KR20040082610A - Method of fabricating superconductors using replication method - Google Patents

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KR20040082610A
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Abstract

PURPOSE: A method for fabricating a superconductor using a duplication method is provided to obtain the superconductor having a prominent characteristic by selecting freely a support layer. CONSTITUTION: A separation layer(2) is formed on an upper surface of a basic preform(1). A superconducting layer(3) is formed on an upper surface of the separation layer. A support layer(4) is formed on an upper surface of the superconducting layer. The separation layer is removed therefrom. The basic preform is formed with a continuous single crystalline metal loop. The coated superconductor obtained thereby has a shape of a tape. The separation layer and the superconducting layer are grown by using an epitaxial growth method.

Description

복제방법에 의한 초전도체의 제조방법 {Method of fabricating superconductors using replication method}Manufacturing method of superconductor by replication method {Method of fabricating superconductors using replication method}

본 발명은 초전도체의 제조방법에 관한 것으로, 특히, 복제공정을 이용하여 테이프 형상 등의 고온 초전도체를 용이하게 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a superconductor, and more particularly, to a method for easily manufacturing a high temperature superconductor such as a tape using a replication process.

제2형 고온 초전도체는 테이프 형상으로 많이 제조되는데, 이는 통상적으로 초전도층, 금속지지층 및 보호층, 그리고 필요한 경우 완충층을 포함하여 이루어진다. 이러한 초전도 테이프가 우수한 특성을 가지기 위해서는, 초전도층이 우수한 결정 정렬성을 가져야 할 뿐 아니라 가능한 한 두꺼워야 한다. 또한, 금속지지층은 가능한 한 얇고 강하며 비자성이어야 한다. 금속층이 초전도층과 직접 접촉되어야 좋다.Type 2 high temperature superconductors are often manufactured in the form of tapes, which typically comprise a superconducting layer, a metal support layer and a protective layer, and, if necessary, a buffer layer. In order for these superconducting tapes to have excellent properties, the superconducting layer must not only have good crystal alignment, but also be as thick as possible. In addition, the metal support layer should be as thin, strong and nonmagnetic as possible. The metal layer should be in direct contact with the superconducting layer.

초전도 테이프를 제조하는 종래기술의 방법에는 RABiTS (Rolling-Assisted Biaxially Textured Substrate), IBAD (Ion Beam Assisted Deposition), ISD (Inclined Substrate Deposition) 등이 있다. 그러나, 이러한 방법에 의해 초전도 테이프를 제조할 경우, 초전도층에서의 결정의 정렬성이 최소 8도 이상이며, 금속지지층의 두께는 수 십 미크론 이상에 이른다. 또한, 금속층이 초전도층과 직접 접촉되어 있지도 않다. 따라서, 종래기술의 제조방법에 의해서는, 우수한 특성을 가지기 위한 위의 조건들을 만족하는 초전도 테이프를 얻기 어려웠다.Prior art methods for making superconducting tapes include Rolling-Assisted Biaxially Textured Substrate (RABiTS), Ion Beam Assisted Deposition (IBAD), Inclinated Substrate Deposition (ISD), and the like. However, when the superconducting tape is produced by this method, the alignment of the crystals in the superconducting layer is at least 8 degrees and the thickness of the metal support layer is at least tens of microns. In addition, the metal layer is not in direct contact with the superconducting layer. Therefore, it is difficult to obtain a superconducting tape that satisfies the above conditions for having excellent characteristics by the manufacturing method of the prior art.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 양호한 초전도 특성을 위하여 초전도층의 결정 정렬성을 단결정에 가깝게 만들 수 있는 초전도체의 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem to be achieved by the present invention is to provide a method for producing a superconductor capable of making the crystal alignment of the superconducting layer close to a single crystal for good superconducting properties.

본 발명의 다른 기술적 과제는, 과도 전류를 우회시킬 수 있게 금속층이 초전도층과 직접 접촉될 수 있게 하는 초전도체의 제조방법을 제공하는 것이다.Another technical problem of the present invention is to provide a method of manufacturing a superconductor, which allows the metal layer to be in direct contact with the superconducting layer so as to bypass the transient current.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 초전도체 제조방법을 설명하기 위한 개략도;1 is a schematic view for explaining a superconductor manufacturing method according to an embodiment of the present invention;

도 2는 기본 모재에 사용되는 Ni 단결정 테이프를 1400도에서 붙인 접촉면의 결정성에 대한 X-선 회절 측정결과를 나타낸 도면; 및Fig. 2 is a graph showing the X-ray diffraction measurement results for the crystallinity of the contact surface pasted at 1400 degrees with Ni single crystal tape used in the base material; And

도 3은 본 발명의 실시예의 방법에 의해 형성된 초전도층의 양호한 결정성을 나타내기 위한 X-선 회절 측정결과의 도면이다.3 is a diagram of X-ray diffraction measurement results for showing good crystallinity of the superconducting layer formed by the method of the embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 참조번호의 설명 *Explanation of reference numbers for the main parts of the drawings

1 : 기본 모재1: base material

2 : 분리층2: Separation layer

3 : 초전도층3: superconducting layer

4 : 지지층4: support layer

5 : 분리층 제거부5: separation layer removal unit

6 : 초전도/지지층으로 된 테이프6: tape with superconducting / supporting layer

상기 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 제1 측면에 따른, 초전도체의 제조방법은: 복제방법에 의해 제조되는 것으로서, 기본 모재에 분리층을 형성하는 단계와; 상기 분리층 상에 초전도층을 형성하는 단계와; 상기 초전도층 상에 지지층을 형성하는 단계와; 상기 분리층을 제거하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.According to a first aspect of the present invention for achieving the above technical problem, a method of manufacturing a superconductor comprising: forming a separation layer on a base substrate, which is manufactured by a replication method; Forming a superconducting layer on the separation layer; Forming a support layer on the superconducting layer; Removing the separation layer.

이 때, 상기 기본 모재는 전체가 연속적인 단결정 금속 루프이며, 그 결과 얻어지는 초전도체가 테이프 형상인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the base base material is a continuous single crystal metal loop in its entirety, and the resulting superconductor is tape-shaped.

또한, 상기 분리층과 초전도층이 에피택셜 성장법에 의해 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the separation layer and the superconducting layer are preferably formed by an epitaxial growth method.

그리고, 상기 분리층과 초전도층의 형성단계 사이에, 완충층을 형성하는 단계를 더 구비할 수도 있다.In addition, a buffer layer may be further formed between the separation layer and the superconducting layer.

더욱이, 상기 분리층의 제거단계 이후에, 상기 완충층 상에 2차 초전도층 및지지층을 순차 형성하는 단계를 더 구비하여도 좋다.Furthermore, after removing the separation layer, the second superconducting layer and the support layer may be sequentially formed on the buffer layer.

또한, 상기 분리층을 소정 용매에 의해 용해될 수 있는 물질로 만들면, 쉽게 제거할 수 있다.In addition, if the separation layer is made of a material that can be dissolved by a predetermined solvent, it can be easily removed.

상기 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 제2 측면에 따른 초전도체의 제조방법은: 복제방법에 의해 제조되는 것으로서, 기본 모재에 분리층을 형성하는 단계와; 상기 분리층 상에 지지층을 형성하는 단계와; 상기 분리층을 제거하여, 상기 지지층을 상기 모재로부터 분리하는 단계와; 상기 지지층 상에 완충층, 초전도층 및 보호층을 순차 형성하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a superconductor, the method including: forming a separation layer on a base substrate, which is manufactured by a replication method; Forming a support layer on the separation layer; Removing the separation layer to separate the support layer from the base material; And sequentially forming a buffer layer, a superconducting layer, and a protective layer on the support layer.

이 때, 상기 기본 모재는 전체가 연속적인 단결정 금속 루프이며, 그 결과 얻어지는 코팅된 초전도체가 테이프 형상인 것이 바람직하다.At this time, the basic base material is a continuous single crystal metal loop in its entirety, and it is preferable that the resultant coated superconductor is tape-shaped.

또한, 상기 분리층을 소정 용매에 의해 용해될 수 있는 물질로 만들면, 쉽게 제거할 수 있다.In addition, if the separation layer is made of a material that can be dissolved by a predetermined solvent, it can be easily removed.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention.

[제1 실시예][First Embodiment]

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 초전도체 제조방법을 설명하기 위한 개략도이다. 도 1을 참조하면, 전체가 연속적인 단결정 루프인 기본 모재(1) 상에, 분리층(2), 초전도층(3) 및 지지층(4)이 연속적으로 에피택셜(epitaxial) 성장에 의해 형성된다. 이러한 에피택셜 성장은 자신의 하부에 놓인 기본 모재에 대한 복제공정에 해당한다. 도 1에서는, 도시의 편의를 위해, 분리층(2), 초전도층(3) 및지지층(4)을 하나의 층(10)으로 나타내었다. 분리층(2)은 어떤 용매에 녹는 물질로 이루어진다. 따라서, 분리층 제거부(5)에서 상기 용매를 분리층(2)에 가함으로써 기본 모재(1)로부터 초전도층(3)/지지층(4)이 분리된다. 이러한 형성과 분리가 연속적으로 이루어짐으로서 필요한 만큼의 긴 초전도/지지층으로 된 테이프(6)를 얻을 수 있다.1 is a schematic view for explaining a superconductor manufacturing method according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, on the base matrix 1, which is a continuous single crystal loop as a whole, a separation layer 2, a superconducting layer 3, and a support layer 4 are formed by continuous epitaxial growth. . This epitaxial growth corresponds to the cloning process for the underlying base metal. In FIG. 1, the separation layer 2, the superconducting layer 3, and the support layer 4 are shown as one layer 10 for convenience of illustration. The separation layer 2 is made of a material that is soluble in some solvent. Therefore, the superconducting layer 3 / support layer 4 is separated from the base base material 1 by adding the solvent to the separation layer 2 in the separation layer removing unit 5. This formation and separation is carried out continuously to obtain the tape 6 of the superconducting / supporting layer as long as necessary.

위에 열거된 각 구성요소에 대한 상세한 설명은 아래와 같다.A detailed description of each component listed above is provided below.

(1) 기본 모재(1) basic substrate

기본 모재는 여러 가지 형태 및 여러 가지 물질로 제작할 수 있다. 예를 들면 Ni, Pt, 혹은 기타 합금과 같은 금속으로 된 테이프로서, 루프 형태를 이루고 있다. 적절한 강도를 위하여 단면이 이중 이상의 구조일수 있다. 두께는 0.02㎜ 이상의 다소 두꺼운 것일 수 있다. 그것은 입방정(Cubic) 구조의 단결정이어야 하는데, 그러한 길이가 긴 단결정 테이프는 여러 가지 방식으로 제작할 수 있다. 어느 정도 긴 것은 막대형태로 상품화 되어있으므로 구입하여 얇게 절단하면 된다. 또 다른 방식으로 사파이어나 실리콘 대면적 단결정에 Ni 혹은 Pt등을 전착 혹은 증착 후 분리해내어 얻을 수 있다. 총 길이가 1m 정도 긴 것이 필요하면, 여러 개의 단결정 테이프를 붙여서 연결해야 한다. 또한 루프형태를 얻기 위하여 양끝이 이어져야한다. 단결정이 연속이 되도록 연결하는 방법은 여러 가지 있으나 예를 들면 녹는 점 바로 아래에서 원자 확산 방식으로 붙일 수 있다. 도 2는 Ni 단결정 테이프를 1400도에서 붙인 접촉면의 결정성에 대한 X-선 회절(XRD) 측정결과이다. 도 2를 참조하면, 결정성이 전혀 변하지 않았음을 알 수 있다. 이러한 금속루프는 전체가연속적 단결정으로 이루어져 있다.The base substrate can be manufactured in various forms and materials. For example, it is a tape made of metal such as Ni, Pt, or other alloys, and has a loop shape. The cross section may be of two or more structures for proper strength. The thickness may be somewhat thicker than 0.02 mm. It must be a cubic single crystal, which can be produced in many ways. Some long ones are commercialized in the form of rods, so you can buy them and cut them thinly. Alternatively, it can be obtained by electrodepositing or depositing Ni or Pt on sapphire or large silicon single crystal. If the total length is about 1m, it is necessary to connect several single crystal tapes together. Also, both ends must be connected to get loop form. There are several ways to connect the single crystals in a continuous manner, but they can be attached by atomic diffusion just below the melting point, for example. 2 is an X-ray diffraction (XRD) measurement result of the crystallinity of the contact surface pasted Ni single crystal tape at 1400 degrees. Referring to Figure 2, it can be seen that the crystallinity did not change at all. This metal loop consists of a totally continuous single crystal.

(2) 분리층(2) separation layer

금속표면에 에피택셜(epitaxial) 방식으로 결정성장될 수 있는 물질로 이루어 졌으며, 적절한 용액에 용해될 수 있는 물질로 이루어 져있다. 예를 들어, 도 3은 Ni 위에 BaO/SrTiO3 이중막을 성장시킨 후, YBCO 초전도층과 Pt 지지층을 성장시킨 다음, 물에 담가서 BaO를 녹임으로써 분리된 테이프에 대한 XRD 결과이다. 도 3을 참조하면, 결정성이 그대로 유지되고 있음을 알 수 있다. BaO는 분리층이고 SrTiO3는 완충층이다. 완충층이 없을 수도 있는데, 도 1의 도면에서는 완충층을 형성시키지 않은 것을 예로 들었으나, 도 3에서는 SrTiO3로 이루어진 완충층 형성한 후에, 초전도체를 제조하여 측정한 결과를 나타낸다.It is made of a material that can be crystal-grown epitaxially on a metal surface, and is made of a material that can be dissolved in an appropriate solution. For example, FIG. 3 shows XRD results of a tape separated by growing a BaO / SrTiO3 bilayer on Ni, growing a YBCO superconducting layer and a Pt support layer, and then immersing in water to dissolve BaO. Referring to FIG. 3, it can be seen that crystallinity is maintained as it is. BaO is a separation layer and SrTiO3 is a buffer layer. Although there may be no buffer layer, the drawing of FIG. 1 exemplifies that no buffer layer is formed. In FIG. 3, a superconductor is manufactured and measured after forming a buffer layer made of SrTiO 3.

(3) 초전도층(3) superconducting layer

초전도층은 분리층위에 직접 혹은 적절한 완충층을 사용하여 에피택셜 방법으로 성장시킬 수 있다. 도 3을 참조하면, 초전도층의 양호한 결정성을 확인할 수 있다.The superconducting layer can be grown epitaxially either directly on the separation layer or using an appropriate buffer layer. Referring to FIG. 3, good crystallinity of the superconducting layer can be confirmed.

(4) 지지층(4) support layer

지지층은 고강도 비자성 합금 혹은 금속/비금속 조합층을 낮은 온도에서 증착하여 얻어진다. 두께는 적당한 강도를 얻을 수 있는 것이어야 한다. 도 3에서는 지지층인 Pt층도 결정이 형성되어 있다. 그러나 일반적으로 지지층은 반드시 결정성일 필요는 없고, 응력만 없으면 되며 가능한 한 고강도 물질이어야 한다.The support layer is obtained by depositing a high strength nonmagnetic alloy or metal / nonmetal combination layer at low temperature. The thickness should be such that adequate strength can be obtained. In FIG. 3, the Pt layer which is a support layer also has crystal | crystallization. In general, however, the support layer does not necessarily have to be crystalline, it is stress free and should be as high strength as possible.

본 실시예에서는, 기본 모재-분리층(-완충층)-초전도층-지지층 순서로 적층된 경우를 예로 들었다. 이 경우 초전도층은 단결정이고, 기본 모재가 완벽한 만큼 결함이 없고, 지지층은 여러 가지 다양한 물질이 가능하고 결정성이 필요 없고 충분히 얇을 수 있다. 지지층은 고강도 비자성 물질을 다양하게 선택할 수 있다. 초전도층과 접촉된 지지층은 과전류의 우회통로가 된다. 완충층을 사용할 경우, 분리후 완충층 그대로 보호층 역할을 할 수 있다.In this embodiment, the case where the base matrix-separating layer (buffer layer) -superconducting layer-supporting layer is laminated in order is taken as an example. In this case, the superconducting layer is a single crystal, there is no defect as long as the basic base material is perfect, the support layer can be a variety of different materials, do not need crystallinity and can be thin enough. The support layer can be variously selected from high strength nonmagnetic materials. The support layer in contact with the superconducting layer becomes the bypass passage of the overcurrent. If a buffer layer is used, the buffer layer may serve as a protective layer as it is after separation.

완충층을 형성하는 경우, 본 실시예의 방법을 더 발전시켜서, 분리층의 제거단계 이후에, 완충층 상에 2차 초전도층 및 지지층을 순차 형성하는 단계를 더 구비할 수도 있다.In the case of forming the buffer layer, the method of the present embodiment may be further developed to further include sequentially forming a secondary superconducting layer and a supporting layer on the buffer layer after the removal of the separation layer.

[제2 실시예]Second Embodiment

제2 실시예에서는, 기본 모재에 분리층과 지지층을 순차적으로 형성하고, 분리층을 제거하여, 지지층을 모재로부터 분리한 후, 지지층 상에 완충층, 초전도층 및 보호층을 순차 형성하여 코팅된 초전도체를 제조한다.In the second embodiment, a separation layer and a support layer are sequentially formed on the base base material, the separation layer is removed, the support layer is separated from the base material, and then a buffer layer, a superconducting layer, and a protective layer are sequentially formed on the support layer and coated with the superconductor. To prepare.

제2 실시예는 별도의 도면에 의해 나타내지 않았는데, 그 이유는 완성된 초전도체의 구조가 제1 실시예에 예시된 것과 큰 차이를 나타내지 않기 때문이다. 또한, 초전도체 구조의 구성요소들에 대한 설명도 제1 실시예에 기재된 것과 마찬가지이므로 중복을 피하기 위해 생략한다.The second embodiment is not shown by separate drawings because the structure of the finished superconductor does not show much difference from that illustrated in the first embodiment. In addition, the descriptions of the components of the superconductor structure are the same as those described in the first embodiment, and are omitted to avoid duplication.

이와 같이 본 발명의 실시예들에 대해 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예들에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.As described with respect to the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, it is apparent that many modifications are possible by those skilled in the art within the technical spirit of the present invention. Do.

이와 같은 본 발명의 효과를 종래기술과 대비하여 나타내면 아래와 같다.This effect of the present invention is shown below in comparison with the prior art.

1. 종래기술에서는 긴 테이프의 결정정렬작용을 모든 부위에 적용하므로 그 작용이 잘 안 이루어지는 곳에서 결함이 생긴다. 그러나, 본 발명의 방법에서는 이상적으로 정렬된 기본 모재에서 연속적으로 복제함으로써 결함의 가능성이 원리적으로 배제되어 있다.1. In the prior art, since the crystal alignment effect of the long tape is applied to all parts, a defect occurs where the action is difficult. However, in the method of the present invention, the possibility of defects is in principle ruled out by replicating continuously in an ideally aligned base substrate.

2. 종래기술에서는 압연후 재결정, 하전입자충돌, 증착 원자입사각도 등으로 형성하므로 완전한 단결정이 아니고 기본적으로 다결정임에 비하여 본 발명의 방법에서는 기본 모재의 완전성만큼 단결정이다.2. In the prior art, since it is formed by recrystallization, charged particle collision, evaporation atomic incident angle, etc. after rolling, it is not a single crystal, but basically a polycrystal.

3. 종래기술에서는 지지층과 초전도층의 전기적 접촉이 이루어지지 않으므로 과전류 우회가 안되지만, 본 발명의 방법에서는 직접 접촉되므로 과전류 우회가 된다.3. In the prior art, since the electrical contact between the support layer and the superconducting layer is not made, overcurrent bypass is not possible. However, in the method of the present invention, the overcurrent bypass is performed because it is directly contacted.

4. 종래기술에서는 지지층의 두께를 충분히 줄일 수 없으나, 본 발명의 방법에서는 그 두께를 허용된 만 큼 줄일 수 있다.4. In the prior art, the thickness of the support layer cannot be sufficiently reduced, but in the method of the invention the thickness can be reduced as much as allowed.

5. 본 발명의 방법에서는 종래기술에 비해 지지층 선택이 극히 자유롭다.5. In the method of the present invention, support layer selection is extremely free compared to the prior art.

따라서, 상기한 본 발명에 따르면 매우 우수한 특성을 가지는 초전도체를 얻을 수 있다.Therefore, according to the present invention described above, a superconductor having very excellent characteristics can be obtained.

Claims (9)

복제방법에 의해 초전도체를 제조하는 방법에 있어서,In the method for producing a superconductor by the replication method, 기본 모재에 분리층을 형성하는 단계와;Forming a separation layer on the base substrate; 상기 분리층 상에 초전도층을 형성하는 단계와;Forming a superconducting layer on the separation layer; 상기 초전도층 상에 지지층을 형성하는 단계와;Forming a support layer on the superconducting layer; 상기 분리층을 제거하는 단계;Removing the separation layer; 를 구비하는 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.Method for producing a superconductor characterized in that it comprises a. 제1항에 있어서, 상기 기본 모재는 전체가 연속적인 단결정 금속 루프이며, 그 결과 얻어지는 코팅된 초전도체가 테이프 형상인 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.The method of manufacturing a superconductor according to claim 1, wherein the basic base material is a continuous single crystal metal loop in its entirety, and the resultant coated superconductor is tape-shaped. 제1항에 있어서, 상기 분리층과 초전도층이 에피택셜 성장법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.The method of manufacturing a superconductor according to claim 1, wherein the separation layer and the superconducting layer are formed by epitaxial growth. 제1항에 있어서, 상기 분리층과 초전도층의 형성단계 사이에, 완충층을 형성하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.The method of manufacturing a superconductor according to claim 1, further comprising forming a buffer layer between the separation layer and the step of forming the superconducting layer. 제4항에 있어서, 상기 분리층의 제거단계 이후에, 상기 완충층 상에 2차 초전도층 및 지지층을 순차 형성하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.The method of manufacturing a superconductor of claim 4, further comprising sequentially forming a secondary superconducting layer and a supporting layer on the buffer layer after removing the separation layer. 제1항에 있어서, 상기 분리층이 소정 용매에 의해 용해될 수 있는 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.The method of claim 1, wherein the separation layer is made of a material that can be dissolved by a predetermined solvent. 복제방법에 의해 초전도체를 제조하는 방법에 있어서,In the method for producing a superconductor by the replication method, 기본 모재에 분리층을 형성하는 단계와;Forming a separation layer on the base substrate; 상기 분리층 상에 지지층을 형성하는 단계와;Forming a support layer on the separation layer; 상기 분리층을 제거하여, 상기 지지층을 상기 모재로부터 분리하는 단계와;Removing the separation layer to separate the support layer from the base material; 상기 지지층 상에 완충층, 초전도층 및 보호층을 순차 형성하는 단계;Sequentially forming a buffer layer, a superconducting layer, and a protective layer on the support layer; 를 구비하는 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.Method for producing a superconductor characterized in that it comprises a. 제7항에 있어서, 상기 기본 모재는 전체가 연속적인 단결정 금속 루프이며, 그 결과 얻어지는 코팅된 초전도체가 테이프 형상인 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.8. The method of claim 7, wherein the base substrate is a continuous single crystal metal loop in its entirety and the resulting coated superconductor is tape-shaped. 제8항에 있어서, 상기 분리층이 소정 용매에 의해 용해될 수 있는 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 초전도체의 제조방법.The method of claim 8, wherein the separation layer is made of a material that can be dissolved by a predetermined solvent.
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