KR20040068564A - Process for making angstrom scale and high aspect functional platelets - Google Patents

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KR20040068564A
KR20040068564A KR10-2004-7008262A KR20047008262A KR20040068564A KR 20040068564 A KR20040068564 A KR 20040068564A KR 20047008262 A KR20047008262 A KR 20047008262A KR 20040068564 A KR20040068564 A KR 20040068564A
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죠세피칼
레트커제임스피.
엔로우하워드에이치.
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애버리 데니슨 코포레이션
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Abstract

본 발명은 기능성 또는 장식성 플레이크 또는 미소 플레이트를 제조하는 프로세스는 증착 체임버 내에서 증착 금속 및 릴리스 코트의 다층 샌드위치를 교대로 회전형 냉각 드럼 또는 적합한 캐리어 매체에 적용하는 단계를 포함한다. 교대로 형성된 금속화층은 증착에 의해 적용되고, 개재하는 릴리스층은 증착 체임버에 수용된 증착 소스에 의해 적용되는 용매 가용성 열가소성 폴리머 재료 또는 약하게 가교 결합된 폴리머 재료인 것이 바람직하다. 진공 체임버 내에서 적층된 다층 샌드위치는 드럼 또는 캐리어로부터 제거되고, 본질적으로 릴리스 코트가 배제된 금속 플레이크를 잔류시키는 스트리핑 공정에서 금속으로부터 릴리스 코팅을 용해하도록 적합한 유기 용매로 처리된다. 용매 및 용해된 릴리스 재료는 원심분리에 의해 제거되어 에어 밀링되고 바람직한 매개물 중에 풀어질 수 있는 농축된 플레이크의 케익을 형성하고, 잉크, 페인트 또는 코팅에서의 최종 용도에 맞추어 추가로 사이징 및 균질화 처리된다. 일 실시예에서 최종 처리된 플레이크는 단일층 박막 금속 또는 금속 합금 플레이크 또는 무기 재료의 플레이크를 포함하며, 또 다른 실시예에서 플레이크는 상기 증착 체임버 내의 적절한 진공 증착 소스 등으로부터 적용된 보호성 폴리머 코팅으로 양면이 피복된다. 상기 릴리스 코트 재료는 방사선 경화형(radiation curable), 저밀도의 가교 가능한 증착 폴리머 재료일 수 있다. 고에너지 방사선 소스에 노출시킴으로써 상기 릴리스 재료가 본질적으로 점성이 없고, 용매 가용성 릴리스 코트층이 생성되기에 충분한 릴리스 재료로 가교된다. 일실시예에서, 상기 다층 증착물은 상기 증착 체임버로부터 진공 록을 지나, 상기 증착 체임버에 인접한 개별의 스트리핑 체임버 내로 진입하여 이음매 없는 벨트 상에 적층된다. 상기 두 체임버는 상기 플레이크 재료를 이음매 없는 벨트에 증착시키는 동안, 대기압 미만의 진공 압력 상태에서 유지된다. 상기 증착물은 상기 벨트의 속력을 감소시키고, 상기 증착 체임버 내의 진공 증착 소스를 공전시켜, 상기 증착물 포집 장치를 상기 스트리핑 체임버 내에 이음매 없는 벨트 아래에 진공 록을 통과하여 상기 스트리핑 체임버에 밀봉함으로써, 주기적으로 제거된다. 상기 진공 록은, 상기 이음매 없는 벨트로부터 다층 증착된 재료를 제거하는 공정의 수행 도중에 스트리핑 체임버 내에서 대기압 미만의 진공 압력 상태로 유지된다.The process for producing functional or decorative flakes or microplates comprises the steps of alternately applying a multilayer sandwich of deposited metal and release coat to a rotating cooling drum or a suitable carrier medium in a deposition chamber. The alternating metallization layers are applied by vapor deposition, and the intervening release layer is preferably a solvent soluble thermoplastic polymer material or a weakly crosslinked polymer material applied by the deposition source contained in the deposition chamber. The multilayer sandwich laminated in the vacuum chamber is removed from the drum or carrier and treated with a suitable organic solvent to dissolve the release coating from the metal in a stripping process that essentially leaves the metal flakes free of the release coat. The solvent and dissolved release material are removed by centrifugation to form a cake of concentrated flakes that can be air milled and released in the desired medium, and further sized and homogenized for end use in ink, paint or coating. . In one embodiment the final treated flake comprises a single layer thin film metal or metal alloy flake or flake of an inorganic material, and in another embodiment the flake is double-sided with a protective polymer coating applied from an appropriate vacuum deposition source, etc. in the deposition chamber. This is covered. The release coat material may be a radiation curable, low density crosslinkable deposited polymer material. By exposure to a high energy radiation source, the release material is essentially viscous and crosslinked with sufficient release material to produce a solvent soluble release coat layer. In one embodiment, the multilayer deposit passes from the deposition chamber through a vacuum lock, into a separate stripping chamber adjacent to the deposition chamber and is deposited on a seamless belt. The two chambers are maintained at a vacuum pressure below atmospheric pressure while depositing the flake material onto the seamless belt. The deposit reduces the speed of the belt and revolves the vacuum deposition source in the deposition chamber, thereby periodically sealing the deposit trapping device through the vacuum lock under the seamless belt in the stripping chamber to seal the stripping chamber. Removed. The vacuum lock is maintained at sub-atmospheric vacuum pressure in the stripping chamber during the performance of the process of removing the multi-layer deposited material from the seamless belt.

