KR20110124010A - 자기 방향성 단분산 타원체 하이브리드 입자 및 그 제조 방법 - Google Patents

자기 방향성 단분산 타원체 하이브리드 입자 및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 자기력의 배향에 반응하여 자기력 조절에 따라 배열 및 구동이 가능한 타원체 하이브리드 입자 및 그를 제조하는 방법에 관한 것으로, 기존의 구형 입자가 아닌 크기 분포가 동일한 타원의 입자에 자성체 무기 금속을 도입한 것이 특징이다. 입자 각각이 자기력 조절을 통해 조작자가 원하는 형태로 배열 및 구동이 가능하게 된다.

Description

자기 방향성 단분산 타원체 하이브리드 입자 및 그 제조 방법 {Oval-Shaped Monodisperse Hybrid Particles Having Alignment Upon Magnetic Field and Manufacturing Method Thereof}
본 발명은 타원체 단분산 고분자 입자의 표면에 자성을 갖는 무기물을 도입하여 자기장에 대해 각기의 개체가 3차원적으로 독립적인 구동이 가능한 타원체 하이브리드 입자를 제조하는 방법에 관한 것이다.
단분산 하이브리드 입자는 구형 고분자 입자와는 달리 전도성이나 자성과 같은 무기물의 성질과 고분자의 탄성을 동시에 갖기 때문에 전자기판 등에 사용되는 도전볼과, 의학용 입자, 자성 토너 등에 적용되어 왔다. 그리고 나노 사이즈로 제조가 가능하기 때문에, 금, 은 등을 코팅하여 자기 구동형 촉매로 활용할 수도 있으며, 은폐력이 높은 유기 안료, 도료, 잉크, 화장품뿐만 아니라 전파 자폐용 군용 장비 등의 분야에도 적용이 가능하다.
상기와 같은 하이브리드 입자를 제조하기 위해 그 동안 여러 방법이 제안되어 왔다. 유럽 특허 제522,856호는 중합체 메트릭스 내부에 무기 산화 입자가 분산되어 있는 중합체를 제조하고, 이를 분쇄하거나 파쇄하여 하이브리드 입자를 제조하는 방법을 제시하고 있으나, 상기 제조 방법은 분쇄 공정을 거치기 때문에 입자의 형태와 크기가 일정하지 않다는 문제점이 있다.
또한, 호주 특허 제704,376호는 단량체, 무기 자성 분말 및 분산제를 포함하는 분산 유기상을 중합하는 단계를 포함하는 수성 현탁 중합 공정을 제시하고 있다. 중합 과정에서 분산제는 단량체와 반응하여 수지 내에 공유 결합되고 무기 입자가 고분자 입자 안에 분산된 구형의 고분자 입자가 제조될 수 있다. 그러나 무기물 입자를 단량체 안에 분산시켜 중합하기 때문에 높은 단분산도와 원하는 크기의 입자를 얻기 어렵다는 단점이 있다.
기존의 자성 하이브리드 입자는 제조된 후, 기본적인 형태가 불규칙한 형태이거나 구형이기 때문에 자성에 의해 입자가 독립적으로 구동하거나, 자기 배열이 독립적이지 못하였다. 따라서 구동자가 원하는 형태와 독립적인 3차원 구동과 배열이 가능한 하이브리드 소재가 요구되어 왔으나, 지금까지 그러한 하이브리드 입자의 제조 방법은 알려져 있지 않은 실정이다.
이에 본 발명자들은 상기 입자들이 가지는 특성에 새로운 특성을 부가 하도록 연구한 결과 타원체의 자성체 입자는 입자 개체 하나 하나가 자기장에 대해 방향성을 가진다는 사실을 발견하여 본 발명을 완성하게 되었다. 즉, 본 발명은 자기 방향성을 갖는 단분산 고분자 입자 및 그의 제조 방법을 제공하는 것에 그 목적이 있다.
본 발명은 타원체 단분산 고분자 입자를 지지체로 하여 자성을 갖는 무기 입자가 도입된 타원체 하이브리드 입자에 관한 것이다. 상기 타원체 하이브리드 입자는 자기장에 대한 입자 각각의 독립적 구동이 가능하며, 또한 2차원 평면 배열이 아닌 3차원 공간 배열이 가능하다.
또한 본 발명은 용매에 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제를 투입한 후 승온 및 교반하에 분산중합하되 가교제의 투입 양이 용매, 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.01 ~ 5 중량%인 타원체 단분산 고분자 입자를 제조하는 1 단계, 제조된 고분자 입자에 자성 무기 입자를 도입하는 2 단계 및 상기 자성 무기 입자가 도입된 타원체 단분산 고분자 입자를 세척하고 건조하는 3 단계를 포함하는 자성을 갖는 무기 입자를 도입한 타원체 하이브리드 입자의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 타원체 하이브리드 입자는 기존에 알려진 구형의 자성 하이브리드 입자와 달리 자기장에 대한 입자 각각의 독립적 구동이 가능하며, 2차원 평면 배열이 아닌 3차원 공간 배열이 가능하다. 이러한 구동 및 배열 특성을 자성 특성을 이용해 입자의 배열을 원하는 형태로 손쉽게 조절 할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 또한, 기존의 구형 하이브리드 입자의 제조 방법과 동일한 공정으로 제조가 가능하기 때문에, 별도의 공정 개선 및 추가를 하지 않고도 고 기능성 하이브리드 입자를 제조 할 수 있다는 점에서 그 파급 효과가 크다고 할 수 있다.
도 1은 실시예 1의 1 단계에서 얻어진 분산중합으로 합성한 타원형 단분산 고분자 입자의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
도 2는 실시예 1에서 얻어진 단분산 자기 방향성 하이브리드 입자의 SEM 사진이다.
도 3은 실시예 1에서 얻어진 단분산 자기 방향성 하이브리드 입자의 광학현미경 사진이다.
도 4는 실시예 1에서 얻어진 단분산 자기 방향성 하이브리드 입자의 단면을보여주는 투과전자현미경(TEM) 사진이다.
도 5는 실시예 1에서 자기 방향성 하이브리드 입자의 배열 및 구동 특성을 보여주는 광학 현미경 사진과 그림이다.
본 발명은 타원체 단분산 고분자 입자를 지지체로 하여 자성을 갖는 무기 입자가 도입된 타원체 하이브리드 입자에 관한 것이다. 상기 타원체 하이브리드 입자는 자성기장에 대한 입자 각각의 독립적 구동이 가능하며, 또한 2차원 평면 배열이 아닌 3차원 공간 배열이 가능하다. 상기 타원체 단분산 고분자 입자는 장축/단축 비율이 1.3 ~ 5 인 것이 바람직하다. 비율이 1.3 미만일 경우 구형과 유사하게 되어 타원체로서의 특징인 배열 및 구동 특성이 나타나지 않을 수 있으며, 비율이 5를 초과할 때에는 구동 능력 저하의 문제가 있을 수 있다. 상기 타원체 하이브리드 입자 내에서 무기 입자는 5 ~ 80 중량%인 것이 바람직하다. 5 중량% 미만인 경우 자성이 부족하여 배열 및 구동 특성이 나타나지 않을 수 있으며, 80 중량%를 초과하는 경우 고분자 입자의 특성이 사라지는 문제가 있을 수 있다.
상기 타원체 하이브리드 입자는 용매에 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제를 투입한 후, 승온 및 교반하에 분산중합하되 가교제의 투입 중량이 용매, 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.01 ~ 5 중량%인 타원체 단분산 고분자 입자를 제조하는 1 단계, 제조된 고분자 입자에 자성 무기 입자를 도입하는 2 단계 및 상기 자성 무기 입자가 도입된 타원체 단분산 고분자 입자를 세척하고 건조하는 3 단계를 포함하여 제조할 수 있다.
상기 1 단계는 지지체가 되는 타원체 고분자 입자를 분산중합을 통해 제조하는 단계로서, 용매에 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제를 반응기에 혼합시킨 뒤 승온 및 교반을 통해 분산중합을 실시하는 단계이다. 특히 가교제의 투입 중량을 상기와 같이 한정함으로써 구형이 아닌 타원체의 단분산 입자를 제조하는 것이 가능해 진다.
상기 2 단계는 자성을 갖는 무기물을 공침전법, 무전해도금법 또는 산처리 흡착법과 같은 방법으로 고분자 입자 표면에 도입하여 자성 하이브리드 입자를 제조하는 단계이며, 자성 무기 입자를 도입하는 방법은 특별히 한정하지 아니한다.
상기 3 단계는 자성 무기물을 고분자 입자의 표면에 도입하는 과정에서 흡착 되지 못한 무기물을 세정과정을 통해 제거한 후 건조과정을 거쳐 분말입자를 얻는 단계로, 이 과정을 통해 자성 하이브리드 입자만이 최종 제조물로 수득된다.
이하 본 발명에서 사용되는 구성성분을 구체적으로 설명한다.
(1) 라디칼 중합성 단량체
본 발명의 단분산 고분자 가교 입자의 제조에 사용될 수 있는 라디칼 중합성 단량체는 특별히 제한되지 않는다. 사용가능한 라디칼 중합성 단량체로는, 구체적으로는 스티렌, p-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-에틸스티렌, m-에틸스티렌, p-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로메틸스티렌, m-클로로메틸스티렌, 스티렌설포닉에시드, p-t-부톡시스티렌, m-t-부톡시스티렌, 플로로스티렌, 알파메틸스티렌, 비닐톨루엔, 클로로스티렌의 방향족 비닐계 단량체; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 플루오르에틸아크릴레이트, 트리플루오르에틸메타크릴레이트, 펜타플루오르프로필메타크릴레이트, 플로로에틸메타크릴레이트, 헥사플루오르부틸(메타)아크릴레이트, 헥사플루오르이소프로필메타크릴레이트, 퍼플루오르알킬아크릴레이트, 옥타플루오르페닐메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트계 단량체; 및 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트, 비닐부틸레이트, 비닐에테르, 알릴부틸에테르, 알릴글리시딜에테르, (메타)아크릴산, 말레산과 같은 불포화 카르복시산, 알킬(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로니트릴의 시안화 비닐계 단량체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서 (메타)아크릴레이트는 메타크릴레이트 또는 아크릴레이트를 의미한다.
특히, 라디칼 중합성 단량체는 (메타)아크릴레이트계 단량체 혹은 이와 공중합체를 형성할 수 있는 방향족 비닐계 단량체인 것이 바람직하다.
제 1단계에서 투입되는 라디칼 중합성 단량체의 사용량은 라디칼 중합성 단량체, 개시제, 가교제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 1 ~ 50 중량%, 바람직하게는 5 ~ 20 중량% 사용 할 수 있다.
(2) 가교제(다관능성 가교 단량체)
입자의 타원적인 성장을 주도하는 다관능성 가교 단량체로는 디비닐벤젠, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트 등의 알릴 화합물, 헥산디올디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸렌프로판트리메타크릴레이트, 1,3-부탄디올메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 펜타에릴트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판, 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리(메타)아크릴레이트 및 알릴(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물이 사용될 수 있다.
상기 2단계에서 투입되는 다관능성 가교 단량체는 라디칼 중합성 단량체 및 다관능성 가교 단량체 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.01 ~ 5 중량%, 바람직하게는 0.2 ~ 0.5 중량%이며, 가교 단량체의 양에 따라 고분자 입자의 형태가 결정된다.
(3) 개시제
상기 개시제로서는 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 퍼옥사이드계; 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스2-메틸이소부티로니트릴 등의 아조계 반응 개시제 및 암모늄퍼설페이트, 포타슘퍼설페이트, 소듐퍼설페이트, 암모늄바이설페이트, 소듐바이설페이트 등의 설페이트계 반응 개시제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물이 사용될 수 있다.
투입되는 개시제의 사용량은 라디칼 중합성 단량체, 가교제, 개시제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.05 ~ 10 중량%, 바람직하게는 0.1 ~ 3 중량%를 사용 할 수 있다.
(4) 분산안정제
상기 분산안정제로서는 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스 등의 셀룰로스 유도체, 폴리비닐알콜, 폴리비닐메틸에테르, 폴리아크릴산, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐피롤리돈, 비닐피롤리돈과 비닐아세테이트의 공중합체 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 폴리비닐피롤리돈과 폴리비닐알콜이 사용될 수 있다. 제 1 단계에서 사용되는 분산안정제의 사용량은 라디칼 중합성 단량체, 가교제,개시제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.5 ~ 15 중량%, 바람직하게는 1 ~ 6 중량%를 사용 할 수 있다.
(5) 무기 입자
제2단계에 있어서 타원의 고분자 입자의 표면에 도입되는 자성 무기 입자로서, 산화철, 니켈, 코발트, 크롬, 백금, 망간, 알루미늄 등과 같은 상자성 무기물과, 비스무스, 안티모니, 금, 은 등과 같은 반자성 무기물이 사용될 수 있으며, 그 종류가 특별히 한정되지는 않는다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 하나, 하기한 실시예는 본 발명을 예증하기 위한 것일 뿐, 본 발명을 제한하는 것은 아님을 이해하여만 할 것이다.
실시예 1
1 단계 : 타원형 고분자 입자 제조
교반기가 부착된 300ml 3구 분리형 반응기에서 메탄올 100g, 폴리비닐피롤리돈 K-90 1g을 투입하여 반응 용매를 제조하였다. 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1g, 메틸메타크릴레이트 10g, 알릴메타크릴레이트 0.05g을 반응기에 투입하여 60 ℃의 온도 에서 200rpm 으로 12시간 중합하여 장축 21마이크론 단축 7마이크론의 단분산 타원체 입자를 제조하였다. 이 입자를 SEM 분석하여 도 1에 나타내었다. 동일한 크기와 모양의 타원체의 입자가 제조됨을 확인할 수 있었다.
2 단계 : 자성 하이브리드 입자의 제조
상기 제조된 타원 고분자 입자 1g을 주석 클로라이드 0.3g 과 염산 0.7g이 녹아있는 50g의 증류수 수용액에 분산시키고, 200W 출력으로 1시간 초음파를 가한 후 증류수를 이용하여 수회 세척하였다. 주석 이온이 흡착된 공극 입자 1g을 팔라듐 클로라이드 0.003g과 염산 1.7g이 녹아있는 40g의 증류수 수용액에 다시 분산시키고, 200W 출력으로 1시간 초음파를 가한 후 증류수를 이용하여 5회 세척하였다. 상기 과정에 의하여 주석 및 팔라듐 이온이 표면과 내부 공극에 흡착된 공극 입자 1g을 pH 11을 갖는 이온 상태의 니켈 도금액 50g에 분산시켜 55℃ 온도로 12시간 200rpm으로 교반하여 타원 입자의 표면에 니켈이 도입된 자성 하이브리드 입자를 제조하였다.
3 단계 : 자성 하이브리드 입자의 세정
상기에서 제조된 도금액에 분산되어 니켈로 코팅된 하이브리드 입자를 100ml 원심분리용 플라스틱 병에 담고 1000rpm 으로 1분 원심분리를 실시하여 도금액과 하이브리드 입자를 분리한 후 하이브리드 입자만 남아있는 플라스틱 용기에 증류수 50g을 투입하여 하이브리드 입자를 세정액에 분산 시킨 뒤, 다시 1000rpm으로 1분 원심분리를 실시하였다. 상기의 증류수를 투입하여 세정하는 과정을 3회 실시하여 잔량으로 남아있는 도금액과, 고분자 입자에 코팅되지 않고 도금액에 남아있는 니켈 미분을 제거하였다. 세정된 하이브리드 입자는 80℃ 질소 분위기에서 1시간 건조하여 분말 자기 방향성 하이브리드 입자를 얻었다. 이 타원체 하이브리드 입자의 주사현미경, 광학현미경, 투과전자현미경 사진을 각각 도 2, 도 3, 도 4에 나타내었다.
실시예 2
고분자 입자에 도입된 자성 무기물로서 니켈 대신 산화철(마그네타이트)을 사용한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
실시예 3
고분자 입자에 도입된 자성 무기물로서 니켈 대신 산화철(마그헤마이트)을 사용한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
실시예 4
고분자 입자에 도입된 자성 무기물로서 니켈 대신 코발트를 사용한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
실시예 5
하이브리드 입자의 고분자 지지체의 크기를 장축 5.1마이크론 단축 3마이크론의 입자를 사용한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
비교예 1
타원의 고분자 입자를 자성 무기물을 도입시키는 과정을 거치지 않고 하이브리드화 되지 않은 유기 고분자 입자를 제조한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
비교예 2
하이브리드 입자의 고분자 지지체의 형태를 타원형에서 구형의 직경 10마이크론 입자를 사용한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
비교예 3
하이브리드 입자에 도입된 무기물을 카본블랙을 사용한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
실험예
상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 3에서 제조한 입자의 배열 구동성 및 방향 구동성을 확인하고자 하였다.
2000G(가우스)를 갖는 희토류 자석을 통해 자기장을 생성 시켰으며, 상기 입자를 에틸렌글리콜에 분산시켜 적층된 투명 PET 필름 사이에 분산시킨 후, 필름 주변에 자기장을 생성시켜 광학 현미경으로 입자의 배열 구동성 및 방향 구동성을 확인하여 하기 표 1에 나타내었다.
장축길이 (㎛) 장축/단축비
(1=구형)		 무기 입자 무기물
잔량(중량%)		 배열 구동성 방향 구동성
실시예 1 20 3 니켈 21 O O
실시예 2 20 3 마그네타이트 18 O O
실시예 3 20 3 마그헤마이트 14 O O
실시예 4 20 3 코발트 12 O O
실시예 5 5 1.7 니켈 28 O O
비교예 1 20 3 없음 0 X X
비교예 2 10 1 니켈 23 O X
비교예 3 20 3 카본블랙 16 X X
상기 표 1의 결과로부터, 본원 발명에 따른 타원형의 형태를 갖는 자성 하이브리드 입자를 사용하는 경우, 인위적인 자기장의 조절에 따라 배열 구동성과, 방향 구동성의 특성이 모두 나타남을 확인 할 수 있었으며, 타원형이 아닌 구형의 하이브리드 입자에서는 자기장에 따라 배열되는 특성을 보였으나, 자기 방향에 대해 각기 구동하는 방향 구동성이 없음을 확인할 수 있었다. 이러한 3차원적인 구동을 확인한 그래프와 설명을 도 4에 나타내었다. 도 4에서도 나타나듯이 수평방향으로 자기장을 가하였을 때는 수평으로 일정하게 배열되나, 수직방향으로 자기장을 가하였을 때는 수직방향으로 정렬하는 것을 확인할 수 있었다.
따라서 본 발명의 제조방법에 의하여, 자기장의 조절에 따라 규칙적인 배열과 3차원적인 구동이 가능한 자기 방향성 하이브리드 입자를 제조할 수 있음을 확인 할 수 있었다.

Claims (12)

  1. 타원체 단분산 고분자 입자를 지지체로 하여 자성을 갖는 무기 입자가 도입된 타원체 하이브리드 입자.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 자성을 갖는 무기 입자는 산화철, 니켈, 코발트, 크롬, 백금, 망간, 알루미늄, 비스무스, 안티모니, 금 또는 은인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 타원체 단분산 고분자 입자는 장축/단축 비율이 1.3 ~ 5 인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자.
  4. 용매에 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제를 투입하되 가교제의 투입 중량이 라디칼 중합성 단량체, 개시제, 가교제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.01 ~ 5 중량%인 타원체 단분산 고분자 입자를 제조하는 1 단계;
    제조된 고분자 입자에 자성 무기 입자를 도입하는 2 단계 및
    상기 자성 무기 입자가 도입된 타원체 단분산 고분자 입자를 세척하고 건조하는 3 단계
    를 포함하는 자성을 갖는 무기 입자를 도입한 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 단량체는 스티렌, p-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-에틸스티렌, m-에틸스티렌, p-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로메틸스티렌, m-클로로메틸스티렌, 스티렌설포닉에시드, p-t-부톡시스티렌, m-t-부톡시스티렌, 플로로스티렌, 알파메틸스티렌, 비닐톨루엔, 클로로스티렌, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 플루오르에틸아크릴레이트, 트리플루오르에틸메타크릴레이트, 펜타플루오르프로필메타크릴레이트, 플로로에틸메타크릴레이트, 헥사플루오르부틸(메타)아크릴레이트, 헥사플루오르이소프로필메타크릴레이트, 퍼플루오르알킬아크릴레이트, 옥타플루오르페닐메타크릴레이트, 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트, 비닐부틸레이트, 비닐에테르, 알릴부틸에테르, 알릴글리시딜에테르, (메타)아크릴산, 말레산, 알킬(메타)아크릴아미드 및 (메타)아크릴로니트릴로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  6. 제 4항에 있어서, 라디칼 중합성 단량체의 투입 중량은 라디칼 중합성 단량체, 개시제, 가교제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 1 ~ 50 중량%인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  7. 제 4항에 있어서, 상기 가교제는 디비닐벤젠, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트, 헥산디올디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸렌프로판트리메타크릴레이트, 1,3-부탄디올메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 펜타에릴트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판, 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리(메타)아크릴레이트 및 알릴(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  8. 제 4항에 있어서, 상기 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스2-메틸이소부티로니트릴, 암모늄퍼설페이트, 포타슘퍼설페이트, 소듐퍼설페이트, 암모늄바이설페이트 및 소듐바이설페이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  9. 제 4항에 있어서, 상기 개시제의 투입 중량은 라디칼 중합성 단량체, 가교제, 개시제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.05 ~ 10 중량%인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  10. 제 4항에 있어서, 상기 분산안정제는 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐알콜, 폴리비닐메틸에테르, 폴리아크릴산, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐피롤리돈 및 비닐피롤리돈-비닐아세테이트 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  11. 제 4항에 있어서, 상기 분산안정제의 투입 중량은 라디칼 중합성 단량체, 가교제,개시제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0.5 ~ 15 중량%인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
  12. 제 4항에 있어서, 상기 자성 무기 입자는 산화철, 니켈, 코발트, 크롬, 백금, 망간, 알루미늄, 비스무스, 안티모니, 금 또는 은인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법.
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