KR20110133466A - 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 종방향 연속 이동 강철 스트립의 두 측면으로부터 액체 코팅 금속을 제거하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 특히 스트립이 탱크 출구에서 움직일 때, 액체 코팅 금속으로 덮인 스트립을 자기장의 지배를 받지 않는 영역으로부터, 스트립의 양쪽 측면 상에 서로 대향하여 배열된 자성 부재의 극들 사이에 발생되고 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 상기 스트립과 교차하는 자기력선 또는 최소한 상기 자기력선의 메인 쉘을 갖는 정자기장의 지배를 받는 다른 영역으로 이동시켜, 액체 코팅 금속이 스트립과 상관적으로 상기 액체 금속 상에 스트립의 이동 방향과 반대의 힘을 발생시키는 자기장 변화의 지배를 받는 단계를 포함한다. 작은 자기장 변화로 인해, 이 자기 제동 효과(magnetic braking effect)는 스트립에 푸코 전류를 거의 발생시키지 않는다. 따라서, 다른 이점들 중에서, 액체 필름의 효과적인 제거 효과를 달성하기 위해 방출되는 전력이 매우 적고, 스트립의 가열은 매우 유리하게 무시할 수 있다.

Description

템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑하기 위한 방법 및 장치{METHOD AND DEVICE FOR DRAINING LIQUID COATING METAL AT THE OUTPUT OF A TEMPERING METAL COATING TANK}

본 발명은 청구항 1 및 12의 전제부에 따른 템퍼링(tempering) 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑(wiping)하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.

본 발명은 템퍼링에 의해 연속 코팅 라인으로 강철 스트립에 적용된 액체 금속 코팅 형태의 액체 금속 필름의 와이핑에 관한 것이다. "액체 금속 필름"은 예를 들어 아연계 및 알루미늄계 합금과 같이 강철 스트립에 적용 가능한 임의의 코팅 유형을 의미한다.

빌딩, 자동차 및 가정용 기구와 같은 소정 적용에서 부식에 대한 저항성을 향상시키기 위해, 아연 또는 아연계 합금과 같은 금속 코팅이 강철 스트립의 표면에 칠해진다. 이 코팅은

- 하나 또는 두 개의 스트립 언코일러(uncoiler), 길로틴 절단기(guillotine shear), 언코일러 중 하나의 밖으로 나오는 스트립의 꼬리 부분을 나머지 다른 언코일러의 밖으로 나오는 다음의 스트립의 헤드 부분에 연결하고 따라서 라인의 연속 작동을 보장하는 맞대기 용접기(butt-wedler), 스트립 어큐뮬레이터 - 스트립 어큐뮬레이터는 어큐뮬레이터의 언코일링 상류부가 맞대기 용접을 수행하기 위해 중단되는 동안 이전에 축적된 스트립을 라인으로 되돌림 - 를 갖는 입구 섹션,

- 냉간-롤 스트립용의 그리스 제거 섹션 또는 열간-롤 스트립용의 산-세척(acid-pickling) 섹션,

- 스트립이 액체 금속 배스(bath) 안에 들어가기 전에 스트립을 제어된 온도에 또한 유지하는 어닐링 노,

- 스트립이 그 안에 침지되는 액체 금속 배스, 액체 금속 와이핑 장치, 가능한 유도 합금 노, 냉각 시스템 및 템퍼링 탱크를 갖는 실제 코팅 섹션,

- 스킨-패스 밀(skin-pass mill), 패시베이션 장치(passivation device), 출구 어큐뮬레이터, 절단기(shear) 및 하나 또는 두 개의 리코일러(recoiler)를 갖는 출구 섹션

을 전형적으로 포함하는 연속 라인 상에서 수행된다.

이 방법의 제1 변형예에서, 노로부터 그 출구에서, 강철 스트립은 액체 금속 합금 배스 안에 비스듬히 침지되고, 강철 스트립은 배스 안에 침지된 롤러에 의해 수직하게 바뀌며, 그 다음에 강철 스트립은 바닥 롤러 위를 지나가는 것에 의해 유발된 횡방향 만곡을 교정하도록 의도된 "안티-컵핑(anti-cupping)" 롤러 위를 그 다음에 수직방향 궤적을 조정하도록 의도된 "패스 라인(pass line)" 롤러 위를 지나간다. 이 방법의 제2 변형예에서, 노로부터 그 출구에서, 강철 스트립은 롤러에 의해 수직하게 바뀌고 그 다음에 자기적으로 유지된 액체 금속 합금 배스를 통과해 수직하게 지나간다.

두 경우에, 코팅 배스로부터 그 출구에서, 스트립은, 양쪽 면(face) 상에서, 그것의 두께가 스트립에 의한 액체의 전진력과 중력 사이에 이루어진 균형의 결과인 액체 금속 필름으로 덮인다. 액체 코팅 금속의 두께는 부식 방지 분야에서의 성능 연구 및 사용된 금속 양의 최적화를 결합한 목표값에 가능한 한 가깝게 소정 값에 맞추어 횡방향 및 종방향으로 균형을 이루어야 한다. 이것을 달성하기 위해, 양쪽 면 상의 액체 필름의 와이핑을 보장하기 위해 장치가 스트립의 양쪽 측면 상에 배열된다.

그러한 와이핑 시스템은 예를 들어 유럽 특허 EP 0 566 497호에 충분히 기술되어 있다. 와이핑의 원리는 두께를 감소시키도록 의도된 액체 필름에서의 넥킹 효과(necking effect)를 발생시키기 위해 가스 제트를 내뿜는 것으로 이루어지며, 와이핑된 잉여 필름은 중력에 의해 코팅 탱크로 되돌아온다. 가스 압력뿐만 아니라 스트립과 그러한 와이퍼 사이의 거리, 와이퍼와 코팅 배스의 표면 사이의 거리 및 스트립의 운동 속도는 와이핑을 지배하는 주요 변수에 속한다. 이 변수들은 예를 들어 x-레이 게이지와 같이 스트립의 양쪽 면 상에 배열된 코팅 두께 측정 기구에 의해 획득된 측정값에 기초하여 제어된다.

