KR20070005126A - Plasma display panel - Google Patents

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KR20070005126A
KR20070005126A KR20050060266A KR20050060266A KR20070005126A KR 20070005126 A KR20070005126 A KR 20070005126A KR 20050060266 A KR20050060266 A KR 20050060266A KR 20050060266 A KR20050060266 A KR 20050060266A KR 20070005126 A KR20070005126 A KR 20070005126A
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glass
matrix
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plasma display
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KR20050060266A
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이윤관
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엘지전자 주식회사
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Abstract

A plasma display panel is provided to improve exposure and development characteristics of a barrier rib and enhance an adhering characteristic to a substrate by improving transmittance of ultraviolet rays to a barrier rib. A plasma display panel includes a first panel substrate(100), a second panel substrate(200) facing the first panel substrate, and a barrier rib(300) for maintaining a space between the first and second substrates. The barrier rib is formed by mixing glass powder and filler powder. The glass powder includes one or more oxide selected from a group including Si, Mg, Al, Ca, Zn, Ba, Sr, B, P, Zr, Na, Li, La, K, Mn, Mo, Fe, Ti, Eu, Sb, Bi, Pr, Ce, and Sb oxides.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{plasma display panel} A plasma display panel plasma display panel {}

도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조도 1 is a structure of a conventional plasma display panel

도 2는 샌드-블라스트 법에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법도 Figure 2 is a sand-partition method of manufacturing a plasma display panel according to the blasting method also

도 3은 감광성법에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법도 Figure 3 is a method for producing the partition wall in the plasma display panel according to a photosensitive method

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* * Description of the Related Art *

100 : 제 1 패널 기판 110 ; 100: a first panel substrate 110; 투명 전극 A transparent electrode

120 : 버스 전극 130 : 상판 유전체 120: bus electrode 130: upper dielectric substance

140 : 보호막 200 : 제 2 패널 기판 140: passivation layer 200: a second panel substrate

210 : 어드레스 전극 220 : 하판 유전체 210: address electrode 220: lower plate dielectric

230 : 형광체 300 : 격벽 230: phosphor 300: partition wall

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 플라즈마 디스플레이 패널 소자의 격벽에 관한 것이다. The present invention relates to a plasma display panel device, and more particularly to a barrier rib of a plasma display panel device.

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)는 차세대 대형 평판 디스플레이 시장을 주도 하고 있는 것으로, 격벽으로 격리되어 있는 방전 셀에서 헬륨-네온(He-Ne), 네온-크세논(Ne-Xe) 가스에 의한 플라즈마 발광시에 발생하는 자외선이 형광체를 자극하여 여기 상태에서 기저 상태로 돌아갈때 에너지차에 의해서 발생하는 발광 현상을 이용한 디스플레이 소자로서 크게 교류형(AC) 플라즈마 디스플레이 패널과 직류형(DC) 플라즈마 디스플레이 패널로 분류되고 있다. Upon by the xenon (Ne-Xe) gas plasma emission-plasma display panel (PDP) is that leading the next generation of large flat panel display market, helium, in the discharge cells that are isolated by the partition wall-neon (He-Ne), Neon by the ultraviolet rays generated stimulating the phosphor is largely classified into AC-type (AC) plasma display panel and a direct-current type (DC) plasma display panel as a display device using a light emission phenomenon caused by the difference in energy to return from an excited state to a ground state have.

이하 도면을 참조하여 종래 플라즈마 디스플레이 패널에 대해서 설명한다. Reference to the accompanying drawings, a description will be given of a conventional plasma display panel.

도 1에서와 같이 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 상부 글라스 기판(100), 하부 글라스 기판(200), 상부 글라스 기판(100)과 하부 글라스 기판(200)의 사이에서 방전 공간을 유지시켜주는 격벽(300)으로 구성되어 있다. Partition wall which is also AC PDP device as in the first is to maintain a discharge space between the upper glass substrate 100, a lower glass substrate 200, an upper glass substrate 100 and the lower glass substrate 200 ( 300) is composed of.

상부 글래스 기판(100)상에는 투명 전극(110), 버스 전극(120), BM, 상판 유전체(130), 보호막(140)이 형성된다. The transparent electrodes 110, bus electrodes (120), BM, upper dielectric substance 130 on the upper glass substrate 100, a protective film 140 is formed. 격벽(300), 그리고 하부 글래스 기판(200)상에는 어드레싱 전극(210), 하판 유전체(220), 형광체(230)이 형성된다. A partition wall 300, and the addressing on the lower glass substrate 200, electrode 210, the dielectric bottom plate 220, a phosphor 230 is formed.

상판 글라스 (100)의 경우 버스 전극(120)은 비교적 저항이 높은 투명 전도성 박막 위에서 저항 강하의 역할을 하게 되며 방전을 유지시켜준다. The bus electrode 120, when the roof glass 100 is to act as a resistance drop from above the relatively high-resistance transparent conductive thin film allows to maintain a discharge. 통상 투명 박막은 진공 증착법, CVD, Sputtering 법 등으로 형성하며 버스 전극은 스크린 프린팅법, 라미네이팅법등을 사용하여 형성하며 대부분 은(Ag)전극재료를 사용하여 형성한다. Usually transparent thin film formed by vacuum evaporation, CVD, Sputtering method, and the like, and bus electrodes are formed using a screen printing method, a laminating beopdeung and most of them formed from a (Ag) electrode material. 상판 유전체는 벽전하(wall charge)를 형성, 방전 유지 전압에 의해 방전을 유지시키며, 플라즈마 방전 시에 이온 충격으로부터 전극을 보호하고 확산 방지막의 역할을 하게 된다. Upper dielectric substance is formed while maintaining the discharge by the discharge sustain voltage wall charge (wall charge), protecting the electrodes from an ion impact during plasma discharge, and will act as a diffusion barrier film. 대부분 산화납(PbO)이 주성분인 조성의 유전재료를 사용하며 전이점이 400℃근방으로서 소성온도는 560℃~580℃정도이며 최종 두께는 30~40um부분을 유지한다. Most of lead oxide (PbO) using a dielectric material of the composition of the main component and a sintering temperature near the transition point 400 ℃ is about 560 ℃ ~ 580 ℃ the final thickness is kept to 30 ~ 40um part. 산화 마그네슘(MgO)은 이차전자 방출계수가 높은 재료로서 방전 전압을 강하시키고 동시에 방전을 유지시켜주며 이온 충격으로부터 유전체 및 전극을 보호해주는 역할을 하게 된다. Magnesium oxide (MgO) is to serve to protect the dielectric and the electrodes from the ion impact It maintains the discharge secondary electron emission and a drop in the discharge voltage as a high material at the same time. 하판 글라스(200)의 경우 어드레싱 전극은 스크린 프린팅법, 라미네이팅법 등을 이용하여 형성하며 대부분 전도성이 우수한 은(Ag)전극을 사용한다. For the lower panel glass 200, the addressing electrodes are screen printing method, formed by using a lamination method, etc., and most of conductivity using a high silver (Ag) electrode. 어드레싱 전극 위에는 확산 방지막 역할을 함과 동시에 형광체로부터 후방으로 투과되는 가시광을 반사시키는 반사막 역할을 하고 격벽의 기저층 역할을 하게 되는 하판 유전체층을 형성하게 된다. At the same time as the diffusion preventing film formed on the addressing electrodes serve the role reflecting film for reflecting visible light that is transmitted to the rear from the phosphor, and to form the lower plate dielectric layer to the base layer the role of the partition wall. 격벽은 플라즈마 디스플레이 패널소자에서 방전 유지 및 반사에 의한 발광 효율을 향상시키고 동시에 방전 셀간의 전기적, 광학적 상호 혼신을 방지하는 매우 중요한 역할을 한다. Partition wall plays a very important role to improve the luminescence efficiency caused by the sustain discharge and reflected by the plasma display device and at the same time prevent electrical and optical cross-interference between the discharge cells. 일반적으로 하판 유전체와 격벽은 직경 1-2㎛크기의 PbO 또는 non-PbO 글라스 미분말에 반사특성 향상 및 유전율 조절을 위해 미분말 상태의 산화물을 수십 % 섞은 혼합분말을 유기 용매와 혼합하여 페이스트 상태로 만들어 형성한다. In general, the dielectric bottom plate and the partition wall is a mixture powder mixed with several% of an oxide of a fine powder state to improve the reflection properties and the dielectric constant adjusted to PbO or non-PbO glass fine powder having a diameter size 1-2㎛ mixed with an organic solvent made of a paste forms. 하판 유전체의 형성 방법은 스크린 프린팅 법이나 라미네이팅 방법이 일반적이며 격벽은 샌드 블라스팅 법, 스크린 프린팅 법, 감광성법, 에칭 법 등 다양한 방법으로 형성하고 있다. The method of forming the dielectric bottom plate is a screen printing method or lamination method is general and the partition wall are formed in a number of ways such as sand blasting method, a screen printing method, a photosensitive method, etching method. 하판 유전체의 최종 두께는 약 20um, 격벽은 120~150um 정도의 두께를 합착하여 약 500 Torr의 불활성 방전 가스를 주입하여 소자 제작을 완료하게 된다. The final thickness of the lower plate dielectric is from about 20um, the partition wall is complete, the device produced by injecting an inert discharge gas of about 500 Torr by cementation a thickness on the order of 120 ~ 150um.

도 2 및 도 3을 참조하여,플라즈마 디스플레이 패널의 격벽의 제조 방법을 살펴보면, 도 2의 샌드 블라스트 법이나 도 3의 감광성 법등을 들수 있다. Be 2 and 3, look at the method of manufacturing the barrier ribs of the plasma display panel, and the photosensitive deulsu beopdeung a sand blast method or a in Fig. 2 Fig.

도 2의 샌드 블라스트 법은, 글라스 기판에 격벽 재료를 도포하여(s21), 노광/현상(s22)하고, 그 후 포토 레지스터를 제거하여(s23), 격벽을 형성하게 된다 (s24). A sand blast method of Figure 2, by coating a barrier rib material on a glass substrate (s21), the exposure / development (s22), and then by removing the photoresist (s23), thereby forming a partition wall (s24). 이와 달리 도 3의 감광성 법은 글라스 기판에 격벽 재료를 도포하여(s31), 포토 레지스터의 설치 없이 UV 노광을 하여(s32), 현상하여 격벽을 형성하게 된다(s33). In contrast to Figure 3 photosensitive method of applying a barrier rib material on a glass substrate (s31), and the UV exposure without installation of photoresist (s32), the developing is formed by the partition wall (s33). 도 3에서 도시된 감광성 법을 사용하여 격벽을 형성하는 경우에 포토 레지스터의 설치 없이 UV노광만으로 형성하기 때문에, 자외선의 투과율의 정도가 문제된다. Since also the formation of only UV exposure without installation of the photoresist in the case of forming the barrier ribs using the photosensitive shown in method 3, the level of the ultraviolet ray transmittance is a problem.

격벽의 형성 시에는 주로 PbO계 모상 유리에 산화물 충진제를 혼합하여 사용하게 된다. The formation of the barrier ribs is is primarily a mixture of the oxide filler to the PbO-based matrix glass. 이때 포토 레지스터를 쓰지 않는 감광성 격벽의 경우 단파장의 자외선이 두께 약 200um 의 격벽층을 완전히 투과해야 하는데, PbO등과 같은 중금속을 사용할 경우, 높은 굴절률과 광 산란에 의해 자외선 투과도가 감소하여 현상성과 부착성이 떨어진다. At this time, if the photosensitive partition walls which do not use the photoresist to ultraviolet light of a short wavelength should be completely transmitted through the partition wall layer having a thickness of about 200um, PbO When using the heavy metal, and an ultraviolet transmission reduced by the high refractive index and the light scattering and adhesion, such as St. this falls. 더욱이 종래의 충진제의 경우 격벽의 충격 강도 및 반사율 향상을 위해서 직경 2~3um크기의 산화물 충진제를 사용하게 되는데, 이러한 충진제 역시 자외선에 대해 큰 산란 특성을 가지고 있어 감광성 격벽 재료로서는 바람직하지 못하다. Moreover, in the case of the conventional filler in order to enhance impact strength and reflectance of the partition wall there is used an oxide filler having a diameter of 2 ~ 3um size, such a filler, it also has a large scattering characteristics with respect to ultraviolet rays is not preferable as the photosensitive barrier rib material.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 감광성 격벽용 재료인 모상 유리 성분 및 충진제 산화물을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다. The present invention is to provide a plasma display panel intended to solve the above problems, including a matrix material having a glass component and a filler for oxide photosensitive barrier rib.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 마주보게 배치된 제 1 패널 기판과, 제 2 패널 기판과, 상기 제 1 패널 기판과 제 2 패널 기판의 공간을 유지시켜 주는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 격벽은 모상유리 분말과 충진제 분말이 혼합되어 구성되는데, 상기 모상 유리 분말은 규소(Si), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 붕소(B), 인(P), 지르코늄(Zr), 나트륨(Na), 리튬(Li), 란탄(La), 칼륨(K), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 티탄(Ti), 유료퓸(Eu), 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 프라세오디뮴(Pr), 세륨(Ce), 안티몬(Sb)등의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. In order to achieve the above object, a plasma display panel of the present invention includes a partition wall to maintain the first panel substrate and a second panel substrate, a space of the first panel substrate and the second panel substrate facing see arranged in the partition wall matrix is ​​composed of glass powder and filler powders are mixed, the matrix glass powder is silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), calcium (Ca), zinc (Zn), barium (Ba ), strontium (Sr), boron (B), phosphorus (P), zirconium (Zr), sodium (Na), lithium (Li), lanthanum (La), potassium (K), manganese (Mn), molybdenum (Mo ), iron (comprising an oxide, such as Fe), titanium (Ti), pay fume (Eu), antimony (Sb), bismuth (Bi), praseodymium (Pr), cerium (Ce), antimony (Sb) It provides a plasma display panel.

그리고 마주보게 배치된 제 1 패널 기판과, 제 2 패널 기판과, 상기 제 1 패널 기판과 제 2 패널 기판의 공간을 유지시켜주는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 격벽은 모상유리 분말과 충진제 분말이 혼합되어 구성되는데, 상기 충진제 분말은 규소(Si), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 붕소(B), 인(P), 지르코늄(Zr), 나트륨(Na), 리튬(Li), 란탄(La), 칼륨(K), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 티탄(Ti), 유료퓸(Eu), 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 프라세오디뮴(Pr), 세륨(Ce), 안티몬(Sb)등의 산화물 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. And the first panel substrate facing saw arrangement, in the second panel substrate, a plasma display panel comprising the first panel substrate and the partition wall to maintain the space of the second panel substrate, the partition wall matrix glass powder and consists of the filler powder is mixed, the filler powder is silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), calcium (Ca), zinc (Zn), barium (Ba), strontium (Sr), boron (B ), phosphorus (P), zirconium (Zr), sodium (Na), lithium (Li), lanthanum (La), potassium (K), manganese (Mn), molybdenum (Mo), iron (Fe), titanium (Ti ), a paid fume (Eu), antimony (Sb), bismuth (Bi), praseodymium (Pr), cerium (Ce), antimony (Sb) a plasma display panel characterized in that it comprises at least one of the oxides to provide.

따라서, 본 발명에 의하면, 격벽 재료에 대한 자외선 투과를 향상시킴으로써 격벽의 노광/현상성 및 기판에 대한 부착력을 향상시킬 수 있고, 모상 유리 및 충진제에 무연계 재료를 사용함으로써 친환경적인 특성을 유지할 수 있다. Therefore, according to the present invention, improving the UV transmission of the barrier rib material by it is possible to improve the adhesion to the exposing / developing performance and the substrate of the partition wall, by using the non-linked material in a matrix glass, the filler can maintain the ecological characteristics have.

이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예 를 첨부한 표 1 내지 표 4를 참조하여 설명한다. It will be described below with reference to the above Tables 1 to 4 attached to a preferred embodiment of the present invention which can realize the purpose of concretely.

감광성 격벽은 샌드 블라스팅 같은 종래의 방법과는 다르게 포토 레지스터를 사용하지 않고 바로 마스크를 통하여 UV노광을 하기 때문에 두께 약 200um에 달하는 격벽 재료가 자외선에 대하여 완전히 투과되어야 제대로 현상이 되어 형상 및 부착력을 유지할 수 있다. The photosensitive barrier ribs are properly developed, because conventional methods and is to a UV exposure through a right mask without the use of a different photoresist is barrier rib material up to a thickness of about 200um to be fully transmissive with respect to ultraviolet light such as sand blasting to maintain the shape and adhesion can.

감광성 격벽은 모상유리 분말과 충진제 분말을 포함하는데, 상기 모상유리 분말은 규소(Si), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 붕소(B), 인(P), 지르코늄(Zr), 나트륨(Na), 리튬(Li), 란탄(La), 칼륨(K), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 티탄(Ti), 유료퓸(Eu), 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 프라세오디뮴(Pr), 세륨(Ce), 안티몬(Sb)등의 산화물을 포함한다. The photosensitive barrier ribs are a matrix comprises a glass powder and the filler powder, wherein the matrix glass powder is silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), calcium (Ca), zinc (Zn), barium (Ba), strontium ( Sr), boron (B), phosphorus (P), zirconium (Zr), sodium (Na), lithium (Li), lanthanum (La), potassium (K), manganese (Mn), molybdenum (Mo), iron ( include oxides such as Fe), titanium (Ti), pay fume (Eu), antimony (Sb), bismuth (Bi), praseodymium (Pr), cerium (Ce), antimony (Sb). 이는 무연계(non-PbO)성분으로 친환경적이며, 자외선에 대해 높은 투과율을 가지는 감광성 재료이다. This is environmentally friendly as no-linked (non-PbO) component, a photosensitive material having a high transmittance to ultraviolet light.

Figure 112005036353357-PAT00001

표1을 참조하여 설명하면, 모상 유리 성분의 제 1 실시예는 SiO 2 -Al 2 O 3 -MgO계로, SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, ZnO, SrO, ZrO 2 , Eu 2 O의 산화물을 포함한다. Referring to Table 1, a first embodiment of the matrix glass component is SiO 2 -Al 2 O 3 -MgO to step, SiO 2, Al 2 O 3, MgO, CaO, ZnO, SrO, ZrO 2, O 2 Eu It comprises an oxide. 이때, 각각의 성분비는 20%≤SiO 2 ≤45%, 20%≤Al 2 O 3 ≤45%, 5%≤MgO≤15%, 2%≤CaO≤5%, 0%<ZnO≤10%, 0%<SrO≤5, 0%<ZrO 2 ≤5%, 0<Eu 2 O≤5%의 범위를 따른다. At this time, each of the component ratio is 20% ≤SiO 2 ≤45%, 20 % ≤Al 2 O 3 ≤45%, 5% ≤MgO≤15%, 2% ≤CaO≤5%, 0% <ZnO≤10%, 0% <SrO≤5, 0% < ZrO 2 ≤5%, 0 < follows the range of Eu 2 O≤5%.

Figure 112005036353357-PAT00002

표2를 참조하여 설명하면, 모상 유리 성분의 제 2 실시예는 SiO 2 -B 2 O 3 -Na 2 O계로, SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, B 2 O 3 , CaO, Fe 2 O 3 , ZnO, Na 2 O, K 2 O의 산화물을 포함한다. Referring to Table 2, a second embodiment of the matrix glass component is SiO 2 -B 2 O 3 -Na 2 O to step, SiO 2, Al 2 O 3, MgO, B 2 O 3, CaO, Fe 2 O 3, comprises an oxide of ZnO, Na 2 O, K 2 O. 이때, 각각의 성분비는 50%≤SiO 2 ≤75%, 0%<Al 2 O 3 ≤10%, 0%<MgO≤10%, 0%<B 2 O 3 ≤2%, 2%≤CaO≤15%, 0%<Fe 2 O 3 ≤5%, 2%≤ZnO≤5%, 5%≤Na 2 O≤15%, 0%≤K 2 O≤5%의 범위를 따른다. At this time, each of the component ratio is 50% ≤SiO 2 ≤75%, 0 % <Al 2 O 3 ≤10%, 0% <MgO≤10%, 0% <B 2 O 3 ≤2%, 2% ≤CaO≤ 15%, 0% <Fe 2 O 3 ≤5%, 2% ≤ZnO≤5%, 5% ≤Na 2 follows the range of O≤15%, 0% ≤K 2 O≤5 %.

Figure 112005036353357-PAT00003

표3을 참조하여 설명하면, 모상 유리 성분의 제 3 실시예는 P 2 O 5 -ZnO-Bi 2 O 3 계로, P 2 O 5 , Al 2 O 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , Bi 2 O 3 , SrO, ZrO 2 , Eu 2 O, Na 2 O의 산화물을 포함한다. Referring to Table 3, the third embodiment of the glass matrix component is P 2 O 5 -ZnO-Bi 2 O 3 to step, P 2 O 5, Al 2 O 3, ZnO, Sb 2 O 3, Bi 2 O 3, comprises an oxide of SrO, ZrO 2, Eu O 2, Na 2 O. 이때, 각각의 성분비는 50%≤P 2 O 5 ≤75%, 0%<Al 2 O 3 ≤20%, 0%<ZnO≤2%, 2%≤Sb 2 O 3 ≤15%, 0%<Bi 2 O 3 ≤3%, 0%<SrO≤3%, 0%<ZrO 2 ≤25, 0%<Eu 2 O≤3%, 0%<Na 2 O≤2%의 범위를 따른다. At this time, each of the component ratio is 50% ≤P 2 O 5 ≤75% , 0% <Al 2 O 3 ≤20%, 0% <ZnO≤2%, 2% ≤Sb 2 O 3 ≤15%, 0% < Bi 2 O 3 ≤3%, 0 % <SrO≤3%, 0% <ZrO 2 ≤25, 0% <Eu 2 O≤3%, 0% < follows the range of Na 2 O≤2%.

Figure 112005036353357-PAT00004

표4를 참조하여 설명하면, 모상 유리 성분의 제 4 실시예는 B 2 O 3 -ZnO-La 2 O 3 계로, B 2 O 3 , ZnO, La 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, ZrO 2 , Eu 2 O,Na 2 O의 산화물을 포함한다. Referring to Table 4, a fourth embodiment of the parent phase is a glass component B 2 O 3 -ZnO-La 2 O 3 to Step, B 2 O 3, ZnO, La 2 O 3, MgO, CaO, SrO, ZrO 2 , it comprises an oxide of Eu 2 O, Na 2 O. 이때, 각각의 성분비는 20%≤B 2 O 3 ≤40%, 10%≤ZnO≤35%, 10%≤La 2 O 3 ≤30%, 0%<MgO≤7%, 0%<CaO≤9%, 0%<SrO≤4%, 0%<ZrO 2 ≤2%, 0%<Eu 2 O≤2%, 0%<Na 2 O≤2%의 범위를 따른다. At this time, each of the component ratio is 20% ≤B 2 O 3 ≤40% , 10% ≤ZnO≤35%, 10% ≤La 2 O 3 ≤30%, 0% <MgO≤7%, 0% <CaO≤9 %, 0% <SrO≤4%, 0% <ZrO 2 ≤2%, 0% <Eu 2 O≤2%, 0% < follows the range of Na 2 O≤2%.

모상 유리는 습식 혹은 건식법으로 제조되며, 자외선 굴절 및 산란을 최소화시키기 위해서 중금속 계열은 제거하거나 최소화시켜야 한다. Glass matrix is ​​produced by a wet or dry process, in order to minimize refraction and scattering ultraviolet heavy metal series are to be removed or minimized. 또한 SiO 2 의 함량을 증가시키면 자외선 투과도는 증가하나 열팽창계수의 지나친 감소 및 소성 온도 상승이 발생하므로 요구 특성에 따라 함량을 적절히 제어해야 한다. Further increasing the content of SiO 2 UV transmittance is because the over-reduced and the firing temperature increase of a thermal expansion coefficient increase occurs should properly control the content according to the required characteristics.

P 2 O 5 -ZnO-Bi 2 O 3 계의 경우 조성의 미세한 변화에 따라 결정화 발생 및 높은 열팽창 계수에 의한 균열 현상이 발생하므로 조성설계시 주의를 요한다. P 2 O 5 -ZnO-Bi 2 O 3 based cracking phenomenon caused by crystallization occurs and a high thermal expansion coefficient generated according to the minute variation of the composition when the composition when it requires a careful design.

B 2 O 3 -ZnO-La 2 O 3 계의 경우 수분에 대해 매우 취약한 특성을 나타내므로 분말 가공시 가능한 건식법을 적용하는 것이 바람직하다. If the B 2 O 3 -ZnO-La 2 O 3 system exhibits a very weak characteristics against moisture it is desirable to apply the drying method available during powder processing.

감광성 격벽은 모상유리 분말과 충진제 분말을 포함하는데, 상기 충진제 분말은 규소(Si), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 붕소(B), 인(P), 지르코늄(Zr), 나트륨(Na), 리튬(Li), 란탄(La), 칼륨(K), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 티탄(Ti), 유료퓸(Eu), 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 프라세오디뮴(Pr), 세륨(Ce), 안티몬(Sb)등의 산화물 중 적어도 하나 이상을 포함한다. In the photosensitive barrier rib comprises a matrix glass powder and the filler powder, the filler powder is silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), calcium (Ca), zinc (Zn), barium (Ba), strontium (Sr ), boron (B), phosphorus (P), zirconium (Zr), sodium (Na), lithium (Li), lanthanum (La), potassium (K), manganese (Mn), molybdenum (Mo), iron (Fe ), it includes titanium (Ti), pay fume (Eu), antimony (Sb), bismuth (Bi), praseodymium (Pr), cerium (Ce), antimony (Sb) at least one of oxides such as.

상기 충진제 분말은 충진제 분말의 함량이 모상유리 분말에 대해 5%~45%의 범위에 속하는 것을 특징으로 한다. The filler powder is characterized in that the content of the filler powder in the range of 5-45% for the glass powder matrix. 이는 격벽 강도 유지를 위한 충진제의 경우 일정값 이상의 충격강도를 유지함과 동시에 자외선 산란을 최소화하기 위함이다. This is to minimize the UV light scattering at the same time maintaining the impact strength of at least a predetermined value when the filler for maintaining the partition wall strength. 또한 이를 위하여 상기 모상 유리 조성을 기본으로 하되 성분내의 SiO 2 , Al 2 O 3 함량을 다소 높게 설계하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the primary, but the matrix glass composition slightly higher design the SiO 2, Al 2 O 3 content in the composition for this purpose.

또한 충진제의 입경을 기존의 수 um범위보다 작은 자외선 파장대 이하의 나노 크기를 유지함으로써 효과적으로 자외선 투과도를 향상시킬 수 있다. In addition, by keeping the nano-size of less than the particle size of small UV wavelength range than the conventional fillers it can um range it is possible to improve the ultraviolet transmittance effectively.

본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 첨부된 청구 범위에서 알수 있는 바와 같이 본 발명이 속한 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 변형이 가능하고 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다. The present invention is not limited to the embodiments described above, modifications are possible by those skilled in the art that the present invention as can be seen in the appended claims, and such variations are within the scope of the invention.

상기에서 설명한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 효과를 설명하 면 다음과 같다. Surface and explaining the effect of the plasma display panel according to the present invention described in the following.

본 발명은 격벽 재료에 대한 자외선 투과를 향상시킴으로써 격벽의 노광/현상성 및 기판에 대한 부착력을 향상시킬 수 있다. The present invention can improve the adhesion to the exposure / development property of the partition wall and the substrate by improving the UV transmission of the barrier rib material.

본 발명은 모상 유리 및 충진제에 무연계 재료를 사용함으로써 친환경적인 특성을 유지할 수 있다. The invention can maintain the ecological characteristics by using the non-glass based material in a matrix and a filler.

Claims (12)

  1. 제 1 패널 기판과, 상기 제 1 패널 기판과 마주보는 제 2 패널기판 및 상기 제 1 패널 기판과 제 2 패널 기판의 공간을 유지시켜주는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, In the first panel substrate and a PDP including the first partition wall to maintain the second panel substrate and the space of the first panel substrate and the second panel substrate facing the first panel substrate;
    상기 격벽은 모상유리 분말과 충진제 분말이 혼합되어 구성되는데, 상기 모상 유리 분말은 규소(Si), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 붕소(B), 인(P), 지르코늄(Zr), 나트륨(Na), 리튬(Li), 란탄(La), 칼륨(K), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 티탄(Ti),유료퓸(Eu), 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 프라세오디뮴(Pr), 세륨(Ce) 및 안티몬(Sb) 의 산화물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. The partition wall consists of a matrix of glass powder and filler powders are mixed, the matrix glass powder is silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), calcium (Ca), zinc (Zn), barium (Ba), strontium (Sr), boron (B), phosphorus (P), zirconium (Zr), sodium (Na), lithium (Li), lanthanum (La), potassium (K), manganese (Mn), molybdenum (Mo), iron (Fe), titanium (Ti), pay fume (Eu), antimony (Sb), bismuth (Bi), praseodymium (Pr), cerium (Ce) and at least one oxide selected from the group consisting of oxides of antimony (Sb) a plasma display panel comprising the.
  2. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리는 SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, ZnO, SrO, ZrO 2 , Eu 2 O 로 구성되는 산화물의 군을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. A matrix of glass comprising the oxide is a plasma display panel comprising a group of oxides consisting of SiO 2, Al 2 O 3, MgO, CaO, ZnO, SrO, ZrO 2, Eu 2 O.
  3. 제 2항에 있어서, 3. The method of claim 2,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리의 성분은 20%≤SiO 2 ≤45%, 20%≤Al 2 O 3 ≤45%, 5%≤MgO≤15%, 2%≤CaO≤5%, 0%<ZnO≤10%, 0%<SrO≤5, 0%<ZrO 2 ≤5%, 0<Eu 2 O≤5% 의 비율로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. Components of the glass matrix containing the oxide is 20% ≤SiO 2 ≤45%, 20 % ≤Al 2 O 3 ≤45%, 5% ≤MgO≤15%, 2% ≤CaO≤5%, 0% <ZnO ≤10%, 0% <SrO≤5, 0% <ZrO 2 ≤5%, 0 <Eu 2 is included in a proportion of O≤5% plasma display panel, characterized in that.
  4. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리는 SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, B 2 O 3 , CaO, Fe 2 O 3 , ZnO, Na 2 O, K 2 O 를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. A matrix glass is SiO 2, Al 2 O 3, MgO, B 2 O 3, CaO, Fe 2 O 3, ZnO, Na 2 O, a plasma display panel characterized in that it comprises a K 2 O containing said oxides.
  5. 제 4항에 있어서, 5. The method of claim 4,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리의 성분은 50%≤SiO 2 ≤75%, 0%<Al 2 O 3 ≤10%, 0%<MgO≤10%, 0%<B 2 O 3 ≤2%, 2%≤CaO≤15%, 0%<Fe 2 O 3 ≤5%, 2%≤ZnO≤5%, 5%≤Na 2 O≤15%, 0%<K 2 O≤5% 의 비율로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. Components of the glass matrix containing the oxide is 50% ≤SiO 2 ≤75%, 0 % <Al 2 O 3 ≤10%, 0% <MgO≤10%, 0% <B 2 O 3 ≤2%, 2 % ≤CaO≤15%, it is provided as a 0% <Fe 2 O 3 ≤5 %, the proportion of 2% ≤ZnO≤5%, 5% ≤Na 2 O≤15%, 0% <K 2 O≤5% a plasma display panel, characterized in that.
  6. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리는 P 2 O 5 , Al 2 O 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , Bi 2 O 3 , SrO, ZrO 2 , Eu 2 O, Na 2 O 로 구성되는 산화물의 군을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈 마 디스플레이 패널. A matrix of glass comprising the oxides comprises the group of oxides consisting of P 2 O 5, Al 2 O 3, ZnO, Sb 2 O 3, Bi 2 O 3, SrO, ZrO 2, Eu 2 O, Na 2 O plasma display panel characterized in that.
  7. 제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리의 성분은 50%≤P 2 O 5 ≤75%, 0%<Al 2 O 3 ≤20%, 0%<ZnO≤2%, 2%≤Sb 2 O 3 ≤15%0, 0%<Bi 2 O 3 ≤3%, 0%<SrO≤3%, 0%<ZrO 2 ≤25, 0%<Eu 2 O≤3%, 0%<Na 2 O≤2% 의 비율로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. Components of the glass matrix containing the oxide is 50% ≤P 2 O 5 ≤75% , 0% <Al 2 O 3 ≤20%, 0% <ZnO≤2%, 2% ≤Sb 2 O 3 ≤15% 0, 0% <Bi 2 O 3 ≤3%, 0% <SrO≤3%, 0% <ZrO 2 ≤25, 0% <Eu 2 O≤3%, 0% <Na 2 ratio of O≤2% the plasma display panel according to claim, which is provided as a.
  8. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리는 B 2 O 3 , ZnO, La 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, ZrO 2 , Eu 2 O,Na 2 O 로 구성되는 산화물의 군을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. A matrix of glass comprising the oxides plasma comprising the group of oxides consisting of B 2 O 3, ZnO, La 2 O 3, MgO, CaO, SrO, ZrO 2, Eu 2 O, Na 2 O display panel.
  9. 제 8항에 있어서, The method of claim 8,
    상기 산화물을 포함하는 모상유리의 성분은 20%≤B 2 O 3 ≤40%, 10%≤ZnO≤35%, 10%≤La 2 O 3 ≤30%, 0%<MgO≤7%, 0%<CaO≤9%, 0%<SrO≤4%, 0%<ZrO 2 ≤2%, 0%<Eu 2 O≤2%, 0%<Na 2 O≤2% 의 비율로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. Components of the glass matrix containing the oxide is 20% ≤B 2 O 3 ≤40% , 10% ≤ZnO≤35%, 10% ≤La 2 O 3 ≤30%, 0% <MgO≤7%, 0% <CaO≤9%, 0% <SrO≤4 %, 0% <ZrO 2 ≤2%, 0% <Eu 2 O≤2%, 0% <Na 2 characterized in that a ratio of O≤2% the plasma display panel of.
  10. 제 1 패널 기판과, 상기 제 1 패널 기판과 마주보는 제 2 패널기판 및 상기 제 1 패널 기판과 제 2 패널 기판의 공간을 유지시켜주는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, In the first panel substrate and a PDP including the first partition wall to maintain the second panel substrate and the space of the first panel substrate and the second panel substrate facing the first panel substrate;
    상기 격벽은 모상유리 분말과 충진제 분말이 혼합되어 구성되는데, 상기 충진제 분말은 규소(Si), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 붕소(B), 인(P), 지르코늄(Zr), 나트륨(Na), 리튬(Li), 란탄(La), 칼륨(K), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 티탄(Ti), 에르븀(Er), 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 프라세오디뮴(Pr), 세륨(Ce), 안티몬(Sb) 및 유료퓸(Eu)의 산화물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. The partition wall matrix consists of a glass powder and the filler powder is mixed, the filler powder is silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), calcium (Ca), zinc (Zn), barium (Ba), strontium (Sr), boron (B), phosphorus (P), zirconium (Zr), sodium (Na), lithium (Li), lanthanum (La), potassium (K), manganese (Mn), molybdenum (Mo), iron (Fe), titanium (Ti), erbium (Er), antimony (Sb), bismuth (Bi), praseodymium (Pr), cerium (Ce), antimony (Sb) and paid fume from the group consisting of oxides of (Eu) the plasma display panel characterized in that it comprises at least one oxide selected.
  11. 제 1항 또는 제 10항에 있어서, The method of claim 1 or claim 10,
    상기 모상유리 분말과 충진제 분말의 성분비는, 충진제 분말의 함량이 모상유리 분말에 대해 5%~45%의 범위에 속하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. Wherein the glass powder matrix and the filler powder is a component ratio, a plasma display panel, the amount of the filler powder, characterized in that in the range of 5-45% for the glass powder of the mother phase.
  12. 제 10항에 있어서, 11. The method of claim 10,
    상기 충진제 분말의 입경은 자외선 파장대 이하의 나노크기를 유지하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. Particle size of the filler powder is a plasma display panel, characterized in that to keep the nano-size of less than the ultraviolet wavelength range.
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