KR20100041466A - A cleaning device, a cleaning system and a cleaning method for removing foreign materials in a nozzle device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정장치, 세정시스템 및 세정방법에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 노즐장치의 토출부에 부착되는 미세 이물(fine foreign materials), 잔류 잉크, 또는 잔류 도액(이하에서는 미세 이물, 잔류 잉크 및 잔류 도액을 통칭하여 "이물"이라 합니다)을 세정 롤러 및 세정액을 사용하여 1차로 세정하고, 세정 롤러에 잔류하는 이물을 복수개의 누름장치를 사용하여 2차로 제거함으로써 세정력이 현저하게 향상될 수 있는 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정장치, 세정시스템 및 세정방법에 관한 것이다. The present invention relates to a cleaning device, a cleaning system, and a cleaning method for removing foreign matter from the nozzle device. More specifically, the present invention relates to fine foreign materials, residual ink, or residual coating liquid adhering to the discharge portion of the nozzle apparatus (hereinafter, referred to as "foreign substances" collectively referred to as "fine foreign materials, residual ink, and residual coating liquid"). Cleaning device for first cleaning using a cleaning roller and a cleaning liquid, and removing foreign materials remaining in the cleaning roller by using a plurality of pressing devices in a second manner to remove foreign matters from the nozzle device, which can significantly improve cleaning power. The present invention relates to a cleaning system and a cleaning method.
일반적으로, 전자회로부품, 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 또는 액정 디스플레이 패널(LCD)과 같은 평판 디스플레이(Flat Panel Display: FPD)를 제조하기 위해서는, 예를 들어, 포토레지스트(photoresist: PR)액 또는 구리(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al) 등과 같은 금속 페이스트(paste)를 사용하여 글래스 표면 또는 인쇄회로기판(printed circuit board: PCB) 등과 같은 작업물(work piece) 상에 전극(electrodes) 또는 도트(dots) 등과 같은 일정한 패턴(patterns)을 형성하여야 한다.Generally, in order to manufacture an electronic circuit component or a flat panel display (FPD) such as a plasma display panel (PDP) or a liquid crystal display panel (LCD), for example, a photoresist (PR) liquid or Electrodes on a glass surface or on a work piece such as a printed circuit board (PCB) using metal pastes such as copper (Cu), silver (Ag), aluminum (Al), etc. ) Or patterns such as dots.
상술한 일정한 패턴을 형성하기 위한 방법으로는 예를 들어 잉크 액적을 분출하는 평면 노즐을 구비한 잉크젯 헤드를 사용하여 작업물 상에 일정한 패턴을 직접 패턴닝하는 방식이 사용되고 있다. 또한 상술한 일정한 패턴을 형성하기 위한 또 다른 방법으로는 예를 들어 작업물 상에 도액을 도포하기 위한 노즐 디스펜서(nozzle dispenser) 또는 슬릿 다이(또는 슬릿 노즐)를 구비한 코팅 장치를 이용하여 작업물 상에 도액을 일정한 패턴으로 형성하는 방식이 사용되고 있다. 이하에서는, 필요한 경우, 평면 노즐, 노즐 디스펜서 및 슬릿 다이를 통칭하여 "노즐장치"로 지칭될 수 있다.As a method for forming the above-described constant pattern, for example, a method of directly patterning a constant pattern on a workpiece using an inkjet head having a plane nozzle for ejecting ink droplets is used. In addition, another method for forming the above-described constant pattern includes a workpiece using, for example, a coating device having a nozzle dispenser or a slit die (or a slit nozzle) for applying a coating liquid onto the workpiece. The method of forming a coating liquid in a constant pattern on the image is used. In the following, if necessary, the flat nozzle, the nozzle dispenser and the slit die may be collectively referred to as a "nozzle apparatus".
도 1a는 종래 기술에 따른 잉크젯 프린팅 장치에 사용되는 평면 노즐의 사시도가 개략적으로 도시되어 있다.1A is a schematic perspective view of a planar nozzle used in an inkjet printing apparatus according to the prior art.
도 1a를 참조하면, 종래 기술에 따른 잉크젯 프린팅 장치에는 복수의 잉크젯 헤드(120)가 사용되며, 복수의 잉크젯 헤드(120)는 각각 복수의 토출구를 구비한 노즐 형태로 구현될 수 있다. 특히, 각각의 잉크젯 헤드(120)로서 복수의 잉크 토출구를 구비한 노즐 부재가 평면 타입인 평면 노즐이 현재 개발되어 시험적으로 사용되고 있다.Referring to FIG. 1A, a plurality of
다시 도 1a를 참조하면, 종래 기술에 따른 평면 노즐(120)은 몸체부(122), 및 복수의 잉크 토출구(126)를 구비한 노즐부재(124)로 구성된다. 평면 노즐(120)은 갠트리(130)에 장착되어 사용된다. 도 1a에 도시된 종래 기술에서는, 평면 노 즐(120)이 갠트리(130)의 하부에 장착되는 것으로 예시적으로 도시되어 있지만, 당업자라면 평면 노즐(120)이 갠트리(130)의 측면에 장착되어 사용될 수도 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 또한, 도 1a에서는 복수의 잉크 토출구(126)가 하나만 도시되어 있지만, 당업자라면 이러한 잉크 토출구(126)가 노즐부재(124)의 길이 방향을 따라 복수개 형성되어 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다.Referring back to FIG. 1A, the
상술한 평면 노즐(120)에 사용되는 잉크는 통상적으로 다양한 종류의 포토레지스트(PR)액 또는 금속 페이스트(paste)(이하에서는 통칭하여 "잉크"라 합니다)이다. 또한, 평면 노즐(120)의 복수의 잉크 토출구(126)는 각각 대략 50 내지 100㎛의 좁은 직경을 구비한다. 따라서, 평면 노즐(120) 내에서 잉크가 지속적으로 공급되어 사용되는 경우 또는 휴지시간으로 인하여 간헐적으로 사용되는 경우, 잉크 내에 함유된 솔벤트(solvent)가 휘발되어 잔류 잉크(128)가 잉크 토출구(126)의 단부(edge)에서 고화(solidify) 또는 경화(cure)되어 잉크 토출구(126)의 사이즈가 변형될 수 있다. 또한, 잉크 토출구(126)에 먼지 등과 같은 미세 이물(fine foreign materials)(128)이 달라붙는 경우에도 잉크 토출구(126)의 사이즈가 변형될 수 있다. 이 경우, 잉크 토출구(126)로부터 균일한 사이즈의 잉크 액적이 형성되기 어렵거나, 일정한 점도를 유지하기 어렵다는 문제가 발생한다. 특히, 평면 노즐(120)에서는 잉크의 사용 중단 후에 다시 사용을 재개하는 경우, 잉크가 완전히 고화 또는 경화되어 잔류 잉크 및 미세 이물(128)이 잉크 토출구(126)를 완전히 막아서 잉크의 배출이 불가능해져 평면 노즐(120)이 고장나거나 수리하여야 하는 문제가 발생한다.The ink used for the above-mentioned
도 1b는 종래 기술에 따른 노즐장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.Figure 1b is a perspective view schematically showing a nozzle apparatus according to the prior art.
도 1b를 참조하면, 종래 기술에 따른 노즐장치(120)는 제 1 립(122), 및 제 1 립(122)과 대향하여 제공되는 제 2 립(124); 상기 제 1 립(122)과 상기 제 2 립(124) 사이에 제공되며, 도액을 저장하는 챔버(128); 및 상기 챔버(128)에 저장된 도액을 토출하는 복수의 도액 토출구(126) 또는 슬릿(126)(이하에서는 복수의 도액 토출구(126) 또는 슬릿(126)을 통칭하여 "노즐부(126)"라 합니다)을 포함한다. 제 1 립(122) 및/또는 제 2 립(124)의 상부 또는 일측면에는 도액 공급 장치(미도시)로부터 도액이 유입되는 도액 공급구(미도시)가 제공된다.Referring to FIG. 1B, the
도 1c는 도 1b에 도시된 종래 기술에 따른 노즐장치의 노즐부 및 이에 부착된 이물을 상세히 도시한 사시도이다.Figure 1c is a perspective view showing in detail the nozzle portion and the foreign matter attached thereto of the nozzle device according to the prior art shown in Figure 1b.
상술한 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 노즐장치(120)는 도액을 공급한 후, 노즐부(126)(도 1c에는 복수의 노즐 구멍(126)이 도시됨)에 이물(128)이 남게 된다. 이러한 이물(128)을 제거하지 않은 상태로 후속적으로 도액을 공급하는 경우, 이물(128)에 의해 일정한 양의 도액 공급이 어렵게 되거나, 도액이 잔류 도액 방향을 따라 흐르게 되어 원하는 위치에 도액의 공급이 이루어지지 않거나, 또는 심한 경우 노즐부(126)가 막혀 도액 공급이 불가능하게 되는 등의 문제가 발생할 수 있다.Referring to FIGS. 1B and 1C, the
상술한 도 1a 내지 도 1c에 도시된 바와 같은 종래 기술에서는, 평면 노즐(120)의 복수의 잉크 토출구(126) 또는 노즐장치(120)의 노즐부(126)(이하에서는 복수의 잉크 토출구(126) 및 노즐부(126)를 통칭하여 "토출부(126)"라 합니다)의 이물(128)을 세정하기 위해 다양한 세정 방식이 사용되고 있다.1A to 1C described above, the plurality of
하나의 세정 방식은 노즐장치(120)의 토출부(126)를 사용자가 수동방식으로(manually) 세정하는 방식이다. 이러한 수동 세정 방식을 사용하면, 미세한 사이즈를 구비한 토출부(126)에 부착된 이물(128)이 충분히 세정되지 못한다는 단점이 있다. One cleaning method is a method in which a user manually cleans the
또 다른 세정 방식은 도 1d에 도시된 바와 같이 세정롤러를 이용한 세정장를 사용하는 세정하는 것이다. 이러한 세정 방식은 2003년 12월 3일자로 "노즐 세정장치"라는 발명의 명칭으로 대한민국 특허출원 제 10-2003-0088618호(출원인: 엘지.필립스 엘시디 주식회사)로 출원되고, 2005년 6월 13일자로 공개번호 제 10-2005-0055410호(이하 "공개 특허 '410호"라 합니다)에 상세히 기술되어 있다.Another cleaning method is to clean using a cleaning field using a cleaning roller as shown in FIG. 1D. This cleaning method was filed in the Korean Patent Application No. 10-2003-0088618 (Applicant: LG Philips LCD Co., Ltd.) on December 3, 2003, entitled "Nozzle Cleaning Device", and issued on June 13, 2005. As disclosed in Korean Patent Publication No. 10-2005-0055410 (hereinafter referred to as "public patent '410").
도 1d를 참조하면, 종래 기술에 따른 노즐 세정장치는 스핀리스 코팅기(152)의 노즐(154)을 세정하는 세정롤러(162); 세정롤러(162)을 세정하기 위한 세정액(164a)이 담긴 포트(166); 스핀리스 노즐(154)이 삽입되도록 개구부를 가지며 포트(166)을 덮도록 설치되는 덮개부(167); 포트(166)에 세정액(164a)을 공급하기 위한 세정액 공급노즐(168); 세정롤러(162)을 세정하기 위한 브러쉬(180); 세정롤러(162) 상의 세정액(164)을 건조시키기 위한 건조부(170); 및 오염된 세정액(164a)을 외부로 배출시키기 위한 배출부(190)를 구비한다. 세정롤러(162)는 스핀리스 노즐(154)과 직접 접촉하여 스핀리스 노즐(154)에 잔존하는 포토레지스트(156)를 제거한다. 이를 위해 세정롤러(162)는 화살표 방향으로 회전하면서 스핀리스 노즐(154)로부터 분사되는 포토레지스트(156)를 화살표 방향으로 흐르게 한다. 이 때, 세정롤러(162)는 회전중심이 세정액(164a)의 수면 아래에 위치하며 세 정액(164a) 속에 대략 2/3 정도 잠겨있게 된다. 포트(166)는 스핀리스 노즐(154)에서 제거된 오염물질에 의해 오염된 세정롤러(162)를 세정하기 위한 세정액(164a)이 담겨 있다. 덮개부(167)는 포트(166) 내에 담긴 세정액(164a)이 증발할 때 그 증발된 세정증기(164b)가 외부로 빠져나가는 것을 방지하는 역할을 한다. 이러한 덮개부(167)에 의해 쌓이게 되는 세정증기(164b)는 스핀리스 노즐(154)이 건조되지 않게 한다. 이에 따라, 스핀리스 노즐(154)의 입구가 포토레시스트(156)에 의해 막히는 것을 방지할 수 있게 된다. 세정액 공급노즐(168)은 포트(166) 내에 담긴 세정액(164a)이 일정하게 유지되도록 외부로부터 세정액(164a)을 공급한다. 브러쉬(180)는 세정롤러(162)와 연동하여 세정롤러(162)에 잔존하는 포트레지스트(156)를 세정한다. 브러쉬(180)는 세정롤러(162)와 인접하게 설치되어 세정롤러(162)의 연동에 의해 세정롤러(180)와 반대 방향으로 회전을 하면서 세정롤러(162)에 잔존하는 포트레지스트(156)를 제거한다. 이에 따라, 세정롤러(162)의 주위에 잔존하는 오염물질을 제거할 수 있게 된다. 또한, 건조부(170)는 세정된 세정롤러(162)에 잔존하는 세정액(164a)을 건조시키기 위해 세정롤러(162)에 열을 가하거나 또는 에어 등을 분사한다. 배출부(190)는 세정롤러(162)을 세정하면서 오염된 세정액(164a)을 소정의 시간 간격으로 외부로 배출시키는 역할을 한다. 상술한 도 1d에서 사용된 도면부호는 공개 특허 '410호의 도 4에 도시된 도면부호를 그대로 사용하였다.1D, the nozzle cleaning apparatus according to the related art includes a
상술한 공개 특허 '410호에 개시된 노즐 세정장치는 세정롤러(162) 상의 세정액(164)을 건조시키기 위한 건조부(170)를 사용한다. 따라서, 세정롤러(162)가 스핀리스 노즐(154)과 접촉할 경우 스핀리스 노즐(154)에 잔존하는 포토레지스 트(156)를 씻어내는 것이 아니라 긁어내므로 포트레지스트(156)가 완전히 제거되지 못한다.The nozzle cleaning apparatus disclosed in the aforementioned Patent No. 410 uses a
뿐만 아니라, 공개 특허 '410호에 개시된 노즐 세정장치에서는 포트레지스트(156)가 경화되는 경우, 건조 상태의 세정롤러(162)는 스핀리스 노즐(154)과 접촉할 경우 노즐(154)의 슬릿(미도시)을 손상시킬 수 있다. 이 경우, 일정 두께의 포트레지스트(156) 도포가 불가능하므로 노즐(154)의 슬릿(미도시)을 수리하거나 또는 노즐(154) 자체를 교체하여야 한다.In addition, in the nozzle cleaning apparatus disclosed in Patent Publication No. 410, when the pot resist 156 is cured, the
나아가, 공개 특허 '410호에 개시된 노즐 세정장치는 세정롤러(162)에 잔존하는 포트레지스트(156)를 제거하기 위해 브러쉬(180)를 사용하는 것을 개시하고 있다. 그러나, 브러쉬(180)를 사용하는 경우 세정력이 충분하지 못하여 잔존 포트레지스트(156)를 완전히 제거하는 것이 불가능하다는 문제점을 갖는다. 또한, PDP 또는 LCD의 대면적화에 따라 스핀리스 노즐(154) 및 세정롤러(162)의 길이방향의 길이도 증가하야야 한다. 따라서, 브러쉬(180)의 길이방향의 길이도 비례하여 증가하여야 한다. 이 경우, 브러쉬(180)는 세정액 내에서 사용되어야 하므로, 세정액(164a) 내에서 증가된 길이의 브러쉬(180)를 회전시키는 것이 어려워진다는 문제가 발생한다.Further, the nozzle cleaning apparatus disclosed in published patent '410 discloses using the
또한, 브러쉬(180)가 세정액 내에서 회전하면 오염된 세정액(164a)이 포트(166) 내에서 부유하게 되어 세정롤러(162)의 표면이 오염될 가능성이 커진다. 그 결과, 세정롤러(162)의 세정력이 저하되는 문제점이 발생한다.In addition, when the
아울러, 공개 특허 '410호에 개시된 노즐 세정장치는 스핀리스 코팅기(152) 의 노즐(154)을 세정하기 위한 장치로, 이 경우 노즐(154)은 슬릿 노즐에 해당된다. 따라서, 건조 상태의 세정롤러(162)를 예를 들어 도 1a에 도시된 평면 노즐(120)의 복수의 잉크 토출구(126) 또는 도 1b에 도시된 노즐 디스펜서(120)의 복수의 도액 토출구(126)을 세정하는 경우, 이물(128)이 오히려 복수의 잉크 토출구(126) 또는 복수의 도액 토출구(126) 내로 투입되어 막히는 문제가 발생할 수 있다. 즉, 공개 특허 ‘410에 개시된 노즐 세정장치는 도 1a에 도시된 평면 노즐(120) 및 도 1b에 도시된 노즐 디스펜서(120)에는 적용하는 것이 실질적으로 불가능하다.In addition, the nozzle cleaning apparatus disclosed in Publication 410 is a device for cleaning the
따라서, 노즐장치(120)의 토출부(126)의 이물(128)을 충분히 세정할 수 있으며 또한 슬릿 노즐은 물론 평면 노즐 및 노즐 디스펜서에도 사용할 수 있는 새로운 세정장치 및 세정방법이 요구된다. Therefore, there is a need for a new cleaning apparatus and a cleaning method that can sufficiently clean the
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 노즐장치의 토출부에 부착되는 이물을 세정 롤러 및 세정액을 사용하여 1차로 세정하고, 세정 롤러에 잔류하는 이물을 복수개의 누름장치를 사용하여 제거함으로써 세정력이 현저하게 향상될 수 있는 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정장치, 세정시스템 및 세정방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, the first to clean the foreign matter adhering to the discharge portion of the nozzle apparatus using the cleaning roller and the cleaning liquid, and to use the plurality of pressing devices for the foreign matter remaining on the cleaning roller. It is to provide a cleaning device, a cleaning system and a cleaning method for removing the foreign matter of the nozzle device that can be significantly improved by removing.
본 발명의 제 1 특징에 따르면, 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정장치 에 있어서, 세정액을 수용하는 세정액 용기; 상기 세정액 용기에 회전가능하게 장착되는 세정 롤러; 상기 세정 롤러의 일측에 연결되며, 상기 세정 롤러를 구동하는 구동 장치; 및 상기 세정액 내에서 상기 세정 롤러의 표면을 가압하기 위한 복수의 누름장치를 포함하고, 상기 이물은 상기 세정 롤러의 표면에 전이되어 상기 세정액에 의해 1차로 제거되고, 상기 세정 롤러의 표면에 잔류하는 상기 이물은 상기 복수의 누름장치의 가압력에 의해 2차로 제거되는 것을 특징으로 한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a cleaning apparatus for removing foreign matters from a nozzle apparatus, comprising: a cleaning liquid container containing a cleaning liquid; A cleaning roller rotatably mounted to the cleaning liquid container; A driving device connected to one side of the cleaning roller and driving the cleaning roller; And a plurality of pressing devices for pressurizing the surface of the cleaning roller in the cleaning liquid, wherein the foreign matter is transferred to the surface of the cleaning roller to be first removed by the cleaning liquid, and remains on the surface of the cleaning roller. The foreign material is characterized in that the secondary removal by the pressing force of the plurality of pressing devices.