가스 제트 와이핑 방법의 제한과 관련하여, 고속 스트립 운동에서 "스플래싱(splashing)"으로 알려진 현상이 일어난다는 것이 오랫동안 알려져 있다. 운동 속도와 함께 증가하는 피동 액체 필름의 두께에 관련된 이 현상은 스트립의 전진력, 중력 및 가스 제트에 의해 전단 응력이 발생되는 필름의 구역에서의 표면 장력 사이의 평형의 실패에 의해 유발된다. 이것은 가스 제트를 교란시키고, 코팅의 품질에 악영향을 미치며, 매우 종종 의도된 필름의 파열이 수반되는 액적(droplet)의 방출로 귀착된다. 스트립 운동 속도 그리고 따라서 코팅 라인의 생산성은 또한 액체 필름 와이핑 능력에 의해 제한된다.

이 현상을 방지하기 위해 그리고 더 높은 스트립 운동 속도를 가능하게 하기 위해 수많은 시도가 이루어지고 있다. 이 시도는 특히 최종 가스-제트 와이핑에 의해, 보충된, 하류의 액체 코팅 필름의 부분의 스트립을 와이핑하도록 의도된 자기 시스템을 포함한다.

따라서 자기 유도를 사용하는 몇몇 방법군이 알려져 있으며, 이 방법군 모두는 전류 및 자기장의 결합된 효과 하에서 액체 도전 매체 안에 (로렌츠(Lorentz)) 힘을 생성하는 것에 기초한다:

- 스트립을 둘러싸고 교류 전류를 사용하여 전력 공급되는 유도 코일을 구현하는 "종방향 플럭스(longitudinal flux)" 방법. 이 유형의 장치는 금속 코팅 필름 및 스트립에 교류 전류를 유도하는 상기 스트립의 "종방향" 운동에 대략 평행한 자기력선을 발생시킨다. 이렇게 유도된 전류와 자기장 사이의 상호 작용은 필름을 와이핑하는 반경방향 및 축방향 전자기력의 형성을 유발한다. 예로서, 일본 특허 제5051719호는 고주파수 교류 전류에 의해 전력 공급되는 그러한 종방향 자기장 시스템을 기술하고 있다.

- 교류 전류에 의해 전력 공급되는 2개의 별개의 유도 코일을 구현하고, 유도 코일 각각은 스트립의 두 측면 중 한쪽에 배치된 "횡방향 플럭스(transverse flux)" 방법. 이 유형의 장치는 스트립의 평면에 푸코 전류(Foucault current)를 유도하는 상기 스트립의 종방향 이동 운동에 대략 수직한 자기력선을 발생시킨다. 이 전류와 자기장 사이의 상호 작용은 액체 금속 필름을 와이핑하는 전자기 전단력의 형성을 발생시킨다. 예로서, 독일 특허 DE 2023900호 및 일본 특허 제08134617호는 적절한 주파수의 교류 전류에 의해 전력 공급되는 그러한 횡방향 자기장 시스템을 기술하고 있다.

- 스트립의 각 측면 상에, 다상의 교류 전류에 의해 전력 공급되는 다극 스테이터를 구현하는 "트래블링 필드(travelling field)" 방법. 이 유형의 장치는 상향-이동 스트립의 이동 운동과 반대의 방향으로 움직이는 자기장을 발생시키며, 따라서 액체 필름의 하향 펌핑 작용을 생성한다. 예로서, 미국 특허 제3,518,109호 및 일본 특허 제08053742호는 다상의 교류 전류에 의해 전력 공급되는 그러한 트래블링 자기장 시스템을 기술하고 있다.

- 스트립에 의해 구동된 액체 필름의 액체 배스와의 연결 메니스커스의 높이에 스테이터를 구현하는 "메니스커스 압력(meniscus pressure)" 방법. 자기장은 메니스커스의 곡선에 그리고 따라서 피동 필름의 두께에 작용한다. 예로서, 유럽 특허 EP 1 138 799호는 그러한 메니스커스-제어 시스템을 기술하고 있다. 이 방법은 구현하기가 매우 어려운 것으로 남아 있으며, 와이어와 같은 작은 물체의 금속 코팅으로 한정된다.

- 전술된 방법 중 일부에 대한 대안으로서, 슬라이딩 접촉기 또는 롤러를 스트립에 적용함으로써 전기 스트립 파워 장치와 결합될 필요가 있는 영구 자석이 또한 사용되고 있으며, 그 필요는 이 방법을 와이핑에 거의 적절하지 않게 만든다. 그러한 방법의 예는 일본 특허 제61-227158호 및 일본 특허 제02-254147호에 기술되어 있다. 마지막으로, 또한 영구 자석의 분야에서, 일본 특허 제2000-212714호는 와이핑에 사용 가능한 유도 효과를 생성하기 위해 가변 자기장을 형성하도록 복수의 자석을 회전 드럼 상에 장착하는 것을 제안한다.

이 방법들 각각은 그 구현을 상당히 어렵게 만드는 몇 개의 단점을 갖고 있다. 이 단점들은 다음과 같이 분류될 수 있다:

- 스트립의 가열:교류 전류에 의해 전력 공급되는 유도 코일에 의해 발생된 모든 종방향 및 횡방향 플럭스계는 최대 100℃ 초과 온도의 스트립의 상당한 가열을 유발한다. 특히 동일 와이핑 효과에도 불구하고 더 높은 전력을 요구하는 종방향 플럭스는 소정 형태에서 최대 150 내지 200℃의 온도 상승으로 귀착될 수 있다. 이 가열은 코팅에의 철 확산의 원하지 않은 현상을 촉진하는 결합 강철/코팅 층을 교란시킨다. 또한, 이 추가 열은 그 다음에 냉각 타워에서 소산되어야 하며, 이것은 공기 송풍 장치의 높이 증가 및/또는 전력 증가로 귀착된다.

