KR20050027346A - Isopropyl alcohol supply apparatus in wet cleaning equipment and method for supplying isopropyl alcohol by use of the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 제조 공정에 사용되는 습식 세정 설비의 이소프로필 알코올 공급 장치 및 이를 이용한 이소프로필 알코올 공급 방법에 관한 것으로, 특히 습식 세정 설비의 작동 정체시 유기 세정조 내에 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 장치 및 이 장치를 이용한 이소프로필 알코올의 공급 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an isopropyl alcohol supply apparatus for a wet cleaning apparatus and a method for supplying isopropyl alcohol using the same, in particular, an apparatus for supplying isopropyl alcohol into an organic cleaning tank when the wet cleaning apparatus is stopped in operation. And a method for supplying isopropyl alcohol using this apparatus.
일반적으로 반도체 소자는 웨이퍼 상에서 다양한 단위 공정을 수행함으로써 제조되고, 이러한 단위 공정의 수행시 각종 반도체 제조 설비를 이용하게 된다. 이러한 반도체 제조 공정 중 습식 공정은, 주로 탈이온수(deionized water)와 다양한 화학 약액(liquid chemicals)을 사용하여 반도체 웨이퍼의 세정(cleaning) 또는 식각(etching)을 수행하는 공정이다.Generally, a semiconductor device is manufactured by performing various unit processes on a wafer, and various semiconductor manufacturing facilities are used when performing such a unit process. In the semiconductor manufacturing process, a wet process is a process of mainly cleaning or etching a semiconductor wafer by using deionized water and various liquid chemicals.
반도체 장치가 고밀도, 고집적화되고 웨이퍼의 직경이 커짐에 따라, 식각, 이온주입, 확산, 금속화(metallization) 등의 공정을 거치면서 반도체 웨이퍼 상에 발생되는 불순물 입자, 오염 물질 등이 제품의 수율에 큰 영향을 미치게 된다. 이 때문에 반도체 제조 공정에 있어서, 웨이퍼 상에 존재하는 여러 오염 물질을 제거하기 위한 세정 공정을 필수적으로 수행하게 된다. 통상적으로, 웨이퍼 상에 존재하는 미립자를 포함한 금속 불순물, 유기 물질, 표면 피막 등의 다양한 오염 물질을 제거하기 위한 세정 공정으로 습식 세정 공정을 이용한다.As semiconductor devices become denser, higher density, and wafer diameters become larger, impurities, contaminants, etc., generated on semiconductor wafers during etching, ion implantation, diffusion, metallization, etc., are affected by the yield of the product. It will have a big impact. For this reason, in the semiconductor manufacturing process, it is essential to perform a cleaning process for removing various contaminants present on the wafer. Typically, a wet cleaning process is used as a cleaning process for removing various contaminants such as metal impurities, organic materials, surface coatings and the like including fine particles present on the wafer.
습식 세정 공정에서는 배쓰(bath)라고 불리는 세정조에 수용된 액상의 화학 약제(세정제)에 웨이퍼를 침지시킴으로써 오염 물질을 제거한다. 이러한 습식 세정 공정을 수행하기 위해서, 웨이퍼 이송 로봇을 사용하여 로더(loader)부터 여러 단계의 세정조로 웨이퍼를 이송하게 된다. 각 세정조로 이송된 웨이퍼는 미리 설정된 온도에서 일정 시간 동안 세정조 내의 화학 약제 내에 침지된다. 여러 단계의 세정 작업을 거친 후에는 웨이퍼 상에 남아 있는 세정제를 세척하거나 린즈해주고 건조기로 웨이퍼를 건조시킨다.In the wet cleaning process, contaminants are removed by immersing the wafer in a liquid chemical agent (cleaning agent) contained in a cleaning bath called a bath. In order to perform such a wet cleaning process, a wafer transfer robot is used to transfer wafers from a loader to a cleaning tank of various stages. The wafer transferred to each cleaning tank is immersed in the chemical agent in the cleaning tank for a predetermined time at a predetermined temperature. After several stages of cleaning, the remaining detergent on the wafer is cleaned or rinsed and the wafer is dried with a dryer.
금속화 공정 이후의 프로세스에서 사진 식각 공정을 수행한 후 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 습식 세정 공정을 이용할 수 있다. 이 경우, 액상의 화학 약제를 사용하여 웨이퍼 상의 잔여 포토레지스트를 제거해 준다. 이 때 사용하는 화학 약제는 반도체 공정 중 형성된 웨이퍼 표면의 유기 성분 및 잔여 포토레지스트를 제거할 수 있는 유기 약제로서 EKC245 또는 SMS50L 등이 있다. 특히, 이러한 유기 약제는 금속화 공정 이후의 잔여 포토레지스트를 제거할 수 있는 화학 약제 성분을 포함한다.Wet cleaning may be used to remove residual photoresist after performing the photolithography process in a process after the metallization process. In this case, a liquid chemical agent is used to remove residual photoresist on the wafer. The chemical agent used at this time is EKC245 or SMS50L as an organic agent that can remove organic components and residual photoresist on the wafer surface formed during the semiconductor process. In particular, such organic agents include a chemical agent component capable of removing residual photoresist after the metallization process.
도 1은 습식 세정 설비 내에서 반도체 웨이퍼가 통과하는 복수의 세정조를 개략적으로 나타낸 모식도이다. 특히, 도 1에 도시된 복수의 세정조들은 절연층 등의 사진 식각 공정을 수행한 후 웨이퍼 상에 남아 있는 잔여 포토레지스트를 제거하기 위한 것이다.1 is a schematic diagram schematically showing a plurality of cleaning tanks through which a semiconductor wafer passes in a wet cleaning apparatus. In particular, the plurality of cleaning baths shown in FIG. 1 are for removing residual photoresist remaining on the wafer after performing a photolithography process such as an insulating layer.
