 10, and evaluated. The specifications and evaluation results of these examples are shown in Table 6 below.

[실시예 13]Example 13

상기 합성예 3에서 얻어진 근적외선 흡수 혼합물 3과, 상기 수지 제조예 4에서 얻어진 수지 조성물 P2를 사용하였다. 근적외선 흡수 혼합물 3과 수지 조성물 P2를, 고형분 중량비로 5:100(5 질량부의 혼합물 3 고형분에 대해, 100 질량부의 수지 조성물 P2 고형분)의 비율로 혼합하고, 고형분이 40 질량%가 되도록 초산에틸로 희석하여, 근적외선 흡수 점착제 조성물 B2를 얻었다. 0.5 ㎏의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B2를 코팅캔(상품명「T40 광택니스尼 30호 크라운캔」)에 넣고, 뚜껑을 덮어 밀봉상태로 하여, 25℃의 항온실에 보관하였다. 보관기간은, 7일, 14일 및 28일의 3종류로 하였다. 7일 경과 후, 14일 경과 후 및 28일 경과 후의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B2의 각각에 대해서 평가를 행하였다. 이들의 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다.The near-infrared absorption mixture 3 obtained by the said synthesis example 3, and the resin composition P2 obtained by the said resin manufacture example 4 were used. Near-infrared absorption mixture 3 and resin composition P2 are mixed by the ratio of 5: 100 (100 mass parts of resin composition P2 solid content with respect to 5 mass parts of mixture 3 solid content) by solid content weight ratio, and ethyl acetate is used so that solid content may be 40 mass%. It diluted, and obtained near-infrared absorption adhesive composition B2. 0.5 kg of a near-infrared absorption adhesive composition B2 was put into a coating can (brand name "T40 glossiness # 30 crown can"), the lid was covered, it was sealed, and it was stored in the constant temperature room of 25 degreeC. The storage period was three types of 7 days, 14 days, and 28 days. After 7 days, each of the near-infrared absorption adhesive composition B2 after 14 days and 28 days was evaluated. These evaluation results are shown in Table 6 below.

[실시예 14]Example 14

보존온도가 25℃에서 40℃로 변경된 것 외에는 실시예 13과 동일하게 하여, 실시예 14의 평가가 이루어졌다. 이 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다.The evaluation of Example 14 was carried out in the same manner as in Example 13 except that the storage temperature was changed from 25 ° C to 40 ° C. The evaluation results are shown in Table 6 below.

[실시예 15]Example 15

상기 코팅캔이 라미네이트캔 A(상품명「하이브리드 1.3 L캔」;다이닛폰 재관사 제조)로 변경되고, 또한, 보존온도가 25℃에서 50℃로 변경된 것 외에는 실시예 13과 동일하게 하여, 실시예 15의 평가가 이루어졌다. 이 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다. The coating can was changed to Laminated can A (brand name "Hybrid 1.3L can"; manufactured by Dainippon Co., Ltd.), and the same as in Example 13 except that the storage temperature was changed from 25 ° C to 50 ° C. 15 evaluations were made. The evaluation results are shown in Table 6 below.

[실시예 16]Example 16

상기 합성예 3에서 얻어진 근적외선 흡수 혼합물 3과, 상기 수지 제조예 4에서 얻어진 수지 조성물 P2를 사용하였다. 근적외선 흡수 혼합물 3과 수지 조성물 P2를, 고형분 중량비로 3:100(3 질량부의 혼합물 3 고형분에 대해, 100 질량부의 수지 조성물 P2 고형분)의 비율로 혼합하고, 고형분이 40 질량%가 되도록 초산에틸로 희석하여, 근적외선 흡수 점착제 조성물 B3를 얻었다. 0.5 ㎏의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B3를 라미네이트캔 A(상품명「하이브리드 1.3 L캔」;다이닛폰 제관사 제조)에 넣고, 뚜껑을 덮어 밀봉상태로 하여, 50℃의 항온실에 보관하였다. 보관기간은, 7일, 14일 및 28일의 3종류로 하였다. 7일 경과 후, 14일 경과 후 및 28일 경과 후의 근적외선 흡수 점착제 조성물 B3의 각각에 대해서 평가를 행하였다. 이들의 평가결과가 하기의 표 6에 나타내어진다.The near-infrared absorption mixture 3 obtained by the said synthesis example 3, and the resin composition P2 obtained by the said resin manufacture example 4 were used. Near-infrared absorption mixture 3 and resin composition P2 are mixed by the ratio of solid content weight ratio of 3: 100 (100 mass parts of resin composition P2 solid content with respect to 3 mass parts mixture 3 solid content), and ethyl acetate is made into 40 mass% of solid content. It diluted, and obtained near-infrared absorption adhesive composition B3. 0.5 kg of a near-infrared absorption adhesive composition B3 was put into laminate can A (brand name "Hybrid 1.3L can"; Dainippon Co., Ltd. product), the lid was sealed, it was stored in the 50 degreeC thermostat room. The storage period was three types of 7 days, 14 days, and 28 days. After 7 days, each of the near-infrared absorption adhesive composition B3 after 14 days and 28 days was evaluated. These evaluation results are shown in Table 6 below.

하기의 표 7에는, 실시예에서 사용된 보존용 중공체(용기)의 일람표가 나타내어져 있다. 이들 중, 라미네이트캔 A(상품명「하이브리드 1.3 L캔」)의 본체의 최내층에는, 변성 폴리올레핀이 사용되고 있다. 코팅캔(상품명「T40 광택니스尼 30호 크라운캔」)의 내층의 재질은 에폭시 수지이다. 이 내층의 에폭시 수지는, 본체에 소부(燒付) 도장되어 있다.Table 7 below shows a list of hollow bodies (containers) for storage used in the examples. Among these, modified polyolefin is used for the innermost layer of the main body of laminate can A (brand name "Hybrid 1.3L can"). The material of the inner layer of a coating can (T40 gloss varnish # 30 crown can) is epoxy resin. The epoxy resin of this inner layer is baked on the main body.

Figure pct00021
Figure pct00021

Figure pct00022
Figure pct00022

실시예 13에서는, 실시예 11과 비교하여, 디이모늄 색소의 농도가 높다. 이 실시예 13은, 실시예 11보다도 높은 평가이다. 실시예 14에서는, 실시예 13과 비교하여, 보존온도가 높다. 보존온도가 40℃로 높게 된 경우에도, 실시예 14는, 실시예 11보다도 높은 평가이다. In Example 13, the concentration of dimonium pigment | dye is high compared with Example 11. This Example 13 is a higher evaluation than Example 11. In Example 14, the storage temperature is higher than that in Example 13. Even when the storage temperature is increased to 40 ° C, Example 14 is higher than Example 11.

실시예 15의 보존온도는, 실시예 12와 마찬가지로 50℃이다. 실시예 15에서는, 실시예 12와 비교하여, 디이모늄 색소의 농도가 높다. 이 실시예 15는, 실시예 12보다도 높은 평가이다. 실시예 16에서도, 보존온도는 50℃이다. 이 실시예 16은, 실시예 12와 비교하여 높은 평가이다. 실시예 15와 비교하면, 실시예 16은 평가가 낮다. The storage temperature of Example 15 is 50 degreeC similarly to Example 12. In Example 15, the density | concentration of a dimonium pigment | dye is high compared with Example 12. This Example 15 is evaluation higher than Example 12. FIG. Also in Example 16, the storage temperature is 50 ° C. This Example 16 is a high evaluation compared with Example 12. Compared with Example 15, Example 16 has low evaluation.

실시예 13~실시예 16이 나타내는 바와 같이, 디이모늄 색소의 농도가 높게 되는 것이, 근적외선 흡수능의 유지성 및 액안정성에 기여하는 것이 판명되었다. 또한, 디이모늄 색소의 농도가 높게 됨으로써, 고온하에 있어서의 보존성이 향상되는 것이 판명되었다. As Example 13-16 shows, it turned out that the density | concentration of a dimonium pigment | dye contributes to the retention and liquid stability of near-infrared absorptivity. Moreover, it turned out that the shelf life under high temperature improves because the density | concentration of a dimonium pigment | dye becomes high.

이들 평가결과로부터, 본 발명의 우위성은 명확하다.From these evaluation results, the superiority of this invention is clear.

본 발명의 근적외선 흡수 점착제 조성물은, 근적외선 흡수능의 지속성 및 가시영역의 투명성이 높고, 내열성, 내습열성 및 내광성이 우수한 것으로부터, 예를 들면 박형 디스플레이용 광학 필터로서 유용하다. 또한, 광정보 기록재료로서도 사용할 수 있다. The near-infrared absorptive pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is useful as an optical filter for a thin display, for example, because of its high persistence of near-infrared absorptivity and high transparency of visible regions, and excellent heat resistance, moist heat resistance, and light resistance. It can also be used as an optical information recording material.

Claims (26)

디이모늄염(A1)을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리 후, 1시간 이상 정치하고, 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 측정된 상기 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하인 디이모늄염(A1)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)와, 용매(S2)를 함유하는 근적외선 흡수 점착제 조성물. After adjusting the liquid mixture which mixed the dimonium salt (A1) with respect to the solvent (S1) at the ratio of 0.01 mass%, this mixture liquid was sonicated for 30 minutes, and left still for 1 hour or more, and then, the supernatant liquid of this liquid mixture was made into the optical path A dimonium salt (A1) having an absorbance (X) at λmax of λmax of the supernatant liquid, measured in an ultraviolet-visible spectrophotometer in the range of 350 nm or more and 1500 nm or less and 0.5 or less, and a calculated glass transition point of 0 The near-infrared absorption adhesive composition containing resin (B) which is C or less, and a solvent (S2). 제1항에 있어서,
상기 용매(S1)가 톨루엔 및/또는 초산에틸이고, 상기 용매(S2)가 톨루엔 및/또는 초산에틸인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method of claim 1,
The solvent (S1) is toluene and / or ethyl acetate, and the solvent (S2) is toluene and / or ethyl acetate.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 용매(S1)와 상기 용매(S2)가 동일한 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The near-infrared absorption adhesive composition in which the said solvent (S1) and said solvent (S2) are the same.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 점착제 조성물에 있어서의 상기 디이모늄염(A1)의 배합량이, 이 근적외선 흡수 점착제 조성물에 포함되는 모든 고형분의 합계 질량에 대해 0.5 질량% 이상인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The near-infrared absorption adhesive composition whose compounding quantity of the said dimonium salt (A1) in the said near-infrared absorption adhesive composition is 0.5 mass% or more with respect to the total mass of all the solid content contained in this near-infrared absorption adhesive composition.
용매(S3)와, 이 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 디이모늄염(A2)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)를 함유하는 근적외선 흡수 점착제 조성물. The near-infrared absorption adhesive composition containing solvent (S3), the dimonium salt (A2) whose solubility (Y) with respect to this solvent (S3) is less than 0.01 mass%, and resin (B) whose calculation glass transition point is 0 degrees C or less. 제5항에 있어서,
상기 용매(S3)가 톨루엔 및/또는 초산에틸인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method of claim 5,
The near-infrared absorption adhesive composition whose said solvent (S3) is toluene and / or ethyl acetate.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지(B)의 산가가 0 이상 300 이하인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The near-infrared absorption adhesive composition whose acid value of the said resin (B) is 0 or more and 300 or less.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지(B)의 계산 용해도 파라미터가 10.2 이하인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 7,
The near-infrared absorption adhesive composition whose calculation solubility parameter of the said resin (B) is 10.2 or less.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지(B)가, 하기 배합의 모노머 혼합물을 중합하여 얻어지는 근적외선 흡수 점착제 조성물.
(1) 탄소수가 1 이상 12 이하인 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르:60 질량% 이상 99.9 질량% 이하.
(2) 관능기 함유 모노머:0.1 질량% 이상 20 질량% 이하.
(3) 기타 공중합 가능한 단량체:0 질량% 이상 30 질량% 이하.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The near-infrared absorption adhesive composition obtained by the said resin (B) superposing | polymerizing the monomer mixture of the following formulation.