- 스트립의 포화:스트립의 자기 포화가 자기력선에 의해 발생된 공간에서 매우 빨리 이루어지며, 일단 스트립이 포화되면, 그것은 그 자체가 와이핑 능력 그리고 따라서 스트립 운동 속도에 대한 제한이 된다. 이 위험은 특히 종방향 플럭스 방법 그리고 심지어 횡방향 플럭스 방법에서 현저하다.

- 스트립 마킹:슬라이딩 접촉기 또는 롤러를 사용하는 전기 스트립 파워 방법은 스트립 상에 기계적 마찰 마크를 남기기 때문에 품질이 중시되는 스트립에 관해 사용될 수 없다.

본 발명의 일 목적은 특히 종방향으로 이동하는 강철 스트립을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속의 효과적인 와이핑이며, 자기 스트립 포화의 제한 효과가 최소화되는 효과적인 와이핑을 보장하는 것이다.

본 발명은 또한

- 스트립 가열을 최소화하고,

- 스트립/필름의 기계적 마킹을 방지하며,

- 어떠한 "스플래싱" 효과도 없이 자기 와이핑을 사용하고,

- 의도된 코팅 두께의 정밀 제어를 가능하게 하도록 의도된다.

따라서 본 발명은 청구항 1 및 12의 내용에 따라 이 문제들을 해결하도록 의되된 방법 및 장치를 제공한다.

연속 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립의 양쪽 면을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑하는 방법에 기초하여, 본 발명은 따라서 탱크의 밖으로 이동 동안, 액체 코팅 금속으로 덮인 스트립이 자기장의 지배를 받지 않는 영역을 지나서 스트립의 양쪽 측면 상에 서로 면하여 배열된 자성 부재의 극들 사이에 생성된 정자기장의 지배를 받는 다른 영역으로 움직이고, 정자기장의 자기력선 또는 적어도 상기 자기력선의 메인 쉘(main shell)이 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 상기 스트립과 교차하여, 액체 코팅 금속이 스트립과 상관적으로 상기 액체 금속 상에 스트립의 이동 방향과 반대의 힘을 발생시키는 자기장 변화의 지배를 받는 것을 제공한다. 사실, 상기 교차의 종방향 범위는 가능한 한 작게, 그런데 한편으로는 최소 강도이지만 정자기장 내에서의 그것의 순환이 스트립에 관해 상기 액체 금속의 운동에 적절하게 저항하기 위해 필요한 로렌츠 힘을 발생시키기에 충분한 푸코 전류를 액체 금속 필름에 발생시키기에 충분하게 선택된다.

따라서 이 정자기장 내에서의 스트립의 이동 운동은 스트립에, 그러나 또한 그리고 무엇보다도 스트립의 이동 운동에 반대하는 자기 감속(magnetic deceleration) 효과가 발생되는 액체 필름에 공지의 방식으로 전류를 유도할 수 있다.

작은 자기장 변화 때문에, 이 자기 감속 효과는 스트립에 푸코 전류를 거의 발생시키지 않는다. 표면 효과의 부존재에 의해 자기장의 연속 성질은 액체 필름의 효과적인 와이핑 효과를 달성하기 위해 소비되는 전력을 제한하며 따라서 스트립의 가열은 매우 유리하게 미미하다.

스트립과의 접촉이 필요하지 않으며, 따라서 마킹 문제가 유리하게 회피된다. 특히 와이핑 장치의 연속에 의해 몇몇의 연속 스테이지에서 와이핑하는 목적을 위해 자기장을 사용하는 것은 "스플래싱" 효과로 인한 단점을 회피한다.

본 발명에 따라 기술된 방법을 구현하기 위해, 연속 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 양쪽 면을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 금속을 와이핑하기 위한 장치에 기초하여 장치의 실시예가 가능하다. 탱크 출구에서, 장치는 다음의 것을 제공한다.

- 적어도 제1 자성 부재가 스트립으로부터 소정 거리에 스트립의 두 면 중 제1 면에 횡방향으로 배치되고, 제2 자성 부재가 대략 상기 스트립으로부터 동일 거리에 스트립의 두 면 중 제2 면에 횡방향으로 배치되며,

- 상기 자성 부재(A1, A2)의 극은 상기 극들 사이에 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 스트립과 교차하는 (메인 쉘에 포함된) 정자기력선(static magnetic field line)을 발생시키도록 스트립의 각 측면 상에 서로 면하여 분포된다.

종속항 세트가 또한 본 발명의 이점을 기술한다.

실시예 및 적용의 예가 첨부 도면을 사용하여 제공된다.

도 1은 "종방향 플럭스"에 의한 와이핑 장치를 도시하는 도면이다.
도 2는 "횡방향 플럭스"에 의한 와이핑 장치를 도시하는 도면이다.
도 3은 "메니스커스 압력" 와이핑 장치를 도시하는 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 자성 부재를 갖는 와이핑 장치를 도시하는 도면이다.
도 5a, 도 5b, 도 5c 및 도 5d는 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자기 부재를 갖는 와이핑 장치를 도시하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 와이핑 원리를 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 거리 안정화 제어를 갖는 와이핑 원리를 도시하는 도면이다.

도 1은 종래 기술에서 전술된 바와 같은 "종방향 플럭스"에 의한 연속 수직 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 면(face)의 금속 코팅 필름의 와이핑 장치를 도시한다. 스트립(1)은 이와 같이 그 양쪽 면에서 액체 필름(도시되지 않음)으로 덮여지고 수직 운동 속도(V)에 의해 구동된다. 스트립을 폭방향으로 둘러싼 전기 도전체의 하나 이상의 턴(turn)을 포함하는 유도 코일(2)은 와이핑 효과를 유도 발생시키에 적절한 주파수의 교류 전류에 의해 가로질러진다. 도 1은 교번(alternation) 중 하나에 따른 전류의 경로를 도시한다. 이 전류는, 스트립의 양쪽 측면 상에, 단면으로 도시된 코일의 2개의 단부(21, 22)와 각각 관련된 2개의 로브(lobe)(L1, L2)로서 자신을 나타내는 교류 자기장을 발생시킨다. 스트립의 바로 근방에서, 자기력선이 발생되고 스트립의 운동 방향에 평행한 루트(route)를 가지며, 따라서 명칭 "종방향 플럭스"를 갖는다. 자기력선은 스트립을 가로지르는 것이 아니라, 스트립의 넓은 종방향 부분에 걸쳐 연장한다.

도 2는 종래 기술에서 전술된 바와 같은 "횡방향 플럭스"에 의한 연속 수직 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 면의 금속 코팅 필름의 와이핑 장치를 도시한다. 스트립(1)은 이와 같이 그 양쪽 면에서 액체 필름(도시되지 않음)으로 덮여지고 종방향 수직 운동 속도(V)에 의해 구동된다. 스트립의 일 측면 상에 스트립의 폭방향으로 서로 마주보며 대칭으로 각각 배열된 2개의 유도 코일(2a, 2b)은 와이핑 효과를 유도 발생시키기에 적합한 주파수의 교류 전류에 의해 가로질러진다. 도 2는 교번 중 하나에 따른 전류의 경로를 도시한다. 이 전류는, 스트립의 양쪽 측면 상에, 코일 부분(21a, 22a, 21b, 22b)과 각각 관련된 4개의 로브(L1, L2, L3, L4)로서 자신을 나타내는 교류 자기장을 발생시킨다. 스트립의 바로 근방에서, 자기력선이 발생되며 스트립의 운동 방향에 전체적으로 수직한 경로를 갖고 적어도 스트립의 폭 부분에 걸쳐 연장하며, 따라서 명칭 "횡방향 플럭스"를 갖는다. 이 자기력선들은 이동 운동에 수직한 방향으로 자기력선을 발생시키는 코일 부분 위에서 루핑(looping)한다. 따라서 자기력선은 스트립을 가로지르는 것이 아니라, 적어도 횡방향으로 스트립을 따라 연장한다.

도 3은 액체 코팅 필름용으로 의도된 "메니스커스 압력" 와이핑 장치를 도시한다. 따라서 스트립(1)은 액체 필름(3)으로 덮여지고 종방향 수직 운동 속도(V)에 의해 구동된다.

스트립을 폭방향으로 둘러싼 전기 도전체의 하나 이상의 턴을 포함하는 유도 코일(2)은 와이핑 효과에 적절한 주파수의 교류 전류에 의해 가로질러진다. 도 3은 교번 중 하나에 따른 전류의 경로를 도시한다. 자기장은 메니스커스의 곡선(R, R') 상에 그리고 따라서 피동 필름의 두께 상에 작용한다.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 자성 부재를 갖는 와이핑 장치이며, 더 구체적으로 연속 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 양쪽 면을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 금속을 와이핑하도록 의도된 장치를 도시한다. 이 탱크의 출구에서, 장치는

- 적어도 제1 자성 부재(A1) - 적어도 하나의 영구 자석이 스트립으로부터 소정 거리에 스트립의 두 면 중 제1 면에 횡방향으로 배치되고, 제2 자성 부재(A2)가 대략 스트립으로부터 동일 거리에 스트립의 두 면 중 제2 면에 횡방향으로 배치됨 - 와,

- 상기 자성 부재(A1, A2)의, 이 경우 N/S 자석인 극(N, S) - 상기 자성 부재(A1, A2)의 극(N, S)은 본 발명에 규정된 바와 같이 상기 극 사이에 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 스트립과 교차하는 메인 쉘 내에 포함된 정자기력선(B)을 발생시키도록 스트립의 각 측면 상에 서로 면하여 분포됨 - 을 포함한다.

즉, 도 4a 및 도 4b에 따른 장치는 따라서 정자기장(B) 내에서의 스트립의 강제된 이동 운동에 대한 반대-상호 작용으로 스트립 상에 최초로 놓인 금속 코팅의 층에 적합하게 맞춰진 와이핑 감속을 발생시킬 수 있는 적어도 하나의 기전장(electromotive field)을 유도하도록 자기 용량이 설정된 적어도 하나의 양극 영구 자석 부재(A1, A2)를 포함하는 각 자성 부재를 공급한다.

각 자성 부재(A1, A2)의 가장 가까운 극은 여기서 반대의 자기 극성(N, S)이다. 따라서, 스트립을 가로질러 이 극들 사이에 자기력선을 형성하는 것이 가능하다. 따라서 종방향 범위는 대략 사용된 자석 중 하나의 높이까지 감소된다.

동일 자기 극성을 갖도록 스트립에 가장 가까운 각 자성 부재(A1, A2)의 극을 제공하는 것이 또한 가능할 것이다.

도 4a에 따르면, 스트립으로부터 가장 멀리 떨어져 있는 각 자성 부재(A1, A2)의 극(S, N)(영구 자석의 외측 횡방향 면)은 또한 스트립의 구역 둘레에 자기 가이드 루프(magnetic guide loop)를 형성하는 강자성 프레임 요크와 같은 외부 자기장 가이드(C)에 의해 연결된다.

따라서, 도 4a에 따르면, 스트립의 양쪽 측면에서 서로 면하는 2개의 자성 부재에 가장 가까운 자극(N, S)은, 자극(N, S)이 스트립을 가로지르는 제1 자성 부재의 N극(N)과 제2 자성 부재의 S극(S) 사이에 자기 회로를 형성하는 정자기장(B)을 발생시키고, 자기 루프가 외측 극들 사이에서, 즉 스트립을 둘러싼 강자성 요크(C)를 통해 제2 자성 부재의 N극(N)과 제1 자성 부재의 S극(S) 사이에서 완료되도록 배열된다.

대안적으로 도 4b에 따르면, 와이핑 장치는 각 자성 부재(A1, A2)가 스트립의 이동 운동 방향으로 연속하여 배열되고 자기 가이드 절반-루프를 형성하는 적어도 하나의 강자성 요크 부분과 같은 자기장 가이드(C1, C2)에 의해 적어도 하나의 자석에 연결된 2개의 다른 극을 포함하여, 2개의 절반-루프의 단부의 2개의 극 각각의 사이에서, 절반-루프가 스트립의 양쪽 측면 상에 서로 면하여 배열되고 따라서 자기력선을 완전히 루핑하는 것을 제공한다. 즉, "U" 형상의 2개의 영구 자석은 스트립의 양쪽 측면 상에 반대 극성이 위치되는 상태로 서로 면하는 2개의 "U" 형상의 기부를 배치함으로써 스트립에 관해 대칭으로 배열된다.