도 1을 참조하면, 웨이퍼 상의 잔여 포토레지스트를 제거하기 위한 화학 약제에 웨이퍼(20)를 침지시키기 위해 로봇 암(robot arm; 10)이 웨이퍼(20)를 세정조 방향으로 이송한다. 이 세정 공정은 여러 단계의 세정조를 거침으로써 이루어진다. 먼저 제 1 유기 약제가 담겨져 있는 세정조(30)로 웨이퍼(20)를 이송하여 이 세정조(30) 내의 제 1 유기 약제에 웨이퍼(20)를 침지시킨다. 이 세정조(30) 내의 제 1 유기 약제는 미리 설정된 온도로 유지되고, 제 1 유기 약제에 웨이퍼가 침지되는 시간은 습식 세정 설비 상에서 미리 설정되어 있다. 예를 들어, 로봇 암(10)에 의해 이송된 웨이퍼(20)는 세정조(30) 내에 담겨진 제 1 유기 약제에 약 300 초 동안 약 65℃ 의 온도에서 침지될 수 있다. Referring to FIG. 1, a robot arm 10 transfers the wafer 20 in the direction of the cleaning bath to immerse the wafer 20 in a chemical agent for removing residual photoresist on the wafer. This washing process is performed by going through several stages of washing tanks. First, the wafer 20 is transferred to the cleaning tank 30 in which the first organic chemicals are contained, and the wafer 20 is immersed in the first organic chemicals in the cleaning tank 30. The 1st organic chemical | medical agent in this washing tank 30 is hold | maintained at the preset temperature, and the time when a wafer is immersed in a 1st organic chemicals is preset on a wet cleaning installation. For example, the wafer 20 transferred by the robot arm 10 may be immersed in a first organic medicament contained in the cleaning bath 30 at a temperature of about 65 ° C. for about 300 seconds.
그 후, 제 1 유기 약제에 의한 처리를 받은 웨이퍼는 다음 단계의 세정조(40)로 이송되어, 이 세정조(40) 내에 담겨진 제 2 유기 약제에, 예를 들어 약 300초 동안 약 65℃의 온도에서 침지된다. Thereafter, the wafer subjected to the treatment with the first organic chemical is transferred to the cleaning tank 40 of the next step, and the second organic chemical contained in the cleaning tank 40 is, for example, about 65 ° C. for about 300 seconds. Is immersed at a temperature of.
이와 같이 2 단계의 세정 작업을 거친 웨이퍼(20)는 이소프로필 알코올((CH3)2CHOH)이 담겨져 있는 세정조(50)로 이송되어 예를 들어, 약 250초 동안 이소프로필 알코올에 침지됨으로써 웨이퍼(20) 상에 묻어 있는 유기 약제가 제거되도록 한다. 웨이퍼 상의 잔여 포토레지스트를 제거하기 위한 유기 약제는 반응성이 큰 화학 물질로서 장시간 웨이퍼에 가해주면 웨이퍼가 손상된다. 따라서, 잔여 포토레지스트를 제거한 후에는 즉시 이소프로필 알코올로 웨이퍼에 묻어 있는 포토레지스트 제거용 유기 약제를 클리닝해 주어야 한다. 이소프로필 알코올은 휘발성이 강한 화합물로서 포토레지스트 또는 유기 성분을 제거해주는 세정조 다음의 배쓰에 담겨져서 전술한 바와 같은 포토레지스트 제거용 유기 약제 등을 클리닝하는 데에 사용된다. 이소프로필 알코올에 의한 클리닝 처리를 받은 후, 웨이퍼(20)는 린즈액이 담겨진 세정조(60)에서 예를 들어, 약 300초 동안 린즈 처리를 받고, 건조기에 의해 건조된다.The wafer 20 subjected to the two-step cleaning operation as described above is transferred to the cleaning tank 50 containing the isopropyl alcohol ((CH 3 ) 2 CHOH) and, for example, is immersed in isopropyl alcohol for about 250 seconds. The organic medicament on the wafer 20 is removed. Organic chemicals for removing residual photoresist on a wafer are highly reactive chemicals that can damage the wafer if applied to the wafer for a long time. Therefore, immediately after removing the remaining photoresist, the organic agent for removing photoresist on the wafer should be cleaned with isopropyl alcohol. Isopropyl alcohol is a highly volatile compound which is placed in a bath following a cleaning bath for removing photoresist or organic components and used to clean organic chemicals for removing photoresist as described above. After the cleaning treatment with isopropyl alcohol, the wafer 20 is subjected to a rinsing treatment, for example, for about 300 seconds in the cleaning tank 60 containing the rinse liquid, and dried by a dryer.
도 2는 종래의 유기 세정조 시스템(1000)을 개략적으로 나타낸 도면이다. 이 유기 세정조 시스템(1000)은, 예를 들어 도 1에 도시된 바와 같은 세정 설비 내에 포함된 것으로, 잔여 포토레지스트를 제거 하기 위한 유기 약제가 담겨져 있는 세정조(130)를 기본 구성 요소로 하고 있다.2 is a view schematically showing a conventional organic cleaning tank system 1000. The organic cleaning tank system 1000 is included in, for example, a cleaning facility as shown in FIG. 1, and has a cleaning tank 130 containing organic medicine for removing residual photoresist as a basic component. have.
도 2를 참조하면, 잔여 포토레지스트 제거용 유기 약제가 수용되는 세정조(130)는 내조(130a)와 외조(130b, 130c)를 구비한다. 유기 약제는 2 종류의 배관 라인을 통해 세정조(130)로 공급된다. 즉, 유기 약제 공급원과 연결된 배관은 주공급 라인( main supply line; 110a)와 부공급 라인(sub supply line; 110b)으로 분기되어 각각 특정 방식에 의해 세정조(130)에 유기 약제를 공급한다. Referring to FIG. 2, the cleaning tank 130 in which the organic chemicals for removing residual photoresist is accommodated includes an inner tank 130a and outer tanks 130b and 130c. The organic medicine is supplied to the washing tank 130 through two kinds of piping lines. That is, the pipe connected to the organic drug supply source is branched into the main supply line 110a and the sub supply line 110b to supply the organic medicine to the cleaning tank 130 in a specific manner.
주공급 라인(110a)은 밸브(101)를 통해 유기 약제 공급실(120)과 연결되어 있고 또다른 밸브(102a)의 개폐 작업에 의해 유기 약제를 내조(130a)로 공급할 수 있도록 연장되어 있다. 세정조(130) 내에 담겨져 있는 유기 약제의 수명(life time)이 다하여 세정조(130) 내의 유기 약제를 완전히 교체하고자 할 때 주공급 라인(110b)를 사용된다. 이에 대하여, 밸브(102b)를 통해 개폐되는 부공급 라인(110b)은 소모되는 유기 약제를 보충하여 단위 시간당 일정량의 유기 약제를 외조(130b)에 공급할 수 있도록 구성된다. 웨이퍼는 내조(130a)에 침지되면서 유기 약제에 의한 처리를 받는다. 세정조(130) 내의 유기 약제는 펌프(160)와 필터(170)를 포함하는 재생 순환 시스템에 의해서 재생 사용된다. 즉 웨이퍼 상의 포토레지스트를 제거하는 동안 단위 시간당 일정량의 유기 약제는 세정조(130)의 바닥으로부터 아래로 흘러 필터(170)에 의해 필터링된다. 필터링된 유기 약제는 히터(180)에 의해 가열된 후 내조(130a)로 유입되어 다시 사용된다.The main supply line 110a is connected to the organic drug supply chamber 120 through the valve 101 and extends to supply the organic medicine to the inner tank 130a by the opening / closing operation of another valve 102a. The main supply line 110b is used when the life time of the organic medicine contained in the cleaning tank 130 is exhausted and the organic medicine in the cleaning tank 130 is to be completely replaced. On the other hand, the sub-supply line 110b, which is opened and closed through the valve 102b, is configured to replenish the consumed organic medicament and to supply a predetermined amount of the organic medicament to the outer tank 130b. The wafer is immersed in the inner tank 130a and subjected to the treatment with the organic chemical. The organic medicine in the washing tank 130 is used for regeneration by a regeneration circulation system including the pump 160 and the filter 170. That is, while removing the photoresist on the wafer, a certain amount of organic chemical per unit time flows down from the bottom of the cleaning tank 130 and is filtered by the filter 170. The filtered organic drug is heated by the heater 180 and then introduced into the inner tank 130a and used again.
만약, 세정조(130) 내의 유기 약제가 그 수명을 다하여 세정조(130) 내의 유기 약제를 완전히 교체하고자 한다면, 일단 작업자의 밸브 조작에 의해 세정조(130)의 바닥으로부터 유기 용제를 완전히 유출시킨다. 유기 용제가 완전히 유출된 후에, 외조(130c)에 설치된 드레인 체크 센서(drain check sensor; 142)는 유기 용제의 완전 유출을 감지하여 오프(off) 신호를 보내게 된다. 이에 따라 주공급 라인(110a)에 설치된 유기 약제 공급실(120)로부터 내조(130a)로 유기 약제가 공급된다. 유기 약제가 공급되어 세정조(130)를 채우게 되면, 외조(130c)에 설치된 스톱 센서(stop sensor; 141)는 이를 감지하여 온(on) 신호를 보내게 된다. 이에 따라, 더 이상 유기 약제가 내조로 공급되지 않도록 밸브(102a)가 폐쇄된다.If the organic medicament in the cleaning tank 130 reaches the end of its life and completely replaces the organic medicament in the cleaning tank 130, the organic solvent is completely discharged from the bottom of the cleaning tank 130 by a valve operation of an operator. . After the organic solvent has completely flowed out, the drain check sensor 142 installed in the outer tank 130c detects the complete outflow of the organic solvent and sends an off signal. Accordingly, the organic drug is supplied from the organic drug supply chamber 120 installed in the main supply line 110a to the inner tank 130a. When the organic medicine is supplied to fill the cleaning tank 130, the stop sensor 141 installed in the outer tank 130c detects this and sends an on signal. As a result, the valve 102a is closed so that the organic medicine is no longer supplied to the inner tank.
이와 같은 세정조 시스템을 이용한 세정 공정에 있어서, 잔여 포토레지스트를 제거하기 위하여 EKC245 등의 유기 약제를 사용하는데, 웨이퍼를 이러한 유기 약제에 침지하고 있는 동안, 로봇 설비의 이상과 같이, 웨이퍼를 다음 세정조 또는 배쓰로 이송하지 못하는 설비 이상이 발생될 수 있다. 예를 들어, 도 1에서 설명한 세정조의 설정 온도가 미리 설정된 값을 벗어나는 경우 온도 센서가 이를 감지하여 자동적으로 습식 공정의 진행을 중단시킬 수 있다. 또한, 웨이퍼 이송용 로봇에 설치된 로봇 암의 교정이 잘못되어 웨이퍼 이송 중 다른 설비와 충돌을 일으키는 경우에도 습식 공정의 진행이 중단될 수 있다. 이러한 경우, 웨이퍼가 다음 배쓰로 이송되지 못하고 포토레지스트 제거용 유기 약제 내에서 계속 침지된 상태로 정체되어 미리 설정된 침지 시간을 초과하게 된다. 그런데, 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 사용하는 유기 약제는 반응성이 상당하기 때문에, 웨이퍼가 미리 설정된 시간 이상으로 장시간동안 유기 약제 내에 침지되면 웨이퍼에 손상을 주게 된다. 이에 따라 웨이퍼에 품질 불량을 발생시킬 수 있게 된다.In the cleaning process using such a cleaning tank system, an organic chemical agent such as EKC245 is used to remove the remaining photoresist. While the wafer is immersed in such organic chemicals, the wafer may be subjected to Equipment failures that cannot be transferred to the bath or bath may occur. For example, when the set temperature of the cleaning tank described in FIG. 1 is out of a predetermined value, the temperature sensor may detect this and automatically stop the progress of the wet process. In addition, when the robot arm installed in the wafer transfer robot is incorrectly calibrated and causes collision with another facility during wafer transfer, the wet process may be stopped. In such a case, the wafer is not transferred to the next bath and is still immersed in the organic medicament for removing photoresist, thus exceeding a preset immersion time. However, since the organic medicament used to remove the residual photoresist is highly reactive, damage to the wafer will occur if the wafer is immersed in the organic medicament for a long time over a predetermined time. As a result, quality defects can be generated in the wafer.
따라서, 습식 공정 진행의 정체를 초래하는 설비 이상을 발견한 경우, 작업자 또는 설비 관리자는, 가능한 한 빠른 시간 내에 세정조 내의 유기 약제를 유출시켜야 한다. 이러한 유기 약제의 유출은 밸브 레버의 조작 등 작업자의 수작업에 의해 이루어 질 수 있다.Therefore, when an equipment abnormality is found that causes congestion of wet process progression, the worker or facility manager should drain the organic chemical in the cleaning tank as soon as possible. Outflow of such organic chemicals may be performed by a worker's manual operation such as operation of a valve lever.
이와 같이 설비 이상으로 습식 공정 진행이 정체된 경우, 유기 약제를 세정조로부터 유출시킨 후에는, 웨이퍼를 그대로 공기 중에 방치하는 것은 바람직하지 않다. 왜냐하면, 유기 약제가 묻어있는 상태에서 웨이퍼를 공기 중에서 자연 건조를 시키면 웨이퍼 불량이 생길 수 있기 때문이다. 그렇다고 유기 약제를 세정조로부터 유출시킨 후, 웨이퍼를 탈이온수 또는 초순수 내에 장시간 담가 놓을 수도 없는데, 이는 습식 세정 공정 이전에 형성된 금속 라인이 부속될 염려가 있기 때문이다. 물론, 습식 세정 공정 중 발생한 설비 이상이 웨이퍼 불량을 발생시키지 않을 정도로 단시간 내에 해결되면 문제가 없으나, 로봇 설비 이상 등 대부분의 설비 이상은 장시간의 보수 조치를 요한다.In this way, when the progress of the wet process is stagnated beyond the facility, it is not preferable to leave the wafer in the air as it is after the organic chemical is discharged from the washing tank. This is because if the wafer is naturally dried in the air in which the organic chemical agent is buried, wafer defects may occur. Nevertheless, after leaving the organic agent out of the cleaning bath, the wafer may not be immersed in deionized water or ultrapure water for a long time because the metal line formed before the wet cleaning process may be attached. Of course, there is no problem if the equipment abnormality generated during the wet cleaning process is solved within a short time so as not to cause wafer defects, but most of the equipment abnormalities such as robot equipment abnormalities require long-term maintenance measures.
이와 같은 문제점을 해결하기 위해, 습식 세정 공정 중 설비 이상으로 인한 습식 공정의 정체시 웨이퍼가 침지되어 있는 세정조(예를 들어, 도 1의 참조번호 40 참조)로부터 유기 약제를 유출시키고 다음 세정조(예를 들어, 도 1의 참조번호 50 참조)에 담겨져 있는 이소프로필 알코올을 떠서 유기 약제가 담겨져 있던 세정조로 옮기는 작업을 수행한다. 이에 의하여 웨이퍼 상에 묻어 있는 반응성 유기 약제를 클리닝하게 된다. 그러나, 이는 매우 번거로운 작업으로 작업자의 작업 로드를 증가시키는 문제점을 가지고 있다.In order to solve this problem, the organic chemicals are discharged from the cleaning tank (for example, reference numeral 40 of FIG. 1) in which the wafer is immersed during the congestion of the wet process due to a malfunction of the equipment during the wet cleaning process, and then (See, for example, reference numeral 50 in Fig. 1) is carried out to move the isopropyl alcohol contained in the cleaning tank containing the organic medicine. This cleans the reactive organic agent on the wafer. However, this is a very cumbersome work and has a problem of increasing the work load of the worker.
이 밖에도, 습식 공정 정체 시 유기 약제에 의한 웨이퍼 불량을 방지하는 방법으로는 집게(tweezer)를 사용하여 웨이퍼를 1 매씩 다음 세정조, 즉 이소프로필 알코올이 담겨져 있는 세정조로 로봇 암의 행정 거리만큼 이동시켜주어 이소프로필 알코올 안으로 침지시켜주는 방법이 있다. 그러나 이 경우에도 집게를 사용하여 웨이퍼를 1 매씩 옮기는 도중에 웨이퍼의 긁힘(scratch) 이나 웨이퍼의 파손(broken)이 발생할 수 있는 등 2차적 피해가 나타날 수 있다. 또한, 웨이퍼를 1매씩 옮기는 작업은 매우 비효율적이다.In addition, as a method of preventing wafer defects caused by organic chemicals during wet process stagnation, the wafers are moved one by one using a tweezer to the next cleaning tank, that is, a cleaning tank containing isopropyl alcohol, by the stroke distance of the robot arm. There is a method of dipping into isopropyl alcohol. However, even in this case, secondary damage may occur such as scratching of the wafer or breaking of the wafer during the transfer of the wafers by forceps. In addition, the work of transferring the wafers one by one is very inefficient.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 습식 세정 공정 중 설비 이상으로 인한 습식 공정의 정체시 유기 약제로 인한 웨이퍼의 불량을 효과적으로 방지할 수 있는 이소프로필 알코올 공급 장치를 제공하는 데에 있다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the above problems, to provide an isopropyl alcohol supply device that can effectively prevent the defect of the wafer due to the organic drug during the stagnation of the wet process due to the abnormal installation of the equipment during the wet cleaning process. It's there.
또한 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 습식 세정 공정 중 설비 이상으로 인한 습식 공정의 정체시 유기 약제로 인한 웨이퍼의 불량을 효과적으로 방지할 수 있는 이소프로필 알코올 공급 장치를 사용하여 유기 약제 세정조 내에 이소프로필 알코올을 공급하는 방법을 제공하는 데에 있다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to use an isopropyl alcohol supply device that can effectively prevent the defect of the wafer due to the organic drug during the stagnation of the wet process due to the equipment failure during the wet cleaning process in the organic chemical cleaning tank It is to provide a method for supplying isopropyl alcohol.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치는, 습식 세정 설비 내에 설치되는 이소프로필 알코올 공급 장치로서, 이소프로필 알코올이 수용되어 있는 이소프로필 알코올 공급실, 상기 이소프로필 알코올 공급실로부터 유기 약제를 수용하는 세정조로 이소프로필 알코올을 공급할 수 있도록 상기 이소프로필 알코올 공급실에 연결된 배관, 상기 배관 상에 설치된 매뉴얼 밸브, 및 상기 매뉴얼 밸브 후단측의 상기 배관 부분 상에 설치된 에어 밸브를 구비하고, 세정 공정 정체시 상기 세정조로부터 상기 유기 약제가 유출된 후 상기 세정조로 이소프로필 알코올을 공급한다.In order to achieve the above technical problem, the isopropyl alcohol supplying device according to the present invention is an isopropyl alcohol supplying device installed in a wet cleaning equipment, and isopropyl alcohol supplying chamber in which isopropyl alcohol is accommodated, And a pipe connected to the isopropyl alcohol supply chamber so that the isopropyl alcohol can be supplied to the cleaning tank containing the medicine, a manual valve installed on the pipe, and an air valve installed on the pipe portion on the rear side of the manual valve. When the process is stalled, the organic drug flows out of the washing tank and isopropyl alcohol is supplied to the washing tank.
상기 이소프로필 알코올 공급 장치에 있어서, 상기 유기 약제는 웨이퍼 상에 남아 있는 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 사용하는 약제일 수 있다.In the isopropyl alcohol supply device, the organic medicament may be a medicament used to remove residual photoresist remaining on the wafer.
상기 이소프로필 알코올 공급 장치에서, 상기 에어 밸브의 개폐 동작은 솔레노이드 밸브에 의해 제어되는 것이 바람직하다.In the isopropyl alcohol supply device, the opening and closing operation of the air valve is preferably controlled by a solenoid valve.
또한, 상기 이소프로필 알코올 공급 장치는, 드레인 체크 센서 및 스톱 센서를 더 구비할 수 있다. 이 경우, 상기 드레인 체크 센서는 세정 공정 정체시 상기 세정조 내의 유기 약제가 완전히 유출되었음을 감지하여 상기 에어 밸브의 개방 동작으로 상기 이소프로필 알코올 공급실로부터 상기 세정조로 이소프로필 알코올을 공급할 수 있게 하고, 상기 스톱 센서는 상기 세정조에 이소프로필 알코올이 완전히 충전되었음을 감지하여 상기 에어 밸브의 폐쇄 동작으로 상기 이소프로필 알코올 공급실로부터 상기 세정조로 공급되는 이소프로필 알코올의 공급을 차단할 수 있게 한다.The isopropyl alcohol supply device may further include a drain check sensor and a stop sensor. In this case, the drain check sensor detects that the organic medicament in the cleaning tank has completely leaked when the cleaning process is stalled, so that isopropyl alcohol can be supplied from the isopropyl alcohol supply chamber to the cleaning tank by opening the air valve. The stop sensor detects that the cleaning tank is completely filled with isopropyl alcohol, and closes the air valve so that the supply of isopropyl alcohol supplied from the isopropyl alcohol supply chamber to the cleaning tank can be blocked.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 이소프로필 알코올 공급 방법은, 상기 이소프로필 알코올 공급 장치를 이용하여 세정조에 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 방법으로서, 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정 정체시 유기 약제가 수용된 세정조로부터 유기 약제를 유출시키는 단계. 및 유기 약제가 상기 세정조로부터 유출된 후 상기 이소프로필 알코올 공급 장치에 의해 상기 세정조에 이소프로필 알코올을 공급하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above another technical problem, the isopropyl alcohol supplying method according to the present invention is a method for supplying isopropyl alcohol to a washing tank by using the isopropyl alcohol supplying device, and the washing process is stagnant due to an abnormality of the cleaning equipment. Distilling the organic medicine from the cleaning tank in which the organic medicine is contained. And supplying isopropyl alcohol to the washing tank by the isopropyl alcohol supplying device after the organic drug is discharged from the washing tank.
이 경우, 상기 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정의 정체는 상기 세정조에서의 웨이퍼 침지 시간이 설정 시간보다 100초 이상 초과되었을 때 발생한다고 보는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that the stagnation of the cleaning process due to the abnormality of the cleaning equipment occurs when the wafer immersion time in the cleaning tank exceeds 100 seconds or more than the set time.
상기 이소프로필 알코올 공급 방법에 있어서, 상기 유기 약제는 웨이퍼 상에 남아 있는 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 사용하는 약제일 수 있다.In the isopropyl alcohol supply method, the organic medicament may be a medicament used to remove residual photoresist remaining on the wafer.
또한, 본 발명에 의한 이소프로필 알코올 공급 방법은, 상기 드레인 체크 센서 및 스톱 센서를 구비한 이소프로필 알코올 공급 장치를 이용하여 세정조에 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 방법으로서, 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정의 정체시 유기 약제가 수용된 세정조로부터 유기 약제를 유출시키는 단계, 상기 이소프로필 알코올 공급 장치의 상기 드레인 체크 센서에 의해 유기 약제가 상기 세정조로부터 완전히 유출되었음을 확인하는 단계, 상기 드레인 체크 센서에 의해 유기 약제 유출을 확인한 후, 상기 이소프로필 알코올 공급 장치의 상기 에어 밸브를 개방시킴으로써 상기 세정조에 이소프로필 알코올을 공급하는 단계, 상기 이소프로필 알코올 공급 장치의 상기 스톱 센서에 의해 상기 세정조에 이소프로필 알코올이 충전되었음을 확인하는 단계, 및 상기 스톱 센서에 의해 이소프로필 알코올의 충전을 확인한 후, 상기 이소프로필 알코올 공급 장치의 상기 에어 밸브를 폐쇄시킴으로써 이소프로필 알코올의 공급을 중단시키는 단계를 포함한다.In addition, the isopropyl alcohol supplying method according to the present invention is a method for supplying isopropyl alcohol to the cleaning tank by using the isopropyl alcohol supply device having the drain check sensor and the stop sensor, cleaning due to abnormality of the cleaning equipment Leaking the organic medicament from the cleaning tank in which the organic medicament is accommodated during the congestion of the process; confirming that the organic medicament has been completely discharged from the cleaning tank by the drain check sensor of the isopropyl alcohol supply device; Confirming the outflow of the organic drug by the step of supplying isopropyl alcohol to the cleaning tank by opening the air valve of the isopropyl alcohol supply device, and isopropyl alcohol to the cleaning tank by the stop sensor of the isopropyl alcohol supply device. Has been charged Confirming the filling of the isopropyl alcohol by the stop sensor, and then stopping the supply of isopropyl alcohol by closing the air valve of the isopropyl alcohol supply device.
이 경우, 상기 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정의 정체는 상기 세정조에서의 웨이퍼 침지 시간이 설정 시간보다 100초 이상 초과되었을 때 발생한다고 보는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that the stagnation of the cleaning process due to the abnormality of the cleaning equipment occurs when the wafer immersion time in the cleaning tank exceeds 100 seconds or more than the set time.
상기 이소프로필 알코올 공급 방법에 있어서, 상기 유기 약제는 웨이퍼 상에 남아 있는 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 사용하는 약제일 수 있다. 또한, 상기 이소프로필 알코올 공급 방법에 있어서, 상기 에어 밸브의 개폐 동작은 솔레노이드 밸브에 의해 제어되는 것이 바람직하다.In the isopropyl alcohol supply method, the organic medicament may be a medicament used to remove residual photoresist remaining on the wafer. In addition, in the isopropyl alcohol supply method, the opening and closing operation of the air valve is preferably controlled by a solenoid valve.
본 발명에 따라 이소프로필 알코올을 세정조에 공급하여 상기 세정조 내에 수용된 웨이퍼가 손상되지 않도록 한 후에는, 로봇 암 등의 세정 설비를 보수한다. 세정 설비의 보수 작업에 의해 설비 정상이 확인되면 상기 세정조 내에 있는 웨이퍼는 다음 단계의 세정 장치(예를 들어 다음 단계의 세정조)로 이송된다. 웨이퍼가 다음 단계의 세정 장치로 이송된 것이 확인되면, 상기 세정조 내의 이소프로필 알코올을 유기 약제로 약액 교환을 행한다. 이소프로필 알코올로부터 유기 약제로의 약액 교환은 상기 세정조로부터 이소프로필 알코올을 유출시키고 상기 세정조에 유기 약제를 충전시킴으로써 이루어질 수 있다.After the isopropyl alcohol is supplied to the cleaning tank according to the present invention so that the wafers contained in the cleaning tank are not damaged, the cleaning equipment such as the robot arm is repaired. When the normality of the equipment is confirmed by the maintenance work of the cleaning equipment, the wafer in the cleaning tank is transferred to the cleaning apparatus of the next stage (for example, the cleaning tank of the next stage). When it is confirmed that the wafer has been transferred to the cleaning apparatus of the next step, chemical liquid exchange is performed with isopropyl alcohol in the cleaning tank with an organic medicine. The chemical liquid exchange from the isopropyl alcohol to the organic medicament may be accomplished by distilling isopropyl alcohol from the rinsing tank and filling the rinsing tank with the organic medicament.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 다음에 예시되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 보호 범위가 다음에 설명되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments illustrated below may be modified in many different forms, and the scope of protection of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치를 구비한 유기 세정조 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing an organic cleaning tank system having an isopropyl alcohol supply device according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 도 3에 도시된 유기 세정조 시스템(2000)은 도 2에 도시된 바와 같은 유기 세정조 시스템(도 2의 참조번호 1000 참조)에 본 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치(200)가 더 추가되어 구성된다. 유기 세정조 시스템(2000)의 이소프로필 알코올 공급 장치(200)는 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정의 정체시 세정조(130)에 이소프로필을 공급할 수 있도록 구성된다.Referring to FIG. 3, the organic cleaning bath system 2000 shown in FIG. 3 is an isopropyl alcohol supply device according to the present embodiment in an organic cleaning bath system (see reference numeral 1000 of FIG. 2) as shown in FIG. 2. 200 is further configured. The isopropyl alcohol supply device 200 of the organic cleaning tank system 2000 is configured to supply isopropyl to the cleaning tank 130 when the cleaning process is stopped due to an abnormality of the cleaning equipment.
이소프로필 알코올 공급 장치(200)는 이소프로필 알코올 공급실(210), 배관(220), 매뉴얼 밸브(manual valve; 230), 에어 밸브(air valve; 240), 드레인 체크 센서(drain check sensor; 242), 및 스톱 센서(stop sensor; 241)를 구비한다. 에어 밸브(240)는 이소프로필 알코올 공급실(210)으로부터 세정조(130)로의 이소프로필 알코올 공급을 차폐하는 데에 사용되며, 전기적 신호에 의해 작동되는 솔레노이드 밸브(도시 안됨)에 의한 공기(air)의 차폐 동작을 통해 에어 밸브(240)의 동작이 제어된다. 이에 대하여 매뉴얼 밸브(230)는 에어 밸브(240)의 작동 불량이나 고장에 대비하기 위한 것으로 정상적인 동작 중에는 개방된 상태를 유지한다. 에어 밸브(240)의 폐쇄 동작이 제대로 이루어지지 않는 경우, 매뉴얼 밸브(230)를 폐쇄시킴으로써, 이소프로필 알코올 공급실(210)로부터 세정조(130)로의 이소프로필 알코올 공급을 차단시킬 수 있다. 배관(220)의 출구는 세정조(130)의 내조(130a)를 향하여 배치되어 있어 에어 밸브(240)의 개방시 이소프로필 알코올이 내조(130a)에 공급되도록 한다.The isopropyl alcohol supply device 200 is an isopropyl alcohol supply chamber 210, a pipe 220, a manual valve 230, an air valve 240, a drain check sensor 242. And a stop sensor 241. The air valve 240 is used to shield the isopropyl alcohol supply from the isopropyl alcohol supply chamber 210 to the cleaning tank 130, and air by a solenoid valve (not shown) operated by an electrical signal. The operation of the air valve 240 is controlled through the shielding operation. On the other hand, the manual valve 230 is to prepare for the malfunction or failure of the air valve 240 and maintains an open state during normal operation. When the closing operation of the air valve 240 is not properly performed, the isopropyl alcohol supply from the isopropyl alcohol supply chamber 210 to the cleaning tank 130 may be blocked by closing the manual valve 230. The outlet of the pipe 220 is disposed toward the inner tank 130a of the cleaning tank 130 so that isopropyl alcohol is supplied to the inner tank 130a when the air valve 240 is opened.
여기서, 세정조(130)는 예를 들어, 도 2를 참조하여 설명한 바와 같이, 유기 약제를 수용하여 웨이퍼 상의 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 사용하는 세정조이다. 그러나, 본 발명에 의해 이소프로필 알코올을 공급 받는 세정조는 반드시 잔여 포토레지스트를 제거하기 위해 사용하는 세정조이어야 하는 것은 아니며, 웨이퍼 상에 존재하는 다른 유기 불순물을 제거하기 위한 세정조일 수도 있다.Here, the cleaning tank 130 is, for example, a cleaning tank used for accommodating organic chemicals and removing residual photoresist on the wafer, as described with reference to FIG. 2. However, the cleaning bath supplied with isopropyl alcohol by the present invention is not necessarily a cleaning bath used for removing residual photoresist, and may be a cleaning bath for removing other organic impurities present on the wafer.
본 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치의 동작 과정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the isopropyl alcohol supply apparatus according to the embodiment as follows.
우선, 도 3에 도시된 바와 같은 유기 세정조 시스템(2000)을 사용하여 습식 세정 공정을 수행하게 되면, 잔여 포토 레지스트 제거용 유기 약제가 수용되어 있는 세정조(130) 로 웨이퍼가 이송되어 일정 시간 동안 침지된다.First, when the wet cleaning process is performed using the organic cleaning bath system 2000 as shown in FIG. 3, the wafer is transferred to the cleaning bath 130 in which the organic medicament for removing residual photoresist is accommodated. Is soaked.
그런데, 웨이퍼 이송용 로봇의 고장 발생 등, 웨이퍼가 다음 배쓰 또는 세정조로 이송되지 못하는 세정 설비의 이상이 발생되면, 세정 공정이 정체된다. 이와 같은 세정 공정의 정체는 웨이퍼의 침지 시간이 미리 설정된 시간보다 100초 이상을 초과하였을 때 발생되는 것으로 보고 본 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치를 동작시키는 것이 바람직하다. 따라서, 웨이퍼의 침지 시간이 미리 설정된 시간보다 100초를 초과하지 않고 다시 세정 설비가 정상적으로 작동하면, 이소프로필 알코올 공급 장치를 동작시키지 않아도 된다. 그 정도의 침지 시간의 초과로는 웨이퍼가 손상된다고 보기 어렵기 때문이다.By the way, when an abnormality of the cleaning equipment in which the wafer cannot be transferred to the next bath or cleaning tank occurs, such as a failure of the wafer transfer robot, the cleaning process is stagnated. This stagnation of the cleaning process is considered to occur when the immersion time of the wafer exceeds 100 seconds or more than the preset time, it is preferable to operate the isopropyl alcohol supply apparatus according to this embodiment. Therefore, if the immersion time of the wafer does not exceed 100 seconds more than the preset time and the cleaning equipment is normally operated again, it is not necessary to operate the isopropyl alcohol supply device. This is because it is difficult to see that the wafer is damaged after the soaking time is exceeded.
일단, 세정 설비의 이상으로 세정 공정의 정체가 발생하면, 세정조 아래에 설치된 유출용 밸브의 개방 동작에 의해 유기 약제를 수용하고 있는 세정조(130)로부터 유기 약제가 유출된다. 이러한 유출 동작은 유기 세정조 시스템(2000)내에 설치된 제어 장치(도시 안됨)에 의해 자동적으로 이루어질 수 있다.Once the cleaning process is stagnated due to an abnormality of the cleaning equipment, the organic medicine is flowed out from the cleaning tank 130 containing the organic medicine by the opening operation of the outflow valve provided under the cleaning tank. This outflow operation may be automatically performed by a control device (not shown) installed in the organic cleaning tank system 2000.
유기 약제가 세정조(130)으로부터 완전히 유출되면, 이소프로필 알코올 공급 장치(200)의 드레인 체크 센서(242)가 이를 감지하여 오프(off) 신호를 발생시킨다. 이 오프 신호에 의해 이소프로필 알코올 공급 장치(200)의 에어 밸브(240)가 개방된다. 오프 신호에 의한 에어 밸브(240)의 개방은 전기적 신호에 의한 솔레노이드 밸브의 공기 개폐 동작에 의해 이루어질 수 있다. 즉, 드레인 체크 센서(242)가 오프 신호를 발생시키면, 이 오프 신호는 에어 밸브(240)의 동작을 제어하는 솔레노이드 밸브의 공기 개폐 동작을 전기적으로 제어하여 에어 밸브(240)가 개방되도록 한다.When the organic medicine is completely discharged from the washing tank 130, the drain check sensor 242 of the isopropyl alcohol supply device 200 detects this to generate an off signal. The off signal opens the air valve 240 of the isopropyl alcohol supply device 200. Opening of the air valve 240 by the off signal may be made by the air opening and closing operation of the solenoid valve by the electrical signal. That is, when the drain check sensor 242 generates an off signal, the off signal electrically controls the air opening and closing operation of the solenoid valve controlling the operation of the air valve 240 so that the air valve 240 is opened.
에어 밸브(240)가 개방되면, 이소프로필 알코올 공급 장치(200)의 이소프로필 알코올 공급실(210)로부터 세정조(130)로 이소프로필 알코올이 공급된다. 이러한 이소프로필 알코올의 공급은 에어 밸브(240)의 개방을 통해 이루어지는 것으로, 매뉴얼 밸브(220)는 평상시 개방된 상태를 유지한다.When the air valve 240 is opened, isopropyl alcohol is supplied from the isopropyl alcohol supply chamber 210 of the isopropyl alcohol supply device 200 to the cleaning tank 130. The isopropyl alcohol is supplied through the opening of the air valve 240, and the manual valve 220 is normally kept open.
이소프로필 알코올이 공급되어 세정조(130)에 이소프로필 알코올이 충전되면, 이소프로필 알코올 공급 장치(200)의 스톱 센서(241)가 이를 감지하여 온(on) 신호를 발생시킨다. 이 온 신호에 의해 이소프로필 알코올 공급 장치(200)의 에어 밸브(240)가 폐쇄된다. 온 신호에 의한 에어 밸브(240)의 폐쇄는 전기적 신호에 의한 솔레노이드 밸브의 공기 개폐 동작에 의해 이루어질 수 있다. 즉, 스톱 센서(241)가 온 신호를 발생시키면, 이 온 신호는 에어 밸브(240)의 동작을 제어하는 솔레노이드 밸브의 공기 개폐 동작을 전기적으로 제어하여 에어 밸브(240)가 폐쇄되도록 한다. 이에 따라, 세정조(130) 내에 수용되었던 유기 약제는 유출되어 버리고, 대신 이소프로필 알코올이 세정조(130)를 채우게 된다.When isopropyl alcohol is supplied and the isopropyl alcohol is filled in the cleaning tank 130, the stop sensor 241 of the isopropyl alcohol supply device 200 detects this to generate an on signal. The air valve 240 of the isopropyl alcohol supply device 200 is closed by this ON signal. The closing of the air valve 240 by the ON signal may be performed by the air opening and closing operation of the solenoid valve by the electrical signal. That is, when the stop sensor 241 generates the ON signal, the ON signal electrically controls the air opening and closing operation of the solenoid valve that controls the operation of the air valve 240 so that the air valve 240 is closed. As a result, the organic chemicals contained in the cleaning tank 130 are leaked out, and the isopropyl alcohol fills the cleaning tank 130 instead.
이와 같이 본 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치(200)를 사용하여 세정조(130) 내의 약액을 유기 약제로부터 이소프로필 알코올로 교체함으로써 세정 공정 정체시 유기 약제에 의한 웨이퍼의 손상을 효과적으로 방지할 수 있게 된다. 특히, 금속화 공정 후의 습식 세정 공정시 세정 공정 정체로 인해 금속 라인이 마모되는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.As described above, by using the isopropyl alcohol supply device 200 according to the present embodiment, the chemical liquid in the cleaning tank 130 is replaced with the isopropyl alcohol from the organic drug to effectively prevent damage to the wafer due to the organic drug during the stalling of the cleaning process. It becomes possible. In particular, during the wet cleaning process after the metallization process, it is possible to effectively prevent the wear of the metal line due to the congestion of the cleaning process.
설비 이상으로 인해 세정 공정이 정체되는 경우, 본 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치(200)에 의해 세정조(130)에 이소프로필 알코올을 공급한 후에, 또는 공급하는 동안, 세정 설비 작업자 또는 관리자는 세정 공정의 정체를 야기시킨 세정 설비의 이상 원인(예를 들어, 로봇 암의 교정 오류 등)을 찾아 확인하고 이를 보수한다.If the cleaning process is stagnant due to equipment failure, after or while supplying isopropyl alcohol to the cleaning tank 130 by the isopropyl alcohol supply device 200 according to the present embodiment, the cleaning equipment operator or manager Finds, identifies, and repairs the cause of anomalies (eg, calibration errors in the robot arm) of the cleaning facility that caused the cleaning process to stall.
이와 같이 세정 설비의 이상 원인을 확인하고 보수 조치가 완료된 후에는, 세정 설비의 정체가 해소되어 상기 세정조(130)에 침지되어 있는 웨이퍼는 다음 세정조 또는 배쓰로 이송된다. 다음 세정조 또는 배쓰로 웨이퍼가 모두 이송된 후에는 세정조(130) 내의 이소프로필 알코올을 다시 유기 약제로 약액 교환을 행한다. 즉, 이소프로필 알코올을 세정조(130)로부터 유출시킨 후 유기 약제의 주공급 라인(110a)을 통해 유기 약제를 다시 세정조(130)에 공급하여, 세정조(130)를 유기 약제로 충전시킨다. 이에 따라, 세정조(130)는 본래의 역할, 즉, 잔여 포토레지스트를 제거하는 역할을 다시 정상적으로 수행하게 된다.In this way, after confirming the cause of the abnormality of the cleaning equipment and completing the repair measures, the identity of the cleaning equipment is eliminated, and the wafer immersed in the cleaning tank 130 is transferred to the next cleaning tank or bath. After all of the wafers are transferred to the cleaning tank or bath, the isopropyl alcohol in the cleaning tank 130 is chemically exchanged with the organic chemicals again. That is, after isopropyl alcohol flows out of the cleaning tank 130, the organic medicine is again supplied to the cleaning tank 130 through the main supply line 110a of the organic medicine, thereby filling the cleaning tank 130 with the organic medicine. . Accordingly, the cleaning tank 130 performs the original role, that is, the role of removing the residual photoresist again.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통해서 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail through specific examples, the present invention is not limited thereto, and it is apparent that modifications and improvements can be made by those skilled in the art within the technical spirit of the present invention.
상술한 본 발명에 의하면, 습식 세정 설비의 유기 세정조 시스템에 이소프로필 알코올 공급 장치를 추가함으로써 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정의 정체시 유기 약제에 의한 웨이퍼의 품질 불량을 용이하고 효과적으로 방지할 수 있게 된다.According to the present invention described above, by adding the isopropyl alcohol supply device to the organic cleaning tank system of the wet cleaning equipment, it is possible to easily and effectively prevent the quality defect of the wafer by the organic chemicals during the stall of the cleaning process due to the abnormality of the cleaning equipment. Will be.
특히, 웨이퍼 상에 금속 라인을 형성시킨 후 습식 세정 공정을 수행하는 도중 습식 세정 설비의 이상으로 인한 세정 공정의 정체가 발생하였을 때, 유기 세정조 내의 유기 약제를 이소프로필 알코올로 신속히 교환함으로써 금속 라인의 부식으로부터 웨이퍼를 효과적으로 보호할 수 있게 된다.In particular, when the cleaning process is congested due to an abnormality of the wet cleaning equipment during the wet cleaning process after the metal line is formed on the wafer, the metal line is rapidly replaced by isopropyl alcohol. The wafer can be effectively protected from corrosion.
또한, 본 발명에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치를 사용하여 세정조 내의 유기 약제를 이소프로필 알코올로 교체함으로써, 설비 이상으로 인한 세정 공정 정체시 작업자의 작업량을 현저히 감소시키고 설비의 보수 작업을 효율적으로 수행할 수 있게 된다.In addition, by replacing the organic medicament in the cleaning tank with isopropyl alcohol using the isopropyl alcohol supply device according to the present invention, the work load of the worker is significantly reduced and the maintenance work is efficiently performed when the cleaning process is stopped due to the equipment abnormality. You can do it.
도 1은 습식 세정 설비 내에서 반도체 웨이퍼가 통과하는 복수의 세정조를 개략적으로 나타낸 모식도이다.1 is a schematic diagram schematically showing a plurality of cleaning tanks through which a semiconductor wafer passes in a wet cleaning apparatus.
도 2는 종래의 유기 세정조 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a view schematically showing a conventional organic cleaning tank system.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 이소프로필 알코올 공급 장치를 구비한 유기 세정조 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing an organic cleaning tank system having an isopropyl alcohol supply device according to an embodiment of the present invention.
Claims (11)
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2003
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |