KR20060104677A - Apparatus for transferring substrate and apparatus for depositing organic film on substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 증착 장치를 제공한다. The present invention provides a deposition apparatus used for producing the organic EL device. 증착 장치는 복수의 챔버들을 가지며, 기판은 지지판에 고정되어 챔버들간 이동된다. Deposition apparatus having a plurality of chambers, the substrate is fixed to the support plate is moved between the chambers. 각각의 챔버 내에는 기판 지지체의 직선 이동을 안내하는 이송 가이드가 제공되고, 기판 지지체는 구동기에 의해 이동된다. In each of the chambers is provided with a conveyance guide for guiding a linear movement of the substrate support, the substrate support is moved by the actuator. 기판 지지체의 원활한 이송을 위해 롤러 부재가 제공되며, 롤러 부재는 설비의 유비 보수가 용이하도록 지지판에 설치된다. And a roller member provided to facilitate transfer of the substrate support, the roller member is provided on the support plate so as to facilitate the maintenance of the plant ubiquitin.
증착, 유기 전계 발광 소자, 마스크, 게이트 밸브, 롤러, 기판 이동체 Depositing organic electroluminescent device, a mask, a gate valve, a roller, a substrate moving object

Description

기판 이송 장치 및 기판 상에 유기 박막을 증착하는 장치{APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATE AND APPARATUS FOR DEPOSITING ORGANIC FILM ON SUBSTRATE} Device for depositing an organic thin film on a substrate transfer apparatus and a substrate {APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATE AND APPARATUS FOR DEPOSITING ORGANIC FILM ON SUBSTRATE}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도; 1 is a perspective view schematically showing a substrate processing apparatus in accordance with one embodiment of the present invention;

도 2는 마스크 부착(제거) 챔버의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도; 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the mask attachment chamber (removed);

도 3은 증착 챔버 내부의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도; 3 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the deposition chamber;

도 4는 도 1의 장치에서 공정챔버들의 내부를 보여주는 단면도; 4 is a sectional view showing the inside of the process chamber in the apparatus of Figure 1;

도 5는 기판 이송 장치를 개략적으로 보여주는 평면도; 5 is a plan view schematically showing a substrate transfer apparatus;

도 6은 지지판 내부 구조의 일부를 개략적으로 보여주는 단면도; 6 is a sectional view showing a portion of the support plate inner structure schematically; 그리고 And

도 7은 도 5의 선 Ⅰ-Ⅰ을 따라 절단한 단면도이다. Figure 7 is a cross-sectional view taken along a line Ⅰ-Ⅰ in Fig.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * * Description of the Related Art *

40 : 공정 챔버 42 : 마스크 부착 챔버 40: processing chamber 42: the mask attachment chamber

44 : 증착 챔버 46 : 마스크 제거 챔버 44: vapor deposition chamber 46: the mask removal chamber

48 : 증착물질 공급 챔버 110 : 기판 지지체 48: 110 deposited material supply chamber: a substrate support

120 : 지지판 132 : 구동 롤러 120: back plate 132: drive roller

134 : 가이드 롤러 140 : 이송 가이드 134: Guide roller 140: transport guide

160 : 구동기 700 : 게이트 밸브 160: Actuator 700: gate valve

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 챔버 내에서 기판을 이송하는 기판 이송 장치 및 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 기판 상에 유기 박막을 증착하는 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a device for processing a substrate, and more specifically to an apparatus for depositing an organic thin film on a substrate used for producing a substrate transfer device and an organic EL device for transporting the substrate in the chamber.

정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. The information processing device is rapidly developed to have functions and faster information processing speed of various types. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하는 디스플레이 장치를 가진다. This information processing apparatus has a display device for displaying the operation information. 과거에는 주로 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 사용되었으나, 현재에는 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)가 주로 사용되고 있다. In the past, but primarily a CRT (cathode ray tube) monitor is used as a display device, the current has mainly been used a liquid crystal display device (liquid crystal display, LCD). 그러나 액정 표시 장치는 별도의 광원을 필요로 하는 장치로서 밝기, 시야각 및 대면적화 등에 한계가 있어, 최근에는 저전압 구동, 자기 발광, 경량 박형, 넓은 시야각, 그리고 빠른 응답 속도의 장점을 갖는 유기 전계 발광 소자를 이용한 표시 장치가 각광받고 있다. However, the liquid crystal display device includes a brightness as a device that requires a separate light source, there is a limit such as field of view and large area, in recent years, low-voltage driving, a self-light-emitting, lightweight, thin, wide viewing angle, and the organic light emission having the advantage of fast response time the display apparatus using the device is spotlighted.

유기 전계 발광 소자는 유기 박막에 주입되는 전자와 정공이 재결합하고 남은 에너지가 빛으로 발생되는 것으로서 유기 물질의 도펀트(dopant)의 양에 따라나오는 빛의 파장을 조절할 수 있고, 풀 칼라(full color)의 구현이 가능하다. The organic electroluminescent device may be as the electrons and holes recombine, and the remaining energy to be injected into the organic thin film caused by light control The wavelengths of the light according to the amount of dopant (dopant) of the organic material, a full-color (full color) this implementation is possible.

유기 박막을 증착하기 위해 일반적으로 사용되고 있는 장치는 공정챔버들간 기판을 이송하는 하나의 긴 이송챔버와 이송챔버의 아래에 제공되며 증착공정이 수 행되는 증착 챔버를 가진다. Device which is generally used to deposit an organic thin film is provided at the bottom of a long transfer chamber and the transfer chamber for transporting the substrate between the process chamber and has a deposition chamber in which the deposition process can row. 이송챔버에는 이송 가이드가 제공되고, 기판은 기판 지지체에 지지된 상태로 이송챔버 내에서 이동된다. The transfer chamber is provided with a conveyance guide, the substrate is moved within the transfer chamber into the support state on the substrate support. 기판 지지체는 이송 가이드를 따라 직선이동되며, 해당 증착 챔버의 상부에 위치되면 기판을 증착 챔버 아래로 이동시킨다. The substrate support is moved linearly along a transfer guide, when positioned on top of the deposition chamber and moving the substrate to below the deposition chamber.

그러나 상술한 장치 사용시 이송챔버와 증착 챔버가 각각 제공되므로 공정 수행을 위해 기판은 이송챔버, 증착챔버, 이송챔버로 번갈아 이동되어야 한다. However, for the process is performed so that when using the above-described apparatus the transfer chamber and the deposition chamber is provided, each substrate must be moved alternately to the transfer chamber, a deposition chamber, the transfer chamber. 따라서 공정에 소요되는 시간이 길고, 설비가 대형화되는 문제가 있다. Therefore, a long time to process, there is a problem that the facility is large.

또한, 상술한 장치에서 이송 가이드 상에 구동 롤러가 설치되고, 기판 이동체는 구동 롤러를 따라 이동된다. Further, the drive roller are installed on the conveyance guide in the above-described apparatus, a substrate moving body is moved along the driving roller. 따라서 구동 롤러 등을 유지보수하기 위해서는 기판 이동체를 분리한 후, 이송 가이드로부터 구동 롤러들을 모두 분해하여야 하므로 많은 시간이 소요된다. Therefore, a long time is required because the substrate by removing a moving body, to be decomposed all the drive roller from the conveyance guide in order to maintain the driving roller or the like.

본 발명은 다수의 증착 공정을 연속적으로 수행하기에 적합한 새로운 형태의 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a new type of vapor deposition apparatus suitable for performing a number of deposition processes continuously.

또한, 본 발명은 장치의 유지보수가 간단한 기판 이동 장치 및 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Further, an object of the present invention is to provide a simple maintenance of the apparatus and a substrate transfer device deposition apparatus.

본 발명은 유기 전계 발광 소자의 제조에 사용되는 기판 상에 유기박막을 형성하는 장치를 제공한다. The present invention provides an apparatus for forming an organic thin film on a substrate used for manufacturing an organic electroluminescent device. 일 예에 의하면, 장치는 직선으로 배열된 복수의 증착챔버들과 각각의 상기 증착챔버 아래에 배치되며 상기 증착 챔버로 유기물질을 공급 하는 증착물질 공급챔버를 가진다. According to one example, the device is disposed under a plurality of deposition chambers arranged in a straight line and each of said deposition chamber has a deposition material supply chamber for supplying an organic material to the deposition chamber. 기판은 기판 이송 장치에 의해 증착 챔버들간 이송된다. The substrate is transferred between the deposition chambers by the substrate transfer device. 상기 기판 이송 장치는 기판 지지체, 이송 가이드, 그리고 구동기를 가진다. The substrate transfer apparatus has a substrate support, a transfer guide, and actuators. 상기 기판 지지체는 증착면이 아래를 향하도록 기판을 지지하고 상기 증착챔버들간 기판을 이송한다. The substrate support supports the substrate such that the deposited surface faces down and transferring the substrate between the deposition chamber. 상기 이송 가이드는 각각의 상기 증착 챔버 내에 설치되어 상기 기판 지지체의 이동을 안내하며, 상기 기판 지지체는 구동기에 의해 구동된다. The transfer guide is provided in each of the deposition chambers, and guide the movement of the substrate support, the substrate support is driven by the actuator.

본 발명의 일 특징에 의하면, 상기 기판 지지체는 기판을 지지하는 지지판과 상기 기판 지지체가 상기 이송 가이드를 따라 이동될 때 상기 이송 가이드에 접촉되어 구르는 롤러 부재를 포함하며, 상기 롤러 부재는 지지판에 설치된다. According to one aspect of the invention, the substrate support comprises a rolling roller member in contact with the conveying guide when it is moved along the supporting plate and the substrate support, wherein the transfer guide for supporting a substrate, wherein the roller member is provided on the support plate do. 이는 롤러 등의 보수나 점검시 기판 지지체만을 챔버로부터 분리하면 되므로 설비의 유지보수가 간편하다. This is easy maintenance of the equipment, so when separate only the maintenance and checking when the substrate support of the roller or the like from the chamber.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 롤러 부재는 상기 이송 가이드의 상부면 또는 하부면을 따라 구르도록 상기 지지판에 결합된 구동 롤러와 상기 이송 가이드의 측면을 따라 구르도록 상기 지지판에 결합되는 가이드 롤러를 포함한다. According to another feature of the invention, the roller member is a guide roller coupled to the support plate to roll along the side of the drive roller and the conveyance guide coupled to the support plate to roll along an upper surface or a lower surface of the conveying guide It includes. 상기 구동 롤러는 상기 기판 지지체가 상기 이송 가이드를 따라 원활하게 구를 수 있도록 하며, 상기 가이드 롤러는 상기 지지판이 상기 이송 가이드를 따라 이동되는 도중 상기 지지판이 상기 이송 가이드의 길이방향과 수직한 측방향으로 흔들리는 것을 방지한다. The drive roller is, and to the old smoothly through which the substrate support the conveyance guide, the guide roller is the support plate wherein the support plate is the side perpendicular to the longitudinal direction of said transport guide while being moved along the transport guide direction It prevents swaying.

또한, 본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 지지판의 하부면은 기판이 지지되는 중앙부, 상기 구동 롤러가 설치되는 가장자리부, 그리고 상기 중앙부와 상기 가장자리부 사이에 위치되며 요철이 형성된 제 1굴곡부를 가지고, 상기 이송 가이드의 상부면은 상기 구동 롤러가 구르는 로드부와 상기 지지판의 굴곡부와 대향되는 부분에 위치되며 상기 기판 이동체의 제 1굴곡부에 제공된 요철과 맞물리는 형상의 요철이 형성된 제 2굴곡부를 가진다. Further, according to another feature of the invention, the lower surface of the support plate is positioned between the side portions which central portion, the said drive roller installation in which the substrate is supported, and the central portion and the edge portion has a first curved portion having a concave-convex , the top surface of the conveyance guide has a second curved portion being located to a portion that is opposed to the bent portion of the said drive roller rolls on the rod above the support plate having a concave and convex of the engagement with irregularities provided in the first bent portion of the substrate moving object shape . 이는 상기 지지판의 가장자리부에서 상기 롤러 부재와 상기 이송 가이드의 접촉으로 인해 발생되는 파티클이 상기 지지판의 중앙부로 유입되는 것을 방지한다. This prevents the particles caused by the contact of the roller member and the conveyance guide on the edge portion of the support plate is introduced into the central portion of the support plate.

상술한 예와 달리 상기 구동 롤러는 상기 지지판의 상부면에 설치되고, 상기 가이드 부재는 상기 지지판의 상부에 제공되어 상기 구동 롤러가 상기 가이드 부재의 하부면을 따라 구를 수 있다. The drive roller, unlike the example described above is provided on the upper surface of the support plate, the guide member may be provided in the upper portion of the support plate that the drive roller sphere along the lower surface of the guide member.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 구동기는 상기 지지판의 측벽에 형성된 랙 기어, 상기 랙 기어와 맞물리도록 제공되는 피니언 기어, 모터에 의해 회전되는 제 1회전축, 상기 제 1회전축과 수직방향으로 배치되며, 상기 피니언 기어를 회전시키는 제 2회전축, 상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축으로 전달하는 전달부재를 포함한다. According to a further feature of the invention, the actuator has a first rotational axis that is a rack formed on the side wall of the supporting plate gear, a pinion gear provided so as to engage with said rack gear, rotated by a motor, arranged in the first axis of rotation perpendicular to the direction and, a second rotary shaft, transmission for transmitting the rotational force of the first rotating shaft to the second rotating shaft member for rotating the pinion gear. 상기 전달 부재는 상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와 상기 제 1자성체와 접하거나 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되며, 상기 제 2회전축을 삽입하는 제 2자성체를 포함한다. And the transmission member comprises a second magnetic material to the first is arranged perpendicularly to the first magnetic body in the first magnetic body and said first magnetic body and in contact or adjacent the position at which to insert the rotary shaft 1, inserting the second axis of rotation. 이는 자성체들을 사용하여 상기 제 1회전축의 구동력을 상기 제 2회전축에 전달하므로 기어 조립체를 사용할 때에 비해 파티클이 발생되지 않는다. This does not cause the particles compared to using a gear assembly, because transmission of driving force from the first rotation axis by using the magnetic body to the second rotation axis.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 7을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, the accompanying drawings, an embodiment of the present invention reference to Figures 1 to 7 will be described in more detail below. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명 의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. Embodiment of the invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention is not to be construed as being limited due to the embodiments set forth herein. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. This example is provided to more completely describe the present invention to those having ordinary skill in the art. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 위해 과장된 것이다. Therefore, the shape of the elements in the drawings are exaggerated for more clear explanation.

또한, 본 실시예에서 기판 이동 장치가 유기 전계 발광 소자(electro-luminescent light emitting device) 제조에 사용되는 기판(3) 상에 유기 박막을 증착하는 장치에 사용되는 경우를 예로 들어 설명한다. Further, a case will be described for use in apparatus for the substrate transfer device in this embodiment, the deposition of organic thin films on a substrate (3) used for producing the organic electroluminescent device (electro-luminescent light emitting device) as an example. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 기판을 이송하기 위해 롤러를 사용하는 모든 장치에 적용 가능하다. However, not limited to this is the spirit of the present invention, it is applicable to all devices that use a roller in order to transfer the substrate.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 증착 장치(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 1 is a view schematically showing a deposition apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. 도 1을 참조하면, 증착 장치(1)는 복수의 챔버들을 포함한다. 1, the deposition apparatus 1 includes a plurality of chambers. 챔버들은 로딩 챔버(10), 크리닝 챔버(30), 공정 챔버들(40), 그리고 언로딩 챔버(20)를 포함하고, 각각의 공정 챔버(40)는 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)를 가진다. Deposition chambers chambers loading chamber 10, the cleaning chamber 30, a process chamber (40), and including an unloading chamber 20, each process chamber 40 is a mask attached to the chamber (42), ( 44), and has a mask removing chamber 46. 각각의 공정 챔버(40)에서 증착 챔버(44)는 하나 또는 복수개가 제공될 수 있다. Deposition chamber 44 in each of the process chamber 40 may be provided with one or a plurality. 마스크 부착 챔버(42) 또는 마스크 제거 챔버(44)에는 각각 마스크들이 저장되는 마스크 챔버(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. Mask attachment chamber 42 or mask removal chamber 44 may be provided with a respective mask to the mask chamber (not shown) are stored. 또한, 상술한 로딩 챔버(10), 크리닝 챔버(30), 공정 챔버(40), 언로딩 챔버(20) 외에 다른 종류의 챔버들이 더 제공될 수 있다. In addition, they can be further provided with another type of chamber in addition to the above-described loading chamber 10, the cleaning chamber 30, the processing chamber 40, an unloading chamber 20.

일 예에 의하면, 로딩 챔버(10), 크리닝 챔버(30), 공정 챔버(40), 그리고 언로딩 챔버(20)는 순차적으로 일렬로 배치되고, 공정 챔버(40) 내에서 마스크 부 착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)는 동일방향으로 순차적으로 일렬로 배치된다. According to one example, the mask portion mounting chamber in the loading chamber 10, the cleaning chamber 30, the process chamber 40, and an unloading chamber 20 are arranged in sequence in line, the process chamber 40 ( 42), the deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46 is arranged in a line in sequence in the same direction. 공정 챔버(40)의 수는 다양하게 변화될 수 있으며, 예컨대 증착 장치(1)가 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 장치인 경우, 공정 챔버(40)는 약 20개가 제공될 수 있다. The number of process chambers 40 may be variously changed and, for example, when the deposition apparatus 1, the apparatus used to manufacture the organic EL device, the processing chamber 40 may be provided about twenty. 각각의 챔버에는 내부의 유지 보수 등이 용이하도록 도어(52)가 설치되며, 공정 진행시 챔버 내부가 고진공을 유지하도록 진공펌프(도시되지 않음)가 설치된 배기관(54)이 연결되는 진공포트(도시되지 않음)가 제공된다. Each chamber and a door 52 provided so as to facilitate the like maintained within the maintenance, the process vacuum pump such that the chamber holding the vacuum during progress (not shown) is installed, the exhaust pipe vacuum ports 54 are connected (shown is not) is provided. 상술한 바와 달리 챔버들의 배열은 다양하게 변화될 수 있다. Unlike the arrangement of the chamber described above it may be variously changed. 예컨대, 장치가 일방향으로 매우 길어지지 않도록 공정챔버들(40)은 'ㄷ'자 형상으로 배열되거나 지그재그 형상으로 배열될 수 있다. For example, the process chamber so that the support unit is extremely long in one direction (40) or arranged in the shape 'c' may be arranged in a staggered pattern.

증착 공정이 수행될 기판(3)은 로딩 챔버(10)를 통해 장치(1) 내로 유입되고, 증착 공정이 완료된 기판(3)은 언로딩 챔버(20)를 통해 장치(1)로부터 유출된다. The substrate is a deposition process is performed (3) is introduced into the apparatus 1 through the loading chamber 10, a substrate 3, a deposition process is completed are discharged from the apparatus 1 through the unloading chamber 20. 로딩 챔버(10)로 유입된 기판(3)은 크리닝 챔버(30)로 이송된다. The inlet to the substrate loading chamber 10. (3) is transferred to the cleaning chamber 30. 크리닝 챔버(30)는 플라즈마 또는 자외선 등을 사용하여 기판(3)을 세정하는 공정을 수행한다. Cleaning chamber 30 using, for example, plasma or UV light to perform a process of cleaning a substrate (3). 크리닝이 완료된 기판(3)은 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)로 순차적으로 이동된다. Substrate cleaning is completed (3) is moved in sequence by a mask attached to the chamber 42, a deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46. 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)의 양 측벽에는 개구(40a)가 형성된다. The side walls of the mask attached to the chamber 42, a deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46 has an opening (40a) is formed. 기판은 개구(40a)를 인접하는 챔버들로 이동된다. The substrate was moved into a chamber adjacent the opening (40a). 마스크 부착 챔버(42)에서 일정 패턴이 형성된 마스크(4)가 기판(3)에 부착되고, 증착 챔버(44)에서 기판(3) 상에 박막이 증착되며, 마스크 제거 챔버(46)에서 마스크(4)가 기판(3)으로부터 제거된다. Mask attached a certain pattern is attached to the formed mask 4 of the substrate 3 in the chamber 42, the thin film is deposited on the substrate 3 in the deposition chamber 44, a mask from the mask removal chamber 46 ( 4) is removed from the substrate (3). 이후, 기판(3)은 다음 공정 챔버(40)로 이동되며, 상술한 마스크 부착, 증착, 마스크 제거 과정이 계속적으로 반복된다. Thereafter, the substrate 3 is moved to the next process chamber 40, the above-described mask attachment, deposition, mask removal process is continually repeated. 공정 챔버(40)에 따라 마스크 부착 및 마스크 제거 없이 증착 공정만 수행될 수 있다. According to the process chamber 40 can be performed without a mask, only the deposition process to attach and remove the mask. 이 경우 공정 챔버(40)에는 마스크 부착 챔버(42) 및 마스크 제거 챔버(46)가 제공되지 않을 수 있다. In this case, the process chamber 40 may not be provided with a mask attached to the chamber 42 and the mask removal chamber (46).

도 2는 마스크 부착 챔버(42) 및 마스크 제거 챔버(46) 내의 구조를 개략적으로 보여주는 도면이다. 2 is a view schematically showing the structure of a mask attached to the chamber 42 and the mask removal chamber (46). 도 2를 참조하면, 마스크 부착 챔버(42) 및 마스크 제거 챔버(46) 내에는 마스크 이동기(300)가 제공된다. 2, in the mask attachment chamber 42 and a mask removal chamber 46 is provided with a mask mobile device 300. The 마스크 이동기(300)는 상하로 이동가능하며, 마스크(4)는 마스크 이동기(300) 상에 놓인다. Mask the mobile device 300 is movable up and down, the mask 4 is placed on the mask mobile device 300. The 마스크 부착 챔버(42)에서 마스크 이동기(300)가 기설정된 높이까지 이동되면, 후술하는 기판 지지체(110)에 제공된 클램프(도시되지 않음)에 의해 마스크(4)는 기판 지지체(110)에 결합된다. When the movement of the mask attachment chamber 42 by a height of the mask user equipment 300 a predetermined clamp provided in the substrate support 110 to be described later (not shown), the mask (4) by is coupled to a substrate support (110) . 마스크(4)가 기판 지지체(110)에 결합되기 전, 기판(3)과 마스크(4)의 정렬이 이루어진다. Before the mask (4) it is coupled to the substrate support 110, made of the alignment of the substrate 3 and the mask 4. 마스크 제거 챔버(46)에서 마스크 이동기(300)가 기설정된 높이까지 이동되면, 마스크(4)는 기판 지지체(110)로부터 분리되어 마스크 이동기(300) 상에 놓여진다. If mask removal mask mover 300 in the chamber 46 is moved to the high group is set, the mask 4 is separated from the substrate support 110 is placed on the mask mobile device 300. The 상술한 마스크(4)의 결합 및 마스크(4)의 제거를 위한 구조 및 방법은 일 예에 불과한 것으로, 이와는 다른 다양한 구조 및 방법이 사용될 수 있다. For bonding and removal of the mask 4 of the aforementioned mask 4 structure and method that only an example, the contrast, there are a variety of other structures and methods it may be used.

도 3은 증착 챔버(44) 및 증착물질 공급챔버(48)를 개략적으로 보여주는 단면도이다. Figure 3 is a cross-sectional schematic view of the deposition chamber 44 and the deposition material supplying chamber (48). 도 3을 참조하면, 증착 챔버(44)의 하부면에는 증착물질 공급챔버(48)가 제공된다. 3, the lower surface of the deposition chamber 44 is provided with a deposition material supplying chamber (48). 증착물질 공급챔버(48)는 증착 챔버(44)와 일체로 제조될 수 있으며, 선택적으로 증착물질 공급챔버(48)는 증착 챔버(44)와 별도로 제조된 후 증착 챔버(44)에 결합될 수 있다. Deposited material supply chamber 48 may be made integral with the deposition chamber 44, may be selectively coupled to a deposition material supply chamber 48, the deposition chamber 44 after the prepared separately from the deposition chamber 44 with have. 또한, 증착물질 공급챔버(48) 내에는 증착물질 공급부재(500)가 제공된다. Further, in a deposition material supply chamber 48 is provided with a deposition material supplying member (500). 증착물질 공급부재(500)는 공급용기(520)와 가열부재(540)를 가 진다. Deposition material supplying member 500 is the heating member 540 and the supply container (520). 공급용기(520)는 증착하고자 하는 물질을 수용하며 상부가 개방된 공간을 가진다. Supply container 520 accommodating the material to be deposited and having an open top area. 가열부재(540)는 증착물질로부터 플룸(flume)이 발생하도록 공급용기(520)를 가열하여 증착물질에 열을 제공한다. Heating member 540 is heated to a flume (flume) supplied to the generating vessel (520) from the deposited material and provides heat to the deposition material.

증착물질 공급챔버(48)에는 진공펌프가 설치된 배관이 연결되는 진공포트(도시되지 않음)가 제공되고, 전방에는 내부의 유지보수가 용이하고 공급용기(520)에 증착물질을 공급할 수 있도록 도어(도 1의 56)가 제공된다. In the door so that the vacuum pump is a vacuum port (not shown) which pipes are connected service is installed, the maintenance of the inside front easily and supplying a deposition material in the supply vessel 520, the deposited material supply chamber 48 ( the 56: 1), is provided. 가열부재(540)로는 코일 형상의 열선이 사용될 수 있으며, 가열부재(540)는 공급용기(520)의 측벽 내에 배치되거나 공급용기(520)의 측벽을 감싸도록 배치될 수 있다. A heating member (540) includes a coil-shaped heating wire may be used, the heating member 540 may be disposed to surround the side wall of the disposed in a side wall of the supply container (520) or supply vessel (520). 이와 달리 가열부재(540) 대신 공급용기(520)로 레이저를 조사하는 레이저 조사 부재(도시되지 않음)가 사용될 수 있다. In contrast, the heating member 540 instead of the supply container laser (not shown) irradiating member for irradiating the laser 520 may be used. 상술한 예에서는 증착 챔버(44)와 증착물질 공급챔버(48)가 각각 제공되는 것으로 설명하였다. In the above example it was described as being the deposition chamber 44 and the deposition material supplied to the chamber 48 is provided, respectively. 그러나 이와 달리 증착물질 공급챔버(48)는 제공되지 않고, 증착물질 공급부재(500)는 증착 챔버(44) 내에 배치될 수 있다. However, contrast is not provided is the deposition material supplied to the chamber 48, a deposition material supply member 500 may be disposed in the deposition chamber 44.

공정이 수행되는 기판(3)이 소형 기판인 경우, 기판 지지체(110)가 증착물질 공급챔버(48)와 대향되는 위치에 고정된 상태에서 증착 공정이 이루어진다. When the substrate 3 in which the process is carried out in a small substrate, the deposition process takes place in the substrate support 110 is fixed at a position opposite to the deposition material supplying chamber 48 condition. 그러나 공정이 수행되는 기판(3)이 대형 기판인 경우, 기판 지지체(110)가 이송 가이드(120)를 따라 이동하면서 소정영역씩 증착공정이 수행된다. However, if the substrate 3 in which the process is carried out in a large-sized substrate, while moving along the substrate support 110, the transfer guide 120, the deposition process is performed by a predetermined area. 기판 지지체(110)가 계속적으로 일정속도로 이동되면서 증착공정을 수행할 수 있으며, 기판 지지체(110)가 일정 시간씩 정지하면서 이동되어 증착공정을 수행할 수 있다. The substrate support 110 while continuously moving at a constant speed, and to perform the deposition process, the substrate support 110 is moved and stopped by a certain period of time can be carried out a deposition process. 증착 공정이 수행되는 동안, 기판 지지체(110)는 증착 챔버(44) 내에서 왕복이동될 수 있다. During the deposition process is performed, the substrate support 110 can be reciprocated in the deposition chamber 44. 이와 달리 공급용기(520)가 이동되면서 증착이 이루어질 수 있다. As the contrast supply container 520, this movement can be made is deposited. 그러나 이 경우 설비 의 구성이 복잡해지므로, 기판 지지체(110)가 이송 가이드(120)를 따라 이동되면서 증착 공정이 수행되는 것이 바람직하다. However, since a complicated configuration of the equipment case, it is preferable that the substrate support 110 is a deposition process is performed while moving along the conveyance guide 120.

공정 챔버(40)는 공급용기(520)의 상부 또는 증착물질 공급챔버(48)의 개구를 개폐하는 덮개(620)를 가진다. Process chamber 40 has a cover 620 for opening and closing an opening of the upper or deposited material supply chamber 48 of the supply container (520). 덮개(620)는 증착 공정이 진행되지 않는 동안(증착물질 공급챔버(48)의 상부에 기판(3)이 위치되지 않은 경우) 증착물질로부터 발생된 플룸이 증착 챔버(44) 내로 유입되는 것을 방지한다. Cover 620 prevents the deposition process are introduced into the (CVD material feed when the top that the substrate 3 is not positioned in the chamber 48), a plume deposition chamber 44 resulting from the deposition material while not proceed do. 플룸이 증착 챔버(44) 내로 유입되는 경우, 이송 가이드(120) 또는 증착 챔버(44) 내에 설치된 구조물에 증착이 이루어지며, 이들은 후에 파티클로서 작용한다. If the flume is introduced into the deposition chamber 44, the evaporation is done to the structure provided in the conveyance guide 120, or the deposition chamber 44, which then acts as a particle.

증착공정 수행시 증착 물질로부터 발생된 플룸이 기판(3)으로부터 벗어나 기판(3) 상부로 이동되면 플룸이 기판 지지체(110) 또는 다른 구조물에 증착된다. Once the plume generated from the deposited material during the deposition process carried out from the substrate 3, the substrate 3 moves upward plume is deposited on the substrate support 110, or other structure. 또한, 플룸이 증착 챔버(44) 내 넓은 영역으로 퍼지면 증착 챔버(44)의 측벽에 형성된 개구(40a)를 통해 이와 인접한 마스크 부착 챔버(42) 또는 마스크 제거 챔버(46) 내로 유입되어 그 챔버들(42, 46)을 오염시킨다. In addition, the plume is introduced into the deposition chamber 44 through the opening (40a) formed on the side wall of the deposition chamber 44 spreads into a wide area, this adjacent mask attachment chamber 42 or mask removal chamber 46 at the chamber contaminate (42, 46). 이를 방지하기 위해 증착 챔버(44) 내에서 기판 지지체(110)에 부착된 기판(3)보다 낮은 위치에 차단판(640)이 제공된다. The blocking plate 640 is provided at a position lower than the substrate 3 is attached to the substrate support 110 in the deposition chamber 44. In order to prevent this. 차단판(640)은 증착물질 공급챔버(48)의 개구(502)와 대향되는 위치에 일정크기의 개구(642)를 가진다. Blocking plate 640 has an opening 642 of a predetermined size at a position facing the opening 502 of the deposition material supplying chamber (48). 플룸은 개구(642)를 통해서 증착 챔버(44) 내 상부로 공급되므로, 증착물질로부터 발생된 플룸이 도달되는 영역은 기판(3) 상의 일정영역으로만 제한된다. Plume is because through the opening 642, supplied to the upper evaporation chamber 44, the area that the plume generated from the deposited material is reached is limited to a certain area on the substrate (3).

증착 공정 진행시 공정 챔버(40) 내부는 고진공으로 유지한다. Inside the deposition process proceeds when the processing chamber 40 is maintained at a high vacuum. 종종 챔버들 중 어느 하나에 이상이 발생되는 경우 챔버 내부를 보수하여야 할 필요가 있다. If often that an error occurs in either of the chamber needs to be repaired to the chamber. 보 수는 챔버 내부가 상압으로 유지된 상태에서 이루어진다. Bo is performed in a state in which the chamber is maintained by pressure. 챔버들 내부가 개구(40a)를 통해 연통되어 있으므로, 어느 하나의 챔버에서 보수가 이루어질 때 모든 챔버 내의 압력이 상압으로 변화된다. Since the inside of the chamber communicates through an opening (40a), when the repair made in which one chamber that the pressure in all the chambers is changed to atmospheric pressure. 보수가 완료된 이후 공정을 시작하기 전에 모든 챔버 내부를 다시 진공으로 유지하여야 하므로 많은 시간이 소요된다. Maintenance is kept to be back inside a vacuum chamber before every start since the process is completed, because it takes a lot of time. 이를 방지하기 위해 본 발명의 장치(1)는 도 4에 도시된 바와 같이 각각의 공정챔버들(40)간 경계벽에 형성된 개구(40a)를 개폐하는 게이트 밸브(700)를 가진다. To prevent this, the device of the present invention (1) has a gate valve 700 for opening and closing an opening (40a) formed in the boundary wall between 40 respectively of the processing chamber as shown in Fig.

상술한 구조를 가지는 본 발명에 의하면, 어느 하나의 공정 챔버 내부를 보수할 필요가 있을 때, 보수가 필요한 공정 챔버의 양측벽에 제공된 게이트 밸브(700)를 닫아 보수가 필요한 공정 챔버의 내부가 다른 공정 챔버로부터 격리되도록 한다. According to the present invention having the above-described structure, any one of when it is necessary to repair the inside the processing chamber, and maintenance is by closing the gate valve 700 is provided in the side walls of the required processing chambers the inside of the process chamber, the maintenance required other such that isolated from the process chamber. 특정 공정챔버의 보수시, 보수가 필요한 공정 챔버의 양측에 배치된 게이트 밸브(700)를 닫든 후 도어(52)를 개방한다. When maintenance of a particular process chamber, the gate valve 700 is arranged on both sides of the process chamber it is required after maintenance datdeun opens the door 52. 따라서 보수가 필요한 공정챔버는 상압으로 변화되고, 다른 공정 챔버들은 진공으로 유지된다. Therefore, the process chamber is required maintenance has been changed to normal pressure, other process chambers are kept under vacuum. 보수가 완료되면, 도어(52)를 닫고 보수가 이루어진 공정챔버 내부를 진공으로 유지한다. When the repair is completed, maintain the inside of the process chamber are made of maintenance close door 52 in a vacuum.

상술한 구조로 인해 공정챔버 내부를 진공으로 유지하는 데 소요되는 시간이 단축되며, 결과적으로 설비 가동률이 향상된다. Shortening the time required to maintain the vacuum inside the processing chamber due to the above-described structure will be, resulting in improved capacity utilization. 상술한 예에서는 게이트 밸브(700)가 공정챔버들(40)간 경계벽에 형성된 개구(40a)에만 제공되는 것으로 설명하였으나, 이와 달리 게이트 밸브(700)는 각각의 공정 챔버들 내 경계벽(예컨대, 마스크 부착 챔버(42)와 증착 챔버(44) 간 경계벽, 및 증착 챔버(44)와 마스크 제거 챔버(46) 간 경계벽)에 형성된 개구들(40a)에 제공될 수 있다. In the above example, the gate valve 700 has been described as being provided only in the opening (40a) formed in the boundary wall between the 40 process chamber, In contrast, the gate valve 700 is within the perimeter wall of each of the process chamber (e.g., mask It can be provided attached to the chamber 42 and the deposition chamber 44 between the perimeter wall, and the deposition chamber 44 and the openings (40a) formed in the mask removing boundary wall) between the chamber (46).

각 챔버들간, 그리고 챔버 내에서 기판은 기판 이송장치(100)에 의해 이동된 다. In each chamber between, and a chamber, the substrate is moved by the substrate transfer device 100. 도 5는 기판 이송 장치(100)를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 5 is a plan view schematically showing a substrate transfer device (100). 도 5를 참조하면, 기판 이송 장치(100)는 기판 지지체(110), 이송 가이드(140), 그리고 구동기(160)를 가진다. 5, the substrate transfer apparatus 100 has a substrate support 110, the conveyance guide 140, and a driver 160. The 기판 지지체(110)는 공정 수행시 기판을 지지하고, 챔버들간 기판을 이송한다. The substrate support 110 to support a substrate during process operation, and transferring the substrate between chambers. 복수의 챔버에서 동시에 공정이 수행될 수 있도록 기판 지지체(110)는 복수개가 제공된다. The substrate support 110 to be at the same time the process is performed in a plurality of chambers are provided with a plurality. 이송 가이드(140)는 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 회수 챔버(46) 내에 각각 제공되며, 기판 지지체(110)가 직선이동될 수 있도록 기판 지지체(110)의 이동을 안내한다. The transfer guide (140) for movement of the mask attached to the chamber 42, a deposition chamber 44, and the mask is provided respectively in the recovery chamber 46, substrate support 110, the substrate support 110 to be moved linearly and more. 구동기(160)는 기판 지지체(110)가 이동가능하도록 기판 지지체(110)에 동력을 제공한다. Driver 160 provides power to the substrate support 110. The substrate support 110 to be movable.

도 6은 도 5의 기판 지지체(110)를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 6 is a cross-sectional view schematically showing the substrate support 110 of FIG. 도 6을 참조하면, 기판 지지체(110)는 지지판(120)을 가진다. 6, the substrate support 110 has a support plate 120. 기판(3)은 그 증착면이 아래를 향하도록 지지판의 하부면에 지지된다. The substrate 3 is supported on the lower surface of the support plate facing down is the evaporation surface. 지지판(120)의 하부면은 중앙부(120a), 굴곡부(120b), 그리고 가장자리부(120c)를 가진다. The lower surface of the support plate 120 has a central portion (120a), the bent portion (120b), and the edge portion (120c). 지지판(120)의 하부면 중앙부(120a)에는 기판의 부착(sticking)이 용이하도록 접착층(122)이 형성된다. Lower surface central portion (120a) of the support plate 120, the adhesive layer 122 is formed to facilitate the adhesion (sticking) of the substrate. 지지판(120)에는 내부에 형성된 홀들(128)에 삽입되어 상하로 이동가능한 분리 로드(126)가 제공된다. Support plate 120 has been inserted into the holes 128 formed therein is provided with a separating rod 126 capable of moving up and down. 지지판(120)으로부터 기판(3)의 분리가 용이하도록 접착층(122)의 접착력은 강하지 않은 것이 바람직하다. Adhesion of the substrate 3, the adhesive layer 122 to facilitate separation from the support plate 120 is preferably not strong. 상술한 바와 달리 기판 지지체(110)는 클램프(도시되지 않음) 등과 같은 기구적인 구조, 또는 접착층과 기구적인 구조의 조합에 의해 기판을 고정할 수 있다. Unlike described above the substrate support 110 can hold the substrate by a combination of mechanical structure, or the adhesive layer and the mechanical structure, such as clamps (not shown). 또한, 기판 지지체(110) 내에는 자석(124)이 제공되고, 마스크(4)는 금속 재질로 이루어져, 기판 지지체(110)에 결합된 마스크(4)의 일부 영역이 아래로 처지는 것을 방지한다. Further, in the substrate support 110 is provided with a magnet 124, a mask (4) is made of a metallic material, a partial region of the mask (4) coupled to the substrate support 110 to prevent sagging down. 자석(124)은 영구자석이 사용되는 것이 바람직하다. Magnets 124 are preferably permanent magnets are used.

도 7은 도 5의 선 Ⅰ-Ⅰ을 따라 절단한 단면도이다. Figure 7 is a cross-sectional view taken along a line Ⅰ-Ⅰ in Fig. 도 7을 참조하면, 지지판(120)의 가장자리부(120c)에는 롤러부재(130)가 설치된다. 7, the edge portion (120c) of the support plate 120 is provided with a roller member 130. 롤러부재(130)는 이송 가이드(140)와 접촉되어 기판 지지체(110)가 이송 가이드(140)를 따라 원활하게 이동될 수 있도록 한다. Roller member 130 is in contact with the conveying guide 140, so that they can be moved smoothly through the substrate support 110, the guide 140 is transported. 롤러부재(130)는 구동 롤러들(132)과 가이드 롤러들(134)을 가진다. Roller member 130 has a the drive roller 132 and guide rollers 134. 구동 롤러(132)는 지지판(120)의 하부면 가장자리에 설치되어 이송 가이드(140)의 상부면을 따라 구른다. Drive roller 132 is installed on the bottom surface edge of the support plate 120 rolls along the top surface of the conveying guide 140. The 가이드 롤러(134)는 지지판(120)의 측면에 설치되어 이송 가이드(140)의 측면을 따라 구른다. The guide rollers 134 roll along the sides of installed on the side of the support plate 120, the conveyance guide 140. 가이드 롤러(134)는 기판(3)의 이송되는 동안, 그리고 마스크(4)나 기판(3)이 지지판(120)에 결합 또는 분리되는 동안 지지판(120)이 측방향으로 흔들리는 것을 방지한다. Guide roller 134 is used to prevent shaking during the transfer, and the mask 4 and the substrate supporting plate 120, while (3) is combined or separate the support plate 120, the lateral direction of the substrate 3.

지지판(120)의 하부면 가장자리에는 이송 가이드(120)의 길이방향과 동일한 방향으로 삽입홈(132a)이 길게 형성된다. The lower surface of the support plate 120, the edge is formed with a groove (132a) extending in the same direction as the longitudinal direction of the conveying guide 120. The 삽입홈(132a)의 양측면에는 수평방향으로 배치되도록 복수의 고정축들(136)이 설치된다. Both sides of the insertion groove (132a) is provided with a plurality of the fixed shaft so as to be disposed in a horizontal direction (136). 고정축들(136)은 삽입홈(132a)의 길이방향을 따라 복수개 설치된다. The fixed shaft 136 is installed along the longitudinal direction of the plurality of insertion groove (132a). 상술한 구동 롤러(132)는 각각의 고정축(136)이 삽입되도록 삽입홈(132a) 내에 설치된다. The above-described drive roller 132 is provided in the insertion groove (132a) to be inserted into the respective fixed shaft 136 of the. 이와 달리 삽입홈(132a)을 이송 가이드(140)의 길이방향과 동일한 방향으로 복수개 형성하고, 각각의 삽입홈(132a)에 상술한 고정축(136)과 구동 롤러(132)를 각각 설치할 수 있다. On the other hand it may be provided a groove a fixed shaft 136 and the drive roller (132) above each of the insertion groove (132a) is formed, and a plurality of the same direction as the longitudinal direction of the conveying guide 140, a (132a), respectively .

지지판(120)의 측면에는 이송 가이드(140)의 길이방향과 동일한 방향으로 삽입홈(134a)이 길게 형성된다. Side of the support plate 120 is formed with a groove (134a) extending in the same direction as the longitudinal direction of the conveying guide 140. The 삽입홈(134a)의 상부면과 하부면에는 수직방향으로 배치된 복수의 고정축들(138)이 설치된다. Upper and lower surfaces of the insertion groove (134a) is provided with a plurality of fixed shaft arranged in a vertical direction (138). 고정축들(138)은 삽입홈(134a)의 길이방 향을 따라 복수개 설치된다. The fixed shaft 138 is provided a plurality in the longitudinal direction of the insertion groove (134a). 상술한 가이드 롤러(134)는 각각의 고정축(138)이 삽입되도록 삽입홈(134a)에 설치된다. The guide rollers 134 described above is provided in the insertion groove (134a) to be inserted into the respective fixed shaft 138 of the.

지지판(120)의 중앙부(120a)와 가장자리부(120c) 사이에는 굴곡부(120b)가 제공된다. Between the central portion (120a) and the edge portion (120c) of the support plate 120 is provided with a bent portion (120b). 일 예에 의하면, 지지판의 굴곡부(120b)는 지지판(120)의 이동방향과 동일한 방향으로 길게 형성된 요(凹)부(129a)와 철(凸)부(129b)를 가진다. According to one example, the bent portion (120b) of the support plate has the required (凹) portion (129a) and iron (凸) portion (129b) formed longitudinally in the same direction as the direction of movement of the support plate 120. 요부(129a)와 철부(129b) 각각은 복수개가 반복하여 제공하는 것이 바람직하다. Each main portion (129a) and convex portions (129b) is preferably provided by a plurality of iterations. 선택적으로 굴곡부(120b)는 가장자리부(120c)에서 중앙부(120a)를 갈수록 높아지거나 낮아지도록 단차지게 형성될 수 있다. Optionally, the bend (120b) may be formed to be stepped so that increase or decrease toward a central portion (120a) at the edge portion (120c).

이송 가이드(140)는 직선으로 이루어지며 2개가 제공된다. The transfer guide (140) is made of a straight line are provided two. 이송 가이드들(140)은 동일 높이에 일정거리 이격되어 서로 나란하게 배치된다. The conveyance guide 140 is spaced a predetermined distance at the same height are arranged in parallel to each other. 이송 가이드(140)의 상부면은 굴곡부(140b)와 로드(road)부(140c)를 가진다. The upper surface of the conveyance guide 140 has a bent portion (140b) and the rod (road) portion (140c). 이하, 지지판(120)에 제공된 굴곡부(120b)를 제 1굴곡부라 칭하고, 이송 가이드(140)에 제공된 굴곡부(140b)를 제 2굴곡부라 칭한다. Hereinafter referred to bend (120b) provided in the support plate 120 bridle first bending, a bent portion (140b) provided on the conveyance guide 140, the second winding is referred to bridle. 로드부(140c)는 구동 롤러들(132)이 구르는 면을 제공하도록 평평하게 형성되고, 제 2굴곡부(140b)는 지지판(120)의 굴곡부(120b)와 대응되는 형상을 가진다. Rod portion (140c) is formed flat so as to provide the rolling surface of the drive roller 132, a second bending portion (140b) has a shape corresponding to the bent portion (120b) of the support plate 120. 즉, 제 2굴곡부(140b) 중 제 1굴곡부(120b)의 요부(129a)와 대향되는 부분은 철부(149b)로서 제공되고, 제 1굴곡부(120b)의 철(凸)부(129b)와 대향되는 부분은 요(凹)부(149a)로서 제공된다. That is, the second bending portion (140b) of the first portion being opposite to the main portion (129a) of the bent portion (120b) is provided as a convex portion (149b), ferrous (凸) of the bent portion (120b) portion (129b) and the opposite side portion that is provided as required (凹) portion (149a). 상술한 제 1굴곡부(120b)와 제 2굴곡부(140b)의 형상은 구동 롤러(132) 또는 가이드 롤러(134)와 이송 가이드(140)의 접촉으로 인한 마찰, 또는 기판 지지체(110)를 구동시키기 위해 제공되는 구동기(160)의 구성요소들간의 마찰로 인해 발생되는 파티클이 기판(3)이 위치되는 지지판의 중앙부(120a)로 유입되는 것을 방지한다. The shape of the above-described first bent portion (120b) and the second bending portion (140b) is driving the friction, or the substrate support (110) due to contact of the driving roller 132 or the guide roller 134 and the conveyance guide 140 the particles generated by the friction between the components of the actuator 160 is provided for the substrate 3 preventing the inflow to the central portion (120a) of the support plate that position. 또한, 이송 가이드(140)의 측면은 가이드 롤러들(134)이 구르는 면을 제공하도록 평평하게 형성된다. Further, the side of the conveying guide 140 is formed flat so as to provide the rolling surface of the guide roller 134.

구동기(160)는 기판 이송체(110)를 직선이동시키기 위한 동력을 제공한다. Actuator 160 provides the power for moving the substrate linearly conveying member 110. 일 예에 의하면, 구동기(160)는 제 1회전축(162), 전달부재(163), 제 2회전축(165), 피니언 기어(166), 그리고 랙 기어(167)를 가진다. According to one example, the actuator 160 has a first axis of rotation 162, the transmission member 163, the second rotary shaft 165, the pinion gear 166, and a rack gear 167. 제 1회전축(162)은 이송 가이드(140)의 길이방향과 평행하도록 길게 배치된다. The first rotating shaft 162 is arranged parallel to the long length direction of the conveying guide 140. The 제 1회전축(162)의 일측 끝에는 모터(161)가 장착된다. The motor 161 is mounted at the end of one side of the first rotary shaft 162. 제 2회전축(165)은 제 1회전축(162)과 수직하게 복수개가 제공되며, 이송 가이드(140)에 회전가능하게 설치된다. A second rotary shaft 165 is provided with a plurality of perpendicularly to the first rotating shaft 162, it is rotatably mounted on a conveyance guide 140. The 제 1회전축(162)의 회전력은 전달부재(163)에 의해 제 2회전축(165)으로 전달된다. The rotational force of the first rotating shaft 162 is transmitted to the second rotation axis (165) from the transmitting member (163). 전달부재(163)는 제 1자성체(163a)와 제 2자성체(163b)를 가진다. Transmission member 163 has a first magnetic body (163a) and the second magnetic body (163b). 제 1자성체(163a)는 제 1회전축(162)에 고정되도록 제 1회전축(162)을 삽입한다. The first magnetic body (163a) is inserted into the first rotary shaft 162 so as to be fixed to the first rotary shaft 162. 제 1자성체(163a)는 제 1회전축(162)을 따라 복수개가 제공된다. The first magnetic body (163a) is provided with a plurality along a first axis of rotation (162). 제 2자성체(163b)는 각각의 제 1자성체(163a)와 수직하도록 제 1자성체(163a)에 인접하게 복수개가 배치되며, 각각의 제 2자성체(163b)는 각각의 제 2회전축(165)을 삽입한다. A second magnetic body (163b) has a respective first magnetic body (163a) and a plurality of adjacent to the first magnetic body (163a) disposed and to the vertical, each of the second magnetic body (163b) are each of the second rotation axis (165) inserts. 각각의 제 2회전축(165)에는 피니언 기어(166)가 제공되고, 지지판(120)의 측면 상단에는 피니언 기어(166)들과 체결되는 랙 기어(167)가 형성된다. Each of the second rotation shaft 165, the rack gear 167 is fastened with a pinion gear 166 is provided and, in the upper side of the support plate 120. The pinion gear 166 is formed. 랙 기어(167)는 이송 가이드(140)의 방향과 동일방향으로 길게 형성된다. A rack gear (167) is formed to extend in the direction same as the direction of the conveyance guide 140. 제 2회전축(165)에 의해 피니언 기어(166)들이 회전되고, 피니언 기어(166)들의 회전력은 랙 기어(167)에 전달되어 랙 기어(167)가 직선이동된다. The pinion gear 166 by the second rotating shaft 165 have been rotated, the rotational force of the pinion gear 166 is transmitted to the rack gear 167, a rack gear 167 is moved linearly. 상술한 구조에 의하면, 제 1회전축(162)과 제 2회전축(165)간의 동력 전달을 위해 자성체가 사용되므로 기어 조립체를 사용할 때에 비해 파티클 발생을 방지할 수 있다. According to this structure, it is possible to prevent the generation of particles compared to using a gear assembly, because the magnetic material is used for the power transmission between the first rotary shaft 162 and the second rotation axis (165). 상술한 구동기(160)는 각각의 챔버 내에 제공되며, 각각의 챔버 내에서 독립적으로 구동된다. The above-described actuator 160 is provided in each chamber, and are independently driven by in each chamber.

공정이 완료된 기판이 기판 지지체(110)로부터 분리되면, 기판 지지체(110)는 다시 처음 위치로 회송된다. When the process is complete, the substrate is separated from the substrate support 110, the substrate support 110 is again returned to the first position. 기판 지지체(110)는 회송 가이드(400)를 따라 기판의 부착이 이루어지는 챔버로 회송된다. The substrate support 110 along the return guide 400 is returned to the chamber the attachment of the substrate made. 회송 가이드(400)는 이송 가이드와 동일한 구조를 가지며, 공정 챔버(40) 내에서 이송 가이드(140)의 상부에 배치된다. Return guide 400 is disposed on the conveyance guide 140 has the same structure as in the transfer guide, the process chamber 40.

상술한 예에서는 기판 이송 장치가 증착 챔버들 내에 직접 장착되어, 증착 챔버들간 기판의 이송 및 공정의 수행이 동일 챔버 내에서 이루어지는 구조를 가지는 증착 장치를 예로 들어 설명하였다. In the above example it was described as an evaporator of the substrate transfer device is directly mounted in the deposition chamber, and performing the transfer process of the substrate between the deposition chamber having a structure formed in the same chamber as an example. 그러나 이와 달리 본 발명의 기판 이송 장치는 한국공개특허 2002-72362에 개시된 바와 같이 공정이 수행되는 챔버와 기판의 이송이 각각 이루어지는 챔버가 각각 제공된 장치에도 적용가능하다. However, alternatively the substrate transfer apparatus of the present invention is provided to apply each of the two respective chambers formed in the chamber and the substrate to which the process is carried out as disclosed in Korea Laid-Open Patent Publication 2002-72362.

본 발명에 의하면, 이송 가이드를 따라 구르는 구동 롤러와 가이드 롤러가 기판 지지체에 결합되어 있으므로, 롤러 등의 보수나 점검시 기판 지지체만을 챔버로부터 분리하면 되므로 설비의 유지보수가 간편하다. According to the present invention, since the rolling drive roller and guide rollers along a transfer guide is coupled to the substrate support, so when separate only the maintenance and checking when the substrate support of the roller or the like from the chamber is easy maintenance of equipment.

또한, 본 발명에 의하면, 기판 지지체에서 롤러 설치부분과 기판을 지지하는 부분 사이에 굴곡진 굴곡부가 제공되므로, 롤러와 이송 가이드의 마찰로 인해 발생되는 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다. Furthermore, according to the invention, is provided so that the curved bending portion between the portion for supporting the roller mounting portion and the substrate on the substrate support, thereby preventing the particles generated by the friction of the rollers and the conveyance guide which is attached to the substrate.

또한, 본 발명에 의하면, 샤프트들간 회전력을 전달하기 위해 자성체가 사용되므로, 기어 조립체를 사용할 때에 비해 파티클 발생을 줄일 수 있다. According to the present invention, it is possible to reduce the generation of particles compared to using a, gear assembly, because the magnetic material is used to pass the shaft between the rotating force.

또한, 본 발명에 의하면, 기판을 지지하는 지지체의 이동을 안내하는 이송 가이드가 증착 공정이 수행되는 증착 챔버 내에 제공되므로 설비 면적이 작고, 기판 지지체가 이송 가이드에 장착되어 증착 챔버 내에서 이동되는 도중에 기판의 증착이 이루어지므로 공정이 빠르게 진행된다. Further, mounted on the present according to the invention, since the conveyance guide for guiding a movement of a support for supporting a substrate provided in the deposition chamber is carried out a deposition process, a small plant size, the substrate support conveying guide while being moved in the deposition chamber the deposition of the substrate because the process is done quickly.

또한, 본 발명에 의하면, 각 공정챔버들간 경계벽에 형성된 개구에는 게이트 밸브가 제공되므로, 하나의 공정 챔버의 유지보수가 이루어지는 동안 다른 공정 챔버들 내부는 계속적으로 진공으로 유지할 수 있다. Further, according to the present invention, since the opening formed in the boundary wall is provided with a gate valve between each process chamber, while the maintenance of one of the processing chamber formed inside the different process chamber may be continuously maintained at a vacuum. 따라서 유지보수 완료 후 공정을 계속적으로 진행시 챔버들 내부를 진공으로 유지하는 데 소요되는 시간을 단축할 수 있으므로 설비가동률이 증가된다. Therefore, the utilization rate is increased, because during the progress after completion of the maintenance process to continue to reduce the time it takes to keep the inside of the chamber to a vacuum.

Claims (9)

  1. 챔버 내에서 기판을 이송하는 장치에 있어서, An apparatus for transferring a substrate in the chamber,
    기판 지지체와; And the substrate support;
    상기 챔버 내에 설치되며 상기 기판 지지체의 이동을 안내하는 이송 가이드와; Installed in the chamber and a transfer guide for guiding the movement of the substrate support; 그리고 And
    상기 기판 지지체를 구동하는 구동기를 포함하되, Comprising: a driver for driving the substrate support,
    상기 기판 지지체는, The substrate support,
    기판을 지지하는 지지판과; A support plate for supporting the substrate;
    상기 지지판에 결합되는, 그리고 상기 기판 지지체가 상기 이송 가이드를 따라 이동될 때 상기 이송 가이드에 접촉되어 구르는 롤러 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치. When it is moved along, and the substrate support, wherein the transfer guide is coupled to the support plate the substrate transfer apparatus comprising: a rolling roller member in contact with the conveying guide.
  2. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 롤러 부재는 상기 이송 가이드를 따라 구르도록 상기 지지판에 결합된 구동 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치. The roller member is a substrate transfer apparatus comprising: a drive roller coupled to the support plate to roll along the transport guide.
  3. 제 2항에 있어서, 3. The method of claim 2,
    상기 롤러 부재는 상기 지지판이 상기 이송 가이드를 따라 이동되는 도중 상기 이송 가이드의 길이방향과 수직한 측방향으로 흔들리는 것을 방지하기 위해 상 기 이송 가이드의 측면을 따라 구르도록 상기 지지판에 결합되는 가이드 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치. The roller member is a guide roller coupled to the support plate wherein the support plate is to roll along the middle side of the transferor guide in order to prevent long swinging in the direction normal to the side direction of the conveyance guide which is moved along the transport guide a substrate transfer apparatus comprising:.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 3,
    상기 구동기는, The actuator,
    상기 지지판의 측벽에 형성된 랙 기어와; Rack gear formed on the side wall of the support plate;
    상기 랙 기어와 맞물리도록 상기 지지판에 제공되는 피니언 기어와; Pinion gear and engaged with the rack gear provided on the support plate;
    모터에 의해 회전되는 제 1회전축과; A first rotary shaft which is rotated by the motor and;
    상기 제 1회전축과 수직방향으로 배치되며, 상기 피니언 기어를 회전시키는 제 2회전축과; A second rotary shaft which is arranged above the first rotation axis and the vertical direction, rotates the pinion gear, and;
    상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축으로 전달하는 전달부재를 포함하되, Comprising: a transmitting member for transmitting the rotational force of the first rotating shaft to the second rotary shaft,
    상기 전달 부재는, The transmission member,
    상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와; And the first magnetic body for inserting said first rotary shaft;
    상기 제 1자성체와 접하거나 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되며, 상기 제 2회전축을 삽입하는 제 2자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치. A substrate transfer apparatus of the first magnetic material in contact with or adjacent positions; and a second magnetic body to insert the second rotation axis is vertically arranged, the first magnetic body.
  5. 제 2항에 있어서, 3. The method of claim 2,
    상기 지지판의 상부면 또는 하부면은, An upper surface or a lower surface of the support plate,
    기판이 지지되는 중앙부와; A central portion which the substrate is supported and;
    상기 구동 롤러가 설치되는 가장자리부와; And the edge portion on which the drive rollers installed;
    상기 중앙부와 상기 가장자리부 사이에 위치되며 요철이 형성된 제 1굴곡부를 가지고, Is located between the center portion and the edge portion has a first curved portion having a concave-convex,
    상기 이송 가이드의 하부면 또는 상부면은; The lower surface or upper surface of the conveying guide;
    상기 구동 롤러가 구르는 로드부와; And the driving roller rolls on the rod section;
    상기 지지판의 굴곡부와 대향되는 부분에 위치되며 상기 기판 이동체의 제 1굴곡부에 제공된 요철과 맞물리는 형상의 요철이 형성된 제 2굴곡부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치. Is located at the portion opposite to the bent portion of the support plate the substrate transfer device, characterized in that with the second bent portion is concave-convex and concave-convex shape of interlocking provided in the first bent portion of the substrate formed of the moving object.
  6. 유기 전계 발광 소자의 제조에 사용되는 기판 상에 유기박막을 형성하는 장치에 있어서, An apparatus for forming an organic thin film on a substrate used for manufacturing an organic electroluminescent element,
    직선으로 배열된 복수의 증착챔버들과; A plurality of deposition chambers arranged in a straight line;
    각각의 상기 증착챔버 아래에 배치되며, 상기 증착 챔버로 유기물질을 공급하는 증착물질 공급부재와; It is disposed beneath each of said deposition chamber, the deposition material supplying member for supplying an organic material to the deposition chamber;
    증착면이 아래를 향하도록 기판을 지지하고, 상기 증착챔버들간 기판을 이송하는 기판 지지체와; Supporting a substrate to a deposition surface facing down, and the substrate support and transferring the substrate between said deposition chamber;
    상기 증착 챔버 내에 설치되며 상기 기판 지지체의 이동을 안내하는 이송 가이드와; Installed in the deposition chamber and transfer guide for guiding the movement of the substrate support; 그리고 And
    상기 기판 지지체를 구동하는 구동기를 포함하되, Comprising: a driver for driving the substrate support,
    상기 기판 지지체는, The substrate support,
    기판을 지지하는 지지판과; A support plate for supporting the substrate;
    상기 지지판의 하부면에 결합되며, 상기 지지판이 상기 이송 가이드를 따라 이동될 때 상기 이송 가이드의 상부면에 접촉되어 구르는 구동 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 박막 증착 장치. It is coupled to a lower surface of the supporting plate, an organic thin film vapor deposition apparatus characterized in that the support plate is in contact with the upper surface of the transfer guide as it is transported along the transport guide includes a roll drive roller.
  7. 제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,
    상기 기판 지지체는 상기 지지판이 상기 이송 가이드을 따라 이동되는 도중 상기 이송 가이드의 길이방향과 수직한 측방향으로 흔들리는 것을 방지하기 위해 상기 이송 가이드의 측면을 따라 구르도록 상기 지지판에 결합되는 가이드 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 박막 증착 장치. The substrate support further comprises a guide roller coupled to the support plate to roll along the side of the support plate the conveyance guide the to prevent long swinging in the direction normal to the side direction of the conveyance guide while being moved along the transport gayideueul the organic thin film vapor deposition apparatus characterized in that it.
  8. 제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,
    상기 지지판의 하부면은, The lower surface of the support plate,
    기판이 지지되는 중앙부와; A central portion which the substrate is supported and;
    상기 구동 롤러가 설치되는 가장자리부와; And the edge portion on which the drive rollers installed;
    상기 중앙부와 상기 가장자리부 사이에 위치되며 요철이 형성된 제 1굴곡부를 가지고, Is located between the center portion and the edge portion has a first curved portion having a concave-convex,
    상기 이송 가이드의 상부면은; The top surface of the conveying guide;
    상기 구동 롤러와 접촉되는 로드부(road portion)와; And the rod section (road portion) in contact with the drive roller;
    상기 지지판의 굴곡부와 대향되는 부분에 위치되며 상기 기판 이동체의 제 1굴곡부에 제공된 요철과 맞물리도록 형상지어진 요철이 형성된 제 2굴곡부를 가지는 것을 특징으로 하는 유기 박막 증착 장치. Is located at the portion opposite to the bent portion of the support plate organic thin film vapor deposition apparatus characterized by having a second curved portion for engaging and irregularities provided in the first bent portion of the substrate moving object is uneven shape formed built.
  9. 제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,
    상기 구동기는, The actuator,
    상기 지지판의 측벽에 형성된 랙 기어와; Rack gear formed on the side wall of the support plate;
    상기 랙 기어와 맞물리도록 제공되는 피니언 기어와; Pinion gear and provided to engage with said rack gear;
    모터에 의해 회전되는 제 1회전축과; A first rotary shaft which is rotated by the motor and;
    상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와; And the first magnetic body for inserting said first rotary shaft;
    상기 제 1회전축과 수직방향으로 배치되며, 상기 피니언 기어를 회전시키는 제 2회전축과; A second rotary shaft which is arranged above the first rotation axis and the vertical direction, rotates the pinion gear, and;
    상기 제 2회전축을 삽입하고 상기 제 1자성체와 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되어, 상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축으로 전달하는 제 2자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 박막 증착 장치. In the position inserting the second rotation axis and adjacent to the first magnetic body organic characterized in that it comprises a second magnetic material which is disposed perpendicularly to the first magnetic body, transmitting the rotational force of the first rotating shaft to the second rotating shaft the film deposition apparatus.
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