따라서, 제1 강자성 요크 부분(C1)은 제1 자성 부재(A1)의 S극(S)을 연장시키고, 제2 강자성 요크 부분(C2)은 제2 자성 부재(A2)의 N극(N)을 연장시킨다. 자기장(B)은 제1 자성 부재의 N극(N)과 제2 자성 부재의 S극(S) 사이에서 처음으로 스트립을 가로지르고, 그 다음에 제2 강자성 요크 부분(C2) 위로 채널링(channeling)되며, 그 다음에 두 번째로 스트립을 가로지르며, 루프는 제1 강자성 요크 부분(C1)에서 완료된다.

절반-루프의 말단에서, 극이 반대의 자기 극성을 가져 2개의 절반-루프가 스트립을 가로질러 자기장(B)의 폐쇄-루프 자기 안내를 유도하는 것이 추천된다.

전술된 바와 같이, 절반-루프의 말단에서, 극이 동일 자기 극성을 갖는 것이 또한 가능할 것이다. 와이핑은 가능할 것이지만, 전술된 반대의 자기 극성 형태를 갖는 것보다 덜 효과적일 것이다.

도 4a 및 도 4b로 제한되지 않고 따라서 아래의 도면에 또한 적용 가능하게, 각 자성 부재는 하나의 스트립 폭과 적어도 동일한 길이에 걸쳐 하나 이상의 블록(block)으로 선형으로 연장된다. 또한, 하나의 스트립 폭과 적어도 동일한 길이에 걸쳐 선형으로 연장되는 몇몇 자성 부재는 스트립의 이동 운동 방향으로 그리고 스트립의 양쪽 측면 상에 하나 위에 나머지가 위치하는 방식으로 분포될 수 있다. 따라서 자기 스트립 포화를 방지하는 최소 정도의 자기장/스트립 교차의 연속 구역을 형성함으로써, 이 형태는 유리하게 와이핑의 효율이 증가되는 것을 가능하게 한다. 동일 목적을 위해, 자성 부재 중 적어도 하나는 가스 제트와 같은 상보적인 와이핑 장치, 또는 상보적인 스트립 안정화 장치에 연결될 수 있다.

도 5a 및 도 5b는 도 4a 및 도 4b의 형태에 각각 관련된 본 발명의 제2 실시예에 따른 (자성 부재와 같은) 전자기 부재를 갖는 와이핑 장치의 두 형태를 도시한다.

특히 도 5a에서, 2개의 전자기 부재(B1, B2)는 스트립의 두 면의 양쪽 측면 상에 스트립의 이동 운동에 횡방향으로 배열되며 상기 스트립을 둘러싼 강자성 요크(C)에 의해 연결된다.

도 5c 및 도 5d는 본 발명의 제2 실시예에 따른 (자성 부재와 같은) 전자기 부재를 갖는 와이핑 장치의 2개의 다른 형태를 도시한다.

특히 도 5b, 도 5c 및 도 5d는, 스트립의 두 면의 양쪽 측면 상에 스트립의 이동 운동에 횡방향으로 배열된 2개의 절반-루프(C1, C2)의 강자성 요크의 형태에 따라, 상기 전자기 부재(B1, B2, B3, B4)의 몇몇 가능한 배열을 도시한다. 이 예에서, 자기장 루프는 도 4b에 도시된 바와 같이 자기장(B)에 의한 2개의 스트립 교차에 의해 그리고 강자성 절반-요크에 의한 자기장의 상보적인 채널링에 의해 생성된다.

전자기 부재(B1, B2, B3, B4)는 여기서 상기 정자기장을 발생시키고 자기력선을 스트립의 에지로 그리고 특히 스트립과의 교차의 최소 범위 위로 채널링하기 위해 요크 또는 요크들(C, C1, C2)과 관련된 유도 코일이다. 상기 유도 코일 중 적어도 하나의 공급 전류를 조정함으로써, 정자기장의 밀도는 와이핑 유형에 맞게 선택된 파라미터에 따라 제어 가능하다.

도 5b에서, 2개의 유도 코일(B1, B2) 각각은 "U" 형상으로 각 절반-요크(C1, C2) 상에 중앙에 배치된다. 도 5c에서, 2개의 유도 코일(B1, B2) 각각은 "U" 형상으로 각 절반 요크(C1, C2) 상에 자극 말단(N, S) 중 하나의 근방에 배치되며, 말단은 스트립의 양쪽 측면 상에서 서로 면한다. 도 5d에서, 4개의 유도 코일(B1, B2, B3, B4) 각각은 도 5b의 모델에 따라 2개의 절반-요크의 4개의 말단 중 하나 상에 배치된다.

각 전자기 부재(B1, B2)의 가장 가까운 극은 여기서 반대의 자기 극성(N, S)이다. 따라서, 스트립을 가로질러 이 극들 사이에 자기력선을 형성하는 것이 가능하다("적합한 극성"을 갖는 도 5a 내지 도 5d).

동일 자기 극성을 갖도록 스트립에 가장 가까운 각 전자기 부재(B1, B2)의 극을 제공하는 것이 또한 가능할 것이다. 그러나, 이 형태에서 자기력선과 스트립 사이의 교차 정도를 최소화하는 것이 더 어렵다. 그러나, 그러한 형태는 2개의 전자기 부재 중 적어도 하나의 직류 전기 공급에 작용하는 것에 의해 극들 사이의 스트립의 위치가 더 용이하게 제어되는 것을 가능하게 한다. 따라서, 와이핑 및 스트립의 안정화 목적을 위해 이 두 형태(반대 및 동일 자기 극성)들 각각을 이동 운동의 방향으로 연속해서 배열하는 것이 유리할 수 있다. 와이핑은 가능할 것이나, 전술된 반대의 자기 극성 형태를 갖는 것보다 덜 효과적일 것이다.

도 6은 본 발명의 제1 실시예(도 4b)에 따른 자기 감속에 의한 액체 금속 코팅 필름의 와이핑 원리를 도시하는 도면이다. 스트립(1)은 그 양쪽 면 상에서 액체 필름(도시되지 않음)에 의해 덮여지고 종방향 수직 이동 운동 속도(V)에 의해 구동된다. 그것의 형상이 전적으로 예로서 도시된 2개의 자성 부재(A1, A2) 및 그것의 요크(C1, C2)가 스트립의 일 측면 상에 폭방향으로 그리고 스트립으로부터 소정 거리(e)에 각각 배열된다. 그것들은 자성 부재(A1, A2) 중 하나의 N극(N)이 나머지 다른 자성 부재의 S극(S)의 맞은편에 위치되어 자기장(B)이 스트립(1)을 가로지르는 2개의 부재에서 2회 루핑하도록 배열된다. 이 정자기장(B) 내에서의 스트립의 이동 운동은 반대 극성의 극들 사이에 기전장(E)을 그리고 따라서 스트립에 전류를 유도하고, 스트립의 이동 운동에 반대하는 자기 감속력(F)이 발생한다.

도 7은 본 발명의 제2 실시예(도 5b)에 따른 거리 안정화 제어(또는 스트립 센터링(strip centering))를 갖는 자기-감속 와이핑 원리를 도시하는 도면이다.

자성 부재 중 적어도 하나는,

- 정자기장(B) 내에서의 스트립의 강제된 이동 운동에 대한 반대-상호 작용으로 스트립 상에 최초로 놓인 금속 코팅의 층에 적합하게 맞춰진 와이핑 감속을 발생시킬 수 있는 적어도 하나의 기전장(E)을 유도하고,

- 유리하게 각 자성 부재와 스트립 사이에 동등 거리를 설정하도록,

자기장-가이드 전자기 부재(C2)를 캡슐화하는 적어도 하나의 유도 코일(B2)을 이상적으로 제어하는 제어 신호(Cc)를 통해 커맨드 모듈(command module, MC)에 의해 자기 용량이 조정 가능한 적어도 하나의 전자기 부재(B1, B2)(유도 코일 전자석)를 포함한다.

커맨드 모듈(MC)은 유도 코일 내의 전류 세팅을 조정하기 위해 다음의 2개의 신호 중 적어도 하나를 받아들일 수 있는 처리 유닛에 의해 제어된다:

- 스트립과 전자기 부재(B1, B2) 중 하나 사이의 거리(e)의 비접촉 측정 시스템(ME)으로부터의 거리 측정 신호(Si),

- 자기장 측정 기구(MB)로부터 적어도 하나의 전자기 부재 극으로의 자기장 측정 신호 - 상기 자기장 측정 신호는 거리값(e)과 상호 연관 가능함 -.

이 상호 연관의 함수로서, 커맨드 유닛은 강철 스트립을 극들 사이의 규정된 위치에 유지하여 스트립의 양쪽 면 상의 코팅의 최적 가능 분포를 보장할 수 있도록 전자기 부재 중 적어도 하나의 유도 코일에 전류 세팅을 발생시킨다.

전자석의 사용이 영구 자석보다 더 강한 자기장을 제공하는 것을 가능하게 한다는 사실에 추가하여, 그것은 또한 정밀 제어를 가능하게 한다. 특히, 그것은 스트립이 2개의 전자기 부재 사이의 소정 위치에 동적으로 유지되는 것을 가능하게 한다.

따라서 도 4, 도 5, 도 6 및 도 7에 제안된 모든 장치는 본 발명에 따른 와이핑 방법, 즉 연속 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 양쪽 면을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑하는 방법이며, 탱크의 밖으로 이동할 때, 액체 코팅 금속으로 덮인 스트립이 자기장의 지배를 받지 않는 영역으로부터 스트립의 양쪽 측면 상에 서로 면하여 배치된 자성 부재(A1, A2, B1, B2)의 극(N, S)들 사이에 생성된 정자기장(B)의 지배를 받는 다른 영역으로 움직이고, 정자기장(B)의 자기력선이 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 상기 스트립과 교차하여, 액체 코팅 금속이 스트립과 상기 액체 금속 상에 스트립의 이동 방향과 반대의 힘을 발생시키는 자기장 변화에 상관적으로 지배를 받는 방법을 구현할 수 있다. 정자기장과 이동 스트립의 상호 작용은 스트립 및 액체 코팅 필름에 정자기장 내에서의 그것의 순환이 스트립에 관하여 상기 액체 금속의 이동 운동에 반대하는 로렌츠 힘(Lorentz force)을 발생시키는 푸코 전류를, 따라서 (강제된) 이동 스트립에 관하여 자기 감속 효과를 발생시킨다.

이 자기 감속 효과는 스트립에 푸코 전류를 거의 발생시키지 않고, 표면 효과(skin effect)에 의해 자기장의 연속 성질은 액체 필름의 효과적인 와이핑 효과를 달성하기 위해 소비되는 전력을 제한하며, 따라서 스트립의 가열은 매우 유리하게 무시할 수 있다.

전술된 바와 같이, 본 방법은 이상적으로 반대 극성이도록 스트립의 양쪽 측면 상에 가장 가깝게 배열된 극을 이상적으로 제공한다. 이러한 실시형태는 자기력선들 사이의 스트립과의 교차의 정도를 최소화하는 것을 돕고, 따라서 유리하게 자기 스트립 포화의 효과를 피하는 것을 가능하게 하며, 자극의 아래를 지나갈 때 상당한 자기장 변화로 인해 뛰어난 와이핑을 효과적으로 가능하게 한다. 동일 극성의 인접 극을 갖는 형태가 또한 가능하지만, 원하는 유형의 와이핑에 덜 효과적이며, 그러나 유도 코일의 직류-전류 공급의 작용에 의해 극들 사이의 스트립의 더 나은 위치 제어를 가능하게 하는 이점을 제공한다.

원하는 와이핑 효과에 관련된 자기장(B)의 강도는 극과 스트립 사이의 거리(e)를 변화시킴으로써 간단하게 제어되고, 극은 이상적으로 간단한 독립형 자성 부재의 문맥에서 영구 자석의 극이다.

본 방법은 또한 유리하게 다음을 제공할 수 있다:

- 자기력선 내의 적어도 일 지점에서, 거리(e)는 이동 스트립과 자기적으로 제어 가능한 자성 부재로서 유도 코일이 설치된 2개의 전자기 부재(B1, B2)(예를 들어, 전자석) 중 적어도 하나의 사이에서, 이상적으로 직접 비접촉 측정에 의해 결정된다.

- 스트립을 2개의 전자기 부재 사이의 중심에 유지하기 위해 유도 코일 중 적어도 하나의 직류-전류 전력원이 제어된다.

따라서 스트립을 가로지르는 전체 자기 흐름(도 4 내지 도 7의 예를 참조)은 정적으로 유지될 수 있으며 그 정적 값의 근처에서 정밀 조정될 수 있다.

원하는 와이핑 효과에 관련된 자기장(B)의 강도를 조정하기 위해 유도 코일(B1, B2) 중 적어도 하나의 직류-전류 전력 공급이 제어된다. 이것은 본 방법을 상이한 스트립 및/또는 코팅 유형에 적합하게 맞추기 위해 중요하며, 또한 와이핑 시스템이 x-레이 두께 게이지와 같은 측정 기구에 의한 코팅 두께 측정의 지배를 받게 하는 것을 가능하게 한다.

본 발명은 또한 다음을 제공한다:

A) 자기력선 내의 적어도 일 지점에서, 거리(e)는 스트립과 2개의 전자기 부재 중 적어도 하나 사이의 갭 효과에 의해 개시된 변화에 기인하는 자기장 변화를 측정함으로써 이동 스트립과 2개의 전자기 부재(B1, B2) 중 적어도 하나의 사이에서 결정된다. 위의 간접 자기장 측정 방법에 대한 대안 또는 보충으로서, 거리(e)의 직접 측정이 또한 가능하다.

B)

- 적어도 두 세트의 자성 부재가 스트립의 적어도 일 측면의 폭을 가로질러 횡방향으로 분포되고,

- 만약 자성 부재가 유도 코일이 설치된 전자기 부재이면, 유도 코일의 각 전류는 독립적으로 제어된다. 따라서 자성 부재들 사이의 스트립의 위치 제어가 효과적으로 촉진된다.

C)

- 적어도 두 세트의 자성 부재가 스트립의 이동 운동 방향으로 그리고 스트립의 양쪽 측면 상에 하나 위에 나머지가 위치하는 방식으로 분포되고,

- 만약 자성 부재가 유도 코일이 설치된 전자기 부재이면, 유도 코일의 각 전류는 독립적으로 제어된다.

자성 부재 또는 전자기 부재의 세트의 이 연속은 와이핑 효과를 효과적으로 분포시키는 것 그리고 스트립 위치를 제어하는 것을 가능하게 한다.

본 발명에 따른 와이핑 방법은 또한 필요하다면 스트립 면 상의 가스 제트와 같은 상보적인 와이핑 방법과 관련하여 구현 및 제어될 수 있다. 이는 또한 상보적인 스트립 이동 운동 안정화 방법과 관련하여 구현 및 제어될 수 있다.

Claims (25)

1. 연속 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 양쪽 면을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑하는 방법에 있어서,
   탱크의 밖으로 이동할 때, 액체 코팅 금속으로 덮인 스트립이 자기장의 지배를 받지 않는 영역으로부터 스트립의 양쪽 측면 상에 서로 면하여 배치된 자성 부재(A1, A2, B1, B2)의 극(N, S) 사이에 생성된 정자기장(static magnetic field)(B)의 지배를 받는 다른 영역으로 움직이고, 정자기장(B)의 자기력선이 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 상기 스트립과 교차하여, 액체 코팅 금속이 스트립과 상기 액체 금속상에 스트립의 이동 방향과 반대의 힘을 발생시키는 자기장 변화에 상관적으로 지배를 받는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 스트립의 양쪽 측면 상에 가장 가깝게 배열된 극은 이상적으로 반대 극성인 방법.
3. 제1항에 있어서, 스트립의 양쪽 측면 상에 가장 가깝게 배열된 극은 이상적으로 동일 극성인 방법.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 원하는 와이핑 효과에 관련된 자기장(B)의 강도는 극과 스트립 사이의 거리(e)를 변화시킴으로써 제어되며, 극은 이상적으로 영구 자석의 극인 방법.
5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   - 자기력선 내의 적어도 일 지점에서, 거리(e)는 이동 스트립과 자성 부재로서 유도 코일이 설치된 2개의 전자기 부재(B1, B2) 중 적어도 하나의 사이에서, 직접 비접촉 측정에 의해 이상적으로 평가되고,
   - 2개의 전자기 부재 사이의 스트립의 위치를 유지하기 위해 유도 코일 중 적어도 하나의 직류 전력원이 제어되는 방법.
6. 제5항에 있어서, 원하는 와이핑 효과에 관련된 자기장(B)의 강도를 조정하기 위해 유도 코일(B1, B2) 중 적어도 하나의 직류 전력 공급이 제어되는 방법.
7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 자기력선 내의 적어도 일 지점에서, 거리(e)는 스트립과 2개의 전자기 부재 중 적어도 하나 사이의 갭 효과에 의해 개시된 변화에 기인하는 자기장 변화를 측정함으로써 이동 스트립과 2개의 전자기 부재(B1, B2) 중 적어도 하나의 사이에서 결정되는 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
   - 적어도 두 세트의 자성 부재가 스트립의 적어도 일 측면의 폭을 가로질러 횡방향으로 분포되고,
   - 자성 부재가 유도 코일이 설치된 전자기 부재이면, 유도 코일의 각 전력 전류는 독립적으로 제어되는 방법.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
   - 적어도 두 세트의 자성 부재가 스트립의 이동 운동 방향으로 그리고 스트립의 양쪽 측면 상에 하나 위에 나머지가 위치하는 방식으로 분포되고,
   - 만약 자성 부재가 유도 코일이 설치된 전자기 부재이면, 유도 코일의 각 전력 전류는 독립적으로 제어되는 방법.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 스트립 면 상의 가스 제트와 같은 상보적인 와이핑 방법과 관련하여 구현 및 제어되는 방법.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상보적인 스트립 이동 운동 안정화 방법과 관련하여 구현 및 제어되는 방법.
12. 연속 종방향 운동 상태에 있는 강철 스트립(1)의 양쪽 면을 위한 템퍼링 금속 코팅 탱크의 출구에서 액체 코팅 금속을 와이핑하기 위한 장치에 있어서,
    탱크 출구에서,
    - 적어도 제1 자성 부재(A1)가 스트립으로부터 소정 거리(e)에 스트립의 두 면 중 제1 면에 횡방향으로 배치되고, 제2 자성 부재(A2)가 대략 상기 스트립으로부터 동일 거리에 스트립의 두 면 중 제2 면에 횡방향으로 배치되며,
    - 상기 자성 부재(A1, A2)의 극(N, S)은 상기 극 사이에 적어도 하나의 최소 종방향 범위에 걸쳐 스트립과 교차하는 메인 쉘 내에 포함된 정자기력선(B)을 발생시키도록 스트립의 각 측면 상에 서로 면하여 분포되는 것을 특징으로 하는 장치.
13. 제12항에 있어서, 가장 가까운 각 자성 부재(A1, A2)의 극은 반대의 자기 극성(N, S)을 갖는 장치.
14. 제13항에 있어서, 스트립에 가장 가까운 각 자성 부재(A1, A2)의 극은 동일 자기 극성을 갖는 장치.
15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 스트립으로부터 가장 멀리 떨어져 있는 각 자성 부재(A1, A2)의 극은 스트립의 구역 둘레에 자기 가이드 루프(magnetic guide loop)를 형성하는 강자성 프레임 요크와 같은 외부 자기장 가이드(C)에 의해 연결되는 장치.
16. 제13항 또는 제14항에 있어서, 각 자성 부재(A1, A2, B1, B2)는 스트립의 이동 운동 방향으로 연속하여 배열되고 자기 가이드 절반-루프를 형성하는 적어도 하나의 강자성 요크 부분과 같은 자기장 가이드(C1, C2)에 의해 적어도 하나의 자석에 연결된 2개의 다른 극을 포함하여, 2개의 절반-루프의 단부의 2개의 극 각각의 사이에서, 절반-루프가 스트립의 양쪽 측면 상에 서로 면하여 배열되는 장치.
17. 제13항 및 제16항에 있어서, 절반-루프의 말단에서, 극은 2개의 절반-루프가 스트립을 가로질러 자기장(B)의 폐쇄-루프 자기 안내를 유도하도록 반대의 자기 극성을 가지는 장치.
18. 제14항 및 제16항에 있어서, 절반-루프의 말단에서, 극은 2개의 절반-루프가 스트립에 횡방향으로 자기장(B)의 절반-폐쇄-루프 횡방향 자기 안내를 유도하도록 동일 자기 극성을 가지는 장치.
19. 제12항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 각 자성 부재는 하나의 스트립 폭과 적어도 동일한 길이에 걸쳐 하나 이상의 블록으로 선형으로 연장되는 장치.
20. 제12항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 스트립 폭과 적어도 동일한 길이에 걸쳐 선형으로 연장되는 일부 자성 부재가 스트립의 이동 운동 방향으로 그리고 스트립의 양쪽 측면 상에 하나 위에 나머지가 위치하는 방식으로 분포되는 장치.
21. 제12항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 자성 부재는 가스-제트 와이핑 장치와 같은 상보적인 장치와 결합되는 장치.
22. 제12항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 자성 부재는 상보적인 스트립-안정화 장치와 결합되는 장치.
23. 제12항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 각 자성 부재는 적어도 하나의 양극 영구 자석 부재(A1, A2)를 갖고, 양극 영구 자석 부재(A1, A2)의 자기 용량은
    - 정자기장(B) 내에서의 스트립의 강제된 이동 운동에 대한 반대-상호 작용으로 스트립 상에 최초로 놓인 금속 코팅의 층에 적합하게 맞춰진 와이핑 감속을 발생시킬 수 있는 적어도 하나의 기전장(E)을 유도하도록 설정된 장치.
24. 제12항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 자성 부재 중 적어도 하나는 적어도 하나의 전자기 부재(B1, B2)를 포함하며, 전자기 부재(B1, B2)의 자기 용량은
    - 정자기장(B) 내에서의 스트립의 강제된 이동 운동에 대한 반대-상호 작용으로 스트립 상에 최초로 놓인 금속 코팅의 층에 적합하게 맞춰진 와이핑 감속을 발생시킬 수 있는 적어도 하나의 기전장(E)을 유도하고,
    - 각 자성 부재와 스트립 사이에 동등 거리를 설정하도록,
    전자기 부재를 캡슐화하는 유도 코일을 이상적으로 제어하는 커맨드 모듈(MC)에 의해 조정 가능한 장치.
25. 제24항에 있어서, 커맨드 모듈(MC)은 유도 코일 내의 전류 세팅을 조정하기 위해 다음의 2개의 신호
    - 스트립과 전자기 부재(B1, B2) 중 하나 사이의 거리(e)의 비접촉 측정 시스템(ME)으로부터의 거리 측정 신호(Si),
    - 자기장 측정 기구(MB)로부터 적어도 하나의 전자기 부재 극으로의 자기장 측정 신호 - 상기 자기장 측정 신호는 측정된 거리값(e)과 상호 연관 가능함 -
    중 적어도 하나를 받아들일 수 있는 처리 유닛에 의해 제어되는 장치.

Images