KR200446239Y1 - Filter of High-Purity Gas - Google Patents

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KR200446239Y1 KR2020090002065U KR20090002065U KR200446239Y1 KR 200446239 Y1 KR200446239 Y1 KR 200446239Y1 KR 2020090002065 U KR2020090002065 U KR 2020090002065U KR 20090002065 U KR20090002065 U KR 20090002065U KR 200446239 Y1 KR200446239 Y1 KR 200446239Y1
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이덕기
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(주)에스티에스테크놀로지
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Abstract

본 고안은 반도체 산업용 가스 여과필터에 관한 것으로서, 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 이루어진 필터 메디아에 대한 형상 변형으로 여과면적을 향상시키면서도 소형 제작이 가능한 반도체 산업용 가스 여과필터를 제공하는 것이다. The subject innovation is to provide a porous metal material or a porous ceramic material improves the filtration area to the shape variations of the filter media while still capable of semiconductor industrial gas filtration filter made of a small production relates to a semiconductor industrial gas filtration filter.
본 고안은 가스 유입구(111) 및 필터링 된 가스가 유출되는 가스 유출구(121)를 구비하는 원통형의 가스 필터 하우징(100)과; The subject innovation is a gas inlet 111, and the filtered gas cylinder of the gas filter housing 100 is provided with a gas outlet (121) and flowing out; 상기 하우징(100) 내부에 수용되어 가스의 여과기능을 수행하는 것으로, 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 이루어진 필터 메디아(200);를 포함하는 것으로, 상기의 필터 메디아(200)는, 일단은 개방되고 또 다른 일단은 차단된 원통형태로 이루어지되, 차단된 일단 중심부는 타단 방향으로 인입된 형태를 이루고, 상기 필터 메디아(200)는 접합에 의한 이음매가 없이 단일 구성이 일체로 형성되는 것을 특징으로 한다. The housing 100 is accommodated therein as performing the filtering function of the gas, a porous metal material or filter media 200 is made of a porous ceramic material; as including a filter media 200 in the above, once the opening and characterized in that another one is that the achieved jidoe, blocked in a blocked form of a cylinder one end center portion forms a lead-shape in the other end direction, the filter media 200 comprises a unitary construction without the joints due to bonding is formed integrally do.
가스 여과필터, 필터 메디아, 금속필터 Gas trapping filter, median filter, a metal filter

Description

반도체 산업용 가스 여과필터 {Filter of High-Purity Gas} Semiconductor industrial gas filtration filter {Filter of High-Purity Gas}

본 고안은 반도체 산업용 가스 여과필터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 반도체 제조에 사용되는 질소(N2), 알곤(Ar), 수소(H)와 같은 초고순도(99.999%)의 가스 미립자 여과에 사용되는 다공성 매체(Media)와 상기 다공성 매체를 내재한 가스 여과필터에 관한 것이다. The present invention relates to a semiconductor industrial gas filtration filter, used in more detail, gas particulate filtration of ultra-high purity (99.999%), such as nitrogen (N2), argon (Ar), hydrogen (H) used in the semiconductor manufacturing which relates to a porous media (media), and a gas filtration filter inherent in the porous medium.

최근의 반도체나 평판디스플레이(LCD, PDP)기술은 수 마이크로에서 수십 나노미터(nm) 크기를 갖는 전자부품의 패턴을 구현하는 단계에 이르렀다. Recent semiconductor or flat panel displays (LCD, PDP) technology can be reached for implementing a pattern of an electronic component having several tens of nanometers (nm) size in the micro.

특히, 반도체 산업에 있어서는 제조 공정에 사용되는 많은 공정가스에 함유되어 있는 극미량의 불순물 농도가 10억분의 몇 ppm 수준 또는 그 보다 낮은 경우에도 제품의 성능저하 및 제조 수율의 감소가 야기되어지는바, 공정가스 내의 불순물 입자를 제거하기 위하여 공정가스의 공급라인에 직렬로 연결되는 인라인(Inline) 가스 필터가 널리 이용되고 있다. In particular, in the semiconductor industry is contained in the number of process gases used in the manufacturing process a very small amount of an impurity concentration of 10 eokbun several ppm level, or even than a lower which is a degradation and a decrease in manufacturing yield of the product caused a bar of which, process is widely used in-line (inline) gas filter connected in series to the supply line of the process gas in order to remove impurity particles in the gas.

반도체 공정에 사용되는 가스는 초고순도(99.999%)가스로 가스내의 입자성 물질을 제거하기 위해 필터 내부에 금속 및 세라믹, 폴리머 등의 다공성 메디아(Media)가 개재된 소형의 필터가 사용된다. Gas used in the semiconductor process, the ultra-high purity (99.999%), porous media (Media), a filter interposed small, such as metals, ceramics, polymers within the filter to remove the particulate matter in the gas the gas is used. 통상 반도체 산업에서 일반화된 표준으로 공정장비에 용이하게 설치가 되는 필터는 3.3인치(84mm) 또는 5인치(127mm)의 길이로 직경은 3/4 인치(19mm)에서 2인치(50.8mm)까지 다양한 크기의 필터가 있다. Typically in a standard common in the semiconductor industry where the filter is easily installed in the process equipment is a length of 3.3 inches (84mm) or a 5-inch (127mm) diameter is different to the 2 inch (50.8mm) in the 3/4 inch (19mm) a filter size. 이러한 필터는 스테인레스 316엘(L)의 금속 소재를 이용하여 제작된 필터 하우징과 메디아를 사용한다. This filter uses a filter housing and media manufactured by using a metal material of stainless steel 316 L. (L). 필터의 내부에 설치된 메디아의 경우 기공율이 최소 40% 이상으로 적정하게는 약 58~80% 정도로 알려져 있다. If the media is installed in the interior of the filter porosity is appropriately by at least 40% are known to be about 58 to 80%. 이러한 기공은 가스에 포함된 불순물 입자의 여과에 있어 물리적 포집효과를 제공함으로써 필터의 기본적 기능을 이루도록 하는 반면, 일정량 이상의 가스 흐름은 통제가 되어 충분한 가스의 여과를 위해서는 대면적을 가진 필터 메디아와 큰 용적의 하우징을 가져야하는 문제점이 있었다. These pores provide the physical absorption effect in the filtration of impurity particles contained in the gas by the other hand to achieve a basic function of the filter, a fixed amount or more of gas flow filter media and large with a large area to the filtering of sufficient gas is controlled there are problems that have the housing capacity.

미국특허공보 제05114447호에서는 상술한 문제의 해결을 위해 주름관 형태의 필터 메디아를 가진 가스 여과필터를 제안하였다. In U.S. Patent No. No. 05,114,447 suggested a gas filtration filter with a corrugated pipe in the form of filter media for resolution of the aforementioned problems. 그러나, 이러한 주름관 형태는 특별한 도우넛 형태의 판상 필터 구조체를 연속적인 용접을 통해 제작된 것으로 가스누설의 위험성과 가스의 흐름에 있어 데드 스페이스(Dead Space)를 만들어 수분의 누적을 증가시키는 문제점이 있었다. However, such a corrugated pipe forms there a particular donut shape of the filter plate structure to the that the risk to the flow of gas in the gas leak produced through the continuous welding has a problem of creating a dead space (Dead Space) increase in the accumulation of moisture. 또한, 복수개의 부품으로 구성된 필터 메디아의 제작에 있어 제작비용과 제작시간이 증가하는 문제점도 있었다. Further, in the production of filter media consisting of a plurality of components it was also a problem that the manufacturing cost and the manufacturing time increases.

따라서, 본 고안은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 필터 메디아에 대한 형상 변형으로 여과면적을 향상시키면서도 소형 제작이 가능한 반도체 산업용 가스 여과필터를 제공함에 그 목적이 있다. Thus, the present design is that the purpose of such, improving the filtering area as the shape deformation of the filter media while still providing a semiconductor capable of making small industrial gas filtration filter made in view to solve the problems of the aforementioned prior art.

또한, 본 고안에 따른 필터 메디아는 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 이루어지되 그 형상에 있어서 접합에 의한 이음매가 없이 단일 구성이 일체로 형성되도록 함에 또 다른 목적이 있다. The filter media according to the present invention has as another object the porous metal material or jidoe made of a porous ceramic material such that the unitary construction formed integrally without seam by bonding in its shape.

상술한 목적을 달성하기 위한 기술적 수단으로, 본 고안은 가스 유입구 및 필터링 된 가스가 유출되는 가스 유출구를 구비하는 원통형의 가스 필터 하우징과; A technical means for achieving the above object, the present design is a cylindrical gas filter housing having a gas outlet that is the gas inlet and a filtered gas outlet; 상기 하우징 내부에 수용되어 가스의 여과기능을 수행하는 것으로, 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 이루어진 필터 메디아;를 포함하는 것으로, 상기의 필터 메디아는, 일단은 개방되고 또 다른 일단은 차단된 원통형태로 이루어지되, 차단된 일단 중심부는 타단 방향으로 인입된 형태를 이루고, 상기 필터 메디아는 접합에 의한 이음매가 없이 단일 구성이 일체로 형성되는 것을 특징으로 한다. Is accommodated in the housing as to perform the filtering function of the gas, filter media made of a porous metal material or a porous ceramic material; as including the filter media, one end is opened and another end is a blocked form of a cylinder jidoe done, the blocked one end forms a center of the incoming direction to form the other end, wherein the filter media is characterized in that a single configuration integrally formed without a seam by welding.

바람직하게, 상기 필터 메디아는 그 단면이 " Preferably, the filter media is in its cross-section. "

Figure 112009011477755-utm00001
" 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. "Characterized in that formed in the image.

바람직하게, 상기 하우징은, 일단이 개방되고 또 다른 일단은 차단되되 가스 유입구가 관통 형성된 원통형의 몸체와; Preferably, with said housing, one end opened and the other end to block doedoe of the cylindrical gas inlet formed through the body; 상기 몸체의 개방된 일단을 덮어 차단하는 것으로 가스 유출구가 관통 형성되고 일면에는 필터 메디아가 끼움 결합되도록 홈부가 형성된 캡;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. It characterized in that the configuration including; as to block the open end of the body covering the gas outlet cap groove portion is formed so as to form one surface and the filter media through the fitting.

본 고안에 따른 반도체 산업용 가스 여과필터에 의하면, 필터 메디아는 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 이루어지되 필터 메디아의 일단이 내측으로 인입된 형상을 통해 가스 여과면적을 향상시킨 효과가 있다. According to the semiconductor industrial gas filtration filter according to the present invention, the filter media has an effect that by the end of the incoming shape into the inner side of the filter media jidoe made of a porous metal material or a porous ceramic material improves the gas filtering area.

또한, 필터 메디아 및 하우징은 그 크기를 유지하면서도 가스 여과면적 및 가스 여과량을 증가시킬 수 있는 효과도 있다. Further, the filter media and the housing has an effect of increasing the gas filtering area and a large excess over the gas while maintaining their size.

또한, 필터 메디아는 접합에 의한 이음매가 없이 단일 구성이 일체로 형성되므로 데드 스페이스를 형성하지 않는 효과도 있다. Further, the filter media has a single configuration, so integrally formed without a seam by bonding has an effect that does not form a dead space.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 고안에 대해 상세하게 설명한다. With reference to the accompanying drawings and will be described in detail according to the present invention;

도 1은 본 고안에 따른 반도체 산업용 가스 여과필터에 대한 분해 사시도이며, 도 2는 분해 단면도이다. Figure 1 is an exploded perspective view of the semiconductor industrial gas filtration filter according to the present invention, Figure 2 is an exploded cross-sectional view.

도 1 또는 도 2에 도시한 바와 같이, 본 고안은 반도체 산업용 가스 여과필터에 관한 것으로, 원통형의 하우징(100)과, 상기 하우징(100) 내측에 수용되어 유 통되는 가스를 여과하는 필터 메디아(Media)(200)를 포함하여 구성된다. As shown in Figure 1 or Figure 2, the present design is that, of the cylindrical housing 100, is accommodated inside the housing 100, filter media for filtering a gas oil cylinder to a semiconductor industrial gas filtration filter ( It is configured to include a Media) (200).

하우징(100)은 원통형의 몸체(110)와 캡(120)으로 구분 형성되는 것으로, 몸체(110)는 일단이 개방되고 또 다른 일단은 차단되되 중심부에는 가스 유입구(111)가 관통 형성된다. The housing 100 is to be formed, separated by a cylindrical body 110 and the cap 120, the body 110 has one end opened and the other end is formed in the center block doedoe the gas inlet 111 therethrough.

또한, 캡(120)은 상기 몸체(110)의 개방된 일단을 덮어 차단하는 것으로 중심부에는 가스 유출구(121)가 관통 형성되고, 몸체(110)를 향하는 일면에는 필터 메디아(200)가 끼움 결합될 수 있도록 홈부(122)를 형성하되, 상기 홈부(122)는 필터 메디아(200)의 외측벽(210) 단부와 상응되는 원형 띠 형상으로 홈을 이루며 형성된다. In addition, the cap 120, the filter media 200 is to be coupled-fit center of the open end by covering block is provided with a gas outlet (121) formed therethrough, one face facing the body 110 of the body 110 It can allow to form a groove 122, the groove 122 is formed in the groove constitute a ring-shaped to correspond to the outer wall (210) ends of the filter media 200.

필터 메디아(200)는 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 이루어진 것으로 상기 하우징(100) 내부에 수용되어 가스의 여과기능을 수행하는 것이다. Filter media 200 may be made of a porous metal material or a porous ceramic material is accommodated in the housing (100) to perform a filtering function of the gas.

도 3은 본 고안에 따른 필터 메디아를 종방향 절단한 형상을 도시한 내부 사시도이다. 3 is an internal perspective view showing a cut filter media according to the present invention a longitudinal shape.

상기 필터 메디아(200)의 일단은 개방되고 또 다른 일단은 차단된 원통형태로 이루어지되, 차단된 일단 중심부는 타단 방향으로 인입된 형태를 이룬다. One end of the filter media 200 is opened and the other end is made jidoe, blocked in a blocked form of a cylinder one end forms the center of the inlet to form the other end direction.

즉, 원통형의 외측벽(210) 이외에 중심부가 내측으로 인입됨으로 내부에 또 다른 원통형의 내측벽(220)이 더 형성된 것으로, 이러한 형상은 유입되는 가스가 필터 메디아(200)를 통과함에 있어 여과면적을 향상시키고 그에 따른 가스 여과량 을 증가시킨 것이다. That is, the filtering area got as in addition to the cylindrical outer wall 210 doemeuro heart is drawn inwardly again to more inner walls 220 of the other cylinder is formed, such a shape is passed through the flowing gas, the filter media 200 therein is improved to increase the gas over an excess thereof.

상기와 같이 필터 메디아(200)는 일단부가 타단측으로 인입됨에 있어서 다양한 형상으로 실시될 수 있으나, 바람직하게, 필터 메디아(200)의 단면은 " Cross-section of the filter media 200 has one end thereof toward the other end in the incoming As but may be practiced in a variety of shapes, and preferably, the filter media 200, as described above, "

Figure 112009011477755-utm00002
"와 같은 형상으로 이루어짐을 특징으로 한다. "And it characterized by the same constituted by any shape.

또한, 상기 필터 메디아(200)는 상기와 같은 형상을 제공함에 있어 접합에 의한 이음매가 없이 단일 구성에 의한 일체로 형성되어 데드 스페이스(Dead space)를 형성하지 않았다. Further, the filter media 200 may not form a dead space (Dead space) without a joint according to the joint are integrally formed by a single configuration in providing the configuration as described above.

또한, 상기 필터 메디아(200)는 다공성 금속소재 또는 다공성 세라믹소재로 형성된 것으로, 가스를 여과하기 위해 형성된 미세 여과통공의 직경은 한정되지 않고 조건에 따라 다양하게 실시될 수 있으나 일반적으로 0.1㎛ ~ 3㎛ 범위가 적용된다. Further, the filter media 200 may be formed of a porous metal material or a porous ceramic material, it may be variously performed according to the diameter of the fine holes of the filtering is not limited to the conditions provided for filtering the gas, but generally 0.1㎛ ~ 3 the ㎛ range is applied.

도 4는 본 고안에 따른 반도체 산업용 가스 여과필터에 대한 조립 단면도이다. 4 is an assembled cross-sectional view of a semiconductor industrial gas filtration filter of the present invention;

상기와 같이, 본 고안은 몸체(110)와 캡(120)으로 구성된 하우징(100)과, 필터 메디아(200)의 조립에 있어, 먼저, 필터 메디아(200)의 개방된 일단은 캡(120)의 홈부(122)에 끼움 결합되고 이후 필터 메디아(200)와 홈부(122)의 결합 부위는 용접에 의한 마감처리로 기밀 접합되는 것이다. As described above, the subject innovation is in the assembly of the housing 100, filter media 200 is comprised of body 110 and cap 120, the open end of the first, the filter media 200 includes a cap 120 It is fitted in the groove 122 of the binding site since the filter media 200 and the groove 122 of the joint is to be classified as a finishing process by the welding.

또한, 필터 메디아(200)가 접합된 캡(120)은 몸체(110)와 결합하되, 역시 용 접에 의한 마감처리로 기밀 접합되는 과정이 이루어진다. In addition, but combined with the filter media 200, the bonding cap 120 has a body 110, also made of a process in which airtight junction at the closing process by the contact for.

이와 같은, 기밀 접합되는 구성의 하우징(100) 및 필터 메디아(200)는 가스 여과기능에 있어 그 신뢰성을 더욱 향상시킨 것이다. Such a housing arrangement that is airtight junction 100 and the filter media 200, which will further improve the reliability in gas filtration.

또한, 도 4에서 가스(Gas)의 이동을 화살표로 표시한 바와 같이, 필터 내로 인입된 가스는 여과되어 인출됨에 있어 필터 메디아(200)의 형상적 특징으로 인해 가스 여과면적이 향상되고 그에 따른 가스 여과량이 증가하는 것이다. Furthermore, as the movement of the gas (Gas) shown by the arrow 4, a gas inlet into the filter got As the filtration is drawn due to the shape characteristics of the filter media 200, a gas filtering area and improves gas hence It is to increase the amount of filtration.

본 고안의 실시예에 따라 상기 반도체 산업용 가스 여과필터를 종래의 다층 디스크 타입의 필터 메디아와 비교하면, 종래의 다층 디스크 타입에서 외경이 3cm이고, 내경 1cm인 필터 메디아 1매가 제공하는 여과면적은 약 1.57㎠이고, 이와 같은 다층 디스크 타입의 필터 메디아 12매로 이루어진 6쌍의 필터 메디아가 제공하는 여과면적은 18.8㎠이다. Comparing the semiconductor industrial gas filtration filter in accordance with an embodiment of the present design and the filter media of the conventional multi-layer disk type, and the outer diameter of 3cm in the conventional multi-layer disk type, inner diameter 1cm filter media filtering area to one-solvent provides from about 1.57㎠, and this is the filtration area provided by the same multi-layer disk type of the filter media 12 consisting of six pairs of filter media sheets are 18.8㎠.

그러나, 본 고안에 따라 일단은 개방되고 또 다른 일단은 차단된 원통형이되, 차단된 일단부가 타단측으로 인입된 형태의 필터 메디아에서, 상기 종래개술과 동일한 외경 및 내경 그리고 길이를 갖는다고 할 때, 본 고안에 따른 필터 메디아가 제공하는 여과면적은 68㎠에 해당한다. However, when high according to the present invention one end is open and another end has the same outside diameter and the inside diameter and length as in the filter media of the back is blocked cylindrical, block, one end of the other end inlet side form, the conventional gaesul, filtering area provided by the filter media according to the present invention corresponds to 68㎠.

그리고, 종래의 다층 디스크 타입의 필터 메디아는 다수의 용접과정이 요구되고 그에 따른 데드 스페이스 발생이 불가피하였으나, 본 고안에 따른 필터 메디아는 단일 구성이 일체로 형성되어 연결 및 접합부위가 없으며, 그에 따라 데드 스페이스도 형성되지 않는다. Then, the filter media of the conventional multi-layer disk type, but a number of welding process is desired unavoidable dead space generated accordingly, filter media according to the present invention is a single configuration integrally formed there is no connection and joining parts, and therefore also it does not form a dead space.

상기한 바와 같이, 본 고안의 기술적 사상을 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 실용신안등록청구범위에 기재된 본 고안의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 고안을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있는 것이다. As described above, the intended present within that range departing from the spirit and scope of the subject innovation described has been described the scope of the subject innovation with reference to a preferred embodiment the utility model claims below, if those skilled in the art to be capable of various modifications and changes.

도 1은 본 고안에 따른 반도체 산업용 가스 여과필터에 대한 분해 사시도이며, 1 is a exploded perspective view of the semiconductor industrial gas filtration filter according to the present invention,

도 2는 본 고안에 따른 반도체 산업용 가스 여과필터에 대한 분해 단면도이며, Figure 2 is an exploded cross-sectional view of a semiconductor industrial gas filtration filter according to the present invention,

도 3은 본 고안에 따른 필터 메디아를 종방향 절단한 형상을 도시한 내부 사시도이며, And Figure 3 is an internal perspective view showing a cut filter media according to the present invention a longitudinal shape,

도 4는 본 고안에 따른 반도체 산업용 가스 여과필터에 대한 조립 단면도이다. 4 is an assembled cross-sectional view of a semiconductor industrial gas filtration filter of the present invention;

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 > <Description of the Related Art>

100 : 하우징 110 : 몸체 100: housing 110: body

111 : 가스 유입구 120 : 캡 111: gas inlet port 120: Cap

121 : 가스 유출구 122 : 홈부 121: gas outlet 122: groove

200 : 필터 메디아 210 : 외측벽 200: Filter Media 210: outer wall

220 : 내측벽 220: inner wall

Claims (5)

  1. 삭제 delete
  2. 가스 유입구(111) 및 필터링 된 가스가 유출되는 가스 유출구(121)를 구비하는 원통형의 가스 필터 하우징(100)과; A cylindrical gas filter housing 100 is provided with a gas outlet 121 that is a gas inlet 111 and a filtered gas outlet and; 상기 하우징(100) 내부에 수용되어 가스의 여과기능을 수행하는 것으로 다공성 금속소재로 이루어진 필터 메디아(200);를 포함하는 것으로, As including,; filter media 200 made up is accommodated within the housing (100) by performing the filtering function of the gas to the porous metal material
    상기 필터 메디아(200)는, 일단은 개방되고 또 다른 일단은 차단된 원통형태로 이루어지되, 차단된 일단 중심부는 타단 방향으로 인입되어 단면이 " The filter media 200, one end is open and another end is drawn to the place jidoe, blocked in a blocked form of a cylinder one end the other end is a center of the cross-sectional direction "
    Figure 112009038605948-utm00008
    " 형상으로 이루어지며, 상기 필터 메디아(200)는 접합에 의한 이음매가 없이 단일 구성이 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 산업용 가스 여과필터. "Made of a shape, the filter media 200 without the seam by bonding a semiconductor characterized in that a single configuration integrally formed industrial gas filtration filter.
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KR100215195B1 (en) * 1994-09-03 1999-08-16 이재춘 Producing method of the gas filter

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