KR20050060549A - Apparatus for substrate washing - Google Patents

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KR20050060549A
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KR1020030092186A
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최정원
이홍석
이영훈
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

본 발명은 액정표시장치 제조장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폐수의 처리 비용 절감을 위한 기판세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus for reducing the cost of treating wastewater.
이는 세제공정 이후 진행되는 잔존세제의 세정을 위한 DI공정에서 기판 세정의 초반에 발생한 DI폐수와 세정공정의 중반 이후에 사용되어 발생한 DI폐수의 분리 수집을 수행하도록 구성되어 있다.It is configured to perform separate collection of DI wastewater generated in the early stage of substrate cleaning and DI wastewater generated after the middle of the cleaning process in the DI process for cleaning the residual detergent after the detergent process.
이는 세정의 진행에 따라 발생되는 DI폐수의 잔존세제농도가 다른 점을 이용하여 분리 수집된 DI폐수에 대해 각각 별도의 폐수 처리 공정을 수행할 수 있는 장점이 있다. 이는 전체 DI폐수에 대한 일괄적인 폐수처리공정 수행에 비해 폐수처리비용을 보다 절감할 수 있도록 하는 효과가 있다. This is advantageous in that separate wastewater treatment processes may be performed on the collected DI wastewater by using the difference in the concentration of residual detergent in the DI wastewater generated as the washing proceeds. This has the effect of further reducing the wastewater treatment cost compared to performing the overall wastewater treatment process for the entire DI wastewater.

Description

기판 세정 장치{apparatus for substrate washing} Substrate cleaning apparatus
본 발명은 평판디스플레이장치의 제조장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폐수처리 비용절감을 위한 기판 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a flat panel display device, and more particularly, to a substrate cleaning device for reducing wastewater treatment costs.
최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시소자들이 개발되고 있다. 평판 표시소자로는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display : LCD), 전계 방출 표시소자(Field Emission Display : FED) 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP) 및 일렉트로 루미네센스(Electro-luminescence : EL) 표시소자 등이 있다. Recently, various flat panel display devices that can reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes, have been developed. As a flat panel display device, a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED) plasma display panel (PDP), and an electroluminescence (EL) display Elements;
이러한 평판표시소자의 여러 제조 과정에서는 여러 가지 이물질 및 기판 파편 등의 고착성 입자나 이물질 등이 기판에 달라붙어 기판을 오염시키는 경우가 종종 발생한다. 이러한 이물질에 의한 불량을 감소시키기 위하여 평판표시소자의 제조 공정 중에는 각 단계 별로 기판 세정 작업이 추가되게 된다. In various manufacturing processes of such a flat panel display device, various foreign matters, adherent particles such as substrate fragments, or the like adhere to the substrate and contaminate the substrate. In order to reduce defects caused by such foreign matters, substrate cleaning operations are added to each step during the manufacturing process of the flat panel display device.
이러한 기판 세정작업을 평판표시소자 중 LCD를 예를 들어 설명하기로 한다.This substrate cleaning operation will be described using an LCD among flat panel display elements as an example.
LCD는 소형 및 박형화와 저 전력 소모의 장점을 가지며, 노트북 PC, 사무 자동화 기기, 오디오/비디오 기기 등으로 이용되고 있다. 특히, 스위치 소자로서 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 'TFT'라 함)가 이용되는 액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치는 동적인 이미지를 표시하기에 적합하다. LCDs have the advantages of small size, thinness, and low power consumption, and are used for notebook PCs, office automation devices, and audio / video devices. In particular, an active matrix liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter, referred to as TFT) as a switch element is suitable for displaying a dynamic image.
액정표시소자는 화소들이 게이트라인들과 데이터라인들의 교차부들 각각에 배열되어진 화소매트릭스(Picture Element Matrix 또는 Pixel Matrix)에 텔레비전 신호와 같은 비디오신호에 해당하는 화상을 표시하게 된다. 화소들 각각은 데이터라인으로부터의 데이터신호의 전압레벨에 따라 투과 광량을 조절하는 액정셀을 포함한다. TFT는 게이트라인과 데이터라인들의 교차부에 설치되어 게이트라인으로부터의 스캔신호에 응답하여 액정셀 쪽으로 전송될 데이터신호를 절환하게 된다. The liquid crystal display displays an image corresponding to a video signal such as a television signal on a pixel matrix (Picture Element Matrix or Pixel Matrix) in which pixels are arranged at intersections of the gate lines and the data lines. Each of the pixels includes a liquid crystal cell that adjusts the amount of transmitted light according to the voltage level of the data signal from the data line. The TFT is provided at the intersection of the gate line and the data lines to switch the data signal to be transmitted to the liquid crystal cell in response to the scan signal from the gate line.
액정표시소자의 제조공정은 기판 세정과, 기판 패터닝, 배향막형성, 기판합착/액정주입, 실장 공정 및 테스트 공정으로 나뉘어져 제작된다.The manufacturing process of the liquid crystal display device is manufactured by being divided into substrate cleaning, substrate patterning, alignment film formation, substrate bonding / liquid crystal injection, mounting process, and test process.
이와 같은 액정표시소자의 제조공정 중 기판세정 공정에서는 세정제를 이용하여 상/하부기판의 패터닝 전후에 기판들에 잔존하는 이물질을 제거하게 된다.In the substrate cleaning step of the liquid crystal display device manufacturing process, a foreign substance remaining on the substrates before and after the upper and lower substrates is patterned by using a cleaning agent.
기판 패터닝 공정에서는 상부기판의 패터닝과 하부기판의 패터닝으로 나뉘어진다. 상부기판에는 칼라필터, 공통전극, 블랙 매트릭스 등이 형성된다. 하부기판에는 데이터라인과 게이트라인 등의 신호배선이 형성되고, 데이터라인과 게이트라인의 교차부에 TFT가 형성된다. 데이터라인과 게이트라인 사이의 화소영역에는 화소전극이 형성된다. In the substrate patterning process, the upper substrate is patterned and the lower substrate is patterned. A color filter, a common electrode, a black matrix, and the like are formed on the upper substrate. Signal lines such as data lines and gate lines are formed on the lower substrate, and TFTs are formed at intersections of the data lines and gate lines. The pixel electrode is formed in the pixel region between the data line and the gate line.
기판합착/액정주입 공정에서는 하부기판 상에 배향막을 도포하고 러빙하는 공정에 이어서, 실(Seal)을 이용한 상/하부기판 합착공정, 액정주입, 주입구 봉지 공정이 순차적으로 이루어진다. 여기서, 실재는 액정주입 공간과 액정영역을 한정하는 역할을 겸한다.In the substrate bonding / liquid crystal injection process, an alignment film is coated on the lower substrate and rubbed, followed by an upper / lower substrate bonding process using a seal, liquid crystal injection, and an injection hole encapsulation process. Here, the reality serves to define the liquid crystal injection space and the liquid crystal region.
도 1을 참조하면, 기판(2) 위에 형성된 TFT가 도시되어 있다. Referring to Fig. 1, a TFT formed on the substrate 2 is shown.
TFT는 기판(2) 상에 형성되는 게이트전극(20)과, 소정간격을 사이에 두고 이격되게 형성되는 소스 및 드레인전극(28,30)을 구비한다. 드레인전극(30)은 화소전극(18)과 전기적으로 접속된다.The TFT includes a gate electrode 20 formed on the substrate 2 and source and drain electrodes 28 and 30 spaced apart from each other with a predetermined interval therebetween. The drain electrode 30 is electrically connected to the pixel electrode 18.
이러한 TFT의 제조공정을 살펴보면 다음과 같다. Looking at the manufacturing process of such a TFT as follows.
먼저, 기판(2) 상에 알루미늄(Al) 또는 구리(Cu) 등의 게이트금속층을 증착한 후 패터닝함으로써 게이트전극(20)이 형성된다. First, a gate electrode 20 is formed by depositing and patterning a gate metal layer such as aluminum (Al) or copper (Cu) on the substrate 2.
상기 게이트전극(20)이 형성된 기판(2) 상에는 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiOx) 등의 무기절연물질을 증착함으로써 게이트절연막(22)이 형성된다. 게이트절연막(22) 위에는 비정질 실리콘(amorphous-Si : 이하 'a-Si'이라 함)으로 된 반도체층(24)과 n+ 이온이 도핑된 a-Si으로 된 오믹접촉층(26)이 연속 증착된다.The gate insulating layer 22 is formed on the substrate 2 on which the gate electrode 20 is formed by depositing an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx). On the gate insulating film 22, a semiconductor layer 24 made of amorphous silicon (hereinafter referred to as 'a-Si') and an ohmic contact layer 26 made of a-Si doped with n + ions are successively deposited. .
상기 오믹접촉층(26)과 게이트절연막(22) 상에 데이터금속층을 증착한 후 패터닝함으로써 소스전극(28)과 드레인전극(30)이 형성된다. 상기 소스전극(28)과 드레인전극(30) 사이의 노출된 오믹접촉층(26)은 건식에칭 또는 습식에칭에 의해 제거된다. The source electrode 28 and the drain electrode 30 are formed by depositing and patterning a data metal layer on the ohmic contact layer 26 and the gate insulating layer 22. The exposed ohmic contact layer 26 between the source electrode 28 and the drain electrode 30 is removed by dry etching or wet etching.
상기 소스 및 드레인전극(28,30)이 형성된 기판(2) 상에 유기절연물질 또는 무기절연물질을 증착한 후 패터닝함으로써 보호막(16)이 형성된다. 이 보호막(16)을 관통하여 드레인전극(30)이 일부 노출되게끔 접촉홀이 형성된다.The protective layer 16 is formed by depositing and patterning an organic insulating material or an inorganic insulating material on the substrate 2 on which the source and drain electrodes 28 and 30 are formed. A contact hole is formed through the passivation layer 16 so that the drain electrode 30 is partially exposed.
상기 보호막(16)이 형성된 기판(2) 상에 투명전도성물질을 증착한 후 패터닝함으로써 화소전극(18)이 형성된다. 이 화소전극(18)은 접촉홀을 통해 드레인전극(30)과 전기적으로 접촉된다.The pixel electrode 18 is formed by depositing and patterning a transparent conductive material on the substrate 2 on which the passivation layer 16 is formed. The pixel electrode 18 is in electrical contact with the drain electrode 30 through the contact hole.
이러한 액정표시소자 기판의 세정 작업을 필요로 하는 각 제조 공정을 살펴보면, 먼저 기판 상에 TFT 어레이를 형성하는 단계의 전후와, 배향막을 형성하고 액정 배향을 위해 배향막을 러빙하는 과정 후와, 상/하 기판을 합착한 다음 기판에서 각 패널들을 절단해내는 스크라이브(Scribe) 과정 후에, 그리고 패널에 액정을 주입하고 주입구를 봉지하는 공정 후에 각각 기판의 세정 작업이 이루어지게 된다.Looking at each manufacturing process that requires the cleaning operation of the liquid crystal display device substrate, before and after the step of forming the TFT array on the substrate, after forming the alignment film and rubbing the alignment film for liquid crystal alignment, The substrate is cleaned after the scribe process of bonding the lower substrates and then cutting the panels from the substrates, and after injecting the liquid crystal into the panels and sealing the injection holes.
여기서 실제 기판의 세정 작업은 도 2에 도시된 바와 같은 기판 세정 장치에 의해 이루어지게 된다. Here, the actual cleaning of the substrate is performed by the substrate cleaning apparatus as shown in FIG.
도 2를 참조하면, 종래의 세정장치(1)는 기판(2)이 이송롤러(10)에 의해 이송되며, 상기 기판(2)의 표면에 세제(Detergent)를 분사하는 세제공정에서는 세제분사노즐(8)과, 상기 세제분사노즐(8)에 세제를 공급하기 위한 세제탱크(4)를 구비하여 기판(2)의 표면에 존재하는 유기 이물질을 세정하는 공정을 수행하게 된다.Referring to FIG. 2, in the conventional cleaning apparatus 1, a substrate 2 is transferred by a transfer roller 10, and a detergent spray nozzle is used in a detergent process in which a detergent is sprayed onto the surface of the substrate 2. (8) and a detergent tank (4) for supplying detergent to the detergent spray nozzle (8) to perform a process for cleaning the organic foreign matter present on the surface of the substrate (2).
그런데 상기 세제공정에서 기판(2) 세정에 이용된 세제는 에어커튼(Air curtain)(3)에 의해 1차적으로 차단되어 상기 DI공정으로 넘어가는 것을 방지하고 있으나 완벽하게 차단하지는 못하기 때문에 기판(2)에 세제가 잔존하고 있으며, 이의 제거를 위해 DI공정을 수행하게 된다.By the way, the detergent used to clean the substrate 2 in the detergent process is primarily blocked by the air curtain (Air curtain) (3) to prevent it from going to the DI process, but because it does not completely block the substrate ( Detergent remains in 2) and DI process is performed to remove it.
상기 이송롤러(10)에 의해 세정공정으로 이송된 기판(2)은 상기 기판(2)에 분사되어 잔존하는 세제를 세정하기 위한 초순수(De-Ionized Water ; 이하 'DI'라 함) 공정을 거치게 되는데, 여기서는 DI의 분사를 위한 DI분사노즐(9)과, 상기 DI분사노즐(9)에 DI를 공급하기 위한 DI탱크(5)가 구비되어 있고, 또한 상기 DI분사노즐(9)을 통해 기판(2)으로 분사되어 세정을 수행한 DI를 집진시켜 배수하기 위한 DI배수배관(6)과, 상기 DI배수배관(6)의 제어를 위한 배수제어장치(7)를 구비하고 있다.The substrate 2 transferred to the cleaning process by the transfer roller 10 is sprayed onto the substrate 2 and subjected to ultra-pure water (hereinafter referred to as 'DI') process for cleaning the remaining detergent. In this case, the DI injection nozzle (9) for the injection of DI, and the DI tank (5) for supplying DI to the DI injection nozzle (9) is provided, and also through the DI injection nozzle (9) And a DI drain pipe 6 for collecting and draining the DI which has been sprayed and cleaned by (2), and a drain control device 7 for controlling the DI drain pipe 6.
상기한 구성에서, 상기 세제탱크(4)는 상기 세제분사노즐(8)로 세제를 공급하며, 별도의 수세 시스템을 통해 상기 기판(2)에 분사된 세제를 회수하여 재저장하여 재사용하기도 한다. In the above configuration, the detergent tank 4 supplies the detergent to the detergent spray nozzle 8, and may recover and reuse the detergent sprayed onto the substrate 2 through a separate washing system.
이와 같은 종래의 세정장치에 있어서 DI 세정공정을 살펴보면 다음과 같다. Looking at the DI cleaning process in such a conventional cleaning device as follows.
우선 기판(2)이 이전의 세제공정을 수행하고 상기 에어커튼을 통해 상기 DI공정으로 이송된다. 이때, 상기 기판(2)의 전단이 DI분사노즐(9)의 위치상에 도달하게 되면, DI가 기판(2) 표면에 강하게 분사되면서 이송되는 기판(2) 상에 잔존하는 이물질 및 세제 잔류물을 제거하게 된다.First, the substrate 2 performs a previous detergent process and is transferred to the DI process through the air curtain. At this time, when the front end of the substrate 2 reaches the position of the DI injection nozzle 9, foreign matter and detergent residues remaining on the substrate 2 to be transported while DI is strongly sprayed on the surface of the substrate 2 Will be removed.
상기 기판(2)의 표면에 분사된 DI는 하부에 구성된 DI배수배관(6)으로 집수되고, 상기 DI배수배관(6)으로 집수된 DI폐수는 별도의 폐수처리 공정으로 이송된다.DI sprayed on the surface of the substrate 2 is collected in the DI drain pipe 6 configured at the bottom, and the DI waste water collected in the DI drain pipe 6 is transferred to a separate waste water treatment process.
여기서 상기 DI배수배관(6)으로 집수된 DI는 세제잔류물을 포함하고 있기 때문에 일반적으로 세제폐수 처리공정, 유기폐수 처리공정, DIR유기폐수 처리공정 등 3단계의 폐수 처리공정을 거치게 된다.Since the DI collected in the DI drain pipe 6 includes detergent residues, the wastewater treatment process of the wastewater treatment process, the organic wastewater treatment process, and the DIR organic wastewater treatment process is generally performed.
상기와 같은 구성을 통해 수행되는 종래의 기판 세정장치(1)는 상기 DI공정을 수행하고 일괄적으로 수집된 DI폐수에 대한 처리공정이 다단계로 수행되고 있는데 이는 폐수처리에 따른 비용의 증가 원인이 된다. In the conventional substrate cleaning apparatus 1 performed through the above configuration, the DI process is performed and the treatment process for the collected DI wastewater is collectively performed in multiple stages, which is caused by an increase in the cost of wastewater treatment. do.
본 발명은 상기와 같이 세제공정후 수행되는 DI공정에서 수집된 DI폐수 처리공정을 이원화하고, 이원화된 DI폐수 처리공정을 통해 폐수처리 비용을 절감할 수 있는 폐수처리시스템을 구비한 세정정치를 제시하는데 목적이 있다. The present invention dualizes the DI wastewater treatment process collected in the DI process performed after the detergent process as described above, and presents a cleaning politics with a wastewater treatment system that can reduce the wastewater treatment cost through the dualized DI wastewater treatment process. The purpose is to.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 기판에 잔류된 세제의 세정을 위한 장치로서, 상기 기판의 이송을 위한 기판이송부와; 상기 이송되는 기판에 세정액 분사를 위한 분사노즐과; 상기 사용된 세정액의 수거를 위한 제1배수부 및 제2배수부를 구비한 배수장치를 포함하는 기판세정장치를 제안한다.In order to achieve the above object, an apparatus for cleaning the detergent remaining on the substrate, comprising: a substrate transfer unit for transferring the substrate; A spray nozzle for spraying a cleaning liquid on the transferred substrate; A substrate cleaning apparatus comprising a drainage device having a first drainage portion and a second drainage portion for collecting the used cleaning liquid.
상기 기판이송부는 이송 롤러인 것을 특징으로 한다. The substrate transfer unit is characterized in that the transfer roller.
상기 세정액은 초순수(DI)인 것을 특징으로 한다. The cleaning liquid is characterized in that the ultrapure water (DI).
상기 배수장치는 상기 기판이송부 하부에 구성되는 것을 특징으로 한다.The drainage device is characterized in that it is configured under the substrate transfer portion.
상기 제1배수부 및 제2배수부는 각각 서로 측단에 인접하여 위치하는 것을 특징으로 한다.The first drain portion and the second drain portion are characterized in that located adjacent to each other end.
상기 제1배수부는 상기 기판세정장치의 기판인입부 측에 위치하고 상기 제2배수부는 상기 기판세정장치의 기판배출부 측에 위치하는 것을 특징으로 한다.The first drain portion is located on the substrate inlet side of the substrate cleaning device and the second drain portion is characterized in that located on the substrate discharge part side of the substrate cleaning device.
상기 제1배수부로 수집되는 세정액의 잔존 세제농도는 상기 제2배수부로 수집되는 세정액의 잔존 세제농도보다 더 높은 것을 특징으로 한다.The residual detergent concentration of the cleaning liquid collected by the first drainage portion is higher than the residual detergent concentration of the cleaning liquid collected by the second drainage portion.
상기 제1배수부 및 제2배수부를 통해 배수된 세정액은 각각 별도로 수집되어 처리되는 것을 특징으로 한다.The washing liquid drained through the first drain portion and the second drain portion may be separately collected and processed.
이하 첨부된 도면을 이용하여 상기와 같은 특징으로 가지는 본 발명에 따른 기판세장장치에 대해 설명한다.Hereinafter, a substrate cleaning apparatus according to the present invention having the above-mentioned features will be described with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 기판세정장치(50)를 간략 도시한 도면으로서, 기판(2)의 이송을 위한 이송롤러(51)와, 상기 이송롤러(51)에 안착되어 이송되는 기판(2)에 세정액 분사를 수행하는 분사노즐(52)과, 상기 세정에 사용된 폐세정액의 순차적 수거를 위한 제1배수부(53) 및 제2배수부(54)를 구비한 구성을 도시하고 있다.3 is a schematic view of the substrate cleaning apparatus 50 according to the present invention, the transfer roller 51 for the transfer of the substrate 2, the substrate 2 is seated and transferred to the transfer roller 51 The configuration is provided with a spray nozzle 52 for performing a cleaning liquid injection, and a first drain 53 and a second drain 54 for the sequential collection of the waste cleaning liquid used for the cleaning.
상기 분사노즐(52)은 세정액인 DI(초순수)를 분사하여 상기 기판 상에 잔류하는 세제(detergent)의 세정을 수행한다. 물론 상기 분사노즐(52)로의 초순수 공급을 위한 별도의 DI탱크(57)가 구비되어 있음은 당연하다.The spray nozzle 52 sprays DI (ultra pure water), which is a cleaning liquid, to clean the detergent remaining on the substrate. It is a matter of course that a separate DI tank 57 for supplying ultrapure water to the injection nozzle 52 is provided.
상기 이송롤러(51)의 하부에는 상기 분사노즐(52)에서 분사되어 기판(2)의 세정을 수행하고 배수된 DI폐수가 유입되도록 다수의 배쓰(bath)가 구성되어 있는데, 예시와 같이 각각 제1배수부(53) 및 제2배수부(54)로 구성 도시되어 있다. 물론 상기 각 배수부(53)(54)는 폐수의 배수제어를 위한 배수제어장치(55)(56)가 구성될 수 있다.A plurality of baths are formed at the lower portion of the transfer roller 51 so as to clean the substrate 2 by being injected from the injection nozzle 52 and to drain the DI wastewater. It is shown to be composed of a first drain 53 and a second drain 54. Of course, each of the drains 53 and 54 may include a drain control device 55 and 56 for drainage control of the wastewater.
상기 제1배수부(53)와 제2배수부(54)는 각각 기판(2)의 진행방향을 따라 인접하도록 순차적으로 구성되어 있는데, 이는 상기 DI공정을 수행하기 위해 상기 본 발명에 따른 기판세정장치(50)로 이송된 기판에 DI를 분사하였을 때 상기 기판(2)의 하부로 흘러내린 DI폐수를 세정 공정 진행에 따라 구분하여 수집하기 위한 것이다.The first drain 53 and the second drain 54 are sequentially configured to be adjacent to each other along the advancing direction of the substrate 2, which is used to clean the substrate according to the present invention to perform the DI process. When DI is injected onto the substrate transferred to the apparatus 50, the DI wastewater flowing down into the lower portion of the substrate 2 is collected separately according to the progress of the cleaning process.
즉, 상기 세정장치(50)의 세정공정 초반에 분사되어 세정을 수행한 후 수집된 DI폐수를 상기 제1배수부(53)에서 수집하고, 다음으로 세정 공정이 진행됨에 따라 수집되는 DI폐수를 상기 제2배수부(54)를 통해 수집하도록 하는 구성이다.That is, the DI wastewater collected after the cleaning by spraying at the beginning of the washing process of the washing apparatus 50 is collected by the first drain 53, and then the DI wastewater collected as the washing process proceeds. It is configured to collect through the second drain 54.
이는 상기 세정공정의 초반에 수행되어 상기 제1배수부(53)에 수집된 DI폐수는 세제의 농도가 높으며, 또한 상기 제2배수부(54)에 수집된 DI폐수는 용해된 세제의 농도가 상대적으로 낮기 때문에 각각 별도의 폐수 처리 공정을 수행할 수 있도록 분리하여 배수장치를 구성한 것이다.This is done at the beginning of the cleaning process so that the DI wastewater collected in the first drain 53 has a high concentration of detergent, and the DI waste water collected in the second drain 54 has a dissolved detergent concentration. Since it is relatively low, the drainage system is configured by separating it so that a separate wastewater treatment process can be performed.
상기 각 배수부(53)(54)를 통해 수집된 DI폐수의 처리는 상기 제1배수부(53)의 DI폐수의 경우 전술한 세제폐수처리, 유기폐수처리, DIR유기폐수처리 공정을 거치고, 상기 제2배수부(54)로 유입된 DI폐수의 경우는 세제의 잔존 농도가 높지 않으므로 보다 간단한 폐수처리공정, 예를 들어 유기폐수처리, DIR유기폐수처리 공정 만 수행한다. Treatment of the DI wastewater collected through each of the drainage units 53 and 54 goes through the above-described detergent wastewater treatment, organic wastewater treatment, and DIR organic wastewater treatment process for the DI wastewater of the first drainage unit 53, In the case of DI wastewater introduced into the second drain 54, since the residual concentration of the detergent is not high, only a simple wastewater treatment process, for example, organic wastewater treatment and DIR organic wastewater treatment process are performed.
상기와 같이 설명한 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 세제공정 이후 진행되는 잔존세제의 세정을 위한 DI공정에서 기판 세정의 초반에 발생한 DI폐수와 세정공정의 중반 이후에 사용되어 발생한 DI폐수의 분리 수집을 수행하도록 구성되어 있다.The substrate cleaning apparatus according to the present invention as described above separates and collects the DI wastewater generated at the beginning of the substrate cleaning and the DI wastewater generated after the middle of the cleaning process in the DI process for the cleaning of the residual detergent proceeding after the detergent process. It is configured to perform.
이는 세정의 진행에 따라 발생되는 DI폐수의 잔존세제농도가 다른 점을 이용하여 분리 수집된 DI폐수에 대해 각각 별도의 폐수 처리 공정을 수행할 수 있는 장점이 있다. 이는 전체 DI폐수에 대한 일괄적인 폐수처리공정 수행에 비해 폐수처리비용을 보다 절감할 수 있도록 하는 효과가 있다.This is advantageous in that separate wastewater treatment processes may be performed on the collected DI wastewater by using the difference in the concentration of residual detergent in the DI wastewater generated as the washing proceeds. This has the effect of further reducing the wastewater treatment cost compared to performing the overall wastewater treatment process for the entire DI wastewater.
도 1은 종래의 액정표시소자를 상세히 나타내는 단면도1 is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display device in detail
도 2는 종래 평판표시소자의 기판 세정장치를 나타내는 도면2 is a view showing a substrate cleaning apparatus of a conventional flat panel display device;
도 3은 본 발명에 따른 기판세정장치를 간략 도시한 도면 Figure 3 is a simplified view showing a substrate cleaning apparatus according to the present invention
<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>
2 : 기판 50 : 기판세정장치2: substrate 50: substrate cleaning device
51 : 이송롤러 52 : 분사노즐51: feed roller 52: injection nozzle
53 : 제1배수부 54 : 제2배수부53: first drainage portion 54: second drainage portion
54,55 : 배수제어장치 54,55: Drainage control device

Claims (8)

  1. 기판에 잔류된 세제의 세정을 위한 장치로서, An apparatus for cleaning detergent remaining on a substrate,
    상기 기판의 이송을 위한 기판이송부와;A substrate transfer unit for transferring the substrate;
    상기 이송되는 기판에 세정액 분사를 위한 분사노즐과;A spray nozzle for spraying a cleaning liquid on the transferred substrate;
    상기 사용된 세정액의 수거를 위한 제1배수부 및 제2배수부를 구비한 배수장치Drainage device having a first drain and a second drain for the collection of the used cleaning liquid
    를 포함하는 기판세정장치 Substrate cleaning device comprising a
  2. 청구항 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 기판이송부는 이송 롤러인 것을 특징으로 하는 기판세정장치 The substrate cleaning device, characterized in that the substrate transfer unit is a conveying roller
  3. 청구항 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 세정액은 초순수(DI)인 것을 특징으로 하는 기판세정장치 The cleaning liquid is a substrate cleaning device, characterized in that ultrapure water (DI)
  4. 청구항 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 배수장치는 상기 기판이송부 하부에 구성되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치 The drainage device is a substrate cleaning device, characterized in that configured in the lower portion of the substrate transfer unit
  5. 청구항 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 제1배수부 및 제2배수부는 각각 서로 측단에 인접하여 위치하는 것을 특징으로 하는 기판세장장치 Wherein the first drain portion and the second drain portion are located adjacent to each other at side ends thereof.
  6. 청구항 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 제1배수부는 상기 기판세정장치의 기판인입부 측에 위치하고 상기 제2배수부는 상기 기판세정장치의 기판배출부 측에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치 Wherein the first drain portion is located at the substrate inlet side of the substrate cleaning device and the second drain portion is located at the substrate discharge part side of the substrate cleaning device.
  7. 청구항 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 제1배수부로 수집되는 세정액의 잔존 세제농도는 상기 제2배수부로 수집되는 세정액의 잔존 세제농도보다 더 높은 것을 특징으로 하는 시판세정장치 The residual detergent concentration of the cleaning liquid collected by the first drainage portion is higher than the residual detergent concentration of the cleaning liquid collected by the second drainage portion.
  8. 청구항 제 1 항에 있어서, The method according to claim 1,
    상기 제1배수부 및 제2배수부를 통해 배수된 세정액은 각각 별도로 수집되어 처리되는 것을 특징으로 하는 기판세장장치Substrate cleaning device, characterized in that the cleaning liquid drained through the first drain portion and the second drain portion is separately collected and processed
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