KR20110110000A - Hard coat film, polarizing plate and image display device - Google Patents

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KR20110110000A
KR20110110000A KR1020110028649A KR20110028649A KR20110110000A KR 20110110000 A KR20110110000 A KR 20110110000A KR 1020110028649 A KR1020110028649 A KR 1020110028649A KR 20110028649 A KR20110028649 A KR 20110028649A KR 20110110000 A KR20110110000 A KR 20110110000A
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KR1020110028649A
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쇼 간자끼
야스히로 하바
옥형 김
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 기재 필름 (312)와, 상기 기재 필름 (312)의 한쪽면에 적층된 하드 코팅층 (311)을 구비하며, 상기 하드 코팅층 (311)의 표면에 반사 방지층 (320)을 설치하기 위한 하드 코팅 필름 (31)로서, 상기 하드 코팅층 (311)이 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 형성되고, 상기 하드 코팅층 (311)의 대수(對水) 접촉각 θ가 하기 수학식 1을 만족시키는 하드 코팅 필름 (31)에 관한 것이다.
<수학식 1>

Figure pat00007

(식 중, θ1은 기재 필름의 한쪽면에, 계면활성제를 포함하지 않는 것 이외에는 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과 동일 조성의 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각을 나타냄)The present invention includes a base film 312 and a hard coating layer 311 laminated on one side of the base film 312, and hard for installing the anti-reflection layer 320 on the surface of the hard coating layer 311. As the coating film 31, the hard coat layer 311 is formed by curing an active energy ray curable resin composition containing an active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and a surfactant in contact with a mold, and the hard coat layer 311 The logarithmic contact angle θ of is related to the hard coat film 31 that satisfies the following formula (1).
<Equation 1>
Figure pat00007

(Wherein θ 1 is a hard surface formed by curing in a gas at 25 ° C. without contacting the mold with a composition having the same composition as the active energy ray-curable resin composition, except that one surface of the base film does not contain a surfactant) Logarithmic contact angle of the coating layer)

Description

하드 코팅 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 {HARD COAT FILM, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Hard Coating Films, Polarizers and Image Displays {HARD COAT FILM, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 반사 방지층을 설치하기 위한 하드 코팅 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 해당 하드 코팅 필름을 이용한 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a hard coat film for installing an antireflection layer. Moreover, this invention relates to the polarizing plate and the image display apparatus using this hard coat film.

액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널, 브라운관(음극선관: CRT) 디스플레이, 유기 전계 발광(EL) 디스플레이 등의 화상 표시 장치에는, 다양한 외력에 기인하는 흠집을 방지하기 위해서, 대부분의 경우, 하드 코팅 필름이 설치되어 있다. 그리고, 이러한 하드 코팅 필름에는, 표면에 미세한 요철을 형성함으로써 입사광을 산란시켜 비침 상을 바림하는 방현 처리가 실시되는 것이 일반적이다. In many cases, hard coating films are provided in image display devices such as liquid crystal displays, plasma display panels, cathode ray tube (CRT) displays, and organic electroluminescent (EL) displays in order to prevent scratches caused by various external forces. It is. And such a hard-coating film is generally subjected to the antiglare treatment which scatters incident light by applying fine concavities and convexities on the surface to apply non-precipitated images.

상술한 방현 처리의 방법으로서, 예를 들면 하드 코팅층을 형성하기 위한 수지 조성물을 엠보싱 롤 등의 주형에 접촉시키면서, 특별히 접촉 온도를 조정하지 않고 활성 에너지선을 조사하여, 기재 필름 표면에 미세한 요철 형상이 전사된 하드 코팅층을 형성하는 방법이 개시되어 있다(국제 공개 제2008/020613호 공보, 일본 특허 공개 제2007-76089호 공보 참조). As the method of the above-mentioned anti-glare treatment, for example, while contacting a resin composition for forming a hard coating layer with a mold such as an embossing roll, the active energy ray is irradiated without adjusting the contact temperature, and the surface of the base film has fine irregularities. A method of forming this transferred hard coat layer is disclosed (see International Publication No. 2008/020613 and Japanese Patent Laid-Open No. 2007-76089).

주형에 의한 성형을 수반하는 상기 방현 처리 방법에 있어서는, 레벨링성을 높이는 관점에서, 상기 수지 조성물에 계면활성제를 배합하는 것이 필수라고 되어 있다. 그러나 이러한 방현 처리에 의해 하드 코팅층을 형성한 후, 또한 그 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층을 형성하고자 하는 경우에는, 반사 방지층을 형성하기 위한 도공액의 액 흘러내림이나, 도공층의 불균일이 생기기 쉬워, 반사 방지층의 하드 코팅층에의 밀착성이 낮아지기 쉽다. 따라서, 본 발명의 목적은 주형을 사용하여 방현 처리가 실시된 하드 코팅 필름으로서, 반사 방지층을 설치하는 데 적합한 하드 코팅 필름을 제공하는 데에 있다. In the said anti-glare treatment method with the shaping | molding by a mold, it is said that it is essential to mix | blend surfactant with the said resin composition from a viewpoint of raising leveling property. However, after the hard coating layer is formed by such antiglare treatment, and when the antireflection layer is to be formed on the surface of the hard coating layer, liquid dripping of the coating liquid for forming the antireflection layer and nonuniformity of the coating layer are likely to occur. The adhesion to the hard coat layer of the antireflection layer tends to be low. It is therefore an object of the present invention to provide a hard coat film suitable for providing an antireflection layer as a hard coat film subjected to antiglare treatment using a mold.

본 발명은 기재 필름과, 상기 기재 필름의 한쪽면에 적층된 하드 코팅층을 구비하며, 상기 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층을 설치하기 위한 하드 코팅 필름으로서, 상기 하드 코팅층이 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 형성되고, 상기 하드 코팅층의 대수(對水) 접촉각 θ가 하기 수학식 1을 만족시키는 하드 코팅 필름을 제공하는 것이다.The present invention includes a base film and a hard coating layer laminated on one side of the base film, wherein the hard coating layer is a hard coating film for providing an anti-reflection layer on the surface of the hard coating layer, wherein the hard coating layer is an active energy ray curable resin or a polymerization agent. It forms by hardening an active-energy-ray-curable resin composition containing an initiator and surfactant, making contact with a mold, and provides the hard coat film which the logarithmic contact angle (theta) of the said hard coat layer satisfy | fills following formula (1).

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, θ1은 기재 필름의 한쪽면에, 계면활성제를 포함하지 않는 것 이외에는 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과 동일 조성의 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각을 나타냄) (Wherein θ 1 is a hard surface formed by curing in a gas at 25 ° C. without contacting the mold with a composition having the same composition as the active energy ray-curable resin composition, except that one surface of the base film does not contain a surfactant) Logarithmic contact angle of the coating layer)

또한, 본 발명은 상기 하드 코팅 필름의 제조 방법으로서, 기재 필름의 한쪽면에 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공하는 공정과, 도공한 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 50℃ 이상의 주형을 접촉시키면서 활성 에너지선을 조사하여 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시켜 하드 코팅층을 형성하는 공정과, 상기 하드 코팅층을 상기 주형으로부터 박리하는 공정을 포함하는 하드 코팅 필름의 제조 방법을 제공하는 것이다. Moreover, this invention is a manufacturing method of the said hard coat film, Comprising: The process of coating the active energy ray curable resin composition containing an active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and surfactant on one side of a base film, and the said active activity Irradiating active energy rays while contacting the energy ray-curable resin composition with a mold of 50 ° C. or higher to cure the active energy ray-curable resin composition to form a hard coating layer; and removing the hard coating layer from the mold. It is to provide a method for producing a hard coat film.

또한, 본 발명은 상기 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 하드 코팅층의 표면에 적층된 반사 방지층을 구비하는 적층체나, 상기 하드 코팅 필름 또는 상기 적층체를 이용한 편광판, 화상 표시 장치를 제공하는 것이다. The present invention also provides a laminate including the hard coat film and an antireflection layer laminated on a surface of the hard coat layer of the hard coat film, a polarizing plate using the hard coat film or the laminate, and an image display device. will be.

본 발명에 따르면, 주형에 의해 방현 처리가 실시된 하드 코팅 필름으로서, 반사 방지층을 설치하는 데 적합한 하드 코팅 필름을 제공할 수 있다. 상기 주형은 미세한 요철 형상을 갖는 것이 바람직하다. According to the present invention, as a hard coat film subjected to antiglare treatment by a mold, a hard coat film suitable for providing an antireflection layer can be provided. It is preferable that the said mold has a fine uneven | corrugated shape.

도 1은 본 발명의 화상 표시 장치의 기본적인 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a basic layer structure of the image display device of the present invention.

<하드 코팅 필름> <Hard coating film>

본 발명의 하드 코팅 필름은 기재 필름과, 상기 기재 필름의 한쪽면에 적층된 하드 코팅층을 구비하며, 상기 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층을 설치하기 위한 하드 코팅 필름으로서, 상기 하드 코팅층이 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 형성되고, 상기 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ가 하기 수학식 1을 만족시킨다.The hard coat film of the present invention comprises a base film and a hard coat layer laminated on one side of the base film, wherein the hard coat layer is a hard coat film for providing an antireflection layer on the surface of the hard coat layer, wherein the hard coat layer is an active energy ray. It is formed by hardening an active energy ray curable resin composition containing curable resin, a polymerization initiator, and surfactant, making contact with a mold, and the logarithmic contact angle θ of the hard coat layer satisfies the following formula (1).

<수학식 1>&Quot; (1) &quot;

Figure pat00002
Figure pat00002

식 중, θ1은 기재 필름의 한쪽면에, 계면활성제를 포함하지 않는 것 이외에는 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과 동일 조성의 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각을 나타내며, 공기 분위기 하에서 형성된 하드 코팅층의 대수 접촉각이다.In the formula, θ 1 is a hard coat layer formed by curing in a gas at 25 ° C. without contacting a mold with a composition having the same composition as the active energy ray-curable resin composition, except that one surface of the base film does not contain a surfactant. It represents the logarithmic contact angle of and is the logarithmic contact angle of the hard coat layer formed under an air atmosphere.

본 발명은 상기 수학식 1을 만족시킴으로써, 반사 방지층을 형성하는 데 적합한 것으로 되어 있다.The present invention is suitable for forming an antireflection layer by satisfying the above expression (1).

또한, 본 발명의 하드 코팅 필름은 반사 방지층을 설치하는 관점에서, 상기 대수 접촉각 θ가 하기 수학식 2를 만족시키는 것이 바람직하다. 상기 대수 접촉각 θ가 하기 수학식 2를 만족시킴으로써 반사 방지층을 적층했을 때의 불균일이나 튀겨냄 등의 도공 불량, 도공 시의 액 흘러내림, 반사 방지층의 밀착성 불량 등을 방지할 수 있다.In addition, it is preferable that the said logarithmic contact angle (theta) satisfies following formula (2) from a viewpoint of providing an antireflection layer in the hard coat film of this invention. When the logarithmic contact angle θ satisfies Equation 2 below, coating defects such as unevenness and splashing when the antireflection layer is laminated, liquid dripping during coating, poor adhesion of the antireflection layer, and the like can be prevented.

Figure pat00003
Figure pat00003

식 중, θ0는 기재 필름의 한쪽면에 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각을 나타내며, 공기 분위기 하에서 형성된 하드 코팅층의 대수 접촉각이다.In the formula, θ 0 represents the logarithmic contact angle of the hard coat layer formed by curing the active energy ray-curable resin composition in a gas at 25 ° C. without contacting the mold on one side of the base film, and the number of hard coat layers formed under an air atmosphere. Contact angle.

기재 필름으로서는, 광학적으로 투명성을 갖는 필름으로서, 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시킬 수 있는 활성 에너지선을 투과하는 것이면 특별히 제한되는 것은 아니고, 각종 투명 수지 필름을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스아세테이트 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 쇄상 폴리올레핀계 수지; 환상 폴리올레핀계 수지; 스티렌계 수지; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 필름이 예시된다. 이상 중에서도, 투명성, 기계 강도, 열 안정성, 저투습성, 등방성 등 면에서 셀룰로오스아세테이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등으로 이루어지는 필름이 바람직하고, 투명성, 기계 강도 면에서 셀룰로오스아세테이트로 이루어지는 필름이 보다 바람직하다. As a base film, as a film which has optical transparency, if it permeate | transmits the active energy ray which can harden an active energy ray curable resin, it will not specifically limit, Various transparent resin films can be used. Specifically, Cellulose resins, such as cellulose acetates, such as a triacetyl cellulose, a diacetyl cellulose, and a cellulose acetate propionate; Polycarbonate resin; (Meth) acrylic resins such as polyacrylate and polymethyl methacrylate; Polyester-based resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Linear polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; Cyclic polyolefin resins; Styrene resins; Polysulfones; Polyethersulfones; The film which consists of polyvinyl chloride, etc. is illustrated. Among the above, a film made of cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate and the like is preferable in terms of transparency, mechanical strength, thermal stability, low moisture permeability, isotropy, and the like. More preferred.

기재 필름의 두께는 20 ㎛ 이상 250 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이다. 기재 필름의 두께가 20 ㎛ 미만인 경우에는, 하드 코팅 필름으로서의 충분한 경도를 얻는 것이 어려운 경우가 있다. 또한, 기재 필름의 두께가 250 ㎛를 상회하는 것은, 최근의 화상 표시 장치의 박형화에의 요구 및 비용 등 측면에서 바람직하지 않다. 하드 코팅 필름 전체의 두께를 얇게 하는 관점에서는, 기재 필름의 두께는 150 ㎛ 이하, 나아가서는 120 ㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. It is preferable that the thickness of a base film is 20 micrometers or more and 250 micrometers or less, More preferably, they are 30 micrometers or more and 150 micrometers or less. When the thickness of a base film is less than 20 micrometers, it may be difficult to acquire sufficient hardness as a hard coat film. Moreover, it is not preferable that the thickness of a base film exceeds 250 micrometers from the viewpoint of the request | requirement, cost, etc. for thickness reduction of the recent image display apparatus. From the viewpoint of reducing the thickness of the entire hard coat film, the thickness of the base film is more preferably 150 μm or less, more preferably 120 μm or less.

또한, 기재 필름의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도공면 및/또는 그의 반대측의 표면에는 대전 방지층이나 접착 용이층을 설치할 수도 있다. 대전 방지층이나 접착 용이층은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도공성이나 밀착성을 저하시키는 것, 또는 필요 이상이 착색이나 담화(曇化)를 일으키는 것, 활성 에너지선의 투과율을 현저히 저하시키는 것이 아닌 한 특별히 제한되지 않고, 종래 공지된 것을 사용할 수 있다. Moreover, you may provide an antistatic layer and an easily bonding layer in the coating surface of the active-energy-ray-curable resin composition of a base film, and / or the surface on the opposite side. An antistatic layer and an easily bonding layer are especially as long as it reduces the coating property and adhesiveness of an active-energy-ray-curable resin composition, or more than necessary causes coloring and thinning, and it does not significantly reduce the transmittance | permeability of an active energy ray. It does not restrict | limit, A conventionally well-known thing can be used.

본 발명의 하드 코팅 필름을 광학 용도, 특히 액정 디스플레이(LCD)를 구성하는 광학 부재로서 사용하는 경우, 예를 들면 편광판의 보호 필름으로서 사용하는 경우, 편광 필름이나 액정셀 등의 다른 광학 부재를 자외선으로부터 보호하기 위해서 기재 필름은 UV 흡수제를 함유하는 것이 바람직하다. When using the hard coat film of this invention as an optical member which comprises optical uses, especially a liquid crystal display (LCD), for example, when using it as a protective film of a polarizing plate, other optical members, such as a polarizing film and a liquid crystal cell, are ultraviolet-rays. In order to protect from a base film, it is preferable that a base film contains a UV absorber.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 활성 에너지선의 조사에 의해 중합, 경화하는 활성 에너지선 경화성 수지와, 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생하는 중합 개시제와, 계면활성제를 함유한다. 활성 에너지선 경화성 수지는 예를 들면 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물을 함유하는 것일 수 있다. 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물이란, 분자 중에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물이다. 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제는, 시판품일 수도 있다. 대부분의 경우, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제, 기타 필요에 따라서 첨가된 계면활성제 등의 첨가제를 포함하는 것으로서 시판되고 있다. The active energy ray curable resin composition contains an active energy ray curable resin that polymerizes and cures by irradiation of an active energy ray, a polymerization initiator that generates radicals by irradiation of an active energy ray, and a surfactant. Active energy ray curable resin may be a thing containing a polyfunctional (meth) acrylate type compound, for example. A polyfunctional (meth) acrylate type compound is a compound which has at least 2 (meth) acryloyloxy group in a molecule | numerator. A commercial item may be sufficient as an active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and surfactant. In most cases, active energy ray-curable resin compositions are marketed as containing additives such as active energy ray-curable resins, polymerization initiators, and surfactants added as necessary.

다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 구체예를 들면, 예를 들면 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리스((메트)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트,; 포스파젠 화합물의 포스파젠환에 (메트)아크릴로일옥시기가 도입된 포스파젠계 (메트)아크릴레이트 화합물; 분자 중에 적어도 2개의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트와 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 갖는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물; 분자 중에 적어도 2개의 카르복실산할로겐화물과 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 갖는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 화합물; 및 상기 각 화합물의 2량체, 3량체 등과 같은 올리고머 등이다. 이들 화합물은 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용된다. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate-based compound include, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, Neopentylglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane tetra (meth) acrylic Late, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris ((meth) acryloyl When ethyl) isocyanurate; Phosphazene (meth) acrylate compounds in which a (meth) acryloyloxy group is introduced into the phosphazene ring of the phosphazene compound; Urethane (meth) acrylate compounds obtained by the reaction of a polyisocyanate having at least two isocyanate groups in a molecule with a polyol compound having at least one (meth) acryloyloxy group and a hydroxyl group; Polyester (meth) acrylate compounds obtained by reaction of at least two carboxylic acid halides with a polyol compound having at least one (meth) acryloyloxy group and a hydroxyl group in a molecule; And oligomers such as dimers, trimers, and the like of the above compounds. These compounds are used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

활성 에너지선 경화성 수지는 상기한 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 이외에, 단관능 (메트)아크릴레이트계 수지를 함유할 수도 있다. 단관능 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 예를 들면 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용된다. 단관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 함유량은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 수지 고형분 중 10 중량% 이하인 것이 바람직하다.Active energy ray curable resin may contain monofunctional (meth) acrylate type resin other than the above-mentioned polyfunctional (meth) acrylate type compound. As a monofunctional (meth) acrylate type compound, for example, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth ) Acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, etc. are mentioned. These compounds are used individually or in mixture of 2 or more types, respectively. It is preferable that content of a monofunctional (meth) acrylate type compound is 10 weight% or less in resin solid content of an active energy ray curable resin composition.

또한, 활성 에너지선 경화성 수지는 중합성 올리고머를 함유할 수도 있다. 중합성 올리고머를 함유시킴으로써 하드 코팅층의 경도를 조정할 수 있다. 중합성 올리고머로서는 말단 (메트)아크릴레이트 폴리메틸메타크릴레이트, 말단 스티릴 폴리(메트)아크릴레이트, 말단 (메트)아크릴레이트 폴리스티렌, 말단 (메트)아크릴레이트 폴리에틸렌글리콜, 말단 (메트)아크릴레이트 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체, 말단 (메트)아크릴레이트 스티렌-메틸(메트)아크릴레이트 공중합체 등의 거대 단량체를 들 수 있다. 중합성 올리고머의 함유량은 활성 에너지선 경화성 조성물의 수지 고형분 중 5 내지 50 중량%인 것이 바람직하다. In addition, the active energy ray curable resin may contain a polymerizable oligomer. The hardness of a hard coat layer can be adjusted by containing a polymeric oligomer. As a polymerizable oligomer, terminal (meth) acrylate polymethylmethacrylate, terminal styryl poly (meth) acrylate, terminal (meth) acrylate polystyrene, terminal (meth) acrylate polyethylene glycol, terminal (meth) acrylate acrylic Macromonomers, such as a ronitrile styrene copolymer and a terminal (meth) acrylate styrene-methyl (meth) acrylate copolymer, are mentioned. It is preferable that content of a polymeric oligomer is 5 to 50 weight% in resin solid content of an active energy ray curable composition.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 함유되는 중합 개시제로서는, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 안트라퀴논, 1-(4-이소프로필페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 카르바졸, 크산톤, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 1,1-디메톡시데옥시벤조인, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 티오크산톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 트리페닐아민, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥시드, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 플루오레논, 플루오렌, 벤즈알데히드, 벤조인에틸에테르, 벤조이소프로필에테르, 벤조페논, 미힐러 케톤, 3-메틸아세토페논, 3,3',4,4'-테트라tert-부틸퍼옥시카르보닐벤조페논(BTTB), 2-(디메틸아미노)-1-〔4-(모르폴리닐)페닐〕-2-페닐메틸)-1-부타논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 벤질, 및 이들의 유도체 등을 들 수 있다. 이들 중합 개시제는 단독으로 사용할 수도 있고, 필요에 따라서 여러 종류를 혼합하여 이용할 수도 있다. 상기에서 예시한 중합 개시제는 모두 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생하는 광 중합 개시제이다. Examples of the polymerization initiator contained in the active energy ray-curable resin composition include acetophenone, acetophenonebenzyl ketal, anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, Carbazole, xanthone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydeoxybenzoin, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone , 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio ) Phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide, 1 Hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one, fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoisopropyl ether, benzophenone, Michler's ketone , 3-methylacetophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra tert-butylperoxycarbonylbenzophenone (BTTB), 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) phenyl] -2-phenylmethyl) -1-butanone, 4-benzoyl-4 ' -Methyldiphenyl sulfide, benzyl, derivatives thereof, and the like. These polymerization initiators may be used independently, and may mix and use several types as needed. All the polymerization initiators mentioned above are photoinitiators which generate | occur | produce a radical by irradiation of an active energy ray.

중합 개시제는 색소 증감제와 조합하여 이용할 수도 있다. 색소 증감제로서는, 예를 들면 크산텐, 티오크산텐, 쿠마린, 케토쿠마린 등을 들 수 있다. 중합 개시제와 색소 증감제의 조합으로서는, 예를 들면 BTTB와 크산텐과의 조합, BTTB와 티오크산텐과의 조합, BTTB와 쿠마린과의 조합, BTTB와 케토쿠마린과의 조합 등을 들 수 있다. A polymerization initiator can also be used in combination with a dye sensitizer. As a dye sensitizer, xanthene, thioxanthene, coumarin, ketocoumarin, etc. are mentioned, for example. Examples of the combination of the polymerization initiator and the dye sensitizer include a combination of BTTB and xanthene, a combination of BTTB and thioxanthene, a combination of BTTB and coumarin, a combination of BTTB and ketocoumarin, and the like. .

중합 개시제의 함유량은 활성 에너지선 경화성 수지에 대하여 1 내지 10 중량%의 범위가 바람직하고, 3 내지 6 중량%의 범위가 보다 바람직하다. 중합 개시제의 함유량이 1 중량% 미만이면, 충분히 경화 반응이 진행하지 않아, 주형에 미경화의 활성 에너지선 경화성 수지가 부착되거나, 우수한 경도를 갖는 하드 코팅 필름이 얻어지지 않는 경우가 있다. 또한, 중합 개시제의 함유량이 10 중량%를 초과하면, 활성 에너지선 경화성 수지의 중합도가 저하되어, 우수한 경도를 갖는 하드 코팅 필름이 얻어지지 않는 경우가 있다. The content of the polymerization initiator is preferably in the range of 1 to 10% by weight, more preferably in the range of 3 to 6% by weight based on the active energy ray-curable resin. If content of a polymerization initiator is less than 1 weight%, hardening reaction will not fully advance and an uncured active energy ray curable resin may adhere to a mold, or the hard coat film which has the outstanding hardness may not be obtained. Moreover, when content of a polymerization initiator exceeds 10 weight%, the polymerization degree of active energy ray curable resin falls, and the hard coat film which has the outstanding hardness may not be obtained.

상술한 바와 같이, 기재 필름은 UV 흡수제를 함유하는 것이 바람직하고, 통상 UV 흡수제는 360 내지 380 nm 미만의 파장의 자외선을 흡수한다. 또한, 본 발명의 (제1) 경화 공정에서는, 후에 상술한 바와 같이, 기재 필름측으로부터 활성 에너지선을 조사하여 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시키는 것이 바람직하다. 그 때문에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 포함되는 중합 개시제 중 적어도 1종은 380 nm 이상에 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 중합 개시제로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드(TPO), 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥시드 등을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 포함되는 중합 개시제의 전부가 380 nm 미만에만 흡수 파장을 갖는 중합 개시제이면, 상술한 (제1) 경화 공정 종료 후에도, 활성 에너지선 경화성 수지의 대부분이 미경화인 채로 남을 우려가 있으며, 이러한 미경화의 활성 에너지선 경화성 수지가 기재 필름을 박리한 후에도 주형에 부착된 채가 되면, 오염의 원인이나, 주형의 표면 형상을 정확하게 전사하는 것을 방해하게 되기 때문에 바람직하지 않다. As described above, the base film preferably contains a UV absorber, and usually the UV absorber absorbs ultraviolet rays having a wavelength of less than 360 to 380 nm. Moreover, in the (1st) hardening process of this invention, as above-mentioned, it is preferable to irradiate an active energy ray from the base film side, and to harden an active energy ray curable resin composition. Therefore, it is preferable that at least 1 sort (s) of the polymerization initiator contained in an active energy ray curable resin composition has an absorption wavelength in 380 nm or more. Examples of such a polymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (TPO), phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide and the like. If all of the polymerization initiators contained in the active energy ray-curable resin composition are polymerization initiators having an absorption wavelength only at less than 380 nm, most of the active energy ray-curable resins may remain uncured even after the completion of the (first) curing step described above. If the uncured active energy ray-curable resin remains attached to the mold even after peeling off the base film, it is not preferable because it causes the contamination and prevents the transfer of the mold surface shape accurately.

여기서, 「380 nm 이상에 흡수 파장을 갖는다」란, 파장 380 nm 이상의 활성 에너지선을 조사했을 때 중합 반응의 개시에 필요충분한 양의 라디칼을 발생하여, 중합 개시제로서 유효하게 기능한다라는 의미이다. Here, "having an absorption wavelength in 380 nm or more" means that when irradiating an active energy ray with a wavelength of 380 nm or more, an amount of radicals necessary for initiation of the polymerization reaction is generated to function effectively as a polymerization initiator.

또한, 기재 필름에 포함되는 UV 흡수제로서, 보다 저파장측에 흡수 파장을 갖는 UV 흡수제를 이용함으로써 380 nm 이상에 흡수 파장을 갖지 않는 중합 개시제만을 사용하는 것이 가능해진다. 이러한 수법은 본 발명의 제조 방법에 의해서 얻어지는 하드 코팅 필름을 화상 표시 장치에 있어서 액정셀 등의 광학 부재에 대하여 시인측과는 반대측, 즉 리어측(예를 들면, 액정 디스플레이에 있어서는, 액정 패널의 백라이트측)에 배치하는 경우에는 유효하다. 그러나, 하드 코팅 필름을 화상 표시 장치에 있어서 액정셀 등의 광학 부재에 대하여 시인측, 즉 프론트측(예를 들면, 액정 디스플레이에 있어서는, 액정 패널의 프론트측)에 배치하는 경우에 있어서는, 편광 필름이나 액정셀 등의 광학 부재를 자외선으로부터 보호한다는 관점에서, 기재 필름에 360 내지 380 nm 미만의 파장의 자외선을 흡수하는 UV 흡수제를 첨가하여, 활성 에너지선 경화성 수지에 포함되는 적어도 1종을 380 nm 이상에 흡수 파장을 갖는 중합 개시제로 하는 것이 바람직하다. Moreover, as a UV absorber contained in a base film, it becomes possible to use only the polymerization initiator which does not have an absorption wavelength in 380 nm or more by using the UV absorber which has an absorption wavelength in the lower wavelength side. Such a method uses the hard-coating film obtained by the manufacturing method of the present invention in an image display apparatus with respect to an optical member such as a liquid crystal cell on the opposite side to the visual side, that is, the rear side (for example, in a liquid crystal display, It is effective in the case of disposing on the backlight side). However, in the case where the hard coat film is disposed on the viewing side, that is, the front side (for example, the front side of the liquid crystal panel in the liquid crystal display) with respect to optical members such as liquid crystal cells in the image display device, the polarizing film From the viewpoint of protecting optical members such as liquid crystal cells from ultraviolet rays, a UV absorber that absorbs ultraviolet rays having a wavelength of less than 360 to 380 nm is added to the base film, and at least one kind contained in the active energy ray-curable resin is 380 nm. It is preferable to set it as the polymerization initiator which has an absorption wavelength above.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 함유되는 계면활성제로서는, 평활성을 향상시키기 위한 레벨링제, 주형과의 이형성을 향상시키기 위한 이형제, 방오성을 발현시키거나 내지문부착성을 발현시키기 위한 방오제, 필름의 대전을 방지하기 위한 도전제 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는 활성 에너지선 경화성 수지의 중합 반응을 저해하는 것이나, 중합 반응 후의 경도나 기재 필름에 대한 밀착성을 저하시키지 않는 한 특별히 제한되는 것은 아니고, 종래 공지된 것을 사용할 수 있다. As surfactant contained in active-energy-ray-curable resin composition, the leveling agent for improving smoothness, the mold release agent for improving mold release property with a mold, the antifouling agent for expressing antifouling property or fingerprint adhesion, and charging of a film And a conductive agent for preventing this. These additives are not particularly limited so long as they inhibit the polymerization reaction of the active energy ray-curable resin, and the hardness after the polymerization reaction and the adhesion to the base film are not limited, and conventionally known ones can be used.

계면활성제로서는 탄화수소계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등으로부터 적절하게 선택하여 사용할 수 있고, 또한 필요에 따라서 이들 2종 이상을 병용할 수 있다. 그 중에서도 기능성의 면에서, 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제, 또는 그 양쪽을 함유하는 것이 보다 바람직하다. As surfactant, it can select suitably from hydrocarbon type surfactant, fluorine type surfactant, silicone type surfactant, etc., and can use these 2 or more types together as needed. Especially, it is more preferable to contain a fluorochemical surfactant, silicone type surfactant, or both from a functional viewpoint.

불소계 계면활성제의 예로서는, 퍼플루오로알킬기 함유 카르복실산염류, 퍼플루오로알킬기 함유 술폰산염류, 퍼플루오로알킬기 함유 인산염류, 퍼플루오로알킬기 함유 카르복실산에스테르류, 퍼플루오로알킬기 함유 술폰산에스테르류, 퍼플루오로알킬기 함유 인산에스테르류, 퍼플루오로알킬기·친유성기 함유 올리고머류, 퍼플루오로알킬기·친수성기·친유성기 함유 올리고머류, 또는 상기한 퍼플루오로알킬기를 퍼플루오로알케닐기로 치환한 것 등을 들 수 있다. Examples of the fluorine-based surfactants include perfluoroalkyl group-containing carboxylates, perfluoroalkyl group-containing sulfonates, perfluoroalkyl group-containing phosphates, perfluoroalkyl group-containing carboxylic acid esters, and perfluoroalkyl group-containing sulfonic acid esters. Perfluoroalkyl group-containing phosphate esters, perfluoroalkyl group-lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group-hydrophilic group-lipophilic group-containing oligomers, or the perfluoroalkyl group substituted with a perfluoroalkenyl group And the like.

실리콘계 계면활성제의 예로서는, 폴리에테르 변성 폴리실록산류, 폴리에스테르 변성 폴리실록산류, 알킬 변성 폴리실록산류, 아르알킬 변성 폴리실록산류, 고급지방산 변성 폴리실록산류, 에폭시 변성 폴리실록산류, 아미노 변성 폴리실록산류, 카르복실 변성 폴리실록산류, 알코올 변성 폴리실록산류 등의 유기 변성 폴리실록산 및 그의 유도체 등을 들 수 있다. Examples of silicone surfactants include polyether-modified polysiloxanes, polyester-modified polysiloxanes, alkyl-modified polysiloxanes, aralkyl-modified polysiloxanes, higher fatty acid-modified polysiloxanes, epoxy-modified polysiloxanes, amino-modified polysiloxanes, and carboxy-modified polysiloxanes. And organic modified polysiloxanes such as alcohol-modified polysiloxanes and derivatives thereof.

또한, 불소 원자 및 규소 원자 양쪽을 포함하는 계면활성제도 사용할 수 있고, 그 예로서는 상기 실리콘계 계면활성제의 알킬기의 수소의 일부 또는 전부를 불소로 치환한 불소화 변성 폴리실록산류 등을 들 수 있다. Moreover, surfactant containing both a fluorine atom and a silicon atom can also be used, The fluorinated modified polysiloxane etc. which substituted one part or all hydrogen of the alkyl group of the said silicone type surfactant with fluorine etc. are mentioned.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 그 도공성을 향상시키기 위해서 용제를 포함할 수도 있다. 용제로서는, 예를 들면 헥산, 옥탄 등의 지방족 탄화수소; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 에스테르화 글리콜에테르류 등으로부터 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 이들 유기 용제는 단독으로 이용할 수도 있고, 필요에 따라서 여러 종류를 혼합하여 이용할 수도 있다. 도공 공정 후 (제1) 경화 공정 전에, 용제를 증발시켜 건조시키는 것이 바람직하기 때문에, 용제의 비점은 60 내지 160℃의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 20℃에서의 포화 증기압은 0.1 내지 20 kPa의 범위인 것이 바람직하다. 용제의 종류 및 함유량은 이용하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류나 함유량, 기재 필름의 재질, 형상, 도포 방법, 목적으로 하는 하드 코팅층의 두께 등에 따라서 적절하게 선택된다. An active energy ray curable resin composition may also contain a solvent in order to improve the coating property. As a solvent, For example, Aliphatic hydrocarbons, such as hexane and an octane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol and 1-butanol; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether; It can select suitably from esterification glycol ethers, such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate. These organic solvents may be used independently, and may mix and use various types as needed. Since it is preferable to evaporate and dry a solvent after a coating process and before a (1st) hardening process, it is preferable that the boiling point of a solvent is 60-160 degreeC. Moreover, it is preferable that the saturated vapor pressure in 20 degreeC is the range of 0.1-20 kPa. The kind and content of a solvent are suitably selected according to the kind and content of the active energy ray curable compound to be used, the material, shape of a base film, a coating method, the thickness of the target hard coat layer, etc.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물에는, 눈부심의 감소 등을 위해 내부 헤이즈를 부여하는 것을 목적으로 하여 투광성 미립자를 첨가할 수도 있다. 투광성 미립자로서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 공지된 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 아크릴계 수지, 멜라민 수지, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 유기 실리콘 수지, 아크릴-스티렌 공중합체 등을 포함하는 유기 미립자나, 탄산칼슘, 실리카, 산화알루미늄, 탄산바륨, 황산바륨, 산화티탄, 유리 등을 포함하는 무기 미립자 등을 투광성 미립자로서 사용할 수 있다. 유기 중합체의 벌룬이나 유리 중공 비드를 사용할 수도 있다. 이들 투광성 미립자는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 투광성 미립자의 형상은, 구형, 편평형, 판형, 침형, 부정형상 등 중 어느 것이어도 된다. Light-transmitting microparticles | fine-particles can also be added to active energy ray curable resin composition for the purpose of providing an internal haze for reducing a glare. The light-transmitting fine particles are not particularly limited, and conventionally known ones can be used. For example, organic fine particles containing acrylic resin, melamine resin, polyethylene, polystyrene, organic silicone resin, acrylic-styrene copolymer, and the like, calcium carbonate, silica, aluminum oxide, barium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, glass, and the like Inorganic fine particles and the like can be used as the light transmitting fine particles. Balloons or glass hollow beads of organic polymers may also be used. These light-transmitting fine particles may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. The shape of the light-transmitting fine particles may be any of spherical, flat, plate, needle and irregular shapes.

투광성 미립자의 입경이나 굴절률은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 효과적으로 내부 헤이즈를 발현시키는 점에서, 입경은 0.5 ㎛ 내지 20 ㎛의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 동일한 이유로부터, 활성 에너지선 경화성 수지의 경화 후의 굴절률과 투광성 미립자의 굴절률과의 차는 0.04 내지 0.15의 범위인 것이 바람직하다. 투광성 미립자의 함유량은 활성 에너지선 경화성 수지 100 중량부에 대하여 3 내지 60 중량부이고, 바람직하게는 5 내지 50 중량부이다. 투광성 미립자의 함유량이 활성 에너지선 경화성 수지 100 중량부에 대하여 3 중량부 미만이면, 눈부심 감소를 위한 충분한 내부 헤이즈가 얻어지지 않는다. 한편, 60 중량부를 초과하면, 하드 코팅 필름의 투명성이 손상되는 경우가 있고, 또한 하드 코팅 필름을 액정 표시 장치에 있어서 시인측에 배치한 경우에, 광산란이 너무 강하기 때문에, 예를 들면 흑 표시에 있어서, 액정 패널의 정면 방향에 대하여 비스듬히 누출되는 광이 하드 코팅층에 의해 정면 방향으로 강하게 산란되어 버리는 등의 이유에 의해 콘트라스트가 저하되는 경우가 있다. The particle diameter and refractive index of the light-transmitting fine particles are not particularly limited, but the particle diameter is preferably in the range of 0.5 µm to 20 µm in terms of effectively expressing internal haze. Moreover, for the same reason, it is preferable that the difference between the refractive index after hardening of active energy ray curable resin, and the refractive index of translucent microparticles | fine-particles is the range of 0.04-0.15. The content of the light-transmitting fine particles is 3 to 60 parts by weight, preferably 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable resin. When the content of the light transmitting fine particles is less than 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray curable resin, sufficient internal haze for reducing glare is not obtained. On the other hand, when it exceeds 60 weight part, since transparency of a hard coat film may be impaired, and when a hard coat film is arrange | positioned at the visual recognition side in a liquid crystal display device, since light scattering is too strong, for example, black display may be carried out. In this case, the contrast may be lowered due to the fact that light leaking obliquely with respect to the front direction of the liquid crystal panel is strongly scattered in the front direction by the hard coating layer.

주형은 하드 코팅층 표면에 원하는 형상을 부여하기 위한 것으로서, 해당 원하는 형상의 전사 구조를 포함하는 표면 형상을 갖고 있다. 주형의 표면 형상은, 경면(鏡面) 등의 평활면일 수도 있고, 하드 코팅 필름에 방현성을 부여하기 위한 요철 형상일 수도 있다. 요철 형상의 패턴은 규칙적인 패턴일 수도 있고, 랜덤 패턴, 또는 특정 크기의 1종 이상의 랜덤 패턴을 빈틈없이 깔아놓은 의사 랜덤 패턴일 수도 있는데, 하드 코팅 필름의 표면 형상에 기인하는 반사광의 간섭에 의해, 반사상이 무지개색으로 착색되는 것을 방지하는 점에서, 랜덤 패턴 또는 의사 랜덤 패턴인 것이 바람직하다.The mold is for imparting a desired shape to the surface of the hard coating layer, and has a surface shape including a transfer structure of the desired shape. The surface shape of a mold may be a smooth surface, such as a mirror surface, and may be uneven | corrugated shape for providing anti-glare property to a hard coat film. The uneven pattern may be a regular pattern, or may be a random pattern or a pseudo-random pattern in which one or more random patterns of a specific size are laid tightly, due to interference of reflected light due to the surface shape of the hard coat film. It is preferable that it is a random pattern or a pseudo random pattern from the point which prevents a reflection image from coloring in rainbow color.

주형의 형상은 특별히 제한되는 것은 아니며, 평판형일 수도 있고, 원주형 또는 원통형의 롤일 수도 있지만, 연속 생산성 면에서, 경면 롤이나 엠보싱 롤 등의 원주형 또는 원통형의 주형인 것이 바람직하다. 이 경우, 원주형 또는 원통형의 주형의 측면에 소정의 표면 형상이 형성된다.The shape of the mold is not particularly limited, and may be a flat plate or a cylindrical or cylindrical roll, but is preferably a cylindrical or cylindrical mold such as a mirror surface roll or an embossing roll in terms of continuous productivity. In this case, a predetermined surface shape is formed on the side of the columnar or cylindrical mold.

주형의 기재의 재질은 특별히 제한되는 것은 아니고, 금속, 유리, 카본, 수지, 또는 이들의 복합체로부터 적절하게 선택할 수 있는데, 가공성 등 면에서 금속이 바람직하다. 바람직하게 이용되는 금속 재료로서는, 비용 측면에서 알루미늄, 철, 또는 알루미늄 또는 철을 주체로 하는 합금 등을 들 수 있다. The material of the base material of the mold is not particularly limited and can be appropriately selected from metals, glass, carbon, resins, or composites thereof, and metals are preferred in view of workability and the like. Preferred metal materials include aluminum, iron, or an alloy mainly composed of aluminum or iron in terms of cost.

주형을 얻는 방법으로서는, 예를 들면 기재를 연마하고, 샌드 블러스트 가공을 실시한 후, 무전해 니켈 도금을 실시하여 롤 금형을 제조하는 방법(일본 특허 공개 제2006-53371호 공보); 기재에 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하고, 샌드 블러스트 가공을 실시한 후, 크롬 도금을 실시하는 방법(일본 특허 공개 제2007-187952호 공보); 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하고, 샌드 블러스트 가공을 실시한 후, 에칭 공정 또는 구리 도금 공정을 실시하고, 이어서 크롬 도금을 실시하는 방법(일본 특허 공개 제2007-237541호 공보); 금형용 기재의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하고, 연마된 면에 감광성 수지막을 도포 형성하고, 상기 감광성 수지막 상에 패턴을 노광한 후, 현상하고, 현상된 감광성 수지막을 마스크로서 이용하여 에칭 처리를 행하고, 감광성 수지막을 박리하고, 또한 에칭 처리를 행하여, 요철면을 무디어지게 한 후, 형성된 요철면에 크롬 도금을 실시하는 방법; 및 선반(旋盤) 등의 공작 기계를 이용하여, 절삭 공구에 의해 주형이 되는 기재를 절삭하는 방법(국제 공개 제2007/077892호 공보) 등을 들 수 있다.As a method of obtaining a mold, for example, a method of polishing a substrate, sandblasting, electroless nickel plating and then manufacturing a roll die (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-53371); A method of subjecting a substrate to copper plating or nickel plating, followed by polishing, sandblasting, and then chromium plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-187952); A method of carrying out copper plating or nickel plating, followed by polishing, sandblasting, followed by an etching step or a copper plating step, and then performing chromium plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-237541); After copper plating or nickel plating was performed on the surface of the base material for a mold, polishing was carried out, and a photosensitive resin film was coated and formed on the polished surface, the pattern was exposed on the photosensitive resin film, and then developed, and the developed photosensitive resin film was used as a mask. A method of performing etching treatment, peeling off the photosensitive resin film, and performing etching treatment to blunt the uneven surface, and then to perform chromium plating on the formed uneven surface; And a method for cutting a substrate to be cast by a cutting tool using a machine tool such as a lathe (International Publication No. 2007/077892).

랜덤 패턴 또는 의사 랜덤 패턴을 포함하는 주형의 표면 요철 형상은, 예를 들면 FM 스크린법, DLDS(Dynamic Low-Discrepancy Sequence)법, 블록 공중합체의 마이크로 상분리 패턴을 이용하는 방법 또는 대역 통과 필터법 등에 의해서 생성된 랜덤 패턴을 감광성 수지막 상에 노광, 현상하고, 현상된 감광성 수지막을 마스크로서 이용하여 에칭 처리를 행함으로써 형성할 수 있다.The surface irregularities of the mold including the random pattern or the pseudo random pattern may be, for example, by an FM screen method, a DLDS (Dynamic Low-Discrepancy Sequence) method, a method using a microphase separation pattern of a block copolymer, a band pass filter method, or the like. The produced random pattern can be formed by exposing and developing on the photosensitive resin film, and performing an etching process using the developed photosensitive resin film as a mask.

본 발명에서는, 기준으로서, 기재 필름의 한쪽면에 계면활성제를 포함하지 않는 것 이외에는 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과 동일 조성의 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ1을 측정하고, 이 θ1과, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 상기 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 형성된 본 발명의 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ가 상기 수학식 1을 만족시킨다. 또한, 수학식 1에서 말하는, θ-θ1은 θ와 θ1과의 차분을 의미하는 것이다. θ-θ1의 값이 10°를 초과하는 경우에는, 반사 방지층을 형성하기 위한 도공액의 액 흘러내림이나, 도공층의 불균일이 생기기 쉽게 되어, 반사 방지층의 하드 코팅층에의 밀착성이 낮아지기 쉽게 된다.In the present invention, as a reference, a hard coat layer formed by curing in a gas at 25 ° C. without contacting a mold with a composition having the same composition as the active energy ray-curable resin composition except that one surface of the base film does not contain a surfactant. the measurement of the contact angle θ number 1, and the θ 1 and the logarithmic contact angle θ of the hard coating layer of the present invention is formed by curing while contact with the active energy ray curable resin composition and the mold satisfies the equation (1). In addition,, θ-θ 1 referred to in equation (1) is intended to mean the difference between θ and θ 1. When the value of θ-θ 1 exceeds 10 °, liquid dripping of the coating solution for forming the antireflection layer and nonuniformity of the coating layer are likely to occur, and adhesion of the antireflection layer to the hard coating layer is likely to be low. .

θ-θ1의 값을 10° 이하로 하기 위해서는, 예를 들면 주형의 온도를 제어하는 방법, 표면 장력의 저하능이 낮은 계면활성제를 사용하는 방법, 계면활성제의 첨가량을 낮추는 방법 등 임의의 방법을 사용할 수 있는데, 계면활성제의 첨가량을 과도하게 낮추지 않고 레벨링성 등 계면활성제의 첨가에 의한 충분한 효과를 얻을 수 있는 점, 주형이나 제조 장치의 제조가 비교적 용이한 점 등으로부터, 주형의 온도를 제어함으로써 θ-θ1의 값을 10° 이하로 조절하는 방법이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면 주형의 온도를 50℃ 이상으로 제어함으로써 θ-θ1의 값을 10° 이하로 할 수 있다.In order to set the value of θ-θ 1 to 10 ° or less, for example, a method of controlling the temperature of the mold, a method of using a surfactant having a low deterioration in surface tension, a method of lowering the amount of surfactant added, The temperature of the mold can be controlled by controlling the temperature of the mold from the point that a sufficient effect by the addition of the surfactant such as leveling property can be obtained without excessively lowering the amount of the surfactant added, and the production of the mold or the manufacturing apparatus is relatively easy. The method of adjusting the value of (theta)-(theta) 1 to 10 degrees or less is preferable. Specifically, the value of θ-θ 1 can be made 10 ° or less by controlling the temperature of the mold to 50 ° C. or more, for example.

또한, 본 발명에서는, 기준으로서, 기재 필름과, 상기 기재 필름의 한쪽면에 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물이 주형과 접촉하지 않고서 경화하여 형성된하드 코팅층을 갖는 하드 코팅 필름에 있어서의 상기 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ0를 측정하고, 이 θ0와, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물이 상기 주형과 접촉하면서 경화하여 형성된 본 발명의 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ가 상기 수학식 2를 만족시키는 것이 바람직하다. 또한, 수학식 2에서 말하는 |θ0-θ|는 θ0와 θ의 차분의 절대값을 의미하는 것이다. |θ0-θ|의 값이 13° 이상인 것에 의해, 반사 방지층을 적층했을 때의 불균일이나 튀겨냄 등의 도공 불량, 도공 시의 액 흘러내림, 반사 방지층의 밀착성 불량 등을 방지할 수 있다.Moreover, in this invention, as a reference | standard, of the said hard coat layer in the hard coat film which has a hard coat layer formed by hardening | curing the said active-energy-ray-curable resin composition on the one surface of the said base film, without contacting a mold. It is preferable that the logarithmic contact angle θ 0 is measured, and the logarithmic contact angle θ of the hard coat layer of the present invention formed by curing θ 0 and the active energy ray-curable resin composition in contact with the mold is satisfied. In addition, | θ 0 -θ | in the formula (2) means the absolute value of the difference between θ 0 and θ. When the value of | θ 0 -θ | is 13 ° or more, coating defects such as unevenness and splashing when the antireflection layer is laminated, liquid dripping during coating, poor adhesion of the antireflection layer, and the like can be prevented.

<하드 코팅 필름의 제조 방법><Method of Manufacturing Hard Coating Film>

다음으로, 본 발명의 하드 코팅 필름의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 발명의 하드 코팅 필름은 기재 필름의 한쪽면에 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공하는 공정과, 도공한 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 50℃ 이상의 주형을 접촉시키면서 활성 에너지선을 조사하여 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시켜 하드 코팅층을 형성하는 공정과, 상기 하드 코팅층을 상기 주형으로부터 박리하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 즉, 〔1〕도공 공정, 〔2〕 경화 공정, 〔3〕박리 공정을 이 순으로 포함하는 것으로서 이하에 상세히 설명한다.Next, the manufacturing method of the hard coat film of this invention is demonstrated. The hard coat film of this invention is applied to the process of apply | coating the active energy ray curable resin composition containing an active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and surfactant on one side of a base film, and the said active energy ray curable resin composition to 50 Irradiating an active energy ray while contacting a mold with a temperature of at least C, thereby curing the active energy ray-curable resin composition to form a hard coating layer, and a manufacturing method including a step of peeling the hard coating layer from the mold. have. That is, it contains below [1] coating process, [2] hardening process, and [3] peeling process in this order, and it demonstrates in detail below.

〔1〕도공 공정[1] coating process

상술한 기재 필름의 한쪽면에 상술한 활성 에너지선 경화성 수지를 도공하여 도공층을 형성한다. 이러한 도공법으로서는 공지된 방법을 적절하게 선택할 수 있고, 구체적으로는 와이어바 코팅법, 롤 코팅법, 그라비아 코팅법, 나이프 코팅법, 슬롯다이 코팅법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 슬라이드 코팅법, 커튼 코팅법, 잉크젯법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 도공 시의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중에의 이물 등의 혼입을 최대한 방지하는 점에서, 슬롯다이 코팅법이 바람직하다.The above-mentioned active energy ray curable resin is coated on one side of the base film mentioned above, and a coating layer is formed. As such coating method, a well-known method can be selected suitably, Specifically, the wire bar coating method, the roll coating method, the gravure coating method, the knife coating method, the slot die coating method, the spin coating method, the spray coating method, the slide coating method , Curtain coating method, inkjet method and the like. Especially, the slot die coating method is preferable at the point which prevents mixing, such as a foreign material in the active-energy-ray-curable resin composition at the time of coating as much as possible.

〔2〕 경화 공정(제1 경화 공정) [2] curing step (first curing step)

이어서, 상기 도공층을 상술한 주형과, 주형의 표면 온도를 50℃ 이상으로 하여 접촉시키면서 활성 에너지선을 조사하여 상기 도공층을 경화시킨다. 또한, 이에 따라, 주형의 표면 형상이 도공층에 전사되어 하드 코팅층이 형성된다. 이와 같이, 접촉 온도, 즉 주형의 표면 온도를 50℃ 이상으로 하여, 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 원하는 대수 접촉각을 얻을 수 있어, 반사 방지층을 설치하는 데 적합한 하드 코팅층을 형성하는 것이 가능해진다. 한편, 접촉 온도의 상한에 대해서는, 사용하는 기재 필름의 수지의 종류에 따라서 적절하게 선택된다. 또한, 접촉 온도가 50℃ 이상이면 되지만, 100℃ 이하인 경우가 바람직하다.Subsequently, an active energy ray is irradiated while contacting the said coating layer with the above-mentioned mold at 50 degreeC or more, and hardening the said coating layer. In addition, the surface shape of the mold is transferred to the coating layer, thereby forming a hard coating layer. In this way, the desired logarithmic contact angle can be obtained by making the contact temperature, that is, the surface temperature of the mold at 50 ° C. or higher and curing it while being in contact with the mold, thereby making it possible to form a hard coat layer suitable for providing an antireflection layer. In addition, about the upper limit of a contact temperature, it selects suitably according to the kind of resin of the base film to be used. Moreover, although contact temperature should just be 50 degreeC or more, it is preferable in the case of 100 degrees C or less.

상술한 접촉 온도로 하기 위해서 상기 주형에는 가열 기구를 설치할 수도 있고, 그와 같은 가열 기구를 설치하지 않고서 활성 에너지선을 조사하는 광원으로부터 발생하는 열에 의해서 상기 주형을 상술한 접촉 온도로 할 수도 있다. 주형에 설치되는 가열 기구로서는, 예를 들면 주형의 내측에 열 매체가 되는 유체를 순환시키는 파이프 등을 설치하고, 그것을 주형의 외부에 있는 유체를 가열하는 장치와 접속하여 유체를 순환시키는 방법, 주형의 내부에 전열선 등의 가온 기구를 내장시키는 방법 등을 들 수 있다. 이 가열 기구에 의해 주형의 표면을 가열하는 것이 가능해져, 이에 의해 상술한 접촉 온도가 되도록 조정된다.In order to make contact temperature mentioned above, a heating mechanism may be provided in the said mold, and the said mold may be made into the above-mentioned contact temperature by the heat | fever which generate | occur | produces from the light source which irradiates an active energy ray, without providing such a heating mechanism. As a heating mechanism provided in a mold, for example, a pipe or the like for circulating a fluid to be a heat medium inside the mold, and a method of circulating the fluid by connecting it with a device for heating a fluid outside the mold, And a method of embedding a heating mechanism such as a heating wire in the interior thereof. This heating mechanism makes it possible to heat the surface of the mold, whereby it is adjusted to reach the above-mentioned contact temperature.

또한, 상술한 접촉 온도로 하기 위해서 또는 활성 에너지선의 조사에 의한 과열로부터 보호하기 위해서, 상기 주형에는 냉각 기구가 비치되어 있는 것이 바람직하다. 이러한 냉각 기구로서는, 예를 들면 주형의 내부에 냉각관을 설치하고, 주형 내부의 냉각관과 외부에 설치한 칠러 유닛을 접속하여, 냉매를 순환시키는 구조를 들 수 있다. 이 냉각 기구에 의해 주형의 표면을 냉각하는 것이 가능해져, 이에 의해 상술한 접촉 온도가 되도록 조정된다.In addition, in order to make the above-mentioned contact temperature or to protect from overheating by irradiation of an active energy ray, it is preferable that the said mold is equipped with a cooling mechanism. As such a cooling mechanism, the structure which circulates a refrigerant | coolant is provided, for example by providing a cooling pipe in the inside of a mold, connecting the chiller unit provided in the outside with the cooling pipe inside a mold. This cooling mechanism makes it possible to cool the surface of the mold, whereby it is adjusted to reach the above-mentioned contact temperature.

도공층과 주형을 밀착시키는 방법에 특별히 제한은 없지만, 도공층과 주형과의 사이에 기포가 혼입되는 것을 방지하기 위해서, 닙 롤 등의 압착 장치를 이용하는 것이 바람직하다. 닙 롤을 이용하는 경우, 닙압에 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 0.05 MPa 이상 1.0 MPa 이하이다. 닙압이 0.05 MPa 미만이면, 도공층과 주형과의 사이에 기포가 혼입하기 쉬워진다. 한편, 닙압이 1.0 MPa를 초과하면, 기재 필름의 반송 시의 근소한 어긋남에 의해 기재 필름이 파단하거나, 도공층이 기재 필름의 단부로부터 비어져 나와 오염의 원인이 되기도 하는 경우가 있다.Although there is no restriction | limiting in particular in the method of contact | adhering a coating layer and a mold, It is preferable to use crimping apparatuses, such as a nip roll, in order to prevent a bubble from mixing between a coating layer and a mold. When using a nip roll, there is no restriction | limiting in particular in nip pressure, Preferably it is 0.05 MPa or more and 1.0 MPa or less. If the nip pressure is less than 0.05 MPa, bubbles easily enter between the coating layer and the mold. On the other hand, when the nip pressure exceeds 1.0 MPa, the base film may break due to slight deviation during conveyance of the base film, or the coating layer may protrude from the end of the base film, which may cause contamination.

활성 에너지선으로서, 활성 에너지선 경화성 수지나 중합 개시제의 종류에 따라서 γ선, X선, 자외선, 근자외선, 가시광선, 근적외선, 적외선, 전자선 등으로부터 적절하게 선택할 수 있는데, 이들 중에서 자외선, 전자선이 바람직하고, 특히 취급이 간편하고 고에너지가 얻어지기 때문에 경화성이나 생산성이 우수하다는 관점에서, 자외선이 바람직하다.As an active energy ray, it can select suitably from gamma rays, X rays, an ultraviolet-ray, near-ultraviolet ray, visible ray, near-infrared ray, an infrared ray, an electron beam, etc. according to the kind of active energy ray curable resin and a polymerization initiator, Among these, an ultraviolet-ray, an electron beam, It is preferable, and ultraviolet rays are preferable from the viewpoint of excellent curability and productivity because of easy handling and high energy.

자외선의 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 카본 아크 램프, 메탈할라이드 램프, 크세논 아크 램프 등을 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 자외선을 발생하는 광원이면 특별히 제한은 없다. 또한, ArF 엑시머 레이저, KrF 엑시머 레이저, 엑시머 램프 또는 싱크로트론 방사광 등도 사용할 수 있다. 그 중에서도, 초고압 수은 램프, 고압 수은 램프, 저압 수은 램프, 크세논 아크 램프, 메탈할라이드 램프를 바람직하게 이용할 수 있다.As a light source of an ultraviolet-ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon arc lamp, etc. can be used, for example, It is not limited to these, The ultraviolet-ray There is no restriction | limiting in particular if it is a light source which generate | occur | produces. ArF excimer lasers, KrF excimer lasers, excimer lamps or synchrotron radiation can also be used. Especially, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon arc lamp, and a metal halide lamp can be used preferably.

자외선을 조사하기 위한 자외선 조사 장치와 광원의 조합의 예로서는, Fusion UV SYSTEMS사 제조의 UV 조사 장치 「F600」나 「LH10」와, H 밸브(수은 램프 상당)나 D 밸브 또는 V 밸브(메탈할라이드 램프 상당)와의 조합, 가부시끼가이샤 GS 유아사 가부시끼가이샤 제조의 「CS 시리즈」와, 수은 램프나 메탈할라이드 램프와의 조합, 오크 세이사꾸쇼 제조의 「QRM-2288」나 「QRM-2300」 등의 UV 조사 장치와, 메탈할라이드 램프나 고압 수은 램프와의 조합, 우시오 덴끼 가부시끼가이샤 제조의 「유니큐어 시스템」과 메탈할라이드 램프나 고압 수은 램프와의 조합을 들 수 있다. 자외선 조사 장치와 광원은 동일 조합의 것을 단독 또는 복수 이용할 수도 있고, 다른 조합의 것을 복수 이용할 수도 있다.As an example of the combination of an ultraviolet irradiation device and a light source for irradiating an ultraviolet-ray, UV irradiation apparatus "F600" and "LH10" made by Fusion UV SYSTEMS company, H valve (mercury lamp equivalency), D valve or V valve (metal halide lamp) Equivalency), "CS series" made by GS Yuasa Kabusikishisha, combination with mercury lamp and metal halide lamp, "QRM-2288" and "QRM-2300" made by Oak Seisakusho The combination with a UV irradiation apparatus, a metal halide lamp, and a high pressure mercury lamp, and the combination with the "Unicure system" by Ushio Denki Kabushiki Kaisha, a metal halide lamp, and a high pressure mercury lamp are mentioned. The ultraviolet irradiation device and the light source may use the same combination individually or in plurality, and may use a plurality of different combinations.

자외선의 UVA에서의 적산 광량은 바람직하게는 40 mJ/㎠ 이상이고, 보다 바람직하게는 70 mJ/㎠ 이상이다. 적산 광량이 40 mJ/㎠ 미만이면, 자외선 경화성 수지의 경화가 불충분해져서, 주형에 미경화의 자외선 경화성 수지가 부착되는 경우가 있다. 한편, 적산 광량의 상한에 대해서는, 상술한 접촉 온도의 범위 내이면 특별히 제한은 없다.The accumulated light amount in the UVA of the ultraviolet ray is preferably 40 mJ / cm 2 or more, and more preferably 70 mJ / cm 2 or more. When accumulated light amount is less than 40 mJ / cm <2>, hardening of ultraviolet curable resin will become inadequate and uncured ultraviolet curable resin may adhere to a mold. On the other hand, the upper limit of the accumulated light amount is not particularly limited as long as it is within the range of the above-mentioned contact temperature.

자외선의 조사는 1회만일 수도 있고, 2회 이상 행할 수도 있다. 또한, 경화 공정에서 이용되는 광원(자외선 조사 장치)의 수에 특별히 제한은 없으며, 등이 1개일 수도 있고, 등이 2개 이상일 수도 있다.The irradiation of ultraviolet rays may be performed only once or may be performed twice or more. In addition, there is no restriction | limiting in particular in the number of light sources (ultraviolet irradiation apparatus) used at a hardening process, One light may be sufficient and two or more light may be sufficient.

〔3〕박리 공정[3] peeling process

상기 경화 공정 후, 하드 코팅 필름(기재 필름과 하드 코팅층과의 적층체)가 주형으로부터 박리된다. 박리 방법으로서는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 주형이 롤 형상인 경우에는, 하드 코팅 필름과 주형과의 분리점에 닙 롤 등의 압착 장치를 설치하고, 이 압착 장치를 지점으로 주형으로부터 필름을 박리하는 방법이 바람직하게 이용된다. 이에 따라, 활성 에너지선의 조사 중에 필름이 주형으로부터 박리되는 것이 효과적으로 방지되어, 주형과 필름의 밀착 상태가 유지됨과 동시에, 상기 지점에 도달한 필름을 효율적이고 또한 안정적으로 박리하는 것이 가능해진다.After the said hardening process, a hard coat film (laminated body of a base film and a hard coat layer) is peeled from a mold. Although it does not restrict | limit especially as a peeling method, For example, when a mold is a roll shape, a crimping device, such as a nip roll, is provided in the separation point of a hard coat film and a mold, and a film is peeled from a mold by this crimping device as a point. The method of making is used preferably. Thereby, peeling of a film from a mold is prevented effectively during irradiation of an active energy ray, and the contact | adherence state of a mold and a film is maintained, and the film which reached the said point can be peeled efficiently and stably.

이리하여, 본 발명의 하드 코팅 필름을 얻을 수 있지만, 또한 하드 코팅층의 경화 반응을 더욱 촉진시키는 것을 목적으로 하여 하드 코팅층측으로부터 추가로 활성 에너지선을 조사하는 것이 바람직하다. 이 공정을 제2 경화 공정이라고 부르고, 이하에 그 설명을 행한다.Thereby, although the hard coat film of this invention can be obtained, it is preferable to irradiate an active energy ray further from the hard coat layer side for the purpose of further promoting the hardening reaction of a hard coat layer. This process is called a 2nd hardening process and it demonstrates below.

〔4〕제2 경화 공정[4] second curing step

제2 경화 공정에 이용하는 활성 에너지선은 γ선, X선, 자외선, 근자외선, 가시광선, 근적외선, 적외선, 전자선 등으로부터 적절하게 선택할 수 있는데, 이들의 중에서 자외선, 전자선이 바람직하고, 특히 취급이 간편하고 고에너지가 얻어지기 때문에 경화성이나 생산성이 우수하다는 관점에서, 자외선이 바람직하다. 또한, 활성 에너지선은 상술한 제1 경화 공정 시에 사용한 활성 에너지선과 동종의 것을 이용하는 것이 바람직하다. 다른 종류의 활성 에너지선을 이용하는 경우, 그에 맞추어 복수의 수지나 중합 개시제를 사용할 필요가 있어, 수지 조성물의 설계가 복잡해질 우려가 있다.The active energy ray used in the second curing step can be appropriately selected from gamma rays, X rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, visible rays, near infrared rays, infrared rays, electron rays, and the like. Among these, ultraviolet rays and electron rays are preferable, and handling is particularly easy. Since it is easy and high energy is obtained, an ultraviolet-ray is preferable from a viewpoint of excellent sclerosis | hardenability and productivity. In addition, it is preferable to use the thing of the same kind as the active energy ray used at the time of the 1st hardening process mentioned above as an active energy ray. When using another kind of active energy ray, it is necessary to use several resin and a polymerization initiator accordingly, and there exists a possibility that the design of a resin composition may become complicated.

제2 경화 공정에 이용하는 자외선의 조사 장치의 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 카본 아크 램프, 메탈할라이드 램프, 크세논 아크 램프 등을 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 자외선을 발생하는 광원이면 특별히 제한은 없다. 또한, ArF 엑시머 레이저, KrF 엑시머 레이저, 엑시머 램프 또는 싱크로트론 방사광 등도 사용할 수 있다. 그 중에서도, 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 크세논 아크 램프, 메탈할라이드 램프를 바람직하게 이용할 수 있다. 자외선 조사 장치와 광원은 동일 조합의 것을 단독 또는 복수 이용할 수도 있고, 다른 조합의 것을 복수 이용할 수도 있다.As a light source of the ultraviolet irradiation device used for a 2nd hardening process, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon arc lamp etc. can be used, for example, It is not limited to these, There is no restriction | limiting in particular if it is a light source which generate | occur | produces an ultraviolet-ray. ArF excimer lasers, KrF excimer lasers, excimer lamps or synchrotron radiation can also be used. Especially, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon arc lamp, and a metal halide lamp can be used preferably. The ultraviolet irradiation device and the light source may use the same combination individually or in plurality, and may use a plurality of different combinations.

또한, 제2 경화 공정에 이용하는 자외선의 조사 장치나 광원의 종류는, 하드 코팅층에 포함되는 중합 개시제가 유효하게 기능하는 자외선이면 제1 경화 공정의 자외선과 상이할 수도 있다. 예를 들면, 제1 경화 공정에서는 메탈할라이드 램프를 사용하고, 제2 경화 공정에서는 고압 수은 램프를 사용할 수도 있다.In addition, the kind of ultraviolet irradiation device and light source used for a 2nd hardening process may be different from the ultraviolet-ray of a 1st hardening process, if it is an ultraviolet-ray which the polymerization initiator contained in a hard coat layer functions effectively. For example, a metal halide lamp may be used in the first curing step, and a high pressure mercury lamp may be used in the second curing step.

제2 경화 공정의 자외선의 UVA에서의 적산 광량은 바람직하게는 200 mJ/㎠ 이상이고, 보다 바람직하게는 300 mJ/㎠ 이상이다. 적산 광량의 상한에 대해서는 특별히 제한은 없다. The accumulated light amount in the UVA of the ultraviolet ray of the second curing step is preferably 200 mJ / cm 2 or more, and more preferably 300 mJ / cm 2 or more. There is no restriction | limiting in particular about the upper limit of accumulated light quantity.

제2 경화 공정에서의 자외선의 조사는 1회만일 수도 있고, 2회 이상 행할 수도 있다. 또한, 제2 경화 공정에서 이용되는 자외선 조사 장치나 광원의 수에 특별히 제한은 없고, 등이 1개만일 수도 있고, 등이 2개 이상일 수도 있다. 또한, 제2 경화 공정에서 자외선의 조사를 2회 이상 행하는 경우, 상기 적산 광량은 제2 경화 공정의 자외선에 대한 상기 적산 광량의 합계값이다. Irradiation of the ultraviolet ray in the second curing step may be performed only once or may be performed twice or more. In addition, there is no restriction | limiting in particular in the number of the ultraviolet irradiation device and the light source used in a 2nd hardening process, only one light may be sufficient, and two or more light may be sufficient as it. In addition, when irradiating an ultraviolet-ray twice or more in a 2nd hardening process, the said accumulated light quantity is a total value of the said accumulated light quantity with respect to the ultraviolet-ray of a 2nd hardening process.

제2 경화 공정에서는, 활성 에너지선 경화성 수지의 경화가 산소에 의해서 저해되는 것을 방지하기 위해서, 기재 필름 및 하드 코팅층을 포함하는 적층체와 조사 장치와의 사이에는 불활성 가스를 충전하는 것이 바람직하다. 불활성 가스는, 질소, 아르곤, 네온 등으로부터 적절하게 선택되는데, 취급의 간이성이나 비용 면에서 질소가 바람직하다. 또한, 그 때의 산소 농도는 0.1% 이하가 바람직하다.In a 2nd hardening process, in order to prevent that hardening of active energy ray curable resin is inhibited by oxygen, it is preferable to fill an inert gas between the laminated body containing a base film and a hard coat layer, and an irradiation apparatus. Although an inert gas is suitably selected from nitrogen, argon, neon, etc., nitrogen is preferable at the point of handling simplicity and cost. In addition, the oxygen concentration at that time is preferably 0.1% or less.

제2 경화 공정에서의 활성 에너지선의 구체적인 조사 방법에 특별히 제한은 없으며, 예를 들면 백업 롤 등의 롤 상에 기재 필름을 밀착시킨 상태에서 조사할 수도 있고, 가이드 롤과 가이드 롤 사이의 중공 부분에 활성 에너지선 조사 장치를 설치하여 조사할 수도 있다. 또한, 활성 에너지선의 조사를 2회 이상 행하는 경우, 조사 방법은 각각 동일할 수도 있고, 서로 다른 조사 방법일 수도 있다. 예를 들면, 1회째 및 2회째 모두 백업 롤을 사용하여 활성 에너지선을 조사할 수도 있고, 1회째는 백업 롤을 사용하여 활성 에너지선을 조사하고, 2회째는 가이드 롤과 가이드 롤 사이의 중공 부분에 활성 에너지선 조사 장치를 설치하여 활성 에너지선을 조사하도록 할 수도 있다.There is no restriction | limiting in particular in the specific irradiation method of the active energy ray in a 2nd hardening process, For example, you may irradiate in the state which adhere | attached the base film on the rolls, such as a backup roll, to the hollow part between a guide roll and a guide roll. An active energy ray irradiation apparatus can also be installed and irradiated. In addition, when irradiating an active energy ray 2 or more times, irradiation methods may be the same respectively and may be different irradiation methods. For example, both the first and second times may irradiate an active energy ray using a backup roll, the first may irradiate an active energy ray using a backup roll, and the second may be a hollow between the guide roll and the guide roll. An active energy ray irradiation device may be provided at the portion to irradiate the active energy ray.

활성 에너지선에 의한 기재 필름에의 열 손상이나 열 주름의 발생을 방지하기 위해서, 냉각 기구를 구비한 백업 롤을 사용하는 조사 방법이 바람직하다. 냉각된 백업 롤의 표면 온도는 일반적으로 10℃ 내지 70℃의 범위이고, 바람직하게는 20℃ 내지 60℃의 범위이다. 백업 롤을 사용하는 경우, 제2 경화 공정의 입구측, 또는 입구측과 출구측 양쪽에 기재 필름에 주름이 생기는 것을 방지하기 위한 주름 방지 장치를 설치할 수도 있다.In order to prevent the heat damage to a base film and generation | occurrence | production of a thermal wrinkle by an active energy ray, the irradiation method using a backup roll provided with a cooling mechanism is preferable. The surface temperature of the cooled backup roll is generally in the range of 10 ° C to 70 ° C, preferably in the range of 20 ° C to 60 ° C. When using a backup roll, the wrinkle prevention apparatus for preventing wrinkles in a base film may be provided in the inlet side of a 2nd hardening process, or both an inlet side and an outlet side.

본 발명의 하드 코팅 필름은 반사 방지층을 설치하기 위해서 적합한 것이다. 그리고, 반사 방지층을 구비한 필름은 다양한 광학 부재, 예를 들면 편광판의 보호 필름으로서 바람직하게 사용된다. 또한, 그 편광판을 화상 표시 장치에 사용하는 것이 가능하다.The hard coat film of this invention is suitable for providing an antireflection layer. And the film provided with the antireflection layer is used suitably as a protective film of various optical members, for example, a polarizing plate. Moreover, it is possible to use this polarizing plate for an image display apparatus.

<반사 방지층의 형성> <Formation of Anti-reflective Layer>

본 발명의 하드 코팅 필름의 하드 코팅층의 표면에, 반사 방지층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지를 도공한 후, 활성 에너지선을 조사함으로써 반사 방지층을 형성할 수 있다.After coating the active energy ray curable resin for forming an antireflection layer on the surface of the hard coat layer of the hard coat film of this invention, an antireflection layer can be formed by irradiating an active energy ray.

<반사 방지층의 형성/도공 공정> <Formation / coating process of antireflection layer>

반사 방지층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 기재 필름 상에의 도공 방법은 특별히 제한되는 것은 아니고, 공지된 방법을 적절하게 선택할 수 있다. 구체적으로는, 와이어바 코팅법, 롤 코팅법, 그라비아 코팅법, 나이프 코팅법, 슬롯다이 코팅법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 슬라이드 코팅법, 커튼 코팅법, 잉크젯법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 도공 시의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중에의 이물 등의 혼입을 최대한 방지하는 점에서, 슬롯다이 코팅법이 바람직하다.The coating method on the base film of the active energy ray curable resin composition for forming an antireflection layer is not specifically limited, A well-known method can be selected suitably. Specifically, a wire bar coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a knife coating method, a slot die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a slide coating method, a curtain coating method, an inkjet method, etc. are mentioned. Especially, the slot die coating method is preferable at the point which prevents mixing, such as a foreign material in the active-energy-ray-curable resin composition at the time of coating as much as possible.

반사 방지층은, 통상 하드 코팅층보다도 낮은 굴절률을 갖는 층이다. 반사 방지층의 굴절률은 통상 1.2 내지 1.45의 범위가 바람직하고, 1.25 내지 1.4의 범위가 보다 바람직하다. 이러한 반사 방지층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지로서는, 예를 들면 실리카 미립자와 결합제를 포함하는 것을 들 수 있다.The antireflection layer is usually a layer having a lower refractive index than the hard coating layer. The refractive index of the antireflection layer is preferably in the range of 1.2 to 1.45, and more preferably in the range of 1.25 to 1.4. As active energy ray curable resin for forming such an antireflection layer, the thing containing a silica fine particle and a binder is mentioned, for example.

실리카 미립자는 반사 방지층의 굴절률을 하드 코팅층의 굴절률보다도 낮게 하는 관점에서, 내부가 공동으로 되어 있는 중공 실리카 미립자를 이용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 실리카 미립자의 평균 입경은 50 내지 200 nm의 범위가 바람직하고, 60 내지 150 nm의 것이 보다 바람직하다. 평균 입경이 50 nm 미만이면, 반사 방지층의 굴절률의 저하 효과가 충분하지 않은 경우가 있다. 또한, 200 nm을 초과하면, 반사 방지층의 강도가 저하되어 버리거나, 반사 방지층의 표면에 요철이 형성되어, 표면이 흰 빛을 띠게 되어 버리는 경우가 있다.As for the silica fine particles, from the viewpoint of making the refractive index of the antireflection layer lower than the refractive index of the hard coating layer, it is more preferable to use hollow silica fine particles having a cavity inside. Moreover, the range of 50-200 nm is preferable, and, as for the average particle diameter of a silica fine particle, it is more preferable that it is 60-150 nm. When the average particle diameter is less than 50 nm, the effect of lowering the refractive index of the antireflection layer may not be sufficient. On the other hand, if the thickness exceeds 200 nm, the strength of the antireflection layer may decrease, or irregularities may be formed on the surface of the antireflection layer, resulting in a white light.

반사 방지층에 포함되는 결합제로서는, 실리카 미립자의 활성 에너지선 경화성 수지 중에의 상용성 등 면에서, 가수분해성을 갖는 오르가노실란인 실란 커플링제가 바람직하게 이용된다. 이러한 실란 커플링제의 예로서는, 예를 들면 메톡시실란, 디메톡시실란, 트리메톡시실란, 테트라메톡시실란, 메틸메톡시실란, 에틸메톡시실란, 프로필트리메톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디에틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 등의 메톡시실란 및 그의 유도체, 에톡시실란, 디에톡시실란, 트리에톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸에톡시실란, 에틸에톡시실란, 프로필트리에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 에톡시실란 및 그의 유도체 등을 들 수 있다. 또한, 실란 커플링제의 가수분해물인 실란올류나, 실란올류의 축합체인 실록산류를 이용할 수도 있다. As the binder included in the antireflection layer, a silane coupling agent which is an organosilane having hydrolyzability is preferably used in view of compatibility of silica fine particles in active energy ray-curable resin and the like. Examples of such a silane coupling agent include, for example, methoxysilane, dimethoxysilane, trimethoxysilane, tetramethoxysilane, methylmethoxysilane, ethylmethoxysilane, propyltrimethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyl Methoxysilanes and derivatives thereof, such as dimethoxysilane, diethyldimethoxysilane, and phenyltrimethoxysilane, ethoxysilane, diethoxysilane, triethoxysilane, tetraethoxysilane, methylethoxysilane, ethylethoxy Ethoxysilanes and derivatives thereof such as silane, propyltriethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, and phenyltriethoxysilane. Moreover, silanol which is a hydrolyzate of a silane coupling agent, and siloxane which is a condensate of silanol can also be used.

상기 결합제는 중합성 관능기인 불포화 결합을 갖는 오르가노실란인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 중합성 관능기를 갖는 오르가노실란류로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리클로로실란 등의 비닐기를 갖는 것, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디에톡시실란 등의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것, 3-(메트)아크릴아미노-프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴아미드-프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴아미드기를 갖는 것 등을 들 수 있다.More preferably, the binder is an organosilane having an unsaturated bond which is a polymerizable functional group. As organosilanes which have such a polymerizable functional group, what has vinyl groups, such as vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, and vinyl trichlorosilane, 3- (meth) acryloxypropyl trimeth (Meth) acryloyl groups, such as oxysilane, 3- (meth) acryloxypropyl triethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3- (meth) acryloxypropylmethyl diethoxysilane The thing which has (meth) acrylamide groups, such as what has, 3- (meth) acrylamino-propyl trimethoxysilane, and 3- (meth) acrylamide-propyl triethoxysilane, etc. is mentioned.

한층 더 저굴절률화 면에서, 상기 결합제 중의 알킬기의 수소가 불소로 치환된 플루오로알킬실란류를 포함하는 것을 이용할 수도 있다.In addition, in view of lowering the refractive index, one containing fluoroalkylsilanes in which hydrogen of the alkyl group in the binder is substituted with fluorine may be used.

또한, 이들 오르가노실란류는 단독으로 이용할 수도 있고, 복수의 것을 혼합하여 이용할 수도 있다.In addition, these organosilanes may be used independently or may be used in mixture of multiple things.

상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로서는, 상술한 하드 코팅층을 형성하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로 상술한 바와 같은 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제, 기타 필요에 따라서 첨가된 계면활성제 등의 첨가제를 포함하는 것을 사용할 수 있다.As said active energy ray curable resin composition, it is an active energy ray curable resin composition which forms the hard-coat layer mentioned above, and contains additives, such as active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and surfactant added as needed as mentioned above. Can be used.

상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 그 도공성을 향상시키기 위해서 용제를 포함할 수도 있다. 용제로서는, 예를 들면 헥산, 옥탄 등의 지방족 탄화수소; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 에스테르화 글리콜에테르류 등으로부터 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 이들 유기 용제는 단독으로 이용할 수도 있고, 필요에 따라서 여러 종류를 혼합하여 이용할 수도 있다. 도공 공정 후 (제1) 경화 공정 전에, 용제를 증발시켜 건조시키는 것이 바람직하기 때문에, 용제의 비점은 60 내지 160℃의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 20℃에서의 포화 증기압은 0.1 내지 20 kPa의 범위인 것이 바람직하다. 용제의 종류 및 함유량은 이용하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류나 함유량, 기재 필름이나 하드 코팅층의 재질, 형상, 도포 방법, 목적으로 하는 반사 방지층의 두께 등에 따라서 적절하게 선택된다.The said active energy ray curable resin composition may contain a solvent in order to improve the coating property. As a solvent, For example, Aliphatic hydrocarbons, such as hexane and an octane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol and 1-butanol; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether; It can select suitably from esterification glycol ethers, such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate. These organic solvents may be used independently, and may mix and use various types as needed. Since it is preferable to evaporate and dry a solvent after a coating process and before a (1st) hardening process, it is preferable that the boiling point of a solvent is 60-160 degreeC. Moreover, it is preferable that the saturated vapor pressure in 20 degreeC is the range of 0.1-20 kPa. The kind and content of a solvent are suitably selected according to the kind and content of the active energy ray curable compound to be used, the material of a base film and a hard-coat layer, a shape, a coating method, the thickness of the antireflection layer made into the objective, etc.

<반사 방지층의 형성/경화 공정> <Formation / hardening process of antireflection layer>

반사 방지층을 형성할 때의 경화 공정에서는, 통상 하드 코팅 필름의 하드 코팅층의 표면에 상술한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공한 후, 상기 도공면측으로부터 활성 에너지선을 조사하여 도공층을 경화하여 반사 방지층을 형성한다.In the hardening process at the time of forming an antireflection layer, after apply | coating the above-mentioned active-energy-ray-curable resin composition to the surface of the hard-coat layer of a hard coat film normally, an active energy ray is irradiated from the said coating surface side, hardening a coating layer, and reflecting The prevention layer is formed.

상기 활성 에너지선으로서, 활성 에너지선 경화성 수지나 중합 개시제의 종류에 따라서 γ선, X선, 자외선, 근자외선, 가시광선, 근적외선, 적외선, 전자선 등으로부터 적절하게 선택할 수 있는데, 이들 중에서 자외선, 전자선이 바람직하고, 특히 취급이 간편하고 고에너지가 얻어지기 때문에 경화성이나 생산성이 우수하다는 관점에서, 자외선이 바람직하다.As said active energy ray, it can select suitably from gamma rays, X-rays, an ultraviolet-ray, a near-ultraviolet ray, a visible ray, a near-infrared ray, an infrared ray, an electron beam, etc. according to the kind of active energy ray curable resin and a polymerization initiator, among these, an ultraviolet-ray, an electron beam This is preferable. In particular, ultraviolet rays are preferred from the viewpoint of excellent curability and productivity because of easy handling and high energy.

자외선의 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 카본 아크 램프, 메탈할라이드 램프, 크세논 아크 램프 등을 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 자외선을 발생하는 광원이면 특별히 제한은 없다. 또한, ArF 엑시머 레이저, KrF 엑시머 레이저, 엑시머 램프 또는 싱크로트론 방사광 등도 사용할 수 있다. 그 중에서도, 초고압 수은 램프, 고압 수은 램프, 저압 수은 램프, 크세논 아크 램프, 메탈할라이드 램프를 바람직하게 이용할 수 있다.As a light source of an ultraviolet-ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon arc lamp, etc. can be used, for example, It is not limited to these, The ultraviolet-ray There is no restriction | limiting in particular if it is a light source which generate | occur | produces. ArF excimer lasers, KrF excimer lasers, excimer lamps or synchrotron radiation can also be used. Especially, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon arc lamp, and a metal halide lamp can be used preferably.

자외선을 조사하기 위한 자외선 조사 장치와 광원의 조합의 예로서는, Fusion UV SYSTEMS사 제조의 UV 조사 장치 「F600」나 「LH10」와, H 밸브(수은 램프 상당)나 D 밸브 또는 V 밸브(메탈할라이드 램프 상당)와의 조합, 가부시끼가이샤 GS 유아사 가부시끼가이샤 제조의 「CS 시리즈」와, 수은 램프나 메탈할라이드 램프와의 조합, 오크 세이사꾸쇼 제조의 「QRM-2288」나 「QRM-2300」 등의 UV 조사 장치와, 메탈할라이드 램프나 고압 수은 램프와의 조합, 우시오 덴끼 가부시끼가이샤 제조의 「유니큐어 시스템」과 메탈할라이드 램프나 고압 수은 램프와의 조합을 들 수 있다. 자외선 조사 장치와 광원은 동일 조합의 것을 단독 또는 복수 이용할 수도 있고, 다른 조합의 것을 복수 이용할 수도 있다.As an example of the combination of an ultraviolet irradiation device and a light source for irradiating an ultraviolet-ray, UV irradiation apparatus "F600" and "LH10" made by Fusion UV SYSTEMS company, H valve (mercury lamp equivalency), D valve or V valve (metal halide lamp) Equivalency), "CS series" made by GS Yuasa Kabusikishisha, combination with mercury lamp and metal halide lamp, "QRM-2288" and "QRM-2300" made by Oak Seisakusho The combination with a UV irradiation apparatus, a metal halide lamp, and a high pressure mercury lamp, and the combination with the "Unicure system" by Ushio Denki Kabushiki Kaisha, a metal halide lamp, and a high pressure mercury lamp are mentioned. The ultraviolet irradiation device and the light source may use the same combination individually or in plurality, and may use a plurality of different combinations.

자외선의 UVA에서의 적산 광량은 바람직하게는 200 mJ/㎠ 이상이고, 보다 바람직하게는 400 mJ/㎠ 이상이다. 적산 광량이 200 mJ/㎠ 미만이면, 반사 방지층이 충분히 경화하기 어렵게 되기 때문에 바람직하지 않다.The accumulated light amount in the UVA of the ultraviolet ray is preferably 200 mJ / cm 2 or more, and more preferably 400 mJ / cm 2 or more. If the accumulated light amount is less than 200 mJ / cm 2, the antireflection layer is hardly cured sufficiently, which is not preferable.

상기 활성 에너지선 경화성 수지의 경화가 산소에 의해서 저해되는 것을 방지하기 위해서, 불활성 가스 분위기 하에서 상기 경화 공정을 행하는 것이 바람직하다. 불활성 가스는, 질소, 아르곤, 네온 등으로부터 적절하게 선택되는데, 취급의 간이성이나 비용 면에서 질소가 바람직하다. 또한, 그 때의 산소 농도는 0.1% 이하가 바람직하다.In order to prevent the hardening of the said active energy ray curable resin from being inhibited by oxygen, it is preferable to perform the said hardening process in inert gas atmosphere. Although an inert gas is suitably selected from nitrogen, argon, neon, etc., nitrogen is preferable at the point of handling simplicity and cost. In addition, the oxygen concentration at that time is preferably 0.1% or less.

자외선의 조사는 1회만일 수도 있고, 2회 이상 행할 수도 있다. 또한, 경화 공정에서 이용되는 광원(자외선 조사 장치)의 수에 특별히 제한은 없으며, 등이 1개일 수도 있고, 등이 2개 이상일 수도 있다.The irradiation of ultraviolet rays may be performed only once or may be performed twice or more. In addition, there is no restriction | limiting in particular in the number of light sources (ultraviolet irradiation apparatus) used at a hardening process, One light may be sufficient and two or more light may be sufficient.

이리하여, 상술한 하드 코팅 필름의 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층이 설치된 적층체를 얻을 수 있다. 또한, 반사 방지층의 형성은 하드 코팅층의 형성과 동시에 행하는 것도 가능하다.Thereby, the laminated body provided with the antireflection layer in the surface of the hard coat layer of the hard coat film mentioned above can be obtained. In addition, formation of an antireflection layer can also be performed simultaneously with formation of a hard-coat layer.

<편광판> <Polarizing plate>

본 발명의 편광판은 본 발명의 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 기재 필름의 다른쪽의 면에 적층된 편광 필름을 갖는 것이다. 또한, 본 발명의 편광판은 본 발명의 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 하드 코팅층의 표면에 적층된 반사 방지층을 구비하는 적층체와, 상기 적층체의 상기 기재 필름의 다른쪽의 면에 적층된 편광 필름을 갖는 것이다. The polarizing plate of this invention has the hard coat film of this invention, and the polarizing film laminated | stacked on the other surface of the said base film of the said hard coat film. Moreover, the polarizing plate of this invention is a laminated body provided with the hard coat film of this invention, the reflection prevention layer laminated | stacked on the surface of the said hard coat layer of the said hard coat film, and the other surface of the said base film of the said laminated body. It has a laminated polarizing film.

여기서 말하는 편광 필름은 입사광으로부터 직선편광을 취출하는 기능을 갖는 것으로서, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 편광 필름의 예로서, 폴리비닐알코올계 수지에 2색성 색소가 흡착 배향하고 있는 편광 필름을 들 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지로서는 아세트산비닐의 비누화물인 폴리비닐알코올 외에, 부분 포르말화 폴리비닐알코올, 에틸렌/아세트산비닐 공중합체의 비누화물 등을 들 수 있다. 2색성 색소로서는 요오드 또는 2색성의 유기 염료가 이용된다. 또한, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물의 폴리엔 배향 필름도 편광 필름이 될 수 있다. 편광 필름의 두께는 통례 5 내지 80 ㎛ 정도이다.The polarizing film here has a function which takes out linearly polarized light from incident light, The kind is not specifically limited. As an example of a preferable polarizing film, the polarizing film in which the dichroic dye is adsorption-oriented to polyvinyl alcohol-type resin is mentioned. As polyvinyl alcohol-type resin, in addition to polyvinyl alcohol which is a saponified substance of vinyl acetate, the partially formalized polyvinyl alcohol, the saponified substance of ethylene / vinyl acetate copolymer, etc. are mentioned. As a dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. Moreover, the polyene oriented film of the dehydration process of polyvinyl alcohol, and the dehydrochlorination process of polyvinyl chloride can also be a polarizing film. The thickness of a polarizing film is about 5-80 micrometers normally.

본 발명의 편광판은 상기 편광 필름의 한쪽면 또는 양면(통상은 한쪽면임)에 본 발명의 하드 코팅 필름 또는 상기 하드 코팅 필름의 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층이 설치된 적층체를 적층한 것일 수도 있고, 상기 편광 필름의 한쪽면에 투명 보호층을 적층하고, 다른쪽의 면에 본 발명의 하드 코팅 필름 또는 상기 적층체를 적층한 것일 수도 있다. 이 때, 하드 코팅 필름 또는 상기 적층체는 편광 필름의 투명 보호층으로서의 기능도 갖는다. 하드 코팅 필름 또는 상기 적층체의 하드 코팅층에 표면 요철 형상이 부여되어 있는 경우, 이 하드 코팅층은 방현층으로서의 기능도 갖는다. 투명 보호층은 필름을 접착제 등을 이용하여 접합하는 방법이나 도공액을 도포하는 방법 등에 의해서 적층된다. 마찬가지로, 본 발명의 하드 코팅 필름은 접착제 등을 이용하여 편광 필름에 접합할 수 있다.The polarizing plate of this invention may laminate | stack the laminated body in which the anti-reflective layer was provided in the surface of the hard coat film of this invention or the hard coat layer of the said hard coat film on one side or both surfaces (usually one side) of the said polarizing film, The transparent protective layer may be laminated on one side of the polarizing film, and the hard coat film or the laminate of the present invention may be laminated on the other side. At this time, a hard coat film or the said laminated body also has a function as a transparent protective layer of a polarizing film. When the surface uneven | corrugated shape is provided to the hard coat film or the hard coat layer of the said laminated body, this hard coat layer also has a function as an anti-glare layer. A transparent protective layer is laminated | stacked by the method of bonding a film using an adhesive agent etc., the method of apply | coating a coating liquid, etc. Similarly, the hard coat film of the present invention can be bonded to a polarizing film using an adhesive or the like.

투명 보호층은 투명성이나 기계 강도, 열 안정성, 수분 차폐성 등이 우수한 것이 바람직하고, 이러한 것으로서는 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스아세테이트 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 쇄상 폴리올레핀계 수지; 환상 폴리올레핀계 수지; 스티렌계 수지; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 필름이 예시된다. 이들 필름은 광학적으로 등방성인 것일 수도 있고, 화상 표시 장치에 조립했을 때 광 시야각의 보상을 목적으로 하여 광학적으로 이방성을 갖는 것일 수도 있다.It is preferable that a transparent protective layer is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, etc. As these, For example, Cellulose resins, such as cellulose acetates, such as a triacetyl cellulose, a diacetyl cellulose, a cellulose acetate propionate; Polycarbonate resin; (Meth) acrylic resins such as polyacrylate and polymethyl methacrylate; Polyester-based resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Linear polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; Cyclic polyolefin resins; Styrene resins; Polysulfones; Polyethersulfones; The film which consists of polyvinyl chloride, etc. is illustrated. These films may be optically isotropic or they may be optically anisotropic for the purpose of compensating for a wide viewing angle when assembled to an image display device.

본 발명의 편광판을 액정셀 상에 배치하여 액정 패널을 제조하는 경우, 액정셀의 한쪽면 또는 양면에 편광판을 배치했을 때 본 발명의 편광판의 하드 코팅층(또는 방현층)보다도 편광 필름쪽이 액정셀에 가까워지도록 편광판이 배치된다. 이 때, 편광판은 시인측에 배치할 수도 있거나, 백라이트측에 배치할 수도 있거나, 또는 그 양쪽에 배치할 수도 있다. 편광판을 시인측에 배치한 경우, 하드 코팅층은 외력에 기인하는 흠집 등을 방지함과 함께, 방현층으로서도 기능하는 경우에는 눈부심이나 외광의 비침을 방지한다. 한편, 편광판을 백라이트측에 배치한 경우에는, 하드 코팅층은 액정 패널의 조립 공정에서 발생할 수 있는 외력에 기인하는 흠집, 예를 들면 확산판 등에의 접촉에 따른 흠집을 방지함과 함께, 방현층으로서도 기능하는 경우에는, 백라이트로부터 액정 패널에 입사하는 광에 대하여, 무아레(moire) 등을 방지하는 확산판의 역할을 한다.When manufacturing the liquid crystal panel by arranging the polarizing plate of the present invention on the liquid crystal cell, when the polarizing plate is disposed on one side or both sides of the liquid crystal cell, the polarizing film is more than the hard coating layer (or antiglare layer) of the polarizing plate of the present invention. The polarizing plate is arranged to approach. At this time, the polarizing plate may be disposed on the viewing side, or may be disposed on the backlight side, or both. When arrange | positioning a polarizing plate at the visual recognition side, a hard coat layer prevents the flaw etc. which arises from an external force, and when it also functions as an anti-glare layer, prevents glare and the reflection of external light. On the other hand, when the polarizing plate is disposed on the backlight side, the hard coat layer prevents scratches due to external force that may occur in the assembling process of the liquid crystal panel, for example, a scratch due to contact with a diffusion plate, and also serves as an antiglare layer. In the case of functioning, it serves as a diffusion plate which prevents moire and the like against light incident on the liquid crystal panel from the backlight.

<화상 표시 장치> <Image display device>

본 발명의 화상 표시 장치는 본 발명의 방법에 의해서 제조된 하드 코팅 필름이나 하드 코팅 필름의 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층이 설치된 적층체와, 다양한 정보를 화면에 영출하는 화상 표시 장치를 조합한 것이다. 본 발명의 화상 표시 장치에 있어서 화상 표시 장치의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 상기 액정 패널을 사용한 액정 디스플레이(LCD) 외에, 브라운관(음극선관: CRT) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이(PDP), 전해 방출 디스플레이(FED), 표면 전도형 전자 방출 소자 디스플레이(SED), 유기 EL 디스플레이, 레이저 디스플레이, 프로젝터 텔레비젼의 스크린 등을 들 수 있다.The image display apparatus of this invention combines the laminated body in which the anti-reflective layer was provided in the surface of the hard coat film or hard coating layer manufactured by the method of this invention, and the image display apparatus which casts various information on a screen. . In the image display device of the present invention, the type of the image display device is not particularly limited, and in addition to the liquid crystal display (LCD) using the liquid crystal panel, a cathode ray tube (cathode ray tube: CRT) display, a plasma display (PDP), an electrolytic emission display ( FED), a surface conduction electron emission element display (SED), an organic electroluminescent display, a laser display, the screen of projector television, etc. are mentioned.

본 발명에 따른 하드 코팅 필름 또는 적층체는 이들 디스플레이의 화상 표시 소자의 시인측 표면에 배치되는 것이 바람직하고, 이 경우 화상 표시 장치로서는 편광판과, 화상 표시 소자를 구비하며, 상기 편광판이, 상기 하드 코팅층보다도 상기 편광 필름쪽이 상기 화상 표시 소자에 가까워지도록 상기 화상 표시 소자의 시인측에 배치된다. 그러나, 본 발명에 따른 하드 코팅 필름은 화상 표시 소자의 백라이트측에 배치되는 경우와 같이, 화상 표시 장치의 내부에 삽입될 수도 있다. 본 발명의 화상 표시 장치는 본 발명에 따른 하드 코팅 필름을 구비한 것이기 때문에, 흠집이 생기기 어렵고, 우수한 강도를 갖는다.It is preferable that the hard coat film or laminated body which concerns on this invention is arrange | positioned at the visual side of the image display element of these displays, In this case, as an image display apparatus, it comprises a polarizing plate and an image display element, The said polarizing plate is the said hard board It is arrange | positioned at the visual recognition side of the said image display element so that the said polarizing film side may be closer to the said image display element rather than a coating layer. However, the hard coat film according to the present invention may be inserted into the image display device, as in the case of being disposed on the backlight side of the image display element. Since the image display apparatus of the present invention includes the hard coat film according to the present invention, scratches are less likely to occur and have excellent strength.

도 1은 본 발명의 화상 표시 장치의 기본적인 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 1에 도시되는 화상 표시 장치 (100)은 백라이트 (10), 광 확산판 (50), 액정 패널 (60)을 이 순으로 구비한다. 액정 패널 (60)은 화상 표시 소자 (40)과, 화상 표시 소자 (40)의 백라이트측(도 1에 있어서 z축의 마이너스 방향)에 배치되는 편광판 (20)과, 화상 표시 소자 (40)의 시인측(도 1에 있어서 z축의 플러스 방향)에 배치되는 편광판 (3)을 구비한다. 화상 표시 소자 (40)의 시인측에 배치되는 편광판 (3)은, 적층체 (32)와, 편광 필름 (33)을 구비한다. 적층체 (32)는, 하드 코팅 필름 (31)과 반사 방지층 (320)을 구비한다. 하드 코팅 필름 (31)은 기재 필름 (312)와 기재 필름 (312)의 한쪽면에 적층된 하드 코팅층 (311)을 구비하며, 기재 필름 (312)의 다른쪽의 면에 편광 필름 (33)이 적층된다. 화상 표시 장치 (100)에서, 편광판 (3)은, 하드 코팅층 (311)보다도 편광 필름 (33)쪽이 화상 표시 소자 (40)에 가까워지도록 화상 표시 소자 (40)의 시인측에 배치된다. 백라이트 (10)의 광출사면의 수직선이 Z축과 대략 평행하게 되어 있다. 또한, 광 확산판 (50), 편광판 (20), 화상 표시 소자 (40), 편광판 (3)의 광 입사면의 수직선은 Z축과 대략 평행하게 되어 있다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a basic layer structure of the image display device of the present invention. The image display device 100 shown in FIG. 1 includes a backlight 10, a light diffusion plate 50, and a liquid crystal panel 60 in this order. The liquid crystal panel 60 visually recognizes the image display element 40, the polarizing plate 20 arranged on the backlight side of the image display element 40 (the negative direction of the z-axis in FIG. 1), and the image display element 40. The polarizing plate 3 arrange | positioned at the side (plus direction of the z-axis in FIG. 1) is provided. The polarizing plate 3 arrange | positioned at the visual recognition side of the image display element 40 is equipped with the laminated body 32 and the polarizing film 33. As shown in FIG. The laminate 32 includes a hard coat film 31 and an antireflection layer 320. The hard coat film 31 includes a base film 312 and a hard coat layer 311 laminated on one side of the base film 312, and a polarizing film 33 is formed on the other side of the base film 312. Are stacked. In the image display apparatus 100, the polarizing plate 3 is disposed on the visual side of the image display element 40 so that the polarizing film 33 is closer to the image display element 40 than the hard coating layer 311. The vertical line of the light exit surface of the backlight 10 is substantially parallel to the Z axis. In addition, the vertical lines of the light incident surface of the light diffusion plate 50, the polarizing plate 20, the image display element 40, and the polarizing plate 3 are substantially parallel to the Z axis.

본 발명의 화상 표시 장치 (100)의 편광판 (3)에 이용되는 본 발명의 하드 코팅 필름 (31)은 기재 필름 (312)와, 기재 필름 (312)의 한쪽면에 적층된 하드 코팅층 (311)을 구비하며, 하드 코팅층 (311)이 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 형성되고, 하드 코팅층 (311)의 대수 접촉각 θ가 상기 수학식 1을 만족시킨다. 이러한 본 발명의 하드 코팅 필름 (31)은 반사 방지층 (320)을 설치하는 데 적합하다.The hard coat film 31 of this invention used for the polarizing plate 3 of the image display apparatus 100 of this invention is the base film 312 and the hard coat layer 311 laminated | stacked on one side of the base film 312. And the hard coat layer 311 is formed by curing the active energy ray curable resin composition containing the active energy ray curable resin, the polymerization initiator and the surfactant while contacting with the mold, and the logarithmic contact angle θ of the hard coat layer 311 is The above Equation 1 is satisfied. This hard coat film 31 of the present invention is suitable for providing the antireflection layer 320.

또한, 본 발명의 화상 표시 장치는 도 1에 도시되는 구성에 한정되는 것은 아니고, 다양한 변형을 가할 수 있다. 예를 들면, 하드 코팅 필름 (31)과 편광 필름 (33)을 갖고, 반사 방지층 (320)을 갖지 않는 편광판 (30)을 편광판 (3) 대신에 사용할 수도 있다. 또한, 화상 표시 소자 (40)의 백라이트측에 배치되는 편광판 (20)이 본 발명의 하드 코팅 필름 (31)을 구비하는 편광판 (3) 또는 (30)일 수도 있고, 그 경우 편광판 (3) 또는 (30)을 화상 표시 소자 (40)의 시인측과 백라이트측 양쪽에 배치할 수도 있고, 백라이트측 한쪽에만 배치할 수도 있다. 백라이트측에 편광판 (3) 또는 (30)을 배치하는 경우, 하드 코팅층 (311)이 편광 필름 (33)에 대하여 백라이트측이 되도록, 즉 하드 코팅층 (311)보다도 편광 필름 (33)쪽이 화상 표시 소자 (40)에 가까워지도록 편광판 (3) 또는 (30)을 배치하는 것이 바람직하다. 또한, 광 확산판 (50)이나 백라이트 (10)은 반드시 필요한 것은 아니고 생략될 수도 있다.In addition, the image display apparatus of this invention is not limited to the structure shown in FIG. 1, A various deformation | transformation can be added. For example, a polarizing plate 30 having a hard coating film 31 and a polarizing film 33 and not having an antireflection layer 320 may be used in place of the polarizing plate 3. Moreover, the polarizing plate 20 arrange | positioned at the backlight side of the image display element 40 may be the polarizing plate 3 or 30 provided with the hard coat film 31 of this invention, In that case, the polarizing plate 3 or The 30 may be disposed on both the viewing side and the backlight side of the image display element 40, or may be disposed only on one side of the backlight side. In the case where the polarizing plate 3 or 30 is disposed on the backlight side, the polarizing film 33 is displayed on the polarizing film 33 rather than the hard coating layer 311 so that the hard coating layer 311 is on the backlight side with respect to the polarizing film 33. It is preferable to arrange the polarizing plate 3 or 30 so as to be close to the element 40. In addition, the light diffusion plate 50 and the backlight 10 are not necessarily required and may be omitted.

이하, 실시예를 기술하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다.EXAMPLES Hereinafter, although an Example is described and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited by these examples.

[하드 코팅 필름의 대수 접촉각의 측정][Measurement of Logarithmic Contact Angle of Hard Coating Film]

후술하는 하드 코팅 필름에 대해서 교와 가이멘 가가꾸 가부시끼가이샤 제조, 접촉각계, CA-X형을 사용하여 대수 접촉각을 측정하였다.About the hard coat film mentioned later, the logarithmic contact angle was measured using the Kyowa Kaimen Chemical Co., Ltd. make, contact angle meter, and CA-X type.

[실시예 1]Example 1

활성 에너지선 경화성 수지 조성물로서 이하의 자외선 경화성 수지 조성물을 사용하였다.The following ultraviolet curable resin composition was used as an active energy ray curable resin composition.

자외선 경화성 수지: 상품명 「NK 하드 KCR2803-50 A」Ultraviolet curable resin: Brand name "NK hardware KCR2803-50A"

(신나카무라 가가꾸(주) 제조의 우레탄아크릴레이트계 수지, 수지 고형분 농도: 60 중량%, 희석 용제: 아세트산에틸, 중합 개시제: TPO(화학명: 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드)를 자외선 경화성 수지 조성물의 수지 고형분에 대하여 5.0 중량% 함유.)(The urethane acrylate resin, the resin solid content concentration: 60 weight%, dilution solvent: ethyl acetate, a polymerization initiator: TPO (chemical name: 2,4, 6- trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide) by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. make) ) Is contained 5.0 wt% with respect to the resin solid content of the ultraviolet curable resin composition.)

·계면활성제: 상품명 「메가팩 F-477」Surfactant: Trade name "Megapack F-477"

(퍼플루오로알킬기, 친수성기, 친유성기 함유 올리고머, 자외선 경화성 수지 조성물의 수지 고형분에 대하여 0.5 중량%이 되도록 첨가.)(Added so that it may become 0.5 weight% with respect to the resin solid content of a perfluoroalkyl group, a hydrophilic group, a lipophilic group containing oligomer, and an ultraviolet curable resin composition.)

두께 80 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(상품명 「TDY80UL」, 후지 필름(주) 제조) 상에, 다이코터로 건조한 후의 막 두께가 5 ㎛가 되도록 도포하고, 60℃로 설정한 건조기 중에서 20초간 건조시켰다. 이어서, 얻어진 TAC 필름과 자외선 경화성 수지 조성물의 도공층과의 적층체를 표면 온도를 54℃로 제어한 엠보싱 롤에, 도공층이 엠보싱 롤측이 되도록 닙 롤로 압박하여 밀착시켰다. 이 상태에서, TAC 필름측으로부터, 자외선 조사 장치로서 오크사 제조의 UV 조사 장치와, 광원으로서 메탈할라이드 램프를 이용하여, UVA의 적산 광량이 200 mJ/㎠가 되도록 자외선을 1회 조사하여, 도공층을 경화시켜 하드 코팅층을 형성하였다.On a 80-micrometer-thick triacetyl cellulose (TAC) film (trade name "TDY80UL", manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), the film after drying with a die coater was applied so as to have a thickness of 5 µm, and 20 in a dryer set at 60 ° C. Dried for seconds. Next, the laminated body of the obtained TAC film and the coating layer of an ultraviolet curable resin composition was pressed to the embossing roll which controlled the surface temperature to 54 degreeC with the nip roll so that a coating layer might become the embossing roll side, and it adhered closely. In this state, an ultraviolet-ray is irradiated once from the TAC film side using an oak-made UV irradiation apparatus as an ultraviolet irradiation apparatus, and a metal halide lamp as a light source so that accumulated light quantity of UVA may be 200 mJ / cm <2>, and coating The layer was cured to form a hard coat layer.

다음으로, TAC 필름을 하드 코팅층째 엠보싱 롤로부터 박리한 후, 적층체에 대하여, 하드 코팅층측으로부터 자외선 조사 장치로서 오크사 제조의 UV 조사 장치와, 광원으로서 고압 수은 램프를 이용하여, UVA의 적산 광량이 500 mJ/㎠가 되도록 자외선을 1회 조사하여 하드 코팅 필름을 제조하였다. 상기 필름에 있어서의 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ를 표 1에 기재한다.Next, after peeling a TAC film from the embossing roll of a hard-coat layer, it accumulates UVA with respect to a laminated body using the UV irradiation apparatus by Oak Corporation as an ultraviolet irradiation apparatus, and a high pressure mercury lamp as a light source from a hard-coat layer side. Ultraviolet rays were irradiated once so that the light amount was 500 mJ / cm 2, thereby preparing a hard coat film. Table 1 shows the logarithmic contact angle θ of the hard coat layer in the film.

[실시예 2, 3 및 비교예 1][Examples 2 and 3 and Comparative Example 1]

엠보싱 롤의 표면 온도를 표 1과 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 하드 코팅 필름을 제조하였다. 이들 필름에 있어서의 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ를 표 1에 기재한다.A hard coat film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface temperature of the embossing roll was changed as shown in Table 1. Table 1 shows the logarithmic contact angle θ of the hard coat layer in these films.

[반사 방지층]Antireflection layer

반사 방지층으로서 이하의 자외선 경화성 수지 조성물을 사용하였다.The following ultraviolet curable resin composition was used as an antireflection layer.

자외선 경화성 수지 조성물: 상품명 「오프스타 TU2276」Ultraviolet curable resin composition: Brand name "Offstar TU2276"

(JSR 가부시끼가이샤 제조, 상기 자외선 경화성 수지 조성물을 불휘발 성분이 3%가 되도록 메틸이소부틸케톤으로 희석하여 사용)(JSR Co., Ltd. make and use the above-mentioned ultraviolet curable resin composition by diluting with methyl isobutyl ketone so that a non-volatile component may be 3%)

실시예 및 비교예에서 제조한 하드 코팅 필름에, #4 메이어 바를 사용하여 반사 방지층이 될 자외선 경화성 수지 조성물을 도포하고, 80℃로 설정한 건조로 중에서 1분간 건조시켰다. 이어서, 얻어진 하드 코팅 필름과 반사 방지층의 적층체에 대하여, 반사 방지층측으로부터 자외선 조사 장치로서 Fusion사 제조의 UV 조사 장치와, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하여, UVA의 적산 광량이 400 mJ/cm2가 되도록 자외선을 1회 조사하여, 도공층을 경화시켜 하드코팅층을 형성하였다. 얻어진 반사 방지층 적층 필름을 눈으로 관측하여, 불균일이 약한 것을 ○, 불균일이 강한 것을 ×로 하였다.The ultraviolet curable resin composition which becomes an antireflection layer was apply | coated to the hard coat film manufactured by the Example and the comparative example, and it dried for 1 minute in the drying furnace set to 80 degreeC. Subsequently, with respect to the laminate of the obtained hard coat film and the antireflection layer, the accumulated light amount of UVA was 400 mJ / cm from the antireflection layer side using a UV irradiation device manufactured by Fusion as an ultraviolet irradiation device and a high pressure mercury lamp as the light source. Ultraviolet rays were irradiated once so as to be 2 , and the coating layer was cured to form a hard coat layer. Observing the obtained antireflection layer laminated | multilayer film visually, the thing with a weak nonuniformity and the thing with strong nonuniformity were made into x.

[기준 샘플 1][Reference sample 1]

실시예 1의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로부터 계면활성제를 제외하고, 또한 그 수지 조성물을 엠보싱 롤과 접촉시키지 않고서 실온(25℃), 공기 분위기 하에서 경화한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 하드 코팅 필름을 제조하였다. 상기 필름에 있어서의 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ1을 표 1에 기재한다.Except the surfactant from the active energy ray-curable resin composition of Example 1, and the resin composition was hard-coated in the same manner as in Example 1 except that the resin composition was cured under room temperature (25 ° C) and in an air atmosphere without contacting the embossing roll. A film was prepared. Table 1 shows the logarithmic contact angle θ 1 of the hard coat layer in the film.

[기준 샘플 2][Criteria sample 2]

엠보싱 롤과 접촉시키지 않고서 실온(25℃), 공기 분위기 하에서 경화한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 하드 코팅 필름을 제조하였다. 상기 필름에 있어서의 하드 코팅층의 대수 접촉각 θ0를 표 1에 기재한다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1, except that the resin was cured in a room temperature (25 ° C.) and air atmosphere without being brought into contact with the embossing roll. Table 1 shows the logarithmic contact angle θ 0 of the hard coat layer in the film.

Figure pat00004
Figure pat00004

본 발명의 하드 코팅 필름은 상기 수학식 1을 만족시키기 때문에, 반사 방지층을 형성하기 위한 도공액의 액 흘러내림이나, 도공층의 불균일, 밀착성의 저하를 억제할 수 있다.Since the hard coat film of this invention satisfy | fills said Formula (1), the liquid dripping of the coating liquid for forming an antireflection layer, the nonuniformity of a coating layer, and the fall of adhesiveness can be suppressed.

10: 백라이트
3, 20, 30: 편광판
31: 하드 코팅 필름
32: 적층체
311: 하드 코팅층
312: 기재 필름
320: 반사 방지층
33: 편광 필름
40: 화상 표시 소자
50: 광 확산판
60: 액정 패널
100: 액정 표시 장치
10: backlight
3, 20, 30: polarizer
31: hard coated film
32: laminate
311: hard coating layer
312: base film
320: antireflection layer
33: polarizing film
40: image display element
50: light diffuser plate
60: liquid crystal panel
100: liquid crystal display

Claims (11)

기재 필름과, 상기 기재 필름의 한쪽면에 적층된 하드 코팅층을 구비하며, 상기 하드 코팅층의 표면에 반사 방지층을 설치하기 위한 하드 코팅 필름으로서,
상기 하드 코팅층이 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키면서 경화시킴으로써 형성되고,
상기 하드 코팅층의 대수(對水) 접촉각 θ가 하기 수학식 1을 만족시키는 하드 코팅 필름.
<수학식 1>
Figure pat00005

(식 중, θ1은 기재 필름의 한쪽면에, 계면활성제를 포함하지 않는 것 이외에는 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과 동일 조성의 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각을 나타냄)
A hard coating film comprising a base film and a hard coating layer laminated on one side of the base film, and for providing an antireflection layer on the surface of the hard coating layer,
The hard coating layer is formed by curing an active energy ray curable resin composition containing an active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and a surfactant while contacting with a mold,
A hard coat film in which the logarithmic contact angle θ of the hard coat layer satisfies the following formula (1).
<Equation 1>
Figure pat00005

(Wherein θ 1 is a hard surface formed by curing in a gas at 25 ° C. without contacting the mold with a composition having the same composition as the active energy ray-curable resin composition, except that one surface of the base film does not contain a surfactant) Logarithmic contact angle of the coating layer)
제1항에 있어서, 상기 대수 접촉각 θ가 하기 수학식 2를 더 만족시키는 하드 코팅 필름.
<수학식 2>
Figure pat00006

(식 중, θ0는 기재 필름의 한쪽면에 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 주형과 접촉시키지 않고서 25℃의 기체 중에서 경화시켜 형성한 하드 코팅층의 대수 접촉각을 나타냄)
The hard coat film of claim 1, wherein the logarithmic contact angle θ satisfies Equation 2 below.
&Quot; (2) &quot;
Figure pat00006

(Wherein θ 0 represents the logarithmic contact angle of the hard coat layer formed by curing the active energy ray-curable resin composition on a surface of the base film in a gas at 25 ° C. without contacting the mold)
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 계면활성제가 불소계 계면활성제 및/또는 실리콘계 계면활성제인 하드 코팅 필름. The hard coat film of claim 1, wherein the surfactant is a fluorine-based surfactant and / or a silicone-based surfactant. 기재 필름의 한쪽면에 활성 에너지선 경화성 수지, 중합 개시제 및 계면활성제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공하는 공정과,
도공한 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 50℃ 이상의 주형을 접촉시키면서 활성 에너지선을 조사하여 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시켜 하드 코팅층을 형성하는 공정과,
상기 하드 코팅층을 상기 주형으로부터 박리하는 공정을 포함하는 하드 코팅 필름의 제조 방법.
A step of coating an active energy ray curable resin composition containing an active energy ray curable resin, a polymerization initiator, and a surfactant on one side of the base film;
Irradiating active energy rays while contacting the coated active energy ray curable resin composition with a mold having a temperature of 50 ° C. or higher to cure the active energy ray curable resin composition to form a hard coating layer;
A method for producing a hard coat film comprising the step of peeling the hard coat layer from the mold.
제4항에 있어서, 상기 주형이 경면(鏡面) 롤 또는 엠보싱 롤인 방법. The method according to claim 4, wherein the mold is a mirror roll or an embossing roll. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 하드 코팅층의 표면에 적층된 반사 방지층을 구비하는 적층체. The laminated body provided with the hard coat film as described in any one of Claims 1-3, and the reflection prevention layer laminated | stacked on the surface of the said hard coat layer of the said hard coat film. 제4항 또는 제5항에 기재된 방법에 의해 제조된 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 하드 코팅층의 표면에 적층된 반사 방지층을 구비하는 적층체. The laminated body provided with the hard coat film manufactured by the method of Claim 4, and the anti-reflective layer laminated | stacked on the surface of the said hard coat layer of the said hard coat film. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 기재 필름의 다른쪽의 면에 적층된 편광 필름을 구비하는 편광판. The polarizing plate provided with the hard coat film as described in any one of Claims 1-3, and the polarizing film laminated | stacked on the other surface of the said base film of the said hard coat film. 제4항 또는 제5항에 기재된 방법에 의해 제조된 하드 코팅 필름과, 상기 하드 코팅 필름의 상기 기재 필름의 다른쪽의 면에 적층된 편광 필름을 구비하는 편광판. The polarizing plate provided with the hard coat film manufactured by the method of Claim 4 or 5, and the polarizing film laminated | stacked on the other surface of the said base film of the said hard coat film. 제6항 또는 제7항에 기재된 적층체와, 상기 적층체의 상기 기재 필름의 다른쪽의 면에 적층된 편광 필름을 구비하는 편광판. The polarizing plate provided with the laminated body of Claim 6 or 7, and the polarizing film laminated | stacked on the other surface of the said base film of the said laminated body. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 편광판과, 화상 표시 소자를 구비하며,
상기 편광판은 상기 하드 코팅층보다도 상기 편광 필름쪽이 상기 화상 표시 소자에 가까워지도록 상기 화상 표시 소자의 시인측에 배치되는 화상 표시 장치.
The polarizing plate of any one of Claims 8-10, and an image display element are provided,
The said polarizing plate is arrange | positioned at the visual recognition side of the said image display element so that the said polarizing film may be closer to the said image display element rather than the said hard coat layer.
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