KR20100114399A - 메탈와이어를 이용한 전도성필름 제조방법 및 전도성필름 - Google Patents

메탈와이어를 이용한 전도성필름 제조방법 및 전도성필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전도성필름 제조방법 및 전도성필름에 관한 것으로, 상기 전도성필름 제조방법은 초음파에 의한 절단 및 산과 화학반응 중 적어도 하나를 통하여 탄소나노튜브를 전처리하는 단계와, 상기 탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계와, 상기 탄소나노튜브 분산액에 메탈와이어를 혼합하는 단계, 및 상기 메탈와이어가 혼합된 분산액을 상기 기판상에 코팅하여 전극층을 형성하는 단계를 포함한다. 이에 의하여 본 발명은 광투과성 및 전기전도도가 우수하면서도 제조가 쉬운 전도성필름을 구현한다.
전도성, 전도성필름, 광투과성, 메탈와이어

Description

메탈와이어를 이용한 전도성필름 제조방법 및 전도성필름{METHOD FOR FABRICATION OF CONDUCTIVE FILM USING METAL WIRE AND CONDUCTIVE FILM}
본 발명은 전도성 및 광투과성을 구비하는 전도성필름의 제조방법 및 상기 제조방법에 의하여 제조되는 전도성필름에 관한 것이다.
전도성필름(Conductive film)은 기능성 광학필름의 일종으로 가정용 기기, 산업용 기기 및 사무용 기기 등에 널리 사용되고 있다.
오늘날, 광투과성을 띠는 투명 전도성필름(Transparent conductive film)은 태양전지 및 각종 디스플레이(PDP, LCD, OLED) 등 투명성과 저항이 낮은 두 가지 목적을 동시에 필요로 하는 소자에 폭 넓게 사용되고 있다. 일반적으로 투명 전도성필름으로 산화인듐주석(Indium Tin Oxide: ITO)이 많이 사용되었으나, 이는 고가일 뿐 아니라, 작은 외부 충격이나 응력에도 부서지기 쉽고, 막을 휘거나 접을 때 기계적인 안정성이 취약하며, 기판과의 열팽창계수 차에 의한 열변형으로 인해 전기적 특성이 변하는 문제점을 나타내고 있다.
따라서, 간단하게 제조할 수 있으며 상기 문제점을 해결할 수 있는 전도성필름의 제조 방법이 고려될 수 있다.
본 발명의 일 목적은 종래와 다른 형태의 전도성필름 제조방법 및 전도성필름을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 일 목적은 내구성이 보다 우수한 전도성필름을 제공하기 위한 것이다.
이와 같은 본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예에 따르는 전도성필름 제조방법은 전처리 단계, 분산 단계, 혼합 단계 및 형성 단계를 포함한다. 전처리 단계는 초음파에 의한 절단 및 산과 화학반응 중 적어도 하나를 통하여 탄소나노튜브를 전처리한다. 분산 단계는 탄소나노튜브를 용매에 분산시킨다. 혼합 단계는 탄소나노튜브 분산액에 메탈와이어를 혼합한다. 형성 단계는 메탈와이어가 혼합된 분산액을 기판상에 코팅하여 전극층을 형성한다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 용매는 디메틸포름아마이드(DMF), 엔-메틸피롤리돈(NMP, N-methyl-2-pyrrolidone), 에틸알콜, 물 및 클로로벤젠 중 적어도 하나가 될 수 있다. 메탈 와이어는 금, 은, 구리 및 백금 중 적어도 하나가 될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 전도성필름 제조방법은 합성 단계를 더 포함한다. 합성 단계는 서로 다른 복수의 물질을 반응시켜서 상기 메탈와이어를 합성한 다. 메탈 와이어의 직경은 1 내지 2000 나노미터가 될 수 있다. 메탈 와이어의 길이는 1 내지 100 마이크로미터가 될 수 있다. 합성 단계는 가열 단계, 첨가 단계 및 생성 단계를 포함할 수 있다. 가열 단계는 에틸렌 글리콜(ethylene glycol) 용액을 가열한다. 첨가 단계는 화학반응을 일으키도록 상기 용액에 반응물을 첨가한다. 생성 단계는 상기 용액을 원심분리하여 메탈와이어를 생성한다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 전도성필름 제조방법은 용매에 전도성 고분자 물질을 첨가하는 단계를 더 포함한다. 전도성 고분자 물질은 페돗(PEDOT, Poly 3,4-ethylenedioxythiophene), 폴리피롤(Polypyrrole) 및 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나가 될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 전도성필름 제조방법은 용매에 이온성 액상 물질을 첨가하는 단계를 더 포함한다. 이온성 액상 물질은 1-butyl-3-methyl imidazolium, 1-hexyl-3-methyl imidazolium 및 1-methyl-3-methyl imidazolium 중 적어도 하나가 될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 전도성필름 제조방법은 기판이 친수성 또는 소수성이 되도록 표면을 화학적으로 처리하는 단계를 더 포함한다.
또한, 본 발명의 다른 일실시예에 따르는 전도성필름 제조방법은 합성 단계, 분산 단계 및 형성 단계를 포함한다. 합성 단계는 복수의 화합물 사이의 화학 반응을 통하여 메탈와이어를 합성한다. 분산 단계는 탄소나노튜브 및 메탈와이어를 용매에 분산시킨다. 형성 단계는 분산액을 광투과성 기판에 코팅하여 기판의 표면에 전극층을 형성한다.
또한 상기한 과제를 실현하기 위하여 본 발명은 전도성필름을 제공한다. 상기 전도성필름은 광투과성 기판과, 전극층 및 메탈와이어를 포함한다. 전극층은 기판의 일면에 탄소나노튜브가 코팅되어 형성된다. 메탈와이어는 전극층에 탄소나노튜브와 혼재되도록 배치된다. 탄소나노튜브는 단층벽(single wall), 이중층벽(double wall) 및 다층(multi wall)벽 나노튜브 중 적어도 하나로 이루어진다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 관련된 전도성필름 제조방법 및 전도성필름은 탄소나노튜브 및 메탈와이어를 혼합함에 따라 보다 간단한 공정으로 전도성필름을 형성할 수 있다. 이를 통하여 균일한 전기 전도도를 가지는 전도성필름이 구현된다.
또한 본 발명의 전도성필름은 메탈와이어를 통하여 광투과성을 유지하면서 저항이 보다 감소될 수 있다. 또한 이를 통하여 내구성이 보다 우수한 전도성필름이 제공된다.
이하, 본 발명에 관련된 전도성필름 제조방법 및 전도성필름에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일·유사한 구성에 대해서는 동일·유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다. 본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
도 1은 본 발명과 관련한 전도성필름의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.
본 도면을 참조하면, 전도성필름(100)은 기판(110), 탄소나노튜브(CNT, Carbon nanotube, 121) 및 메탈와이어(metal wire, 122)을 포함한다.
기판(110)은 광투과성 재질로 형성되며, 기판의 일면에는 탄소나노튜브(121) 및 메탈와이어(122)가 혼재되어 전극층(120)을 형성한다.
메탈와이어(122)는 와이어 형태로 형성되어 전도성필름(100)의 광투과의 정도(이하 '투명도'라 칭한다)를 유지하고, 전극층(120)의 전기전도도를 향상시켜 준다.
도 2는 본 발명과 관련한 전도성필름 제조방법의 일 실시예를 나타내는 흐름도이고, 도 3은 전도성필름에 혼합되는 메탈 와이어의 합성방법을 나타내는 흐름도이다.
먼저, 전도성필름의 일 구성요소인 탄소나노튜브의 용매 친화도를 향상시키도록 전처리한다(S100). 전처리 단계(S100)는 초음파에 의한 절단(S110) 및 산과 화학반응(S120) 중 적어도 하나를 통하여 탄소나노튜브를 처리한다.
탄소나노튜브는 절단 단계(S110)에 의하여 절단 처리되는 제1 그룹 및 화학반응 단계(S120)에 의하여 친수성 처리되는 제2 그룹 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 그룹은 서로 다른 그룹이 될 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 그룹을 화학 반응을 통하여 친수성 처리하거나, 제2 그룹을 초음파를 통하여 절단할 수도 있다.
탄소나노튜브의 초음파 처리를 예를 들어 설명한다. 1mg/1ml의 부피비로 약 400mg의 탄소나노튜브를 약 400ml의 디메틸 포름아마이드(DMF) 용액에 분산시킨다.
상기 분산액에 초음파기기로 초음파를 가해준다. 초음파기기는 뿔형 초음파기기이고, 출력은 약 330W가 될 수 잇다. 절단된 탄소나노튜브는 약 8000rpm의 속도로 약 20분간 원심분리를 한다. 마지막으로, 분산액을 건조기에서 건조시킨다. 구체적으로, 유기용매 동결건조기에서 디메틸포름아마이드를 증발시켜서 탄소나노튜브를 회수한다.
상기와 같이, 절단 단계(S110)에서 길이가 짧게 처리된 탄소나노튜브는 분산성이 향상된다.
화학반응 단계(S120)는 탄소나노튜브가 친수성이 되도록 산과 화학반응시킨다. 화학반응 단계(S120)는 표면이 친수성인 산처리 탄소나노튜브의 준비하는 단계가 될 수 있다.
화학반응 단계(S120)를, 예를 들어 설명한다. 약 400mg의 탄소나노튜브를 황산(H2SO4)과 질산(H2O2)을 3:1의 비율로 혼합된 용액에 담근다. 약 1시간 산처리를 거친 탄소나노튜브를 물로 중화시킨다.
중화가 된 용액을 인공 불소 중합체(PTFE, polytetrafluoroethylene) 멤브레인에 필터링 시킨 후 PH7까지 다시 중화시킨다. 멤브레인 필터 페이퍼 위에 남은 탄소나노튜브를 수거하여 동결건조기에 건조시킨다
산처리를 거친 탄소나노튜브들은 말단과 옆면의 적어도 일부에 -COOH의 화학적 작용기를 가지게 된다. 상기 화학적 작용기를 이용하여 탄소나노튜브의 용매에 대한 분산성이 향상된다.
전도성필름 제조방법은 메탈와이어를 합성하는 단계(S200)를 포함할 수 있다. 합성 단계(S200)는 서로 다른 복수의 물질을 반응시켜서 메탈와이어를 합성한다. 이하, 도 3을 참조하여, 합성 단계(S200)에 대하여 설명한다.
메탈 와이어는 금, 은, 구리 및 백금 중 적어도 하나가 될 수 있다. 메탈 와이어는 직경이 1 내지 2000 나노미터가 되도록 합성될 수 있다. 메탈 와이어의 길이가 1 내지 100 마이크로미터가 되도록 합성될 수 있다.
합성 단계(S200)는 복수의 화합물 사이의 화학 반응을 통하여 메탈와이어를 합성한다.
메탈와이어를 합성하기 위하여, 먼저 에틸렌 글리콜(ethylene glycol, EG) 용액을 가열한다(S210). 예를 들면, 약 5ml의 에틸렌 글리콜 용액을 플라스크에 채운 후에 약 30분 동안 약 180℃에서 열처리시킨다.
다음은, 화학반응을 일으키도록 상기 용액에 반응물을 첨가한다(S220). 예를 들면, 상기 용액에 1M의 AgNO3가 포함되어 있는 에틸렌 글리콜을 약 10초의 빠른 시간 안에 투입하고, 폴리비닐피롤리돈(Poly vinyl pyrrolidone)과 황화나트륨(Na2S)가 첨가된 에틸렌 글리콜을 약 5분동안 주입한다. 상기 반응물들이 첨가된 용액을 약 20분 동안 아르곤 분위기 하에 배치하여 화학반응을 유지한다.
상기 용액을 원심분리하여 메탈와이어를 생성한다(S230). 예를 들면, 상기 용액을 아세톤으로 세척하고, 원심분리기에서 약 4000rpm의 속도로 약 30분 동안 원심분리를 한다. 그 다음 에틸렌 글리콜을 포함하는 상층액을 제거하고 메탈와이 어 파우더를 수거한다.
다시 도 2를 참조하면, 전도성필름 제조방법은 분산 단계(S300) 및 혼합 단계(S400)를 포함한다. 분산 단계(S300)는 탄소나노튜브를 용매에 분산시키고, 혼합 단계(S400)는 상기 탄소나노튜브 분산액에 메탈와이어를 혼합한다.
용매는 디메틸포름아마이드(DMF), 엔-메틸피롤리돈(NMP, N-methyl-2-pyrrolidone), 에틸알콜, 물 및 클로로벤젠 중 적어도 하나가 될 수 있다.
예를 들면, 전처리된 제1 또는 제2 그룹의 탄소나노튜브를 각각 3mg 정량하여 디메틸포름아마이드(DMF) 용매에 넣고 수조형 초음파기기 등에서 3시간이상 분산시킨다. 합성된 메탈와이어를 탄소나노튜브와 혼합하여 상기 용매에 분산시킨다.
메탈와이어는 탄소나노튜브에 대하여 1 내지 200 퍼센트(%)의 양으로 혼합될 수 있다.다음은 수조형 초음파기기에서 약 1시간 동안 초음파를 가해 메탈와이어 및 탄소나노튜브가 혼합된 분산액을 제조한다.
상기 분산 단계(S300) 및 혼합 단계(S40)는 시간적 순차없이 이루어질 수 있다. 예를 들어, 분산 단계(S300) 및 혼합 단계(S40)는 탄소나노튜브 및 메탈와이어를 먼저 혼합하고, 이를 용매에 분산시키도록 형성될 수 있다.
마지막으로, 메탈와이어가 혼합된 분산액을 기판상에 코팅하여 전극층을 형성한다(S500). 전극층은 기판의 표면에 형성될 수 있으며, 탄소나노튜브와 메탈와이어가 혼재되어 전기전도도를 구비한다.
기판은 광투과성을 구비하고, 유리, 수정(quartz), 합성수지 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.
상기 코팅은, 예를 들어 스핀코팅(spin coating), 화학기상증착, 전기화학 증착, 전기영동 침전(electro deposition), 스퍼터링(sputtering), 스프레이 코팅(spray coating), 담금 코팅 (dip-coating), 진공 여과(vacuum filtration), 에어브뤄싱(airbrushing), 닥터 블레이드(doctor blade) 중 어느 하나에 의하여 이루어질 수 있다.
예를 들면, 전극층은 유리기판 위에 메탈와이어가 혼합된 분산액을 정량으로 떨어뜨린 후 약 1500 rpm의 속도로 약 40초 동안 스핀코팅함에 의하여 형성될 수 있다.
전도성필름 제조방법은 기판이 친수성 또는 소수성이 되도록 표면을 화학적으로 처리하는 단계(S600)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 기판이 친수성이 되도록 기판을 피라나(piranha) 세척한다.
이하, 상기 처리 단계(S600)를 예를 들어 설명한다.
약 1.5 x 1.5 cm2의 크기로 자른 유리기판을 황산(H2SO4)과 과산화수소(H2O2)을 7:3으로 혼합한 용액에 담그고 약 30분 정도 세척한다. 다음은 유리기판을 물로 다시 세척해준다. 마지막으로 유리기판을 약 70℃의 오븐에 건조시킨다. 이를 통하여 유리기판은 친수성이 될 수 있다.
전도성필름 제조방법은 용매에 전도성 고분자 물질을 첨가하는 단계와 용매에 이온성 액상 물질을 첨가하는 단계 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
전도성 고분자 물질은 페돗(PEDOT, Poly 3,4-ethylenedioxythiophene), 폴리피롤(Polypyrrole) 및 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나가 될 수 있다. 전 도성 고분자는 탄소나노튜브의 분산시에 바인더의 역할을 할 수 있다.
이온성 액상 물질은 1-butyl-3-methyl imidazolium, 1-hexyl-3-methyl imidazolium 및 1-methyl-3-methyl imidazolium 중 적어도 하나가 될 수 있다. 이를 통하여 탄소나노튜브 및 메탈와이어의 분산성이 향상될 수 있다.
이하, 상기 전도성필름의 제조방법에 의하여 구현되는 전도성필름에 대하여 도 4 및 도 5를 참조하여 설명한다. 도 4는 도 1의 라인(Ⅳ-Ⅳ)을 따라 취한 부분 단면도이고, 도 5a 및 도 5b는 주사전자현미경을 이용하여 촬영한 도 1의 전도성필름을 나타내는 확대도들이다.
광투과성 기판(110)은 광투과성 재질로 형성된다. 상기 기판의 일면에 탄소나노튜브(121)가 코팅되어 형성되는 전극층(120)이 형성된다. 전극층(120)에는 탄소나노튜브(121)와 혼재되도록 메탈와이어(122)가 배치된다.
탄소나노튜브(121)는 단층벽(single wall), 이중층벽(double wall) 및 다층벽(multi wall) 나노튜브 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다. 다층벽 나노튜브는 얇은 다층벽(thin multiwall) 나노튜브를 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 메탈와이어(122)의 직경은 1 내지 200 나노미터 정도로 탄소나노튜브(121)보다 클 수 있다. 도 5에서 나타낸 메탈와이어는 주사전자현미경 (SEM, scanning electron microscopy)를 통해 분석되었다.
탄소나노튜브(121)의 미소 직경에 의하여 전도성필름(100)은 광투과성을 구비하게 되고, 메탈와이어(122)에 의하여 전도성필름(100)의 투명도는 유지되고, 전기전도도는 향상된다. 또한 탄소나노튜브(121)의 고강도, 고강성 및 화학적 안정 성을 통하여 전도성필름(100)의 내구성이 향상될 수 있다.
도 6a 및 도 6b는 각각 도 2의 전도성필름 제조방법에 의하여 제조된 전도성필름의 면저항 및 투명도 측정결과를 나타내는 그래프들이다.
도 6a는 4단자 저항측정기로 면저항(Surface resistance)을 측정한 그래프이고, 도 6b는 UV로 투명도(Transmittance)를 측정한 그래프이다. SWNT/PEDOT은 메탈와이어를 혼합하지 않은 경우이고, SWNT/PEDOT/Meta wire는 메타와이어를 혼합한 경우를 나타낸다. 메탈와이어가 첨가된 전도성필름은 적은 횟수의 코팅만으로도 낮은 면저항을 나타내며, 와이어의 형상을 가진 메탈이기 때문에 투명도에도 영향을 거의 미치지 않음을 알 수 있다.
상기와 같은 본 발명에 관련된 전도성필름 제조방법 및 전도성필름은 위에서 설명된 실시예들의 구성과 방법에 한정되는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.
도 1은 본 발명과 관련한 전도성필름의 일 실시예를 나타내는 개념도.
도 2는 본 발명과 관련한 전도성필름 제조방법의 일 실시예를 나타내는 흐름도.
도 3은 전도성필름에 혼합되는 메탈 와이어의 합성방법을 나타내는 흐름도.
도 4는 도 1의 라인(Ⅳ-Ⅳ)을 따라 취한 부분 단면도.
도 5a 및 도 5b는 주사전자현미경을 이용하여 촬영한 도 1의 전도성필름을 나타내는 확대도들.
도 6a 및 도 6b는 각각 도 2의 전도성필름 제조방법에 의하여 제조된 전도성필름의 면저항 및 투명도 측정결과를 나타내는 그래프들.

Claims (18)

  1. 초음파에 의한 절단 및 산과 화학반응 중 적어도 하나를 통하여 탄소나노튜브를 전처리하는 단계;
    상기 탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계;
    상기 탄소나노튜브 분산액에 메탈와이어를 혼합하는 단계; 및
    상기 메탈와이어가 혼합된 분산액을 기판상에 코팅하여 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 전도성필름 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브는,
    상기 초음파에 의한 절단에 의하여 처리되는 제1 그룹; 및
    상기 산과 화학반응에 의하여 친수성 처리되는 제2 그룹 중 적어도 하나를 포함하는 전도성필름 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 용매는 디메틸포름아마이드(DMF), 엔-메틸피롤리돈(NMP, N-methyl-2-pyrrolidone), 에틸알콜, 물 및 클로로벤젠 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    서로 다른 복수의 물질을 반응시켜서 상기 메탈와이어를 합성하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 합성 단계는,
    에틸렌 글리콜(ethylene glycol) 용액을 가열하는 단계;
    화학반응을 일으키도록 상기 용액에 반응물을 첨가하는 단계; 및
    상기 용액을 원심분리하여 상기 메탈와이어를 생성하는 단계를 포함하는 전도성필름 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 메탈 와이어의 직경은 1 내지 2000 나노미터인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 메탈 와이어의 길이는 1 내지 100 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 메탈 와이어는 금, 은, 구리 및 백금 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 용매에 전도성 고분자 물질을 첨가하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 전도성 고분자 물질은 페돗(PEDOT, Poly 3,4-ethylenedioxythiophene), 폴리피롤(Polypyrrole) 및 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 용매에 이온성 액상 물질을 첨가하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 이온성 액상 물질은 1-butyl-3-methyl imidazolium, 1-hexyl-3-methyl imidazolium 및 1-methyl-3-methyl imidazolium 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 기판이 친수성 또는 소수성이 되도록 표면을 화학적으로 처리하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법.
  14. 광투과성 기판;
    상기 기판의 일면에 탄소나노튜브가 코팅되어 형성되는 전극층; 및
    상기 전극층에 상기 탄소나노튜브와 혼재되도록 배치되는 메탈와이어를 포함하는 전도성필름.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브는 단층벽(single wall), 이중층벽(double wall) 및 다층벽(multi wall) 나노튜브 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성필름.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 메탈 와이어의 직경은 1 내지 200 나노미터인 것을 특징으로 하는 전도성필름.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 메탈 와이어의 길이는 1 내지 100 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 전도성필름.
  18. 복수의 화합물 사이의 화학 반응을 통하여 메탈와이어를 합성하는 단계
    탄소나노튜브 및 상기 메탈와이어를 용매에 분산시키는 단계; 및
    상기 분산액을 광투과성 기판에 코팅하여 상기 기판의 표면에 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 전도성필름 제조방법.
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