KR20090085604A

KR20090085604A - 임플란트

Info

Publication number: KR20090085604A
Application number: KR1020097009116A
Authority: KR
Inventors: 스티그 한쏜; 페르 아링스코그; 요한 홀름스트룀
Original assignee: 아스트라 테크 에이비
Priority date: 2006-10-11
Filing date: 2007-10-02
Publication date: 2009-08-07
Also published as: EP1911412B1; EP1911412A1; CA2665774A1; WO2008043462A1; US20080091208A1; BRPI0719775A2; DE602006021316D1; ATE505152T1; CN101522131A; AU2007306633B2; CN101522131B; ES2363527T3; AU2007306633A1; JP2010505564A

Abstract

본 발명은 임플란트, 임플란트 세트 및 임플란트 이식 방법에 관한 것이다. 본 발명의 임플란트는, 반경을 갖는 외부 고정용 나사산과, 임플란트의 삽입 중에 뼈 조직에 뼈 나사산을 형성하도록 외부 고정용 나사산의 선단부에 위치하는 나사산 형성 수단을 포함한다. 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산의 제1 부분의 반경과 대체로 동일한 반경을 갖는다. 외부 고정용 나사산의 제2 부분의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된다.

임플란트, 뼈 나사, 골 흡수, 내성장, 안정성, 나사산, 나사산 형성 수단,

Description

임플란트{IMPLANT}

본 발명은, 임플란트, 임플란트 세트 및 임플란트 이식 방법에 관한 것이다. 임플란트는 소정 반경을 갖는 외부 고정용 나사산과, 임플란트를 삽입하기 위해 뼈 조직 내에 뼈 나사산(bone thread)을 형성하도록 외부 나사산의 선단부(apical end)에 위치하는 나사산 형성 수단, 대안적으로는 분리형 나사산 형성 수단을 포함하고 있다.

오늘날 손실된 치아, 손상된 고관절 또는 손가락과 같이 손상된 림(limb)을 복원하기 위해 자주 사용하는 방법은, 인접한 뼈 조직에 임플란트를 설치하여 손상된 부위를 교체하는 것이다. 이와 관련하여, 임플란트가 완전히 안정되고 뼈에 정확하게 결합되는 것이 성공적인 결과를 위해 매우 중요하다. 이러한 결합 효과에 대해 "골유착(osseointegration)"이란 용어가 사용되고 있는 데, 이 용어는 기본적으로 뼈 조직이 임플란트의 표면 내로 성장하는 것을 의미한다. 이러한 결합에는 주요한 2가지, 즉 기계적 결합과 생체적 결합이 기여하고 있다. 기계적 결합은 일반적으로 임플란트가 설치될 보어의 거시적 기하학적 형상과 임플란트의 거시적 기하학적 형상에 영향을 받는 것으로서, 이들 두 가지가 얼마나 잘 협력하는지의 직접적인 결과이다. 생체적 결합은 특히 설치 직후에 지속적인 발달 및 발전 결과로 서, 임플란트의 미시적 표면 구조 및 이 표면의 화학 물질이 뼈 조직에 대해 얼마나 잘 접착하는 지에 일반적으로 영향을 받는다.

내성장(ingrowth)으로 인해, 뼈와 임플란트 간의 맞물림 효과가 얻어질 것이다. 또한, 기계적 결합은 이상적인 조건 하에서 뼈 조직이 임플란트의 표면 공동 내로 성장할 수 있는 한편, 설치 후에 임플란트와 보어 사이에 남은 공극 내로 성장할 수 있기 때문에 시간의 경과에 따라 발현된다.

기계적 양상과 생체적 양상의 상호 작용이 뼈와 임플란트의 나사 간에 결합 및 내성장에 영향을 미칠 것이다. 또한, 이러한 과정을 위해 임플란트의 블라스팅 처리 표면(blasted surface)이 유리한 조건을 제공할 것이다.

환자의 뼈 조직 내에 임플란트를 성공적으로 설치하는 것에 관한 중요한 문제점 중 하나는 임플란트 주위의 골 흡수(bone resorption) 효과이다. 이는 임플란트의 설치 후에 임플란트의 측면에 인접한 뼈 조직이 살아 있던 뼈 조직의 괴사, 즉 그 뼈 조직이 죽음으로 이해 퇴행 또는 흡수되기 시작함을 의미한다. 이는 또한 임플란트가 의도하였던 만큼 많은 뼈 조직에 의해 둘러싸이지 않게 되기 때문에 임플란트의 안정성이 나빠지게 한다.

특정 조건 하에서, 뼈 조직이 나중에 다시 성장할 수 있고, 이에 따라 임플란트의 안정성이 적어도 부분적으로 회복될 수 있다. 뼈 조직은 또한 처음에 천공된 구멍보다 임플란트를 향해 더 성장하여 임플란트의 장래 안정성을 더욱 향상시킬 수 있어, 이러한 식으로 임플란트도 흔히 설계된다.

특히, 임플란트가 조기에 부하를 받도록 된 경우에, 이식 직후의 안정성이 손상되지 않고 유지되는 것이 중요하다. 뼈 흡수로 인해, 외과의들은 그 효과를 임플란트 시스템을 설계할 때뿐만 아니라 환자에 대한 수술 절차를 계획할 때에 고려할 필요가 있다. 지금까지는 그러한 효과를 완전히 극복하기보다는 그에 맞추는 데에 급급하였었다.

SE 516917에서는 비(非)원형의 외부 기하학적 형상을 갖는 임플란트를 개시하고 있다. 이러한 해법의 의도는 특히 연하거나 약한 뼈 조직에서의 초기 안정성에 대한 문제점을 해결하도록 뼈 조직에 대한 압박을 증가시키고자 하는 것이다. 또한, 그 특허 문헌에 따라 비원형의 기하학적 형상을 원추형 임플란트와 조합하는 것이 매우 중요하다. SE 516917에 따른 구조를 갖는 임플란트는 임플란트를 향한 뼈 조직의 내성장 후에 회전에 대한 양호한 안정성을 제공하게 되었다.

