KR20050058591A - 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법 - Google Patents

노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20050058591A
KR20050058591A KR1020030090522A KR20030090522A KR20050058591A KR 20050058591 A KR20050058591 A KR 20050058591A KR 1020030090522 A KR1020030090522 A KR 1020030090522A KR 20030090522 A KR20030090522 A KR 20030090522A KR 20050058591 A KR20050058591 A KR 20050058591A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
photoresist
nozzle
thinner
cleaning cloth
Prior art date
Application number
KR1020030090522A
Other languages
English (en)
Inventor
김희웅
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020030090522A priority Critical patent/KR20050058591A/ko
Publication of KR20050058591A publication Critical patent/KR20050058591A/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

본 발명은 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법에 관한 것이다.
본 발명은 포토 레지스트를 공급하는 노즐의 선단 부분을 세척하는 세척 장치에서, 쿠션이 있는 다공질 세정포를 이용하여 노즐 세척시에 세정포에 의해서 직접적으로 접촉되어 노즐 팁 부분의 포토 레지스트를 제거함으로써 기판에 포토 레지스트를 균일하게 도포하고 이물질이 기판으로 낙하하여 발생하는 돌기 불량을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 다공질의 세정포를 이용하여 포토 레지스트 분사 노즐을 세척함으로써 시너 디스펜서에 나온 시너를 효과적으로 사용할 수 있으며, 세정력이 강하여 포토 레지스트 공급 노즐을 세척하는 시간을 절약하는 효과가 있다.

Description

노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법{A cleaning device of a nozzle and the cleaning method thereof}
본 발명은 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법에 관한 것이다.
최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었는데, 그 중 색 재현성 등이 우수한 액정 표시 장치(liquid crystal display)가 활발하게 개발되고 있다.
일반적으로 액정 표시 장치는 일면에 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.
액정 표시 장치는 다양한 형태로 이루어질 수 있는데, 현재 박막 트랜지스터와 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극이 행렬 방식으로 배열된 능동 행렬 액정 표시 장치(Active Matrix LCD : AM-LCD)가 해상도 및 동영상 구현 능력이 우수하여 가장 주목받고 있다.
이러한 액정 표시 장치는 하부의 어레이 기판에 화소 전극이 형성되어 있고 상부 기판인 컬러 필터 기판에 공통 전극이 형성되어 있는 구조로, 상하로 걸리는 기판에 수직한 방향의 전기장에 의해 액정 분자를 구동하는 방식이다. 이는, 투과율과 개구율 등의 특성이 우수하며, 상판의 공통 전극이 접지 역할을 하게 되어 정전기로 인한 액정셀의 파괴를 방지할 수 있다.
한편, 액정 표시 장치의 하부 기판인 어레이 기판은 박막을 증착하고 마스크를 이용하여 사진 식각하는 공정을 여러 번 반복함으로써 형성되는데, 통상적으로 마스크 수는 4장 내지 5장이 사용되고 있으며, 마스크의 수가 어레이 기판을 제조하는 공정수를 나타낸다.
이러한 사진 식각 공정으로 패턴을 형성하는 데 있어서 포토장비를 이용하여 포토 레지스트(Photoresist)를 형성하고, 노광 및 현상하는 공정에 의해 패터닝되고 있다.
이와 같은 포토 장비는 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 포토 레지스트 공급 장치를 포함하는데, 상기 포토 레지스트 공급 장치는 노즐 형태로 구성되며 기판 상에서 움직이면서 포토 레지스트를 도포한다.
이러한 상기 포토 레지스트 공급 장치는 노즐의 팁 부분에서 발생하는 응고된 포토 레지스트와 같은 오염 물질을 제거하기 위한 세척 장치가 필요하다.
도 1은 종래 포토 레지스트 공급 장치와 세척 장치를 보여주는 개략적인 단면도이다.
먼저, 도 1에 나타낸 바와 같이, 상부에 포토 레지스트 공급 장치와 하부에 상기 포토 레지스트 공급 장치의 노즐 슬릿 팁(slit)(160) 부분에 발생하는 포토 레지스트 찌꺼기(161)를 제거하기 위한 세척 장치가 있다.
상기 세척 장치는 포토 레지스트 분사 노즐(110) 양 측면에 시너(thinner)를 분사하는 디스펜서(dispenser)(120)가 구비되며, 상기 디스펜서(120)에서 분사되는 시너를 배출하는 드레인부(130)를 구비하고 있다.
이때, 상기 포토 레지스트(161)에는 알코올(Alcohol)이나 가솔린(Gasoline) 등과 같이 대기중에 노출되면 자연적으로 휘발되는 휘발성의 솔벤트(Solvent) 성분이 함유되어 있기 때문에 포토 레지스트 분사 노즐(110)에서 포토 레지스트를 분사한 후 장시간 사용하지 않을 경우 포토 레지스트 분사 노즐(110)의 노즐팁(Nozzle tip)(160) 내에 위치한 포토 레지스트(161)는 대기에 노출되어 솔벤트 성분이 휘발되면서 일부분으로부터 응고되는 현상이 발생된다(확대 도면 참조).
이에 이러한 포토 레지스트 응고 현상은 포토 레지스트가 기판 상에 원활하게 분사되는 것을 방해하고 응고된 포토 레지스트는 성장하고 뭉쳐 포토 레지스트를 도포중인 기판 상에 떨어져 불량을 발생시키게 되는 문제점이 있다.
이렇게 기판 상에 떨어지는 이물질들은 포토 레지스트막 패턴시 잔막이 남게 하여 전극간 쇼트를 유발하거나 액정패널이 완성된 후 영상 데이터를 디스플레이함에 있어서 얼룩이 나타나게 하는 원인이 된다.
따라서, 종래에는 이와 같이 포토 레지스트 공급 장치 노즐의 팁 부분에서 발생하는 응고된 포토 레지스트를 제거하기 위하여 세척 장치를 이용하였으나 유체인 시너의 분사에 의해서 세정하므로 세정 효과가 미약하였다.
본 발명은 포토 레지스트를 공급하는 노즐의 선단 부분을 세척하는 세척 장치에서 쿠션이 있는 다공질 세정포를 이용하여 노즐 세척시에 세정포에 의해서 직접적으로 접촉하여 부착되어 있던 포토 레지스트를 제거할 수 있는 세척 장치 및 그 세척 방법을 제공하는 데 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 노즐의 세척 장치는, 분사 노즐의 측면에 시너(thinner)를 분사하는 디스펜서(dispenser)와; 상기 분사 노즐 팁(nozzle tip)에 접촉하는 세정포와; 상기 시너를 배출하는 드레인(drain)부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 시너는 포토 레지스트를 제거하는 화학 용액인 것을 특징으로 한다.
상기 세정포는 다공성 물질인 것을 특징으로 한다.
상기 세정포는 스폰지(sponge)인 것을 특징으로 한다.
상기 디스펜서가 세정포보다 위에 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기 세정포는 지그(jig)에 의해서 고정된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 노즐의 세척 방법은, 분사 노즐이 대기하는 단계와; 상기 분사 노즐 팁에 세정포가 접촉하는 단계와; 상기 분사 노즐 측면과 세정포에 시너가 분사되고 세정포가 노즐의 좌우로 이동하며 세척하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 세정포는 다공성 물질인 것을 특징으로 한다.
상기 분사 노즐은 포토 레지스트를 분사하는 노즐인 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 세척 장치를 구체적인 실시예를 들어 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 노즐 세척 장치를 보여주는 개략적인 사시도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 세척 장치(200)의 상부에는 포토 레지스트를 세정하는 시너(thinner)를 분사하는 시너 디스펜서(thinner dispenser)(220)가 형성되어 있고, 하부에는 상기 분사된 시너를 배출하는 드레인부(230)로 구성되어 있다.
그리고, 상기 세척 장치(200)의 내부에는 세정포(242)를 부착할 수 있는 지그(jig)(241)가 구성되어 있으며, 상기 세정포(242)는 다공질의 신축력 및 회복력이 좋은 스폰지(sponge)로 형성되어 있다.
도 3은 본 발명에 따른 포토 레지스트 공급 장치와 세척 장치를 보여주는 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트 공급 장치를 세척해야 하는 시점에서 상기 포토 레지스트 공급 장치는 대기부에서 정지하여 대기하고, 상기 포토 레지스트 공급 장치를 세척할 세척 장치(200)가 세정 주기가 되면 작동되어 상기 포토 레지스트 공급 장치의 포토 레지스트 분사 노즐(slit)(210)의 노즐 팁(211)에 접촉한다.
이때, 상기 세척 장치(200)는 포토 레지스트를 세정하는 시너(thinner)를 분사하는 시너 디스펜서(thinner dispenser)(220)가 형성되어 있고, 하부에는 상기 분사된 시너를 배출하는 드레인부(230)로 구성되어 있다.
그리고, 상기 세척 장치(200)의 내부에는 세정포(242)를 부착할 수 있는 지그(jig)(241)가 구성되어 있으며, 상기 세정포(242)는 다공질의 신축력 및 회복력이 좋은 스폰지(sponge)로 형성되어 있다.
이때, 상기 다공질의 세정포(242)에 포토 레지스트 공급 장치의 노즐 팁(211) 부분이 접촉하게 되고, 이와 같이 소정의 압력으로 접촉한 상태에서 세척 장치(200)가 좌우로 이동하면서 상기 포토 레지스트로 오염된 노즐 팁(211)의 모서리 부분을 세정하게 된다.
여기서, 상기 세척 장치(200)가 포토 레지스트 분사 노즐(210)의 좌우로 이동시에 상기 시너 디스펜서(220)에서는 시너가 분사되는데, 상기 시너가 분사되는 위치는 포토 레지스트 분사 노즐(210)의 양 측면이 된다.
그리고, 상기 포토 레지스트 분사 노즐의 측면(210)을 세정한 시너는 아래에 있는 다공질 세정포(242)에 흡수되어 노즐의 선단(edge) 부위에 세정포(242)가 직접 접촉함으로써 오염된 포토 레지스트를 효과적으로 제거할 수 있도록 한다.
도 4는 본 발명에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 측면도와 그에 대한 세척 장치의 동작을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 상기 포토 레지스트 공급 장치는 슬릿 형태의 포토 레지스트 분사 노즐(210)이 있으며, 상기 포토 레지스트 분사 노즐(210)의 선단(edge) 부분에 포토 레지스트 오염이 발생하게 된다.
따라서, 상기 포토 레지스트 분사 노즐(210)의 세정 주기가 되면 세정 장치(200)가 작동하는데, 상기 세척 장치(200)는 노즐에 접촉하여 좌우로 이동하면서 포토 레지스트 분사 노즐(210)을 강제적으로 세정한다.
이때, 상기 세척 장치(200)에서 포토 레지스트 제거를 위한 약액인 시너가 디스펜서(도 3의 220)를 통해서 포토 레지스트 분사 노즐(210)의 양 측면으로 분사되고, 분사된 시너는 상기 포토 레지스트 분사 노즐(210)의 상단 부분을 세정하면서 세정 장치(200) 내부의 세정포(도 3의 242)로 흡수된다.
이와 같이 시너를 흡수한 세정포는 포토 레지스트 분사 노즐의 노즐 팁 부분과 소정의 압력으로 접촉해 있으므로 물리적인 접촉력과 시너에 의해서 노즐을 효과적으로 세척한다.
상기 다공질 세정포에 묻어나온 포토 레지스트는 시너에 의해 희석되고 세정되어 세정포의 재오염은 최소화 된다.
이때, 상기 세정포는 다공질 물질로서, 포토 레지스트를 제거하기 위한 시너를 잘 흡수하며, 탄성과 복원력이 뛰어난 재질로 이루어진다.
본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
본 발명은 포토 레지스트를 공급하는 노즐의 선단 부분을 세척하는 세척 장치에서 쿠션이 있는 다공질 세정포를 이용하여 노즐에 직접적으로 접촉하여 노즐 팁 부분의 포토 레지스트를 제거함으로써 기판에 포토 레지스트를 균일하게 도포하고 이물질이 기판으로 낙하하여 발생하는 돌기 불량을 방지하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 다공질의 세정포를 이용하여 포토 레지스트 분사 노즐을 세척함으로써 시너 디스펜서에 나온 시너를 효과적으로 사용할 수 있으며, 세정력이 강하여 포토 레지스트 공급 노즐을 세척하는 시간을 절약하는 효과가 있다.
도 1은 종래 포토 레지스트 공급 장치와 세척 장치를 보여주는 개략적인 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 노즐 세척 장치를 보여주는 개략적인 사시도.
도 3은 본 발명에 따른 포토 레지스트 공급 장치와 세척 장치를 보여주는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 측면도와 그에 대한 세척 장치의 동작을 개략적으로 보여주는 도면.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>
200 : 세척 장치 210 : 포토 레지스트 공급 노즐
211 : 노즐 팁 220 : 시너 디스펜서(thinner dispenser)
230 : 드레인부 241 : 지그(jig)
242 : 세정포

Claims (9)

  1. 분사 노즐의 측면에 시너(thinner)를 분사하는 디스펜서(dispenser)와;
    상기 분사 노즐 팁(nozzle tip)에 접촉하는 세정포와;
    상기 시너를 배출하는 드레인(drain)부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 시너는 포토 레지스트를 제거하는 화학 용액인 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 세정포는 다공성 물질인 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 세정포는 스폰지(sponge)인 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 디스펜서가 세정포보다 위에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 세정포는 지그(jig)에 의해서 고정된 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 장치.
  7. 분사 노즐이 대기하는 단계와;
    상기 분사 노즐 팁에 세정포가 접촉하는 단계와;
    상기 분사 노즐 측면과 세정포에 시너가 분사되고 세정포가 노즐의 좌우로 이동하며 세척하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 세정포는 다공성 물질인 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 방법.
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 분사 노즐은 포토 레지스트를 분사하는 노즐인 것을 특징으로 하는 노즐의 세척 방법.
KR1020030090522A 2003-12-12 2003-12-12 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법 KR20050058591A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030090522A KR20050058591A (ko) 2003-12-12 2003-12-12 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030090522A KR20050058591A (ko) 2003-12-12 2003-12-12 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20050058591A true KR20050058591A (ko) 2005-06-17

Family

ID=37251930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030090522A KR20050058591A (ko) 2003-12-12 2003-12-12 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20050058591A (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100788502B1 (ko) * 2006-04-20 2007-12-24 엘지전자 주식회사 액분사 디스펜서용 세정장치
KR100937849B1 (ko) * 2005-12-29 2010-01-21 엘지디스플레이 주식회사 노즐 세정장치 및 세정방법
KR100940405B1 (ko) * 2007-11-30 2010-02-02 주식회사 동부하이텍 포토레지스트 노즐팁 세정장치
KR101416632B1 (ko) * 2012-09-27 2014-07-08 (주)와이티에스 소형 디스플레이 패널 세정장치

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100937849B1 (ko) * 2005-12-29 2010-01-21 엘지디스플레이 주식회사 노즐 세정장치 및 세정방법
KR100788502B1 (ko) * 2006-04-20 2007-12-24 엘지전자 주식회사 액분사 디스펜서용 세정장치
KR100940405B1 (ko) * 2007-11-30 2010-02-02 주식회사 동부하이텍 포토레지스트 노즐팁 세정장치
KR101416632B1 (ko) * 2012-09-27 2014-07-08 (주)와이티에스 소형 디스플레이 패널 세정장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101255294B1 (ko) 인쇄장비 및 이를 이용한 액정표시소자 제조방법
US9997324B2 (en) Apparatus for fabricating flat panel display
KR100493870B1 (ko) 액정 표시장치의 씰 패턴 형성방법
KR100347436B1 (ko) 액정 표시장치의 씰 패턴 형성방법 및 그 방법에 의해제조된 씰 패턴
US20100095860A1 (en) Printing system and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
US20100308501A1 (en) Apparatus and method for fabricating flat panel display device
KR20050058591A (ko) 노즐의 세척 장치 및 그 세척 방법
KR20070121165A (ko) 인쇄장비, 패턴형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치제조방법
GB2433724A (en) Printing device and printing method using the same
US7390422B2 (en) Method for manufacturing printing plate
KR100922797B1 (ko) 패턴 형성장치 및 형성방법
KR100763168B1 (ko) 수직형 세정장치
KR20130020069A (ko) 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
US7445724B2 (en) Method for manufacturing printing plate
KR20050055410A (ko) 노즐 세정장치
US7447559B2 (en) Apparatus and method of forming a photoresist pattern, and repair nozzle
KR101086486B1 (ko) 액정표시장치의 제조장치
KR100987674B1 (ko) 노즐 세정장치 및 방법
JP4200740B2 (ja) 液晶表示装置における基板の洗浄装置及び洗浄方法
US7441502B2 (en) Printing apparatus and method for forming patterns for liquid crystal display device using the same
KR20080057038A (ko) 기판의 에지비드 제거장치
KR20060001657A (ko) 포토레지스트 도포장치
KR20060065972A (ko) 액정 표시 장치용 세정 장치
KR100370112B1 (ko) Tft-어레이 제조공정용 플로우팅 척
KR20040090149A (ko) 패턴형성을 위한 비회선 방식의 포토레지스트 도포장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid