KR20060074559A - Apparatus for fixing a semiconductor wafer on spin chuck - Google Patents

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Abstract

본 발명은 스핀 척의 웨이퍼 고정장치에 관한 것으로서, 스핀 스크루버의 스핀 척상에 웨이퍼를 고정시키는 장치로서, 스핀 척(200)의 상면 가장자리를 따라 복수로 설치되고, 각각은, 스핀 척(200)의 상면 가장자리에 반경방향을 따라 슬라이딩되도록 설치되고, 상측에 웨이퍼(W) 에지부분의 상측을 가이드하는 가이드부(113)가 형성되며, 반경방향에 직교하도록 형성되는 가이드홀(114)이 수직방향으로 연장 형성되는 이동블록(110)과, 이동블록(110)의 가이드홀(114)에 가이드되는 가이드핀(121)이 상측에 형성되고, 하측이 스핀 척(200)에 반경방향을 따라 회전하도록 힌지 결합되는 시프터(120)와, 시프터(120)의 하측에 연결되어 스핀 척(200)의 하측에 위치하며, 스핀 척(200)이 회전시 원심력에 의해 시프터(120)를 회전시킴으로써 가이드부(113)가 웨이퍼(W) 에지부분의 상측에 위치하도록 이동블록(110)을 슬라이딩시키는 중량추(130)를 포함한다. 따라서, 본 발명은, 스핀 척이 회전시 웨이퍼를 스핀 척으로 이탈하지 못하도록 고정시킴으로써 스핀 척으로부터 이탈하는 웨이퍼의 손상이나 파손을 방지함과 아울러 장비의 가동률을 향상시키는 효과를 가지고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer holding device for a spin chuck, and is a device for fixing a wafer on a spin chuck of a spin chuck, and is provided in plurality along an upper surface edge of the spin chuck 200, and each of the spin chucks 200 includes a spin chuck 200. It is installed to slide along the radial direction on the upper edge, the guide portion 113 for guiding the upper side of the wafer (W) edge portion is formed on the upper side, the guide hole 114 formed to be orthogonal to the radial direction in the vertical direction An extended moving block 110 and a guide pin 121 guided by the guide hole 114 of the moving block 110 are formed on the upper side, and the lower side hinges to rotate in the radial direction to the spin chuck 200. The shifter 120 is coupled to the lower side of the shifter 120 and is positioned below the spin chuck 200, and the guide unit 113 is rotated by rotating the shifter 120 by centrifugal force when the spin chuck 200 rotates. ) Edge of wafer (W) And a weight of weight 130 to slide on the moving blocks 110 so as to be disposed. Therefore, the present invention has the effect of preventing damage or breakage of the wafer deviating from the spin chuck by fixing the wafer so that the spin chuck does not escape from the spin chuck at the time of rotation, and improving the operation rate of the equipment.

Description

스핀 척의 웨이퍼 고정장치{APPARATUS FOR FIXING A SEMICONDUCTOR WAFER ON SPIN CHUCK}Wafer fixing device of spin chuck {APPARATUS FOR FIXING A SEMICONDUCTOR WAFER ON SPIN CHUCK}
도 1은 종래의 기술에 따른 스핀 스크루버를 도시한 사시도이고,1 is a perspective view showing a spin screwer according to the prior art,
도 2는 본 발명에 따른 스핀 스크루버의 스핀 척을 도시한 평면도이고,2 is a plan view illustrating a spin chuck of a spin screwer according to the present invention;
도 3은 도 2의 A-A'선에 따른 단면도이고,3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2;
도 4는 본 발명에 따른 스핀 척의 웨이퍼 고정장치를 도시한 사시도로서, 스핀 척이 회전할 때 모습을 도시한 도면이고,Figure 4 is a perspective view showing a wafer holding device of the spin chuck according to the present invention, it is a view showing a state when the spin chuck is rotated,
도 5는 도 3과 유사한 도면으로서, 스핀 척이 회전할 때의 모습을 도시한 도면이고,FIG. 5 is a view similar to FIG. 3 and illustrating a state when the spin chuck rotates. FIG.
도 6은 도 4와 유사한 도면으로서, 스핀 척이 회전할 때의 모습을 도시한 도면이다.FIG. 6 is a view similar to FIG. 4 and illustrating a state when the spin chuck rotates.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
110 : 이동블록 111 : 걸림돌기110: moving block 111: jamming projection
112 ; 지지면 113 : 가이드부112; Support surface 113: guide part
114 : 가이드홀 120 : 시프터114: guide hole 120: shifter
121 : 가이드핀 122 : 몸체121: guide pin 122: body
123 : 힌지핀 130 : 중량추123: hinge pin 130: weight
본 발명은 스핀 척의 웨이퍼 고정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스핀 척이 회전시 웨이퍼를 스핀 척으로 이탈하지 못하도록 고정시키는 스핀 척의 웨이퍼 고정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer holding device for a spin chuck, and more particularly, to a wafer holding device for a spin chuck that fixes the wafer so that the spin chuck does not escape the wafer to the spin chuck during rotation.
반도체 소자는 포토리소그래피(photo lithography)공정, 확산공정, 식각공정, 화학기상증착공정 등 다양한 단위공정을 실시함으로써 제조된다. 이러한 단위공정 실시중에 발생되는 각종 케미컬이나 파티클 등과 같은 이물질을 제거하기 위해 세정공정이 실시된다.The semiconductor device is manufactured by performing various unit processes such as a photolithography process, a diffusion process, an etching process, and a chemical vapor deposition process. The cleaning process is performed to remove foreign substances such as various chemicals and particles generated during the unit process.
세정공정을 실시하기 위해 다양한 방식과 구조를 가지는 장치들이 개발되어 사용되고 있으며, 이들 중 스핀 스크루버(spin scrubber)는 웨이퍼를 회전시킴과 아울러 웨이퍼에 케미컬이나 초순수와 같은 세정액을 분사함으로써 웨이퍼를 세정시키는 것으로서, 매엽식 방법을 채용하여 큰 사이즈의 웨이퍼에 존재하는 이물질을 효과적으로 제거하는데 많이 사용된다.In order to perform the cleaning process, devices having various methods and structures have been developed and used. Among them, a spin scrubber rotates the wafer and cleans the wafer by spraying a cleaning liquid such as chemical or ultrapure water on the wafer. It is widely used to effectively remove foreign matter present in a wafer of a large size by adopting a sheet type method.
종래의 웨이퍼 세정에 사용되는 스핀 스크루버를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, a spin screwer used in the conventional wafer cleaning is as follows.
도 1은 종래의 기술에 따른 스핀 스크루버를 도시한 사시도이다. 도시된 바와 같이, 스핀 스크루버(10)는 상측면에 웨이퍼(W)가 안착됨과 아울러 미도시된 구동수단에 의해 회전하는 스핀 척(11)과, 스핀 척(11)의 상측에 웨이퍼(W) 상면을 향해 초순수와 같은 세정액을 분사하는 적어도 하나 이상의 제 1 분사노즐(12)과, 스핀 척(11)상에 설치되어 웨이퍼(W)의 하면을 향해 초순수와 같은 세정액을 분사하는 제 2 분사노즐(13)을 포함한다.1 is a perspective view showing a spin screwer according to the prior art. As shown in the drawing, the spin screwer 10 includes a spin chuck 11 on which the wafer W is seated on an upper side and rotates by a driving means (not shown), and a wafer W on the spin chuck 11. ) At least one first injection nozzle 12 for spraying a cleaning liquid such as ultrapure water toward the upper surface, and a second spraying nozzle disposed on the spin chuck 11 for spraying a cleaning liquid such as ultrapure water toward the lower surface of the wafer W; And a nozzle 13.
스핀 척(11)은 구동수단(미도시)에 연결되기 위하여 하측에 회전축(14)이 마련되며, 웨이퍼(W)가 안착되기 위하여 상측면 가장자리를 복수의 지지핀(15)이 결합된다. The spin chuck 11 is provided with a rotating shaft 14 at a lower side in order to be connected to a driving means (not shown), and a plurality of support pins 15 are coupled to an upper side edge of the wafer chuck to be seated thereon.
지지핀(15)은 웨이퍼(W)의 에지부분을 지지하기 위하여 외주면을 따라 지지턱(15a)이 형성된다. The support pin 15 is formed with a supporting jaw 15a along the outer circumferential surface to support the edge portion of the wafer W.
이와 같은 종래의 스핀 스크루버(10)는 스핀 척(11)으로 로딩된 웨이퍼(W)가 지지핀(15)의 지지턱(15a)에 에지부분이 지지된 상태에서 구동수단(미도시)의 구동에 의해 회전함으로써 웨이퍼(W)도 함께 회전시키며, 이 때, 제 1 및 제 2 분사노즐(12,13)이 웨이퍼(W)를 향해 초순수와 같은 세정액을 분사함으로써 웨이퍼(W) 표면에 부착되는 케미컬이나 파티클 등을 원심력에 의해 제거한다.Such a conventional spin screwer 10 has a wafer (W) loaded with the spin chuck 11 of the driving means (not shown) in the state that the edge portion is supported on the support jaw 15a of the support pin 15. The wafer W is also rotated by rotation by driving, and the first and second injection nozzles 12 and 13 adhere to the surface of the wafer W by spraying a cleaning liquid such as ultrapure water toward the wafer W. Remove chemicals, particles, etc. by centrifugal force.
그러나, 이러한 종래의 스핀 스크루버(10)의 스핀 척(11)은 최대 4,000rmp으로 고속으로 회전하기 때문에 지지핀(15)만으로는 웨이퍼(W)를 제대로 고정시킬 수 없어 웨이퍼(W)가 스핀 척(11)으로부터 쉽게 이탈되며, 이로 인해 웨이퍼(W)가 충격에 의해 손상되거나 파손되는 문제점을 가지고 있었다.However, since the spin chuck 11 of the conventional spin screwer 10 rotates at a high speed of up to 4,000 rpm, the support pin 15 alone cannot properly fix the wafer W so that the wafer W spins. It is easily detached from (11), which causes the wafer W to be damaged or broken by an impact.
이러한 문제점을 해결하기 위해 웨이퍼(W)를 진공이나 정전력을 사용하여 척킹할 경우 웨이퍼(W)에 분사되는 세정액으로 인해 척킹이 원활하지 못하게 되며, 또한, 이들 척킹 방식은 접촉식이므로 웨이퍼(W) 표면에 대한 세정이 원활하게 이 루어질 수 없는 다른 문제점을 가지게 되었다.In order to solve this problem, when the wafer W is chucked by using vacuum or electrostatic force, the chucking is not performed smoothly due to the cleaning liquid sprayed on the wafer W. In addition, since the chucking method is a contact type, the wafer W is used. There are other problems that cannot be cleaned smoothly.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 스핀 척이 회전시 웨이퍼를 스핀 척으로 이탈하지 못하도록 고정시킴으로써 스핀 척으로부터 이탈하는 웨이퍼의 손상이나 파손을 방지함과 아울러 장비의 가동률을 향상시키는 스핀 척의 웨이퍼 고정장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to prevent damage or breakage of the wafer leaving the spin chuck by fixing the spin chuck to prevent the wafer from leaving the spin chuck during rotation. To provide a wafer holding device of the spin chuck to improve the operation rate of the.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, 스핀 스크루버의 스핀 척상에 웨이퍼를 고정시키는 장치로서, 스핀 척의 상면 가장자리를 따라 복수로 설치되고, 각각은, 스핀 척의 상면 가장자리에 반경방향을 따라 슬라이딩되도록 설치되고, 상측에 웨이퍼 에지부분의 상측을 가이드하는 가이드부가 형성되며, 반경방향에 직교하도록 형성되는 가이드홀이 수직방향으로 연장 형성되는 이동블록과, 이동블록의 가이드홀에 가이드되는 가이드핀이 상측에 형성되고, 하측이 스핀 척에 반경방향을 따라 회전하도록 힌지 결합되는 시프터와, 시프터의 하측에 연결되어 스핀 척의 하측에 위치하며, 스핀 척이 회전시 원심력에 의해 시프터를 회전시킴으로써 가이드부가 웨이퍼 에지부분의 상측에 위치하도록 이동블록을 슬라이딩시키는 중량추를 포함한다.The present invention for achieving the above object is a device for fixing a wafer on the spin chuck of the spin screwer, a plurality of devices are provided along the upper edge of the spin chuck, each so as to slide in the radial direction on the upper edge of the spin chuck. It is installed, the guide portion for guiding the upper side of the wafer edge portion is formed on the upper side, the movable block in which the guide hole formed to be perpendicular to the radial direction extending in the vertical direction, and the guide pin guided to the guide hole of the movable block on the upper side And a shifter hinged to rotate the radially to the spin chuck in a radial direction, and a lower side of the spin chuck connected to the lower side of the shifter, wherein the guide portion rotates the shifter by centrifugal force when the spin chuck rotates. It includes a weight for sliding the moving block to be located above the portion.
이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.                     
도 2는 본 발명에 따른 스핀 스크루버의 스핀 척을 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2의 A-A'선에 따른 단면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 스핀 척의 웨이퍼 고정장치를 도시한 사시도로서, 스핀 척이 회전할 때 모습을 도시한 도면이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 스핀 척의 웨이퍼 고정장치(100)는 스핀 스크루버의 스핀 척(200)상에 웨이퍼(W)를 고정시키기 위한 장치로서, 스핀 척(200)의 상면 가장자리를 따라 복수로 설치되고, 각각은 스핀 척(200)의 상면 가장자리에 반경방향을 따라 슬라이딩되도록 설치되는 이동블록(110)과, 이동블록(110)에 연결되어 스핀 척(200)에 힌지 결합되는 시프터(shifter: 120)와, 시프터(120)의 하측에 연결되는 중량추(130)를 포함한다.Figure 2 is a plan view showing a spin chuck of the spin screwer according to the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view taken along the line AA 'of Figure 2, Figure 4 shows a wafer holding device of the spin chuck according to the present invention It is a perspective view which shows a state when a spin chuck rotates. As shown, the wafer holding device 100 of the spin chuck according to the present invention is a device for fixing the wafer W on the spin chuck 200 of the spin screwer, along the top edge of the spin chuck 200. Is installed in plurality, each of the moving block 110 is installed to slide in the radial direction on the upper edge of the spin chuck 200, the shifter is connected to the moving block 110 hinged to the spin chuck 200 ( shifter: 120, and the weight 130 is connected to the lower side of the shifter 120.
이동블럭(110)은 하단에 형성되는 걸림돌기(111)가 스핀 척(200)의 가장자리에 반경방향을 따라 형성되는 슬라이딩홀(210)에 끼워져서 스핀 척(200)의 반경방향을 따라 슬라이딩되도록 설치되고, 상면에 웨이퍼(W) 에지부분 하면을 지지하는 지지면(112)이 형성되며, 지지면(112)의 상측에 웨이퍼(W) 에지부분의 상측을 가이드하는 "ㄱ"자 형상의 가이드부(113)가 형성된다. 또한 이동블럭(110)은 스핀 척(200)의 반경방향에 직교하도록 가이드홀(114)이 형성되는데, 이 가이드홀(114)은 수직방향으로 연장되도록 형성되어 시프터(120)의 상측에 형성되는 가이드핀(121)이 회전 가능하게 삽입된다.The moving block 110 is inserted into the sliding hole 210 formed along the radial direction at the edge of the spin chuck 200 is formed in the lower end of the spin chuck 200 to slide along the radial direction of the spin chuck 200. It is installed, the support surface 112 for supporting the lower surface of the wafer (W) edge portion is formed on the upper surface, the "a" shaped guide for guiding the upper side of the wafer (W) edge portion on the upper side of the support surface 112 A portion 113 is formed. In addition, the movable block 110 is formed with a guide hole 114 to be orthogonal to the radial direction of the spin chuck 200, the guide hole 114 is formed to extend in the vertical direction is formed on the upper side of the shifter 120 The guide pin 121 is rotatably inserted.
한편, 본 발명에 따른 웨이퍼 고정장치(100)는 도 2에 도시된 바와 같이, 기존의 지지핀(220)과 함께 사용될 수 있다. 이 때, 이동블록(110)은 웨이퍼(W) 에지부분의 하측을 지지하지 않도록 지지면(112)을 생략할 수도 있다. On the other hand, the wafer holding device 100 according to the present invention can be used with the existing support pins 220, as shown in FIG. At this time, the moving block 110 may omit the support surface 112 so as not to support the lower side of the wafer (W) edge portion.                     
시프터(120)는 상측의 가이드핀(121)이 이동블록(110)의 가이드홀(114)에 끼워져서 상하로 이동하도록 가이드되며, 몸체(122)가 스핀 척(200)을 관통하여 하측에 형성되는 힌지핀(123)에 의해 스핀 척(200)과 힌지 결합됨으로써 힌지핀(123)을 중심으로 스핀 척(200)의 반경방향을 따라 회전 가능하게 설치된다. 한편, 시프터(120)가 힌지핀(123)을 중심으로 회전시 몸체(122)가 움직일 수 있도록 이동블록(110)과 스핀 척(200)에는 미도시된 홈들이 형성된다.The shifter 120 is guided so that the upper guide pin 121 is inserted into the guide hole 114 of the moving block 110 to move up and down, and the body 122 penetrates the spin chuck 200 and is formed at the lower side. The hinge pin 123 is hinged to the spin chuck 200 by the hinge pin 123 to be rotatably installed along the hinge pin 123 along the radial direction of the spin chuck 200. On the other hand, not shown grooves are formed in the moving block 110 and the spin chuck 200 so that the body 122 moves when the shifter 120 rotates around the hinge pin 123.
중량추(130)는 시프터(120)의 하측에 일체로 또는 결합에 의해 연결되어 스핀 척(200)의 하측에 위치하며, 스핀 척(200)이 회전시 원심력에 작용하는 방향으로 정렬됨으로써 시프터(120)를 회전시켜서 가이드부(113)가 웨이퍼(W) 에지부분의 상측에 위치하도록 이동블록(110)을 슬라이딩시킨다. 중량추(130)는 원심력에 의해 원심력이 작용하는 선상에 쉽게 일치하도록 시프터(120)의 힌지핀(123)과 연결되는 측보다 그 반대측의 끝단이 무겁도록 형성된다. 한편, 스핀 척(200)은 중량추(130)가 원심력에 의해 외측으로 정렬시 서로 간섭을 일으키지 않도록 홈(230)을 형성함이 바람직하다.The weight 130 is connected to the lower side of the shifter 120 integrally or by coupling to the lower side of the spin chuck 200, the spin chuck 200 is aligned in the direction acting on the centrifugal force during rotation, so that the shifter ( The moving block 110 is slid so that the guide unit 113 is positioned above the edge portion of the wafer W by rotating the 120. The weight 130 is formed such that the end of the opposite side is heavier than the side connected to the hinge pin 123 of the shifter 120 so that the centrifugal force easily matches the line on which the centrifugal force acts. On the other hand, the spin chuck 200 preferably forms the groove 230 so that the weight 130 does not interfere with each other when aligned with the centrifugal force to the outside.
중량추(130)는 스핀 척(200)이 회전을 멈춘 경우 이동블록(110)이 스핀 척(200)상에서 외측으로 이동함으로써 가이드부(113)가 웨이퍼(W) 에지부분 상측으로부터 이탈되도록 함과 아울러 중량추(130)의 움직임에 민감하게 이동블록(110)의 슬라이딩 거리를 증가시키도록 시프터(120)와 일정 각도(α)를 이루고 있다. 중량추(130)와 시프터(120)가 이루는 각도(α)는 50도 내지 170도 임이 바람직하다. 예컨대 이들간의 각도(α)가 50도 미만인 경우 중량추(130)가 시프터(120)로부터 과 도하게 꺾여져 있음으로써 원심력에 의한 중량추(130)의 움직임이 이동블록(110)을 원활하게 슬라이딩시키기에 무리가 있다. 또한, 이들간의 각도(α)가 170도를 초과하는 경우 중량추(130)의 원심력에 의한 움직임이 미비하여 이동블록(110)의 이동거리가 작다.The weight 130 is the movement block 110 is moved out on the spin chuck 200 when the spin chuck 200 stops rotating so that the guide portion 113 is separated from the upper side of the wafer (W) edge portion and In addition, the shifter 120 forms a predetermined angle α to increase the sliding distance of the moving block 110 sensitively to the movement of the weight 130. The angle α between the weight 130 and the shifter 120 is preferably 50 degrees to 170 degrees. For example, when the angle α is less than 50 degrees, the weight 130 is excessively bent from the shifter 120, so that the movement of the weight 130 due to the centrifugal force smoothly slides the moving block 110. There is no way to make it. In addition, when the angle α between them exceeds 170 degrees, the movement by the centrifugal force of the weight 130 is insufficient, and the moving distance of the moving block 110 is small.
이와 같은 구조로 이루어진 스핀 척의 웨이퍼 고정장치의 동작은 다음과 같이 이루어진다.The operation of the wafer holding device of the spin chuck having such a structure is performed as follows.
스핀 척(200)상에 웨이퍼(W)가 로딩되어 기존의 지지핀(220)의 지지턱(221)에 에지부분이 지지된 다음 스핀 척(200)이 회전하게 되면 도 5 및 도 6에서 나타낸 바와 같이, 중량추(130)는 원심력에 의해 외측으로 향하게 됨으로써 시프터(120)를 힌지핀(123)을 중심으로 회전시키고, 시프터(120)는 가이드핀(121)이 이동블록(110)의 가이드홀(114)에 가이드되어 상승하면서 이동블록(110)을 웨이퍼(W)의 중심을 향해 슬라이딩되도록 한다. 따라서, 이동블록(110)의 슬라이딩에 의해 이동블록(110)의 가이드부(113)가 웨이퍼(W) 에지부분의 상측에 위치하게 됨으로써 웨이퍼(W)가 고속 회전에도 불구하고 스핀 척(200)으로부터 이탈됨으로 방지한다.When the wafer W is loaded on the spin chuck 200 and the edge portion is supported on the supporting jaw 221 of the existing support pin 220, and then the spin chuck 200 is rotated, the wafer W is illustrated in FIGS. 5 and 6. As such, the weight 130 is rotated to the outside by the centrifugal force to rotate the shifter 120 around the hinge pin 123, the shifter 120 is a guide pin 121 is a guide of the moving block 110 Guided by the hole 114 is raised to move the moving block 110 toward the center of the wafer (W). Accordingly, the guide part 113 of the moving block 110 is positioned above the edge of the wafer W by sliding of the moving block 110, so that the spin chuck 200 may be rotated despite the high speed rotation. To prevent it from deviating.
스핀 척(200)이 정지하면 도 3 및 도 4에서 도시된 바와 같이, 중량추(130)는 하측으로 처지면서 시프터(120)를 역방향으로 회전시킴으로써 이동블록(110)이 웨이퍼(W)의 외측으로 슬라이딩되도록 하여 가이드부(113)가 웨이퍼(W) 에지부분의 상측으로부터 벗어나게 된다. 따라서, 스핀 척(200)으로부터 웨이퍼(W)의 분리가 가능해진다.3 and 4, when the spin chuck 200 stops, the weight 130 sags downward and rotates the shifter 120 in the reverse direction, thereby moving the moving block 110 to the outside of the wafer W. As shown in FIG. The guide portion 113 is deviated from the upper side of the wafer (W) edge portion so as to slide. Therefore, the wafer W can be separated from the spin chuck 200.
이상과 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 스핀 척(200)이 고속으로 회전하더라도 중량추(130)가 원심력이 작용하는 방향으로 정렬됨으로써 시프터(120)를 통해 이동블록(110)을 슬라이딩시켜서 가이드부(113)에 의해 웨이퍼(W)를 스핀 척(200)으로부터 이탈하지 못하도록 고정시키며, 이로 인해 스핀 척(W)으로부터 이탈에 따른 웨이퍼(W)의 손상이나 파손을 방지함과 아울러 장비의 가동률을 향상시킨다. 또한, 스핀 척(200)이 정지시 별도의 부재없이도 중량추(130)가 중력이 작용하는 방향으로 정렬되어 역으로 이동블록(110)을 복귀시킴으로써 웨이퍼(W)를 용이하게 스핀 척(200)으로부터 언로딩시킬 수 있다. As described above, according to the preferred embodiment of the present invention, even if the spin chuck 200 rotates at a high speed, the weight 130 is aligned in the direction in which the centrifugal force acts, thereby sliding the moving block 110 through the shifter 120. The guide portion 113 fixes the wafer W from being separated from the spin chuck 200, thereby preventing damage or breakage of the wafer W due to the separation from the spin chuck W, and Improved utilization rate In addition, when the spin chuck 200 is stopped, the weight 130 is aligned in the direction in which gravity acts without a separate member, and thus, the spin chuck 200 is easily returned by returning the moving block 110. It can be unloaded from.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 스핀 척의 웨이퍼 고정장치는 스핀 척이 회전시 웨이퍼를 스핀 척으로 이탈하지 못하도록 고정시킴으로써 스핀 척으로부터 이탈하는 웨이퍼의 손상이나 파손을 방지함과 아울러 장비의 가동률을 향상시키는 효과를 가지고 있다. As described above, the wafer holding device of the spin chuck according to the present invention prevents damage or breakage of the wafer deviating from the spin chuck by fixing the wafer so that the spin chuck does not leave the wafer to the spin chuck during rotation, and improves the operation rate of the equipment. Has the effect of letting.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 스핀 척의 웨이퍼 고정장치를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is just one embodiment for carrying out the wafer holding device of the spin chuck according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the following claims of the present invention Without departing from the gist of the present invention, one of ordinary skill in the art will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.

Claims (3)

  1. 스핀 스크루버의 스핀 척상에 웨이퍼를 고정시키는 장치로서,An apparatus for fixing a wafer on a spin chuck of a spin screwer,
    상기 스핀 척의 상면 가장자리를 따라 복수로 설치되고, 각각은,It is provided in plurality along the upper edge of the spin chuck, each of which is
    상기 스핀 척의 상면 가장자리에 반경방향을 따라 슬라이딩되도록 설치되고, 상측에 상기 웨이퍼 에지부분의 상측을 가이드하는 가이드부가 형성되며, 상기 반경방향에 직교하도록 형성되는 가이드홀이 수직방향으로 연장 형성되는 이동블록과,A movable block is installed on the upper edge of the spin chuck to slide along the radial direction, and a guide portion for guiding the upper side of the wafer edge portion is formed on the upper side, and a guide hole formed to be perpendicular to the radial direction extends in the vertical direction. and,
    상기 이동블록의 가이드홀에 가이드되는 가이드핀이 상측에 형성되고, 하측이 상기 스핀 척에 상기 반경방향을 따라 회전하도록 힌지 결합되는 시프터와,A guide pin formed at an upper side of the guide hole of the moving block, the shifter being hinged to the lower side to rotate in the radial direction to the spin chuck;
    상기 시프터의 하측에 연결되어 상기 스핀 척의 하측에 위치하며, 상기 스핀 척이 회전시 원심력에 의해 상기 시프터를 회전시킴으로써 상기 가이드부가 상기 웨이퍼 에지부분의 상측에 위치하도록 상기 이동블록을 슬라이딩시키는 중량추A weight weight connected to a lower side of the shifter and positioned below the spin chuck and sliding the moving block such that the guide portion is positioned above the wafer edge portion by rotating the shifter by centrifugal force when the spin chuck is rotated.
    를 포함하는 스핀 척의 웨이퍼 고정장치.Wafer holding device of the spin chuck comprising a.
  2. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 이동블록의 가이드부는,Guide portion of the moving block,
    "ㄱ"자 형상을 가지는 것Having the shape of "a"
    을 특징으로 하는 스핀 척의 웨이퍼 고정장치. Wafer holding device of the spin chuck characterized in that.
  3. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1,
    상기 중량추와 상기 시프터는,The weight and the shifter,
    50도 내지 170도의 각도를 이루는 것At an angle of 50 to 170 degrees
    을 특징으로 하는 스핀 척의 웨이퍼 고정장치.Wafer holding device of the spin chuck characterized in that.
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