KR20080032787A - Organic light emitting diode display - Google Patents

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Abstract

An organic light emitting diode display is provided to obtain desired white light by selectively emitting blue light from the white light radiated from a light emitting layer to improve blue color purity. An organic light emitting diode display includes a red pixel, a green pixel, a blue pixel(B), and a white pixel(W). Each of the pixels has a first electrode, a second electrode, and a light emitting member. The second electrode is opposite to the first electrode. The light emitting member is arranged between the first and second electrodes. The white pixel has semi-transparent members(192) on a top or a bottom of the first electrode to form a microcavity with the second electrode.

Description

유기 발광 표시 장치{ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY}Organic light emitting display device {ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY}

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 등가 회로도이고,1 is an equivalent circuit diagram of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서 복수의 화소의 배치를 보여주는 개략도이고, 2 is a schematic diagram illustrating an arrangement of a plurality of pixels in an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 유기 발광 표시 장치에서 이웃하는 두 개의 화소를 보여주는 배치도이고, 3 is a layout view illustrating two neighboring pixels in the OLED display of FIG. 2.

도 4 및 도 5는 도 3의 유기 발광 표시 장치를 IV-IV'-IV"-IV"' 선 및 V-V 선을 따라 자른 단면도이고,4 and 5 are cross-sectional views of the organic light emitting diode display of FIG. 3 taken along lines IV-IV'-IV "-IV" 'and V-V.

도 6은 백색 화소(W)에 형성되어 있는 반투명 부재의 모양을 예시적으로 도시한 개략도이고,6 is a schematic diagram illustrating an example of a shape of a translucent member formed in the white pixel W;

도 7 내지 도 11은 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 차례로 보여주는 단면도이고, 7 to 11 are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 12, 도 14, 도 16, 도 19 및 도 22는 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 차례로 보여주는 배치도이고, 12, 14, 16, 19, and 22 are layout views sequentially illustrating a method of manufacturing an OLED display according to an exemplary embodiment.

도 13은 도 12의 유기 발광 표시 장치를 XIII-XIII'-XIII" 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, FIG. 13 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 12 taken along the line XIII-XIII′-XIII ″.

도 15는 도 14의 유기 발광 표시 장치를 XV-XV'-XV" 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, FIG. 15 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 14 taken along the line XV-XV′-XV ″. FIG.

도 17 및 도 18은 도 16의 유기 발광 표시 장치를 XVII-XVII'-XVII"-XVII"' 선 및 XVIII-XVIII 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 17 and 18 are cross-sectional views of the organic light emitting diode display of FIG. 16 taken along lines XVII-XVII'-XVII "-XVII" 'and XVIII-XVIII.

도 20 및 도 21은 도 19의 유기 발광 표시 장치를 XX-XX'-XX"-XX"' 선 및 XXI-XXI 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 20 and 21 are cross-sectional views of the organic light emitting diode display of FIG. 19 taken along the lines XX-XX'-XX "-XX" 'and XXI-XXI.

도 23 및 도 24는 도 22의 유기 발광 표시 장치를 XXIII-XXIII'-XXIII"-XXIII"' 선 및 XXIV-XXIV 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 23 and 24 are cross-sectional views of the organic light emitting diode display of FIG. 22 taken along lines XXIII-XXIII'-XXIII "-XXIII" 'and XXIV-XXIV.

도 25는 본 발명의 다른 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 배치도이고, 25 is a layout view of an organic light emitting diode display according to another exemplary embodiment.

도 26은 도 25의 유기 발광 표시 장치를 XXVI-XXVI 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.FIG. 26 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 25 taken along the line XXVI-XXVI.

<도면 부호의 설명><Description of Drawing>

110: 절연 기판 121: 게이트선110: insulating substrate 121: gate line

124a: 스위칭 제어 전극 124b: 구동 제어 전극124a: switching control electrode 124b: drive control electrode

129: 게이트선의 끝 부분129: end of gate line

140: 게이트 절연막 154a: 스위칭 반도체140: gate insulating film 154a: switching semiconductor

154b: 구동 반도체 163a,163b,165a,165b: 저항성 접촉 부재154b: driving semiconductors 163a, 163b, 165a, and 165b: ohmic contacts

171: 데이터선 172: 구동 전압선171: data line 172: driving voltage line

173a: 스위칭 입력 전극 173b: 구동 입력 전극173a: switching input electrode 173b: drive input electrode

175a: 스위칭 출력 전극 175b: 구동 출력 전극175a: switching output electrode 175b: driving output electrode

179: 데이터선의 끝 부분 81, 82: 접촉 보조 부재179: end of data line 81, 82: contact auxiliary member

85: 연결 부재85: connecting member

181, 182, 184, 185a, 185b: 접촉 구멍 181, 182, 184, 185a, 185b: contact hole

191: 화소 전극 192, 193: 반투명 부재191: pixel electrode 192, 193: translucent member

270: 공통 전극 361: 절연성 둑270: common electrode 361: insulating weir

365: 개구부 370: 발광층 365: opening 370: light emitting layer

Qs: 스위칭 박막 트랜지스터 Qd: 구동 박막 트랜지스터Qs: switching thin film transistor Qd: driving thin film transistor

LD: 유기 발광 다이어드 Vss: 공통 전압LD: organic light emitting diamond Vss: common voltage

Cst: 유지 축전기Cst: retaining capacitor

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display device.

최근 모니터 또는 텔레비전 등의 경량화 및 박형화가 요구되고 있으며, 이러한 요구에 따라 음극선관(cathode ray tube, CRT)이 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)로 대체되고 있다.Recently, there is a demand for weight reduction and thinning of a monitor or a television, and according to such a demand, a cathode ray tube (CRT) has been replaced by a liquid crystal display (LCD).

그러나, 액정 표시 장치는 수발광 소자로서 별도의 백라이트(backlight)가 필요할 뿐만 아니라, 응답 속도 및 시야각 등에서 많은 문제점이 있다.However, the liquid crystal display device requires not only a separate backlight as a light emitting device, but also has many problems in response speed and viewing angle.

최근 이러한 문제점을 극복할 수 있는 표시 장치로서, 유기 발광 표시 장 치(organic light emitting diode display, OLED display)가 주목받고 있다. Recently, as a display device capable of overcoming such a problem, an organic light emitting diode display (OLED display) has attracted attention.

유기 발광 표시 장치는 두 개의 전극과 그 사이에 위치하는 발광층을 포함하며, 하나의 전극으로부터 주입된 전자(electron)와 다른 전극으로부터 주입된 정공(hole)이 발광층에서 결합하여 여기자(exciton)를 형성하고, 여기자가 에너지를 방출하면서 발광한다.The organic light emitting diode display includes two electrodes and a light emitting layer interposed therebetween, and electrons injected from one electrode and holes injected from another electrode are combined in the light emitting layer to form excitons. The excitons emit light while releasing energy.

유기 발광 표시 장치는 자체발광형으로 별도의 광원이 필요 없으므로 소비전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 응답 속도, 시야각 및 대비비(contrast ratio)도 우수하다.The OLED display is self-luminous and does not require a separate light source, which is advantageous in terms of power consumption, and also has excellent response speed, viewing angle, and contrast ratio.

유기 발광 표시 장치는 적색 화소, 청색 화소 및 녹색 화소 등의 복수의 화소(pixel)를 포함하며, 이들 화소를 조합하여 풀 컬러(full color)를 나타낼 수 있다. The organic light emitting diode display may include a plurality of pixels, such as a red pixel, a blue pixel, and a green pixel, and may combine these pixels to display full color.

그러나 유기 발광 표시 장치는 발광 재료에 따라 발광 효율이 다르다. 이 경우 적색, 녹색 및 청색 중 발광 효율이 낮은 재료는 원하는 색 좌표의 색을 낼 수 없으며, 적색, 녹색 및 청색이 조합하여 내는 백색 발광의 경우에도 발광 효율이 낮은 색으로 인해 백색 발광 효율이 떨어진다.However, the organic light emitting diode display has different luminous efficiency depending on the light emitting material. In this case, a material having low luminous efficiency among red, green, and blue cannot produce a color having a desired color coordinate, and white luminous efficiency is lowered due to a lower luminous efficiency even in the case of white light emission of a combination of red, green, and blue. .

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이를 해결하기 위한 것으로서, 유기 발광 표시 장치의 색 특성을 개선하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve this problem, and to improve color characteristics of the organic light emitting diode display.

본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 적색 화소, 녹색 화소, 청색 화소 및 백색 화소를 포함하고, 각 화소는 제1 전극, 상기 제1 전극과 마주하는 제2 전극, 그리고 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 위치하는 발광 부재를 포함하고, 상기 백색 화소는 상기 제1 전극의 하부 또는 상부에 형성되어 있으며 상기 제2 전극과 미세 공진(microcavity)을 형성하는 제1 반투명 부재를 포함한다.An organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a red pixel, a green pixel, a blue pixel, and a white pixel, each pixel including a first electrode, a second electrode facing the first electrode, and the first electrode. And a light emitting member positioned between the electrode and the second electrode, wherein the white pixel is formed under or over the first electrode and forms a first translucent member forming microcavity with the second electrode. Include.

상기 제1 반투명 부재는 은(Ag) 또는 알루미늄(Al)에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The first translucent member may include at least one selected from silver (Ag) or aluminum (Al).

상기 발광 부재는 서로 다른 파장의 광을 방출하는 복수의 발광층을 포함하며, 상기 서로 다른 파장의 광이 조합하여 백색 발광할 수 있다.The light emitting member may include a plurality of light emitting layers emitting light having different wavelengths, and the light having different wavelengths may be combined to emit white light.

상기 백색 발광은 노란 계열의 백색(yellowish white)을 띨 수 있다.The white light emission may be yellowish white.

상기 제1 반투명 부재는 상기 백색 광이 통과하는 영역 중 일부에만 형성되어 있을 수 있다.The first translucent member may be formed only in a part of a region through which the white light passes.

상기 적색 화소, 상기 녹색 화소 및 상기 청색 화소는 상기 제1 전극 하부에 형성되어 있는 색 필터를 더 포함할 수 있다.The red pixel, the green pixel, and the blue pixel may further include a color filter formed under the first electrode.

상기 적색 화소, 상기 녹색 화소 및 상기 청색 화소 중 발광 효율이 가장 낮은 화소는 상기 제1 전극의 하부 또는 상부에 형성되어 있으며 상기 제2 전극과 미세 공진을 형성하는 제2 반투명 부재를 더 포함할 수 있다.Pixels having the lowest luminous efficiency among the red pixel, the green pixel, and the blue pixel may further include a second translucent member formed below or above the first electrode and forming a fine resonance with the second electrode. have.

상기 발광 효율이 가장 낮은 화소는 청색 화소일 수 있다.The pixel having the lowest luminous efficiency may be a blue pixel.

상기 제2 반투명 부재는 은(Ag) 또는 알루미늄(Al)에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The second translucent member may include at least one selected from silver (Ag) or aluminum (Al).

상기 제2 반투명 부재는 상기 백색 광이 통과하는 모든 영역에 형성되어 있을 수 있다.The second translucent member may be formed in all regions through which the white light passes.

상기 적색 화소 및 상기 녹색 화소는 상기 제1 전극 하부에 형성되어 있는 색 필터를 더 포함할 수 있다.The red pixel and the green pixel may further include a color filter formed under the first electrode.

상기 제1 전극과 연결되어 있으며 다결정 반도체를 포함하는 구동 박막 트랜지스터, 그리고 상기 구동 박막 트랜지스터와 연결되어 있으며 비정질 반도체를 포함하는 스위칭 박막 트랜지스터를 더 포함할 수 있다.The display device may further include a driving thin film transistor connected to the first electrode and including a polycrystalline semiconductor, and a switching thin film transistor connected to the driving thin film transistor and including an amorphous semiconductor.

상기 구동 박막 트랜지스터는 상기 다결정 반도체 위에 형성되어 있는 구동 입력 전극, 상기 다결정 반도체 위에서 상기 구동 입력 전극과 마주하는 구동 출력 전극, 그리고 상기 구동 입력 전극 및 상기 구동 출력 전극 위에 형성되어 있는 구동 제어 전극을 더 포함할 수 있다.The driving thin film transistor further includes a driving input electrode formed on the polycrystalline semiconductor, a driving output electrode facing the driving input electrode on the polycrystalline semiconductor, and a driving control electrode formed on the driving input electrode and the driving output electrode. It may include.

상기 스위칭 박막 트랜지스터는 상기 비정질 반도체 하부에 형성되어 있는 스위칭 제어 전극, 상기 비정질 반도체 위에 형성되어 있는 스위칭 입력 전극, 그리고 상기 비정질 반도체 위에서 상기 스위칭 입력 전극과 마주하며 상기 구동 제어 전극과 연결되어 있는 스위칭 출력 전극을 더 포함할 수 있다.The switching thin film transistor includes a switching control electrode formed under the amorphous semiconductor, a switching input electrode formed on the amorphous semiconductor, and a switching output facing the switching input electrode on the amorphous semiconductor and connected to the driving control electrode. It may further include an electrode.

본 발명의 다른 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 화소를 포함하는 유기 발광 표시 장치에서, 상기 각 화소는 스위칭 박막 트랜지스터, 상기 스위칭 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 구동 박막 트랜지스터, 상기 구동 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 제1 전극, 상기 제1 전극 위에 형성되어 있으며 백색 광을 방출하는 발광 부재, 그리고 상기 발광 부재 위에 형성되어 있는 제2 전극을 포함하며, 상기 복수의 화소는 상기 백색 광이 통과하는 영역에 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극과 미세 공진을 형성하는 반투명 부재가 형성되어 있는 제1 화소 군, 그리고 상기 백색 광이 통과하는 영역에 색 필터가 형성되어 있는 제2 화소 군을 포함한다.In another exemplary embodiment, an organic light emitting diode display includes a plurality of pixels, wherein each pixel includes a switching thin film transistor, a driving thin film transistor connected to the switching thin film transistor, and the driving thin film transistor. And a first electrode connected to the first electrode, a light emitting member formed on the first electrode, and emitting white light, and a second electrode formed on the light emitting member, wherein the plurality of pixels pass through the white light. A first pixel group in which a translucent member for forming fine resonance with the first electrode or the second electrode is formed in a region, and a second pixel group in which a color filter is formed in a region through which the white light passes. .

상기 백색 광은 노란 계열의 백색(yellowish white)을 띨 수 있다.The white light may be yellowish white.

상기 제1 화소 군은 백색 화소를 포함할 수 있다.The first pixel group may include white pixels.

상기 반투명 부재는 상기 백색 광이 통과하는 영역 중 일부에 형성되어 있을 수 있다.The translucent member may be formed in part of a region through which the white light passes.

상기 제1 화소 군은 청색 화소를 포함할 수 있다.The first pixel group may include a blue pixel.

상기 제2 화소 군은 적색 화소 및 녹색 화소 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The second pixel group may include at least one of a red pixel and a green pixel.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the other part being "right over" but also another part in the middle. On the contrary, when a part is "just above" another part, there is no other part in the middle.

먼저 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 대하여 도 1을 참고로 상세하게 설명한다.First, an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 등가 회로도이다.1 is an equivalent circuit diagram of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참고하면, 본 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 신호선(121, 171, 172)과 이들에 연결되어 있으며 대략 행렬(matrix)의 형태로 배열된 복수의 화소(pixel)(PX)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the organic light emitting diode display according to the present exemplary embodiment includes a plurality of signal lines 121, 171, and 172 and a plurality of pixels PX connected to the plurality of signal lines 121, 171, and 172 and arranged in a substantially matrix form. ).

신호선은 게이트 신호(또는 주사 신호)를 전달하는 복수의 게이트선(gate line)(121), 데이터 신호를 전달하는 복수의 데이터선(data line)(171) 및 구동 전압을 전달하는 복수의 구동 전압선(driving voltage line)(172)을 포함한다. 게이트선(121)은 대략 행 방향으로 뻗어 있으며 서로가 거의 평행하고 데이터선(171)과 구동 전압선(172)은 대략 열 방향으로 뻗어 있으며 서로가 거의 평행하다.The signal line includes a plurality of gate lines 121 for transmitting a gate signal (or scan signal), a plurality of data lines 171 for transmitting a data signal, and a plurality of driving voltage lines for transmitting a driving voltage. and a driving voltage line 172. The gate lines 121 extend substantially in the row direction, and are substantially parallel to each other, and the data line 171 and the driving voltage line 172 extend substantially in the column direction, and are substantially parallel to each other.

각 화소(PX)는 스위칭 박막 트랜지스터(switching thin film transistor)(Qs), 구동 박막 트랜지스터(driving thin film transistor)(Qd), 유지 축전기(storage capacitor)(Cst) 및 유기 발광 다이오드(organic light emitting diode, OLED)(LD)를 포함한다.Each pixel PX includes a switching thin film transistor (Qs), a driving thin film transistor (Qd), a storage capacitor (Cst), and an organic light emitting diode. , OLED) (LD).

스위칭 박막 트랜지스터(Qs)는 제어 단자(control terminal), 입력 단자(input terminal) 및 출력 단자(output terminal)를 가지는데, 제어 단자는 게이트선(121)에 연결되어 있고, 입력 단자는 데이터선(171)에 연결되어 있으며, 출력 단자는 구동 박막 트랜지스터(Qd)에 연결되어 있다. 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)는 게이트선(121)에 인가되는 주사 신호에 응답하여 데이터선(171)에 인가되는 데이터 신호를 구동 박막 트랜지스터(Qd)에 전달한다.The switching thin film transistor Qs has a control terminal, an input terminal, and an output terminal, and the control terminal is connected to the gate line 121, and the input terminal is a data line ( The output terminal is connected to the driving thin film transistor Qd. The switching thin film transistor Qs transmits a data signal applied to the data line 171 to the driving thin film transistor Qd in response to a scan signal applied to the gate line 121.

구동 박막 트랜지스터(Qd) 또한 제어 단자, 입력 단자 및 출력 단자를 가지는데, 제어 단자는 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)에 연결되어 있고, 입력 단자는 구동 전압선(172)에 연결되어 있으며, 출력 단자는 유기 발광 다이오드(LD)에 연결되어 있다. 구동 박막 트랜지스터(Qd)는 제어 단자와 출력 단자 사이에 걸리는 전압에 따라 그 크기가 달라지는 출력 전류(ILD)를 흘린다.The driving thin film transistor Qd also has a control terminal, an input terminal, and an output terminal. The control terminal is connected to the switching thin film transistor Qs, the input terminal is connected to the driving voltage line 172, and the output terminal is organic. It is connected to the light emitting diode LD. The driving thin film transistor Qd flows an output current I LD whose magnitude varies depending on the voltage applied between the control terminal and the output terminal.

축전기(Cst)는 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 제어 단자와 입력 단자 사이에 연결되어 있다. 이 축전기(Cst)는 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 제어 단자에 인가되는 데이터 신호를 충전하고 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)가 턴 오프(turn-off)된 뒤에도 이를 유지한다.The capacitor Cst is connected between the control terminal and the input terminal of the driving thin film transistor Qd. The capacitor Cst charges a data signal applied to the control terminal of the driving thin film transistor Qd and maintains it even after the switching thin film transistor Qs is turned off.

유기 발광 다이오드(LD)는 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 출력 단자에 연결되어 있는 애노드(anode)와 공통 전압(Vss)에 연결되어 있는 캐소드(cathode)를 가진다. 유기 발광 다이오드(LD)는 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 출력 전류(ILD)에 따라 세기를 달리하여 발광함으로써 영상을 표시한다.The organic light emitting diode LD has an anode connected to the output terminal of the driving thin film transistor Qd and a cathode connected to the common voltage Vss. The organic light emitting diode LD displays an image by emitting light having a different intensity depending on the output current I LD of the driving thin film transistor Qd.

스위칭 박막 트랜지스터(Qs) 및 구동 박막 트랜지스터(Qd)는 n-채널 전계 효과 트랜지스터(field effect transistor, FET)이다. 그러나 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)와 구동 박막 트랜지스터(Qd) 중 적어도 하나는 p-채널 전계 효과 트랜지 스터일 수 있다. 또한, 박막 트랜지스터(Qs, Qd), 축전기(Cst) 및 유기 발광 다이오드(LD)의 연결 관계가 바뀔 수 있다.The switching thin film transistor Qs and the driving thin film transistor Qd are n-channel field effect transistors (FETs). However, at least one of the switching thin film transistor Qs and the driving thin film transistor Qd may be a p-channel field effect transistor. In addition, the connection relationship between the thin film transistors Qs and Qd, the capacitor Cst, and the organic light emitting diode LD may be changed.

그러면 도 1에 도시한 유기 발광 표시 장치의 상세 구조에 대하여 도 2 내지 도 5를 도 1과 함께 참고하여 상세하게 설명한다. Next, the detailed structure of the organic light emitting diode display illustrated in FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 5.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서 복수의 화소의 배치를 보여주는 개략도이고, 도 3은 도 2의 유기 발광 표시 장치에서 이웃하는 두 개의 화소를 보여주는 배치도이고, 도 4 및 도 5는 도 3의 유기 발광 표시 장치를 IV-IV'-IV"-IV"' 선 및 V-V 선을 따라 자른 단면도이다.2 is a schematic diagram illustrating an arrangement of a plurality of pixels in an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a layout view illustrating two neighboring pixels in the organic light emitting diode display of FIG. 2. 5 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 3 taken along a line IV-IV'-IV "-IV" 'and a line VV.

먼저 도 2를 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 적색을 표시하는 적색 화소(R), 녹색을 표시하는 녹색 화소(G), 청색을 표시하는 청색 화소(B) 및 색을 표시하지 않는 백색 화소(W)가 교대로 배치되어 있다. 예컨대 적색 화소(R), 녹색 화소(G), 청색 화소(B) 및 백색 화소(W)를 포함한 네 개의 화소는 하나의 군(group)을 이루어 행 및/또는 열을 따라 반복될 수 있다. 그러나 화소의 배치는 다양하게 변형될 수 있다.First, referring to FIG. 2, an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment includes a red pixel R displaying red, a green pixel G displaying green, a blue pixel B displaying blue, and the like. White pixels W which do not display colors are alternately arranged. For example, four pixels including a red pixel R, a green pixel G, a blue pixel B, and a white pixel W may be repeated in rows and / or columns in a group. However, the arrangement of the pixels may be variously modified.

이와 같이 적색 화소(R), 녹색 화소(G) 및 청색 화소(B) 외에 백색 화소(W)를 더 포함함으로써 휘도를 개선할 수 있다.As described above, the luminance may be improved by further including the white pixel W in addition to the red pixel R, the green pixel G, and the blue pixel B.

다음, 유기 발광 표시 장치의 상세 구조를 도 3 내지 도 5를 참고하여 상세하게 설명한다.Next, a detailed structure of the organic light emitting diode display will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5.

도 3에서는 도 2의 유기 발광 표시 장치에서 점선으로 표시한 백색 화소(W) 및 청색 화소(B)만을 도시하였다. 두 화소는 유기 발광 다이오드를 제외하고, 게 이트선(121), 데이터선(171), 구동 전압선(172), 스위칭 박막 트랜지스터(Qs) 및 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 구조는 같다. 따라서 동일한 구성 요소는 동일한 도면 부호를 부여한다.In FIG. 3, only the white pixels W and the blue pixels B shown by dotted lines in the OLED display of FIG. 2 are illustrated. Except for the organic light emitting diode, the two pixels have the same structure as the gate line 121, the data line 171, the driving voltage line 172, the switching thin film transistor Qs and the driving thin film transistor Qd. The same components therefore bear the same reference numerals.

투명한 유리 또는 플라스틱 따위로 만들어진 절연 기판(110) 위에 복수의 구동 반도체(154b) 및 복수의 선형 반도체 부재(151)가 형성되어 있다. A plurality of driving semiconductors 154b and a plurality of linear semiconductor members 151 are formed on an insulating substrate 110 made of transparent glass or plastic.

구동 반도체(154b)는 섬형이며, 선형 반도체 부재(151)는 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 구동 반도체(154b) 및 선형 반도체 부재(151)는 미세 결정질 규소(microcrystalline silicon) 또는 다결정 규소(polycrystalline silicon) 따위의 결정질 반도체 물질로 만들어질 수 있다.The driving semiconductor 154b is island-shaped, and the linear semiconductor member 151 mainly extends in the horizontal direction. The driving semiconductor 154b and the linear semiconductor member 151 may be made of a crystalline semiconductor material such as microcrystalline silicon or polycrystalline silicon.

구동 반도체(154b) 및 선형 반도체 부재(151) 위에는 복수의 게이트선(121), 복수의 구동 입력 전극(driving input electrode)(173b) 및 복수의 구동 출력 전극(driving output electrode)(175b)이 형성되어 있다.A plurality of gate lines 121, a plurality of driving input electrodes 173b, and a plurality of driving output electrodes 175b are formed on the driving semiconductor 154b and the linear semiconductor member 151. It is.

게이트선(121)은 게이트 신호를 전달하며 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 각 게이트선(121)은 위로 뻗어 있는 스위칭 제어 전극(switching control electrode)(124a)과 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위하여 면적이 넓은 끝 부분(129)을 포함한다. 게이트 신호를 생성하는 게이트 구동 회로(도시하지 않음)가 기판(110) 위에 집적되어 있는 경우 게이트선(121)이 연장되어 게이트 구동 회로와 직접 연결될 수 있다. The gate line 121 transmits a gate signal and mainly extends in a horizontal direction. Each gate line 121 includes an end portion 129 having a large area for connecting the switching control electrode 124a extending upward to another layer or an external driving circuit. When a gate driving circuit (not shown) generating a gate signal is integrated on the substrate 110, the gate line 121 may extend to be directly connected to the gate driving circuit.

게이트선(121)은 선형 반도체 부재(151)와 실질적으로 동일한 평면 모양을 가진다. The gate line 121 has a plane shape substantially the same as that of the linear semiconductor member 151.

구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)은 각각 섬형이며, 게이트선(121)과 분리되어 있다. 구동 입력 전극(173b)과 구동 출력 전극(175b)은 구동 반도체(154b) 위에서 서로 마주한다.The driving input electrode 173b and the driving output electrode 175b each have an island shape and are separated from the gate line 121. The driving input electrode 173b and the driving output electrode 175b face each other over the driving semiconductor 154b.

게이트선(121), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti) 따위로 만들어질 수 있다. 그러나 이들은 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수도 있다. The gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b include aluminum-based metals such as aluminum (Al) and aluminum alloys, silver-based metals such as silver (Ag) and silver alloys, and copper (Cu) and copper. It may be made of copper-based metals such as alloys, molybdenum-based metals such as molybdenum (Mo) or molybdenum alloys, chromium (Cr), tantalum (Ta) and titanium (Ti). However, they may have a multilayer structure including two conductive films (not shown) having different physical properties.

게이트선(121), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)은 기판(110) 면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 약 30° 내지 약 80°인 것이 바람직하다.The gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b are inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably about 30 ° to about 80 °.

구동 반도체(154b)와 구동 입력 전극(173b) 사이 및 구동 반도체(154b)와 구동 출력 전극(175b) 사이에는 각각 복수 쌍의 저항성 접촉 부재(ohmic contact)(163b, 165b)가 형성되어 있다. 또한 게이트선(121)과 선형 반도체 부재(151) 사이에는 불순물이 도핑되어 있는 선형 반도체 부재(161)가 형성되어 있다.A plurality of pairs of ohmic contacts 163b and 165b are formed between the driving semiconductor 154b and the driving input electrode 173b and between the driving semiconductor 154b and the driving output electrode 175b, respectively. In addition, a linear semiconductor member 161 is doped with an impurity between the gate line 121 and the linear semiconductor member 151.

저항성 접촉 부재(163b, 165b) 및 불순물이 도핑되어 있는 선형 반도체 부재(161)는 인(P) 따위의 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 미세 결정질 규소 또는 다결정 규소 따위의 불순물이 도핑되어 있는 결정질 반도체 물질로 만들어질 수 있다.The ohmic contacts 163b and 165b and the linear semiconductor member 161 doped with impurities are crystalline with dopants such as fine crystalline silicon or polycrystalline silicon doped with a high concentration of n-type impurities such as phosphorus (P). It can be made of a semiconductor material.

게이트선(121), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b) 위에는 산화규소(SiO2) 또는 질화규소(SiNx) 따위로 만들어진 게이트 절연막(140)이 형성되어 있다. 게이트 절연막(140)은 단일 층일 수도 있고, 산화규소로 만들어진 제1 층과 질화규소로 만들어진 제2 층을 포함하는 복수 층일 수도 있다.A gate insulating layer 140 made of silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiN x ) is formed on the gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b. The gate insulating layer 140 may be a single layer or a plurality of layers including a first layer made of silicon oxide and a second layer made of silicon nitride.

게이트 절연막(140) 위에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon)로 만들어진 복수의 스위칭 반도체(154a)가 형성되어 있다. 스위칭 반도체(154a)는 섬형이며, 스위칭 제어 전극(124a)과 중첩되어 있다. A plurality of switching semiconductors 154a made of hydrogenated amorphous silicon are formed on the gate insulating layer 140. The switching semiconductor 154a has an island shape and overlaps the switching control electrode 124a.

스위칭 반도체(154a) 및 게이트 절연막(140) 위에는 복수의 데이터선(171), 복수의 구동 전압선(172) 및 복수의 전극 부재(176)가 형성되어 있다.A plurality of data lines 171, a plurality of driving voltage lines 172, and a plurality of electrode members 176 are formed on the switching semiconductor 154a and the gate insulating layer 140.

데이터선(171)은 데이터 신호를 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121)과 교차한다. 각 데이터선(171)은 스위칭 제어 전극(124a)을 향하여 뻗은 복수의 스위칭 입력 전극(switching input electrode)(173a)과 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위하여 면적이 넓은 끝 부분(179)을 포함한다. 데이터 신호를 생성하는 데이터 구동 회로(도시하지 않음)가 기판(110) 위에 집적되어 있는 경우, 데이터선(171)이 연장되어 데이터 구동 회로와 직접 연결될 수 있다.The data line 171 transmits a data signal and mainly extends in the vertical direction to cross the gate line 121. Each data line 171 has a wide end portion 179 for connection with a plurality of switching input electrodes 173a extending toward the switching control electrode 124a and another layer or an external driving circuit. Include. When a data driving circuit (not shown) generating a data signal is integrated on the substrate 110, the data line 171 may be extended to be directly connected to the data driving circuit.

구동 전압선(172)은 구동 전압을 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121)과 교차하며 데이터선(171)과 거의 평행하다. 각 구동 전압선(172)은 돌출부(177)를 포함한다.The driving voltage line 172 transfers a driving voltage and mainly extends in a vertical direction to cross the gate line 121 and is substantially parallel to the data line 171. Each driving voltage line 172 includes a protrusion 177.

전극 부재(176)는 섬형이며 데이터선(171) 및 구동 전압선(172)과 분리되어 있다. 전극 부재(176)는 스위칭 입력 전극(173a)과 마주하는 부분(이하 '스위칭 출력 전극'이라 한다)(175a)과 구동 반도체(154b)와 중첩하는 부분(이하 '구동 제어 전극'이라 한다)(124b)을 포함한다. 스위칭 입력 전극(173a)과 스위칭 출력 전극(175a)은 스위칭 반도체(154a) 위에서 서로 마주한다.The electrode member 176 is an island and is separated from the data line 171 and the driving voltage line 172. The electrode member 176 overlaps the portion facing the switching input electrode 173a (hereinafter referred to as a 'switching output electrode') 175a and the driving semiconductor 154b (hereinafter referred to as a 'drive control electrode') ( 124b). The switching input electrode 173a and the switching output electrode 175a face each other over the switching semiconductor 154a.

데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176)는 상술한 게이트선(121)과 동일한 재료로 만들어질 수 있다.The data line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176 may be made of the same material as the gate line 121 described above.

데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176)의 측면은 기판(110) 면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 약 30° 내지 약 80°인 것이 바람직하다.Side surfaces of the data line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176 are inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably about 30 ° to about 80 °.

스위칭 반도체(154a)와 스위칭 입력 전극(173a) 사이 및 스위칭 반도체(154a)와 스위칭 출력 전극(175a) 사이에는 각각 복수 쌍의 저항성 접촉 부재(163a, 165a)가 형성되어 있다. 저항성 접촉 부재(163a, 165a)는 섬 모양이며, 인(P) 따위의 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위로 만들어질 수 있다.A plurality of pairs of ohmic contacts 163a and 165a are formed between the switching semiconductor 154a and the switching input electrode 173a and between the switching semiconductor 154a and the switching output electrode 175a, respectively. The ohmic contacts 163a and 165a have an island shape and may be made of n + hydrogenated amorphous silicon in which impurities such as phosphorus (P) are heavily doped.

데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176) 위에는 색 필터가 형성되어 있다. 도 3 내지 도 5에는 백색 화소(W) 및 청색 화소(B)만 도시되어 있으므로 청색 화소(B)에만 청색 필터(230B)를 도시하였지만, 실제는 적색 화소(R), 녹색 화소(G) 및 청색 화소(B)에 각각 적색 필터(도시하지 않음), 녹색 필터(도시하지 않음) 및 청색 필터(230B)가 형성되어 있다. 백색 화소(W)는 색 필터를 포함하지 않거나 투명한 백색 필터(도시하지 않음)를 포함할 수 있다.The color filter is formed on the data line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176. 3 to 5 show only the white pixel W and the blue pixel B, the blue filter 230B is shown only in the blue pixel B. However, the red pixel R, the green pixel G, A red filter (not shown), a green filter (not shown), and a blue filter 230B are formed in the blue pixel B, respectively. The white pixel W may not include a color filter or may include a transparent white filter (not shown).

색 필터(230B)는 외부 회로와 접속하는 게이트선(121)의 끝 부분(129) 및 데이터선(171)의 끝 부분(179)에는 형성되어 있지 않으며, 색 필터(230B)의 가장자리는 데이터선(171) 및 게이트선(121) 위에서 중첩될 수 있다. 이와 같이 색 필터(230B)의 가장자리를 중첩하여 형성함으로써 각 화소 사이에서 누설되는 빛을 차단할 수 있다.The color filter 230B is not formed at the end portion 129 of the gate line 121 and the end portion 179 of the data line 171 to be connected to an external circuit, and the edge of the color filter 230B is a data line. 171 and the gate line 121 may overlap. As described above, the edges of the color filters 230B are overlapped to block light leaking between the pixels.

색 필터(230B)의 하부에는 층간 절연막(도시하지 않음)이 형성될 수 있다. 층간 절연막은 색 필터의 안료가 반도체로 유입되는 것을 방지할 수 있다.An interlayer insulating film (not shown) may be formed under the color filter 230B. The interlayer insulating film can prevent the pigment of the color filter from flowing into the semiconductor.

색 필터(230B), 데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176) 위에는 보호막(passivation layer)(180)이 형성되어 있다. A passivation layer 180 is formed on the color filter 230B, the data line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176.

보호막(180)에는 구동 전압선(172)의 돌출부(177) 및 데이터선(171)의 끝 부분(179)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(contact hole)(185a, 182)이 형성되어 있으며, 보호막(180) 및 게이트 절연막(140)에는 게이트선(121)의 끝 부분(129), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(181, 184, 185b)이 형성되어 있다.The passivation layer 180 is formed with a plurality of contact holes 185a and 182 exposing the protrusion 177 of the driving voltage line 172 and the end portion 179 of the data line 171, and the passivation layer 180. ) And the gate insulating layer 140, a plurality of contact holes 181, 184, and 185b exposing the end portion 129 of the gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b are formed. .

보호막(180) 위에는 복수의 화소 전극(pixel electrode)(191), 복수의 연결 부재(85) 및 복수의 접촉 보조 부재(contact assistant)(81, 82)가 형성되어 있다. A plurality of pixel electrodes 191, a plurality of connection members 85, and a plurality of contact assistants 81 and 82 are formed on the passivation layer 180.

화소 전극(191)은 접촉 구멍(185b)을 통하여 구동 출력 전극(175b)과 연결되어 있다.The pixel electrode 191 is connected to the driving output electrode 175b through the contact hole 185b.

연결 부재(85)는 접촉 구멍(184, 185a)을 통하여 구동 전압선(172)의 돌출부(177)와 구동 입력 전극(173b)과 각각 연결되어 있으며, 구동 제어 전극(124b)과 일부 중첩하여 유지 축전기(storage capacitor)(Cst)를 이룬다. The connecting member 85 is connected to the protrusion 177 of the driving voltage line 172 and the driving input electrode 173b through the contact holes 184 and 185a, respectively, and partially overlaps with the driving control electrode 124b. (storage capacitor) (Cst).

접촉 보조 부재(81, 82)는 각각 접촉 구멍(181, 182)을 통하여 게이트선(121)의 끝 부분(129) 및 데이터선(171)의 끝 부분(179)과 연결된다. 접촉 보조 부재(81, 82)는 게이트선(121) 및 데이터선(171)의 끝 부분(129, 179)과 외부 장치와의 접착성을 보완하고 이들을 보호한다.The contact auxiliary members 81 and 82 are connected to the end portion 129 of the gate line 121 and the end portion 179 of the data line 171 through the contact holes 181 and 182, respectively. The contact auxiliary members 81 and 82 compensate for and protect the adhesion between the end portions 129 and 179 of the gate line 121 and the data line 171 and the external device.

화소 전극(191), 연결 부재(85) 및 접촉 보조 부재(81, 82)는 ITO 또는 IZO 따위의 투명 도전체로 만들어질 수 있다. The pixel electrode 191, the connection member 85, and the contact assistants 81 and 82 may be made of a transparent conductor such as ITO or IZO.

백색 화소(W)의 화소 전극(191) 위에는 복수의 반투명 부재(semi-transparent member)(192)가 형성되어 있다. 반투명 부재(192)는 빛의 일부를 투과하고 빛의 일부를 반사하는 성질을 가진 물질이면 특히 한정되지 않으며, 예컨대 알루미늄(Al) 또는 은(Ag) 따위의 불투명하고 흡수율이 낮은 도전체를 약 10 내지 100Å의 얇은 두께로 형성하여 반투명하게 할 수 있다. A plurality of semi-transparent members 192 are formed on the pixel electrode 191 of the white pixel W. The translucent member 192 is not particularly limited as long as it is a material having a property of transmitting a portion of light and reflecting a portion of light, and includes about 10 opaque, low-absorbance conductors such as aluminum (Al) or silver (Ag). It can be made translucent by forming into a thin thickness of -100 kPa.

본 실시예에서는 반투명 부재(192)가 화소 전극(191) 위에 위치하는 것만 예시적으로 보였지만, 화소 전극(191)의 하부에 위치할 수도 있다.In the present exemplary embodiment, only the translucent member 192 is positioned on the pixel electrode 191, but it may be located below the pixel electrode 191.

백색 화소(W)를 제외한, 적색 화소(R), 녹색 화소(G) 및 청색 화소(B)는 반투명 부재(192)를 포함하지 않는다.Except the white pixel W, the red pixel R, the green pixel G, and the blue pixel B do not include the translucent member 192.

반투명 부재(192)는 발광층에서 나온 빛이 통과하는 영역 중 일부에만 형성되어 있으며, 나머지 영역에는 화소 전극(191)이 노출되어 있다.The translucent member 192 is formed only in a portion of the region through which the light from the light emitting layer passes, and the pixel electrode 191 is exposed in the remaining region.

도 3 내지 도 5에서는 격자 무늬의 반투명 부재(192)를 예시적으로 도시하였지만, 이에 한정되지 않으며 예컨대 도 6과 같은 모양으로 형성될 수도 있다. 3 to 5 exemplarily illustrate the lattice translucent member 192, but the present invention is not limited thereto and may be formed in the shape of, for example, FIG. 6.

도 6은 백색 화소(W)에 형성되어 있는 반투명 부재(192)의 모양을 예시적으 로 도시한 개략도이다.6 is a schematic diagram illustrating an example of the shape of the translucent member 192 formed in the white pixel W. As shown in FIG.

도 6에서, (a)는 반투명 부재(192)가 화소 전극(191)의 가장 자리를 따라 형성된 모양을 보여주고, (b)는 반투명 부재(192)가 화소 전극(191)의 한쪽 모퉁이에만 형성된 모양을 보여주고, (c)는 반투명 부재(192)가 화소 전극(191)의 중앙에 형성된 모양을 보여준다. 어느 것이든, 발광층에서 나온 빛이 통과하는 영역 중 일부에만 형성되어 있으며, 나머지 영역에는 화소 전극(191)이 노출되어 있다. 이 때 화소 전극(191)을 통과한 빛은 기판의 전면으로 통과하고, 반투명 부재(192)를 통과한 빛의 일부는 기판의 전면으로 통과하고 빛의 일부는 반사된다.In FIG. 6, (a) shows a shape in which the translucent member 192 is formed along the edge of the pixel electrode 191, and (b) shows that the translucent member 192 is formed only at one corner of the pixel electrode 191. Shape (c) shows that the translucent member 192 is formed at the center of the pixel electrode 191. In any case, only a portion of a region through which light from the light emitting layer passes is formed, and the pixel electrode 191 is exposed in the remaining region. At this time, light passing through the pixel electrode 191 passes through the front surface of the substrate, a part of the light passing through the translucent member 192 passes through the front surface of the substrate and a part of the light is reflected.

화소 전극(191), 반투명 부재(192), 연결 부재(85) 및 접촉 보조 부재(81, 82) 위에는 절연성 둑(insulating bank)(361)이 형성되어 있다. 둑(361)은 화소 전극(191) 가장자리 주변을 둘러싸서 개구부(opening)(365)를 정의한다. 둑(361)은 아크릴 수지(acrylic resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 따위의 내열성 및 내용매성을 가지는 유기 절연물 또는 산화규소(SiO2), 산화티탄(TiO2) 따위의 무기 절연물로 만들어질 수 있으며, 2층 이상일 수 있다. 둑(361)은 또한 검정색 안료를 포함하는 감광재로 만들어질 수 있는데, 이 경우 둑(361)은 차광 부재의 역할을 하며 그 형성 공정이 간단하다. An insulating bank 361 is formed on the pixel electrode 191, the translucent member 192, the connection member 85, and the contact auxiliary members 81 and 82. The weir 361 defines an opening 365 by surrounding the edge of the pixel electrode 191. Weir 361 may be made of an organic insulator such as acrylic resin, polyimide resin, or an inorganic insulator such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ). It may be, and may be two or more layers. Weir 361 may also be made of a photosensitive material containing black pigment, in which case weir 361 acts as a light shielding member and the forming process is simple.

둑(361) 및 화소 전극(191) 위에는 유기 발광 부재(organic light emitting member)가 형성되어 있다. An organic light emitting member is formed on the bank 361 and the pixel electrode 191.

유기 발광 부재는 빛을 내는 발광층(emitting layer)(370) 외에 발광층의 발광 효율을 향상하기 위한 부대층(auxiliary layer)(도시하지 않음)을 포함할 수 있다. The organic light emitting member may include an auxiliary layer (not shown) for improving the light emitting efficiency of the light emitting layer in addition to the light emitting layer 370 that emits light.

발광층(370)은 백색 광을 방출할 수 있다. 적색, 녹색 및 청색 등의 광을 고유하게 내는 물질을 차례로 적층하여 복수의 서브 발광층(도시하지 않음)을 형성하고 이들의 색을 조합하여 백색 광을 방출할 수 있다. 이 때 서브 발광층은 수직하게 형성되는 것에 한정되지 않고 수평하게 형성될 수도 있으며, 백색 광을 낼 수 있는 조합이면 적색, 녹색 및 청색에 한하지 않고 다양한 색의 조합으로 형성할 수 있다.The light emitting layer 370 may emit white light. Subsequently, a material that uniquely emits light such as red, green, and blue may be stacked to form a plurality of sub light emitting layers (not shown), and the color may be combined to emit white light. In this case, the sub light emitting layer is not limited to being formed vertically, but may be formed horizontally. If the combination is capable of emitting white light, the sub light emitting layer is not limited to red, green and blue, and may be formed in various color combinations.

발광층(370)은 예컨대 고분자 물질 또는 저분자 물질로 만들어질 수 있으며, 고분자 물질에는 폴리플루오렌(polyfluorene) 유도체, (폴리)파라페닐렌비닐렌((poly)paraphenylenevinylene) 유도체, 폴리페닐렌(polyphenylene) 유도체, 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole), 폴리티오펜(polythiophene) 유도체 등이 포함될 수 있으며, 저분자 물질에는 9,10-디페닐안트라센(9,10-diphenylanthracene)과 같은 안트라센(anthracene), 테트라페닐부타디엔(tetraphenylbutadiene)과 같은 부타디엔(butadiene), 테트라센(tetracene), 디스티릴아릴렌(distyrylarylene) 유도체, 벤자졸(benzazole) 유도체 및 카바졸(carbazole) 유도체 등이 포함될 수 있다. 또는 상술한 고분자 물질 또는 저분자 물질을 호스트(host) 재료로 하고, 여기에 예컨대 크산텐(xanthene), 페릴렌(perylene), 쿠마린(cumarine), 로더민(rhodamine), 루브렌(rubrene), 디시아노메틸렌피란(dicyanomethylenepyran) 화합물, 티오피란(thiopyran) 화합물, (티아)피릴리움((thia)pyrilium) 화합물, 페리 플란텐(periflanthene) 유도체, 인데노페릴렌(indenoperylene) 유도체, 카보스티릴(carbostyryl) 화합물, 나일 레드(Nile red), 퀴나크리돈(quinacridone) 따위의 도펀트(dopant)를 도핑하여 발광 효율을 높일 수도 있다. The light emitting layer 370 may be made of, for example, a high molecular material or a low molecular material, and the high molecular material may include a polyfluorene derivative, a (poly) paraphenylenevinylene derivative, and a polyphenylene. Derivatives, polyvinylcarbazole, polythiophene derivatives, and the like, and the like, and low molecular weight substances such as 9,10-diphenylanthracene (anthracene), tetraphenylbutadiene Butadiene, such as (tetraphenylbutadiene), tetracene (tetracene), distyrylarylene derivatives, benzazole derivatives and carbazole derivatives (carbazole) may be included. Or the above-mentioned high molecular material or low molecular material as a host material, for example, xanthene, perylene, coumarin, rhodamine, rubrene, dish Aminomethylenepyran compound, thiopyran compound, (thia) pyrilium compound, periflanthene derivative, indenoperylene derivative, carbostyryl Dopant such as a compound, nile red, and quinacridone may be used to increase luminous efficiency.

부대층에는 전자와 정공의 균형을 맞추기 위한 전자 수송층(electron transport layer)(도시하지 않음) 및 정공 수송층(hole transport layer)(도시하지 않음)과 전자와 정공의 주입을 강화하기 위한 전자 주입층(electron injecting layer)(도시하지 않음) 및 정공 주입층(hole injecting layer)(도시하지 않음) 등이 있으며, 이 중에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 층을 포함할 수 있다. 정공 수송층 및 정공 주입층은 화소 전극(191)의 일 함수와 발광층의 HOMO(highest occupied molecular orbital) 준위 사이의 HOMO 준위를 가지는 재료로 만들어지고, 전자 수송층과 전자 주입층은 공통 전극(270)의 일 함수와 발광층의 LUMO(lowest unoccupied molecular orbital) 준위 사이의 LUMO 준위를 가지는 재료로 만들어진다. 예컨대 정공 수송층 또는 정공 주입층으로는 다이아민류, MTDATA ([4,4',4"-tris(3-methylphenyl)phenylamino]triphenylamine), TPD (N,N'-diphenyl-N, N'-di(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine), 1,1-비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)시클로헥산(1,1-bis(4-di-p-tolylaminophenyl)cyclohexane), N,N,N',N'-테트라(2-나프틸)-4,4-디아미노-p-터페닐(N,N,N',N'-tetra(2-naphthyl)-4,4-diamino-p-terphenyl), 4,4',4-트리스[(3-메틸페닐)페닐아미노]트리페닐아민(4,4',4-tris[(3-methylphenyl)phenylamino]triphenylamine), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리에틸렌디옥시티오펜과 폴리스티렌술폰산의 혼합물(poly- (3,4-ethylenedioxythiophene: polystyrenesulfonate, PEDOT:PSS) 따위를 사용할 수 있다.The auxiliary layer includes an electron transport layer (not shown) and a hole transport layer (not shown) for balancing electrons and holes, and an electron injection layer for enhancing the injection of electrons and holes ( electron injecting layer (not shown) and hole injecting layer (hole injecting layer) (not shown) and the like, and may include one or two or more layers selected from them. The hole transport layer and the hole injection layer are made of a material having a HOMO level between the work function of the pixel electrode 191 and the highest occupied molecular orbital (HOMO) level of the light emitting layer, and the electron transport layer and the electron injection layer are formed of the common electrode 270. It is made of a material having a LUMO level between the work function and the lower unoccupied molecular orbital (LUMO) level of the light emitting layer. For example, the hole transport layer or the hole injection layer may include diamines, MTDATA ([4,4 ', 4 "-tris (3-methylphenyl) phenylamino] triphenylamine), TPD (N, N'-diphenyl-N, N'-di ( 3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine), 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane (1,1-bis (4-di-p -tolylaminophenyl) cyclohexane), N, N, N ', N'-tetra (2-naphthyl) -4,4-diamino-p-terphenyl (N, N, N', N'-tetra (2- naphthyl) -4,4-diamino-p-terphenyl), 4,4 ', 4-tris [(3-methylphenyl) phenylamino] triphenylamine (4,4', 4-tris [(3-methylphenyl) phenylamino ] triphenylamine, polypyrrole, polyaniline, a mixture of polyethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonic acid (poly- (3,4-ethylenedioxythiophene: polystyrenesulfonate, PEDOT: PSS)) can be used.

유기 발광 부재(370) 위에는 공통 전극(common electrode)(270)이 형성되어 있다. 공통 전극(270)은 낮은 일 함수를 가지며 반사율이 높은 금속으로 만들어질 수 있으며, 예컨대 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 구리(Cu), 텅스텐(W) 또는 이들의 합금 따위일 수 있다. 공통 전극(270)은 기판의 전면(全面)에 형성되어 있으며, 화소 전극(191)과 쌍을 이루어 유기 발광 부재(370)에 전류를 흘려 보낸다.The common electrode 270 is formed on the organic light emitting member 370. The common electrode 270 may be made of a metal having a low work function and high reflectivity, such as aluminum or aluminum alloy, gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), copper (Cu), tungsten (W). ) Or alloys thereof. The common electrode 270 is formed on the entire surface of the substrate, and pairs with the pixel electrode 191 to send a current to the organic light emitting member 370.

이하, 백색 화소(W)에 대해서 설명한다.Hereinafter, the white pixel W will be described.

공통 전극(270)은 반투명 부재(192)와 함께 미세 공진 효과(microcavity effect)를 발생한다. 미세 공진 효과는 빛이 소정 거리만큼 떨어져 있는 반사층과 반투명 층을 반복적으로 반사함으로써 특정 파장의 빛을 증폭하는 것이다. 여기서 공통 전극(270)은 반사층 역할을 하고 반투명 부재(192)는 반투명 층 역할을 한다.The common electrode 270 generates a microcavity effect together with the translucent member 192. The fine resonance effect is to amplify the light of a specific wavelength by repeatedly reflecting the reflective layer and the translucent layer where the light is separated by a predetermined distance. The common electrode 270 serves as a reflective layer and the translucent member 192 serves as a translucent layer.

공통 전극(270)은 발광층(370)에서 방출하는 광의 발광 특성을 크게 개질하는 미세 공동을 형성하고, 미세 공진의 공명 파장에 상응하는 파장 부근의 발광은 반투명 부재(192)를 통해 강화되고, 다른 파장의 빛은 억제된다. 이 때 특정 파장의 광의 강화 및 억제는 공통 전극(270)과 반투명 부재(192) 사이의 거리에 따라 결정될 수 있다. 따라서 발광층(370) 및 부대층(도시하지 않음)의 두께 조절을 통해 특정 파장의 광을 강화 및 억제할 수 있다.The common electrode 270 forms a microcavity that greatly modifies the light emission characteristics of the light emitted from the light emitting layer 370, and light emission near the wavelength corresponding to the resonance wavelength of the micro resonance is enhanced through the translucent member 192, and the other Light of the wavelength is suppressed. In this case, the enhancement and suppression of light of a specific wavelength may be determined according to the distance between the common electrode 270 and the translucent member 192. Therefore, light of a specific wavelength may be enhanced and suppressed by controlling the thickness of the light emitting layer 370 and the auxiliary layer (not shown).

본 실시예에서는 발광층(370)에서 방출되는 백색 광 중 청색 광을 선택적으 로 출사하여 청색 순도를 향상시킬 수 있다. 이에 따라 발광 재료에 따른 발광 효율의 한계를 극복하고 원하는 백색 광을 얻을 수 있다.In the present embodiment, blue light may be selectively emitted from white light emitted from the light emitting layer 370 to improve blue purity. Accordingly, the desired white light can be obtained by overcoming the limitation of the light emission efficiency according to the light emitting material.

이 때 상술한 바와 같이 화소 전극(191)은 일부만 반투명 부재(192)로 덮여 있으며, 일부는 노출되어 있다. 따라서 반투명 부재(192)가 형성되어 있는 부분은 미세 공진 효과에 의해 청색 광을 방출할 수 있으며, 반투명 부재(192)가 형성되어 있지 않은 부분, 즉 화소 전극(191)이 노출되어 있는 부분은 그대로 백색 광이 통과한다. 이 때 화소 전극(191)을 통하여 나온 백색 광에는 반투명 부재(192)에 의해 일부 반사된 청색 광을 포함하지 않으므로, 백색 광 중 청색 광이 일부 감소되어 있는 노란색 계열의 백색(yellowish white)이다. 최종적으로, 기판 외부로 방출되는 광은 청색 광과 노란색 계열의 백색 광이 조합되어 완전한 백색을 낼 수 있다.At this time, as described above, only a part of the pixel electrode 191 is covered with the translucent member 192, and a part of the pixel electrode 191 is exposed. Therefore, the portion where the translucent member 192 is formed may emit blue light due to the fine resonance effect, and the portion where the translucent member 192 is not formed, that is, the portion where the pixel electrode 191 is exposed, is left as it is. White light passes through In this case, since the white light emitted through the pixel electrode 191 does not include the blue light partially reflected by the translucent member 192, the white light of the white light is yellowish white in which blue light is partially reduced. Finally, the light emitted to the outside of the substrate may be a combination of blue light and yellow-based white light to give a complete white.

상술한 미세 공진 효과가 없는 경우, 발광층에 동일한 전류가 인가된 경우 발광 효율이 높은 서브 발광층, 즉 적색 서브 발광층 및/또는 녹색 서브 발광층과 발광 효율이 낮은 서브 발광층, 즉 청색 서브 발광층은 각각 다른 색 특성을 가진 색을 내므로 이들을 조합하여 완전한 백색 발광을 하기 어렵다. 본 실시예에서는 이러한 발광 재료에 따른 발광 효율의 한계를 극복하고 원하는 백색 광을 얻을 수 있다.In the absence of the above-described fine resonance effect, when the same current is applied to the light emitting layer, the sub light emitting layer having high luminous efficiency, that is, the red sub light emitting layer and / or the green sub light emitting layer and the low light emitting efficiency, i.e., the blue sub light emitting layer, have different colors. Since it has a color with characteristics, it is difficult to combine them completely to emit white light. In this embodiment, the desired white light can be obtained by overcoming the limitation of the luminous efficiency according to the light emitting material.

이러한 유기 발광 표시 장치에서, 게이트선(121)에 연결되어 있는 스위칭 제어 전극(124a), 데이터선(171)에 연결되어 있는 스위칭 입력 전극(173a) 및 스위칭 출력 전극(175a)은 스위칭 반도체(154a)와 함께 스위칭 박막 트랜지스 터(switching TFT)(Qs)를 이루며, 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)의 채널(channel)은 스위칭 입력 전극(173a)과 스위칭 출력 전극(175a) 사이의 스위칭 반도체(154a)에 형성된다. 스위칭 출력 전극(175a)에 연결되어 있는 구동 제어 전극(124b), 구동 전압선(172)에 연결되어 있는 구동 입력 전극(173b) 및 화소 전극(191)에 연결되어 있는 구동 출력 전극(175b)은 구동 반도체(154b)와 함께 구동 박막 트랜지스터(driving TFT)(Qd)를 이루며, 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 채널은 구동 입력 전극(173b)과 구동 출력 전극(175b) 사이의 구동 반도체(154b)에 형성된다.In the organic light emitting diode display, the switching control electrode 124a connected to the gate line 121, the switching input electrode 173a connected to the data line 171, and the switching output electrode 175a are connected to the switching semiconductor 154a. And a switching TFT Qs, and a channel of the switching TFT Qs is a switching semiconductor 154a between the switching input electrode 173a and the switching output electrode 175a. Is formed. The driving control electrode 124b connected to the switching output electrode 175a, the driving input electrode 173b connected to the driving voltage line 172, and the driving output electrode 175b connected to the pixel electrode 191 are driven. A driving TFT Qd is formed together with the semiconductor 154b, and a channel of the driving TFT Qd is formed in the driving semiconductor 154b between the driving input electrode 173b and the driving output electrode 175b. do.

화소 전극(191), 유기 발광 부재(370) 및 공통 전극(270)은 유기 발광 다이오드(LD)를 이루며, 화소 전극(191)이 애노드(anode), 공통 전극(270)이 캐소드(cathode)가 되거나 반대로 화소 전극(191)이 캐소드, 공통 전극(270)이 애노드가 된다. The pixel electrode 191, the organic light emitting member 370, and the common electrode 270 form an organic light emitting diode LD, and the pixel electrode 191 is an anode and the common electrode 270 is a cathode. Alternatively, the pixel electrode 191 becomes a cathode and the common electrode 270 becomes an anode.

전술한 바와 같이, 스위칭 반도체(154a)는 비정질 반도체로 만들어지고, 구동 반도체(154b)는 결정질 반도체로 만들어진다. 즉, 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)의 채널은 비정질 반도체에 형성되고, 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 채널은 결정질 반도체에 형성된다.As described above, the switching semiconductor 154a is made of an amorphous semiconductor, and the driving semiconductor 154b is made of a crystalline semiconductor. That is, the channel of the switching thin film transistor Qs is formed in the amorphous semiconductor, and the channel of the driving thin film transistor Qd is formed in the crystalline semiconductor.

이와 같이 본 발명에서 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)와 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 채널은 결정 상태가 다른 반도체에 형성되며, 이에 따라 각 박막 트랜지스터에서 요구되는 특성을 동시에 만족할 수 있다.As described above, in the present invention, the channels of the switching thin film transistor Qs and the driving thin film transistor Qd are formed in semiconductors having different crystal states, thereby satisfying the characteristics required for each thin film transistor.

구동 박막 트랜지스터(Qd)의 채널을 미세 결정질 또는 다결정 반도체에 형성함으로써 높은 전하 이동도(carrier mobility) 및 안정성(stability)을 가질 수 있고, 이에 따라 발광 소자에 흐르는 전류량을 늘릴 수 있어서 휘도를 높일 수 있다. 또한, 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 채널을 미세 결정질 또는 다결정 반도체에 형성함으로써 구동시 계속적인 양(positive) 전압의 인가에 의해 발생하는 문턱 전압 이동 현상(Vth shift)을 방지하여 이미지 고착(image sticking) 및 수명 단축을 방지할 수 있다. By forming the channel of the driving thin film transistor Qd in the microcrystalline or polycrystalline semiconductor, it may have high carrier mobility and stability, thereby increasing the amount of current flowing through the light emitting device, thereby increasing luminance. have. In addition, by forming the channel of the driving thin film transistor Qd in the microcrystalline or polycrystalline semiconductor, image sticking is prevented by preventing the Vth shift caused by the continuous application of positive voltage during driving. ) And shortened lifespan.

한편, 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)는 데이터 전압을 제어하는 역할을 하기 때문에 온/오프(on/off) 특성이 중요하며, 특히 오프 전류(off current)를 줄이는 것이 중요하다. 그런데, 미세 결정질 또는 다결정 반도체는 오프 전류(off current)가 크기 때문에 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)를 통과하는 데이터 전압이 감소하고 크로스 토크가 발생할 수 있다. 따라서, 본 발명에서 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)는 오프 전류가 작은 비정질 반도체로 형성함으로써 데이터 전압의 감소를 방지하고 크로스 토크를 줄일 수 있다.On the other hand, since the switching thin film transistor Qs plays a role of controlling the data voltage, on / off characteristics are important, and in particular, it is important to reduce the off current. However, since the microcrystalline or polycrystalline semiconductor has a large off current, the data voltage passing through the switching thin film transistor Qs may decrease and cross talk may occur. Accordingly, in the present invention, the switching thin film transistor Qs is formed of an amorphous semiconductor having a small off current, thereby preventing a decrease in data voltage and reducing cross talk.

본 실시예에서는 스위칭 박막 트랜지스터(Qs) 1개와 구동 박막 트랜지스터(Qd) 1개만을 도시하였지만 이들 외에 적어도 하나의 박막 트랜지스터 및 이를 구동하기 위한 복수의 배선을 더 포함함으로써, 장시간 구동하여도 유기 발광 다이오드(LD) 및 구동 트랜지스터(Qd)가 열화되는 것을 방지하거나 보상하여 유기 발광 표시 장치의 수명이 단축되는 것을 방지할 수 있다. Although only one switching thin film transistor Qs and one driving thin film transistor Qd are shown in the present embodiment, at least one thin film transistor and a plurality of wirings for driving the thin film transistor are further included. It is possible to prevent or compensate the deterioration of the LD and the driving transistor Qd to prevent the life of the organic light emitting diode display from being shortened.

본 실시예에서는 발광층에서 방출하는 빛이 기판(110) 쪽으로 투과하는 하부 발광 구조(bottom emission)인 경우를 예시적으로 설명하였다. 그러나 발광층에서 방출하는 빛이 공통 전극(170) 쪽으로 투과하는 상부 발광 구조(top emission)도 가능하다. 이 경우에는 화소 전극(191)이 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 구리(Cu), 텅스텐(W) 또는 이들의 합금 따위의 불투명 도전체로 만들어질 수 있으며, 공통 전극이 투명 도전체로 만들어질 수 있다. 또한 상부 발광 구조인 경우 색 필터(230B)는 발광층의 상부에 위치한다.In the present embodiment, a case in which the light emitted from the light emitting layer is a bottom emission structure that transmits toward the substrate 110 is described. However, a top emission structure in which light emitted from the light emitting layer is transmitted toward the common electrode 170 is also possible. In this case, the pixel electrode 191 may be made of an opaque conductor such as aluminum or an aluminum alloy, gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), copper (Cu), tungsten (W), or an alloy thereof. The common electrode may be made of a transparent conductor. In addition, in the upper light emitting structure, the color filter 230B is positioned above the light emitting layer.

그러면 도 2 내지 도 5에 도시한 유기 발광 표시 장치를 제조하는 방법에 대하여 도 7 내지 도 23을 참고하여 상세하게 설명한다.Next, a method of manufacturing the OLED display illustrated in FIGS. 2 to 5 will be described in detail with reference to FIGS. 7 to 23.

도 7 내지 도 11은 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 차례로 보여주는 단면도이고, 도 12, 도 14, 도 16, 도 19 및 도 22는 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 차례로 보여주는 배치도이고, 도 13은 도 12의 유기 발광 표시 장치를 XIII-XIII'-XIII" 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 도 15는 도 14의 유기 발광 표시 장치를 XV-XV'-XV" 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 도 17 및 도 18은 도 16의 유기 발광 표시 장치를 XVII-XVII'-XVII"-XVII"' 선 및 XVIII-XVIII 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 도 20 및 도 21은 도 19의 유기 발광 표시 장치를 XX-XX'-XX"-XX"' 선 및 XXI-XXI 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 도 23 및 도 24는 도 22의 유기 발광 표시 장치를 XXIII-XXIII'-XXIII"-XXIII"' 선 및 XXIV-XXIV 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 도 25는 본 발명의 다른 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 배치도이고, 도 26은 도 25의 유기 발광 표시 장치를 XXVI-XXVI 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다. 7 to 11 are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 12, 14, 16, 19, and 22 are diagrams illustrating exemplary embodiments of the present invention. FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display, and FIG. 13 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 12 taken along the line XIII-XIII′-XIII ″, and FIG. 15 is an organic light emitting diode display of FIG. 14. Is a cross-sectional view taken along the line XV-XV'-XV ", and FIGS. 17 and 18 show the organic light emitting diode display of FIG. 16 along the line XVII-XVII'-XVII" -XVII "'and XVIII-XVIII 20 and 21 are cross-sectional views of the organic light emitting diode display of FIG. 19 taken along lines XX-XX'-XX "-XX" 'and XXI-XXI, and FIGS. 23 and 24. 22 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 22 taken along lines XXIII-XXIII'-XXIII "-XXIII" 'and XXIV-XXIV. 25 is a layout view of an OLED display according to another embodiment of the invention, Figure 26 is a cross-sectional view cut along the line XXVI-XXVI of the OLED display of Fig.

먼저, 도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 절연 기판(110) 위에 비정질 규소 층(150a) 및 불순물이 도핑된 비정질 규소층(160a)을 차례로 적층한다.First, as shown in FIGS. 7 and 8, the amorphous silicon layer 150a and the amorphous silicon layer 160a doped with impurities are sequentially stacked on the insulating substrate 110.

이어서, 비정질 규소층(150a) 및 불순물이 도핑된 비정질 규소층(160a)을 결정화하여 다결정 규소층(150b) 및 불순물이 도핑된 다결정 규소층(160b)을 형성한다. 이 때 결정화는 고상 결정화(solid phase crystallization, SPC), 급속 열처리(rapid thermal annealing, RTA), 액상 결정화(liquid phase recrystallization, LPR) 또는 엑시머 레이저 열처리(excimer laser annealing, ELA) 등의 방법으로 수행할 수 있으며, 이 중에서 고상 결정화 방법이 바람직하다. Subsequently, the amorphous silicon layer 150a and the doped amorphous silicon layer 160a are crystallized to form the polycrystalline silicon layer 150b and the doped polycrystalline silicon layer 160b. Crystallization may be performed by solid phase crystallization (SPC), rapid thermal annealing (RTA), liquid phase recrystallization (LPR), or excimer laser annealing (ELA). Among them, a solid phase crystallization method is preferred.

이어서, 불순물이 도핑된 다결정 규소층(160b) 위에 알루미늄 따위의 도전층(120)을 적층하고 그 위에 감광막(40)을 도포한다.Subsequently, a conductive layer 120 such as aluminum is stacked on the polycrystalline silicon layer 160b doped with impurities, and a photosensitive film 40 is coated thereon.

이어서, 감광막(40) 위에 투광 영역(10a), 차광 영역(10b) 및 반투광 영역(10c)을 가지는 마스크(mask)(10)를 배치한다. 반투광 영역(10c)에는 슬릿(slit) 패턴, 격자 패턴(lattice pattern) 또는 투과율이 중간이거나 두께가 중간인 박막이 구비된다. 슬릿 패턴을 사용할 때에는, 슬릿의 폭이나 슬릿 사이의 간격이 사진 공정에 사용하는 노광기의 분해능(resolution)보다 작은 것이 바람직하다. Subsequently, a mask 10 having a light transmitting region 10a, a light blocking region 10b, and a semi-transmissive region 10c is disposed on the photosensitive film 40. The semi-transmissive region 10c includes a slit pattern, a lattice pattern, or a thin film having a medium transmittance or a medium thickness. When using the slit pattern, it is preferable that the width of the slits and the interval between the slits are smaller than the resolution of the exposure machine used for the photographic process.

이어서, 도 9에 도시한 바와 같이, 감광막(40)을 노광 및 현상하여 제1 감광 패턴(40a)과 제1 감광 패턴(40a)보다 얇은 제2 감광 패턴(40b)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 9, the photosensitive film 40 is exposed and developed to form the first photosensitive pattern 40a and the second photosensitive pattern 40b thinner than the first photosensitive pattern 40a.

여기서 설명의 편의상, 게이트선(121), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)이 형성될 부분을 전극 부분(A)이라 하고, 구동 반도체(154b) 위에 채널이 형성될 부분을 채널 부분(B)이라 하고, 전극 부분(A) 및 채널 부분(B)을 제외한 영역을 나머지 부분(C)이라 한다.For convenience of description, the portion where the gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b are to be formed is called an electrode portion A, and the portion where the channel is to be formed on the driving semiconductor 154b is a channel. The region except for the electrode portion A and the channel portion B is called the remaining portion C.

전극 부분(A)에 위치한 제1 감광 패턴(40a)은 채널 부분(B)에 위치한 제2 감광 패턴(40b)보다 두껍게 형성하며, 나머지 부분(C)의 감광막은 모두 제거한다. 이 때 제1 감광 패턴(40a)의 두께와 제2 감광 패턴(40b)의 두께의 비(ratio)는 후술할 식각 공정에서의 공정 조건에 따라 다르게 하되, 제2 감광 패턴(40b)의 두께를 제1 감광 패턴(40a)의 두께의 1/2 이하로 하는 것이 바람직하다.The first photosensitive pattern 40a positioned at the electrode portion A is formed thicker than the second photosensitive pattern 40b positioned at the channel portion B, and all of the photosensitive film of the remaining portion C is removed. At this time, the ratio of the thickness of the first photosensitive pattern 40a to the thickness of the second photosensitive pattern 40b may vary depending on the process conditions in the etching process, which will be described later. It is preferable to set it as 1/2 or less of the thickness of the 1st photosensitive pattern 40a.

다음, 도 10에 도시한 바와 같이, 제1 감광 패턴(40a) 및 제2 감광 패턴(40b)을 사용하여 나머지 부분(C)에 노출되어 있는 도전층(120)을 습식 식각(wet etching)하여 스위칭 제어 전극(124a) 및 끝 부분(129)을 포함하는 게이트선(121) 및 도전 부재(174b)를 형성한다. Next, as illustrated in FIG. 10, the conductive layer 120 exposed to the remaining portion C is wet-etched using the first photosensitive pattern 40a and the second photosensitive pattern 40b. The gate line 121 and the conductive member 174b including the switching control electrode 124a and the end portion 129 are formed.

이어서, 게이트선(121) 및 도전 부재(174b)를 마스크로 하여 나머지 부분(C)에 노출되어 있는 다결정 규소층(150b) 및 불순물이 도핑된 다결정 규소층(160b)을 건식 식각(dry etching)하여 선형 반도체 부재(151), 구동 반도체(154b), 불순물이 도핑되어 있는 선형 반도체 부재(161) 및 저항성 접촉층(164b)을 형성한다. 이 때, 선형 반도체 부재(151) 및 불순물이 도핑되어 있는 선형 반도체 부재(161)는 게이트선(121)과 실질적으로 동일한 평면 모양으로 형성되고, 구동 반도체(154b) 및 저항성 접촉층(164b)은 도전 부재(174b)와 실질적으로 동일한 평면 모양으로 형성된다. Next, the dry etching of the polycrystalline silicon layer 150b exposed to the remaining portion C and the doped polycrystalline silicon layer 160b using the gate line 121 and the conductive member 174b as a mask is performed. The linear semiconductor member 151, the driving semiconductor 154b, the linear semiconductor member 161 doped with impurities, and the ohmic contact layer 164b are formed. In this case, the linear semiconductor member 151 and the linear semiconductor member 161 doped with impurities are formed in substantially the same planar shape as the gate line 121, and the driving semiconductor 154b and the ohmic contact layer 164b are formed. It is formed in substantially the same planar shape as the conductive member 174b.

다음, 도 11에 도시한 바와 같이, 애싱(ashing)과 같은 에치 백(etch back) 공정을 이용하여 채널 부분(B)에 존재하는 제2 감광 패턴(40b)을 제거한다. 이 때 제1 감광 패턴(40a) 또한 제2 감광 패턴(40b)의 두께만큼 제거되기 때문에 두께가 얇아진다. Next, as shown in FIG. 11, the second photosensitive pattern 40b existing in the channel portion B is removed using an etch back process such as ashing. At this time, since the first photosensitive pattern 40a is also removed by the thickness of the second photosensitive pattern 40b, the thickness becomes thin.

이어서, 제1 감광 패턴(40a)을 사용하여 패터닝함으로써 도전 부재(174b)를 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)으로 분리하고 구동 입력 전극(173b)과 구동 출력 전극(175b) 사이의 채널 부분에 저항성 접촉층(164b)을 노출한다.Subsequently, the conductive member 174b is separated into the driving input electrode 173b and the driving output electrode 175b by patterning using the first photosensitive pattern 40a and between the driving input electrode 173b and the driving output electrode 175b. The ohmic contact 164b is exposed on the channel portion of the.

다음, 도 12 및 도 13에 도시한 바와 같이, 제1 감광 패턴(40a)을 제거하고, 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b)을 마스크로 하여 저항성 접촉층(164b)을 건식 식각하여 한 쌍의 저항성 접촉 부재(163b, 165b)를 형성한다. Next, as shown in FIGS. 12 and 13, the first photosensitive pattern 40a is removed, and the ohmic contact layer 164b is dry-etched using the driving input electrode 173b and the driving output electrode 175b as a mask. As a result, a pair of ohmic contacts 163b and 165b are formed.

다음, 도 14 및 도 15에 도시한 바와 같이, 게이트선(121), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b) 위에 게이트 절연막(140), 진성 비정질 규소층 및 불순물이 도핑된 비정질 규소층을 연속하여 적층한 후 진성 비정질 규소층 및 불순물이 도핑된 비정질 규소층을 사진 식각하여 스위칭 반도체(154a) 및 저항성 접촉층(164a)을 형성한다.Next, as shown in FIGS. 14 and 15, an amorphous silicon doped with a gate insulating layer 140, an intrinsic amorphous silicon layer, and impurities on the gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b. After the layers are sequentially stacked, the switching semiconductor 154a and the ohmic contact layer 164a are formed by photo etching the intrinsic amorphous silicon layer and the doped amorphous silicon layer.

다음, 도 16 내지 도 18에 도시한 바와 같이, 게이트 절연막(140) 및 저항성 접촉층(164a) 위에 도전층을 적층하고 사진 식각하여 스위칭 입력 전극(173a) 및 끝 부분(179)을 포함하는 데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176)를 형성한다. 전극 부재(176)는 스위칭 출력 전극(175a)과 구동 제어 전극(124b)을 포함한다.Next, as shown in FIGS. 16 to 18, the conductive layer is stacked and photo-etched on the gate insulating layer 140 and the ohmic contact layer 164a to include the switching input electrode 173a and the end portion 179. The line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176 are formed. The electrode member 176 includes a switching output electrode 175a and a drive control electrode 124b.

이어서, 스위칭 입력 전극(173a) 및 스위칭 출력 전극(175a)을 마스크로 하 여 저항성 접촉층(164a)을 식각하여 한 쌍의 저항성 접촉 부재(163a, 165a)를 형성하고 스위칭 반도체(154a)의 일부를 노출한다.Subsequently, the ohmic contact layer 164a is etched using the switching input electrode 173a and the switching output electrode 175a as a mask to form a pair of ohmic contacts 163a and 165a, and a part of the switching semiconductor 154a. Expose

다음, 도 19 내지 도 21에 도시한 바와 같이, 데이터선(171), 구동 전압선(172), 전극 부재(176), 노출된 스위칭 반도체(154a) 및 게이트 절연막(140) 위에 색 필터(230B)를 형성한다. 색 필터(230B)는 도 2의 화소 배치에 따라 적색 화소(R)에는 적색 필터, 녹색 화소(G)에는 녹색 필터 및 청색 화소(B)에는 청색 필터를 형성하고, 백색 화소(W)에는 별도의 색 필터를 형성하지 않거나 투명 절연막을 형성할 수 있다.Next, as shown in FIGS. 19 to 21, the color filter 230B is disposed on the data line 171, the driving voltage line 172, the electrode member 176, the exposed switching semiconductor 154a, and the gate insulating layer 140. To form. The color filter 230B forms a red filter in the red pixel R, a green filter in the green pixel G, and a blue filter in the blue pixel B according to the pixel arrangement of FIG. 2, and separately in the white pixel W. The color filter may not be formed or a transparent insulating film may be formed.

다음, 색 필터(230B) 위에 보호막(180)을 적층한다. 이어서, 보호막(180) 및 게이트 절연막(140)을 사진 식각하여 복수의 접촉 구멍(181, 182, 184, 185a, 185b)을 형성한다.Next, the passivation layer 180 is laminated on the color filter 230B. Subsequently, the passivation layer 180 and the gate insulating layer 140 are etched to form a plurality of contact holes 181, 182, 184, 185a and 185b.

다음, 도 22 내지 도 24에 도시한 바와 같이, 보호막(180) 위에 ITO 또는 IZO를 증착한 후 사진 식각하여 복수의 화소 전극(191), 연결 부재(85) 및 복수의 접촉 보조 부재(81, 82)를 형성한다.Next, as shown in FIGS. 22 to 24, the ITO or IZO is deposited on the passivation layer 180, and then etched to photograph the plurality of pixel electrodes 191, the connection member 85, and the plurality of contact assistants 81. 82).

이어서 백색 화소(W)의 화소 전극(191) 위에 반투명 부재(192)를 형성한다.Subsequently, a translucent member 192 is formed on the pixel electrode 191 of the white pixel W.

다음, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 화소 전극(191), 반투명 부재(192), 연결 부재(85), 복수의 접촉 보조 부재(81, 82) 및 보호막(180) 위에 감광성 유기막을 도포한 후 노광 및 현상하여 복수의 개구부(365)를 가지는 절연성 둑(361)을 형성한다.3 and 4, a photosensitive organic layer is formed on the pixel electrode 191, the translucent member 192, the connection member 85, the plurality of contact auxiliary members 81 and 82, and the passivation layer 180. After coating, it is exposed and developed to form an insulating weir 361 having a plurality of openings 365.

이어서 복수의 부대층(도시하지 않음) 및 발광층(370)을 차례로 형성한다. 부대층 및 발광 부재(370)는 증착(deposition) 또는 잉크젯 인쇄(inkjet printing) 방법 등으로 형성할 수 있다.Subsequently, a plurality of auxiliary layers (not shown) and the light emitting layer 370 are sequentially formed. The auxiliary layer and the light emitting member 370 may be formed by a deposition method or an inkjet printing method.

마지막으로, 절연성 둑(361) 및 발광층(370) 위에 공통 전극(270)을 형성한다.Finally, the common electrode 270 is formed on the insulating weir 361 and the light emitting layer 370.

이하에서는 본 발명의 다른 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 대하여 도 25 및 도 26을 참고하여 설명한다.Hereinafter, an organic light emitting diode display according to another exemplary embodiment will be described with reference to FIGS. 25 and 26.

도 25는 본 발명의 다른 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 배치도이고, 도 26은 도 25의 유기 발광 표시 장치를 XXVI-XXVI 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.FIG. 25 is a layout view of an organic light emitting diode display according to another exemplary embodiment. FIG. 26 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 25 taken along a line XXVI-XXVI.

본 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 색 필터와 유기 발광 다이오드 부분을 제외하고는 전술한 실시예와 거의 동일하다.The organic light emitting diode display according to the present exemplary embodiment is almost the same as the above-described embodiment except for the color filter and the organic light emitting diode.

즉, 절연 기판(110) 위에 미세 결정질 규소 또는 다결정 규소 따위의 결정질 반도체 물질로 만들어진 복수의 구동 반도체(154b) 및 복수의 선형 반도체 부재(151)가 형성되어 있다. That is, the plurality of driving semiconductors 154b and the plurality of linear semiconductor members 151 made of crystalline semiconductor materials such as microcrystalline silicon or polycrystalline silicon are formed on the insulating substrate 110.

구동 반도체(154b) 및 선형 반도체 부재(151) 위에는 복수의 게이트선(121), 복수의 구동 입력 전극(173b) 및 복수의 구동 출력 전극(175b)이 형성되어 있다.A plurality of gate lines 121, a plurality of driving input electrodes 173b, and a plurality of driving output electrodes 175b are formed on the driving semiconductor 154b and the linear semiconductor member 151.

구동 반도체(154b)와 구동 입력 전극(173b) 사이 및 구동 반도체(154b)와 구동 출력 전극(175b) 사이에는 각각 복수 쌍의 저항성 접촉 부재(163b, 165b)가 형성되어 있다. 또한 게이트선(121)과 선형 반도체 부재(151) 사이에는 불순물이 도핑되어 있는 선형 반도체 부재(161)가 형성되어 있다.A plurality of pairs of ohmic contacts 163b and 165b are formed between the driving semiconductor 154b and the driving input electrode 173b and between the driving semiconductor 154b and the driving output electrode 175b, respectively. In addition, a linear semiconductor member 161 is doped with an impurity between the gate line 121 and the linear semiconductor member 151.

게이트선(121), 구동 입력 전극(173b) 및 구동 출력 전극(175b) 위에는 게이트 절연막(140)이 형성되어 있고, 게이트 절연막(140) 위에는 수소화 비정질 규소로 만들어진 복수의 스위칭 반도체(154a)가 형성되어 있다. A gate insulating layer 140 is formed on the gate line 121, the driving input electrode 173b, and the driving output electrode 175b, and a plurality of switching semiconductors 154a made of hydrogenated amorphous silicon are formed on the gate insulating layer 140. It is.

스위칭 반도체(154a) 및 게이트 절연막(140) 위에는 스위칭 입력 전극(173a)을 포함하는 데이터선(171), 돌출부(177)를 포함하는 구동 전압선(172) 및 스위칭 출력 전극(175a)과 구동 제어 전극(124b)을 포함하는 전극 부재(176)가 형성되어 있다.The data line 171 including the switching input electrode 173a, the driving voltage line 172 including the protrusion 177, the switching output electrode 175a, and the driving control electrode are disposed on the switching semiconductor 154a and the gate insulating layer 140. An electrode member 176 including 124b is formed.

스위칭 반도체(154a)와 스위칭 입력 전극(173a) 사이 및 스위칭 반도체(154a)와 스위칭 출력 전극(175a) 사이에는 각각 복수 쌍의 저항성 접촉 부재(163a, 165a)가 형성되어 있다. A plurality of pairs of ohmic contacts 163a and 165a are formed between the switching semiconductor 154a and the switching input electrode 173a and between the switching semiconductor 154a and the switching output electrode 175a, respectively.

데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176) 위에는 색 필터가 형성되어 있다. 이 때, 전술한 실시예와 달리, 색 필터는 적색 화소(R) 및 녹색 화소(G)에만 형성되어 있다. 백색 화소(W)는 색 필터를 포함하지 않거나 투명한 백색 필터(도시하지 않음)을 포함하고 청색 화소(B)는 색 필터를 포함하지 않는다. The color filter is formed on the data line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176. At this time, unlike the above-described embodiment, the color filter is formed only in the red pixel R and the green pixel G. The white pixel W does not include a color filter or includes a transparent white filter (not shown) and the blue pixel B does not include a color filter.

데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 전극 부재(176) 위에는 복수의 접촉 구멍(181, 192, 184, 185a, 185b)을 가지는 보호막(180)이 형성되어 있다. A passivation layer 180 having a plurality of contact holes 181, 192, 184, 185a, and 185b is formed on the data line 171, the driving voltage line 172, and the electrode member 176.

보호막(180) 위에는 복수의 화소 전극(191), 복수의 연결 부재(85) 및 복수의 접촉 보조 부재(81, 82)가 형성되어 있다. A plurality of pixel electrodes 191, a plurality of connection members 85, and a plurality of contact assistants 81 and 82 are formed on the passivation layer 180.

백색 화소(W) 및 청색 화소(B)의 화소 전극(191) 위에는 각각 반투명 부재(192, 193)가 형성되어 있다. 이 때 백색 화소(W)의 반투명 부재(192)는 전술한 실시예와 마찬가지로 발광층에서 나온 빛이 통과하는 영역 중 일부에만 형성되어 있으며, 일부는 화소 전극(191)이 노출되어 있다. 반면, 청색 화소(B)의 반투명 부재(193)는 발광층에서 나온 빛이 통과하는 전영역에 형성되어 있다.Translucent members 192 and 193 are formed on the pixel electrodes 191 of the white pixel W and the blue pixel B, respectively. At this time, the translucent member 192 of the white pixel W is formed only in a part of the region through which the light from the light emitting layer passes, as in the above-described embodiment, and the pixel electrode 191 is partially exposed. On the other hand, the translucent member 193 of the blue pixel B is formed in the entire region through which the light from the light emitting layer passes.

본 실시예에서는 반투명 부재(192, 193)가 화소 전극(191) 위에 형성되는 것만 예시적으로 보였지만, 화소 전극(191)의 하부에 위치할 수도 있다.In the present exemplary embodiment, only the translucent members 192 and 193 are formed on the pixel electrode 191, but it may be located below the pixel electrode 191.

백색 화소(W) 및 청색 화소(B)를 제외한, 적색 화소(R) 및 녹색 화소(G)는 반투명 부재(192, 193)를 포함하지 않는다.Except the white pixel W and the blue pixel B, the red pixel R and the green pixel G do not include the translucent members 192 and 193.

화소 전극(191), 반투명 부재(192, 193), 연결 부재(85) 및 접촉 보조 부재(81, 82) 위에는 절연성 둑(361)이 형성되어 있다. 둑(361)은 개구부(365)를 정의한다. An insulating weir 361 is formed on the pixel electrode 191, the translucent members 192 and 193, the connection member 85, and the contact auxiliary members 81 and 82. Weir 361 defines opening 365.

둑(361) 및 화소 전극(191) 위에는 복수의 서브 발광층(도시하지 않음)이 차례로 적층되어 백색 광을 내는 발광층(370)이 형성되어 있으며, 그 위에는 공통 전극(270)이 형성되어 있다.A plurality of sub light emitting layers (not shown) are sequentially stacked on the bank 361 and the pixel electrode 191 to emit white light, and a common electrode 270 is formed thereon.

본 실시예에서, 백색 화소(W)는 전술한 실시예와 동일하다. 즉 반투명 부재(192)가 형성된 부분에서는 발광층(370)에서 방출된 광이 공통 전극(270)과 반투명 부재(192) 사이에서 미세 공진 효과를 발생시켜 청색 광을 방출할 수 있으며, 반투명 부재(192)가 형성되지 않은 부분에서는 화소 전극(191)을 통하여 그대로 방출된 노란색 계열의 백색 광이 방출될 수 있으며, 이들이 조합되어 완전한 백색 광을 방출할 수 있다.In the present embodiment, the white pixel W is the same as the above-described embodiment. That is, in the portion where the translucent member 192 is formed, the light emitted from the light emitting layer 370 may generate a fine resonance effect between the common electrode 270 and the translucent member 192 to emit blue light, and the translucent member 192 In a portion where) is not formed, yellow-based white light emitted through the pixel electrode 191 may be emitted as it is, and these may be combined to emit completely white light.

한편, 본 실시예에서는 전술한 실시예와 달리 청색 화소(B)도 색 필터를 포 함하지 않는다. 청색 화소(B)는 발광층(370)으로부터 방출된 광이 공통 전극(270)과 반투명 부재(193) 사이에서 미세 공진 효과를 발생시켜 청색 광을 방출할 수 있다. 이 때 청색 화소(B)의 반투명 부재(193)는 빛이 통과하는 전면에 형성되어 있으므로 청색 광 만을 방출할 수 있다. 따라서 별도의 색 필터 없이도 색 순도가 높은 청색 광을 방출할 수 있다. On the other hand, in the present embodiment, unlike the above-described embodiment, the blue pixel B also does not include a color filter. In the blue pixel B, light emitted from the emission layer 370 may generate a fine resonance effect between the common electrode 270 and the translucent member 193 to emit blue light. In this case, since the translucent member 193 of the blue pixel B is formed on the entire surface through which light passes, only the blue light may be emitted. Therefore, blue light having high color purity can be emitted without a separate color filter.

상술한 실시예에서는 적색, 녹색 및 청색의 발광 재료 중 청색 발광 재료의 발광 효율이 가장 낮은 것으로 가정하고 설명하였지만, 적색 또는 녹색의 발광 재료의 효율이 더 낮은 경우 적색 화소 또는 녹색 화소에도 동일하게 적용할 수 있다. 또한 적색, 녹색 및 청색 외에 다른 색을 조합하여 백색 광을 발생하는 경우에도 발광 효율을 고려하여 동일하게 적용할 수 있다. In the above-described embodiment, it was assumed that the luminous efficiency of the blue light emitting material is the lowest among the red, green, and blue light emitting materials, but the same applies to the red pixel or the green pixel when the efficiency of the red or green light emitting material is lower. can do. In addition, in the case of generating white light by combining other colors besides red, green, and blue, the same may be applied in consideration of luminous efficiency.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구 범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리 범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of the invention.

발광 재료에 따른 발광 효율의 한계를 극복하고 원하는 색 특성을 나타내는 광을 얻을 수 있다.It is possible to overcome the limitations of the luminous efficiency according to the luminescent material and to obtain light exhibiting desired color characteristics.

Claims (20)

적색 화소, 녹색 화소, 청색 화소 및 백색 화소를 포함하는 유기 발광 표시 장치에서,In an organic light emitting display device including a red pixel, a green pixel, a blue pixel, and a white pixel, 상기 각 화소는Each pixel is 제1 전극,First electrode, 상기 제1 전극과 마주하는 제2 전극, 그리고A second electrode facing the first electrode, and 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 위치하는 발광 부재A light emitting member positioned between the first electrode and the second electrode 를 포함하고,Including, 상기 백색 화소는The white pixel 상기 제1 전극의 하부 또는 상부에 형성되어 있으며 상기 제2 전극과 미세 공진(microcavity)을 형성하는 제1 반투명 부재를 포함하는A first translucent member is formed below or above the first electrode and forms a microcavity with the second electrode. 유기 발광 표시 장치.OLED display. 제1항에서,In claim 1, 상기 제1 반투명 부재는 은(Ag) 또는 알루미늄(Al)에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 유기 발광 표시 장치.The first translucent member includes at least one selected from silver (Ag) or aluminum (Al). 제1항에서,In claim 1, 상기 발광 부재는 The light emitting member 서로 다른 파장의 광을 방출하는 복수의 서브 발광층을 포함하며,It includes a plurality of sub light emitting layer for emitting light of different wavelengths, 상기 서로 다른 파장의 광이 조합하여 백색 발광하는The light of different wavelengths combine to emit white light 유기 발광 표시 장치.OLED display. 제3항에서,In claim 3, 상기 백색 발광은 노란 계열의 백색(yellowish white)을 띠는 유기 발광 표시 장치. The white light emitting display has a yellowish white color. 제3항에서,In claim 3, 상기 제1 반투명 부재는 상기 백색 광이 통과하는 영역 중 일부에만 형성되어 있는 유기 발광 표시 장치. The first translucent member is formed in only a part of a region through which the white light passes. 제3항에서,In claim 3, 상기 적색 화소, 상기 녹색 화소 및 상기 청색 화소는 The red pixel, the green pixel and the blue pixel 상기 제1 전극 하부에 형성되어 있는 색 필터를 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.The organic light emitting display device further comprises a color filter formed under the first electrode. 제3항에서,In claim 3, 상기 적색 화소, 상기 녹색 화소 및 상기 청색 화소 중 발광 효율이 가장 낮은 화소는 Among the red pixels, the green pixels, and the blue pixels, the pixel having the lowest luminous efficiency is 상기 제1 전극의 하부 또는 상부에 형성되어 있으며 상기 제2 전극과 미세 공진을 형성하는 제2 반투명 부재A second translucent member formed on the lower or upper portion of the first electrode and forming a fine resonance with the second electrode 를 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.An organic light emitting display device further comprising. 제7항에서,In claim 7, 상기 발광 효율이 가장 낮은 화소는 청색 화소인 유기 발광 표시 장치.The pixel having the lowest luminous efficiency is a blue pixel. 제7항에서,In claim 7, 상기 제2 반투명 부재는 은(Ag) 또는 알루미늄(Al)에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 유기 발광 표시 장치.The second translucent member includes at least one selected from silver (Ag) and aluminum (Al). 제7항에서,In claim 7, 상기 제2 반투명 부재는 상기 백색 광이 통과하는 모든 영역에 형성되어 있는 유기 발광 표시 장치. And the second translucent member is formed in all regions through which the white light passes. 제7항에서,In claim 7, 상기 적색 화소 및 상기 녹색 화소는 상기 제1 전극 하부에 형성되어 있는 색 필터를 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.The red pixel and the green pixel further include a color filter formed under the first electrode. 제1항에서,In claim 1, 상기 제1 전극과 연결되어 있으며 다결정 반도체를 포함하는 구동 박막 트랜지스터, 그리고A driving thin film transistor connected to the first electrode and including a polycrystalline semiconductor, and 상기 구동 박막 트랜지스터와 연결되어 있으며 비정질 반도체를 포함하는 스위칭 박막 트랜지스터A switching thin film transistor connected to the driving thin film transistor and including an amorphous semiconductor. 를 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.An organic light emitting display device further comprising. 제12항에서,In claim 12, 상기 구동 박막 트랜지스터는The driving thin film transistor is 상기 다결정 반도체 위에 형성되어 있는 구동 입력 전극,A driving input electrode formed on the polycrystalline semiconductor, 상기 다결정 반도체 위에서 상기 구동 입력 전극과 마주하는 구동 출력 전극, 그리고A drive output electrode facing said drive input electrode on said polycrystalline semiconductor, and 상기 구동 입력 전극 및 상기 구동 출력 전극 위에 형성되어 있는 구동 제어 전극A drive control electrode formed on the drive input electrode and the drive output electrode; 을 더 포함하는 유기 발광 표시 장치. An organic light emitting display device further comprising. 제13항에서,In claim 13, 상기 스위칭 박막 트랜지스터는 The switching thin film transistor 상기 비정질 반도체 하부에 형성되어 있는 스위칭 제어 전극,A switching control electrode formed under the amorphous semiconductor, 상기 비정질 반도체 위에 형성되어 있는 스위칭 입력 전극, 그리고A switching input electrode formed on the amorphous semiconductor, and 상기 비정질 반도체 위에서 상기 스위칭 입력 전극과 마주하며 상기 구동 제 어 전극과 연결되어 있는 스위칭 출력 전극A switching output electrode facing the switching input electrode on the amorphous semiconductor and connected to the driving control electrode 을 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.An organic light emitting display device further comprising. 복수의 화소를 포함하는 유기 발광 표시 장치에서,In an organic light emitting diode display including a plurality of pixels, 상기 각 화소는Each pixel is 스위칭 박막 트랜지스터, Switching thin film transistor, 상기 스위칭 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 구동 박막 트랜지스터,A driving thin film transistor connected to the switching thin film transistor, 상기 구동 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 제1 전극,A first electrode connected to the driving thin film transistor, 상기 제1 전극 위에 형성되어 있으며 백색 광을 방출하는 발광 부재, 그리고A light emitting member formed on the first electrode and emitting white light; and 상기 발광 부재 위에 형성되어 있는 제2 전극A second electrode formed on the light emitting member 을 포함하며,Including; 상기 복수의 화소는The plurality of pixels 상기 백색 광이 통과하는 영역에 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극과 미세 공진을 형성하는 반투명 부재가 형성되어 있는 제1 화소 군, 그리고A first pixel group in which a translucent member for forming a fine resonance with the first electrode or the second electrode is formed in a region where the white light passes; and 상기 백색 광이 통과하는 영역에 색 필터가 형성되어 있는 제2 화소 군A second pixel group in which a color filter is formed in a region through which the white light passes; 을 포함하는 유기 발광 표시 장치. An organic light emitting display device comprising a. 제15항에서,The method of claim 15, 상기 백색 광은 노란 계열의 백색(yellowish white)을 띠는 유기 발광 표시 장치. The white light has a yellowish white color. 제16항에서,The method of claim 16, 상기 제1 화소 군은 백색 화소를 포함하는 유기 발광 표시 장치.The first pixel group includes white pixels. 제17항에서,The method of claim 17, 상기 반투명 부재는 상기 백색 광이 통과하는 영역 중 일부에 형성되어 있는 유기 발광 표시 장치. The translucent member is formed in a part of the region through which the white light passes. 제17항에서,The method of claim 17, 상기 제1 화소 군은 청색 화소를 포함하는 유기 발광 표시 장치.The first pixel group includes blue pixels. 제16항에서,The method of claim 16, 상기 제2 화소 군은 적색 화소 및 녹색 화소 중 적어도 하나를 포함하는 유기 발광 표시 장치.The second pixel group includes at least one of a red pixel and a green pixel.
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