특허 문헌 WO 2004/058091에서는 뼈에 노출되는 나사 플랭크의 표면을 증가시키기 위한 홈이 마련된 임플란트를 개시하고 있다. 뼈 성장을 향상시키기 위해, 뼈 성장 촉진제(TS 또는 HA 겔)를 제시하고 있다.

또한, WO 2004/098442에서는 뼈와 임플란트 간의 접촉면을 증가시키기 위해 홈 패턴이 마련된 임플란트를 개시하고 있다. 또한, 유리한 실시예로서 임플란트의 나사산의 연장 방향에 대해 횡방향으로 향하는 홈 패턴을 갖는 것을 제시하고 있는 데, 이는 개선된 압력 분포를 제공하는 것으로 알려져 있다.

John E. Davis의 공개 문헌 "Understanding Peri-Implant Edosseous Healing"에서는, 이격 및 접촉 골발생 현상을 기술하고 있다. 추가적인 골 성장을 3가지의 다른 현상, 즉 골전도, 신골형성(de novo bone formation), 골 재형 성(bone remodeling)에 관해 기술하고 있다. 골성장 영역에 대한 혈액의 접근이 중요한 메커니즘으로서 언급되고 있다.

괴사는 임플란트로 인한 뼈 조직에서의 변경된 부하 조건에 의해 초래되는 것으로 제시되어 왔다. 다른 이유는 임플란트를 위한 구멍의 천공 및 이에 의해 생성되는 열에 의해 초래된 외상(trauma)일 수 있다. 외과의에 의해 초래되는 만큼은 아닐 수 있지만 제시된 다른 영향으로는 환자의 호르몬 균형이 있다. 그러나, 어떠한 것도 괴사 및 조직 흡수 또는 나중의 재성장에 대한 숨겨진 메커니즘을 완벽하게 설명할 수는 없었다. 그럼에도 불구하고, 그러한 영향은 연구되어 만족스럽게 논문으로 제출되었다.

따라서, 본 발명의 목적은 임플란트의 안정성을 개선하는 데에 있으며, 특히 설치 얼마 후 골 흡수의 발생시에 안정성을 개선하는 데에 있다. 따라서, 본 발명에 따른 임플란트는 환자의 뼈 조직 내에 설치 시부터 계속 안정성을 제공한다.

본 발명의 목적은, 전술한 문제점을 해결하는 임플란트를 제공한다. 이는 첨부된 청구의 범위에 따른 임플란트, 임플란트 세트, 및 임플란트의 이식 방법에 의해 달성된다.

본 발명의 제1 양태에 따르면,

- 반경을 갖는 외부 고정용 나사산과,

- 임플란트의 삽입 중에 뼈 조직 내에 뼈 나사산을 형성하도록 임플란트의 선단부에 위치한 나사산 형성 수단

을 포함하며, 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산의 제1 부분의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 외부 고정용 나사산의 제2 부분의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소되어 있는 임플란트를 제공한다.

본 발명의 발명 개념에 있어서, "반경"은 중심 축선에서 나사산의 최대 반경까지의 거리에 한정되지 않는다. "반경"이란 표현은, 일반적으로 본 발명에 있어서 임플란트 나사산과 나사산 형성 수단의 대응 부분들이 비교되기 때문에 상이한 임플란트들의 치수보다는 중심 축선과 나사산의 표면 상의 임의의 지점 사이의 거리를 정의하는 데에 이용된다.

나사산 형성 수단은 예를 들면 태핑 수단(tapping means) 또는 절삭 수단이거나, 나사산을 형성하도록 뼈를 가압하는 형상을 갖는 나사산일 수 있다. 그러나, 일반적으로 본 발명의 내에서는 태핑 수단 또는 절삭 수단이 뼈 나사산을 가압 성형하는 나사산에 비해 바람직하다.

본 발명의 발명 개념의 바람직한 실시예에서, 감소된 직경을 갖는 임플란트 부분은 많은 다양한 방식으로, 예를 들면 임플란트를 따른 패턴, 임플란트 둘레의 링형 영역, 점 형상 영역, 나선형 영역 등으로서 마련될 수 있다. 이러한 감소 영역/부분을 구비하는 목적 중 하나는 비감소 영역/부분과 비교할 때에 시간이 경과함에 따라 상이한 시간 사이클에서 내성장이 촉진되는 영역을 임플란트에 제공하는 데에 있다. 따라서, 감소 영역/부분은 혈액의 접근으로 인해 지나치게 작지 않을 수 있으며, 또한 만족스런 골성장을 제공하도록 감소 부분에서의 압력 및 응력을 감소시키는 것이 바람직하다. 대안적으로는, 본 발명의 발명 개념에 따른 동일한 바람직한 효과가 나사산 형성 부분에 확대 영역/부분을 마련함으로써 달성할 수 있는 데, 이 경우, 임플란트의 전체 나사산들은 동일한 반경을 가질 수 있지만 나사산 형성 부분의 나사산의 적어도 일부에 비해서는 작은 반경을 가질 수 있다. 그에 따른 결과는 감소 부분을 갖는 경우와 동일한 데, 즉 임플란트와 뼈 사이에 접촉, 압력, 및 응력이 없거나 감소된 영역/부분이 존재하여, 골 성장에 긍정적인 영향을 제공할 것이다.

그러나, 바람직한 내성장 효과는 감소 부분의 영역에서 뼈 상의 응력을 감소 또는 제거함으로써 달성될 수 있다. 뼈는 비교적 가요성 물질이기 때문에, 감소 부분의 영역에서의 뼈는 임플란트에 대해 간극을 남기지 않고, 대신에 임플란트를 향해 굴곡되어 응력 감소 영역을 제공할 수 있다.

감소 영역/부분의 위치는 시간이 경과함에 따라 뼈 내에서의 임플란트의 안정성/고정성을 향상시키고 또한 감소 영역/부분에서의 초기 골성장이 촉진되도록 배치된다. 따라서, 감소 영역의 배치는 임플란트와 뼈 사이의 초기의 안정된 접촉이 이루어질 뿐만 아니라, 시간의 경과 후에 내성장으로 인해 감소 영역에서는 임플란트와 뼈 사이의 이차적인 안정된 접촉이 이루어지는 반면, 비감소 영역에서는 골 흡수가 이루어질 수 있도록 제공되는 것이 바람직하다.

제3의 기간 동안, 임플란트의 상당한 부분/영역에 대한 뼈 조직의 내성장의 완료로 인해 임플란트와 뼈 사이의 장기적 안정된 접촉이 달성된다.

본 발명의 발명 개념에 따르면, 임플란트와 뼈 조직 사이에 다양한 압력/거리의 영역이 제공되어, 내성장 사이클에서 상이한 단계를 갖는 영역들이 제공되며, 이에 따라, 임플란트와 뼈 조직 간의 확실한 맞물림이 임플란트의 설치시부터 이미 달성될 뿐만 아니라 시간이 경과하더라도 이루어진다. 비감소 영역/부분은 설치 중에 바로 뼈 나사산과 맞물릴 것이다. 설치 얼마 후에 비감소 영역에서 골 흡수의 발생시에, 감소 영역에 있는 뼈가 다시 형성되어, 골 흡수가 있을 수 있는 다른 영역의 부하를 덜게 된다. 이는 설치 후에 바로 임플란트에 부하를 가할 수 있다는 유리한 가능성을 제공하고, 또한 감소 부분으로 인해 시간이 경과하더라도 임플란트에 지속적으로 부하가 가해질 수 있게 된다. 본 발명의 발명 개념은 또한 뼈의 질이 좋지 않은 경우, 심지어는 뼈의 질에 관계없이 유리한 효과를 갖는다.

바람직하게는, 감소된 반경을 갖는 부분이 임플란트와 뼈 사이의 초기 안정성은 물론 임플란트에 대한 뼈 조직의 내성장 과정(ingrowth process)으로 인한 장래 안정성을 제공하도록 임플란트에 반복적으로 마련된다.

감소 부분은 임플란트를 따라 또는 그 둘레에서 주기적으로/반복적으로 마련되어, 그러한 영역이 임플란트의 길이를 따라 형성되거나 임플란트의 둘레에서 둘레 방향으로 형성됨으로써, 시간이 경과함에 따라 임플란트의 상이한 부분에 대한 상이한 내성장 시간 사이클로 인해 임플란트와 뼈 사이에 안정성을 달성하게 된다.

나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소된다.

몇몇 실시예에서, 뼈 조직은 바람직하게는 태핑 수단에 의해 절삭되고, 이에 따라 가압, 압축, 또는 압박 등이 이루어지지 않는다. 임플란트의 감소 부분에 상응하는 뼈의 영역이 통상 뼈 조직에 대해 90°의 절삭각을 갖는 태핑 수단에 의해 절삭 또는 전단되는 경우에 양호한 효과가 달성되지만, 절삭각은 나사산이 뼈 조직에서 절삭/태핑에 의해 생성되고 가압에 의해 생성되는 것이 아니라면 90°미만으로 될 수도 있다.

또한, 나사산의 감소는, 그 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 또는 인접한 뼈 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리가 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛이도록 되는 것이 바람직하다. 그러한 거리는, 환자의 턱뼈에 임플란트를 나사 체결한 후 바로 임플란트가 그 최종 위치에 있는 경우, 뼈의 나사산에 비해 감소된 임플란트 나사산 부분에서의 특징 위치와, 뼈에서의 가장 근접한 위치 사이의 거리로서 나타낼 수도 있다. 또한, 임플란트의 비감소 나사산에 인접하게 마련된 뼈 나사산을 형성하는 나사산 프로파일 반경은 대체로 임플란트의 제1 부분의 나사산 프로파일 반경과 대체로 동일하다. 이는 뼈 조직의 그러한 부분에서 균일한 압력 분포를 제공한다.

본 발명의 실시예에 따르면, 임플란트의 외부 고정용 나사산의 크레스트(crest)가 감소되며, 대안적으로, 임플란트의 외부 고정용 나사산의 저부, 선단 플랭크(apical flank) 또는 관상 플랭크(coronal flank)가 감소되거나 대안적으로 나사산의 이러한 부분들의 조합이 감소된다. 플랭크의 반경은 플랭크의 연장 평면에 대해 수직으로 측정하였을 때에 크레스트에 대해 동일한 정도로 감소될 수 있다.

이러한 감소는 선단 플랭크에서부터 크레스트를 거쳐 관상 플랭크까지 연속적으로 연장하게 제공되거나, 나사산의 감소된 플랭크, 크레스트 및 나사의 저부, 즉 뿌리부의 기타 조합으로 제공될 수 있다.

본 발명의 하나의 양태에 따르면, 외부 고정용 나사산의 반경이 임플란트의 외부 고정용 나사산을 따라 지속적으로 감소한다. 전술한 바와 같이, 이러한 지속적인 감소는 외부 고정용 나사산의 크레스트, 선단 플랭크, 관상 플랭크 또는 뿌리부에서 이루어지거나 대안적으로 이러한 나사산의 부분들의 조합에서 이루어질 수 있다.

본 발명의 다른 양태에 따르면, 외부 고정용 나사산의 감소는 임플란트의 축방향을 따라 보았을 때에 균일하다. 대안적인 실시예에서, 외부 고정용 나사산의 코어에 감소된 반경이 제공된다.

임플란트가, 반경을 갖는 나사산 프로파일을 각각 구비한 2줄의 외부 고정용 나사산을 포함하고, 또한 임플란트의 삽입 중에 뼈 조직에 뼈 나사산을 형성하도록 2줄의 외부 고정용 나사산의 선단부에 위치한 나사산 형성 수단을 더 포함하는 경우에 유리할 수 있다. 나사산 형성 수단은 적어도 하나의 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 2줄의 외부 고정용 나사산 중 하나의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된다. 이는, 시간이 경과함에 따라 어느 한쪽 나사산이든 뼈와 맞물려 접촉하게 하고, 이에 따라 2줄의 외부 고정용 나사산과 뼈 조직 간의 상호 작용으로 인해 임플란트와 뼈 사이의 안정적인 연결이 이루어질 것이다.

감소된 나사산은 임플란트의 길이를 따라가면서 보았을 때에 감소된 나사산과 비감소 나사산을 반복적으로 제공하여, 임플란트와 뼈 사이의 초기 안정성은 물론 임플란트에 대한 뼈 조직의 내성장 과정으로 인한 장래 안정성을 제공하게 된다.

이러한 본 발명의 양태에 있어서, 2줄의 외부 고정용 나사산 중 하나의 반경이 나사산 형성 수단의 대응하는 반경에 비해 감소한다. 물론, 본 발명에 따른 효과를 달성하도록 2줄 또는 다줄 나사산을 갖는 임플란트와, 반경이 감소된 부분/영역을 조합할 수도 있다.

외부 고정용 나사산의 반경이 임플란트의 나사산의 길이를 따라 소정 부분에서 지속적으로 감소되어 있는 경우 유리할 수 있다. 이러한 지속적인 감소는 감소되는 외부 고정용 나사산의 저부/뿌리부, 크레스트, 선단 플랭크 또는 관상 플랭크에 대해 이루어지거나, 그러한 나사산의 부분들의 조합에 대해 이루어질 수 있다.

임플란트가, 반경을 갖는 외부 고정용 나사산과, 임플란트 단면의 360°미만의 구간에 의해 획정되는 감소 부분과, 임플란트의 삽입 중에 뼈 조직에 뼈 나사산을 형성하도록 외부 고정용 나사산의 선단부에 위치한 나사산 형성 수단을 포함하는 경우 유리할 수 있다. 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 감소 부분의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된다.

임플란트의 제1 부분은 임플란트의 외부 고정용 나사산의 감소 부분/영역으로 이루어질 수 있다. 감소 부분에서 비감소 부분으로의 전이부는 감소된 반경에서부터 대체로 동일한 반경으로 점진적으로 변화할 수 있다.

본 발명의 양태에 따르면, 감소 부분은 임플란트를 따라 대체로 직선형으로 축방향으로 연장하거나, 임플란트를 따라 곡선형 또는 비틀린 형태로 축방향으로 연장한다.

임플란트가 2개의 감소 부분을 포함하고 각각의 감소 부분이 임플란트 단면의 180°미만의 구간에 의해 획정되는 경우에 유리할 수 있다. 또한, 2개 이상의 감소 부분이 임플란트의 둘레를 따라 균일하게 분포되어, 시간의 경과에 따른 뼈 성장의 상이한 단계/스테이지의 결과로서 외부 고정용 나사산과 감소 영역 간의 상호 작용으로 인해 임플란트와 뼈 사이에 (시간의 경과에 따라) 지속적인 안정성을 제공하게 된다.

바람직하게는, 감소 부분들은 임플란트에 인접한 뼈 조직의 내성장 및 흡수로 인해 시간의 경과에 따른 안정성을 제공하도록 서로 직경 방향으로 대향하게 배치되거나, 주기적으로 배치된다. 각각의 감소 부분은 외부 고정용 나사산이 마련된 임플란트의 부분의 대체로 전체 길이를 따른 축방향으로 연장할 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 원하는 효과는, 임플란트가 2줄 또는 다줄의 외부 고정용 나사산을 구비하고, 나사산 형성 수단에는 2줄 또는 다줄의 나사산 형성 수단이 마련되며, 이들 나사산 형성 수단이 대응하는 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 제1 반경과, 대응하는 외부 고정용 나사산의 반경에 비해 증가(연장, 확장, 팽창)된 제2 반경을 갖는 경우에도 달성될 수 있다.

대안적인 실시예에서, 본 발명은, 임플란트와, 이 임플란트의 삽입 전에 뼈 조직에 뼈 나사산을 형성하는 나사산 형성 수단을 포함하고, 임플란트는 반경을 갖는 외부 고정용 나사산을 포함하며, 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산의 제1 부분의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 외부 고정용 나사산의 제2 부분의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소되어 있는, 임플란트 세트일 수 있다.

나사산 형성 수단은, 구체적으로 임플란트의 축선을 따라 보았을 때에 직선형, 테이퍼형, 또는 원추형 프로파일을 갖는 형상으로 이루어질 수 있다. 통상, 뼈 나사산을 생성하는 나사산 형성 수단의 최대 반경이 외부 고정용 나사산의 반경에 상응해야 한다. 이는 나사산 형성 수단이 별개의 나사산 형성 수단이든 일체형 나사산 형성 수단이든 적용된다.

별도의 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소된다.

나사산의 감소는, 그 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리가 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛이도록 되는 것이 바람직하다.

바람직하게는, 임플란트의 외부 고정용 나사산의 저부/뿌리부, 크레스트, 선단 플랭크 또는 관상 플랭크가 감소되며, 대안적으로는 이들의 조합이 감소된다. 뿌리, 플랭크 및/또는 크레스트의 감소는 바람직하게는 플랭크의 연장 평면에 대해 수직으로 측정하였을 때에 동일한 정도로 감소되는 것이 바람직하다. 이는 임플란트와 뼈 사이에 실지적으로 균일한 거리를 갖는 간극을 제공한다. 또한, 본 발명의 발명 개념에 따른 원하는 효과를 달성하도록 나사산 프로파일의 다양한 부분을 감소시킬 수도 있다.

그러한 감소는 선단 플랭크에서부터 크레스트를 거쳐 관상 플랭크까지 지속적으로 연장하게 제공되거나, 나사산의 감소된 뿌리부, 플랭크, 또는 크레스트의 기타 대안적인 조합으로 제공될 수 있다.

또 다른 대안적인 실시예에서, 임플란트 세트는, 반경을 갖는 나사산 프로파일을 각각 구비한 2줄의 외부 고정용 나사산을 구비한 임플란트와, 이 임플란트의 삽입 전에 뼈 조직에 뼈 나사산을 형성하는 나사산 형성 수단을 포함하며, 나사산 형성 수단은 적어도 하나의 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 2줄의 외부 고정용 나사산 중 하나의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된다.

감소되는 외부 고정용 나사산은 임플란트의 길이를 따라가면서 지속적으로 감소되어 있을 수 있다. 이와 같이 지속되는 감소는 외부 고정용 나사산의 크레스트, 선단 플랭크, 관상 플랭크에 대해 이루어지거나, 대안적으로 나사산의 그러한 부분들의 조합에 대해 이루어질 수 있다.

또는, 임플란트 세트는, 임플란트와, 이 임플란트의 삽입 전에 뼈 조직에 뼈 나사산을 형성하는 나사산 형성 수단을 포함하며, 임플란트는, 반경을 갖는 외부 고정용 나사산과, 임플란트 단면의 360°미만의 구간에 의해 획정되는 제1 부분을 포함하며, 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산의 제1 부분의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 외부 고정용 나사산의 제2 부분의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소되도록 이루어질 수 있다.

또한, 제1 부분에도 외부 고정용 나사산이 마련된다. 적합하게는, 반경은 대체로 동일한 반경에서 감소된 반경으로 점진적으로 변화한다.

제2 부분은 임플란트를 따라 대체로 직선형으로 축방향으로 연장하거나, 대안적으로는 임플란트를 따라 곡선형 또는 비틀린 형태로 축방향으로 연장할 수 있다.

또한, 임플란트에는 임플란트 단면의 180°미만의 구간에 의해 각각 획정되는 2개 이상의 제2 부분이 마련될 수 있다. 이러한 2개의 이상의 구간은 바람직하게는 임플란트의 둘레에서 균일하게 분포된다.

본 발명의 하나의 양태에 따르면, 임플란트는 치아 임플란트로서, 치과 의사에 의해 환자의 턱뼈에 이식된다.

바람직하게는, 본 발명에 따른, 뼈 내에 임플란트를 이식하는 방법은,

- 뼈에 구멍을 천공하는 단계와,

- 뼈의 천공된 구멍 내로 전술한 양태 또는 실시예 중 어느 하나에 따른 임플란트를 삽입하는 단계를 포함한다.

적합하게는, 상기한 방법은 또한 천공된 구멍 내에 임플란트를 삽입하여 천공된 구멍 내에 임플란트를 나사 체결하는 것을 더 포함할 수 있다.

상기한 방법은 임플란트의 삽입 전에 나사산 형성 수단을 이용하여 뼈의 천공된 구멍 내에 뼈 나사산을 형성하고 임플란트를 삽입하는 것을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 뼈 나사산의 형성은 임플란트를 구멍 내에 나사 체결하기 전에 별도의 나사산 형성 수단에 의해 이루어질 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시예들은 예시적인 첨부 도면을 참조하여 아래에서 보다 상세하게 설명될 것이다.

도 1은 나사산 형성 수단을 갖는 본 발명에 따른 치아 임플란트의 사시도이고,

도 2a 내지 도 2c는 외부 고정용 나사산 내로 뼈 조직의 다양한 내성장 단계들을 나타내는 단면도이며,

도 3a는 도 3b 및 도 3c의 단면선 A-A 또는 A'-A'를 따른 단면도이고,

도 3b 및 도 3c는 감소 부분을 갖는 치아 임플란트의 일부분의 사시도이며,

도 4는 치아 임플란트의 종방향 단면도이고,

도 5 내지 도 7은 상이하게 감소된 나사산 프로파일을 갖는 다양한 임플란트를 나타내는 도면이며,

도 8은 본 발명에 따른 임플란트 세트의 사시도이다.

이하의 상세한 설명에서, 치아 임플란트를 나타내는 도면에 대해 설명한다.

도 1을 참조하면, 고정용 외부 나사(2)와, 반경(r_t)을 갖는 선단부의 나사산 형성 수단(3)이 마련된 치아 임플란트(1)가 도시되어 있는 데, 이 임플란트에는 감소된 반경(r₁)을 갖는 나사산의 부분과, 반경(r_t)과 대체로 동일한 반경(r₂)을 갖는 나사산 부분이 마련되어 있다.

여기서, "반경"이란 표현은 임플란트(1)[또는 나사산 형성 수단(3, 3')]의 기하학적 외부 형상을 기술하는 데에 이용되는 것으로, 다시 말해 반경은 임플란트(1)의 중심 축선에서부터 나사산 프로파일의 외면까지의 거리이고 이 거리는 중심 축선을 따른 위치(x) 및 임플란트(1) 둘레에서의 각도 위치(α)에 따라 달라진다. 따라서, 외부 고정용 나사산(2)의 반경은 x 및 α를 변수로 한 함수[f(x, α)]이다.

외부 고정용 나사산(2)의 제1 부분의 반경(r₁) 및 제2 부분의 반경(r₂)과 나사산 형성 수단의 반경(r_t)의 비교는 나사 피치 곡선[즉, 일정한 나사 피치를 갖는 임플란트(1)를 따른 곡선]을 따라 수행되어야 하는 데, 이는 임플란트의 나사 피치 곡선은 뼈 내로 임플란트를 돌려 죄는 경우에 뼈 조직(6) 내의 동일한 지점과 접촉하거나 동일한 지점을 통과할 것이기 때문이다. 이는 특히 2줄 이상을 갖는 나사에 대해 적용된다.

그러한 나사 피치 곡선의 시작부, 즉 나사산 형성 수단(3)과 관련된 나사 피치 곡선의 부분이 나사산 형성 수단(3)의 반경(r_t)의 기하학적 형상에 상응하는 기하학적 형상의 나사산을 뼈(6)에 형성함으로써 뼈 나사산을 형성할 것이다. 그 후에, 치아 임플란트(1)를 뼈의 구멍 내로 더욱 돌려 죔으로써, 나사 피치 곡선의 후속 부분이 나사산 형성 수단(3)의 나사 피치 곡선의 상응하는 부분에 의해 형성된 기하학적 형상의 뼈 나사산을 지나갈 것이다.

외부 고정용 나사산의 하나의 나사 피치 곡선이 제1 및 제2 부분/영역(5, 4) 모두를 통과할 수 있고, 이 경우 제2 부분의 외부 반경이 감소된다. 대안적으로, 2줄(또는 그 이상)의 고정용 나사일 수 있는 데, 그 중 하나가 소정 나사 피치 곡선을 형성하고, 그에 후속하여 외부 고정용 나사산의 (제2의) 감소 부분이 다른 나사 피치 곡선을 형성할 수 있다.

본 발명의 발명 개념에 따르면, 그러한 제시한 두 대안 모두는 초기 형성 나사산을 제공하고, 외부 고정용 나사산(2)을 갖는 임플란트(1)는 감소되어 임플란트와 뼈 나사산 사이에 간격을 국부적으로 제공하는 제2 부분/영역(4)을 갖는다. 그러한 간격은 부하가 걸리지 않아 혈액, 성장 호르몬 등이 보다 신속하게 새로운 뼈를 생성하고 골 흡수를 방지할 수 있기 때문에 새로운 뼈의 성장에 유리하다.

바람직하게는, 감소된 제2 부분(4)은 작은 국부적 감소부뿐만 아니라, 뼈에 낮은 응력을 가해지거나 응력이 가해지지 않는 영역을 제공하는 한편, 뼈 성장을 가속시키고 그 영역에서의 골 흡수를 방지하는 혈액 및 기타 뼈 성장 촉진 물질이 그 영역에 접근하게 하는 감소부이다.

또한, 임플란트(1)가 감소 부분에서 뼈와 접촉하지 않게 되는 경우, 그 영역에서 뼈 상의 응력도 물론 실질적으로 감소한다.

외부 고정용 나사산의 감소 부분(4) 및 비감소부 부분(5)은 시간의 경과에 따라 임플란트의 나사산과 뼈 나사산 간에 안정적인 접촉을 제공하도록 배치된다. 도 2a에 도시한 바와 같이, 초기의 제1 기간 동안에는 나사산 형성 수단과 대체로 동일한 반경을 갖는 비감소 나사산(5)이 뼈 조직(6)과 안정적으로 접촉할 것이다. 1 내지 4주 후에, 도 2b에 도시한 바와 같이 비감소 나사산(5)에 인접한 뼈 영역에 서 골 흡수가 발생할 수 있는 한편, 그와 동시에 감소 부분(4)(제2 부분)의 영역의 뼈 조직(6)은 이제 성장하여 임플란트(1)와 접촉하게 되어, 임플란트를 안정적인 맞물림 상태로 유지한다. 4 내지 8주 후의 제3 단계에서, 뼈 조직(6)은 도 2c에 도시한 바와 같이 성장하여 임플란트의 감소 부분(4) 및 비감소 부분(5) 모두와 접촉하게 된다.

이와 같이 임플란트(1)의 감소 부분(4) 및 비감소 부분(5)과 뼈 조직(6)이 번갈아 가면서 맞물리게 하는 것은, 임플란트에서 감소 부분/영역(4)과 비감소 부분/영역(5)을 교대로 배치함으로써 향상될 수 있다. 도 3b 및 도 3c에 도시한 바와 같이, 감소 부분(4)은 치아 임플란트(1)의 둘레의 구간으로서 마련될 수 있다.

도 3a는 임플란트 둘레 주위의 구간들에 반경이 감소된 3개의 부분이 균일하게 분포되어 있는 것을 도시하는 것으로, 단면 A-A 및 A'-A' 모두를 나타낼 수 있다. 감소 반경에서 비감소 반경으로의 전이는 곡선 형상에 이해 이루어지거나 예리한 전이부로서 이루어질 수 있다.

본 발명에 따른 임플란트(1)를 이용하는 경우, 원통형 뼈 구멍 내에 통상의 방식으로 설치될 수 있다. 통상적으로, 구멍을 뼈에 미리 천공하고 그 후에 별도의 나사산 형성 수단(3')이나 임플란트와 일체로 된 나사산 형성 수단(3)에 의해 뼈 나사산이 형성된다.

그러나, 임플란트의 선단부에 감소 나사산(4)이 마련되거나 그렇지 않을 수 있다. 별도의 나사산 형성 수단(3')이 이용되는 경우, 임플란트의 전체 길이가 감소된 반경을 갖는 나사산을 위해 이용될 수 있다.

나사산 형성 수단(3)이 일체로 된 치아 임플란트(1)를 이용하는 경우, 나사 형성용 선단부에 감소된 반경을 갖는 부분을 마련하여, 처음에는 나사산 형성 수단에 의해 나사가 형성되고, 그 후에 때로는 바람직하지 않은 가압 쐐기 효과가 증가된 나사 반경으로부터 뼈 조직(6)에 가해지게 할 수 있다.

나사 형성용 선단부(3)에 감소된 반경을 갖는 부분이 마련되는 경우, 이 부분들을 비감소 반경을 갖는 나사산 형성 수단에 관상(coronal)으로 배치하여, 뼈 조직(6)에 유해한 압력이 가해질 위험성을 최소화하는 것이 바람직하다. 물론, 나사산 형성 수단의 일부분에 감소된 반경을 제공하되, 이 감소된 반경이 둘레를 따른 방향 α에서 나사산에 대해 지속되어, 뼈에 과도한 부하를 가할 위험성이 없게 할 수도 있다.

첨부 도면에 도시한 실시예의 경우, 뼈(6)를 유지/맞물리도록 된 외부 고정용 나사산(2)의 영역의 약 1 내지 50%가 감소되고 남은 부분은 감소되지 않은 경우에 유리하다. 보다 바람직하게는 외부 고정용 나사산에서 감소 영역은 10 내지 20%를 이룬다. 감소 부분(4)은 예를 들면 2개의 90°구간으로서 마련되거나, 대안적으로는 각각 60°를 이루는 총 3개의 구간 또는 훨씬 더 많은 구간들로서 마련된다. 또한, 특정 대안적인 실시예에서, 50%를 초과하게 감소될 수 있다.

원하는 효과는 또한 예를 들면 1줄의 나사산은 감소시킨 예를 들면 2줄 나사에 의해 달성될 수도 있다. 이는 2줄 나사가 도 2a 내지 도 2c에서 확인할 수 있는 바와 같이 임플란트를 따라 감소 영역과 비감소 영역을 번갈아가면서 제공하기 때문이다.

본 발명에 따른 발명 개념은 다수의 상이한 나사산 프로파일에 적용될 수 있다. 상이한 나사산 프로파일의 실시예가 도 5 내지 도 7에 도시되어 있다. 도 5에서는 비감소 나사산(5)과, 크레스트(7), 선단 플랭크(apical flank)(8) 및 관상 플랭크(coronal flank)(9)가 감소된 감소 나사산(4)을 도시하고 있다. 또한, 도 7에서는 감소된 플랭크(83, 93) 및 감소된 크레스트를 갖는 보다 예리한 나사산 프로파일을 도시하고 있다. 도 6에서는 비감소 나사산 프로파일(52)과, 선단 플랭크 및 코로날 플랭크가 감소된 감소 나사산 프로파일(42)을 갖는 임플란트 나사에 대한 원리를 도시하고 있다. 또한, 도 4에 도시한 바와 같이 다수의 감소 나사산을 연속적으로 마련하는 것도 가능하다.

본 발명의 하나의 양태에 따르면, 나사산 형성 수단이 반드시 임플란트의 선단부에 배치되는 것이 아니라 외부 고정용 나사산의 선단부에 배치된다. 예를 들면, 임플란트는 제1 부분을 구비할 수 있고, 이 제1 부분은 제1 부분에 관상으로 배치된 나사산 형성 수단의 반경보다 작은 최대 반경을 가지며, 상기 나사산 형성 수단은 본 발명에 따라 제2의 관상 부분을 위한 나사산을 형성한다. 또한, 제1 부분은 가능하다면 역시 본 발명에 따라 나사산과, 임플란트와 일체로 되거나 그렇지 않을 수도 있는 그 자신의 나사산 형성 수단을 구비하여, 제1 부분 상의 나사가 제1 부분을 위한 나사산 형성 수단의 대응하는 반경에 비해 감소된 반경을 갖도록 될 수 있다.

Claims

임플란트(1)로서,

반경을 갖는 외부 고정용 나사산(2)과,

임플란트(1)의 삽입 중에 뼈 조직(6)에 뼈 나사산을 형성하도록 상기 외부 고정용 나사산(2)의 선단부에 위치하는 나사산 형성 수단(3)

을 포함하며, 상기 나사산 형성 수단(3)은 외부 고정용 나사산(2)의 제1 부분(5)의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 상기 외부 고정용 나사산의 제2 부분(4)의 반경은 나사산 형성 수단(3)의 반경에 비해 감소된 것인 임플란트.
제1항에 있어서, 감소된 반경을 갖는 부분(4)은 임플란트와 뼈 사이의 초기 안정성은 물론 임플란트에 대한 뼈 조직의 내성장 과정(ingrowth process)으로 인한 장래 안정성을 제공하도록 임플란트에 반복적으로 마련되는 것인 임플란트.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소되는 것인 임플란트.
제1항 또는 제2항에 있어서, 감소된 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리는 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛인 것인 임플란트.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트의 외부 고정용 나사산의 크레스트(7)가 감소되는 것인 임플란트.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트의 외부 고정용 나사산(2)의 선단 플랭크(apical flank)(8)가 감소되는 것인 임플란트.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트의 외부 고정용 나사산(2)의 관상 플랭크(coronal flank)(9)가 감소되는 것인 임플란트.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트의 외부 고정용 나사산(2)의 저부가 감소되는 것인 임플란트.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 반경은 임플란트(1)의 외부 고정용 나사산을 따라 연속적으로 감소되는 것인 임플란트.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 감소는 임플란트(1)의 축방향 연장 방향을 따라 균일한 것인 임플란트.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산의 코어에 감소된 반경이 마련되는 것인 임플란트.
임플란트(1)로서,

반경을 갖는 나사산 프로파일을 각각 구비한 2줄의 외부 고정용 나사산(2)과,

임플란트(1)의 삽입 중에 뼈 조직(6)에 뼈 나사산을 형성하도록 상기 외부 고정용 2줄 나사산(2)의 선단부에 위치한 나사산 형성 수단(3)

을 포함하며, 상기 나사산 형성 수단(3)은 적어도 하나의 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 상기 2줄의 외부 고정용 나사산 중 하나의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 것인 임플란트.
제12항에 있어서, 상기 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소되는 것인 임플란트.
제13항에 있어서, 상기 감소된 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리는 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛인 것인 임플란트.
제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 크레스트(7)가 감소되는 것인 임플란트.
제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 선단 플랭크(8)가 감소되는 것인 임플란트.
제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 관상 플랭크(9)가 감소되는 것인 임플란트.
제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 저부가 감소되는 것인 임플란트.
제12항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 반경은 임플란트(1)의 나사산의 길이를 따라 지속적으로 감소되는 것인 임플란트.
임플란트(1)로서,

반경을 갖는 외부 고정용 나사산(2)과,

임플란트 단면의 360°미만의 구간에 의해 획정되는 외부 고정용 나사산의 감소 부분(4)과,

임플란트(1)의 삽입 중에 뼈 조직(6)에 뼈 나사산을 형성하도록 상기 외부 고정용 나사산(2)의 선단부에 위치한 나사산 형성 수단(3)

을 포함하며, 상기 나사산 형성 수단(3)은 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 상기 감소 부분(4)의 반경은 나사산 형성 수단(3)의 반경에 비해 감소된 것인 임플란트.
제20항에 있어서, 상기 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소되는 것인 임플란트.
제20항에 있어서, 상기 감소된 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리는 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛인 것인 임플란트.
제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감소 부분(4)은 임플란트(1)를 따라 대체로 직선형으로 축방향으로 연장하는 것인 임플란트.
제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감소 부분(4)은 임플란트(1)를 따라 곡선형으로 축방향으로 연장하는 것인 임플란트.
제20항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)는 2개의 감소 부분을 포함하며, 각각의 감소 부분은 임플란트(1)의 단면의 180°미만의 구간에 의해 획정되는 것인 임플란트.
제25항에 있어서, 상기 감소 부분들은 서로 직경 방향으로 대향하게 배치되는 것인 임플란트.
임플란트(1)와,

임플란트(1)의 삽입 전에 뼈 조직(6)에 뼈 나사산을 형성하는 나사산 형성 수단(3')

을 포함하며, 상기 임플란트(1)는 반경을 갖는 외부 고정용 나사산(2)을 포함하며, 상기 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산(2)의 제1 부분(5)의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 상기 외부 고정용 나사산의 제2 부분(4)의 반경은 나사산 형성 수단(3')의 반경에 비해 감소된 것인 임플란트 세트.
제27항에 있어서, 상기 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소되는 것인 임플란트 세트.
제27항에 있어서, 감소된 나사 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가 장 인접한 대응 위치 간의 거리는 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛인 것인 임플란트 세트.
제27항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 외부 고정용 나사산의 크레스트(7)가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제27항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 외부 고정용 나사산의 선단 플랭크(8)가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제27항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 외부 고정용 나사산의 관상 플랭크(9)가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제27항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 외부 고정용 나사산의 저부가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제27항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외부 고정용 나사산(2)의 감소는 임플란트(1)의 축방향을 따라 보았을 때에 균일한 것인 임플란트 세트.
반경을 갖는 나사산 프로파일을 각각 구비한 2줄의 외부 고정용 나사산(2)을 구비한 치아 임플란트(1)와,

임플란트(1)의 삽입 전에 뼈 조직(6)에 뼈 나사산을 형성하는 나사산 형성 수단(3')

을 포함하며, 상기 나사산 형성 수단은 적어도 하나의 외부 고정용 나사산의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 2줄의 외부 고정용 나사산 중 하나의 반경은 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 것인 임플란트 세트.
제35항에 있어서, 상기 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소되는 것인 임플란트 세트.
제35항에 있어서, 감소된 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리는 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛인 것인 임플란트 세트.
제35항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 감소되는 외부 고정용 나사산의 크레스트(7)가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제35항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 감소되는 외부 고정용 나사산(4)의 선단 플랭크(8)가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제35항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 감소되는 외부 고정용 나사산(4)의 관상 플랭크(9)가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제35항 내지 제40항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 감소되는 외부 고정용 나사산(4)의 저부가 감소되는 것인 임플란트 세트.
제35항 내지 제41항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감소되는 외부 고정용 나사산(4)의 반경은 임플란트(1)의 나사산의 길이를 따라 지속적으로 감소되는 것인 임플란트 세트.
치아 임플란트(1)와,

임플란트(1)의 삽입 전에 뼈 조직(6)에 뼈 나사산을 형성하는 나사산 형성 수단(3')

을 포함하며, 상기 임플란트(1)는, 반경을 갖는 외부 고정용 나사산(2)과, 임플란트 단면의 360°미만의 구간에 의해 획정되는 제1 부분(5)을 포함하며, 상기 나사산 형성 수단은 외부 고정용 나사산의 제1 부분의 반경과 대체로 동일한 반경을 가지며, 상기 외부 고정용 나사산의 제2 부분(4)의 반경은 나사산 형성 수단(3)의 반경에 비해 감소된 것인 임플란트 세트.
제43항에 있어서, 상기 나사산 형성 수단의 반경에 비해 감소된 반경은 나사 산 형성 수단의 반경의 바람직하게는 0 내지 5%, 보다 바람직하게는 0 내지 2.4%, 가장 바람직하게는 0.06 내지 0.16% 감소되는 것인 임플란트 세트.
제43항에 있어서, 감소된 나사산 상의 특정 위치와 나사산 형성 수단 상의 가장 인접한 대응 위치 간의 거리는 바람직하게는 0 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0 내지 50㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 30㎛인 것인 임플란트 세트.
제43항 내지 제45항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 부분(4)은 임플란트(1)를 따라 대체로 직선형으로 축방향으로 연장하는 것인 임플란트 세트.
제43항 내지 제45항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 부분(4)은 임플란트(1)를 따라 곡선형으로 축방향으로 연장하는 것인 임플란트 세트.
제43항 내지 제47항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)는 2개의 제2 부분을 포함하며, 각각의 제2 부분은 임플란트(1)의 단면의 180°미만의 구간에 의해 획정되는 것인 임플란트 세트.
제1항 내지 제48항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트(1)는 치아 임플란트인 것인 임플란트.
뼈 내에 임플란트를 이식하는 방법으로서,

뼈에 구멍을 천공하는 단계와,

뼈의 천공된 구멍 내로 제1항 내지 제49항 중 어느 한 항에 따른 임플란트(1)를 삽입하는 단계

를 포함하는 임플란트 이식 방법.
제50항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 삽입은 임플란트(1)를 천공된 구멍 내에 나사 체결하는 것을 포함하는 것인 임플란트 이식 방법.
제50항 또는 제51항에 있어서, 상기 임플란트(1)의 삽입은 임플란트(1)의 삽입 전에 나사산 형성 수단(3, 3')을 이용하여 뼈의 천공된 구멍 내에 뼈 나사산을 형성하는 것을 포함하는 것인 임플란트 이식 방법.
제50항 내지 제52항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 임플란트는 치아 임플란트인 것인 임플란트 이식 방법.