(1) (meth) acrylic acid ester which has a C1-C12 alkyl group: 60 mass% or more and 99.9 mass% or less.
(2) Functional group containing monomer: 0.1 mass% or more and 20 mass% or less.
(3) Other copolymerizable monomers: 0 mass% or more and 30 mass% or less.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
프탈로시아닌계 화합물을 추가로 함유하는 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 9,
A near-infrared absorption adhesive composition which further contains a phthalocyanine type compound.
디이모늄염(A1)을 용매(S1)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리 후, 1시간 이상 정치하고, 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 측정된 상기 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하인 디이모늄염(A1)과, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)와, 용매(S2)를 함유하고,
상기 디이모늄염(A1)은, 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
After adjusting the liquid mixture which mixed the dimonium salt (A1) with respect to the solvent (S1) at the ratio of 0.01 mass%, this mixture liquid was sonicated for 30 minutes, and left still for 1 hour or more, and then, the supernatant liquid of this liquid mixture was made into the optical path A dimonium salt (A1) having an absorbance (X) at λmax of λmax of the supernatant liquid, measured in an ultraviolet-visible spectrophotometer in the range of 350 nm or more and 1500 nm or less and 0.5 or less, and a calculated glass transition point of 0 It contains resin (B) which is C or less, and a solvent (S2),
The said dimonium salt (A1) is a near-infrared absorption adhesive composition whose solubility (Y) with respect to a solvent (S3) is less than 0.01 mass%.
제11항에 있어서,
상기 용매(S1)와 상기 용매(S2)가 동일하고,
상기 용매(S3)와 이 용매(S1)가 동일한 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method of claim 11,
The solvent (S1) and the solvent (S2) are the same,
The near-infrared absorption adhesive composition which the said solvent (S3) and this solvent (S1) are the same.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수 점착제 조성물을 포함하는 근적외선 흡수재.The near-infrared absorber containing the near-infrared absorption adhesive composition in any one of Claims 1-12. 제13항에 있어서,
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수 점착제 조성물이 투명기재에 적층되어 되는 근적외선 흡수재.
The method of claim 13,
The near-infrared absorptive material by which the near-infrared absorption adhesive composition in any one of Claims 1-12 is laminated | stacked on a transparent base material.
제14항에 있어서,
상기 투명기재에 도포된 후에, 상기 용매(S2) 또는 상기 용매(S3)가 휘발되어 되는 근적외선 흡수재.
The method of claim 14,
The near-infrared absorber in which the said solvent (S2) or the said solvent (S3) is volatilized after apply | coating to the said transparent base material.
제13항에 있어서,
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수 점착제 조성물이 전자파를 차폐할 수 있는 전자파 차폐재에 적층되어 되고,
상기 수지(B)의 산가가 0 이상 35 이하인 근적외선 흡수재.
The method of claim 13,
The near-infrared absorption adhesive composition in any one of Claims 1-12 is laminated | stacked on the electromagnetic wave shielding material which can shield an electromagnetic wave,
The near-infrared absorber whose acid value of the said resin (B) is 0 or more and 35 or less.
제16항에 있어서,
상기 전자파 차폐재가 상기 투명기재를 포함하는 근적외선 흡수재.
The method of claim 16,
The near-infrared absorber which said electromagnetic wave shielding material contains the said transparent base material.
제13항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수재를 사용해서 되는, 박형 디스플레이용 광학 필터. The optical filter for thin displays which uses the near-infrared absorber as described in any one of Claims 13-17. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수 점착제 조성물, 제13항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수재 또는 제18항에 기재된 광학 필터를 사용해서 되는, 박형 디스플레이.The thin display which uses the near-infrared absorption adhesive composition in any one of Claims 1-12, the near-infrared absorber in any one of Claims 13-17, or the optical filter of Claim 18. 근적외선 흡수 점착제 조성물용의 근적외선 흡수 혼합물로서,
디이모늄염(A1)을 용매(Sm)에 대해 0.01 질량%의 비율로 혼합한 혼합액을 조정하고, 이 혼합액을 30분간 초음파 처리 후, 1시간 이상 정치하고, 그 후, 이 혼합액의 상청액을 광로장 1 ㎜의 셀에 넣고 자외 가시 분광광도계에 의해 350 nm 이상 1500 nm 이하의 범위에서 측정된 상기 상청액의 λmax에서의 흡광도(X)가 0.5 이하인 디이모늄염(A1)과, 상기 용매(Sm)를 함유하고 있는 근적외선 흡수 혼합물.
As a near-infrared absorption mixture for a near-infrared absorption adhesive composition,
After adjusting the liquid mixture which mixed the dimonium salt (A1) with respect to the solvent (Sm) at the ratio of 0.01 mass%, this mixture liquid was sonicated for 30 minutes, and left still for 1 hour or more, and then, the supernatant liquid of this liquid mixture was made into the optical path The dimonium salt (A1) and the said solvent (Sm) whose absorbance (X) in (lambda) max of the supernatant liquid measured in the range of 350 nm or more and 1500 nm or less in the cell of 1 mm long, and 0.5 or less Near-infrared absorption mixture containing.
제20항에 있어서,
상기 용매(Sm)가 톨루엔 및/또는 초산에틸인 근적외선 흡수 혼합물.
The method of claim 20,
The near infrared absorption mixture of said solvent (Sm) is toluene and / or ethyl acetate.
근적외선 흡수 점착제 조성물용의 근적외선 흡수 혼합물로서,
용매(S3)와, 이 용매(S3)에 대한 용해도(Y)가 0.01 질량% 미만인 디이모늄염(A2)을 함유하고 있는 근적외선 흡수 혼합물.
As a near-infrared absorption mixture for a near-infrared absorption adhesive composition,
The near-infrared absorption mixture containing solvent (S3) and the dimonium salt (A2) whose solubility (Y) with respect to this solvent (S3) is less than 0.01 mass%.
제22항에 있어서,
상기 용매(S3)가 톨루엔 및/또는 초산에틸인 근적외선 흡수 혼합물.
The method of claim 22,
The near-infrared absorption mixture of said solvent (S3) is toluene and / or ethyl acetate.
제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 기재된 근적외선 흡수 혼합물을 사용해서 되는 근적외선 흡수 점착제 조성물. The near-infrared absorption adhesive composition which uses the near-infrared absorption mixture of any one of Claims 20-23. 제24항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 혼합물과 수지 조성물(P)을 사용해서 되고,
이 수지 조성물(P)이, 용매(S2)와, 계산 유리 전이점이 0℃ 이하인 수지(B)를 포함하고 있는 근적외선 흡수 점착제 조성물.
25. The method of claim 24,
The near-infrared absorption mixture and resin composition (P) may be used,
The near-infrared absorption adhesive composition in which this resin composition (P) contains solvent (S2) and resin (B) whose calculation glass transition point is 0 degrees C or less.
제25항에 있어서,
상기 수지 조성물(P)에 있어서의 수지(B)의 배합량이, 50 질량% 이상인 근적외선 흡수 점착제 조성물.
The method of claim 25,
The near-infrared absorption adhesive composition whose compounding quantity of resin (B) in the said resin composition (P) is 50 mass% or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013032500A (en) * 2011-06-30 2013-02-14 Nitto Denko Corp Adhesive agent composition, adhesive agent layer, and adhesive sheet
JP2013209234A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Japan Carlit Co Ltd:The Interlayer for laminated glass and laminated glass
ES2702658T3 (en) * 2014-04-10 2019-03-04 Csem Centre Suisse Delectronique Et De Microtechnique Sa Solar photovoltaic module
WO2018055880A1 (en) * 2016-09-21 2018-03-29 富士フイルム株式会社 Near-infrared cut filter, solid-state imaging device, camera module, and image display device
WO2019151344A1 (en) * 2018-02-05 2019-08-08 Agc株式会社 Optical filter and imaging device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101010290B (en) * 2004-09-06 2011-08-03 日本化药株式会社 Diimmonium compound and use thereof
WO2006120888A1 (en) * 2005-05-13 2006-11-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Diimonium compounds and use thereof
JP4697950B2 (en) * 2005-05-25 2011-06-08 日本化薬株式会社 Near-infrared absorption filter and optical filter using the same
JP4553962B2 (en) * 2006-03-01 2010-09-29 日本化薬株式会社 Near-infrared absorbing film and optical filter for plasma display panel using the same
WO2008026786A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Nippon Shokubai Co., Ltd. Salt for near infrared ray absorbing composition and near infrared ray absorbing pressure sensitive adhesive composition
WO2009001662A1 (en) * 2007-06-27 2008-12-31 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Near-infrared-absorbing film and optical filter employing the same for plasma display panel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014084289A1 (en) * 2012-11-30 2014-06-05 富士フイルム株式会社 Curable resin composition, and image-sensor-chip production method and image sensor chip using same

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