KR20080108443A - 약물 용출을 위한 와우 이식 전극 배열 - Google Patents

Abstract

본 발명은 약물 용출부를 포함하며 와우 조직을 전기적으로 자극하기 위한 와우 전극 어레이를 개시한다. 이러한 장치는 내이에 대해 치료학적 유효량의 제약 제제를 시간에 따라 방출하도록 구성된다. 제약 제제는 상이한 치료 용도를 위해 국소적으로 방출될 수 있다.

와우 전극 어레이, 약물 용출부, 제약 제제

Description

약물 용출을 위한 와우 이식 전극 배열{COCHLEAR IMPLANT ELECTRODE CONFIGURATION FOR DRUG ELUTING}

본 발명은 약리학적 활성 제제를 내이로 일시적으로 용출시키기 위한 약물 용출 와우 이식 전극에 관한 것이다.

내이의 전기적 자극은 난청을 앓고 있는 환자의 소리 감각을 회복시키는데 매우 성공적이었다. 와우내 전극은 전극 접촉부에 인접한 신경 조직의 직접적 전기 자극을 통해 얼마간의 청각 감각을 회복시키도록 한다. 전기적 자극은 고실계강에 깊이 삽입된 전극에 연결된 이식된 와우 이식 자극기에 의해 달성된다.

하지만 전극의 삽입은 다양한 정도의 외상을 발생시키고 연결 조직을 성장시킨다. 외상의 정도는 예측하기 매우 어려우며 와우 구조, 전극 디자인 및 삽입 기법에 따른다. 이 때 조직에 가해지는 외상은 신경 조직(즉, 유모 세포 및 나선 신경절 세포)의 아폽토시스 및/또는 괴사를 야기시킬 수 있다. 조직 성장 및 외상은 이식체의 성능을 제한할 수 있으며, 나선 신경절 세포의 외상이 축적되어 현재의 기술 상태로는 회복될 수 없게 된다. 이용가능한 청각이 상당히 남아있는 많은 환자들이 와우 이식을 받기 때문에, 최소한의 외상성 전극을 이용하는 것이 더더욱 중요해졌고, 더 많은 환자들이 어린 나이에 이식을 받으며 이들의 일생동안 수차례 의 재이식을 받을 수도 있으므로, 각각의 일련의 삽입은 나선 신경절 세포에의 외상을 최소한으로 제한하여야만 한다.

외상은 일반적으로 내이의 연한 조직에 전극을 삽입함으로서 야기된다. 삽입은 나선형 와우 조직에 대한 전극의 마찰을 극복하기 위해 기계적 힘이 전극에 가해질 것을 요구한다. 기관 또는 조직에 대한 외상을 감소시키기 위해, 전극 및 카테터는 연질이고 유연해야만 하며, 삽입력은 최소이어야만 한다. 불행하게도, 현재 시판되는 대부분의 와우 이식 전극은 삽입하기 위해 상당한 힘을 요구하며, 심지어는 이에 대한 거리는 고실계의 전체 길이보다도 훨씬 짧다.

전극 또는 카테터의 삽입에 요구되는 힘은 이의 크기, 형상 및 제조 물질과 관련된다. 이러한 장치에 사용되는 물질은 와이어용 물질, 접촉용 물질, 관능적 금속성 물질 또는 중합체 분절 물질 및 벌크 물질을 포함한다. 장치의 크기, 사용되는 물질의 강성도, 전극 어레이의 외부 쉘의 소수성, 전극 표면의 한방향 또는 다른쪽에 저장되는 에너지, 및 장치의 삽입 방법 모두가 전극 배치 동안 일어날 수 있는 조직 손상의 정도 및 위치에 영향을 미친다.

손상 및 외상은 출혈, 염증, 연조직의 천공, 막의 인열 및 구멍, 얇은 뼈구조의 파열을 일으킨다. 생성된 손상은 살아있는 유모 세포의 손실을 일으킬 수 있으며, 코르티 기관을 자극하는 수상돌기의 변성을 악화시키며, 최악의 경우에는, 로젠탈관(Rosenthal's canal)에서의 나선 신경절 세포를 사멸시킨다. 세포 사멸은 양적으로는 보다 적은 양의 신경 조직이 자극에 이용가능하며, 질적으로는 음조 정보를 나타내는데 있어 보다 적은 음조가 튜닝된 섬유가 이용가능함을 의미한다. 또한 나선 신경절 세포의 손실이 없는 수상돌기의 손실 및 유모 세포의 손실은 청각 자극이 더이상 가능하지 않으며, 청각 자극과 전기적 자극 사이에 어떠한 상승작용적 효과도 이용가능하지 않을 것임을 의미한다. 전기-청각 상승작용적 효과는 소음 환경에서 우수한 소리 식별을 위해 중요할 수 있다.

와우 이식에 따른 또다른 불편함은 전극 임피던스 후수술의 조치가 요구된다는 것이다. 이러한 요구는 빽빽한 섬유막에 의한 전극의 캡슐화에 의해 야기되는 것으로 생각되는데, 이는 접촉부 주변에 이온이 결핍된 구역을 발생시킴으로써 전기적 자극의 효율을 감소시킨다. 보다 낮은 전극 임피던스를 유지시키기 위해 후수술을 통해 몇몇 의약품을 와우에 도입시키는 것이 필요할 수 있다. 예를 들어, 코르티코스테로이드의 도입이 수술 후 임피던스의 발생을 감소시킬 수 있음이 증명되었다. 이는 전극에 의약품을 침착시키거나 문지름으로써 행해져왔다. 그러나 전극이 고실계의 유체에 도입됨에 따라, 의약적 용액은 빠르게 용해되어 이것이 가장 이로운 위치에 도달할 수 없거나 또는 약물이 후수술을 통해 요구되는 바람직한 시간 동안 도달할 수 없게 된다.

메니에르병(Meniere's disease) 또는 현기증을 치료하기 위해 와우 이식을 받지 않은 환자의 내이에 의약품을 전달하려는 시도가 있었다. 약물 전달은 중이에 볼루스 주입한 후 다소 투과성의 둥근 윈도우 막을 통해 행해진다. 둥근 윈도우 약물 전달의 한가지 문제점은 분자 물질에 대한 막 투과성이 시간이 지남에 따라 변화하고, 또한 큰 분자는 빽빽한 막을 통과할 수 없다는 것이다. 약리학적 물질은 와우 길이 중 처음 수 mm 뒤의 와우 구역에는 거의 도달할 수 없는 것으로 여 겨진다.

현재, 와우 이식 후 내이에 의약품을 전달하기 위한 용이한 방법은 없다. 중이는 쉽게 접근되지 못하며, 내이는 와우 이식 수술시를 제외하고는 의약품을 직접 침착시킬 수 없거나 또는 주입할 수 없는 밀봉계이다. 수술 후, 와우는 이동하거나 또는 제거되어서는 안되는 전극으로 부분적으로 채워진다.

과거에는 코르티코스테로이드를 갖는 약물 용출 전극 납이 심박 조정기 전극과 함께 사용되어, 성공적으로 접촉 임피던스를 감소시켰다. 또한, 약리학적 활성제가 로딩된 실리콘 엘라스토머가 피임, 혈관 손상 치료 및 스텐트와 같은 몇몇 분야에서 용출 구조물로서 사용되어 왔다. 약물 용출 전극은 와우 이식에는 사용된 적이 없다.

[발명의 요약]

본 발명의 실시태양은 와우 조직을 전기적으로 자극하기 위한 와우 전극 어레이에 관한 것이다. 어레이는 내이에서 치료학적 유효량의 제약 제제를 시간에 따라 방출하도록 구성된 약물 용출부를 포함한다.

또다른 실시태양에서, 전극 어레이는 매칭된 형상의 약물 방출 장치를 함유하는 슬롯(slot)을 포함할 수 있으며, 이러한 경우에, 장치의 형상은 제약 제제의 방출 속도를 결정할 수 있다. 제약 제제 방출 장치는 겔, 미립자 또는 고체일 수 있다. 약물 용출부는 제약 제제를 혼입시키는 실리콘 기재 엘라스토머와 같은 중합체 물질일 수 있다.

다양한 실시태양에서, 약물 용출부는 약물 비용출 물질의 두개의 층 사이에 샌드위치된 물질의 층일 수 있다. 예를 들어, 약물 용출부는 전극 어레이의 0.25 내지 2 질량%를 구성할 수 있다. 약물 용출부는 약물 비용출 물질 내에 매립될 수 있으며, 이 때 약물 비용출 물질의 두께는 제약 제제 방출 속도를 결정할 수 있다. 약물 용출부는 전극 어레이가 내이로 들어가는 곳으로부터 3 mm 이하에서 시작할 수 있다. 제약 제제의 방출 속도는 약물 용출부 및 약물 비용출부 내의 물질의 가교 밀도, 약물 비용출 샌드위치에 노출된 약물 용출부의 표면적의 양 및 약물 용출부의 부피 중 1 이상에 의해 결정될 수 있다.

몇몇 실시태양에서, 약물 용출부는 각각이 상이한 제약 제제를 방출하도록 구성된 제1 및 제2 약물 용출부를 포함할 수 있다. 전극 어레이는 와우 조직을 전기적으로 자극하는 다수의 전기 접촉부를 포함할 수 있으며, 이 때 1 이상의 전기 접촉부는 제약 제제로 코팅되어 있다. 제약 제제는 약물 용출부의 물질 내에 혼합된 100 μm 미만의 고체 입자 형태일 수 있다.

제약 제제의 방출 속도는 다수의 일정 크기의 제약 제제의 입자를 갖는 것에 기초할 수 있다. 예를 들어, 90% 이상의 입자가 50 μm 미만일 수 있고/있거나, 50% 이상의 입자가 10 μm 미만일 수 있다.

제약 제제는 베타메타손, 클로베타솔, 디플로라손, 플루오시놀론, 트리암시놀론, 이의 염, 에스테르 또는 조합과 같은 코르티코스테로이드일 수 있다. 또는 코르티코스테로이드는 덱사메타손일 수 있으며, 예를 들어, 전극 어레이는 사용 초기 24 시간 동안 0.1 내지 1 μg의 덱사메타손이 방출되도록 구성된 것일 수 있다.

몇몇 실시태양에서, 제약 제제는 항염증제일 수 있다. 예를 들어, 항염증제 의 통상적 염수 중의 포화 용해도는 37 ℃에서 80 μg/ml 이상일 수 있다. 전극 어레이는 이식 후 제1주 동안 1 μg 내지 5 μg의 항염증제를 방출하도록 구성된 것일 수 있다. 제약 제제는 항생제, 항산화제, 또는 성장 인자일 수 있다.

도 1A-F는 이식된 와우 전극을 약물 용출 실리콘으로 부분적으로 로딩시키는 다양한 방법을 보여준다.

도 2A-D는 약물 용출 실리콘을 갖는 와우 전극의 또다른 다양한 특정 실시태양을 보여준다.

도 3은 전극 상의 슬롯에 약물 용출 실리콘 및 약물 용출 실리콘 로드를 갖는 실시태양을 보여준다.

도 4A-B는 약물 용출 실리콘을 전극에 혼입시키는 별개의 실시태양을 보여준다.

수술 후 일정 시간 동안 치료학적 유효량의 약리학적 제제를 방출할 수 있는 와우 전극 어레이가 요구된다. 본 발명의 실시태양은 전극체를 구성하는 실리콘 중합체 엘라스토머의 일부분 또는 전체에 일정량의 의약품을 혼입시킨 것에 기초한 와우 전극 어레이를 포함한다. 시간이 지남에 따라, 의약품은 엘라스토머 물질로부터 방출되어 내이의 유체로 확산된다. 이 때 확산된 분자는 관심있는 수용체를 표적으로 한다.

내이는 깊은 구획을 포함하여 약리학적 제제의 국소적 전달을 위해 다양하게 고려되는데, 이는 전신적 투여 후의 약물 작용을 지연시킴에 따라, 신경 조직 및 연조직과 같은 청각 기관을 재생시키기 위한 항생제, 코르티코스테로이드, 항산화제 및 성장 인자를 전달하는데 적합함을 의미한다. 내이는 매우 작고 본질적으로 폐쇄된 공간이며, 이에 따라 내이에서 방출되는 임의의 의약품은 그 공간 내에 격리된 채로 있는 경향이 있는데, 다만 이러한 기관의 약력학적 성질은 잘 알려지지 않았다. 따라서, 이러한 환경에서 서서히 방출하는 임의의 약리학적 제제는 내이에서만 생물활성인 경향이 있으며, 내이 밖으로 거의 확산되지 않는다.

도 1은 본 발명의 다양한 실시태양에 따라 약물 용출부 (11) 및 약물 비용출부 (12)를 포함하도록 구조화된 와우 이식 전극 어레이 (10)의 예시를 보여준다. 도 1에 나타낸 각각의 예시에서, 음영처리된 구역은 약리학적 제제를 방출하도록 구성된 물질, 즉, 약물 용출부 (11)을 나타낸다. 도 1의 음영처리되지 않은 구역은 약물 용출 기능이 없는 물질, 즉, 약물 비용출부 (12)를 나타낸다.

도 1A에 나타낸 바와 같이, 전극 어레이 (10)의 단면은 통상적으로 타원형 또는 타원체일 수 있다. 도 1A에서, 전극 어레이 (10)의 하부 절반부에 포함되는 실시태양은 약물 용출 물질을 포함하는 약물 용출부 (11)인데, 이는 시간에 따라 약리학적 제제를 내이의 주변 유체로 방출시킨다. 이 실시태양의 상부 절반부는 약물 용출 기능이 없는 물질을 함유하는 약물 비용출부 (12)이다. 도 1B는 2개의 상이한 약물 용출부 (11)을 갖는 전극 어레이 (10)의 또다른 실시태양을 보여주는데, 이 때 각각은 상이한 약리학적 제제를 방출하도록 구성될 수 있다. 도 1C에 나타낸 실시태양에서, 약물 용출부 (11)은 전극 어레이 (10)의 하부 절반부 전체를 포함한다. 이러한 실시태양에서, 전기 자극 접촉부 및 접속 와이어와 같은 전극 어레이 (10)의 다른 구조적 요소는 어레이의 약물 비용출부 (12) 내에 포함될 수 있다. 도 1D에 나타낸 실시태양에서, 전극 어레이 (10) 일부분의 전체 단면적은 시간에 따라 방출하는 약리학적 제제가 혼입된 물질로 구성된 약물 용출부 (11)이다. 도 1E에서, 전체 전극 어레이 (10)은 약리학적 제제를 혼입하는 물질을 사용한다. 이러한 배열에서, 엘라스토머 물질 중 약리학적 제제의 농도는 어레이가 보다 적은 부피부로 사용된 실시태양에서보다 낮을 수 있다. 도 1F는 전극 어레이 (10)의 가장 전방부의 전체 부피가 약물 용출부 (11)로서 작용하도록 구성된 또다른 실시태양을 보여준다. 예를 들어, 약물 용출부 (11)은 전극 어레이 (10)이 내이로 들어가는 곳으로부터 3 mm 이상에서 시작할 수 있다.

약리학적 제제가 전극 어레이 (10)의 약물 용출부 (11)의 중합체 매트릭스 물질로부터 방출되는 속도는 다양한 인자에 의존한다. 여기에는 중합체 또는 로딩되지 않은 중합체를 둘러싸는 유체에 노출되는 약물 용출부 (11)의 표면적의 양이 포함된다. 약물 용출부 (11)의 중합체 물질 내의 의약품의 농도 또한 전달 기간에 영향을 미친다. 약리학적 제제의 방출 속도는 약물 용출부 (11) 내 물질의 가교 밀도 및 약물 용출부 (11)의 부피와 같은 다른 인자에 의존할 수 있다.

도 2는 본 발명의 또다른 다양한 실시태양의 단면도를 나타낸다. 도 2A에 나타낸 실시태양에서, 전극 어레이 (20)은 약물 비용출 물질 (22)의 두개의 층 사이에 샌드위치된 물질의 층인 약물 용출부 (21)을 포함한다. 이러한 실시태양에서, 약물 용출부 (21) 중 약리학적 제제의 방출 속도는 전극 어레이 (20)의 측면에 노출된 약물 용출부의 표면적의 양에 의존한다. 예를 들어, 약물 용출부 (21)의 질량은 전극 어레이 (20)의 0.25 내지 2 질량%를 구성할 수 있다.

도 2B 내지 2D에서 나타낸 실시태양에서, 전극 어레이 (20)은 약물 용출부 (21)의 물질이 혼입된 약물 비용출 물질 (22) 중 채널 슬롯 (23)을 포함한다. 도 2B에서, 약물 용출부 (21)은 이를 보유하는 채널 슬롯 (23)보다 약간 작은 로드 형태이어서, 내이의 유체가 약물 용출부 (21)의 주변부 전체에 접촉하여, 시간에 따라 내이 유체로 약리학적 제제를 방출시킨다. 도 2C에서, 약물 용출부 (21)은 약물 비용출 물질 (22)의 채널 슬롯 (23)내에 보다 딱맞게 끼워진다. 따라서 약물 용출부 (21)의 하부면에만 내이의 유체가 접촉하여 약리학적 제제가 보다 서서히 방출된다. 도 2D에서 나타낸 실시태양에서, 약물 용출 물질 (21)의 둥근 로드는 약물 용출 물질 (21)의 원통형 로드의 표면적에의 내이 유체의 제어된 접근을 가능하게 하는 정사각형 단면 구역을 갖는 약물 비용출 물질 (22)의 채널 슬롯 (23)에 매립되어 있다.

도 3은 약물 용출부 (31)이 완전히 약물 비용출 물질 (32)에 매립된 전극 어레이 (30) (전극 접촉부 (33)을 포함함)의 실시태양을 보여준다. 이러한 실시태양에서, 약리학적 제제가 약물 용출부 (31)을 통해 방출되는 속도는 로딩 및 표면적과 같은 약물 용출부의 파라미터 뿐 아니라 약물 비용출 물질 (33)의 상부층의 두께에 의해 결정된다.

도 4A는 도 3에 나타낸 것과 유사하나 약물 용출부 (41)의 표면적의 일부에 얼마간의 내이 유체가 접촉할 수 있도록 약물 비용출 물질 (43)의 채널 슬롯 (42)를 포함하는 전극 어레이 (40)의 또다른 실시태양의 단면도를 보여준다. 또한, 약리학적 제제의 방출 속도는 노출된 약물 용출부 (41)의 표면적의 양 뿐 아니라, 약물 용출부 (41)의 물질 중 약리학적 제제의 농도 및 가능하다면 약물 용출 물질을 통한 약리학적 제제의 확산 속도에 의해서도 결정된다. 도 4B는 약물 용출부 (41)의 실리콘 물질이 전극 어레이 (40)의 표면 상의 전극 접촉부 (44)의 한쪽 면에 배치되고, 전극의 나머지 영역은 순수한 실리콘 물질인 전극 어레이 (40)의 또다른 실시태양을 보여준다. 이러한 실시태양에서, 일 이상의 전극 접촉부 (44)는 또한 제약 제제로 코팅될 수 있다.

내이로의 후수술적 방출에 적합한 특정 약리학적 제제의 예는 향신경성 인자, 유전자 치료제, 항-아폽토시스 의약품, 및 항산화제 및 항생제를 비제한적으로 포함한다. 몇몇 의약품은 신경보호 작용을 가지며 다소 외상성인 와우 이식 후의 내이의 신경 상태의 보존을 도울 수 있다.

다른 적합한 약리학적 제제는 항염증제를 포함한다. 이러한 소수성이고 잘 녹지않는 제제는 와우 이식 수술 후 국소적 염증의 극복을 도울 수 있다. 예를 들어, 항염증제의 일반 염수 중 포화 용해도는 37℃에서 80 μg/ml일 수 있다. 전극 어레이는 이식 후 제1주 동안 1 μg 미만 내지 5 μg의 항염증제를 방출하도록 구성될 수 있다. 상기 언급한 바와 같이 2개의 구별된 약물 로딩 구역을 갖도록 제안된 디자인을 이용하는 장치(도 1B 및 4B)는 또한 코르티코스테로이드와 함께 살균제, 항생제, 항산화제, 또는 성장 인자와 같은 다른 제제를 전달할 수 있다.

후이식 섬유증 발병을 조절하기 위한 코르티코스테로이드의 사용이 현재 특히 관심이 있다. 이러한 코르티코스테로이드 중 하나는 덱사메타손이다. 예를 들어, 전극 어레이는 사용 초기 24 시간 동안 0.1 내지 1 μg의 덱사메타손을 방출하도록 구성된다. 약물 용출 와우 이식 전극 어레이에 사용하기에 적합한 코르티코스테로이드의 다른 예는 베타메타손, 클로베타솔, 디플로라손, 플루오시놀론, 트리암시놀론, 또는 이의 염, 에스테르 또는 조합을 비제한적으로 포함한다.

코르티코스테로이드의 낮은 용해도로 인해, 실리콘-기재 약물 용출 장치는 우선 제약 제제 입자를 원하는 크기로 미분화함으로써 제조될 수 있다. 예를 들어, 제약 제제는 약물 용출부 제조용 물질에 혼합된 100 μm 미만의 고체 입자 형태일 수 있다. 제약 제제의 방출 속도는 다수의 일정 크기의 제약 제제의 입자를 갖는 것에 기초할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시태양에서, 90% 이상의 입자가 50 μm 미만의 크기일 수 있다. 추가적으로 또는 별도로, 50% 이상의 입자가 10 μm 미만의 크기일 수 있다. 입자들은 고속 이중 원심분리 혼합기를 사용하여 액체 실리콘 중합체와 함께 입증된 방식으로 철저하게 혼합될 수 있다. 모든 실시태양에서, 가교 용액이 혼합물에 첨가될 수 있다. 그 후 생성된 혼합물은 적절하게 디자인된 주형을 사용하여 약물 용출부의 저장 공간으로 주입된다.

주변 내이 유체 중 제약 제제의 농도는 약물 용출 물질 중 제약 제제의 약물 로딩 및 투과성에 의존한다. 방출 시간은 실리콘의 가교 밀도, 전극 어레이의 약물 로딩량(%), 약물 로딩 중합체의 부피, 및 와우의 유체에 노출된 표면적에 따라 수일 내지 수개월일 수 있다.

본 발명의 실시태양에 따른 전극 어레이는 다양한 단계로 조합될 수 있다. 예를 들어, 전기적 자극에 사용되는 와이어 및 전극 접촉부를 어레이 주형의 한쪽 절반부에 둘 수 있다. 그 후 성형의 제1 단계에서는 리버스 주형(reverse molding)을 사용하거나 또는 제2 단계에서 약물 용출 실리콘 물질을 주입할 수 있는 공간이 남도록 마스킹하여 와이어 및 전극을 캡슐화한다. 이러한 접근은 두개의 유사한 중합체를 연결시켜 전극의 균일한 윤곽을 보장할 수 있다.

2단계 성형 방법을 사용하는 한가지 이점은 내이의 유체 중 전극 어레이 부분만을 제약 제제로 로딩하면 된다는 것이다. 전극 어레이의 외부 와우 부분은 약물 비용출 물질로 제조될 수 있고 약물 방출에 관여할 필요가 없다.

다수의 마스킹이 관여하는 다단계 성형 방법 또한 1 이상의 공간에 필요한(complimentary) 약물 용출 물질을 연속적으로 첨가하는데 사용할 수 있으며, 이 때 각각의 약물 용출부는 상이한 제약 제제 조성물을 갖는다. 이러한 방식에서, 필요한 약물 또는 다양한 수용체를 표적으로 하며 다양한 방출 속도를 갖는 약물이 전극 어레이에 혼입될 수 있다.

약리학적 활성제로 로딩된 중합체 로드를 사전제작할 수 있다. 약물 용출 물질의 로드는 전극 어레이의 주요 약물 비용출부의 제작에 사용되는 것과 동일하거나 또는 유사한 조성물의 실리콘으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 약물 용출 로드는 필요한 기구를 구비한 높은 수준의 제약 연구실에서 사전제작될 수 있다. 이어서 로드는 또다른 위치에서 와우 이식 전극 어레이와 조립되도록 장착될 수 있다. 예를 들어, 도 2B, 2D 및 4에 나타낸 전극 어레이는 사전제작된 약물 용출 로드와의 최종 조립을 위해 사전제작될 수 있다.

본 발명의 다양한 예시적 실시태양을 기술하였지만, 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명의 이점을 달성하기 위해 다양한 변화 및 변경이 당업자에게 만들어질 수 있음은 명백하다.

Claims (28)

1. 와우 조직을 전기적으로 자극하기 위한 와우 전극 어레이를 포함하며 내이에 대해 치료학적 유효량의 제약 제제를 시간에 따라 방출하도록 구성된 약물 용출부를 포함하는, 와우 이식 전극 어레이.
2. 제1항에 있어서, 제약 제제가 로딩된 로드(rod)를 함유하는 슬롯(slot)을 포함하는 전극 어레이.
3. 제2항에 있어서, 슬롯의 형상이 제약 제제의 방출 속도를 결정하는 것인 전극 어레이.
4. 제1항에 있어서, 제약 제제가 겔, 미립자 또는 고체인 전극 어레이.
5. 제1항에 있어서, 약물 용출부는 제약 제제가 혼입된 중합체 물질인 전극 어레이.
6. 제5항에 있어서, 중합체 물질이 실리콘-기재 엘라스토머인 전극 어레이.
7. 제1항에 있어서, 약물 용출부가 약물 비용출 물질의 두개의 층 사이에 샌드 위치된 물질의 층인 전극 어레이.
8. 제7항에 있어서, 약물 용출부가 전극 어레이의 0.25 내지 2 질량%를 이루는 것인 전극 어레이.
9. 제1항에 있어서, 약물 용출부가 약물 비용출 물질 내에 매립된 것인 전극 어레이.
10. 제9항에 있어서, 약물 비용출 물질의 두께가 제약 제제의 방출 속도를 결정하는 것인 전극 어레이.
11. 제1항에 있어서, 약물 용출부는 전극 어레이가 내이로 들어가는 곳으로부터 3 mm 이하에서 시작하는 것인 전극 어레이.
12. 제1항에 있어서, 제약 제제의 방출 속도가 약물 용출부 내 물질의 가교 밀도에 기초하는 것인 전극 어레이.
13. 제1항에 있어서, 제약 제제의 방출 속도가 내이의 유체에 노출된 약물 용출부의 표면적의 양에 기초하는 것인 전극 어레이.
14. 제1항에 있어서, 제약 제제의 방출 속도가 약물 용출부의 부피에 기초하는 것인 전극 어레이.
15. 제1항에 있어서, 약물 용출부가 각각이 상이한 제약 제제를 방출하도록 구성된 제1 및 제2 약물 용출부를 포함하는 것인 전극 어레이.
16. 제1항에 있어서, 전극 어레이가 와우 조직을 전기적으로 자극하는 다수의 전기 접촉부를 포함하며, 이 때 1 이상의 전기 접촉부는 제약 제제로 코팅된 것인 전극 어레이.
17. 제1항에 있어서, 제약 제제가 약물 용출부의 물질 내에 혼합된 100 μm 미만의 고체 입자 형태인 전극 어레이.
18. 제1항에 있어서, 제약 제제의 방출 속도가 다수의 일정 크기의 제약 제제의 입자를 갖는 것에 기초하는 것인 전극 어레이.
19. 제18항에 있어서, 90% 이상의 입자가 50 μm 미만인 것인 전극 어레이.
20. 제18항에 있어서, 50% 이상의 입자가 10 μm 미만인 것인 전극 어레이.
21. 제1항에 있어서, 제약 제제가 코르티코스테로이드인 전극 어레이.
22. 제21항에 있어서, 코르티코스테로이드가 베타메타손, 클로베타솔, 디플로라손, 플루오시놀론, 트리암시놀론, 이의 염, 에스테르 또는 조합을 포함하는 것인 전극 어레이.
23. 제21항에 있어서, 코르티코스테로이드가 덱사메타손인 전극 어레이.
24. 제23항에 있어서, 전극 어레이가 사용 초기 24 시간 동안 0.1 내지 1 μg의 덱사메타손이 방출되도록 구성된 것인 전극 어레이.
25. 제1항에 있어서, 제약 제제가 항염증제인 전극 어레이.
26. 제25항에 있어서, 항염증제의 통상적 염수 중의 포화 용해도가 37 ℃에서 80 μg/ml 이상인 전극 어레이.
27. 제25항에 있어서, 전극 어레이가 이식 후 제1주 동안 1 μg 내지 5 μg의 항염증제를 방출하도록 구성된 것인 전극 어레이.
28. 제1항에 있어서, 제약 제제가 항생제, 항산화제, 또는 성장 인자인 전극 어 레이.

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