KR20050064135A - Grinding devie for recycling mask - Google Patents

Grinding devie for recycling mask Download PDF

Info

Publication number
KR20050064135A
KR20050064135A KR1020030095423A KR20030095423A KR20050064135A KR 20050064135 A KR20050064135 A KR 20050064135A KR 1020030095423 A KR1020030095423 A KR 1020030095423A KR 20030095423 A KR20030095423 A KR 20030095423A KR 20050064135 A KR20050064135 A KR 20050064135A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
polishing
motor
horizontal member
along
Prior art date
Application number
KR1020030095423A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
엄성열
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020030095423A priority Critical patent/KR20050064135A/en
Publication of KR20050064135A publication Critical patent/KR20050064135A/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/224Portal grinding machines; Machines having a tool movable in a plane
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/07Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
    • B24B37/10Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for single side lapping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B47/00Drives or gearings; Equipment therefor
    • B24B47/10Drives or gearings; Equipment therefor for rotating or reciprocating working-spindles carrying grinding wheels or workpieces
    • B24B47/12Drives or gearings; Equipment therefor for rotating or reciprocating working-spindles carrying grinding wheels or workpieces by mechanical gearing or electric power
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B57/00Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
    • B24B57/02Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents

Abstract

모델 변경 등으로 인하여 폐기될 마스크를 재활용하기 위한 연마작업을 정밀하게 수행하기 위하여, 본 발명은 마스크가 고정되는 지지프레임; 상기 지지 프레임으로부터 상부로 돌출되어 고정된 수직부재들; 상기 지지프레임의 양측면을 따라서 상기 수직부재들의 상단을 연결하도록 길게 연장된 지지바들; 그의 양 끝단이 상기 지지바들의 상부을 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된 수평부재; 상기 수평부재를 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된 모터; 상기 모터로부터 직하방으로 연장된 회전축; 그리고 상기 마스크의 상면과 접촉되도록 상기 회전축의 일단에 장착된 연마부를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치를 제공한다.In order to precisely perform a polishing operation for recycling a mask to be discarded due to a model change, the present invention comprises: a support frame to which the mask is fixed; Vertical members protruding upward from the support frame to be fixed; Support bars extending lengthwise to connect upper ends of the vertical members along both sides of the support frame; Horizontal members whose both ends are slidably mounted along upper portions of the support bars; A motor slidably mounted along the horizontal member; A rotating shaft extending directly downward from the motor; And a polishing unit mounted at one end of the rotating shaft to be in contact with the upper surface of the mask.

Description

마스크 재활용 연마장치{Grinding Devie for Recycling Mask}Grinding Devie for Recycling Mask

본 발명은 연마장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 액정표시패널 제조시 기판의 노광단계에서 사용되는 마스크를 재활용하기 위하여 연마하는 마스크 연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing apparatus, and more particularly, to a mask polishing apparatus for polishing to recycle the mask used in the exposure step of the substrate in the manufacturing of the liquid crystal display panel.

일반적으로, 액정표시장치에서는 액정표시패널 내에 매트릭스 형태로 배열된 액정셀들의 광투과율을 그에 공급되는 비디오 데이터 신호로 조절함으로써 데이터 신호에 해당하는 화상을 패널 상에 표시한다. In general, the liquid crystal display device displays an image corresponding to the data signal on the panel by adjusting the light transmittance of the liquid crystal cells arranged in a matrix form in the liquid crystal display panel with a video data signal supplied thereto.

여기서, 상기 액정표시패널은 상부기판과 하부기판이 합착된 상태로 제공된다. 상기 하부기판에는 상기 액정층에 전계를 인가하기 위한 전극들, 액정셀 별로 데이터 공급을 절환하기 위한 박막트랜지스터, 외부에서 공급되는 데이터를 액정셀들에 공급하는 신호배선, 그리고 박막트랜지스터의 제어신호를 공급하기 위한 신호배선 등이 형성된다. 또한, 상기 상부기판에는 칼라필터 등이 형성된다. The liquid crystal display panel is provided in a state where the upper substrate and the lower substrate are bonded to each other. The lower substrate includes electrodes for applying an electric field to the liquid crystal layer, a thin film transistor for switching data supply for each liquid crystal cell, a signal line for supplying externally supplied data to the liquid crystal cells, and a control signal of the thin film transistor. Signal wiring and the like for supplying are formed. In addition, a color filter or the like is formed on the upper substrate.

여기서, 상기 상부기판 또는 하부기판에 각종 전극들 또는 컬러필터층은 포토 리소그래피(Photo-lithography) 공정에 의하여 형성된다. 상기 포토 리소그라피 공정은 포토 레지스터를 사용하여 증착층에 식각면을 표시하고 원하는 패턴을 형성하는 공정이다. Here, various electrodes or color filter layers are formed on the upper substrate or the lower substrate by a photo-lithography process. The photolithography process is a process of displaying an etching surface on the deposition layer using a photoresist and forming a desired pattern.

상기 포토 리소그래피 공정은 포토 레지스터(Photo resist) 도포단계, 마스크를 사용한 노광단계, 현상단계, 그리고 식각단계를 포함하여 수행된다. The photolithography process is performed including a photo resist coating step, an exposure step using a mask, a developing step, and an etching step.

도 1은 상기 노광단계에서 마스크 및 기판의 구조를 도시한 도면이다. 1 is a view showing the structure of a mask and a substrate in the exposure step.

도 1에서 보는 바와 같이, 노광단계에 진입되기 전에 상기 기판(10)의 상면에 박막(11)이 증착된다. 또한, 상기 박막(11)의 상면에는 포토 레지스터(12)가 도포된다. 상기 포토 레지스터(12)가 도포된 이후, 노광단계에서는 얻고자 하는 패턴에 대응한 노광면이 형성된 마스크(20)를 사용하여 빛을 선택적으로 상기 포토 레지스터(12)에 조사한다. As shown in FIG. 1, the thin film 11 is deposited on the upper surface of the substrate 10 before entering the exposure step. In addition, a photoresist 12 is coated on the top surface of the thin film 11. After the photoresist 12 is applied, light is selectively irradiated to the photoresist 12 using a mask 20 on which an exposure surface corresponding to a desired pattern is formed.

상기 마스크(20)는 수정 또는 유리로 이루어진 투명 플레이트(21)와 상기 플레이트의 일면에 크롬(Cr) 등이 패턴화되어 형성된 차광막(22)을 포함하여 이루어진다. 여기서, 상기 마스크(20)에 패턴화된 차광막(22)은 기판(10)에 형성될 전극과 대응하여 형성된다. 상기 마스크(20)의 하부에는 기판(10)이 고정되고, 상기 마스크(20)의 상부에는 빛을 제공하는 광원(25)이 장착된다. The mask 20 includes a transparent plate 21 made of quartz or glass and a light shielding film 22 formed by patterning chromium (Cr) on one surface of the plate. Here, the light blocking film 22 patterned on the mask 20 is formed to correspond to the electrode to be formed on the substrate 10. The substrate 10 is fixed to the lower portion of the mask 20, and a light source 25 for providing light is mounted on the upper portion of the mask 20.

상기 광원(25)에서 제공된 빛은 상기 마스크(20)를 지나면서 포토 레지스터(12)의 상면에 선택적으로 조사된다. 즉, 상기 차광막(22)에 의하여 빛의 공급이 선택적으로 차단된다. 여기서, 상기 포토 레지스터(12)는 빛을 받으면 화학반응에 의하여 성질이 변화됨으로써 삭제가능하게 된다. 상기 노광작업이 수행된 이후, 현상단계에서 상기 빛이 조사된 부분(12b)의 포토 레지스터는 현상되어 제거된다. Light provided from the light source 25 is selectively irradiated onto the upper surface of the photoresist 12 while passing through the mask 20. That is, the light is selectively blocked by the light blocking film 22. Herein, the photoresist 12 may be deleted by changing its properties by chemical reaction upon receiving light. After the exposure operation is performed, the photoresist of the portion 12b to which the light is irradiated in the developing step is developed and removed.

한편, 상기 식각단계에서 물리적, 화학적인 반응을 이용하여 상기 포토레지스터가 제거된 부분(12b)을 따라서 박막(11)이 선택적으로 식각되어 제거된다. 여기서, 상기 포토 레지스터가 잔존된 부분(12a) 하측의 박막은 남고, 상기 포토 레지스터가 제거된 부분(12b)의 박막은 제거된다. Meanwhile, the thin film 11 is selectively etched and removed along the portion 12b from which the photoresist is removed using physical and chemical reactions in the etching step. Here, the thin film under the portion 12a where the photoresist remains is left, and the thin film of the portion 12b from which the photoresist is removed is removed.

이상과 같이, 상기 기판(10)의 상면에는 마스크(20)에 형성된 패턴에 대응하여 각각의 전극이 형성된다. 여기서, 상기 기판(10)에 형성되는 각종 전극들은 다수개의 층을 이루므로, 상기 각 층은 개별적으로 형성된다. 따라서, 상기 마스크는 각 층에 대응하여 다수개가 필요하다. As described above, each electrode is formed on the upper surface of the substrate 10 corresponding to the pattern formed on the mask 20. Here, since the various electrodes formed on the substrate 10 form a plurality of layers, each layer is formed separately. Therefore, a plurality of masks are required for each layer.

한편, 상기 액정표시장치의 모델 또는 디자인이 변경된 경우, 새로운 기판에 형성될 각각의 새로운 전극층에 대응하여 마스크를 모두 교체하여야 한다. 따라서, 기존에 사용되던 마스크(20)는 쓸모없게 됨으로써 폐기된다. 그러나, 상기 마스크(20)의 베이스를 이루는 투명 플레이트(21)는 가격이 매우 비싸므로 새로운 마스크를 제작하는데 소모되는 비용이 증가된다. 따라서, 액정표시장치 등의 제조단가가 상승하는 문제점이 있었다. On the other hand, when the model or design of the liquid crystal display device is changed, all masks must be replaced in correspondence with each new electrode layer to be formed on a new substrate. Therefore, the mask 20 used previously becomes obsolete and discarded. However, since the transparent plate 21 which forms the base of the mask 20 is very expensive, the cost of manufacturing a new mask is increased. Therefore, there is a problem in that the manufacturing cost of a liquid crystal display device or the like increases.

따라서, 모델 변경 등으로 상기 폐기될 마스크(20)에서 차광막(22)을 연마하여 제거한 후, 상기 투명 플레이트(21)를 재활용함이 바람직하다. 여기서, 상기 차광막(22)이 제거된 투명 플레이트(21)의 일면에 원하는 모델에 따라 패턴화된 차광막(22)을 다시 형성하여 노광단계에서 사용한다. Therefore, after the light shielding film 22 is polished and removed from the mask 20 to be discarded due to a model change or the like, the transparent plate 21 is preferably recycled. Here, the light shielding film 22 patterned according to a desired model is formed on one surface of the transparent plate 21 from which the light shielding film 22 is removed and used in the exposure step.

도 2는 종래기술에 따른 마스크 연마장치를 도시한 도면이다. 2 is a view showing a mask polishing apparatus according to the prior art.

도 2에서 보는 바와 같이, 종래의 연마장치는 지지대(30), 연마부(31), 모터(33), 그리고 연마수 공급부(35)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 상기 지지대(30)의 상면에는 재활용될 마스크(20)가 로딩되고, 상기 마스크(20)의 차광막이 형성된 면이 상측을 향하도록 고정된다. As shown in FIG. 2, the conventional polishing apparatus includes a support 30, a polishing unit 31, a motor 33, and a polishing water supply unit 35. Here, the mask 20 to be recycled is loaded on the upper surface of the support 30, and the surface on which the light shielding film of the mask 20 is formed is fixed upward.

상기 연마부(31)는 상기 마스크(20)의 상면과 접촉되게 장착된다. 또한, 상기 모터는 고정대(34)에 장착된 아암(37)의 일단에 설치된다. 상기 모터(33)의 하부에는 회전축(32)에 의하여 연결된 연마부(31)가 장착된다. 따라서, 상기 모터(33)가 구동되면 회전축(32)과 연결된 연마부(31)가 회전됨으로써, 상기 마스크(20)의 상면이 연마된다. The polishing unit 31 is mounted to be in contact with the top surface of the mask 20. In addition, the motor is installed at one end of the arm 37 mounted on the fixing table 34. The lower portion of the motor 33 is mounted with a polishing unit 31 connected by a rotating shaft 32. Therefore, when the motor 33 is driven, the upper surface of the mask 20 is polished by rotating the polishing unit 31 connected to the rotating shaft 32.

여기서, 상기 연마부(31)는 고정대(34)에 장착된 아암(37)의 이동에 의하여 상하/좌우로 이동되면서 상기 마스크(20)의 전면을 연마한다. 또한, 상기 연마부(31)가 과열되는 것을 방지하기 위하여, 연마수를 공급하는 연마수 공급관(35)이 상기 연마부(31)의 상측에 제공된다. 여기서, 상기 연마수 공급관(35)의 일단은 펌프(36)와 연결된다. Here, the polishing unit 31 is moved up and down / left and right by the movement of the arm 37 mounted on the holder 34 to polish the entire surface of the mask (20). In addition, in order to prevent the polishing unit 31 from overheating, a polishing water supply pipe 35 for supplying the polishing water is provided above the polishing unit 31. Here, one end of the abrasive water supply pipe 35 is connected to the pump 36.

한편, 종래기술에 따른 마스크 연마장치는 다음과 같은 문제점을 갖는다. On the other hand, the mask polishing apparatus according to the prior art has the following problems.

첫째, 상기 마스크의 상면에 형성된 차광막의 두께는 매우 얇으므로 정밀한 연마작업이 수행되어야 하는데 상기 연마부가 상하/좌우로 이동할 때 편심이 발생되어 정확한 연마가 이루어지지 않는 문제점이 있었다. First, since the thickness of the light shielding film formed on the upper surface of the mask is very thin, precise polishing should be performed, but there is a problem in that accurate grinding is not performed because eccentricity occurs when the polishing unit moves up, down, left, and right.

둘째, 상기 연마부를 지지하는 아암이 상기 고정대의 일측에 장착되므로, 상기 고정대로부터 가까운 부분과 먼 부분의 연마부 사이에 편심이 발생된다. 따라서, 상기 연마부가 정확한 수평을 이루지 않게 됨으로써 균일한 연마가 이루어지지 않는 문제점이 있었다. Secondly, since the arm supporting the polishing part is mounted on one side of the fixing stand, an eccentricity is generated between the polishing part of the portion close to and far from the fixing stand. Therefore, there is a problem in that the polishing is not made evenly by the polishing portion is not made horizontally.

상기와 같이, 상면이 균일하게 연마되지 않은 마스크는 재활용될 수 없으며 폐기되어야 한다. As above, the mask whose top surface is not polished uniformly cannot be recycled and must be discarded.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 보다 정확한 연마작업을 수행하는 마스크 재활용 연마장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a mask recycling polishing apparatus for performing a more accurate polishing operation.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 마스크가 고정되는 지지프레임; 상기 지지 프레임으로부터 상부로 돌출되어 고정된 수직부재들; 상기 지지프레임의 양측면을 따라서 상기 수직부재들의 상단을 연결하도록 길게 연장된 지지바들; 그의 양 끝단이 상기 지지바들의 상부을 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된 수평부재; 상기 수평부재를 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된 모터; 상기 모터로부터 직하방으로 연장된 회전축; 그리고 상기 마스크의 상면과 접촉되도록 상기 회전축의 일단에 장착된 연마부를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a mask frame is fixed; Vertical members protruding upward from the support frame to be fixed; Support bars extending lengthwise to connect upper ends of the vertical members along both sides of the support frame; Horizontal members whose both ends are slidably mounted along upper portions of the support bars; A motor slidably mounted along the horizontal member; A rotating shaft extending directly downward from the motor; And a polishing unit mounted at one end of the rotating shaft to be in contact with the upper surface of the mask.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하면 하기와 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 마스크 재활용 연마장치를 도시한 사시도이다.3 is a perspective view showing a mask recycling polishing apparatus according to the present invention.

도 3에서 보는 바와 같이, 상기 마스크 재활용 연마장치는 지지프레임(130), 수직부재들(140), 지지바들(141), 수평부재(142), 모터(133), 회전축(132), 그리고 연마부(131)를 포함한다.As shown in FIG. 3, the mask recycling polishing apparatus includes a support frame 130, vertical members 140, support bars 141, a horizontal member 142, a motor 133, a rotating shaft 132, and polishing. The unit 131 is included.

여기서, 상기 지지프레임(130)은 중력방향과 수직되게 지면에 견고하게 고정되고, 그의 상면이 평평하게 이루어진다. 상기 지지프레임(130)의 상면에는 재활용되기 위하여 연마될 마스크(20)가 로딩된 후 고정된다. 상기 수직부재들(140)은 상기 지지프레임(130)으로부터 상측으로 돌출되어 견고하게 고정된다. 상기 지지바들(141)은 상기 지지프레임(130)의 양측면을 따라서 상기 수직부재들(140)의 상단을 연결하도록 길게 연장되어 장착된다. Here, the support frame 130 is firmly fixed to the ground perpendicular to the direction of gravity, the upper surface is made flat. The upper surface of the support frame 130 is fixed after loading the mask 20 to be polished for recycling. The vertical members 140 protrude upward from the support frame 130 and are firmly fixed. The support bars 141 are elongated and mounted to connect upper ends of the vertical members 140 along both sides of the support frame 130.

또한, 상기 수평부재(142)의 양끝단은 상기 지지바들(141)의 상부를 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된다. 따라서, 상기 수평부재(142)는 상기 지지플레이트(130)의 상면으로부터 일정간격 이격된 상태로 상기 지지바들(141)의 연장된 방향을 따라서 슬라이딩됨으로써 전후로 이동된다. In addition, both ends of the horizontal member 142 is slidably mounted along the upper portions of the support bars 141. Therefore, the horizontal member 142 is moved back and forth by sliding along the extended direction of the support bars 141 in a state spaced apart from the upper surface of the support plate 130 by a predetermined distance.

한편, 상기 모터(133)는 상기 수평부재(142)를 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된다. 즉, 상기 모터(133)의 하측은 상기 수평부재(142)의 상부와 접촉되어 슬라이딩된다. 또한, 상기 회전축(132)은 상기 모터(133)로부터 직하방으로 연장되어 장착되고, 상기 연마부(131)는 상기 마스크(20)의 상면과 접촉되도록 상기 회전축(132)의 일단에 장착된다. 여기서, 상기 연마부(131)의 하면에는 차광막의 표면을 연마해서 평탄화하는 연마슬러리(polishing slurry) 또는 글라스 페이퍼(glass paper)가 장착된다. On the other hand, the motor 133 is slidably mounted along the horizontal member 142. That is, the lower side of the motor 133 is in contact with the upper portion of the horizontal member 142 and slides. In addition, the rotation shaft 132 extends downwardly and directly from the motor 133, and the polishing unit 131 is mounted at one end of the rotation shaft 132 to be in contact with the upper surface of the mask 20. Here, a polishing slurry or glass paper for polishing and planarizing the surface of the light shielding film is mounted on the bottom surface of the polishing unit 131.

따라서, 상기 모터(133)의 구동에 의하여 상기 회전축(132)이 회전되면 상기 연마부(131)와 접촉된 마스크(20)의 상면이 연마된다. 상기 연마부(131)는 상기 마스크(20)의 상면에 형성된 차광막은 연마하여 제거하되, 베이스를 이루는 투명 플레이트에는 손상을 가해서는 안된다. 따라서, 상기 연마부(131)의 접촉상태는 매우 정밀한 정확도를 유지하여야 하고, 이를 위하여 상기 회전축(132)의 길이는 정확히 조절되어야 한다. Therefore, when the rotating shaft 132 is rotated by the driving of the motor 133, the upper surface of the mask 20 in contact with the polishing unit 131 is polished. The polishing unit 131 polishes and removes the light blocking film formed on the upper surface of the mask 20, but should not damage the transparent plate forming the base. Therefore, the contact state of the polishing unit 131 must maintain a very precise accuracy, for this purpose, the length of the rotating shaft 132 must be precisely adjusted.

상기 마스크(20)에 형성된 차광막은 매우 얇은 두께를 가지므로, 연마작업시 가해지는 압축력 등에 의하여 상기 연마부(131)가 편심되면 상기 차광막을 지나서 투명 플레이트가 연마된다. 여기서, 상기 투명 플레이트의 상면이 불규칙적으로 연마되면, 상기 불규칙적으로 연마된 부분의 광투과율이 저하되므로 마스크(20)의 베이스로 사용될 수 없다. 따라서, 상기 마스크(20)는 재활용될 수 없으므로 폐기되는 문제점을 갖는다. Since the light shielding film formed on the mask 20 has a very thin thickness, the transparent plate is polished past the light shielding film when the polishing unit 131 is eccentric by a compressive force applied during the polishing operation. Here, when the upper surface of the transparent plate is irregularly polished, since the light transmittance of the irregularly polished portion is lowered, it cannot be used as a base of the mask 20. Therefore, the mask 20 has a problem that it is discarded because it cannot be recycled.

상기와 같은 문제점을 방지하기 위하여, 본 발명의 마스크 연마장치에서는 상기 연마부(131)는 수평부재(142) 및 지지바(141)에 의하여 견고하게 지지된다. 또한, 상기 모터(133)는 상기 수평부재(142)의 상부를 따라서 슬라이딩되면서 전후방향으로 이동되고, 상기 수평부재(142)는 상기 지지바들(141)의 상부를 따라서 좌우방향으로 이동되므로 상기 연마부(131)의 정밀하고 부드러운 이동을 보장한다. In order to prevent the above problems, in the mask polishing apparatus of the present invention, the polishing portion 131 is firmly supported by the horizontal member 142 and the support bar 141. In addition, the motor 133 is moved in the front and rear direction while sliding along the upper portion of the horizontal member 142, the horizontal member 142 is moved in the horizontal direction along the upper portion of the support bars 141, the polishing The precision and smooth movement of the part 131 is ensured.

여기서, 상기 수평부재(142)의 양단에는 상기 지지바들(141)의 상부가 각각 삽입되어 슬라이딩 가능한 레일(미도시)이 장착됨이 바람직하다. 따라서, 상기 수평부재(142)는 상기 지지바들(141)의 연장된 방향을 따라서 정확하게 안내되어 이동된다. 또한, 상기 지지바들(141)의 상부 또는 상기 수평부재(142)의 하부에는 보다 부드러운 이동을 보장하기 위하여 바퀴가 장착됨이 더욱 바람직하다. Here, the upper ends of the support bars 141 are inserted into both ends of the horizontal member 142, the sliding rail (not shown) is preferably mounted. Accordingly, the horizontal member 142 is accurately guided and moved along the extending direction of the support bars 141. In addition, it is more preferable that the wheel is mounted on the upper portion of the support bars 141 or the lower portion of the horizontal member 142 to ensure a smoother movement.

한편, 상기 모터(133)의 하부에는 상기 수평부재(142)의 상부가 삽입되는 레일이 장착된다. On the other hand, a rail in which the upper portion of the horizontal member 142 is inserted is mounted below the motor 133.

도 4는 본 발명에 따른 모터의 장착구조를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a mounting structure of a motor according to the present invention.

도 4에서 보는 바와 같이, 상기 모터(133)는 상기 수평부재(142)의 상부에 장착된다. 상기 모터(133)의 하부 양측에는 상기 수평부재(142)를 수용하는 레일(133a)이 설치되고, 상기 레일(133a)은 상기 수평부재(142)를 따라서 슬라이딩되어 이동된다. 또한, 상기 모터(133)로부터 직하방으로 연장된 회전축(132)이 상기 수평부재(142)를 관통한다. As shown in FIG. 4, the motor 133 is mounted on the horizontal member 142. Rails 133a for receiving the horizontal member 142 are installed at both lower sides of the motor 133, and the rail 133a slides and moves along the horizontal member 142. In addition, the rotating shaft 132 extending directly below the motor 133 penetrates the horizontal member 142.

이를 위하여, 상기 수평부재(142)에는 상기 회전축(132)이 통과하는 가이드 홈(142a)이 형성된다. 상기 가이드 홈(142a)은 상기 수평부재(142)의 길이방향을 따라서 길게 연장되어 형성된다. 따라서, 상기 모터(133)가 수평부재(142)의 상부를 따라서 슬라이딩되어 이동될 때, 상기 회전축(132)은 상기 가이드 홈(142)을 따라서 이동된다. To this end, the horizontal member 142 is formed with a guide groove 142a through which the rotating shaft 132 passes. The guide groove 142a is formed to extend in the longitudinal direction of the horizontal member 142. Therefore, when the motor 133 is slid along the upper portion of the horizontal member 142, the rotating shaft 132 is moved along the guide groove 142.

상기 회전축(132)의 일단에는 마스크(20)의 상면과 접촉된 연마부(131)가 장착된다. 상기 연마부(131)는 상기 수직부재(140), 지지바(141), 그리고 수평부재(142)에 의하여 안정적으로 지지된 모터(133)와 연결되므로 편심의 발생이 최대한 방지된다. 따라서, 상기 연마부(131)와 상기 마스크(20) 상면과의 접촉면은 정확하게 수평을 이룰수 있고, 정밀한 연마작업이 가능하다. One end of the rotating shaft 132 is mounted with a polishing unit 131 in contact with the upper surface of the mask (20). The polishing part 131 is connected to the motor 133 stably supported by the vertical member 140, the support bar 141, and the horizontal member 142, thereby preventing the occurrence of eccentricity as much as possible. Therefore, the contact surface between the polishing unit 131 and the upper surface of the mask 20 can be precisely horizontal, and precise polishing can be performed.

한편, 상기 마스크(20)의 상면을 모두 연마하기 위해서는 상기 연마부(131)가 전후/좌우로 이동되면서 연마작업을 수행하여야 한다. 여기서, 상기 모터(133)가 장착된 수평부재(142)는 제1이동수단(미도시)에 의하여 상기 지지바들(141)을 따라서 이동된다. 즉, 상기 제1이동수단은 상기 지지바(141)의 연장된 방향을 따라서 수평부재(142)를 전후방향으로 이동시킨다. On the other hand, in order to polish all of the upper surface of the mask 20, the polishing unit 131 is to be moved back and forth / left and right to perform the polishing operation. Here, the horizontal member 142 on which the motor 133 is mounted is moved along the support bars 141 by a first moving means (not shown). That is, the first moving means moves the horizontal member 142 in the front-rear direction along the extending direction of the support bar 141.

또한, 상기 모터(133)는 상기 수평부재(142)의 상부를 따라서 제2이동수단(미도시)의 구동에 의하여 이동된다. 즉, 상기 제2이동수단은 상기 수평부재(142)의 연장된 방향을 따라서 상기 모터(133)를 좌우방향으로 이동시킨다. 따라서, 상기 모터(133)의 하부에 장착된 연마부(131)는 마스크(20)의 상면을 따라서 이동되면서 균일하게 연마한다. In addition, the motor 133 is moved by the driving of the second moving means (not shown) along the upper portion of the horizontal member 142. That is, the second moving means moves the motor 133 in the left and right directions along the extended direction of the horizontal member 142. Therefore, the polishing unit 131 mounted below the motor 133 is uniformly polished while being moved along the upper surface of the mask 20.

이때, 상기 회전되는 연마부(131)와 마스크(20)의 접촉되는 연마면에는 마찰에 의하여 고열이 발생한다. 또한, 지속적으로 연마작업이 계속되면 상기 마스크(20)의 상면에 진행성 균열이 발생할 수도 있다. 따라서, 상기 연마면이 과열되는 것을 방지하고 부드러운 연마작업을 보장하기 위하여 상기 연마면에 연마수가 공급되어야 한다. At this time, high heat is generated by the friction on the polished surface in contact with the rotating part 131 and the mask 20. In addition, if the polishing operation continues, progressive cracking may occur on the upper surface of the mask 20. Therefore, polishing water must be supplied to the polishing surface to prevent the polishing surface from overheating and to ensure a smooth polishing operation.

이를 위하여, 상기 연마부(131)의 상측에는 연마수 공급관(135)이 장착된다. 여기서, 상기 연마부(131)가 이동되므로 상기 연마수 공급관(135)도 함께 이동되도록 하기 위하여, 상기 연마수 공급관(135)은 상기 모터(133)에 고정된다. 여기서, 상기 연마수 공급관(135)은 신축성을 가진 재질로 이루어지므로, 상기 연마부(131)가 이동될 때 상기 연마수 공급관(135)이 함께 이동되면서 연마수를 연마면에 공급한다.To this end, an abrasive water supply pipe 135 is mounted on the polishing unit 131. Here, the polishing water supply pipe 135 is fixed to the motor 133 so that the polishing water supply pipe 135 is also moved together because the polishing part 131 is moved. Here, since the polishing water supply pipe 135 is made of a material having elasticity, when the polishing part 131 is moved, the polishing water supply pipe 135 is moved together to supply polishing water to the polishing surface.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 재활용 연마장치는 다음과 같은 효과를 가진다.As described above, the mask recycling polishing apparatus according to the present invention has the following effects.

첫째, 상기 연마부가 장착된 모터 및 수평부재가 이동가능하게 안정적으로 장착되므로, 상기 연마부와 상기 마스크의 접촉량을 정확하게 유지할 수 있다. 따라서, 상기 연마부가 이동될 때에도 정밀한 연마작업을 보장할 수 있다.First, since the motor and the horizontal member on which the polishing unit is mounted are movably and stably mounted, the amount of contact between the polishing unit and the mask can be accurately maintained. Therefore, even when the polishing part is moved, it is possible to ensure a precise polishing operation.

둘째, 상기 연마부가 편심이 발생되지 않도록 안정적으로 장착됨으로써 상기 연마부와 마스크가 접촉되는 연마면은 정확한 수평을 이룰 수 있다. 따라서, 상기 마스크의 상면을 보다 균일하게 연마할 수 있다. Second, since the polishing unit is stably mounted so that eccentricity does not occur, the polishing surface to which the polishing unit is in contact with the mask may be accurately leveled. Therefore, the upper surface of the mask can be polished more uniformly.

도 1은 액정표시패널을 제조하기 위한 노광단계에서 마스크와 기판의 구조를 설명하는 도면.1 is a view for explaining the structure of a mask and a substrate in an exposure step for manufacturing a liquid crystal display panel.

도 2는 종래기술에 따른 마스크 재활용 연마장치를 도시한 도면.Figure 2 shows a mask recycling polishing apparatus according to the prior art.

도 3은 본 발명에 따른 마스크 재활용 연마장치를 도시한 도면.Figure 3 shows a mask recycling polishing apparatus according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 마스크 연마장치의 회전축이 장착구조를 도시한 단면도.Figure 4 is a cross-sectional view showing the mounting structure of the rotating shaft of the mask polishing apparatus according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

20 : 마스크 130 : 지지프레임20 mask 130 support frame

131 : 연마부 132 : 회전축131: grinding unit 132: rotation axis

133 : 모터 140 : 수직부재133 motor 140 vertical member

141 : 지지바 142 : 수평부재141: support bar 142: horizontal member

142a : 가이드 홈142a: guide groove

Claims (7)

마스크가 고정되는 지지프레임; A support frame to which the mask is fixed; 상기 지지 프레임으로부터 상부로 돌출되어 고정된 수직부재들; Vertical members protruding upward from the support frame to be fixed; 상기 지지프레임의 양측면을 따라서 상기 수직부재들의 상단을 연결하도록 길게 연장된 지지바들; Support bars extending lengthwise to connect upper ends of the vertical members along both sides of the support frame; 그의 양 끝단이 상기 지지바들의 상부을 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된 수평부재; Horizontal members whose both ends are slidably mounted along upper portions of the support bars; 상기 수평부재를 따라서 슬라이딩 가능하게 장착된 모터; A motor slidably mounted along the horizontal member; 상기 모터로부터 직하방으로 연장된 회전축; 그리고 A rotating shaft extending directly downward from the motor; And 상기 마스크의 상면과 접촉되도록 상기 회전축의 일단에 장착된 연마부를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치. And a polishing unit mounted to one end of the rotating shaft to be in contact with the upper surface of the mask. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평부재의 양단에는 상기 지지바들의 상부가 각각 삽입되는 레일이 장착됨을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치.Mask recycling apparatus, characterized in that the both ends of the horizontal member is mounted on the rail is inserted into the upper portion of the support bars, respectively. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 모터의 하부에는 상기 수평부재의 상부가 삽입되는 레일이 장착됨을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치.Mask recycling apparatus, characterized in that the lower portion of the motor is mounted on the rail is inserted into the upper portion of the horizontal member. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평부재에는 상기 회전축이 통과하도록 길게 연장된 가이드 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치.The horizontal member is a mask recycling polishing device, characterized in that formed in the guide groove extending long to pass through the rotating shaft. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지바들을 따라서 상기 수평부재를 이동시키는 제1이동수단을 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치.And a first moving means for moving the horizontal member along the support bars. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평부재의 상부를 따라서 상기 모터를 이동시키는 제2이동수단을 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치.And a second moving means for moving the motor along the upper portion of the horizontal member. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연마부와 마스크의 접촉면에 연마수를 공급하는 연마수 공급관이 상기 모터에 장착됨을 특징으로 하는 마스크 재활용 연마장치.And a polishing water supply pipe for supplying the polishing water to the contact surface between the polishing portion and the mask is mounted on the motor.
KR1020030095423A 2003-12-23 2003-12-23 Grinding devie for recycling mask KR20050064135A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030095423A KR20050064135A (en) 2003-12-23 2003-12-23 Grinding devie for recycling mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030095423A KR20050064135A (en) 2003-12-23 2003-12-23 Grinding devie for recycling mask

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20050064135A true KR20050064135A (en) 2005-06-29

Family

ID=37255769

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030095423A KR20050064135A (en) 2003-12-23 2003-12-23 Grinding devie for recycling mask

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20050064135A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100787091B1 (en) * 2006-04-21 2007-12-21 엘지마이크론 주식회사 Apparatuas for repairing mask and method for repairing mask
CN109015296A (en) * 2018-08-17 2018-12-18 董英山 A kind of working method of H profile steel welding bead polishing rust-removal device
CN109015295A (en) * 2018-08-17 2018-12-18 董英山 A kind of H profile steel welding bead polishing rust-removal device
CN109352468A (en) * 2018-11-29 2019-02-19 潘林军 A kind of automobile parts grinding device
CN110014340A (en) * 2019-04-12 2019-07-16 上海务宝机电科技有限公司 A kind of belt steel surface sander
CN111775000A (en) * 2020-07-20 2020-10-16 岳文智 Grinding device for crystal processing
CN113305723A (en) * 2021-06-30 2021-08-27 苏雨荷 Reciprocating type stone surface polishing machine
KR102369875B1 (en) * 2020-09-17 2022-03-03 주식회사 단단광학 Active automatic polishing device for optical lenses that can be polished in the normal direction

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100787091B1 (en) * 2006-04-21 2007-12-21 엘지마이크론 주식회사 Apparatuas for repairing mask and method for repairing mask
CN109015296A (en) * 2018-08-17 2018-12-18 董英山 A kind of working method of H profile steel welding bead polishing rust-removal device
CN109015295A (en) * 2018-08-17 2018-12-18 董英山 A kind of H profile steel welding bead polishing rust-removal device
CN109015296B (en) * 2018-08-17 2020-06-02 广东德源钢结构工程有限公司 Working method of H-shaped steel welding bead polishing and derusting device
CN109352468A (en) * 2018-11-29 2019-02-19 潘林军 A kind of automobile parts grinding device
CN109352468B (en) * 2018-11-29 2019-11-08 潘林军 A kind of automobile parts grinding device
CN110014340A (en) * 2019-04-12 2019-07-16 上海务宝机电科技有限公司 A kind of belt steel surface sander
CN111775000A (en) * 2020-07-20 2020-10-16 岳文智 Grinding device for crystal processing
KR102369875B1 (en) * 2020-09-17 2022-03-03 주식회사 단단광학 Active automatic polishing device for optical lenses that can be polished in the normal direction
CN113305723A (en) * 2021-06-30 2021-08-27 苏雨荷 Reciprocating type stone surface polishing machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20050064135A (en) Grinding devie for recycling mask
JP3520516B2 (en) Color filters for liquid crystal displays
US7807087B2 (en) Imprinting apparatus and method for forming residual film on a substrate
TWI381253B (en) Exposure device, exposure method and production method for a display panel substrate
US20070178237A1 (en) Method for patterning coatings
TWI401541B (en) Laser interference lithography apparatus capable of stitching small exposed areas into large exposed area
US20020039628A1 (en) Liquid crystal alignment film, method of producing the same, liquid crystal display made by using the film, and method of producing the same
KR20050046221A (en) Apparatus for fixing mask by vacuum and exposure method of the same
JP2007171723A (en) Exposure device, exposing method, and manufacturing method for panel substrate for display
KR20080001331A (en) Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof
KR101002318B1 (en) Mask for Manufacturing Liquid Crystal Display Panel
JP2004118213A (en) Method of manufacturing color filter for liquid crystal display device
CN100508121C (en) Method for patterning coatings
KR100676908B1 (en) Grinding table for edge LCD panel
KR20190100052A (en) Planarization apparatus
KR20110104427A (en) Apparatus for proximity exposure, method for controlling temperature of stage in apparatus for proximity exposure, and method for manufacturing display panel plate
KR20100035449A (en) Laser apparatus for cutting polaroid film
KR100855070B1 (en) Roll pattering device
KR20070069428A (en) Substrate guide device for fabrication flat panel display
KR100774524B1 (en) Apparatus for manufacturing imprint pad
KR100588053B1 (en) Stepper for glass-substrate
KR101473830B1 (en) Printer
JP5086714B2 (en) Mask blank manufacturing method and photomask manufacturing method
KR101678035B1 (en) Method for pattern formation for forming print pattern
KR20070120674A (en) Apparatus for transferring patern to substrate

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid