KR20060000118A - Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판의 세정능력을 향상시킬 수 있는 액정표시패널의 제조장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display panel that can improve the cleaning ability of the substrate.

본 발명의 액정표시패널의 제조장치는 박리액을 이용하여 기판 상에 형성된 유기물을 제거함과 아울러 브러시를 이용하여 상기 박리액을 제거하는 박리부; 상기 기판 상에 잔류하는 박리액을 제거하기 위한 세정부와; 상기 세정부에서 세정된 기판을 건조하기 위한 건조부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
An apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention includes a peeling unit for removing an organic material formed on a substrate using a peeling solution and removing the peeling solution using a brush; A cleaning unit for removing a peeling liquid remaining on the substrate; And a drying unit for drying the substrate cleaned in the cleaning unit.

Description

액정표시패널의 제조장치 및 방법{Apparatus And Method For Fabricating Liquid Crystal Display Panel} Apparatus And Method For Fabricating Liquid Crystal Display Panel             

도 1은 종래의 액정표시패널을 나타내는 도면이다. 1 is a view showing a conventional liquid crystal display panel.

도 2는 포토레지스트 제거, 세정 및 건조공정이 실시되는 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다.2 is a view showing an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel in which photoresist removal, cleaning, and drying processes are performed.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토레지스트 박리, 세정 및 건조공정이 실시되는 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다.FIG. 3 is a diagram illustrating an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel in which photoresist stripping, washing, and drying processes according to a first embodiment of the present invention are performed.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 포토레지스트 박리, 세정 및 건조공정이 실시되는 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다.
4 is a view showing an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel in which photoresist stripping, cleaning, and drying processes according to a second embodiment of the present invention are performed.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 > <Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

10,110 : 박리부 20,120 : IPA처리부 10,110: peeling part 20,120: IPA treatment part

30,130 : 브러쉬부 40,140 : 수압부 30,130: brush portion 40,140: water pressure portion

50,150 : 초음파부 60,160 : 건조부 50,150: ultrasonic unit 60,160: drying unit

62,162 : 에어 나이프
62,162: Air Knives

본 발명은 액정표시패널의 제조장치에 관한 것으로, 특히 기판의 세정능력을 향상시킬 수 있는 액정표시패널의 제조장치 및 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel, and more particularly, to an apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display panel capable of improving the cleaning ability of a substrate.

도 1은 일반적인 액정표시패널을 나타내는 사시도이다. 1 is a perspective view illustrating a general liquid crystal display panel.

도 1에 도시된 액정표시패널은 액정(86)을 사이에 두고 합착된 컬러필터 기판(81)과 TFT 기판(91)을 구비한다. The liquid crystal display panel shown in FIG. 1 includes a color filter substrate 81 and a TFT substrate 91 bonded together with a liquid crystal 86 interposed therebetween.

액정(86)은 자신에게 인가된 전계에 응답하여 회전됨으로써 TFT 기판(91)을 경유하여 입사되는 빛의 투과량을 조절하게 된다. The liquid crystal 86 is rotated in response to an electric field applied to the liquid crystal 86 to adjust the amount of light transmitted through the TFT substrate 91.

컬러필터 기판(81)은 상부기판(80a)의 배면 상에 형성되는 컬러필터(82) 및 공통전극(84)을 구비한다. 컬러필터(82)는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러필터층이 스트라이프(Stripe) 형태로 배치되어 특정 파장대역의 빛을 투과시킴으로써 컬러표시를 가능하게 한다. 인접한 색의 컬러필터(82)들 사이에는 도시하지 않은 블랙 매트릭스(Black Matrix)(도시하지 않음)가 형성되어 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다. The color filter substrate 81 includes a color filter 82 and a common electrode 84 formed on the rear surface of the upper substrate 80a. In the color filter 82, the color filter layers of red (R), green (G), and blue (B) colors are arranged in a stripe form to transmit light of a specific wavelength band, thereby enabling color display. A black matrix (not shown) is formed between the color filters 82 of adjacent colors to absorb the light incident from the adjacent cells, thereby preventing the lowering of the contrast.

TFT 기판(91)은 하부기판(80b)의 전면에 데이터라인(99)과 게이트라인(94)이 상호 교차되도록 형성되며, 그 교차부에 TFT(90)가 형성된다. TFT(90)는 게이트라인(94)에 접속된 게이트전극, 데이터라인(99)에 접속된 소스전극, 채널을 사이에 두고 소스전극과 마주보는 드레인전극으로 이루어진다. 이 TFT(90)는 드레인전극 을 관통하는 접촉홀을 통해 화소전극(92)과 접속된다. 이러한 TFT(90)는 게이트라인(94)으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인(99)으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(92)에 공급한다. The TFT substrate 91 is formed so that the data line 99 and the gate line 94 cross each other on the front surface of the lower substrate 80b, and the TFT 90 is formed at the intersection thereof. The TFT 90 includes a gate electrode connected to the gate line 94, a source electrode connected to the data line 99, and a drain electrode facing the source electrode with a channel interposed therebetween. The TFT 90 is connected to the pixel electrode 92 through a contact hole passing through the drain electrode. The TFT 90 selectively supplies the data signal from the data line 99 to the pixel electrode 92 in response to the gate signal from the gate line 94.

화소전극(92)은 데이터라인(99)과 게이트라인(94)에 의해 분할된 셀 영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 이 화소전극(99)은 드레인전극을 경유하여 공급되는 데이터신호에 의해 상부기판(80a)에 형성되는 공통전극(84)과 전위차를 발생시키게 된다. 이 전위차에 의해 하부기판(80b)과 상부기판(80a) 사이에 위치하는 액정(86)은 유전율이방성에 의해 회전하게 된다. 이에 따라, 광원으로부터 화소전극(92)을 경유하여 공급되는 광이 상부기판(80a) 쪽으로 투과된다. The pixel electrode 92 is positioned in a cell region divided by the data line 99 and the gate line 94 and is made of a transparent conductive material having high light transmittance. The pixel electrode 99 generates a potential difference from the common electrode 84 formed on the upper substrate 80a by the data signal supplied via the drain electrode. Due to this potential difference, the liquid crystal 86 located between the lower substrate 80b and the upper substrate 80a is rotated by dielectric anisotropy. Accordingly, the light supplied from the light source via the pixel electrode 92 is transmitted toward the upper substrate 80a.

이와 같은 구성을 갖는 액정표시패널의 반도체층, 절연층, 다수의 전극 및 신호라인들 등을 형성하는 경우 포토리쏘그래피 공정이 이용된다. A photolithography process is used to form a semiconductor layer, an insulating layer, a plurality of electrodes, signal lines, and the like of a liquid crystal display panel having such a configuration.

예를 들어, 기판 상에 스퍼터링 등의 증착방법에 의해 게이트 전극물질이 증착된 후 포토레지스트가 도포되고 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정이 실시됨으로써 포토레지스트 패턴이 형성된다. 그리고, 이 포토레지스트 패턴을 마스크로 게이트 전극물질이 식각됨으로써 게이트 전극 등이 형성된다. For example, after the gate electrode material is deposited on the substrate by a deposition method such as sputtering, a photoresist is applied and a photolithography process using a mask is performed to form a photoresist pattern. The gate electrode material is etched using the photoresist pattern as a mask to form a gate electrode or the like.

이후 포토레지스트 패턴은 스트립공정에 의해 제거된다.The photoresist pattern is then removed by the strip process.

도 2는 포토레지스트를 제거하기 위한 스트립 공정, 세정공정 및 건조공정이 이루어지는 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다. FIG. 2 is a diagram illustrating an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel in which a strip process, a cleaning process, and a drying process for removing a photoresist are performed.

도 2에 도시된 액정표시패널의 제조장치는 박리부(또는 스트립부)(10), 이소 프로필알콜(Isopropyl alcohol 이하, "IPA"라 한다)처리부(20), 브러쉬부(30), 수압(cavitation jet)부(40), 초음파(Megasonic)부(50) 및 건조부(60)와, 각각의 처리부로 기판(8)을 이동하기 위한 컨베이어 벨트(6)를 포함한다. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel illustrated in FIG. 2 includes a peeling part (or strip part) 10, an isopropyl alcohol (hereinafter referred to as “IPA”) processing part 20, a brush part 30, and a hydraulic pressure ( and a conveyor belt 6 for moving the substrate 8 to each processing unit, including a cavitation jet unit 40, an ultrasonic unit 50, and a drying unit 60.

박리부(10)는 외부의 용액저장부(미도시)로부터 공급되는 스트립용액을 분사하기 위한 분사노즐(3)을 구비하고, 상기 분사노즐(3)로부터 스트립용액(5)을 기판(8) 상에 분사시켜 포토레지스트를 제거하는 역할을 한다.The peeling unit 10 includes a spray nozzle 3 for spraying a strip solution supplied from an external solution storage unit (not shown), and the strip solution 5 is sprayed from the spray nozzle 3 to the substrate 8. Spray on to remove the photoresist.

IPA처리부(20)는 포토레지스트가 제거된 기판(8)의 전면에 외부의 용액저장부(미도시)로 부터 공급된 IPA용액을 분사하기 위한 분사노즐(24)을 구비하고, 상기 분사노즐(24)로부터 IPA용액을 기판(8)에 분사시켜 기판(8)을 표면처리하는 역할을 한다. 즉, 포토레지스트를 제거하는 스트립용액은 기판(8)의 표면에 달라붙어 응축되는 성질이 있으므로 스트립용액의 응축을 방지하기 위한 조치로써 IPA용액을 기판(8)에 분사시켜 잔존하는 스트립용액의 응축을 방지하게 된다. The IPA processing unit 20 includes a spray nozzle 24 for spraying an IPA solution supplied from an external solution storage unit (not shown) on the front surface of the substrate 8 from which the photoresist has been removed, and the spray nozzle ( 24 serves to surface-treat the substrate 8 by spraying the IPA solution onto the substrate 8. That is, since the strip solution for removing the photoresist is attached to the surface of the substrate 8 to condense, the strip solution condenses the remaining strip solution by spraying the IPA solution onto the substrate 8 as a measure to prevent the condensation of the strip solution. Will be prevented.

브러쉬부(30)는 분사노즐(34)을 이용하여 탈이온수(De-ionzed Water : 이하 "DI"라한다)를 기판(8)에 분사함과 아울러 브러쉬(36)를 회전시켜 스트립용액을 제거하게 된다.The brush unit 30 sprays de-ionzed water (hereinafter referred to as " DI ") onto the substrate 8 using the spray nozzle 34, and rotates the brush 36 to remove the strip solution. Done.

수압(cavitation jet)부(40)는 고압을 이용하고 초음파(Megasonic)부(50)는 고주파를 이용하여 각각 기판(8) 상에 잔존하는 극소량의 이물을 제거하게 된다. The cavitation jet unit 40 uses high pressure, and the ultrasonic unit 50 removes a very small amount of foreign matter remaining on the substrate 8 using high frequency.

건조부(60)는 압축공기를 분사하는 에어나이프(62)를 이용하여 세정된 기판(8)을 건조시킨다. The drying unit 60 dries the cleaned substrate 8 by using the air knife 62 for blowing compressed air.

컨베이어벨트(6)는 각각의 처리부로 기판(8)을 이동시키기 위한 이동수단으 로써 모터 등의 구동원에 의해 구동된다.The conveyor belt 6 is driven by a drive source such as a motor as a moving means for moving the substrate 8 to each processing unit.

이와 같은 구조를 갖는 액정표시패널의 동작을 설명하면 다음과 같다. The operation of the liquid crystal display panel having such a structure will be described below.

먼저, 컨베이어벨트(6)에 의해 포토레지스트가 형성된 기판(8)이 박리부(10)에 위치하게 된다. 박리부(10)에서는 외부의 용액 저장부로부터 공급되는 스트립용액(5)을 분사노즐(4)을 통해 분사시켜 포토레지스트를 제거한다. First, the substrate 8 on which the photoresist is formed by the conveyor belt 6 is positioned at the peeling part 10. In the peeling unit 10, the strip solution 5 supplied from the external solution reservoir is sprayed through the spray nozzle 4 to remove the photoresist.

포토레지스트가 제거된 기판(8)은 IPA처리부(20)로 이송되어 IPA용액에 의해 표면처리된다. 여기서, IPA용액은 스트립용액(5)이 기판(8)의 표면에 달라붙어 응축되는 것을 방지하는 역할을 한다. The substrate 8 from which the photoresist has been removed is transferred to the IPA treatment unit 20 and surface-treated with the IPA solution. Here, the IPA solution serves to prevent the strip solution 5 from sticking to the surface of the substrate 8 to condense.

IPA용액에 의해 표면처리된 기판(8)은 브러쉬부(30)로 이송된다. 브러쉬부(30)에는 DI가 기판(8) 상에 분사됨과 아울러 브러쉬(36)가 회전함으로써 스트립용액이 제거된다. The substrate 8 surface-treated with the IPA solution is transferred to the brush portion 30. In the brush part 30, DI is injected onto the substrate 8, and the strip solution is removed by rotating the brush 36.

이후, 수압(cavitation jet)부 및 초음파(Megasonic)부로 기판(8)이 순차적으로 이송되어 고압 및 고주파에 의해 세정됨으로써 극소량의 이물까지 제거되게 된다. Thereafter, the substrate 8 is sequentially transferred to the cavitation jet unit and the ultrasonic unit to be cleaned by high pressure and high frequency to remove even a small amount of foreign matter.

이와 같이, 세정이 완료된 기판(8)은 건조부(60)로 이송되어 에어나이프(62)로부터의 압축공기에 의해 건조된다. As such, the cleaned substrate 8 is transferred to the drying unit 60 and dried by compressed air from the air knife 62.

한편, 이와 같은 종래의 액정표시패널의 제조장치는 점차 기판(8)이 대형화됨에 따라 브러쉬부(30)에 제거된 스트립용액 또는 이물 중 소량이 다시 기판(8)에 안착되는 문제가 발생된다. 이러한, 이물은 수압부(40) 및 초음파부(50)에서도 마찬가지로 제거된 이물이 기판(8)에 제안착됨으로써 신뢰성이 있는 세정이 이루어지 지 않는 문제가 발생된다.
On the other hand, in the conventional manufacturing apparatus of the liquid crystal display panel, as the substrate 8 gradually increases in size, a small amount of strip solution or foreign matter removed from the brush part 30 may be settled on the substrate 8 again. Such foreign matters are similarly removed from the pressure receiving part 40 and the ultrasonic part 50, and thus, the foreign matter removed is proposed and adhered to the substrate 8, thereby causing a problem that reliable cleaning is not performed.

따라서, 본 발명의 목적은 기판의 세정능력을 향상시킬 수 있는 액정표시패널의 제조장치 및 방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display panel which can improve the cleaning ability of a substrate.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 제조장치는 박리액을 이용하여 기판 상에 형성된 유기물을 제거함과 아울러 브러시를 이용하여 상기 박리액을 제거하는 박리부; 상기 기판 상에 잔류하는 박리액을 제거하기 위한 세정부와; 상기 세정부에서 세정된 기판을 건조하기 위한 건조부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention includes a peeling unit for removing the organic liquid formed on the substrate by using a peeling solution and the stripping solution using a brush; A cleaning unit for removing a peeling liquid remaining on the substrate; And a drying unit for drying the substrate cleaned in the cleaning unit.

상기 세정부는 상기 잔류하는 박리액의 응고를 방지하기 위해 상기 기판 상에 IPA물질을 처리하는 IPA처리부와; 상기 IPA처리된 기판의 어레이면이 지면을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 제1 플리퍼부와; 상기 IPA처리된 기판을 고압을 이용하여 세정하는 수압부; 상기 고압세정된 기판을 고주파를 이용하여 세정하는 초음파부; 상기 세정된 기판의 어레이가 지상을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 제2 플리퍼를 구비하는 것을 특징으로 한다.The cleaning unit includes an IPA processing unit for processing an IPA material on the substrate to prevent solidification of the remaining stripping solution; A first flipper unit for rotating the substrate such that the array surface of the IPA-treated substrate faces the ground; A hydraulic pressure unit for cleaning the IPA-treated substrate using high pressure; Ultrasonic unit for cleaning the high-pressure washed substrate using a high frequency; And a second flipper for rotating the substrate such that the array of cleaned substrates faces the ground.

상기 제1 및 제2 플리퍼부는 상기 기판을 회동시키는 플리퍼와; 상기 회동된 기판을 진공흡착에 의해 홀딩하는 기판흡착부를 구비하는 것을 특징으로 한다. The first and second flipper parts including a flipper for rotating the substrate; It characterized in that it comprises a substrate adsorption portion for holding the rotated substrate by vacuum adsorption.                     

상기 건조부는 공기를 가열하기 위한 히터와; 상기 가열된 공기를 기판에 분사하는 에어나이프를 구비하는 것을 특징으로 한다.The drying unit and a heater for heating the air; And an air knife for injecting the heated air to the substrate.

본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 박리액을 이용하여 기판 상에 형성된 유기물을 제거함과 아울러 브러시를 이용하여 상기 박리액을 제거하는 단계와; 상기 잔류하는 박리액의 응고를 방지하기 위해 상기 기판 상에 IPA물질을 처리하는 단계와; 상기 기판 상에 잔류하는 박리액을 제거하여 상기 기판을 세정하는 단계와; 상기 세정된 기판을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Method of manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention comprises the steps of removing the organic material formed on the substrate using a stripping solution and the stripping solution using a brush; Treating the IPA material on the substrate to prevent solidification of the remaining stripping solution; Cleaning the substrate by removing the stripper remaining on the substrate; It characterized in that it comprises the step of drying the cleaned substrate.

상기 기판을 세정하는 단계는 상기 IPA처리된 기판의 어레이면이 지면을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 단계와; 상기 IPA처리된 기판의 하부에서 고압 및 고주파 중 적어도 하나를 이용하여 상기 기판을 세정하는 단계와; 상기 세정된 기판의 어레이면이 지상을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The cleaning of the substrate may include rotating the substrate such that the array surface of the IPA-treated substrate faces the ground; Cleaning the substrate using at least one of high pressure and high frequency under the IPA treated substrate; Rotating the substrate such that the array surface of the cleaned substrate faces the ground.

상기 IPA처리된 기판의 어레이면이 지면을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 단계는 플리퍼를 이용하여 상기 기판을 회동시키는 단계와; 기판흡착부를 이용하여 상기 회동된 기판을 진공흡착에 의해 홀딩하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Rotating the substrate such that the array surface of the IPA-treated substrate faces the ground; rotating the substrate using a flipper; And holding the rotated substrate by vacuum adsorption using a substrate adsorption unit.

상기 유기물 및 박리액의 제거는 70~90동 정도의 환경에서 실시되는 것을 특징으로 한다.Removal of the organic matter and the stripping liquid is characterized in that carried out in an environment of about 70 ~ 90 dong.

상기 기판을 건조하는 단계는 히터를 이용하여 공기를 가열하는 단계와; 에어나이프를 이용하여 상기 가열된 공기를 기판에 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Drying the substrate may include heating air using a heater; Injecting the heated air to the substrate using an air knife.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. Other objects and features of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 3 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 4.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토레지스트 박리, 세정공정 및 건조공정이 이루어 지는 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다. 3 is a view showing an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel in which a photoresist stripping, cleaning process, and drying process are performed according to a first embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 액정표시패널의 제조장치는 박리부(또는 스트립부)(110), 이소프로필알콜(Isopropyl alcohol 이하, "IPA"라 한다)처리부(120), 수압(cavitation jet)부(140), 초음파(Megasonic)부(150) 및 건조부(160)와, 각각의 처리부로 기판(108)을 이동하기 위한 컨베이어 벨트(106)를 포함한다. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel illustrated in FIG. 3 includes a peeling part (or strip part) 110, an isopropyl alcohol (hereinafter referred to as “IPA”) processing part 120, and a cavitation jet part 140. ), An ultrasonic part 150 and a drying part 160, and a conveyor belt 106 for moving the substrate 108 to each processing part.

박리부(110)는 외부의 용액저장부(미도시)로부터 공급되는 스트립용액을 분사하기 위한 분사노즐(103)을 구비하고, 상기 분사노즐(103)로부터 스트립용액(105)이 기판(108) 상에 분사됨으로써 포토레지스트가 제거된다. 또한, 박리부(110)에는 나일론 또는 PTFA 재질의 브러쉬(136)가 더 구비되고 상기 브러쉬(136)를 회전시킴으로서 스트립용액이 제거된다. 즉, 종래의 브러쉬부(30)가 제거되고 브러쉬(136)가 박리부(110)에 추가되게 된다. 여기서, 포트레지스트 박리공정 및 스트립용액 제거 공정은 약 70~90도의 환경에서 이루어지며, 브러쉬(136)에 의한 스트립용액 제거시 이용되는 탈이온수(De-ionzed Water : 이하 "DI"라한다)는 스트립용액(105) 분사를 위한 분사노즐(134)을 통해 분사되거나 별도로 마련된 분사노 즐에 통해 분사될 수 있다. The peeling unit 110 includes an injection nozzle 103 for injecting a strip solution supplied from an external solution storage unit (not shown), and the strip solution 105 is transferred from the injection nozzle 103 to the substrate 108. The photoresist is removed by spraying on the phase. In addition, the peeling unit 110 is further provided with a brush 136 made of nylon or PTFA material and the strip solution is removed by rotating the brush 136. That is, the conventional brush part 30 is removed and the brush 136 is added to the peeling part 110. Here, the photoresist stripping process and stripping solution removal process are performed in an environment of about 70 to 90 degrees, and de-ionzed water (hereinafter referred to as "DI") used when stripping strips are removed by the brush 136 is used. The spray solution 105 may be sprayed through a spray nozzle 134 for spraying or sprayed through a spray nozzle provided separately.

이로써, 스트립용액에 의해 포토레지스트가 제거된 후 바로 브러쉬(136)에 의해 스트립용액이 제거됨으로써 세정능력이 향상된다. 또한, 종래의 부러쉬부(30)가 제거됨으로써 장치의 부피를 감소시킬 수 있게 된다. As a result, the stripping solution is removed by the brush 136 immediately after the photoresist is removed by the stripping solution, thereby improving the cleaning ability. In addition, by removing the conventional brush portion 30 it is possible to reduce the volume of the device.

IPA처리부(120)는 포토레지스트가 제거된 기판(108)의 전면에 외부의 용액저장부(미도시)로 부터 공급된 IPA용액을 분사하기 위한 분사노즐(24)을 구비하고, 상기 분사노즐(24)로부터 IPA용액을 기판(108)에 분사시켜 기판(108)을 표면처리하는 역할을 한다. 즉, 박리부에서 제거되지 않은 극소량의 스트립용액의 응축을 방지하기 위한 조치로써 IPA용액을 기판(108)에 분사시켜 극소량의 스트립용액의 응축을 방지하게 된다. The IPA processing unit 120 includes a spray nozzle 24 for spraying an IPA solution supplied from an external solution storage unit (not shown) on the front surface of the substrate 108 from which the photoresist is removed, and the spray nozzle ( 24 serves to surface-treat the substrate 108 by spraying the IPA solution onto the substrate 108. That is, the IPA solution is sprayed onto the substrate 108 to prevent condensation of a very small amount of strip solution that is not removed from the peeling part, thereby preventing condensation of a very small amount of strip solution.

수압(cavitation jet)부(140)는 고압을 이용하고 초음파(Megasonic)부(150)는 고주파를 이용하여 각각 기판(108) 상에 잔존하는 극소량의 이물을 제거하게 된다. The cavitation jet unit 140 uses high pressure, and the ultrasonic unit 150 removes extremely small amount of foreign matter remaining on the substrate 108 using high frequency.

건조부(160)는 세정된 기판(108)에 압축공기를 분사하는 에어나이프(162)와, 에어나이프(162)에 고온의 압착공기를 공급하기 위한 히터(165)를 구비한다. 이러한, 건조부(160)는 기판(108)의 표면에 히터(165)에 의해 가열된 고온의 압축공기를 에어나이프(162)를 통해 분사하여 기판(108)을 건조시킨다. The drying unit 160 includes an air knife 162 for injecting compressed air to the cleaned substrate 108, and a heater 165 for supplying high-pressure compressed air to the air knife 162. The drying unit 160 sprays hot compressed air heated by the heater 165 on the surface of the substrate 108 through the air knife 162 to dry the substrate 108.

컨베이어벨트(106)는 각각의 처리부로 기판(108)을 이동시키기 위한 이동수단으로써 모터 등의 구동원에 의해 구동된다.The conveyor belt 106 is driven by a drive source such as a motor as a moving means for moving the substrate 108 to each processing unit.

이와 같은 구조를 갖는 액정표시패널의 동작을 설명하면 다음과 같다. The operation of the liquid crystal display panel having such a structure will be described below.                     

먼저, 컨베이벨트(106)에 의해 포토레지스트가 형성된 기판(108)이 박리부(110)에 위치하게 된다. 박리부(110)에서는 외부의 용액 저장부로부터 공급되는 스트립용액(105)을 분사노즐(104)을 통해 분사시켜 포토레지스트를 제거함과 아울러 브러시(136)를 회전시켜 스트립용액 또한 제거된다. First, the substrate 108 on which the photoresist is formed by the conveyor belt 106 is positioned on the peeling unit 110. In the peeling unit 110, the strip solution 105 supplied from the external solution reservoir is sprayed through the injection nozzle 104 to remove the photoresist, and the strip solution is also removed by rotating the brush 136.

포토레지스트가 제거된 기판(108)은 IPA처리부(120)로 이송되어 IPA용액에 의해 표면처리된다. 여기서, IPA용액은 극소량 잔존하는 스트립용액(105)이 기판(108)의 표면에 달라붙어 응축되는 것을 방지하는 역할을 한다. The substrate 108 from which the photoresist is removed is transferred to the IPA processing unit 120 and surface-treated with the IPA solution. Here, the IPA solution serves to prevent the very small amount of remaining strip solution 105 from sticking to the surface of the substrate 108 and condensing.

IPA용액에 의해 표면처리된 기판(108)은 수압(cavitation jet)부 및 초음파(Megasonic)부로 순차적으로 이송되어 고압 및 고주파에 의해 세정됨으로써 극소량의 이물까지 제거되게 된다. The substrate 108 surface-treated with the IPA solution is sequentially transferred to the cavitation jet and the ultrasonic part to be cleaned by high pressure and high frequency to remove even a small amount of foreign matter.

세정이 완료된 기판(108)은 건조부(160)로 이송된 후 에어나이프(162)로부터 분사되는 압축공기에 의해 건조된다. 여기서, 건조부(160)는 히터를 구비함으로써 고온의 압착공기를 이용하여 기판을 건조시킬 수 있게 된다.After the cleaning is completed, the substrate 108 is transferred to the drying unit 160 and dried by compressed air injected from the air knife 162. Here, the drying unit 160 may be provided with a heater to dry the substrate using a high-temperature compressed air.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시패널의 제조장치 및 방법은 종래 대비 브러쉬부가 제거되고 박리부(110)에 브러쉬(136)를 추가로 구비하게 된다. 이에 따라, 박리부(110)에서 포토레지스트 박리공정이 실시된 후 바로 스트립 용액 제거공정이 실시됨으로써 제조장치의 부피가 감소됨과 아울러 세정능력이 향상된다. As described above, in the apparatus and method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment of the present invention, the brush part is removed and the brush 136 is additionally provided on the peeling part 110. Accordingly, the strip solution removal process is performed immediately after the photoresist stripping process is performed in the stripping unit 110, thereby reducing the volume of the manufacturing apparatus and improving the cleaning ability.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 포토레지스트 박리, 세정공정 및 건조공정이 이루어 지는 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다. FIG. 4 is a view illustrating an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel in which a photoresist stripping, cleaning process, and drying process are performed according to a second embodiment of the present invention.                     

도 5에 도시된 액정표시패널의 제조장치는 박리부(110), 이소프로필알콜(Isopropyl alcohol 이하, "IPA"라 한다)처리부(120), 제1 플리퍼부(180), 수압(cavitation jet)부(140), 초음파(Megasonic)부(150), 제2 플리퍼부(190) 및 건조부(160)와, 각각의 처리부로 기판(108)을 이동하기 위한 컨베이어벨트(106)를 포함한다. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel illustrated in FIG. 5 includes a peeling unit 110, an isopropyl alcohol (hereinafter referred to as “IPA”) processing unit 120, a first flipper unit 180, and a cavitation jet. The unit 140 includes an ultrasonic unit 150, a second flipper unit 190, a drying unit 160, and a conveyor belt 106 for moving the substrate 108 to each processing unit.

박리부(110)는 외부의 용액저장부(미도시)로부터 공급되는 스트립용액을 분사하기 위한 분사노즐(103)을 구비하고, 상기 분사노즐(103)로부터 스트립용액(105)이 기판(108) 상에 분사됨으로써 포토레지스트가 제거된다. 또한, 박리부(110)에는 나일론 또는 PTFA 재질의 브러쉬(136)를 구비함으로써 브러쉬(136)를 회전시킴으로써 스트립용액이 제거된다. 즉, 본 발명의 제1 실시예와 동일하게 브러쉬(136)가 박리부(110)에 추가되게 된다. 여기서, 포트레지스트 박리공정 및 스트립용액 제거 공정은 약 70~90도의 환경에서 이루어지며, 브러쉬(136)에 의한 스트립용액 제거시 이용되는 탈이온수(De-ionzed Water : 이하 "DI"라한다)는 스트립용액(105) 분사를 위한 분사노즐(134)을 통해 분사되거나 별도의 분사노즐에 통해 분사될 수 있다. The peeling unit 110 includes an injection nozzle 103 for injecting a strip solution supplied from an external solution storage unit (not shown), and the strip solution 105 is transferred from the injection nozzle 103 to the substrate 108. The photoresist is removed by spraying on the phase. In addition, the stripping part 110 is provided with a brush 136 made of nylon or PTFA, thereby removing the stripping solution by rotating the brush 136. That is, the brush 136 is added to the peeling part 110 in the same manner as in the first embodiment of the present invention. Here, the photoresist stripping process and stripping solution removal process are performed in an environment of about 70 to 90 degrees, and de-ionzed water (hereinafter referred to as "DI") used when stripping strips are removed by the brush 136 is used. The strip solution 105 may be injected through the injection nozzle 134 or may be injected through a separate injection nozzle.

이로써, 스트립용액에 의해 포토레지스트가 제거된 후 바로 브러쉬(136)에 의해 스트립용액이 제거됨으로써 세정능력이 향상되고 장치의 부피가 감소된다. As a result, the stripping solution is removed by the brush 136 immediately after the photoresist is removed by the stripping solution, thereby improving the cleaning ability and reducing the volume of the device.

IPA처리부(120)는 포토레지스트가 제거된 기판(108)의 전면에 외부의 용액저장부(미도시)로 부터 공급된 IPA용액을 분사하기 위한 분사노즐(24)을 구비하고, 상기 분사노즐(24)로부터 IPA용액을 기판(108)에 분사시켜 기판(108)을 표면처리하 는 역할을 한다. 즉, 박리부에서 제거되지 않은 극소량의 스트립용액의 응축을 방지하기 위한 조치로써 IPA용액을 기판(108)에 분사시켜 극소량의 스트립용액의 응축을 방지하게 된다. The IPA processing unit 120 includes a spray nozzle 24 for spraying an IPA solution supplied from an external solution storage unit (not shown) on the front surface of the substrate 108 from which the photoresist is removed, and the spray nozzle ( 24 serves to surface-treat the substrate 108 by spraying the IPA solution onto the substrate 108. That is, the IPA solution is sprayed onto the substrate 108 to prevent condensation of a very small amount of strip solution that is not removed from the peeling part, thereby preventing condensation of a very small amount of strip solution.

제1 플리퍼부(180)는 기판(108) 상에 다수의 어레이가 지면을 향하도록 기판(108)을 180도로 뒤집기 위한(①180도 회동) 플리퍼(도시하지 않음)와, 어레이가 지면을 향하도록 뒤집혀진 기판을 진공흡착에 의해 홀딩(②)하기 위한 기판흡착부(182)를 구비한다. The first flipper unit 180 is a flipper (not shown) for flipping the substrate 108 by 180 degrees (① 180 degrees rotation) so that a plurality of arrays face the ground on the substrate 108, and the array faces the ground. And a substrate adsorption part 182 for holding the inverted substrate by vacuum adsorption (2).

여기서, 플리퍼는 선출원 10-2002-0017584, 10-2001-0064256 등에 다수 공지된 기판, 반도체 칩등의 이송 및 운반등을 할 수 있는 장치이다. 또한, 기판흡착부(182)는 기판(108)을 홀딩할 수 있는 홀딩부(미도시) 및 진공흡착에 의해 기판(108)이 홀딩부에 흡착될 수 있도록 하는 진공흡입부(미도시) 등을 포함한다. Here, the flipper is a device capable of transferring and transporting a substrate, a semiconductor chip, and the like, which are known in many of the prior applications 10-2002-0017584, 10-2001-0064256 and the like. In addition, the substrate adsorption unit 182 may include a holding unit (not shown) for holding the substrate 108 and a vacuum suction unit (not shown) for allowing the substrate 108 to be adsorbed to the holding unit by vacuum adsorption. It includes.

수압(cavitation jet)부(140) 및 초음파(Megasonic)부(150)에서 각각 고압 및 고주파를 이용하여 극소량의 이물을 제거하게 된다. 여기서, 수압(cavitation jet)부(140) 및 초음파(Megasonic)부(150)의 각각의 분사노즐(143,153)은 기판흡착부(182)에 홀딩된 기판(108)의 하부에 위치하여 고압과 고주파를 기판(108) 상에 분사하게 된다. 이에 따라, 고압 및 고주파에 의해 제거된 이물의 일부가 기판(108)의 어레이면에 재안착되지 않게 된다. 이에 따라, 세정력이 향상된다. A very small amount of foreign matter is removed from the cavitation jet unit 140 and the ultrasonic unit 150 using high pressure and high frequency, respectively. Here, the injection nozzles 143 and 153 of the cavitation jet unit 140 and the ultrasonic unit 150 are positioned under the substrate 108 held by the substrate adsorption unit 182 to be operated at high pressure and high frequency. Is sprayed onto the substrate 108. As a result, a part of the foreign material removed by the high pressure and the high frequency is not remounted on the array surface of the substrate 108. This improves the cleaning power.

제2 플리퍼부(190)는 플리퍼를 구비하고, 이 플리퍼는 제1 플리퍼부(180)에서 뒤집혀진(①) 기판을 다시 뒤집어서(180도 회동) 기판(108)을 컨베이어벨트(106)에 위치시키는 역할을 한다. The second flipper portion 190 is provided with a flipper, which flips the substrate flipped (1) in the first flipper portion 180 again (rotate 180 degrees) and positions the substrate 108 on the conveyor belt 106. It plays a role.                     

건조부(160)는 세정된 기판(108)에 압축공기를 분사하는 에어나이프(162)와, 에어나이프(162)에 고온의 압착공기를 공급하기 위한 히터(165)를 구비한다. 이러한, 건조부(160)는 기판(108)의 표면에 히터(165)에 의해 가열된 고온의 압축공기를 에어나이프(162)를 통해 분사하여 기판(108)을 건조시킨다. The drying unit 160 includes an air knife 162 for injecting compressed air to the cleaned substrate 108, and a heater 165 for supplying high-pressure compressed air to the air knife 162. The drying unit 160 sprays hot compressed air heated by the heater 165 on the surface of the substrate 108 through the air knife 162 to dry the substrate 108.

컨베이어벨트(106)는 각각의 처리부로 기판(108)을 이동시키기 위한 이동수단으로써 모터 등의 구동원에 의해 구동된다.The conveyor belt 106 is driven by a drive source such as a motor as a moving means for moving the substrate 108 to each processing unit.

이와 같은 구조를 갖는 액정표시패널의 동작을 설명하면 다음과 같다. The operation of the liquid crystal display panel having such a structure will be described below.

먼저, 컨베이벨트(106)에 의해 포토레지스트가 형성된 기판(108)이 박리부(110)에 위치하게 된다. 박리부(110)에서는 외부의 용액 저장부로부터 공급되는 스트립용액(105)이 분사노즐(104)을 통해 분사되어 포토레지스트가 제거됨과 아울러 브러시(136)를 회전시킴으로써 스트립용액 또한 제거된다. First, the substrate 108 on which the photoresist is formed by the conveyor belt 106 is positioned on the peeling unit 110. In the stripping unit 110, the strip solution 105 supplied from the external solution storage unit is sprayed through the injection nozzle 104 to remove the photoresist, and the strip solution is also removed by rotating the brush 136.

포토레지스트가 제거된 기판(108)은 IPA처리부(120)로 이송되어 IPA용액에 의해 표면처리된다. 여기서, IPA용액은 극소량 잔존하는 스트립용액(105)이 기판(108)의 표면에 달라붙어 응축되는 것을 방지하는 역할을 한다. The substrate 108 from which the photoresist is removed is transferred to the IPA processing unit 120 and surface-treated with the IPA solution. Here, the IPA solution serves to prevent the very small amount of remaining strip solution 105 from sticking to the surface of the substrate 108 and condensing.

이후, 기판은 제1 플리퍼부(180)는 위치하게 되고 플리퍼에 의해 기판(108) 상에 다수의 어레이가 지면을 향하도록 뒤집혀 진 후 기판흡착부(182)에 의해 홀딩된다. Subsequently, the substrate is positioned by the first flipper unit 180 and is held by the substrate adsorption unit 182 after the plurality of arrays are turned upside down on the substrate 108 by the flipper to face the ground.

기판흡착부의해 홀딩된 기판이 수압(cavitation jet)부 및 초음파(Megasonic)부로 8)이 순차적으로 이동되어 고압 및 고주파에 의해 세정됨으로써 극소량의 이물까지 제거되게 된다. 여기서, 수압(cavitation jet)부(140) 및 초음 파(Megasonic)부(150)의 각각의 분사노즐(143,153)은 기판흡착부(182)에 홀딩된 기판의 하부에 위치하여 고압과 고주파를 기판 상에 분사하게 됨으로써 이물의 일부가 기판의 어레이면에 재안착되지 않게 된다. 이에 따라, 세정력이 향상된다. The substrate held by the substrate adsorption unit is moved to the cavitation jet unit and the ultrasonic unit 8 sequentially to be cleaned by high pressure and high frequency to remove even a small amount of foreign matter. Here, the injection nozzles 143 and 153 of the cavitation jet unit 140 and the ultrasonic unit 150 are positioned under the substrate held by the substrate adsorption unit 182 to provide high pressure and high frequency. By spraying onto it, a portion of the foreign material is not remounted on the array surface of the substrate. This improves the cleaning power.

세정이 완료된 기판(108)은 건조부(160)로 이송된 에어나이프(162)로부터의 압축공기에 의해 건조된다. 여기서, 건조부(160)는 히터를 구비함으로써 고온의 압착공기를 이용하여 기판을 건조시킬 수 있게 된다.The cleaned substrate 108 is dried by compressed air from the air knife 162 transferred to the drying unit 160. Here, the drying unit 160 may be provided with a heater to dry the substrate using a high-temperature compressed air.

이와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시패널의 제조장치 및 방법은 박리부에 브러쉬를 추가하여 박리공정을 실시함과 아울러 공지의 플리퍼 및 기판흡착기 등을 이용하여 기판의 어레이가 지면을 향하도록 홀딩한 상태에서 기판을 세정한다. 이에 따라, 수압부 및 초음파부에서의 기판 세정시 제거된 이물이 기판의 어레이면에 제안착되지 않게 됨으로써 세정력이 향상된다.
As described above, the apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the second embodiment of the present invention performs a peeling process by adding a brush to the peeling part, and uses a known flipper, a substrate absorber, etc. The substrate is cleaned while holding it toward. As a result, the foreign matter removed during the substrate cleaning in the hydraulic pressure unit and the ultrasonic unit is prevented from adhering to the array surface of the substrate, thereby improving the cleaning power.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조장치 및 방법은 종래 대비 브러쉬부가 제거되고 박리부에 브러쉬를 추가로 구비하게 된다. 이에 따라, 박리부에서 포토레지스트 박리공정이 실시된 후 바로 스트립 용액 제거공정이 실시됨으로써 제조장치의 부피가 감소됨과 아울러 세정능력이 향상된다. 또한, 공지의 플리퍼 및 기판흡착기 등을 이용하여 기판의 어레이가 지면을 향하도록 홀딩한 상태에서 기판을 세정한다. 이에 따라, 기판 세정시 제거된 이물이 기판에 제안착되지 않게 됨으로써 세정력이 향상된다. As described above, in the apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, the brush portion is removed and the brush is additionally provided in the peeling portion as compared with the conventional art. Accordingly, the strip solution removal process is performed immediately after the photoresist stripping process is performed in the peeling unit, thereby reducing the volume of the manufacturing apparatus and improving the cleaning ability. In addition, the substrate is cleaned while holding the array of the substrate facing the ground using a known flipper, a substrate adsorber, or the like. Thereby, the foreign matter removed at the time of cleaning the substrate is not proposed to adhere to the substrate, thereby improving the cleaning power.                     

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (9)

박리액을 이용하여 기판 상에 형성된 유기물을 제거함과 아울러 브러시를 이용하여 상기 박리액을 제거하는 박리부;A peeling unit which removes the organic material formed on the substrate using a peeling solution and removes the peeling solution using a brush; 상기 기판 상에 잔류하는 박리액을 제거하기 위한 세정부와;A cleaning unit for removing a peeling liquid remaining on the substrate; 상기 세정부에서 세정된 기판을 건조하기 위한 건조부를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.And a drying unit for drying the substrate cleaned by the cleaning unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정부는 The cleaning unit 상기 잔류하는 박리액의 응고를 방지하기 위해 상기 기판 상에 IPA물질을 처리하는 IPA처리부와;An IPA treatment unit for processing an IPA material on the substrate to prevent solidification of the remaining stripping solution; 상기 IPA처리된 기판의 어레이면이 지면을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 제1 플리퍼부와;A first flipper unit for rotating the substrate such that the array surface of the IPA-treated substrate faces the ground; 상기 IPA처리된 기판을 고압을 이용하여 세정하는 수압부;A hydraulic pressure unit for cleaning the IPA-treated substrate using high pressure; 상기 고압세정된 기판을 고주파를 이용하여 세정하는 초음파부;Ultrasonic unit for cleaning the high-pressure washed substrate using a high frequency; 상기 세정된 기판의 어레이가 지상을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 제2 플리퍼를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.And a second flipper for rotating the substrate such that the array of cleaned substrates faces the ground. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 및 제2 플리퍼부는The first and second flipper parts 상기 기판을 회동시키는 플리퍼와;A flipper for rotating the substrate; 상기 회동된 기판을 진공흡착에 의해 홀딩하는 기판흡착부를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치. And a substrate adsorption unit for holding the rotated substrate by vacuum adsorption. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 건조부는 The drying unit 공기를 가열하기 위한 히터와;A heater for heating air; 상기 가열된 공기를 기판에 분사하는 에어나이프를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치. And an air knife for injecting the heated air onto a substrate. 박리액을 이용하여 기판 상에 형성된 유기물을 제거함과 아울러 브러시를 이용하여 상기 박리액을 제거하는 단계와;Removing the organic material formed on the substrate using a stripping solution and removing the stripping solution using a brush; 상기 잔류하는 박리액의 응고를 방지하기 위해 상기 기판 상에 IPA물질을 처리하는 단계와;Treating the IPA material on the substrate to prevent solidification of the remaining stripping solution; 상기 기판 상에 잔류하는 박리액을 제거하여 상기 기판을 세정하는 단계와;Cleaning the substrate by removing the stripper remaining on the substrate; 상기 세정된 기판을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And drying the cleaned substrate. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 기판을 세정하는 단계는 Cleaning the substrate is 상기 IPA처리된 기판의 어레이면이 지면을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 단계와;Rotating the substrate such that the array surface of the IPA treated substrate faces the ground; 상기 IPA처리된 기판의 하부에서 고압 및 고주파 중 적어도 하나를 이용하여 상기 기판을 세정하는 단계와;Cleaning the substrate using at least one of high pressure and high frequency under the IPA treated substrate; 상기 세정된 기판의 어레이면이 지상을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And rotating the substrate such that the array surface of the cleaned substrate faces the ground. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 IPA처리된 기판의 어레이면이 지면을 향하도록 상기 기판을 회동시키는 단계는Rotating the substrate so that the array surface of the IPA-treated substrate faces the ground 플리퍼를 이용하여 상기 기판을 회동시키는 단계와;Rotating the substrate using a flipper; 기판흡착부를 이용하여 상기 회동된 기판을 진공흡착에 의해 홀딩하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And holding the rotated substrate by vacuum adsorption using a substrate adsorption portion. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 유기물 및 박리액의 제거는 70~90동 정도의 환경에서 실시되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. The removal of the organic material and the stripping liquid is carried out in an environment of about 70 ~ 90 dong. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 기판을 건조하는 단계는Drying the substrate 히터를 이용하여 공기를 가열하는 단계와; Heating the air using a heater; 에어나이프를 이용하여 상기 가열된 공기를 기판에 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And spraying the heated air onto a substrate using an air knife.
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