KR200436002Y1 - 이중 아암 로봇 - Google Patents

Abstract

본 고안은 이중 아암, 원통 좌표 로봇 조립체에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 이런 로봇 조립체를 위한 한 쌍의 엔드 이펙터를 위치 설정을 정밀하게 제어하기 위해 먼저 엔드 이펙터 상의 웨이퍼의 중심을 연산,검지하여 로봇의 아암의 동선을 정밀하게 조정하는 데 협력할 수 있도록 한 이중 아암 로봇에 관한 것으로서, 이송용 로봇암의 엔드 이펙터 상에 재치된 웨이퍼가 웨이퍼 위치 감지센서수단의 상공을 활주하면서 지나칠 경우, 상기 웨이퍼의 외주단이 최초 광간섭되는 위치의 제1 좌표와, 상기 웨이퍼의 외주단이 최종 광간섭되는 위치의 제2 좌표 사이의 거리를 원형상의 웨이퍼의 원주 상에 환산 대입하고, 이 대입하여 환산함으로써, 웨이퍼의 중심을 구하기 위해 광신호를 방사하도록 반도체 웨이퍼 공정챔버 내에 설치되는 웨이퍼 위치 감지센서수단과, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단을 구동함과 동시에, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단의 신호를 통해 이송용 로봇암에 파지된 웨이퍼의 위치를 감지 및 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

이중 아암 로봇{DUAL ARM ROBOT}

도 1은 종래 기술상의 이송용 로봇을 위시한 반도체 처리장치를 개략적으로 도시한 구조도,

도 2는 본 고안에 따른 이중 아암 로봇이 채용된 반도체 처리장치 중 로드락 챔버와 트랜스퍼 챔버가 일체화된 구조의 일 실시예를 도시한 사시도,

도 3은 도 2의 선 A-A에 따른 로봇의 단면도,

도 4는 본 고안에 따른 이중 아암 로봇과 로드락챔버 내의 쿨링 플레이트의 배열 상태를 도시한 사시도,

도 5는 본 고안에 따른 3관절 이중 아암 로봇의 로봇암의 엔드 이펙터 상에 재치된 웨이퍼의 위치를 검지하는 상태를 도시한 상태도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 구동부 110: 로드락챔버

112: 도어 130 : 로봇암

150 : 공정챔버 200 : 센서

본 고안은 이중 아암, 원통 좌표 로봇 조립체에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 이런 로봇 조립체를 위한 한 쌍의 엔드 이펙터를 위치 설정을 정밀하게 제어하기 위해 먼저 엔드 이펙터 상의 웨이퍼의 중심을 연산,검지하여 로봇의 아암의 동선을 정밀하게 조정하는 데 협력할 수 있도록 한 이중 아암 로봇에 관한 것이다.

일반적으로, 로봇은 반도체 산업에서, 기판 매체 또는 다른 대상물의 자동화된 취급 같은 다양한 임무를 수행하기 위해 사용된다. 반도체 산업에서, 전형적인 매체 및 기타 대상물은 개별 실리콘 웨이퍼 또는 웨이퍼 캐리어, 평판 패널 디스플레이 및 하드 디스크 매체를 포함한다. 로봇은 예로서, 웨이퍼 처리 클러스터 툴, 웨이퍼 검사 장비, 계측 장비 및 하드 디스크 박막 증착을 위한 장비 내에서, 그리고, 반도체 공장에서의 자동화된 재료 취급 시스템과 생산 장비 사이에서의 매체 전달시, 매체를 취급하기 위해 사용된다. 로봇은 상압 및 진공 환경 양자 모두에서 사용될 수 있다.

로봇의 한가지 부류는 관절 아암 로봇 또는, 보다 구체적으로는, 관절 원통 좌표 로봇이라 알려져 있다. 원통 좌표 로봇은 수평 평면내에서 이동가능하면서 회전 관절에 부착되어 있는 림(limb)을 가지는 아암으로 구성된 구성을 포함한다. 회전 관절은 캐리지 상에 장착되며, 이 캐리지에는 수직 컬럼의 축을 따라 왕복 수직 이동이 제공된다. 림은 반경 또는 R-방향으로 내외로 이동할 수 있다. 또한, 아암은 세타 방향으로 캐리지상에서 하나의 유닛으로서 회전할 수 있다. 아암 디자인은 다중 링크 개방 기구학적 체인에 기초한다.

일반적으로, 로봇 시스템의 기본 구성요소는 매니퓰레이터, 파워 변환 모듈, 센서 디바이스 및 콘트롤러이다. 매니퓰레이터는 링크 및 관절로 구성된다(기어, 커플링, 풀리, 벨트 등 포함). 매니퓰레이터는 관절에 의해 연결된 고체 링크의 시스템으로서 설명될 수 있다. 링크 및 관절은 함께 기구학적 체인(kinematic chain)을 형성한다. 관절 및 인접 링크를 포함하는 기구학적 쌍은 또한 링크절(linkage)이라 지칭될 수도 있다.

관절의 두 가지 유형이 매니퓰레이터 메카니즘에 사용되며, 이는 회전 및 직진 관절이다. 회전 또는 로터리 관절은 선행 링크의 관절 축 둘레에서의 하나의 링크의 회전을 가능하게 한다. 직진 관절은 링크 사이의 병진을 가능하게 한다.

관절의 운동은 작동기 메카니즘에 의해 달성된다. 특정 관절의 운동은 그에 부착된 후속 링크가 관절의 작동기를 포함하는 링크에 관하여 이동하게 한다. 작동기는 작동기의 소정 출력 특성(힘, 토크, 속도, 분해능 등)이 요구되는 성능에 따라 변경될 필요가 있을 때, 기계적 트랜스미션을 통해 또는 직접적으로 링크에 연결될 수 있다.

매니퓰레이터는 일반적으로, 툴을 지지할 수 있는 링크에서 종결한다. 반도체 웨이퍼 처리 장비에서, 이 툴은 일반적으로, 엔드 이펙터(end effector)라 지칭된다. 최종 링크와 엔드 이펙터 사이의 인터페이스는 엔드 이펙터 장착 플랜지라 지칭된다. 관절을 통해 작동기에 연결된 링크는 엔드 이펙터를 X-Y-Z 좌표 시스템내에서 위치설정하도록 서로에 대하여 이동한다.

상업적으로 입수할 수 있는 단일 아암 로봇의 구성은 세 개의 평행 회전 관절을 가지며, 이는 아암의 이동 및 평면내에서의 배향을 가능하게 한다. 종종, 제1 회전 관절은 쇼울더(shoulder)라 지칭되고, 제2 회전 관절은 엘보우(elbow)라 지칭되며, 제3 회전 관절은 리스트(wrist)라 지칭된다. 제4, 직진 관절은 수직 또는 Z 방향으로 평면에 수직으로 엔드 이펙터를 이동시키기 위해 사용된다. 작동기(예로서, 폐루프 제어 서보모터) 및 운동 변환 메카니즘이 이 메카니즘에 포함되어, 관절의 운동을 가능하게 한다. 각 링크의 제어된 이동, 즉, X-Y-θ-Z 좌표 시스템내에서의 엔드 이펙터의 배치 및 배향은 작동기가 매니퓰레이터의 각 조인트를 제어할 때에만 달성될 수 있다. 작동기는 관절을 직접적으로 제어할 수 있거나, 힘 및 토크의 감소가 필요할 때, 운동 변환 메카니즘을 경유하여 제어할 수 있다.

직렬 기구학적 링크절에 대하여, 관절의 수는 필요한 수의 자유도와 같다. 따라서, 단일 아암의 엔드 이펙터를 이동 및 배향시키기 위해서, 필요한 X-Y-θ-Z 좌표의 세트당 4개의 관절(3개 회전 및 1개 수직방향 직진)이 필요하다. 일부 다중 링크 관절 원통 좌표형 로봇에서, 종종, 엔드 이펙터는 엔드 이펙터를 따라 그려지고 로봇의 컬럼을 향해 투영된 중심선이 항상 제1 회전 관절(쇼울더 관절)의 회전축과 교차하도록 배향될 필요가 있다. 이 경우에, 매니퓰레이터는 단지 3개 자유도(R-θ-Z)만을 필요로 한다. 개별 작동기는 엔드 이펙터의 관절을 제어하지 않으며, 단지 3개 작동기만이 필요하다.

기판 매체를 취급하기 위한 이 유형의 공지된 이중 아암 로봇이 도 1에 예시되어 있다. 이 로봇은 두 개의 쇼울더 관절, 두 개의 엘보우 관절 및 두 개의 리스트 관절을 갖는다. 아암은 또한 제1 회전 관절(아암의 쇼울더 관절)을 지지하는 캐리지의 직진 관절의 병진축을 따라 수직 방향으로 사전결정된 거리를 이동할 수 있 다. 양 아암의 개별 링크는 동일 레벨에 있으며, 쇼울더 조인트는 서로 이웃하고, 양 엔드 이펙터가 서로 통과할 수 있도록 아암 중 하나와 그 엔드 이펙터 사이에 C-형 브래킷을 사용할 필요가 있다. 그러나, 이 로봇은 SEMI MESC 표준에 따라 구성된 진공 이송 모듈에는 사용될 수 없으며, 그 이유는 이런 진공 이송 모듈의 격리 밸브가 프로세스 모듈 및 카세트내의 웨이퍼 이송 평면을 형성하는 SEMI 재원에 따른 C-형 브래킷을 포함하는 아암의 통과를 허용하기에는 너무 좁기 때문이다. 또한, 아암은 원통 좌표내에서 독립적으로 회전할 수 없다. 각 아암(현재 상업적으로 가용한 로봇에서)의 개별 엔드 이펙터의 직선 반경방향 병진의 벡터 사이의 각도 관계는 영구적이며, 로봇의 조립 동안 형성된다. 종종, 이중 아암 로봇의 개별 아암은 동일 벡터를 따라 지향된다.

상기한 바와 같은 종래의 기술에서는, 웨이퍼가 이송용 로봇암의 기 설정된 위치에 파지되지 않은 상태에서 웨이퍼(W)가 정상적으로 파지된 것으로 이미 간주한 상태의 종래의 환경 하에서의 발생하는, 웨이퍼(W)가 이송용 로봇암에 의해 정상적으로 파지되지 못한 상태에서 공정챔버용 도어가 닫히면서 웨이퍼를 파손되는 등의 사태가 발발하면, 이미 재치된 로드락 챔버 내의 나머지 웨이퍼도 함께 정상적으로 처리되지 못한 나머지, 전체적인 수율을 감소를 가져오게 되는 등의 단점을 내포하고 있었다.

따라서, 본 고안은 상기한 문제점을 해결하기 위해 이송용 로봇암에 의해 파지되는 웨이퍼의 위치를 정확하게 검지할 수 있도록 한 구성을 제공함에 주된 목적 이 있는 것이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 고안에 따른 이중 아암 로봇은,
반도체 처리 장치용 로봇에 있어서,

이송용 로봇암의 엔드 이펙터 상에 재치된 웨이퍼가 웨이퍼 위치 감지센서수단의 상공을 활주하면서 지나칠 경우, 상기 웨이퍼의 외주단이 최초 광간섭되는 위치의 제1 좌표와, 상기 웨이퍼의 외주단이 최종 광간섭되는 위치의 제2 좌표 사이의 거리를 원형상의 웨이퍼의 원주 상에 환산 대입하고, 이 대입하여 환산함으로써, 웨이퍼의 중심을 구하기 위해 광신호를 방사하도록 반도체 웨이퍼 공정챔버 내에 설치되는 웨이퍼 위치 감지센서수단과, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단을 구동함과 동시에, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단의 신호를 통해 이송용 로봇암에 파지된 웨이퍼의 위치를 감지 및 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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본 고안은 이중 아암, 원통 좌표 로봇 조립체에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 이런 로봇 조립체를 위한 한 쌍의 엔드 이펙터를 정확히 위치 설정하도록 협력하는 링크 및 관절의 시스템으로서의 이중 아암 로봇에 관한 것이다.

본 고안은 반도체 공정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 로드락 챔버의 웨이퍼를 트랜스퍼 챔버를 통하여 공정 챔버로 이송할 때, 상기 웨이퍼가 상기 트랜스퍼 챔버 이송용 로봇암의 기 설정된 위치에 정확하게 파지되었는지의 여부를 검지할 수 있도록, 상기 웨이퍼 위치 감지 장치에서 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단은 상기 부위들에 수직 방향으로 광을 상향 조사한다. 이와 같이 구성된 본 고안에 따른 웨이퍼 위치 감지 장치는 상기 웨이퍼가 이송용 로봇암의 기 설정된 위치에서 어느 방향으로 슬라이딩되어 파지되더라도 이를 감지할 수 있다. 따라서 상기 이송용 로봇암에 부정확하게 놓여진 웨이퍼로 인해 발생하는 문제점을 사전에 예방할 수 있게 되는 것이다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어 고정 장치에 대해 상세히 설명한다.

도 1은 반도체 공정 장치에서 로드락 챔버(110), 트랜스퍼 챔버(120) 및 공정 챔버(150, …)의 구성을 개략적으로 설명하기 위한 구성도이다.

도 1을 참조하면, 로드락 챔버(110)는 소정의 반도체 소자 제조공정이 수행된 다수의 웨이퍼(W)가 카세트에 적재되어 수용되거나, 공정챔버(150)에서 소정의 공정이 완료된 웨이퍼(W)가 카세트에 적재되어 수용된다. 상기 로드락 챔버(110)의 일측면에는 카세트 도어(미도시)가 형성되고, 상기 카세트 도어를 통해 웨이퍼(W)가 수납된 카세트가 로딩 또는 언로딩된다.

또, 로드락 챔버(150)는 웨이퍼(W)가 수납된 웨이퍼 카세트가 로딩되면, 저진공펌프(미도시)에 의해 내부가 저진공 상태로 된다.

또한, 공정챔버(150)는 건식식각공정, 화학기상증착공정 등의 반도체 소자의 제조 공정이 진행된다. 공정 챔버(150)는 고진공 펌프(미도시)의 가동에 의해서 고진공이 형성된 상태에서 반도체 소자의 제조 공정이 진행된다.

또, 트랜스퍼 챔버(120)는 공정 챔버(150)와 로드락 챔버(110)를 연결하며, 버퍼 공간을 제공한다. 트랜스퍼 챔버(120)에는 일반적으로 다수개의 공정 챔 버(150)가 연결된다. 상기 트랜스퍼 챔버(120)의 내부 중앙에는 웨이퍼 이송용 로봇암(130)이 설치된다.

또한, 상기 로봇암(130)은 웨이퍼(W)를 로드락 챔버(110)에서 공정 챔버(150)로 이송하거나, 공정 챔버(150)에서 로드락 챔버(110)로 이송한다. 트랜스퍼 챔버(120) 일측에는 트랜스퍼 챔버(120)의 내부압력을 조절하기 위한 저진공펌프(미도시)가 연결되어 있고, 상기 트랜스퍼 챔버(120) 내부에서는 투입된 웨이퍼를 플랫존(Flat zone)을 기준으로 일방향으로 정렬하는 정렬 공정이 진행된다.

한편 로드락 챔버(110)와 트랜스퍼 챔버(120) 사이에는 웨이퍼(W) 이송을 위한 도어(112)가 구비되고, 트랜스퍼 챔버(120)와 각 공정 챔버(150) 사이에도 웨이퍼(W) 이송을 위한 도어(미도시)가 각각 구비된다.

따라서, 다수의 웨이퍼(W)가 적재된 카세트가 상기 카세트 도어를 통해서 로드락 챔버(110)의 내부에 투입되면, 상기 저진공펌프가 가동되어 로드락챔버(110)의 내부압력은 저진공상태로 형성된다. 상기 카세트에 적재된 웨이퍼(W)는 트랜스퍼 챔버(120)의 로봇암(130)에 파지된 상태에서 도어를 통해 저진공상태가 형성된 트랜스퍼 챔버(120)내부로 이동된다. 다음으로, 상기 트랜스퍼 챔버(120) 내부의 웨이퍼(W)는 고진공펌프의 가동에 의해서 고진공상태가 형성된 공정챔버(150) 내부로 이동하게 된다. 계속해서, 상기 공정챔버(150) 내부의 웨이퍼(W)는 전술한 바와 같은 동작의 역순으로 다시 로봇암(130)에 의해서 트랜스퍼 챔버(120)를 경유하여 로드락챔버(110)의 카세트에 적재된다.

도 3는 본 고안의 바람직한 일실시예에 따른 이중 아암 로봇을 개략적으로 설명하기 위한 단면도이다.

도 3을 참조하면, 트랜스퍼 챔버(120)의 내측 상부면에는 로봇암(130)에 파지된 웨이퍼(W)의 위치를 감지하기 위한 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)이 구비된다. 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)은 로봇암(130) 상에 기 설정된 위치의 가상 웨이퍼(W)의 수직 하부, 특히 로드락 챔버(110)의 하면에 상기 웨이퍼(W)와 동일한 크기의 원주 상에 서로 동일한 거리만큼 이격되도록 배치되어 있다.

또, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)은 상기 웨이퍼(W)의 상부면과 수직한 방향으로 각각 광을 조사하여 웨이퍼(W)의 위치를 감지한다.

또한, 제어부(160)는 로드락 챔버(110), 트랜스퍼 챔버(120) 및 공정 챔버(130) 사이의 웨이퍼(W) 이송과 공정 챔버(130) 내에서의 공정 등 반도체 제조 공정을 제어한다.

도 4 및 도 5는 도 2에 도시된 웨이퍼 위치 감지센서수단을 통해 웨이퍼를 감지하는 상태를 나타낸 개략도이다.

도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)은 트랜스퍼 챔버(120)의 내측 상부에 배치된 상태에서 웨이퍼(W)의 상부면과 수직한 방향으로 기 설정된 웨이퍼(W)의 가장자리 부위를 향해 광을 조사하여 도 5에서와 같은 센싱 포인트(R1)를 형성한다.

상기 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)는 상기 웨이퍼가 안착되는 엔드 이펙터(131)와 접촉되지 않는 부위인 가장자리 부위의 하부에 근접된 위치에 설치된다. 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)은 상기 웨이퍼(W) 하부면과의 광반사 시간을 검출하고, 이 시간과 상기한 최초 및 최종 비반사 지점 간의 거리를 환산하여 웨이퍼 감지거리(R1/2)연산한 후, 피타고라스 법칙을 이용하여, 원의 중심에서 상기 거리(R1)의 가상선과 직교하여 관통하는 현까지 가상선을 그린 후, 삼각비를 이용하여 상기 거리(R1)의 가상선의 직교점을 기준 원점으로 하고, 이 원점과의 편차를 구한 후, 이 편차만큼 상기한 공정챔버로 진입할 때 로봇암을 위치설정 한 후, 진출입 이동시키도록 작동하는 데 사용되는 제어부와 통신 가능하게 연결되어 있다.

또, 상기 로봇암(130)의 회전각도(θ)를 통형 구동부(10) 내의 축구동부(11)의 회동각도를 도시하지 않은 회전센서를 통해 검지하여, 상기한 웨이퍼 감지거리(R1)의 최초 광간섭 지점과 기 설정된 기준지점과의 편차를 구하여, 웨이퍼(W)의 진퇴이동선 상의 편차만큼 상기한 공정챔버(150)로 진입할 때 로봇암(130)을 정상 지점에 위치설정하면서, 진출입 이동시키도록 작동하는 데 사용되는 것이다.

또한, 상기 이웃하는 로봇암(130)에서의 센싱 거리(R2)는 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)의 배치와 마찬가지로 기 설정된 웨이퍼(W)의 가장자리의 최초 및 최종 광간섭을 감지하여, 엔드 이펙터에 대한 웨이퍼(W)의 중심위치를 검지하게 되는 것이다.

따라서 웨이퍼(W)가 로봇암(130)의 기 설정된 위치에 정확하게 로딩된 경우에는 도 4에서와 같이 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)에서 조사된 광이 형성하는 센싱 포인트(일예로, R1)가 웨이퍼(W)의 가장자리를 따라 웨이퍼(W) 상에 형성된다. 따라서 로봇암(130)에 웨이퍼(W)가 정확하게 로딩되어 파지된 것으로 판단한다. 제어부(160)는 웨이퍼 위치 감지센서수단(200)의 센싱 결과에 의해 웨이퍼(W)가 로봇암(130)의 기 설정된 웨이퍼(W) 위치에 정확하게 로딩된 것으로 판단되면 이후 공정을 진행하게 된다.

한편, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단은, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼(W)의 표면에 일정각도로 레이저를 입사하는 송신센서(200)와, 상기 송신센서(200)에 의해 입사되어 상기 웨이퍼(W) 표면에서 반사된 레이저를 수신하여 웨이퍼 표면의 이물질 부착여부를 감지하는 수신센서(201)를 구비하도록 구성해도 좋다.

상술한 바와 같이, 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 위치 감지 장치는 로봇암에 로딩되는 웨이퍼가 슬라이딩되어 기 설정된 웨이퍼 위치에서 벗어나는 경우를 감지하므로 상기 로봇암에 상기 웨이퍼가 기 설정된 위치가 아닌 위치에 로딩되어 공정이 진행되는 경우를 방지한다. 따라서 상기 이송용 로봇암에 부정확하게 놓여진 웨이퍼로 인해 발생하는 문제점을 사전에 예방할 수 있다.

이와 같이 본원의 이중 아암 로봇에서, 제어부가 엔드 이펙터 상의 웨이퍼의 중심위치를 판독함으로써, 웨이퍼의 중심위치와 공정챔버의 도어 및 웨이퍼 재치대(미도시) 상에 진출입할 경우, 웨이퍼 중심과 엔드 이펙터의 중심 위치에 편차가 있을 때, 이를 보정하여, 다음의 공정챔버로 이송 시, 로봇암(130)의 회전 각도 및 진퇴이동 거리를 실질적으로 정합시켜 가동될 수 있도로 함으로써, 실질적인 수율 향상을 도모할 수 있는 등의 매우 뛰어난 효과가 있는 것이다.

본 고안은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.

Claims (3)

1. 반도체 처리 장치용 로봇에 있어서,

   이송용 로봇암의 엔드 이펙터 상에 재치된 웨이퍼가 웨이퍼 위치 감지센서수단의 상공을 활주하면서 지나칠 경우, 상기 웨이퍼의 외주단이 최초 광간섭되는 위치의 제1 좌표와, 상기 웨이퍼의 외주단이 최종 광간섭되는 위치의 제2 좌표 사이의 거리를 원형상의 웨이퍼의 원주 상에 환산 대입하고, 이 대입하여 환산함으로써, 웨이퍼의 중심을 구하기 위해 광신호를 방사하도록 반도체 웨이퍼 공정챔버 내에 설치되는 웨이퍼 위치 감지센서수단과, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단을 구동함과 동시에, 상기 웨이퍼 위치 감지센서수단의 신호를 통해 이송용 로봇암에 파지된 웨이퍼의 위치를 감지 및 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 아암 로봇.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 웨이퍼 위치 감지센서수단은 상기 웨이퍼의 표면에 레이저를 입사하고 반사된 레이저를 수신하는 송수신 단일센서인 것을 특징으로 하는 이중 아암 로봇.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 웨이퍼 감지센서수단은 상기 웨이퍼의 표면에 일정각도로 레이저를 입사하는 송신센서와, 상기 송신센서에 의해 입사되어 상기 웨이퍼 표면에서 반사된 레이저를 수신하여 웨이퍼 표면의 이물질 부착여부를 감지하는 수신센서를 구비함을 특징으로 하는 이중 아암 로봇.

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