KR20040111342A - Releasing film - Google Patents

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KR20040111342A
KR20040111342A KR10-2004-7010442A KR20047010442A KR20040111342A KR 20040111342 A KR20040111342 A KR 20040111342A KR 20047010442 A KR20047010442 A KR 20047010442A KR 20040111342 A KR20040111342 A KR 20040111342A
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니시야마마사노리
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데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 표면에 적당한 요철을 갖는 폴리에스테르 베이스 필름에 실리콘 이형층을 갖던가 혹은 표면이 평탄한 폴리에스테르 베이스 필름에 적당한 요철을 갖는 실리콘 이형층을 갖는 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film having a silicone release layer having a polyester release film having a moderate unevenness on the surface or having a release layer having a proper unevenness at a polyester base film having a flat surface.

이형 필름 표면의 요철이 성형 시트에 전사되지 않는 우수한 표면 특성을 갖는 동시에, 가공 적성이 우수하고, 이형 특성도 양호한 이형 필름이다.It is a release film which has the outstanding surface property which the unevenness | corrugation of the surface of a release film is not transferred to a molded sheet, and is excellent in workability and also a favorable release property.

Description

이형 필름{RELEASING FILM}Release film {RELEASING FILM}

이형 필름은 예를 들어, 수지 시트의 성형용, 점착제 이형용, 의료용, 전기·전자 부품 제조용의 용도에 사용되고 있다. 이형 필름으로부터 성형되는 수지 시트 등의 성형체에서, 성형체의 표면의 평탄화가 중요한 과제이다. 필름으로 성형되는 성형체의 품질은 그 표면의 정밀도나 품질에 달려 있고, 즉 이형 필름의 표면의 정밀도나 품질에 달려있다고 말해도 과언이 아니다.The release film is used, for example, for shaping a resin sheet, for releasing pressure-sensitive adhesive, for medical use, and for producing electric and electronic parts. In a molded article such as a resin sheet molded from a release film, planarization of the surface of the molded article is an important problem. It is no exaggeration to say that the quality of the molded article molded into the film depends on the precision or quality of the surface thereof, that is, on the precision or quality of the surface of the release film.

이형 필름 그 자체는 폴리에스테르 필름에 이형성이 있는 수지의 층, 예를 들어 실리콘 수지층을 설치하여 형성된다. 통상, 폴리에스테르 필름 중에는 가공 적성, 예를 들어 미끄러짐성, 감김 특성을 좋게 하기 위해서, 입자가 배합되어 있지만, 일반적으로, 입자 첨가를 행하면 핸들링성이 개선되는 반면, 필름 표면이 거칠게 된다. 이것을 피하여 평탄한 표면성을 만들기 위해서 입자의 배합을 하지 않으면, 얻어지는 필름은 미끄러짐성이나 공기 빠짐성이 매우 악화되어, 가공 중에 주름이 생기거나, 롤상으로 감기지 않게 된다. 또한, 필름이 실리콘 도포층을 수반하면, 실리콘층이 폴리에스테르 필름의 표면의 돌기를 덮어 가리기 때문에, 가공 적성이 저하하게 된다.The release film itself is formed by providing a layer of resin with mold release property, for example, a silicone resin layer, in a polyester film. Usually, although a particle | grain is mix | blended in a polyester film in order to improve workability, for example, slipperiness | lubricacy and a winding characteristic, in general, when adding particle | grains, handling property improves, but a film surface becomes rough. If the particles are not blended in order to avoid this and to form a flat surface property, the resulting film is very deteriorated in slipperiness and air bleeding properties, and wrinkles do not occur during processing, or the rolls are not wound. Moreover, when a film carries a silicone coating layer, since a silicone layer covers the processus | protrusion of the surface of a polyester film, workability will fall.

종래, 이형 필름으로부터 성형되는 성형체 또는 성형 시트에서는, 그 표면 특성의 요구가 엄격하지 않아, 어느 정도의 조면이라도 품질상의 문제로 되지 않았지만, 근년, 이형 필름을 사용한 성형 시트의 표면 특성의 요구는 매우 엄격게 되어 왔다. 예를 들어, 염화비닐 수지나 우레탄 수지의 시트는, 이들의 수지 용액을 이형 필름상에 흘려 퍼트려서 시트를 성형한다. 이들 시트에서는 성형면에 특히 높은 광택성이 요구되는 경우가 있다. 또한, 점착 테이프용의 이형 필름에서는, 이형 필름 표면의 요철이 점착 테이프의 점착제층의 표면에 형상 전사하기 때문에, 예를 들어 유리면에 점착 테이프를 붙였을 때에, 유리면으로부터 점착 테이프로 형상 전사한 오목부에 공기가 들어가서, 깨끗한 외관을 얻을 수 없게 된다. 그 때문에, 표면의 엄격한 평탄성이 요구된다.Conventionally, in a molded article or a molded sheet molded from a release film, the demand for the surface properties is not strict and even roughness of any degree does not cause a problem in quality, but in recent years, the demand for the surface properties of a molded sheet using a release film is very high. It has been strict. For example, the sheet of vinyl chloride resin or urethane resin flows and spreads these resin solutions on a release film, and shape | molds a sheet. In these sheets, especially high glossiness may be requested | required of a shaping surface. Moreover, in the release film for adhesive tapes, since the unevenness | corrugation of the surface of a release film transfers shape to the surface of the adhesive layer of an adhesive tape, when the adhesive tape was stuck to the glass surface, for example, the recessed part shape-transferred from the glass surface to the adhesive tape was carried out. Air enters and it becomes impossible to obtain a clean appearance. Therefore, strict flatness of the surface is required.

전자 부품의 공정 재료 등에 사용되는 이형 필름에서는 특히 표면 특성의 요구가 높다. 예를 들어, 세라믹 콘덴서의 박층 시트를 제조하는 경우, 이형 필름상에 세라믹 분체와 바인더제를 액상 매체에 분산시킨 세라믹 슬러리를 도포하여, 3㎛이하의 매우 얇은 시트를 제조한다. 시트가 박층화 하면 할수록, 이형 필름의 표면 요철이 직접 성형 시트의 불량율 증가로 연결되므로, 이형 필름의 표면 특성의 요구가 높아진다. 또한, 디스플레이 용도의 공정 재료로서 사용되는 경우도 성형 시트의 박층화에 따라 이형 필름 표면의 평활화가 요구되고 있다.In the release film used for the process material of an electronic component, etc., the demand of surface characteristics is especially high. For example, when manufacturing the thin sheet of a ceramic capacitor, the ceramic slurry which disperse | distributed the ceramic powder and binder agent in the liquid medium is apply | coated on a release film, and the very thin sheet of 3 micrometers or less is manufactured. As the sheet becomes thinner, the surface unevenness of the release film leads directly to an increase in the defective rate of the molded sheet, so that the demand for the surface properties of the release film is increased. Moreover, even when used as a process material for display uses, the smoothing of the surface of a release film is calculated | required according to the thinning of a molded sheet.

발명의 개시Disclosure of the Invention

본 발명의 목적은, 이러한 종래 기술의 결점을 해소하여, 이형 필름 표면의 큰 요철이 성형 시트에 전사되지 않는 우수한 표면 특성을 갖는 동시에, 가공 적성이 우수하고, 이형 특성도 양호한 이형 필름을 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a release film having excellent surface properties in which large irregularities on the surface of the release film are not transferred to the molded sheet, and having excellent processing aptitudes and good release properties. Is in.

본 발명의 다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로부터 분명하게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 제1로,According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are first,

(a) 중심선 평균 조도(Ra)가 15nm이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 30~500nm인 표면을 갖는 폴리에스테르 필름, 및(a) a polyester film having a surface having a center line average roughness Ra of 15 nm or less and a 10-point average roughness Rz of 30 to 500 nm, and

(b) 상기 폴리에스테르 필름의 상기 표면상에 형성되고 또한 두께가 상기 표면의 Rz의 0.8배 이하인 실리콘 이형층(b) a silicon release layer formed on said surface of said polyester film and having a thickness of 0.8 times or less of Rz of said surface;

으로 되는 것을 특징으로 하는 이형 필름(이하, 본 발명의 제1 이형 필름이라고 함)에 의해서 달성된다.It is achieved by the release film (henceforth a 1st release film of this invention) characterized by the above-mentioned.

또한, 본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 제2로,Moreover, according to this invention, the said objective and advantage of this invention are 2nd,

(a') 중심선 평균 조도(Ra)가 5nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 30nm 이하인 표면을 갖는 폴리에스테르 필름, 및(a ') Polyester film which has a surface whose center line average roughness Ra is 5 nm or less, and 10-point average roughness Rz is 30 nm or less, and

(b') 상기 폴리에스테르 필름의 상기 표면상에 형성되고 또한 하기식(1)(b ') It is formed on the said surface of the said polyester film, and is following formula (1)

0.3d≤t≤2.5d …(1)0.3d ≦ t ≦ 2.5d (One)

(여기서, d는 불활성 입자의 평균 입경(nm)이고 또 t는 실리콘 이형층의 두께(nm)이다)(Where d is the average particle diameter (nm) of the inert particles and t is the thickness (nm) of the silicon release layer)

을 만족하는 불활성 입자를 함유하고 또한 두께 300nm 이하의 실리콘 이형층Silicon release layer containing inert particles satisfying

으로 되는 것을 특징으로 하는 이형 필름(이하, 본 발명의 제2 이형 필름이라고 함)에 의해서 달성된다.It is achieved by the release film (henceforth a 2nd release film of this invention) characterized by the above-mentioned.

발명의 바람직한 실시 형태Preferred Embodiments of the Invention

이하, 본 발명에 대해서 상술한다. 제1 이형 필름에 대해서 먼저 설명한다.Hereinafter, this invention is explained in full detail. First, the first release film will be described.

제1 이형 필름은 폴리에스테르 필름(a)과 그 표면상에 형성된 실리콘 이형층(b)으로 이루어진다.The first release film is composed of a polyester film (a) and a silicon release layer (b) formed on the surface thereof.

폴리에스테르 필름(a)의 폴리에스테르로는 방향족 디카본산을 주된 산성분으로 하고 또한 지방족 글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리에스테르가 바람직하게 사용된다. 이러한 폴리에스테르는 실질적으로 선상이고, 또 필름 성형성, 특히 용융 성형에 의한 필름 성형성을 갖는다.As polyester of a polyester film (a), polyester which has aromatic dicarboxylic acid as a main acid component and aliphatic glycol as a main glycol component is used preferably. Such polyesters are substantially linear and have film formability, especially film formability by melt molding.

방향족 디카본산의 예로는, 테레프탈산, 나프탈렌 디카본산, 이소프탈산, 디페녹시에탄 디카본산, 디페닐 디카본산, 디페닐 에테르 디카본산, 디페닐설폰 디카본산, 디페닐케톤 디카본산 및 안트라센 디카본산을 들 수 있다.Examples of aromatic dicarboxylic acids include terephthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid, isophthalic acid, diphenoxyethane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenylketone dicarboxylic acid and anthracene dicarboxylic acid. Can be mentioned.

지방족 글리콜의 예로는, 에틸렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 펜타메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜 및 데카메틸렌글리콜과 같은 탄소수 2~10의 폴리메틸렌글리콜과 시클로헥산디메탄올과 같은 지환족 디올을 들 수 있다.Examples of the aliphatic glycols include polymethylene glycols having 2 to 10 carbon atoms such as ethylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol and decamethylene glycol, and alicyclic diols such as cyclohexanedimethanol. Can be.

본 발명에서, 폴리에스테르로는, 알킬렌 테레프탈레이트 또는 알킬렌 나프탈레이트를 주된 구성 성분으로 하는 것이 바람직하게 사용된다.In the present invention, as the polyester, an alkylene terephthalate or an alkylene naphthalate as the main constituent is preferably used.

이러한 폴리에스테르로는, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트가 바람직하다. 이 폴리에틸렌 테레프탈레이트에는 전체 디카본산 성분의 예를 들어 80몰% 이상이 테레프탈산이고 또 전체 글리콜 성분의예를 들어 80몰% 이상이 에틸렌글리콜인 공중합체가 포함된다고 이해하여야 한다. 마찬가지로, 이 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트에는 전체 디카본산 성분의 예를 들어 80몰% 이상이 2,6-나프탈렌 디카본산이고 또 전체 글리콜 성분의 예를 들어 80몰% 이상이 에틸렌글리콜인 공중합체가 포함된다고 이해하여야 한다.As such polyester, polyethylene terephthalate or polyethylene-2,6-naphthalate is preferable, for example. It is to be understood that this polyethylene terephthalate includes copolymers in which at least 80 mol% of the total dicarboxylic acid component is terephthalic acid and at least 80 mol% of the total glycol component is ethylene glycol, for example. Similarly, in this polyethylene-2,6-naphthalate, for example, 80 mol% or more of all dicarboxylic acid components is 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, and for example, 80 mol% or more of all glycol components is air. It should be understood that coalescence is involved.

이러한 공중합체인 경우, 20몰% 이하는 테레프탈산 또는 2,6-나프탈렌 디카본산과는 다른 디카본산 성분인 것으로 할 수 있다. 이러한 다른 디카본산 성분의 예로는, 상기한 바와 같은 방향족 디카본산; 예를 들어 아디핀산, 세바틴산과 같은 지환족 디카본산 혹은 시클로헥산-1, 4-디카본산과 같은 지환족 디카본산 등을 들 수 있다.In the case of such a copolymer, 20 mol% or less can be set as a dicarboxylic acid component different from terephthalic acid or 2,6-naphthalene dicarboxylic acid. Examples of such other dicarboxylic acid components include aromatic dicarboxylic acids as described above; For example, alicyclic dicarboxylic acid, such as adipic acid and sebacic acid, or alicyclic dicarboxylic acid, such as cyclohexane-1, 4-dicarboxylic acid, etc. are mentioned.

또한, 전체 글리콜 성분의 20몰% 이하는 에틸렌글리콜과는 다른 글리콜 성분인 것으로 할 수 있다. 이러한 다른 글리콜 성분은, 예를 들어 상기한 바와 같은 글리콜; 예를 들어, 하이드로퀴논, 레졸신, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판과 같은 방향족 디올; 1,4-디하이드록시디메틸벤젠과 같은 방향환을 갖는 지방족 디올 혹은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜과 같은 폴리알킬렌글리콜(폴리옥시알킬렌글리콜) 등을 들 수 있다.In addition, 20 mol% or less of all the glycol components can be set as a glycol component different from ethylene glycol. Such other glycol components include, for example, glycols as described above; Aromatic diols such as, for example, hydroquinone, resorcin, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane; And aliphatic diols having an aromatic ring such as 1,4-dihydroxydimethylbenzene, or polyalkylene glycols (polyoxyalkylene glycols) such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol.

또한, 본 발명에서의 폴리에스테르에는, 예를 들어 하이드록시벤조산과 같은 방향족 옥시산, ω-하이드록시카프로산과 같은 지방족 옥시산 등의 옥시 카본산에서 유래하는 성분을, 디카본산 성분 및 옥시 카본산 성분의 총량에 대해 20몰% 이하로 공중합 혹은 결합하는 것도 포함된다.In the polyester of the present invention, for example, a component derived from an oxycarbonic acid such as an aromatic oxyacid such as hydroxybenzoic acid and an aliphatic oxyacid such as ω-hydroxycaproic acid is used as a dicarboxylic acid component and an oxycarboxylic acid. Copolymerization or bonding to 20 mol% or less with respect to the total amount of components is also included.

또한 폴리에스테르에는, 실질적으로 선상인 범위의 양, 예를 들어 전체 산성분에 대해 2몰% 이하의 양으로, 3관능 이상의 폴리카본산 또는 폴리하이드록시 화합물, 예를 들어 트리멜리트산, 펜타에리트리톨을 공중합한 것도 포함된다.In addition, polyester has a trifunctional or higher polycarboxylic acid or polyhydroxy compound such as trimellitic acid or pentaeryte in an amount in a substantially linear range, for example, in an amount of 2 mol% or less with respect to the total acid component. The copolymer of lititol is also included.

상기 폴리에스테르는 그 자체 공지이고, 그 자체 공지 방법으로 제조할 수 있다. 상기 폴리에스테르로는 o-클로로페놀 중의 용액으로 35℃에서 측정하여 구한 고유 점도가 0.4~0.9의 것이 바람직하다.The polyester is known per se and can be produced by a known method per se. As said polyester, the thing of 0.4-0.9 of the intrinsic viscosity measured and measured at 35 degreeC with the solution in o-chlorophenol is preferable.

본 발명에서 폴리에스테르 필름(a)은 불활성 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 불활성 입자의 평균 입경은 바람직하게는 1㎛ 미만, 더 바람직하게는 0.01㎛ 이상 1㎛ 미만, 더욱 바람직하게는 0.03㎛ 이상 1㎛ 미만이다. 이 불활성 입자는 유기 입자, 무기 입자의 어느 것이라도 좋고, 또 유기 입자와 무기 입자의 혼합 입자라도 좋다. 또한, 불활성 입자의 장경과 단경의 비(장경/단경)은 1.0~1.2인 것이 바람직하다. 이들 불활성 입자를 배합함으로써, 필름 표면에 적절한 요철을 형성할 수 있다. 이러한 불활성 입자의 구체적인 예로는, 탄산칼슘, 카올린, 산화규소, 황산바륨, 산화티탄, 알루미나 등의 무기 입자; 가교 폴리스티렌, 가교 실리콘 수지 입자, 가교 아크릴 수지 입자, 가교 폴리스티렌 수지 입자 등의 유기 수지 입자 및 무기 소재와 유기 소재가 쉘 코어 구조의 형태를 취하는 입자를 들 수 있다.In the present invention, the polyester film (a) preferably contains inert particles. The average particle diameter of the inert particles is preferably less than 1 µm, more preferably 0.01 µm or more and less than 1 µm, more preferably 0.03 µm or more and less than 1 µm. The inert particles may be either organic particles or inorganic particles, or mixed particles of organic particles and inorganic particles. Moreover, it is preferable that ratio (long diameter / short diameter) of the long diameter and short diameter of an inert particle is 1.0-1.2. By mix | blending these inert particle | grains, appropriate unevenness | corrugation can be formed in a film surface. Specific examples of such inert particles include inorganic particles such as calcium carbonate, kaolin, silicon oxide, barium sulfate, titanium oxide and alumina; And organic resin particles such as crosslinked polystyrene, crosslinked silicone resin particles, crosslinked acrylic resin particles, and crosslinked polystyrene resin particles, and particles in which an inorganic material and an organic material take the form of a shell core structure.

이들 불활성 입자는 단독으로 혹은 2종 이상 예를 들어 3종 혹은 4종 조합하여 사용할 수 있다.These inert particles can be used alone or in combination of two or more, for example, three or four.

이러한 불활성 입자의 첨가량은 폴리에스테르에 대해 0.01~0.3중량%이다.The addition amount of such inert particle is 0.01 to 0.3 weight% with respect to polyester.

또한, 폴리에스테르 필름(a)은 그것에 함유되는 불활성 입자의 평균 입경의 0.1~30배의 두께를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that a polyester film (a) has thickness of 0.1-30 times the average particle diameter of the inert particle contained in it.

폴리에스테르의 층의 두께가 평균 입경의 0.1배 미만에서는 함유되는 불활성 입자가 탈락하기 쉬워 바람직하지 않다. 또한, 평균 입경의 30배를 넘으면 폴리에스테르층에 함유되는 불활성 입자의 겹침이 생기기 쉬워, 필름의 표면에 요철이 형성되기 쉬워져서 바람직하지 않다.When the thickness of the layer of polyester is less than 0.1 times the average particle diameter, the inert particles contained are likely to drop off, which is not preferable. Moreover, when it exceeds 30 times of an average particle diameter, it will become easy to overlap of the inert particle contained in a polyester layer, and unevenness will form easily on the surface of a film, and it is unpreferable.

폴리에스테르 필름(a)은 중심선 평균 조도(Ra)가 15nm 이하이고 10점 평균 조도(Rz)가 30~500nm인 표면을 갖는다. Ra가 15nm를 넘으면, 성형체 표면에 형상 전사를 발생하게 된다. Ra는 바람직하게는 1~13nm이다.The polyester film (a) has a surface whose center line average roughness Ra is 15 nm or less and 10-point average roughness Rz is 30-500 nm. When Ra exceeds 15 nm, shape transfer occurs on the surface of the molded body. Ra is preferably 1 to 13 nm.

또한, Rz가 30nm 미만이면, 롤 형태로의 권취나 패스 롤과의 미끄러짐이 나쁘게 되어 가공 공정의 핸들링성이 불량하게 되고, 한편 500nm를 넘으면, 성형체 표면에 형상 전사를 발생하게 된다.In addition, when Rz is less than 30 nm, winding in roll form and slip with a pass roll become worse, and the handling property of a processing process becomes bad, and when it exceeds 500 nm, shape transfer arises on the surface of a molded object.

Rz는 바람직하게는 50~300nm이다.Rz becomes like this. Preferably it is 50-300 nm.

폴리에스테르 필름(a)의 두께는 10~100㎛이 바람직하고, 25~50㎛이 더욱 바람직하다.10-100 micrometers is preferable and, as for the thickness of a polyester film (a), 25-50 micrometers is more preferable.

본 발명의 제1 이형 필름은 폴리에스테르 필름(a)의 상기 Ra 및 Rz를 갖는 표면상에, 후술하는 실리콘 이형층(b)을 형성한 것이지만, 이 이형층(b)을 형성하는 면과는 반대측의 표면상에, 다른 폴리에스테르층을 가져도 좋다.Although the 1st release film of this invention formed the silicone mold release layer (b) mentioned later on the surface which has said Ra and Rz of a polyester film (a), it is different from the surface which forms this mold release layer (b). On the surface on the opposite side, you may have another polyester layer.

이러한 다른 폴리에스테르층은 폴리에스테르 필름(a)과 함께 적층 필름으로서 형성할 수 있다. 적층 필름은 적어도 2개의 층으로 이루어질 수 있으며, 공압출에 의해 제조된 것이 바람직하다. 이 경우, 층을 구성하는 폴리에스테르는 같아도 달라도 좋지만, 같은 것이 바람직하다.Such another polyester layer can be formed as a laminated film together with the polyester film (a). The laminated film may consist of at least two layers, preferably produced by coextrusion. In this case, although the polyester which comprises a layer may be same or different, the same thing is preferable.

적층 필름은, 예를 들어 다른 폴리에스테르층을 B층, C층으로 나타내면, 예를 들어, 폴리에스테르 필름(a)층/B 층, 폴리에스테르 필름(a)층/B 층/폴리에스테르 필름(a)층 혹은 폴리에스테르 필름(a)층/B 층/C 층과 같은 적층 구조를 취할 수 있다.If a laminated film shows another polyester layer by B layer and C layer, for example, a polyester film (a) layer / B layer, a polyester film (a) layer / B layer / polyester film ( It can take the laminated structure like a) layer or polyester film (a) layer / B layer / C layer.

적층 필름의 경우, 이형층(b)을 형성하는 폴리에스테르 필름(a)층과 반대측의 최외층 예를 들어 상기예에서는 B층이나 C층에는 불활성 입자가 함유되는 것이 바람직하다. 이 경우, 불활성 입자는 바람직하게는 0.1~1.0㎛의 평균 입경을 갖는다.In the case of laminated | multilayer film, it is preferable that inert particle is contained in the outermost layer on the opposite side to the polyester film (a) layer which forms a release layer (b), for example in the said example, B layer and C layer. In this case, the inert particles preferably have an average particle diameter of 0.1 to 1.0 mu m.

상기 적층 필름은 폴리에스테르 필름(a)층을 포함하는 전체의 총두께로서, 10~100㎛의 두께를 갖는 것이 바람직하고, 25~50㎛의 두께를 갖는 것이 더욱 바람직하다.The laminated film preferably has a thickness of 10 to 100 µm, more preferably 25 to 50 µm, as a total thickness of the whole including the polyester film (a) layer.

폴리에스테르 필름(a) 및 적층 폴리에스테르 필름 자체는 종래부터 알려져 있는, 혹은 당업계에 축적되어 있는 방법으로 얻을 수 있다. 2축 배향필름을 얻기 위해서는, 예를 들어, 융점(Tm:℃) 내지 (Tm+70)℃의 온도에서 폴리에스테르를 용융·공압출하여 고유 점도 0.4~0.8dl/g의 미연신 필름을 얻는다. 그 다음에 그 미연신 필름을 1축 방향(종방향 또는 횡방향)으로 (Tg-10)~(Tg+70)℃의 온도(단, Tg: 폴리에스테르의 유리 전이 온도)에서 2.5배 이상, 바람직하게는 3배 이상의 배율로 연신하고, 그 다음에 상기 연신 방향과 직각 방향으로 Tg~(Tg+70)℃의 온도에서 2.5배 이상, 바람직하게는 3배 이상의 배율로 연신한다. 또한 필요에 따라서 종방향 및/또는 횡방향으로 재차 연신해도 좋다. 이와 같이 하여 전체 연신 배율은 면적 연신 배율로서 9배 이상이 바람직하고, 12~35배가 더욱 바람직하고, 15~25배가 특히 바람직하다. 또한, 2축 배향필름은 (Tg+70)℃~(Tm-10)℃의 온도(단, Tm: 폴리에스테르의 융점)에서 열고정할 수 있고, 예를 들어, 180~250℃가 바람직하다. 열고정 시간은 1~60초가 바람직하다.The polyester film (a) and the laminated polyester film itself can be obtained by a method known in the art or accumulated in the art. To obtain a biaxially oriented film, for example, the polyester is melted and coextruded at a temperature of melting point (Tm: ° C) to (Tm + 70) ° C to obtain an unstretched film having an intrinsic viscosity of 0.4 to 0.8 dl / g. . Then, the unstretched film is 2.5 times or more at a temperature of (Tg-10) to (Tg + 70) ° C. (wherein Tg: glass transition temperature of polyester) in the uniaxial direction (longitudinal or transverse direction), Preferably, the film is stretched at a magnification of 3 times or more, and then stretched at a magnification of 2.5 times or more, preferably 3 times or more at a temperature of Tg to (Tg + 70) ° C in a direction perpendicular to the stretching direction. Moreover, you may extend again in a longitudinal direction and / or a lateral direction as needed. Thus, 9 times or more are preferable as an area draw ratio, 12-35 times are more preferable, and 15-25 times are especially preferable. In addition, the biaxially oriented film can be heat-set at a temperature of (Tg + 70) ° C to (Tm-10) ° C (wherein Tm: melting point of polyester), for example, preferably 180 to 250 ° C. The heat setting time is preferably 1 to 60 seconds.

또한, 상기에서, 필름이 다른 폴리에스테르로 각층이 형성된 적층 필름인 때에는, 융점 및 유리 전이 온도는, 보다 높은 온도의 융점 및 유리 전이 온도를 갖는 폴리에스테르의 당해 융점 및 유리 전이 온도를 의미하는 것으로 이해하여야 한다.In addition, in the above, when a film is a laminated film in which each layer was formed from another polyester, melting | fusing point and glass transition temperature mean the melting | fusing point and glass transition temperature of the polyester which has a higher melting | fusing point and glass transition temperature. It must be understood.

본 발명의 제1 이형 필름은 상기한 바와 같이, 폴리에스테르 필름(a)의 표면상에 실리콘 이형층(b)을 형성한 것이다. 실리콘 이형층(b)은 폴리에스테르 필름(a)의 한쪽면 혹은 양면상에 형성해도 좋다.As mentioned above, the 1st release film of this invention forms the silicone release layer (b) on the surface of the polyester film (a). The silicon release layer (b) may be formed on one side or both sides of the polyester film (a).

본 발명에서, 이형층은 바람직하게는 폴리디메틸실록산, 혹은 이것을 주성분으로 하고, 이것에 하기(1) 또는 (2)의 성분을 배합한 것, 하기 (3) 또는 (4)의 변성 폴리디메틸실록산 혹은 하기(5)의 부가형 실리콘 수지로 이루어진다.In the present invention, the release layer is preferably polydimethylsiloxane, or a main component of which the compound (1) or (2) is added, and the modified polydimethylsiloxane of (3) or (4). Or it consists of the addition type silicone resin of the following (5).

(1) 폴리디메틸실록산 중합체 중에 하기의 D단위, T단위 및/또는 Q단위의 구조를 갖는 실리콘 레진.(1) Silicone resin which has a structure of the following D unit, T unit, and / or Q unit in a polydimethylsiloxane polymer.

이 실리콘 레진을 폴리디메틸실록산에 배합하여 이형층 중의 메틸기의 농도를 조정하여 표면 장력을 증가시킬 수 있다. 또한, 이 실리콘 레진의 배합 비율은 고형분 농도로 10~60중량%인 것이 바람직하다. 레진 배합량이 10중량% 이하에서는 성형 시트를 형성할 때에 젖음성이 나빠서, 튀어버리는 경우가 있다. 또 60중량% 이상에서는 박리력이 커서, 성형체를 박리할 수 없게 된다.The silicone resin can be blended with polydimethylsiloxane to adjust the concentration of the methyl group in the release layer to increase the surface tension. Moreover, it is preferable that the compounding ratio of this silicone resin is 10 to 60 weight% in solid content concentration. When resin compounding quantity is 10 weight% or less, wettability may worsen and it may splash when forming a molded sheet. Moreover, in 60 weight% or more, peeling force is large and it becomes impossible to peel a molded object.

여기서, R은 알킬기, 바람직하게는 메틸기, 또는 방향족 탄화수소기, 바람직하게는 페닐기를 나타낸다.Here, R represents an alkyl group, preferably a methyl group, or an aromatic hydrocarbon group, preferably a phenyl group.

(2) 실리카 필러.(2) silica filler.

폴리디메틸실록산 중합체 중에 실리카 필러를 배합함으로써 이형층 중의 -Si-OH 기의 농도가 높게 되도록 조정할 수 있다. 또한, 이 실리카 필러는 평균 입경이 1㎛ 이하의 것이 바람직하다. 평균 입경이 1㎛를 넘으면 필름이 헤이즈가 커져서, 투명성이 요구되는 용도에 사용할 때에 지장이 되는 경우가 있거나, 가공 공정에서 필름을 주행시킬 때에 이형층의 깎임이 발생하는 경우가 있기 때문에 바람직하지 않다. 실리카 필러의 배합 비율은 고형분 농도로 0.01~1중량%인 것이 바람직하다. 배합 비율이 0.01중량% 보다도 적으면 실리콘면과의 롤의 미끄러짐성이 나빠지고, 1중량%을 넘으면 실리카 필러 이형층으로부터 깎여 탈락하는 경우가 있기 때문에 바람직하지 않다.By mix | blending a silica filler in a polydimethylsiloxane polymer, it can adjust so that the density | concentration of -Si-OH group in a mold release layer may become high. Moreover, it is preferable that this silica filler is 1 micrometer or less in average particle diameter. When the average particle diameter exceeds 1 µm, the film is not preferable because the film has a large haze and may be hindered when used for applications requiring transparency, or the shaping of the release layer may occur when the film is run in the processing step. . It is preferable that the compounding ratio of a silica filler is 0.01 to 1 weight% in solid content concentration. If the blending ratio is less than 0.01% by weight, the slipperiness of the roll with the silicon surface is deteriorated. If the blending ratio is more than 1% by weight, it may be shaved off from the silica filler release layer, which is not preferable.

(3) 폴리디메틸실록산 중합체 중의 메틸기의 일부를 페닐기로 치환한 변성 폴리디메틸실록산.(3) Modified polydimethylsiloxane in which a part of the methyl group in the polydimethylsiloxane polymer is substituted with a phenyl group.

페닐기의 입체 장해에 의해, 예를 들어 중합체 중의 -Si-O-Si-결합의 주위의 회전 운동이 억제되어, 그 결과 이형층 표면의 메틸기의 농도가 감소하기 때문에 표면 장력을 증가시킬 수 있다. 또한, 이 페닐기의 치환 비율은 10~60몰%인 것이 바람직하다. 이 치환 비율이 10몰% 보다도 적으면 성형층이 튀기기 쉬워, 도포할 수 없는 경우가 있고, 60몰%을 넘으면 이형층과 각종 점착제나 각종 시트와의 이형성이 불량하게 되는 경우가 있기 때문에 바람직하지 않다.By steric hindrance of the phenyl group, for example, the rotational movement around the -Si-O-Si-bond in the polymer can be suppressed, so that the surface tension can be increased because the concentration of the methyl group on the surface of the release layer is reduced. Moreover, it is preferable that the substitution ratio of this phenyl group is 10-60 mol%. When this substitution ratio is less than 10 mol%, a shaping | molding layer may be easy to be splashed and it may not apply, and when it exceeds 60 mol%, the mold release property of a mold release layer, various adhesives, and various sheets may become unsatisfactory. not.

(4) 실라놀기나 메톡시기 등의 반응 활성기를 비교적 고농도로 갖는 폴리디메틸실록산 중합체와, 분자내에 수산기를 갖는 유기 수지(예를 들어 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지)를 반응시켜 얻을 수 있는 변성 폴리디메틸실록산.(4) A polydimethylsiloxane polymer having a relatively high concentration of a reactive active group such as a silanol group or a methoxy group and an organic resin having a hydroxyl group in a molecule (for example, an alkyd resin, a polyester resin, an acrylic resin) can be obtained by reacting Modified polydimethylsiloxanes.

이 변성 폴리디메틸실록산 중의 디메틸실록산 성분의 비율은 10~30중량%인 것이 바람직하다. 이 비율이 10중량% 보다도 적으면 이형성이 불량하게 되는 경우가 있고, 30중량%을 넘으면 실리콘의 전사가 일어나서 바람직하지 않다.It is preferable that the ratio of the dimethylsiloxane component in this modified polydimethylsiloxane is 10-30 weight%. If this ratio is less than 10% by weight, the releasability may be poor. If it exceeds 30% by weight, transfer of silicon occurs, which is not preferable.

(5) 부가 반응형의 실리콘 수지, 예를 들어, 비닐기를 도입한 폴리디메틸실록산과 하이드로젠 실란으로 이루어지는, 부가 반응형의 실리콘 수지.(5) The addition reaction type silicone resin which consists of polydimethylsiloxane and hydrogen silane which introduce | transduced a addition group, for example, a vinyl group.

비닐기를 갖는 폴리디메틸실록산과 하이드로젠 실란과의 비율은 하이드로젠 실란 중의 -SiH기 1.0몰에 대해서 폴리디메틸실록산 중의 비닐기가 1.0-2.0몰로 되는 비율이 바람직하다.The ratio of the polydimethylsiloxane having a vinyl group and the hydrogen silane is preferably such that the vinyl group in the polydimethylsiloxane is 1.0-2.0 mol relative to 1.0 mol of the -SiH group in the hydrogen silane.

이형층 중의 메틸기의 농도를 조정하면, 표면 장력을 증가시킬 수 있다. 그 때문에, 이 실리콘 수지에, 상기(1)의 실리콘 레진을 배합해도 좋다. 이 실리콘 레진의 배합 비율은 적당한 박리력을 얻는 관점에서, 고형분 농도로, 바람직하게는 60중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.1~30중량%이다.By adjusting the concentration of the methyl group in the release layer, the surface tension can be increased. Therefore, you may mix | blend the silicone resin of said (1) with this silicone resin. From the viewpoint of obtaining a suitable peel force, the blending ratio of the silicone resin is at a solid content concentration, preferably 60% by weight or less, and more preferably 0.1 to 30% by weight.

비닐기를 갖는 상기 폴리디메틸실록산은 -Si(CH3)2-기 외에, -SiAr2-, -SiAr(R)-기를 함유해도 좋다. 여기서, Ar기는 방향족 탄화수소기이고, 바람직하게는 페닐기이다. R기는 알킬기, 바람직하게는 메틸기이다. 비닐기를 갖는 폴리디메틸실록산이 -SiPh(CH3)-기 또는 -Si(Ph)2-를 함유하는 경우, 실리콘의 분자 구조의 흐트러짐을 억제하고, 적당한 박리력과 충분한 경도를 확보하는 관점에서, -Si(CH3)2-기의 1몰에 대해서, 이들 기는 0.5몰 이하인 것이 바람직하다. 여기서, Ph는 페닐기이다.The polydimethylsiloxane having a vinyl group may contain -SiAr 2 -and -SiAr (R)-groups in addition to the -Si (CH 3 ) 2 -group. Here, Ar group is an aromatic hydrocarbon group, Preferably it is a phenyl group. R group is an alkyl group, Preferably it is a methyl group. In the case where the polydimethylsiloxane having a vinyl group contains a -SiPh (CH 3 )-group or -Si (Ph) 2- , from the viewpoint of suppressing the disturbance of the molecular structure of the silicon and ensuring an appropriate peeling force and sufficient hardness, -Si (CH 3) 2 -, based on 1 mole of the group, these groups is preferably not more than 0.5 mol. Ph is a phenyl group.

부가 반응형의 실리콘 수지는 3차원 가교 구조로 한 것이라도 좋고, 3차원 가교 구조는 백금 촉매를 사용하여 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The addition reaction type silicone resin may have a three-dimensional crosslinked structure, and the three-dimensional crosslinked structure can be obtained by reacting with a platinum catalyst.

또한, 실리콘의 경화 타입으로서, 상기 열경화 타입 외에, 자외선에 의한 경화 타입이나, 전자선에 의한 경화 타입의 실리콘을 사용하여도 좋다.As the curing type of silicon, in addition to the thermosetting type, silicone of curing type by ultraviolet rays or curing type by electron beam may be used.

실리콘 이형층의 두께는, 그 위에 실리콘 이형층이 형성된 폴리에스테르 필름(a)의 표면의 10점 평균 조도(Rz)의 0.8배 이하인 것이 중요하다. Rz의 0.8배를 넘으면 필름내 입자에 의한 약간의 요철 부분의 오목부에 실리콘 수지가 들어가서, 결과적으로 이형층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra)와 10점 평균 조도(Rz)가 낮아져서, 공정내의 핸들링성 불량이나 이형층의 블로킹(배면 전사)에 의한 불편을 일으킨다.It is important that the thickness of a silicone mold release layer is 0.8 times or less of 10-point average roughness Rz of the surface of the polyester film (a) in which the silicone mold release layer was formed. When it exceeds 0.8 times of Rz, a silicone resin enters into the recessed part of the uneven part by the particle | grains in a film, and as a result, the center line average roughness Ra and the 10-point average roughness Rz of the surface of a release layer become low, and in-process It causes inconvenience due to poor handling property or blocking (backside transfer) of the release layer.

실리콘 이형층은 평균 입경 5~80nm의 불활성 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 이 불활성 입자를 함유함으로써 양호한 공정내의 핸들링 특성과 블로킹의 개선 효과를 얻을 수 있다.It is preferable that a silicone mold release layer contains inert particle | grains of 5-80 nm of average particle diameters. By containing this inert particle, the improvement of the handling characteristic and blocking in a favorable process can be acquired.

본 발명의 제1 이형 필름은 바람직하게는 실리콘 이형층(b)의 노출 표면의 중심선 평균 조도(Ra)가 15nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 100~500nm이다.In the first release film of the present invention, the center line average roughness Ra of the exposed surface of the silicon release layer (b) is preferably 15 nm or less, and the 10-point average roughness Rz is 100 to 500 nm.

본 발명의 제1 이형 필름은 양쪽 모두의 노출 표면의 중심선 평균 조도(Ra)의 합이 12nm 이상인 것이 바람직하다. 12nm 미만이면 롤 형태로의 권취나 패스 롤과의 미끄러짐이 나빠서 공정의 핸들링성 불량이나, 이형층의 블로킹(배면 전사)이 발생한다.In the first release film of the present invention, the sum of the centerline average roughness Ra of both exposed surfaces is preferably 12 nm or more. If it is less than 12 nm, winding up in roll form and slip with a pass roll will worsen, and the processability defect of a process and blocking (backside transfer) of a release layer will arise.

이형층에는 본 발명의 목적을 방해하지 않은 범위에서 공지의 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 이 첨가제로는 예를 들어 자외선 흡수제, 안료, 소포제, 대전 방지제를 필요에 따라서 첨가하여도 좋다.A well-known various additive can be mix | blended with a mold release layer in the range which does not prevent the objective of this invention. As this additive, you may add a ultraviolet absorber, a pigment, an antifoamer, and an antistatic agent as needed, for example.

본 발명에서는, 폴리에스테르 필름(a)과 이형층(b)의 밀착성을 높이기 위해서 폴리에스테르 필름(a)과 이형층(b) 사이에 접착층을 설치하여도 좋다. 이 접착층에는 예를 들어 실란 커플링제를 바람직하게 사용할 수 있다. 이 실란 커플링제로는, 식 Y-Si-X3로 표시되는 것을 들 수 있다. 여기서, Y는 예를 들어 아미노기, 에폭시기, 비닐기, 메타크릴기, 머캅토기 등으로 대표되는 관능기, X는 알콕시기로대표되는 가수 분해성의 관능기를 나타낸다. 상기의 접착층의 바람직한 두께는 0.005~1㎛ 정도이고, 특히 0.02~0.5㎛이 바람직하다. 접착층의 두께가 상기의 범위이면 폴리에스테르 필름(a)과 이형층(b)의 밀착성이 양호해지고, 또 접착층(b)을 설치한 폴리에스테르 필름이 블로킹하기 어렵기 때문에 취급할 때에 지장이 생기기 어렵다.In this invention, in order to improve the adhesiveness of a polyester film (a) and a release layer (b), you may provide an adhesive layer between a polyester film (a) and a release layer (b). A silane coupling agent can be used suitably for this adhesive layer, for example. The silane coupling agents include those represented by the formula Y-Si-X 3. Here, Y is a functional group represented by an amino group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryl group, a mercapto group, etc., for example, X represents the hydrolysable functional group represented by an alkoxy group. Preferable thickness of the said contact bonding layer is about 0.005-1 micrometer, and 0.02-0.5 micrometer is especially preferable. When the thickness of the adhesive layer is in the above range, the adhesion between the polyester film (a) and the release layer (b) becomes good, and since the polyester film provided with the adhesive layer (b) is difficult to block, trouble does not occur when handling. .

본 발명에서, 이형층은, 예를 들어 이형층의 성분을 함유하는 도포액을 필름에 도포하고, 가열 건조시킴으로써 도포 설치할 수 있다. 이 도포액의 도포 방법으로는 공지의 임의 도공법을 적용할 수 있다. 적용 도포 방법으로서, 예를 들어 롤코터법, 블레이드 코터법을 들 수 있지만, 이들 방법에 한정되는 것이 아니다. 도포층 형성을 위한 가열 건조는 바람직하게는 70~170℃에서 20~60초 행한다.In this invention, a release layer can apply | coat and install by apply | coating the coating liquid containing the component of a mold release layer to a film, and heat-drying, for example. A well-known arbitrary coating method can be applied as a coating method of this coating liquid. As the application | coating method, although the roll coater method and the blade coater method are mentioned, it is not limited to these methods, for example. The heat drying for forming the coating layer is preferably performed at 70 to 170 ° C for 20 to 60 seconds.

다음에, 본 발명의 제2 이형 필름에 대해서 설명한다.Next, the 2nd release film of this invention is demonstrated.

제2 이형 필름은 폴리에스테르 필름(a')과 그 표면상에 형성된 이형 필름(b')으로 이루어진다.The 2nd release film consists of a polyester film (a ') and the release film (b') formed on the surface.

폴리에스테르 필름(a')의 폴리에스테르로는 제1 이형 필름에 관하여 기재한 폴리에스테르와 동일한 것을 사용할 수 있다.As polyester of a polyester film (a '), the thing similar to the polyester described about the 1st release film can be used.

폴리에스테르 필름(a')은 불활성 입자를 함유하고 있어도 함유하고 있지 않아도 좋다. 함유할 때, 불활성 입자로는 제1 이형 필름의 폴리에스테르 필름(a)에 대해서 기재한 불활성 입자와 동일한 것을 사용할 수 있다. 이들 불활성 입자는 단독으로 혹은 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 불활성 입자는 폴리에스테르에 대해 0.2중량% 이하로 배합할 수 있다.The polyester film (a ') may contain even if it contains inert particle. When it contains, the same thing as the inert particle described about the polyester film (a) of a 1st release film can be used as inert particle. These inert particles can be used individually or in combination of 2 or more types. Such inert particles can be blended at 0.2% by weight or less with respect to the polyester.

폴리에스테르 필름(a')은, 중심선 평균 조도(Ra)가 5nm 이하 또 10점 평균 표면 조도(Rz)가 30nm 이하의 표면을 갖는다. 중심선 평균 조도(Ra)가 5nm를 넘으면 박층 성형 시트에서는 표면의 평활성이 손상되며, 10점 평균 표면 조도(Rz)가 30nm를 넘으면 성형 시트에 두께 불일치를 일으켜, 전자 재료 용도에서는 전기 특성 불량을 일으킨다. Ra는 바람직하게는 0~5nm이고, Rz는 바람직하게는 3~30nm이다.The polyester film (a ') has a surface whose center line average roughness Ra is 5 nm or less and 10-point average surface roughness Rz is 30 nm or less. If the center line average roughness Ra exceeds 5 nm, the surface smoothness is impaired in the thin-walled sheet, and if the 10-point average surface roughness Rz exceeds 30 nm, thickness mismatch occurs in the molded sheet, resulting in poor electrical properties in electronic materials. . Ra is preferably 0 to 5 nm, and Rz is preferably 3 to 30 nm.

폴리에스테르 필름(a')의 두께는 바람직하게는 10~100㎛이고, 더욱 바람직하게는 15~50㎛이다.Preferably the thickness of a polyester film (a ') is 10-100 micrometers, More preferably, it is 15-50 micrometers.

본 발명의 제2 이형 필름은, 폴리에스테르 필름(a')의 상기 Ra 및 Rz를 갖는 표면상에, 후술하는 실리콘 이형층(b')을 형성한 것이지만, 이 이형층(b')을 형성하는 면과는 반대측의 표면상에, 다른 폴리에스테르층을 가져도 좋다. 이러한 다른 폴리에스테르층은 폴리에스테르 필름(a')과 함께, 적층 필름으로서 형성할 수 있다. 이러한 적층 필름에 대해서는 제1 이형 필름에 대해서 기재한 설명이, 폴리에스테르 필름(a)을 폴리에스테르 필름(a')으로 대체함으로써 그대로 적용된다고 이해된다.Although the 2nd release film of this invention formed the silicone release layer (b ') mentioned later on the surface which has said Ra and Rz of a polyester film (a'), it forms this release layer (b '). You may have another polyester layer on the surface on the opposite side to the surface to make. Such another polyester layer can be formed as a laminated film together with a polyester film (a '). It is understood that the description described for the first release film is applied as it is to the laminated film by replacing the polyester film (a) with the polyester film (a ').

또한, 폴리에스테르 필름(a') 및 상기 적층 필름은 제1 이형 필름에 대해서 기재한 제조 방법과 동일하게 하여 제조할 수 있다.In addition, a polyester film (a ') and the said laminated | multilayer film can be manufactured similarly to the manufacturing method described about the 1st release film.

본 발명의 제2 이형 필름은 상기한 바와 같이, 폴리에스테르 필름(a')의 표면상에 실리콘 이형층(b')을 형성한 것이다.As mentioned above, the 2nd release film of this invention forms the silicone release layer (b ') on the surface of the polyester film (a').

실리콘 이형층(b')는 폴리에스테르 필름(a')의 한쪽면 혹은 양면상에 형성해도 좋다.The silicon release layer (b ') may be formed on one side or both sides of the polyester film (a').

이형층은 바람직하게는 폴리디메틸실록산 혹은 이것을 주성분으로 하고, 이것에 제1 이형 필름의 이형층에 대해서 상기한 (1) 또는 (2)의 성분을 배합한 것, 상기한 (3) 또는 (4)의 변성 폴리디메틸실록산 혹은 상기한 (5)의 부가형 실리콘 수지로 이루어진다. 이들 중 부가형 실리콘 수지가 바람직하다.The release layer is preferably a polydimethylsiloxane or a main component thereof, and a mixture of the above-described components of (1) or (2) with respect to the release layer of the first release film, (3) or (4). A modified polydimethylsiloxane of) or the addition type silicone resin of the above (5). Among these, an addition type silicone resin is preferable.

제2 이형 필름에서, 실리콘 이형층은 미소 경도 측정에서 100mgf/㎛2이상의 경도를 갖는 것이 바람직하다. 경도를 100mgf/㎛2이상으로 함으로써, 블로킹을 방지하고, 필름이 롤상으로 권취될 때의 접촉 면적을 충분히 좁게 할 수 있어, 박리 대전을 억제할 수 있다.In the second release film, the silicone release layer preferably has a hardness of at least 100 mgf / μm 2 in the microhardness measurement. By setting hardness to 100 mgf / micrometer 2 or more, blocking can be prevented and the contact area at the time of winding up a film in a roll shape can be made narrow enough, and peeling charging can be suppressed.

실리콘 이형층의 두께는 300nm 이하이고, 바람직하게는 30~300nm, 더욱 바람직하게는 50~200nm이다. 300nm를 넘으면 블로킹을 일으키기 쉽게 된다. 30nm 미만이면 박리 특성이 안정화되지 않아, 박리가 힘들게 되는 경우가 있어 바람직하지 않다.The thickness of a silicon release layer is 300 nm or less, Preferably it is 30-300 nm, More preferably, it is 50-200 nm. If it exceeds 300nm, it becomes easy to cause blocking. If it is less than 30 nm, peeling property will not be stabilized and peeling may become difficult, which is not preferable.

본 발명에서, 실리콘 이형층은 불활성 입자를 함유한다. 불활성 입자는 평탄한 이형층면에 많은 미세한 요철을 부여한다. 이 요철은 매우 미세하기 때문에, 요철의 형상이 이형 필름으로부터 성형 시트에 전사하여도 불편을 일으키는 레벨로는 되지 않는다. 이 불활성 입자의 첨가에 의해, 이형층의 배면으로의 전사(블로킹)이 개선되어, 공정 적성이 개선된다.In the present invention, the silicon release layer contains inert particles. Inert particles impart many fine irregularities to the flat release layer surface. Since this unevenness | corrugation is very fine, even if the shape of an unevenness | corrugation transfers from a mold release film to a molded sheet, it does not become a level which causes inconvenience. By addition of this inert particle, transfer (blocking) to the back surface of a release layer improves, and process suitability improves.

이 목적을 위해서, 불활성 입자의 평균 입경은 바람직하게는 1~100nm, 더욱바람직하게는 3~80nm, 특히 바람직하게는 3~50nm이다. 또한, 불활성 입자의 장경과 단경의 비(장경/단경)은 바람직하게는 1.0~1.2이다.For this purpose, the average particle diameter of the inert particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 80 nm, particularly preferably 3 to 50 nm. Moreover, the ratio (long diameter / short diameter) of the long diameter and short diameter of an inert particle becomes like this. Preferably it is 1.0-1.2.

이러한 불활성 입자는 유기 입자, 무기 입자의 어느 것이라도 좋고, 유기 입자와 무기 입자의 혼합 입자라도 좋다. 이러한 불활성 입자의 구체적인 예로는 탄산칼슘, 카올린, 산화규소, 황산바륨, 산화티탄, 알루미나, 산화마그네슘, 산화지르코늄 등의 무기 입자; 가교 폴리스티렌 수지 입자, 가교 실리콘 수지 입자, 가교 아크릴 수지 입자, 가교 폴리스티렌 수지 입자 등의 유기 수지 입자 및 무기 소재와 유기 소재가 쉘 코어 구조의 형태를 취하는 입자를 들 수 있다. 특히 미세 입자의 경우는 무기 입자가 바람직하다.Such inert particles may be either organic particles or inorganic particles, or mixed particles of organic particles and inorganic particles. Specific examples of such inert particles include inorganic particles such as calcium carbonate, kaolin, silicon oxide, barium sulfate, titanium oxide, alumina, magnesium oxide, zirconium oxide; Organic resin particles, such as crosslinked polystyrene resin particle, crosslinked silicone resin particle, crosslinked acrylic resin particle, and crosslinked polystyrene resin particle, and particle | grains in which an inorganic material and an organic material take the form of a shell core structure are mentioned. In particular, in the case of fine particles, inorganic particles are preferable.

실리콘 이형층으로의 불활성 입자의 배합량은 바람직하게는 0.1~25중량%, 더욱 바람직하게는 0.3~5중량%이다. 첨가량이 0.1미만이면 미끄러짐성이나 이형층의 블로킹이 일어나고, 이형층의 박리 특성이 안정되지 않게 되어 바람직하지 않다. 25중량%을 넘으면 투명성이 떨어지고, 응집이 일어나기 쉬워서 큰 응집물이 발생하므로 바람직하지 않다.The compounding quantity of the inert particle to a silicone mold release layer becomes like this. Preferably it is 0.1-25 weight%, More preferably, it is 0.3-5 weight%. If the addition amount is less than 0.1, slipperiness or blocking of the release layer occurs, and the peeling characteristics of the release layer become unstable, which is not preferable. When it exceeds 25 weight%, transparency falls and it is easy to aggregate, and large aggregates generate | occur | produce, and it is unpreferable.

실리콘 이형층은 하기식(1):The silicone release layer is of the following formula (1):

0.3d≤t≤2.5d …(1)0.3d ≦ t ≦ 2.5d (One)

"여기서, t(nm)는 실리콘 이형층의 두께이고 또 d(nm)는 불활성성 입자의 평균 입경이다,""Where t (nm) is the thickness of the silicon release layer and d (nm) is the average particle diameter of the inert particles,"

을 만족함이 필요하다.It is necessary to satisfy.

실리콘의 이형층의 두께 t(nm)가 0.3d 미만이면 불활성 입자의 탈락이 일어나서, 이물 발생의 원인으로 되며, 2.5d를 넘으면 표면의 미세한 요철이 형성되지 않아 미끄러짐성 불량으로 되어, 핸들링이나 권취성, 박리 대전 불량을 일으킨다.If the thickness t (nm) of the release layer of silicon is less than 0.3 d, the inert particles may fall off, causing foreign matters. If the thickness exceeds 2.5 d, the surface may not have fine unevenness, resulting in poor slipperiness. It causes brittleness and poor peeling charging.

본 발명의 제2 이형 필름에서는 이형층의 노출 표면의 돌기에 대해서, 하기식 (2) 및 (3)의 관계가 만족되는 것이 바람직하다.In the 2nd release film of this invention, it is preferable that the relationship of following formula (2) and (3) is satisfied about protrusion of the exposed surface of a release layer.

HD5≥500개/mm2…(2)HD5 ≧ 500 pcs / mm 2 ... (2)

HD10≤100개/mm2…(3)HD10 ≦ 100 pcs / mm 2 ... (3)

(여기서, HD5는 높이 5nm 이상의 돌기의 개수이고 또 HD10은 높이 10nm 이상의 돌기의 개수이다)(Where HD5 is the number of protrusions of 5 nm or more in height and HD10 is the number of protrusions of 10 nm or more in height)

HD5가 500 미만이면, 미끄러짐성 불량으로 되어, 핸들링이나 권취성, 박리 대전 불량을 일으키므로 바람직하지 않다. HD10이 100을 넘으면 성형 시트 표면에 형상이 전사하여, 시트의 두께 불균일의 원인으로 되므로 바람직하지 않다.When HD5 is less than 500, it becomes unstable slipperiness | movement, and it is unpreferable since it causes handling, winding property, and peeling charging failure. When HD10 exceeds 100, the shape is transferred to the molded sheet surface, which causes uneven thickness of the sheet, which is not preferable.

또한, HD5 및 HD10은 하기 관계(2') 및 (3'):In addition, HD5 and HD10 have the following relationship (2 ') and (3'):

10,000≥HD5≥1,000 …(2')10,000 ≧ HD5 ≧ 1,000... (2')

10≤HD10≤70 …(3')10≤HD10≤70... (3 ')

을 만족하는 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable to satisfy.

본 발명의 제2 이형 필름은 바람직하게는 실리콘 이형층(b')의 노출 표면의 중심선 평균 조도(Ra)가 5nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 30nm 이하이다.The second release film of the present invention preferably has a centerline average roughness Ra of 5 nm or less and a 10-point average roughness Rz of 30 nm or less of the exposed surface of the silicon release layer (b ').

본 발명에서의 이형층에는 본 발명의 목적을 방해하지 않은 범위에서, 첨가제를 첨가하여도 좋다. 이 첨가제로는 예를 들어 자외선 흡수제, 안료, 소포제,대전 방지제를 예시할 수 있다. 또한, 이형층과는 별도로, 이러한 첨가제를 수지에 배합하고, 그 수지를 폴리에스테르 필름(a')의 표면에 도포 설치해도 좋다.You may add an additive to the mold release layer in this invention in the range which does not prevent the objective of this invention. As this additive, a ultraviolet absorber, a pigment, an antifoamer, an antistatic agent can be illustrated, for example. Moreover, you may mix | blend such additive with resin and apply | coat this resin to the surface of a polyester film (a ') separately from a mold release layer.

본 발명에서는 폴리에스테르 필름(a')과 이형층과의 밀착성을 높이기 위해서 폴리에스테르 필름(a')을 코로나 처리하거나 혹은 폴리에스테르 필름(a')과 이형층 사이에 접착층을 설치하여도 좋다. 접착층에는 실란 커플링제를 사용하는 것이 바람직하다. 이 실란 커플링제로는 제1 이형 필름에 대해서 기재한 것과 동일한 것이 사용된다. 상기의 접착층의 바람직한 두께는 0.005~0.1㎛정도이고, 특히 0.01~0.1㎛이 바람직하다. 접착층의 두께가 상기의 범위이면 폴리에스테르 필름(a')과 이형층의 밀착성이 양호해진다.In this invention, in order to improve the adhesiveness of a polyester film (a ') and a mold release layer, you may corona-process a polyester film (a'), or you may provide an adhesive layer between a polyester film (a ') and a mold release layer. It is preferable to use a silane coupling agent for an adhesive layer. As this silane coupling agent, the thing similar to what was described about the 1st release film is used. Preferable thickness of the said contact bonding layer is about 0.005-0.1 micrometer, and especially 0.01-0.1 micrometer is preferable. Adhesiveness of a polyester film (a ') and a mold release layer becomes favorable that the thickness of an adhesive layer is the said range.

이형층의 형성은 제1 이형 필름에 대해서 기재한 방법과 동일하게 행할 수 있다. 또한, 제2 이형 필름에 대해서 기재가 없는 사항은 제1 이형 필름에 대해서 기재한 사항이 그대로 혹은 당업자에게 자명한 변경을 하여 적용된다고 이해하여야 한다.Formation of a release layer can be performed similarly to the method described about the 1st release film. In addition, it should be understood that the matter which is not described about a 2nd release film is applied as the matter described about a 1st release film as it is, or changes plain to those skilled in the art.

본 발명은 이형 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는 표면의 요철이 성형 시트에 전사되지 않는 우수한 표면 특성을 갖는 동시에, 가공 적성 및 이형성이 우수한 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film. In more detail, it is related with the release film which has the outstanding surface characteristic which the unevenness | corrugation of a surface does not transfer to a molded sheet, and was excellent in workability and mold release property.

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 자세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

또한, 필름의 각 특성치는 하기와 같은 방법으로 측정했다.In addition, each characteristic value of the film was measured by the following method.

(1) 불활성 입자의 평균 입경(d)(1) Average particle diameter (d) of inert particles

시마즈세이사쿠쇼제 CP-50 형 센트리퓨걸 파티클 사이즈 애널라이저 (Centrifugal Particle Size Analyzer)를 사용하여 측정한다. 얻어지는 원심 침강 곡선을 기초로 산출한 각 입경의 입자와 그 존재량의 적산 곡선으로부터, 50매스퍼센트에 상당하는 입경을 판독하고, 이 값을 상기 평균 입경으로 한다. (Book "입도 측정 기술" 일간 공업 신문 발행, 1975년, 페이지 242~247 참조).It is measured using a CP-50 type Sentryfugirl Particle Size Analyzer made by Shimadzu Seisakusho. From the particle | grains of each particle size computed based on the centrifugal sedimentation curve obtained, and the integration curve of the amount of abundance, the particle size corresponded to 50 mass% is read, and this value is made into the said average particle diameter. (See Book "Granulation Techniques", Daily Industrial Newspaper, 1975, pages 242--247).

(2) 필름 중의 불활성 입자의 평균 입경과 장경/단경비(2) Average particle diameter and long diameter / short diameter ratio of the inert particles in the film

필름 샘플을 에폭시 수지로 싸서 메우고, 50㎛의 두께로 단면을 잘라내서, TEM(투과 전자현미경)으로 단면 중의 입자 형상을 측정한다.The film sample is wrapped up with epoxy resin, the cross section is cut out to thickness of 50 micrometers, and the particle shape in a cross section is measured by TEM (transmission electron microscope).

(3) 중심선 평균 조도(Ra(nm)), HD5 및 HD10(3) Centerline average roughness (Ra (nm)), HD5 and HD10

접촉식 측정법Contact measurement

중심선 평균 조도(Ra)는 JIS-B0601로 정의되는 값으로, (주)고사카세이사쿠쇼의 촉침식 표면 조도계(SURFCORDER SE-30C)를 사용하여 측정했다. 측정 조건은 다음과 같다.Center line average roughness Ra is a value defined by JIS-B0601, and it measured using the tactile surface roughness meter (SURFCORDER SE-30C) of Kosaka Seisakusho Co., Ltd. Measurement conditions are as follows.

(a) 촉침 선단 반경: 2㎛(a) stylus tip radius: 2㎛

(b) 측정 압력: 30mg(b) measuring pressure: 30mg

(c) 컷오프: 0.25mm(c) cutoff: 0.25mm

(d) 측정 길이: 1.0 mm(d) Measuring length: 1.0 mm

(2) 중심선 평균 조도(Ra(nm))(2) Center line average roughness (Ra (nm))

비접촉식 측정법Contactless measurement

중심선 평균 조도(Ra)는 WYKO CORPORATION NT-2000의 비접촉식 표면 조도계를 사용하여 측정한다. 측정 조건은 다음과 같다.Centerline average roughness (Ra) is measured using a non-contact surface roughness meter from WYKO CORPORATION NT-2000. Measurement conditions are as follows.

(a) 측정 에리어: 0.0462㎛(a) Measurement area: 0.0462 μm

(b) 측정 배율: 25배(b) Measurement magnification: 25 times

또한, HD5, HD10는 WYKO 측정 데이터에 의해, 입경과 돌기 분포를 구하여 5nm의 입경시의 돌기수를 HD5으로 하고, 10nm의 입경시의 돌기수를 HD10으로 한다.In addition, HD5 and HD10 calculate | require particle size and protrusion distribution from WYKO measurement data, and make the number of protrusions at the particle diameter of 5 nm into HD5, and the number of protrusions at the particle diameter of 10 nm to HD10.

(4) 10점 평균 조도(Rz(nm))(4) 10-point average roughness (Rz (nm))

접촉식 측정법Contact measurement

10점 평균 조도(Rz)는 JIS-B0601로 정의되는 값으로, 본 발명에서는 (주)코사카세이사쿠쇼의 촉침식 표면 조도계(SURFCORDER SE-30C)를 사용하여, 얻어진 데이터의 단면 곡선으로부터 기준 길이만큼 빼낸 부분에서, 5번째까지의 산정(山頂)의 표고(標高)의 평균치와 가장 깊은 곳으로부터 5번째까지의 곡저(谷底)의 표고의 평균치의 차의 값을 나타낸다.Ten-point average roughness (Rz) is a value defined by JIS-B0601, and in the present invention, a reference length is obtained from a cross-sectional curve of data obtained using a tactile surface roughness gauge (SURFCORDER SE-30C) manufactured by Kosaka Seisakusho Co., Ltd. The difference between the average value of the elevation of the summit up to the fifth and the average value of the elevation of the grain from the deepest to the fifth from the deepest part is shown.

비접촉식 측정법Contactless Measurement

10점 평균 표면 조도(Rz)는 WYKO CORPORATION NT-2000의 비접촉식 표면 조도계를 사용하여 측정한다. 측정 조건은 다음과 같다.Ten-point average surface roughness (Rz) is measured using a non-contact surface roughness meter from WYKO CORPORATION NT-2000. Measurement conditions are as follows.

(a) 측정 에리어: 0.0462㎛(a) Measurement area: 0.0462 μm

(b) 측정 배율: 25배(b) Measurement magnification: 25 times

어느 측정법에서도, 얻어진 데이터의 단면 곡선으로부터 기준 길이만큼 빼낸 부분에서, 5번째까지의 산정의 표고의 평균치와 가장 깊은 곳으로부터 5번째까지의 곡저의 표고의 평균치의 차의 값을 나타낸다.In any measurement method, the difference between the average value of the elevation of the calculation up to the fifth and the average value of the elevation of the valley from the deepest to the fifth is shown in the portion extracted by the reference length from the cross-sectional curve of the obtained data.

(5) 실리콘의 막두께 측정(Tsi(nm))(5) Silicon film thickness measurement (Tsi (nm))

이형 필름의 단면을 마이크로톰으로 할단(割斷)하여, 얻어진 시료를 TEM으로 관찰함으로써, 실리콘층의 두께를 측정한다.The thickness of a silicon layer is measured by cutting the cross section of a release film with a microtome, and observing the obtained sample by TEM.

(6) 핸들링성(6) handling

동마찰 계수(S):Dynamic Friction Coefficient (S):

이형 필름을 2매 중첩하여 유리판상에 놓고, 중첩하여 맞춘 필름의 하측(유리판과 접하고 있는 필름)의 필름을 정속(定速) 롤에 인취하고, 상측의 필름의 일단에 검출기를 고정하여 필름/필름간의 인장력(F)을 검출한다. 또한, 필름에는 200g/50cm2의 하중(P)을 건다.Two sheets of release films were stacked and placed on a glass plate, the film of the lower side (film in contact with the glass plate) of the overlapped film was drawn on a constant speed roll, and the detector was fixed to one end of the upper film to make a film / The tensile force F between films is detected. In addition, a load P of 200 g / 50 cm 2 is applied to the film.

μS=F(g)/P(g)μS = F (g) / P (g)

μS = 1 이하는 핸들링성 양호 ◎Handling ability under μS = 1 is good ◎

μS = 1 이상 2 이하는 핸들링 가능 OμS = 1 or more and 2 or less can handle

μS = 2 이상은 핸들링 불가 ×μS = 2 or more not handled ×

블로킹:blocking:

이형 필름을 롤 형상으로 1000번 감고, 60℃X1개월간 에이징한 후, 필름의 이형면과 그 배면에서의 들러붙는 현상을 육안으로 관찰하여 하기 기준으로 평가한다.After the release film was wound 1000 times in a roll shape and aged at 60 ° C. for 1 month, the sticking phenomenon on the release surface and the back surface of the film was visually observed and evaluated according to the following criteria.

O: 블로킹 없음O: no blocking

×: 블로킹 있음×: with blocking

깎임성:Sharpness:

필름 표면을 흑색 도화지로 마모하여, 백분의 발생을 육안으로 관찰하여 하기 기준으로 평가한다.The film surface is abraded with black drawing paper, and the occurrence of white powder is visually observed and evaluated based on the following criteria.

O: 백분 없음O: no powder

×: 백분 있음×: 100 minutes

(7) 경도의 측정(7) hardness measurement

경도의 측정은 (주)에리오니크스 사제 ENT-1100a를 사용하여, 이형층막의 경도를 직접 측정했다. 측정은 삼각추 압자로 하중 2mgf를 걸어, 이형층의 변형양으로부터, 경도를 산출한다.As for the measurement of the hardness, the hardness of the release layer film was measured directly using ENT-1100a manufactured by Erioniks. The measurement loads 2 mgf with a triangular indenter, and calculates hardness from the deformation amount of a release layer.

실시예 1Example 1

폴리에틸렌 테레프탈레이트 A 및 B를 준비하고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 A를 이형층을 설치하는 측의 층에 사용하고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 B를 다른 쪽의 층에 사용하여, 2층으로 이루어지는 적층 폴리에스테르 필름을 제조했다.Polyethylene terephthalate A and B were prepared, polyethylene terephthalate A was used for the layer on the side which provides a release layer, and polyethylene terephthalate B was used for the other layer, and the laminated polyester film which consists of two layers is manufactured. did.

우선, 디메틸테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을, 에스테르 교환 촉매로서 초산망간을 사용하고, 중합 촉매로서 삼산화 안티몬을 사용하여, 안정제로서 아인산을 사용하고, 윤활제의 불활성 입자로서 평균 입자경 0.1㎛의 산화규소를 0.3wt% 배합하여, 통상의 방법에 의해 중합하여, 고유 점도(o-클로로페놀, 35℃) 0.62의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 A를 얻었다.First, dimethyl terephthalate and ethylene glycol were prepared using manganese acetate as a transesterification catalyst, antimony trioxide as a polymerization catalyst, phosphorous acid as a stabilizer, and silicon oxide having an average particle diameter of 0.1 탆 as 0.3 inert particles. wt% was blended and polymerized by a conventional method to obtain polyethylene terephthalate A having an intrinsic viscosity (o-chlorophenol, 35 ° C) 0.62.

또한, 윤활제의 불활성 입자로서 산화규소 대신에, 평균 입자경 0.5㎛의 가교 실리콘 입자(장경/단경=1.05)을 0.05중량%과, 평균 입자경 0.2㎛의 산화알루미늄 입자를 0.4중량%을 배합한 것 이외는 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트 A와 동일한 방법으로, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 B를 얻었다.In addition, 0.05 weight% of crosslinked silicone particles (long diameter / short diameter = 1.05) of an average particle diameter of 0.5 micrometer and 0.4 weight% of aluminum oxide particles of an average particle diameter of 0.2 micrometer were mixed instead of silicon oxide as an inert particle of a lubricant. Was obtained in the same manner as the polyethylene terephthalate A, polyethylene terephthalate B was obtained.

이들 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 펠렛을 170℃에서 3시간 건조 후 2대의압출기 호퍼에 공급하고, 용융 온도 280~300℃로 용융하여, 멀티 매니폴드형 압출 다이를 사용하여 적층시키고, 표면 마무리 0.3s정도, 표면 온도 20℃의 회전 냉각 드럼상에 압출하여, 두께 540㎛의 미연신 2층 적층 필름을 얻었다.After drying these pellets of polyethylene terephthalate at 170 ° C. for 3 hours, they are fed to two extruder hoppers, melted at a melting temperature of 280 to 300 ° C., laminated using a multi-manifold extrusion die, and finished with a surface finish of about 0.3 s. It extruded on the rotating cooling drum of surface temperature 20 degreeC, and obtained the unstretched two-layer laminated film of 540 micrometers in thickness.

이와 같이 하여 얻어진 미연신 적층 필름을 75℃로 예열하고, 또한 저속, 고속의 롤간에서 15mm 상방으로부터 900℃의 표면 온도의 IR 히터 1개에 의해 가열하여 3.6배로 연신하고, 급냉하고, 이어서 스텐터에 공급하여, 105℃에서 횡방향으로 3.9배로 연신했다. 얻어진 2축 배향필름을 205℃의 온도에서 5초간 열고정하여, 두께 38㎛(이형층을 설치하는 측의 폴리에스테르 A층의 두께 36㎛, 이것과는 반대측의 폴리에스테르 B층의 두께 2㎛)의 열고정 2축배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.The unstretched laminated film thus obtained was preheated to 75 ° C, further heated by one IR heater with a surface temperature of 900 ° C from 15 mm above between low and high speed rolls, stretched 3.6 times, quenched, and then stentered. Was supplied to and stretched 3.9 times in the transverse direction at 105 ° C. The biaxially oriented film thus obtained was heat-set at a temperature of 205 ° C for 5 seconds to have a thickness of 38 µm (36 µm in thickness of the polyester A layer on the side where the release layer is provided, and 2 µm in thickness of the polyester B layer on the opposite side thereof). The heat setting biaxially oriented laminated polyester film of was obtained.

또한 이 필름상에, 폴리디메틸실록산과 디메틸하이드로젠실란의 혼합 용액에 백금 촉매를 가하여 부가 반응시키는 타입의 경화형 실리콘(신에츠실리콘(주)제 KS-847(H))을, 메틸에틸케톤, 이소부틸케톤 및 톨루엔의 혼합 용제중에 용해시켜, 전체 고형분 농도가 3중량%로 되는 용액을 제조하고, 통상 방법의 롤 코팅법에 의해, 건조 막두께가 55nm가 되도록 도포한 이형 필름을 얻었다. 가열 건조는 160℃에서 30초 행하였다. 이 이형 필름의 특성을 표 1에 나타낸다.Furthermore, on this film, the curable silicone (KS-847 (H) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) of the type which adds and reacts a platinum catalyst to the mixed solution of polydimethylsiloxane and dimethylhydrosilane silane, methyl ethyl ketone, iso It melt | dissolved in the mixed solvent of butyl ketone and toluene, the solution which becomes 3 weight% of total solid content was prepared, and the release film apply | coated so that dry film thickness might be set to 55 nm by the roll coating method of a normal method. Heat drying was performed at 160 degreeC for 30 second. The properties of this release film are shown in Table 1.

실시예 2Example 2

실시예 1에서의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 A에 배합하는 불활성 입자를 평균 입경 0.3㎛의 가교 실리콘 입자를 0.12중량%으로 변경하고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 B는 불활성 입자를 배합하지 않는 것으로 변경했다. 이 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 A/B/A의 구성으로 되도록, 멀티 매니폴드 다이에서 공압출하여, 두께 구성이 A/B/A=2㎛/34㎛/2㎛로 되도록, 압출량을 조정했다. 또 이형층은 77nm로 되도록했다. 이들 이외는 실시예 1과 같은 방법으로, 이형 필름을 얻었다.The inert particles to be blended into the polyethylene terephthalate A in Example 1 were changed to 0.12% by weight of crosslinked silicon particles having an average particle diameter of 0.3 μm, and the polyethylene terephthalate B was changed to not inert particles. The polyethylene terephthalate was coextruded in a multi-manifold die so as to have an A / B / A configuration, and the extrusion amount was adjusted so that the thickness configuration was A / B / A = 2 µm / 34 µm / 2 µm. Moreover, the release layer was set to 77 nm. A release film was obtained by the method similar to Example 1 except these.

실시예 3Example 3

실시예 2에서 사용한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 A만을 사용하여, 38㎛의 필름을 제조하고, 이형층은 77nm가 되도록 했다. 이들 이외는 실시예 2와 같은 방법으로, 이형 필름을 얻었다.Using only the polyethylene terephthalate A used in Example 2, the 38 micrometers film was produced, and the release layer was set to 77 nm. A release film was obtained by the method similar to Example 2 except these.

비교예 1Comparative Example 1

디메틸테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을, 에스테르 교환 촉매로서 초산 망간을 사용하고, 중합 촉매로서 삼산화 안티몬을 사용하고, 안정제로서 아인산을 사용하여, 통상의 방법에 의해 중합하여, 고유 점도(o-클로로페놀, 35℃) 0.62의 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 얻었다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트중에 윤활제의 불활성 미립자로서 평균 입경 1.7㎛의 산화규소를 0.05중량% 배합하여, 단층의 필름을 얻고, 이형층의 두께를 98nm로 한 것 이외는 실시예 1과 같은 방법으로, 이형 필름을 얻었다.Dimethyl terephthalate and ethylene glycol were polymerized by the conventional method using manganese acetate as a transesterification catalyst, antimony trioxide as a polymerization catalyst, and phosphorous acid as a stabilizer, and intrinsic viscosity (o-chlorophenol, 35 degreeC) the polyethylene terephthalate of 0.62 was obtained. A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.05 wt% of silicon oxide having an average particle diameter of 1.7 μm was blended as polyethylene inert fine particles in the polyethylene terephthalate to obtain a single layer, and the thickness of the release layer was 98 nm. Got.

비교예 2Comparative Example 2

비교예 1의 불활성 입자를 평균 입경 0.1㎛의 입자로 바꾸는 것 이외는 비교예 1과 같은 방법에서, 이형 필름을 얻었다.The release film was obtained by the method similar to the comparative example 1 except changing the inert particle of the comparative example 1 into the particle | grains of an average particle diameter of 0.1 micrometer.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1에서 얻어진 필름상에 실리콘이형 층 막두께를 200nm로 되도록 도포하는 것 이외는 같은 방법으로, 이형 필름을 얻었다.The release film was obtained by the same method except apply | coating so that a silicon mold release layer film thickness might be set to 200 nm on the film obtained in Example 1.

<표 1>TABLE 1

실시예 4Example 4

우선, 디메틸테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을, 에스테르 교환 촉매로서 초산 망간을 사용하고, 중합 촉매로서 삼산화 안티몬을 사용하고, 안정제로서 아인산을 사용하여, 통상의 방법에 의해 중합하여, 고유 점도(o-클로로페놀, 35℃) 0.62의 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 얻었다.First, dimethyl terephthalate and ethylene glycol were polymerized by the conventional method using manganese acetate as a transesterification catalyst, antimony trioxide as a polymerization catalyst, and phosphorous acid as a stabilizer, and intrinsic viscosity (o-chloro Phenol, 35 degreeC) The polyethylene terephthalate of 0.62 was obtained.

이 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 펠렛을, 170℃에서 3시간 건조한 후에 압출기 호퍼에 공급하고, 용융 온도 280~300℃에서 용융하여, 압출 다이를 사용하여, 표면 마무리 0.3s 정도, 표면 온도 20℃의 회전 냉각 드럼상에 압출하여, 두께 540㎛의 미연신 필름을 얻었다.After pelleting this polyethylene terephthalate at 170 degreeC for 3 hours, it supplies to an extruder hopper, melts at melting temperature of 280-300 degreeC, and spin-cools about 0.3s of surface finishing and surface temperature of 20 degreeC using an extrusion die. It extruded on the drum and obtained the unstretched film of 540 micrometers in thickness.

이 미연신 필름을, 75℃로 예열하고, 저속 롤과 고속의 롤의 사이에서, 15mm 상방으로부터 900℃의 표면 온도의 IR 히터 1개로 가열하면서, 종방향으로 3.6배로 1축연신하고, 그 후 급냉하고, 이어서 스텐터에 공급하여, 105℃에서 횡방향으로 3.9배로 연신하여 2축배향 필름을 얻었다. 이 2축배향 필름을, 205℃의 온도에서 5초간 열고정하여, 두께 38㎛의 열고정 2축배향 필름을 얻었다. 또한, 1축연신 후에 실리콘의 엥커 처리로서, 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란 수용액을 키스 코트법에 의해 도포했다.After preheating this unstretched film to 75 degreeC and heating by one IR heater of surface temperature of 900 degreeC from 15 mm upper direction between a low speed roll and a high speed roll, it uniaxially stretches 3.6 times in the longitudinal direction, and after that It quenched and then supplied to the stenter, and extended | stretched 3.9 times transversely at 105 degreeC, and obtained the biaxially-oriented film. This biaxially oriented film was heat-set at a temperature of 205 ° C. for 5 seconds to obtain a heat-setting biaxially oriented film having a thickness of 38 μm. Furthermore, after uniaxial stretching, the aqueous solution of 3-glycidoxy propyl trimethoxysilane was apply | coated by the kiss coat method as an anchor treatment of silicone.

이 열고정 2축배향 필름상에, 페닐기가 1.0몰% 이하인 폴리디메틸실록산과 디메틸하이드로젠실란의 혼합 용액에 백금 촉매를 가하여 부가 반응시키는 타입의 경화형 실리콘 수지(신에츠실리콘 사제 KS-774)를, 메틸에틸케톤, 이소부틸 케톤 및 톨루엔의 혼합 용제에 용해하고, 무기 입자로서 산화규소 입자(니뽄에어로질 사제 R972 평균 입경 30nm)를 실리콘 수지 성분당 0.5중량%첨가하여, 전체 고형분 농도가 1중량%로 되는 용액을 제조하여, 통상의 롤 코팅법에 의해, 건조 막두께가 45nm로 되도록 도포한 이형 필름을 얻었다. 롤 코팅법에서의 가열 건조는 150℃에서 20초 행했다. 이 이형 필름의 특성을 표 2에 나타낸다.On this heat-setting biaxially oriented film, a curable silicone resin (KS-774 available from Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) of a type in which a platinum catalyst is added and reacted with a mixed solution of polydimethylsiloxane and dimethylhydrogensilane having a phenyl group of 1.0 mol% or less, It melt | dissolves in the mixed solvent of methyl ethyl ketone, isobutyl ketone, and toluene, adds silicon oxide particle | grains (R972 average particle diameter 30nm by Nippon Aerosol Co., Ltd. 30nm) as an inorganic particle, 0.5 weight% per silicone resin component, and the total solid content concentration is 1 weight% The solution to be used was manufactured, and the release film apply | coated so that a dry film thickness might be set to 45 nm by the normal roll coating method. The heat drying in the roll coating method was performed at 150 degreeC for 20 second. The properties of this release film are shown in Table 2.

실시예 5Example 5

디메틸테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을, 에스테르 교환 촉매로서 초산 망간을 사용하고, 중합 촉매로서 삼산화 안티몬을 사용하고, 안정제로서 아인산을 사용하고, 윤활제의 불활성 입자로서 평균 입자경 0.1㎛의 산화규소를 0.12중량% 배합하여, 통상의 방법에 의해 중합하여, 고유 점도(o-클로로페놀, 35℃) 0.62의 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 얻었다.Dimethyl terephthalate and ethylene glycol were used as manganese acetate as a transesterification catalyst, antimony trioxide as a polymerization catalyst, phosphorous acid as a stabilizer, and 0.12% by weight of silicon oxide having an average particle diameter of 0.1 탆 as inert particles of the lubricant. It mix | blended and superposed | polymerized by the normal method and obtained the polyethylene terephthalate of intrinsic viscosity (o-chlorophenol, 35 degreeC) 0.62.

이 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 펠렛을, 170℃에서 3시간 건조한 후 압출기 호퍼에 공급하여, 용융 온도 280~300℃에서 용융하여, 압출 다이를 사용하여, 표면 마무리 0.3s정도, 표면 온도 20℃의 회전 냉각 드럼상에 압출하여, 두께 540㎛의 미연신 필름을 얻었다.The polyethylene terephthalate pellets were dried at 170 ° C. for 3 hours, then fed to an extruder hopper, melted at a melting temperature of 280 to 300 ° C., and cooled by rotation at a surface finish of about 0.3 s and surface temperature of 20 ° C. using an extrusion die. It extruded on the drum and obtained the unstretched film of 540 micrometers in thickness.

이 미연신 필름을, 75℃로 예열하고, 저속 롤과 고속 롤의 사이에서, 15mm 상방으로부터 900℃의 표면 온도의 IR 히터 1개로 가열하면서, 종방향으로 3.6배로 1축연신하고, 그 후 급냉하고, 이어서 스텐터에 공급하여, 105℃에서 횡방향으로 3.9배로 연신하여 2축배향 필름을 얻었다. 이 2축배향 필름을, 205℃의 온도에서 5초간 열고정하여, 두께 38㎛의 열고정 2축배향 필름을 얻었다. 또한, 1축연신 후에 실리콘의 엥커 처리로서, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 수용액을 키스 코트법에 의해 도포했다.The pre-stretched film is preheated to 75 ° C., uniaxially stretched 3.6 times in the longitudinal direction while heating with one IR heater having a surface temperature of 900 ° C. from 15 mm above between the low speed roll and the high speed roll, and then quenched thereafter. Then, it supplied to the stenter, and extended | stretched 3.9 times transversely at 105 degreeC, and obtained the biaxially oriented film. This biaxially oriented film was heat-set at a temperature of 205 ° C. for 5 seconds to obtain a heat-setting biaxially oriented film having a thickness of 38 μm. In addition, after uniaxial stretching, the 3-glycidoxy propyl trimethoxysilane aqueous solution was apply | coated by the kiss coat method as an anchor treatment of silicone.

이 열고정 2축배향 필름상에, 폴리디메틸실록산과 디메틸하이드로젠실란의 혼합 용액에 백금 촉매를 가하여 부가반응시키는 타입의 경화형 실리콘 수지(신에츠실리콘 사제 KS-774)를, 메틸에틸케톤, 이소부틸 케톤 및 톨루엔의 혼합 용제에 용해하고, 무기 입자로서 산화규소 입자(니뽄에어로질 사제 R972 평균 입경 30nm)를 실리콘 수지 성분당 0.2중량% 첨가하여, 전체 고형분 농도가 1중량%로 되는 용액을 제조한 후, 통상의 롤 코팅법에 의해, 건조 막두께가 45nm로 되도록 도포하여, 이형 필름을 얻었다. 롤 코팅법에서의 가열 건조는 150℃에서 20초간 행했다. 이 이형 필름의 특성을 표 2에 나타낸다.On this heat-setting biaxially oriented film, a curable silicone resin (KS-774 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) of a type in which a platinum catalyst is added and reacted with a mixed solution of polydimethylsiloxane and dimethylhydrogensilane is methyl ethyl ketone and isobutyl. It melt | dissolved in the mixed solvent of ketone and toluene, and added the silicon oxide particle (R972 average particle diameter 30nm by Nippon Aerosol Co., Ltd.) as an inorganic particle by 0.2 weight% per silicone resin component, and prepared the solution which makes the total solid concentration into 1 weight%. Then, it apply | coated so that dry film thickness might be set to 45 nm by the normal roll coating method, and the release film was obtained. The heat drying in the roll coating method was performed at 150 degreeC for 20 second. The properties of this release film are shown in Table 2.

실시예 6Example 6

실시예 4에서 제조한 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 실시예 2에서 제조한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 A를 사용하여, 구성이 폴리에틸렌 테레프탈레이트/폴리에틸렌 테레프탈레이트 A=36㎛/2㎛인 필름을 제조한 것 이외는 실시예 4와 같은 방법으로 이형 필름을 얻었다.Example 1 Using a polyethylene terephthalate prepared in Example 4 and a polyethylene terephthalate A prepared in Example 2, except that a film having a configuration of polyethylene terephthalate / polyethylene terephthalate A = 36 μm / 2 μm was prepared. The release film was obtained by the method similar to 4.

비교예 4Comparative Example 4

실시예 1의 실리콘 이형층에 무기 입자를 배합하지 않은 것 이외는 실시예 4와 동일한 방법으로 이형 필름을 얻었다. 이 이형 필름의 특성을 표 2에 나타낸다.The release film was obtained by the method similar to Example 4 except not having mix | blended inorganic particle with the silicone mold release layer of Example 1. The properties of this release film are shown in Table 2.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 4의 실리콘 이형층의 두께를 1000nm로 한 것 이외는 실시예 4와 동일한 방법으로 이형 필름을 얻었다. 이 이형 필름의 특성을 표 2에 나타낸다.A release film was obtained in the same manner as in Example 4 except that the thickness of the silicon release layer of Example 4 was set to 1000 nm. The properties of this release film are shown in Table 2.

비교예 6Comparative Example 6

실시예 4의 실리콘 이형층에 첨가하는 입자를 30중량%로 하는 것 이외는 실시예 4와 같은 방법으로 이형 필름을 얻었다. 이 이형 필름의 특성을 표 2에 나타낸다.A release film was obtained in the same manner as in Example 4 except that the particles added to the silicon release layer of Example 4 were 30% by weight. The properties of this release film are shown in Table 2.

비교예 7Comparative Example 7

이형층중의 디페닐 실록산 함유량이 5몰%로 되도록 디페닐실록산을 첨가한 것 이외는 실시예 4와 같은 방법으로 이형 필름을 얻었다. 이 이형 필름의 특성을 표 2에 나타낸다.The release film was obtained by the method similar to Example 4 except having added diphenylsiloxane so that diphenyl siloxane content in a mold release layer may be 5 mol%. The properties of this release film are shown in Table 2.

<표2><Table 2>

Claims (16)

(a) 중심선 평균 조도(Ra)가 15nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 30~500nm인 표면을 갖는 폴리에스테르 필름, 및(a) a polyester film having a surface having a centerline average roughness Ra of 15 nm or less and a 10-point average roughness Rz of 30 to 500 nm, and (b) 상기 폴리에스테르 필름의 상기 표면상에 형성되고 또한 두께가 상기 표면의 Rz의 0.8배 이하인 실리콘 이형층(b) a silicon release layer formed on said surface of said polyester film and having a thickness of 0.8 times or less of Rz of said surface; 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이형 필름.Release film, characterized in that consisting of. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 실리콘 이형층(b)의 노출 표면의 중심선 평균 조도(Ra)가 15nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 100~500nm인 이형 필름.The release film whose center line average roughness (Ra) of the exposed surface of a silicone mold release layer (b) is 15 nm or less, and 10-point average roughness (Rz) is 100-500 nm. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 양노출 표면의 중심선 평균 조도(Ra)의 합이 12nm이상인 이형 필름.The release film whose sum of center line average roughness (Ra) of both exposure surfaces is 12 nm or more. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 폴리에스테르 필름(a)이 평균 입경이 1㎛미만의 불활성 입자를 함유하는 이형 필름.The release film in which a polyester film (a) contains inert particle | grains whose average particle diameter is less than 1 micrometer. 제3항 또는 제4항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 불활성 입자의 평균 입경이 0.01㎛이상 1㎛미만이고 또 장경/단경의 비가 1.0~1.2인 이형 필름.The release film whose average particle diameter of an inert particle is 0.01 micrometer or more and less than 1 micrometer, and the long diameter / short diameter ratio is 1.0-1.2. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 실리콘 이형층(b)이 폴리디메틸실록산으로 이루어지는 이형 필름.The release film in which a silicone mold release layer (b) consists of polydimethylsiloxane. 제1항 또는 제6항에 있어서,The method according to claim 1 or 6, 실리콘 이형층(b)이 평균 입경 5~80nm의 불활성 입자를 함유하는 이형 필름.The release film in which a silicone mold release layer (b) contains inert particles of 5 to 80 nm in average particle diameter. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 폴리에스테르 필름(a)의 실리콘 이형층(b)이 존재하는 면의 반대면 상에, 다른 폴리에스테르층이 더 존재하는 이형 필름.The release film in which the other polyester layer exists further on the surface opposite to the surface where the silicone mold release layer (b) of a polyester film (a) exists. (a') 중심선 평균 조도(Ra)가 5nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 30nm 이하인 표면을 갖는 폴리에스테르 필름, 및(a ') Polyester film which has a surface whose center line average roughness Ra is 5 nm or less, and 10-point average roughness Rz is 30 nm or less, and (b') 상기 폴리에스테르 필름의 상기 표면상에 형성되고 또한 하기식(1)(b ') It is formed on the said surface of the said polyester film, and is following formula (1) 0.3d≤t≤2.5d …(1)0.3d ≦ t ≦ 2.5d (One) (여기서, d는 불활성 입자의 평균 입경(nm)이고 또 t는 실리콘 이형층의 두께(nm)임)(Where d is the average particle diameter (nm) of the inert particles and t is the thickness (nm) of the silicon release layer) 을 만족하는 불활성 입자를 함유하고 또한 두께 300nm 이하의 실리콘 이형층Silicon release layer containing inert particles satisfying 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이형 필름.Release film, characterized in that consisting of. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 실리콘 이형층(b')의 노출 표면의 중심선 평균 조도(Ra)가 5nm 이하이고 또한 10점 평균 조도(Rz)가 30nm 이하인 이형 필름.The release film whose center line average roughness (Ra) of the exposed surface of a silicone mold release layer (b ') is 5 nm or less, and 10-point average roughness (Rz) is 30 nm or less. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 실리콘 이형층(b')의 노출 표면상에 존재하는 돌기가 하기식(2) 및 (3)Projections on the exposed surface of the silicon release layer (b ') are represented by the following formulas (2) and (3) HD5 ≥500개/mm2… (2)HD5? 500 pieces / mm 2 ... (2) HD10 ≤100개/mm2… (3)HD10 ≦ 100 pcs / mm 2 ... (3) (여기서, HD5는 높이가 5nm 이상의 돌기의 수이고 또 HD10은 높이가 10nm 이상의 돌기의 수임)(Where HD5 is the number of protrusions of 5 nm or more in height and HD10 is the number of protrusions of 10 nm or more in height) 을 만족하는 이형 필름.Release film to satisfy. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 실리콘 이형층(b')이 비닐기를 갖는 폴리디메틸실록산과 하이드로젠실란으로 이루어지는 부가 반응형의 실리콘 수지로 이루어지는 이형 필름.The release film which consists of an addition reaction type | mold silicone resin which the silicone mold release layer (b ') consists of polydimethylsiloxane and hydrogensilane which have a vinyl group. 제9항 또는 제12항에 있어서,The method of claim 9 or 12, 실리콘 이형층(b')의 미소 경도가 100mgf/㎛2이상인 이형 필름.The release film whose microhardness of a silicone mold release layer (b ') is 100 mgf / micrometer <2> or more. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 비닐기를 갖는 폴리디메틸 실록산이 -Si(CH3)2- 1몰당 -Si(C6H5)2- 0.5몰 이하로 함유하는 이형 필름.Having a vinyl group of polydimethylsiloxane is -Si (CH 3) 2 - 1 mol of -Si (C 6 H 5) 2 - release film containing more than 0.5 mol. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 실리콘 이형층(b')중의 불활성 입자가 평균 입경 3~80nm의 무기 입자인 이형 필름.The release film whose inert particle in a silicone mold release layer (b ') is an inorganic particle with an average particle diameter of 3-80 nm. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 폴리에스테르 필름(a')의 실리콘 이형층(b')이 존재하는 면의 반대면 상에, 다른 폴리에스테르층이 더 존재하는 이형 필름.The release film in which the other polyester layer exists further on the surface opposite to the surface where the silicone mold release layer (b ') of a polyester film (a') exists.
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