KR20070109585A - 유전체 페이스트 조성물 및 이를 이용한 플라즈마디스플레이 패널의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것으로 특히, 패널의 제조 공정을 단축할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법과 유전체 페이스트 조성물에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 기판에 전극 패턴을 형성하는 단계와; 상기 전극 패턴 위에 테이블 코팅법을 이용하여 유전체막을 형성하는 단계와; 상기 전극 패턴과 유전체막을 소성하는 단계를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.

PDP, 유전체, 전극, 테이블 코팅, 경화.

Description

유전체 페이스트 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법{Method for making plasma display panel}

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 일례를 나타내는 사시도이다.

도 2는 일반적인 테이블 코팅법을 이용한 유전체층의 형성과정을 나타내는 개략도이다.

도 3은 본 발명의 일 실시예로서, 전극을 경화시키는 단계를 나타내는 개략도이다.

도 4는 본 발명의 테이블 코팅법을 이용하여 유전체층을 형성하는 단계를 나타내는 개략도이다.

도 5는 본 발명의 제조방법에 의하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널의 상부패널의 일례를 나타내는 단면도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명>

100 : 기판 110 : 전극

111 : 전극 패턴 120 : 유전체층

130 : 보호막 200 : 테이블 코터

210 : 노즐 220 : 유전체 페이스트

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것으로 특히, 패널의 제조 공정을 단축할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법과 유전체 페이스트 조성물에 관한 것이다.

플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel: 이하, PDP)은 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하는 발광형 소자의 일종으로서, 각 셀마다 액티브 소자를 장착할 필요가 없어서 제조 공정이 간단하고, 화면의 대형화가 용이하며, 응답속도가 빨라 대형화면을 가지는 화상표시장치의 표시소자로 각광받고 있다.

이와 같은 PDP의 구조는 도 1에서 도시하는 바와 같이, 상부패널(10)과 하부패널(20)을 대향시켜 겹친 구조로 되어있다. 상기 상부패널(10)은 투명 기판(11)의 내면에 한 쌍의 유지전극(12)이 배열되는데, 보통 이 유지전극(12)은 투명전극과 버스전극으로 나뉘어진다.

이러한 유지전극(12)은 AC 구동을 위한 유전체층(13)으로 피복되고, 이 유전체층(13)의 표면에는 보호막(14)이 형성된다.

한편, 상기 하부패널(20)의 내면에는 하부기판(21) 위에 어드레스 전극(22)이 배열되고, 그 위에 유전체층(23)이 형성되는데, 이 유전체층(23) 위에는 방전셀 공간을 분리하기 위한 스트라이프 또는 웰 타입의 격벽(24)이 형성되고, 이 격벽(24)에 의해 구획되는 셀에는 컬러표시를 위한 적색, 청색 및 녹색의 형광체층(26)이 도포되어 서브 픽셀을 이룬다.

상기 격벽(24)에 의하여 방전셀(25)이 서브 픽셀마다 구획되고, 또한 이 방전셀(25)에는 방전가스가 봉입되며, 하나의 픽셀(one pixel)은 상기 3개의 서브 픽셀로 이루어진다.

상기와 같은 PDP의 상부패널(10)의 제조과정은 다음과 같은 단계로 이루어진다.

즉, 상부기판(11) 위에 유지전극(12) 패턴이 형성되고, 건조 후 소성되어 제조된 상태에서 상술한 바와 같이, 유전체층(13)이 형성된다.

이러한 유전체층(13)의 형성방법은 스크린 프린팅법, 그린시트법, 테이블 코팅법 등이 있다.

먼저, 스크린 프린팅법은 유지전극(12)이 형성된 상부기판(11) 위에 유전체 페이스트를 스크린 프린팅을 이용하여 여러번 인쇄함으로써, 원하는 높이의 유전체층(13)을 형성시킨 후, 소성 공정을 거쳐 이와 같이 형성된 유전체층(13)을 경화시킨다.

또한, 그린시트법은 유지전극(12)이 형성된 상부기판(11) 위에 이미 제조해 높은 유전체 그린시트를 이용하여, 라미네이션 공정을 통해, 유전체층(13)을 형성시키고, 소성 공정을 걸쳐 최종적을 유전체를 형성한다.

한편, 테이블 코팅법은 도 2에서 도시하는 바와 같이, 유지전극(12)이 형성된 상부기판(11) 위에 테이블 코터(30)를 이용하여, 유전체 페이스트(31)를 도포한 후, 건조로(32)를 거쳐 건조된 유전체층(13)을 얻으며, 이후 소성 공정을 걸쳐 최종적으로 유전체층(13)을 형성한다.

이와 같은 테이블 코팅법은 기 형성된 유지전극(12)에 외력을 가하지 않으므로 유지전극(12)을 소성하지 않은 상태에서 유전체층(13)을 테이블 코팅법을 이용하여 형성한 후, 상기 유지전극(12)과 함께 유전체층(13)을 소성하여 형성할 수 있다.

그러나, 상술한 바와 같이, 유지전극과 유전체층을 동시에 소성하는 공정을 이용하여, 유지전극 패턴 형성 후에 소성이 이루어지지 않은 유지전극 패턴에 유전체 페이스트를 도포하면, 유전체 패이스트의 용매(solvent) 및 유기물이 건조상태의 유지전극 패턴에 침투하여 유지전극 패턴이 변형되어 손상되는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 패널의 제조 공정을 단축할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법과 유전체 페이스트 조성물을 제공하고자 한다.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제1관점으로서, 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 기판에 전극 패턴을 형성하는 단계와; 상기 전극 패턴 위에 테이블 코팅법을 이용하여 유전체막을 형성하는 단계와; 상기 전극 패턴과 유전체막을 소성하는 단계를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.

상기 전극은 감광성 전극 재료를 이용하여 형성할 수 있으며, 상기 기판에 전극 패턴을 형성하는 단계 후에, 상기 전극을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 경화는 UV 경화 또는 열 경화를 이용할 수 있으며, UV 경화를 이용하는 경우에는 전극이 형성된 기판의 배면에서 UV 광을 조사하는 것이 바람직하다.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제2관점으로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 기판에 감광성 재료를 이용하여 전극을 형성하는 단계와; 상기 전극을 경화시키는 단계와; 상기 전극 위에 유전체막을 형성하는 단계와; 상기 기판에 형성된 전극과 유전체막을 소성하는 단계를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제3관점으로서, 유전체 파우더가 30 내지 80%, 용매가 20 내지 50%, 바인더 및 첨가제가 3 내지 30%의 조성을 가지며, 상기 조성에 의한 점도는 2000 내지 50000cPs인 유전체 조성물을 구성하는 것이 바람직하다.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 의한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 3에서 도시하는 바와 같이, 본 발명의 제조방법은, 먼저, 기판(100) 위에 전극 패턴(111)을 형성한다.

이와 같은 전극 패턴(111)은 감광성법을 이용하여 형성할 수 있다. 즉, UV경화개시제와 같은 광개시제가 포함된 전극 페이스트를 이용하여 전극 패턴(111)을 형성한다.

이때, 이러한 전극 패턴(111)은 다양한 방법으로 형성할 수 있다. 즉, 오프셋법을 이용하거나, 포토 에칭법, 리프트 오프법 등의 방법으로 형성할 수 있다. 이때, 이러한 전극 패턴(111)은 UV 광이 조사되어 경화된 상태이다.

이와 같이, 전극 패턴(111)은 패턴을 형성하는 과정에서 노광 과정에 의하여 경화된 상태이나, 이러한 경화는 완전하지 못하여, 전극 패턴(111)의 상측 부분만이 일부 경화된 상태로 존재한다.

즉, 전극 패턴(111) 형성시의 UV 광의 조사는 기판(100)의 상측에서 조사되므로, 이러한 UV 광은 전극 패턴(111) 전체를 투과하지 못하게 되어, 전극 패턴(111)의 상측면은 경화가 일어나나, 기판(100)에 접촉하는 하측 부분에는 경화가 완전히 이루어지지 않은 상태이다.

이와 같은 상태에서 유전체 페이스트를 도포하게 되면 상기 전극 패턴(111)은 손상될 수 있다.

즉, 건조된 전극 패턴(111) 위에, 도 4와 같이, 테이블 코터(200)를 이용하여 유전체 페이스트(220)를 도포하게 되면, 이러한 유전체 페이스트(220) 내의 유기물 및 용매(solvent)가 전극 패턴(111)으로 침투하게 되며, 이러한 침투는 전극 패턴(111) 중에서 침투하기 용이한 곳에 이루어진다.

이러한 침투가 용이한 부분은 기판(100)과 전극 패턴(111)의 계면 부분이 될 수 있으며, 이러한 유전체 패이스트(220)의 용매가 전극 패턴(111)으로 침투하게 되면, 전극 패턴(111)의 형태가 손상될 수 있다.

따라서, 도 3에서 도시하는 바와 같이, 상기 전극 패턴(111)이 형성된 기판(100)의 배면에서 UV 광을 전체적으로 조사한다.

그러면 이러한 UV 광에 의하여, 상기 전극 패턴(111)의 패터닝 과정에서 UV 광이 도달하지 못하여 경화되지 못한 부분이 경화될 수 있다.

이때, UV 광의 노광량은 10 ~ 1000mJ의 에너지를 가지는 노광량으로 조사하는 것이 바람직하다.

이와 같은 UV 광을 이용한 경화는 이후에 이루어지는 유전체 페이스트(220)의 적층 과정에서, 이러한 유전체 페이스트(220)의 용매에 의하여 전극 패턴(111)이 변형되지 않을 정도로 이루어질 수 있다.

한편, 이러한 경화 과정은 열 경화를 이용할 수도 있고, 이때, 상기 전극 패턴(111)에는 열경화 개시제를 포함할 수 있다.

상술한 바와 같이, 기판(100) 위에 전극 패턴(111)이 경화된 후에는 유전체막(121)을 형성한다.

이때, 이러한 유전체막(121)은 도 4에서와 같이, 테이블 코터(200)를 이용하여 형성할 수 있다.

즉, 유전체 페이스트(220)를 도포하기 위한 노즐(210)을 상기 전극 패턴(111)이 형성된 기판(100) 위에 위치시키고, 유전체 페이스트(220)를 도포하여 유전체막(121)을 형성하는 것이다.

이때, 상기 노즐(210)은 기판(100) 상측을 이송하면서 유전체 페이스트(220)를 도포하거나, 기판(100)을 이송하면서 유전체 페이스트(220)를 도포할 수 있다.

이러한 유전체막(121)의 형성 과정에서, 상기 전극 패턴(111)은 경화된 상태이므로 이러한 유전체막(121)을 이루는 유전체 페이스트(220)에 의하여 손상되지 않는다.

이러한 테이블 코터(200)에서 노즐(210)을 통하여 도포되는 유전체 페이스트(220)의 조성은, 유전체 파우더가 30 ~ 80%, 용매가 20 ~ 50%, 기타 바인더 및 첨가제가 3 ~ 30%로 이루어진다.

이와 같은 유전체 페이스트(220)가 테이블 코팅법에 의하여 도포되기 위해서, 이러한 유전체 페이스트(220)는 2000 ~ 50000cPs(centi-poise·second)의 점도를 가지도록 하는 것이 바람직하다.

이와 같이, 전극 패턴(111)과 유전체 페이스트(220)가 도포되어 유전체막(121)이 형성된 기판(100)은, 도 4에서와 같이, 이송되어 건조로(230)를 통과하면서 건조된다.

상술한 바와 같이, 건조 및 경화된 전극 패턴(111)과, 이 전극 패턴(111) 위에 도포된 유전체 페이스트(220)는 동시에 소성되어, 도 5와 같이, 기판(100) 위에 전극(110)과 유전체층(120)이 제조된다.

이러한 유전체층(120) 위에는 보호막(130)이 형성되어, 플라즈마 디스플레이 패널의 상부패널을 이룬다.

이와 같이, 전극 패턴(111)과 유전체 페이스트(220)가 동시에 소성되므로, 공정을 단순화시킬 수 있고, 여러번 소성시 발생할 수 있는 기판(100)의 손상, 기타 다른 층들의 손상을 방지할 수 있다.

또한, 이러한 소성 공정은 고온에서 이루어지므로 온도를 상승시키고 하강시키는 과정이 여러번 반복되면 전력, 시간 등에 있어서 손실이 발생하나, 이러한 전력과 시간의 손실을 방지할 수 있다.

상기 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구체적으로 설명하기 위한 일례로서, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 다양한 형태의 변형이 가능하고, 이러한 기술적 사상의 여러 실시 형태는 모두 본 발명의 보호범위에 속함은 당연하다.

이상과 같은 본 발명은 다음과 같은 효과가 있는 것이다.

첫째, 플라즈마 디스플레이 패널의 막 형성에 있어서, 테이블 코팅법을 이용할 수 있다.

둘째, 전극과 유전체층을 동시에 소성할 수 있으므로, 공정이 단순화되고, 공정에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있다.

셋째, 전극과 유전체층을 동시에 이용하는 경우에, 전극 패턴의 손상을 방지할 수 있다.

Claims (12)

1. 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서,

   기판에 전극 패턴을 형성하는 단계와;

   상기 전극 패턴 위에 테이블 코팅법을 이용하여 유전체막을 형성하는 단계와;

   상기 전극 패턴과 유전체막을 소성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 전극은 감광성 전극 재료를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
3. 제 1항에 있어서, 상기 기판에 전극 패턴을 형성하는 단계 후에, 상기 전극을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
4. 제 3항에 있어서, 상기 경화는 UV 경화 또는 열 경화인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
5. 제 4항에 있어서, 상기 UV 경화는 상기 전극이 형성된 상부기판의 배면에서 UV 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
6. 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서,

   기판에 감광성 재료를 이용하여 전극을 형성하는 단계와;

   상기 전극을 경화시키는 단계와;

   상기 전극 위에 유전체막을 형성하는 단계와;

   상기 기판에 형성된 전극과 유전체막을 소성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
7. 제 6항에 있어서, 상기 전극을 경화시키는 단계는, 상기 기판의 배면에서 UV 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
8. 제 7항에 있어서, 상기 UV 광 조사시 노광량은 10 내지 1000mJ인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
9. 제 6항에 있어서, 유전체막은 테이블 코팅법을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
10. 제 6항에 있어서, 상기 유전체막의 조성은, 유전체 파우더가 30 내지 80%, 용매가 20 내지 50%, 바인더 및 첨가제가 3 내지 30%인 것을 특징으로 하는 플라즈 마 디스플레이 패널의 제조방법.
11. 제 10항에 있어서, 상기 유전체막의 조성의 점도는 2000 내지 50000cPs인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
12. 유전체 파우더가 30 내지 80%, 용매가 20 내지 50%, 바인더 및 첨가제가 3 내지 30%의 조성을 가지며, 상기 조성에 의한 점도는 2000 내지 50000cPs인 것을 특징으로 하는 유전체 페이스트 조성물.

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