본 발명의 제 2 특징에 따르면, 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정시스템에 있어서, 세정액을 수용하는 세정액 용기; 상기 세정액 용기에 회전가능하게 장착되는 세정 롤러; 상기 세정 롤러의 일측에 연결되며, 상기 세정 롤러를 구동하는 구동 장치; 상기 세정 롤러의 표면을 가압하기 위한 복수의 누름장치; 상기 세정액 용기 내로 공급라인을 통해 상기 세정액을 공급하는 세정액 공급 유닛; 및 상기 세정액 용기로부터 배출라인을 통해 배출된 오염된 세정액을 수집하는 세정액 수집 유닛을 포함하고, 상기 이물은 상기 세정 롤러의 표면에 전이되어 상기 세정액에 의해 1차로 제거되고, 상기 세정 롤러의 표면에 잔류하는 상기 이물은 상기 복수의 누름장치의 가압력에 의해 2차로 제거되는 것을 특징으로 한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a cleaning system for removing foreign matters from a nozzle apparatus, comprising: a cleaning liquid container containing a cleaning liquid; A cleaning roller rotatably mounted to the cleaning liquid container; A driving device connected to one side of the cleaning roller and driving the cleaning roller; A plurality of pressing devices for pressing the surface of the cleaning roller; A cleaning liquid supply unit supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid container through a supply line; And a cleaning liquid collection unit for collecting the contaminated cleaning liquid discharged from the cleaning liquid container through the discharge line, wherein the foreign matter is transferred to the surface of the cleaning roller and firstly removed by the cleaning liquid, The foreign matter remaining is characterized in that the secondary removal by the pressing force of the plurality of pressing devices.
본 발명의 제 3 특징에 따르면, 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정방법에 있어서, a) 상기 노즐장치의 토출부가 세정 롤러의 표면과 접촉하도록 제공하는 단계; b) 상기 세정 롤러를 회전시켜 상기 토출부에 부착된 이물을 상기 세정 롤러의 표면으로 전이시키는 단계; c) 상기 전이된 이물을 상기 세정 롤러가 장착된 세정액 용기 내에 제공되는 세정액에 의해 1차로 희석시키는 단계; 및 d) 상기 세정 액 내에서 상기 세정 롤러의 표면을 가압하기 위한 복수의 누름장치를 사용하여 상기 세정 롤러의 표면에 잔류하는 상기 이물을 2차로 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. According to a third aspect of the present invention, there is provided a cleaning method for removing foreign matter from a nozzle device, the method comprising: a) providing a discharge portion of the nozzle device to be in contact with a surface of a cleaning roller; b) rotating the cleaning roller to transfer the foreign matter attached to the discharge part to the surface of the cleaning roller; c) first diluting the transferred foreign matter with a cleaning liquid provided in the cleaning liquid container equipped with the cleaning roller; And d) secondly removing the foreign matter remaining on the surface of the cleaning roller by using a plurality of pressing devices for pressing the surface of the cleaning roller in the cleaning liquid.
본 발명에서는 다음과 같은 효과가 달성된다.In the present invention, the following effects are achieved.
1. 이물이 1차 및 2차적으로 제거되므로 종래 기술에 비해 세정력이 현저히 향상된다.1. Since foreign matter is removed first and second, the cleaning power is remarkably improved compared to the prior art.
2. 세정롤러가 탄성을 구비하여 노즐장치의 토출부와 접촉하더라도 토출부에 손상이 발생할 가능성이 현저하게 줄어든다. 따라서, 노즐장치의 수리 또는 교체에 따른 시간 및 비용이 현저하게 줄어든다.2. Even if the cleaning roller is elastic and comes into contact with the discharge portion of the nozzle device, the possibility of damage to the discharge portion is significantly reduced. Therefore, the time and cost of repairing or replacing the nozzle apparatus are significantly reduced.
3. PDP 또는 LCD의 대면적화에 따른 세정롤러의 길이방향의 길이가 증가하더라도 복수의 누름장치에 의해 이물이 용이하게 제거된다.3. Even if the length of the cleaning roller lengthwise increases due to the large area of the PDP or LCD, the foreign material is easily removed by the plurality of pressing devices.
4. 본 발명에 따른 세정장치 및 세정시스템은 평면 노즐, 노즐 디스펜서 및 슬릿 노즐에 모두 사용될 수 있다.4. The cleaning apparatus and cleaning system according to the present invention can be used for both flat nozzles, nozzle dispensers and slit nozzles.
본 발명의 추가적인 장점은 동일 또는 유사한 참조번호가 동일한 구성요소를 표시하는 첨부 도면을 참조하여 이하의 설명으로부터 명백히 이해될 수 있다. Further advantages of the present invention can be clearly understood from the following description with reference to the accompanying drawings, in which like or similar reference numerals denote like elements.
이하에서 본 발명의 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to embodiments and drawings of the present invention.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정장치 및 세정시스템의 사시도이고, 도 2b는 도 2a에 도시된 누름장치의 상세 단면 도를 도시한 도면이다.Figure 2a is a perspective view of the cleaning device and the cleaning system for removing the foreign matter of the nozzle device according to an embodiment of the present invention, Figure 2b is a detailed cross-sectional view of the pressing device shown in Figure 2a.
도 2a를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치(200)는 세정액(264a)을 수용하는 세정액 용기(266); 상기 세정액 용기(266)에 회전가능하게 장착되는 세정 롤러(262); 상기 세정 롤러(262)의 일측에 연결되며, 상기 세정 롤러(262)를 구동하는 구동 장치(263); 및 상기 세정액(264a) 내에서 상기 세정 롤러(262)의 표면을 가압하기 위한 복수의 누름장치(290a,290b)를 포함한다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정시스템(201)은 세정액(264a)을 수용하는 세정액 용기(266); 상기 세정액 용기(266)에 회전가능하게 장착되는 세정 롤러(262); 상기 세정 롤러(262)의 일측에 연결되며, 상기 세정 롤러(262)를 구동하는 구동 장치(263); 상기 세정액(264a) 내에서 상기 세정 롤러(262)의 표면을 가압하기 위한 복수의 누름장치(290a,290b); 상기 세정액 용기(266) 내로 공급라인(269)을 통해 상기 세정액(264a)을 공급하는 세정액 공급 유닛(268); 및 상기 세정액 용기(266)로부터 배출라인(282)을 통해 배출된 오염된 세정액(164a)을 수집하는 세정액 수집 유닛(280)을 포함한다. 나아가, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치(200) 및 세정시스템(201)은 각각 상기 세정액 용기(266)의 상부에 상기 세정액(264a)이 비산되지 않도록 장착되는 커버(미도시)(도 1d의 커버(167)에 대응됨)를 추가로 포함할 수 있다, 이 경우, 커버는 도 1a 내지 도 1c에 도시된 노즐장치(120)의 토출부(126)가 세정 롤러(262)의 상부면에 접촉할 수 있도록 해주는 개방부(opening)를 가져야 한다는 것은 자명하다. 또한, 도 2a의 실시예에서는 복수의 누름장치(290a,290b)가 2개의 제 1 및 제 2 누름장치(290a,290b)인 것으로 예시적으로 도 시되어 있지만, 당업자라면 예를 들어 3개 이상의 누름장치가 사용될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다.2A, the
한편, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 도 2a에 도시된 복수의 누름장치(290a,290b)는 각각 세정 롤러(262)의 표면과 접촉하여 가압하는 누름판(294); 상기 누름판(294)이 지지 장착되는 지지 부재(295); 상기 세정액 용기(266)를 통해 상기 지지 부재(295)와 연결되는 샤프트(296); 및 상기 샤프트(296)가 직선운동을 하도록 구동하는 샤프트 구동 부재(298)로 구성된다. 도 2a에 도시된 샤프트(296) 및 샤프트 구동 부재(298)는 도 2a에서 각각 제 1 누름장치 구동부재(292a) 및 제 2 누름장치 구동부재(292b)에 대응된다.Meanwhile, referring to FIGS. 2A and 2B, the plurality of
상술한 도 2a 및 도 2b에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치(200) 및 세정시스템(201)에서는 세정 롤러(262)가 도 1a 내지 도 1c에 도시된 노즐장치(120)의 토출부(126)와 접촉하여 이물(128)을 1차로 제거하고 또한 복수의 누름장치(290a,290b)에 의한 가압력에 의해 세정 롤러(262)의 표면에 잔류하는 이물(128)을 2차로 제거하는 것을 특징으로 한다. 이를 위해, 세정 롤러(262)와 누름판(295)은 각각 탄성을 구비한 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 좀 더 구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 세정 롤러(262)는 예를 들어 합성 스펀지, 극세사, 초산비닐, 및 합성고무 재질 중 어느 하나로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 누름판(295)은 예를 들어 PVC, 플라스틱, 연질고무, 경질고무, 실리콘, 에폭시 수지, 우레탄, 및 합성 수지 재질 중 어느 하나로 이루어지는 것이 바람직하다.In the
또한, 상술한 도 2b의 실시예에서, 복수의 누름장치(290a,290b) 중 제 1 누 름장치(290a)는 세정 롤러(262)의 표면에 수평방향으로 접촉하도록 제공되고, 제 2 누름장치(290b)는 세정 롤러(262)의 표면에 수직방향으로 접촉하도록 제공된다. 그러나, 당업자라면, 예를 들어 제 2 누름장치(290b)가 제 1 누름장치(290a)와 대향하는 위치에서 세정 롤러(262)의 표면에 수평방향으로 접촉하도록 제공될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다.In addition, in the above-described embodiment of FIG. 2B, the first
또한, 상술한 도 2b의 실시예에서는, 샤프트 구동 부재(298)가 모터(예를 들어, 기어 모터, 서보 모터, 스텝핑 모터, 인덕션 모터 등)에 의해 구동되는 캠(cam)으로 구현되는 것으로 예시적으로 도시되어 있지만, 당업자라면 샤프트 구동 부재(298)가 상술한 모터(예를 들어, 기어 모터, 서보 모터, 스텝핑 모터, 인덕션 모터 등)에 의해 구동되는 실린더(cylinder)로 구현될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 나아가, 도 2a에 도시된 복수의 누름장치(290a,290b)는 각각 샤프트 구동 부재(298)를 사용하지 않고 수동방식으로 샤프트(296)를 직접 구동할 수도 있다.In addition, in the above-described embodiment of FIG. 2B, the
한편, 제 1 누름장치(290a)의 경우, 직선운동은 좌우 방향의 직선 운동이고, 제 2 누름장치(290b)의 경우, 직선운동은 상하 방향의 직선 운동이다. 그러나, 예를 들어 제 3의 보조 누름장치(미도시)가 제 2 누름장치(290b)의 우측에 경사방향으로 제공되는 경우, 제 3의 보조 누름장치(미도시)의 직선운동은 경사 방향의 직선 운동이 될 것이다. 또한, 제 3의 보조 누름장치(미도시)를 상기 세정액(264a) 외부에서 상기 세정 롤러(262)의 표면을 가압하도록 제공하는 경우, 제 3의 보조 누름장치(미도시)는 세정 롤러(262)에 흡수되어 있는 세정액(264a)의 일부를 짜내 는(squeeze) 기능(이하 "스퀴즈 기능"이라 함)을 가질 수 있다. 이러한 세정액(264a)의 스퀴즈 기능을 구비한 제 3의 보조 누름장치(미도시)는 세정 롤러(262)에 흡수되어 있는 세정액(264a)이 도 1a 내지 도 1c에 도시된 노즐장치(120)의 토출부(126)에 지나치게 많이 제공되어 토출부(126)가 세정액(264a)으로 오염되는 것을 방지한다.On the other hand, in the case of the first
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치의 각 구성요소 및 동작을 상세히 기술한다.Hereinafter, each component and operation of the cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail.
다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치(200) 및 세정시스템(201)은 각각 세정액(264a)을 수용하는 세정액 용기(266)를 포함한다. 세정 롤러(262)는 세정액 용기(266)의 길이방향을 따라 회전가능하게 장착된다. 세정 롤러(262)의 회전 동작은 구동 부재(263)에 의해 제어된다. 구동 부재(263)는 예를 들어, 기어 모터, 서보 모터, 스텝핑 모터, 인덕션 모터 등과 같은 모터로 구현될 수 있다. 세정액 공급 유닛(268)은 공급라인(269)을 통해 세정액 용기(266) 내로 세정액(164a)을 공급한다. 세정 롤러(262)는 하부의 일부가 세정액 용기(266) 내로 세정액(164a) 내에 잠기도록 위치된다. 이 경우, 세정 롤러(262)가 세정액(164a) 내에 너무 깊이 잠기면 회전 동작이 어려워진다, 또한, 세정 롤러(262)가 세정액(164a) 내에 너무 얕게 잠기면 세정액(164a)에 의한 세정 롤러(262)의 희석이 충분하게 이루어지지 않는다. 따라서, 세정 롤러(262)가 세정액(164a) 내에 잠기는 부분은 예를 들어 세정 롤러(262)의 반경을 기준으로 대략 1/2 내지 2/3가 바람직하다.Referring again to FIGS. 2A and 2B, the
한편, 도 1a 내지 도 1c에 도시된 노즐장치(120)의 토출부(126)가 도 2a에 도시된 세정 롤러(262)의 상부면에 접촉한 상태에서, 구동 부재(263)를 구동하면 세정 롤러(262)가 노즐장치(120)의 토출부(126)에 부착된 이물(128)이 세정 롤러(262)의 표면으로 전이된다. 그 후, 세정 롤러(262)의 표면 상에 전이된 이물(128)은 세정액(264a) 내에서 희석되어 세정 롤러(262)의 표면 상에서 1차로 제거된다. 그 후, 세정 롤러(262)의 표면 상에 잔류하는 이물(128)은 복수의 누름장치(290a,290b)에 의해 가압력을 받아 세정 롤러(262)의 표면 상으로부터 2차로 완전히 제거된다. 이를 위해, 샤프트 구동 부재(298)는 샤프트(296)가 직선운동을 하도록 구동한다. 좀 더 구체적으로 예를 들어 모터(미도시)에 의해 도 2b에 도시된 캠(298)을 회전시켜 샤프트(296)를 우측방향으로 이동시키면 샤프트(296)와 연결되는 지지 부재(295) 및 누름판(294)도 우측방향으로 이동하여 세정 롤러(262)의 표면을 가압한다. 이러한 누름판(294)의 가압력에 의해 세정 롤러(262)의 표면에 잔류하는 이물(128)은 세정 롤러(262)의 표면으로부터 완전히 제거된다. 그 후, 이물(128)이 완전히 제거된 세정 롤러(262)는 계속 회전하여 노즐장치(120)의 토출부(126)와 다시 접촉한다. 그 후, 노즐장치(120)의 토출부(126)에 잔류하고 있는 이물(128)이 후속적으로 세정 롤러(262)의 표면으로 전이된다. 이러한 방식으로, 노즐장치(120)의 토출부(126)에 부착된 이물(128)은 세정액(264a)에 의해 희석 방식으로 1차로 제거되고, 복수의 누름장치(290a,290b)에 의한 가압력에 의해 2차로 제거된다. 그 후, 세정 롤러(262)에 의한 세정(즉, 이물 제거)이 완료되면, 이물(128)에 의해 오염된 세정액(164a)은 배출라인(282)을 통해 세정액 용기(266)로 부터 세정액 수집 유닛(280)으로 배출된다.On the other hand, when the driving
상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치(200) 및 세정시스템(201)은 종래 기술과는 달리 도 1a 내지 도 1c에 각각 도시된 평면 노즐(120), 노즐 디스펜서(120), 및 슬릿 노즐(120)에 모두 사용될 수 있다는 것은 자명하다.The
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정방법을 도시한 플로우차트이다.3 is a flowchart illustrating a cleaning method for removing foreign matter from the nozzle apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정방법(300)은 a) 노즐장치(120)의 토출부(126)가 세정 롤러(262)의 표면과 접촉하도록 제공하는 단계(310); b) 상기 세정 롤러(262)를 회전시켜 상기 토출부(126)에 부착된 이물(128)을 상기 세정 롤러(262)의 표면으로 전이시키는 단계(320); c) 상기 전이된 이물(128)을 상기 세정 롤러(262)가 장착된 세정액 용기(266) 내에 제공되는 세정액(264a)에 의해 1차로 희석시키는 단계(330); 및 d) 상기 세정액(264a) 내에서 상기 세정 롤러(262)의 표면을 가압하기 위한 복수의 누름장치(290a,290b)를 사용하여 상기 세정 롤러(262)의 표면에 잔류하는 상기 이물(128)을 2차로 제거하는 단계(340)를 포함한다.1 to 3, in the
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정방법(300)은 e) 상기 세정액(264a)의 외부에서 상기 세정 롤러(262)의 표면을 가압하기 위한 제 3의 보조 누름장치(미도시)를 사용하여 상기 세정 롤러(262)에 흡수되어 있는 상기 세정액(264a)의 일부를 짜내는(squeeze) 단계(350)를 추가로 포함할 수 있다.In addition, the
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치(200), 세정시스템(201), 및 세정방법(300)에서는 이물이 완전히 제거되어 종래 기술에 비해 세정력이 현저하게 향상된다. As described above, in the
다양한 변형예가 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 본 명세서에 기술되고 예시된 구성 및 방법으로 만들어질 수 있으므로, 상기 상세한 설명에 포함되거나 첨부 도면에 도시된 모든 사항은 예시적인 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 예시적인 실시 예에 의해 제한되지 않으며, 이하의 청구범위 및 그 균등물에 따라서만 정해져야 한다.Various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims. It is not. Accordingly, the scope of the present invention should not be limited by the above-described exemplary embodiments, but should be defined only in accordance with the following claims and their equivalents.
도 1a는 종래 기술에 따른 잉크젯 프린팅 장치에 사용되는 평면 노즐의 개략적인 사시도를 도시한 도면이다.1A is a schematic perspective view of a planar nozzle used in an inkjet printing apparatus according to the prior art.
도 1b는 종래 기술에 따른 노즐장치의 개략적인 사시도를 도시한 도면이다. Figure 1b is a schematic perspective view of a nozzle apparatus according to the prior art.
도 1c는 도 1b에 도시된 종래 기술에 따른 노즐장치의 노즐부 및 이에 부착된 이물의 상세 사시도를 도시한 도면이다.Figure 1c is a view showing a detailed perspective view of the nozzle portion and the foreign matter attached thereto of the nozzle device according to the prior art shown in Figure 1b.
도 1d는 종래 기술에 따른 노즐 세정장치를 도시한 도면이다.Figure 1d is a view showing a nozzle cleaning apparatus according to the prior art.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정장치 및 세정시스템의 사시도를 도시한 도면이다.2A is a view illustrating a perspective view of a cleaning device and a cleaning system for removing foreign matter from a nozzle device according to an embodiment of the present invention.
도 2b는 도 2a에 도시된 누름장치의 상세 단면도를 도시한 도면이다.FIG. 2B is a detailed cross-sectional view of the pressing device shown in FIG. 2A.
도 2b는 도 2a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 평면 노즐의 세정장치 중 세정 블록이 노즐부재와 접촉된 상태를 도시한 단면도이다.FIG. 2B is a cross-sectional view illustrating a state in which a cleaning block is in contact with a nozzle member of the apparatus for cleaning a flat nozzle according to the exemplary embodiment of FIG. 2A.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐장치의 이물을 제거하기 위한 세정방법을 도시한 플로우차트이다.3 is a flowchart illustrating a cleaning method for removing foreign matter from the nozzle apparatus according to an embodiment of the present invention.
Claims (18)
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Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (1)
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KR101864755B1 (en) * | 2017-05-10 | 2018-06-07 | 주식회사 신행 | Nozzle cleaning apparatus of sealer applying machine for car body |
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2008
- 2008-10-14 KR KR1020080100663A patent/KR20100041466A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101864755B1 (en) * | 2017-05-10 | 2018-06-07 | 주식회사 신행 | Nozzle cleaning apparatus of sealer applying machine for car body |
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