Description

옹스트롬 크기의 높은 애스펙트 비를 가진 기능성 미소 플레이트의 제조 방법 {PROCESS FOR MAKING ANGSTROM SCALE AND HIGH ASPECT FUNCTIONAL PLATELETS}Process for producing functional microplate with high aspect ratio of angstrom size {PROCESS FOR MAKING ANGSTROM SCALE AND HIGH ASPECT FUNCTIONAL PLATELETS}

종래의 알루미늄 플레이크는 강구(鋼球), 알루미늄 금속, 미네랄 알코올, 및 통상 스테아르산 또는 올레인산 지방산을 함유하는 볼 밀(ball mill)에서 제조된다. 상기 강구는 알루미늄을 납작하게 만들어 플레이크로 분쇄한다. 볼 밀에 의한 밀링이 완료되면 슬러리는 입자 사이징(sizing)을 위한 메쉬 스크린을 통과하게 된다. 이 때, 스크린을 통과할 수 없는 크기의 플레이크는 추가 처리를 위해 볼 밀로 반송된다. 적절한 크기의 플레이크는 스크린을 통과하여 필터 프레스에 도입되고, 거기서 플레이크로부터 과량의 용매가 분리된다. 이어서 필터 케익은 부가되는 용매로 풀어진다. 이러한 종래의 알루미늄 플레이크는 일반적으로 약 2 내지 약 200 ㎛의 입자 크기 및 약 0.1 내지 약 2.0 ㎛의 입자 두께를 갖는다. 이들 플레이크는 높은 확산 반사율(diffuse reflectance), 낮은 정 반사율(specular reflectance), 거친 불규칙 플레이크 미소 표면 및 상대적으로 낮은 애스펙트 비(aspect ratio)를 특징으로 한다.Conventional aluminum flakes are produced in ball mills containing steel balls, aluminum metal, mineral alcohols, and usually stearic or oleic acid fatty acids. The steel balls are made flat of aluminum and crushed into flakes. When milling by the ball mill is complete, the slurry is passed through a mesh screen for particle sizing. At this time, flakes of size that cannot pass through the screen are returned to the ball mill for further processing. Appropriately sized flakes are passed through the screen into the filter press where excess solvent is separated from the flakes. The filter cake is then loosened with the added solvent. Such conventional aluminum flakes generally have a particle size of about 2 to about 200 μm and a particle thickness of about 0.1 to about 2.0 μm. These flakes are characterized by high diffuse reflectance, low specular reflectance, rough irregular flake microsurfaces and relatively low aspect ratios.

금속 플레이크를 만드는 또 다른 방법으로서, 메탈류어(Metalure)라는 품명으로 판매되는 플레이크를 제조하기 위한 Avery Dennison Corporation사의 방법이 있다. 이 방법에서, 폴리에스테르 캐리어의 양측면이 용매계 수지 용액으로 그라비어(gravure) 코팅된다. 코팅된 건조 웹(web)은 이어서 금속화(metallizing) 설비로 이송되는데, 여기서 코팅된 시트의 양측면이 증착된 알루미늄 박막으로 금속화된다. 금속 박막을 구비한 시트는 이어서 코팅 설비로 반송되고, 여기서 알루미늄의 양측면이 용매계 수지 용액의 2차 필름으로 코팅된다. 코팅된 금속 시트의 건조품은 그 양측면에 증착된 알루미늄의 2차 필름을 피복하기 위해 다시 금속화 설비로 이송된다. 이렇게 하여 얻어지는 다층 시트는 이어서 추가 처리를 위한 설비로 이송되는데, 여기서 아세톤과 같은 용매 중에서 캐리어로부터 코팅물이 스트리핑(stripping)된다. 이 때, 스트리핑 공정에서 연속층은 슬러리에 수용된 입자로 분쇄된다. 상기 용매에 의해, 슬러리 중의 금속층들 사이에서 폴리머가 용출된다. 다음에, 슬러리는 용매와 용해된 코팅물을 제거하기 위해 초음파 처리되고 원심분리 처리되어 고형분이 약 65%인 농축 알루미늄 플레이크의 케익이 얻어진다. 이렇게 얻어진 케익은 이어서 적합한 매개물(vehicle) 중에 풀어지고, 추가로 균질화(homogenizing)에 의해 잉크, 페인트 및 코팅에 사용하기 위해 제어된 크기의 플레이크로 크기 조절된다. 잉크와 같은 인쇄 가능 용도에 사용하기 위해 상기 방법으로 제조된 금속 플레이크는 약 4 내지 12 ㎛의 입자 크기 및 약 150 내지 약 250Å의 두께를 갖는 것을 특징으로 한다. 이들 플레이크로 만들어진 코팅은 높은 정 반사율 및 낮은 확산 반사율을 갖는다. 상기 플레이크는 평탄한 거울형 표면 및 높은 애스펙트 비를 갖는다. 또한 상기 코팅물은 다른 방법으로 제조된 금속 플레이크의 경우와 비교할 때, 사용된 플레이크 1파운드당 높은 수준의 도포 면적을 갖는다.Another method of making metal flakes is Avery Dennison Corporation's method for making flakes sold under the trade name Metalure. In this method, both sides of the polyester carrier are gravure coated with a solvent-based resin solution. The coated dry web is then transferred to a metallizing facility where both sides of the coated sheet are metallized with the deposited aluminum thin film. The sheet with the metal thin film is then conveyed to a coating facility, where both sides of aluminum are coated with a secondary film of a solvent-based resin solution. The dried product of the coated metal sheet is transferred back to the metallization plant to cover the secondary film of aluminum deposited on both sides thereof. The multilayer sheet thus obtained is then transferred to a facility for further processing, in which the coating is stripped from the carrier in a solvent such as acetone. At this time, in the stripping process, the continuous layer is pulverized into particles contained in the slurry. The solvent elutes the polymer between the metal layers in the slurry. The slurry is then sonicated and centrifuged to remove the solvent and dissolved coating to yield a cake of concentrated aluminum flakes having a solid content of about 65%. The cake thus obtained is then released in a suitable vehicle and further sized to a flake of controlled size for use in inks, paints and coatings by homogenizing. The metal flakes prepared by this method for use in printable applications such as inks are characterized by having a particle size of about 4 to 12 μm and a thickness of about 150 to about 250 mm 3. Coatings made from these flakes have high positive reflectance and low diffuse reflectance. The flakes have a flat mirrored surface and a high aspect ratio. The coating also has a high level of application area per pound of flakes used, as compared to the case of metal flakes produced by other methods.

플레이크는 또한 폴리머/금속 진공 증착(vacuum deposition) 공정에서 제조되는데, 이 공정에 따르면, 증착된 알루미늄층들 사이에 가교결합된 (cross-linked) 폴리머로 이루어진 개재층(intervening layer)을 구비하여, 폴리에스테르 또는 폴리프로필렌과 같은 얇은 플라스틱 캐리어 상에 증착 알루미늄의 박층이 형성된다. 통상적으로, 상기 가교결합 폴리머층은 증기화된 아크릴레이트 모노머 형태로 증착된 중합 아크릴레이트이다. 상기 다층 시트 재료는 광학 특성에 유용한 다층 플레이크로 분쇄된다. 이러한 다층 플레이크로부터 제조되는 코팅물은 높은 확산 반사율 및 낮은 정 반사율을 갖는 경향이 있다. 상기 플레이크는 잉크로 만들어질 때 낮은 애스펙트 비 및 바람직하지 않은 낮은 불투명도(opacity)를 갖는다.The flakes are also manufactured in a polymer / metal vacuum deposition process, which according to the process comprises an intervening layer of cross-linked polymer between the deposited aluminum layers, A thin layer of deposited aluminum is formed on a thin plastic carrier such as polyester or polypropylene. Typically, the crosslinked polymer layer is a polymeric acrylate deposited in the form of a vaporized acrylate monomer. The multilayer sheet material is crushed into multilayer flakes useful for optical properties. Coatings made from such multilayer flakes tend to have high diffuse reflectance and low forward reflectance. The flakes have a low aspect ratio and undesirable low opacity when made into ink.

본 발명은 기능성 용도 및 장식성 응용 모두에 사용될 수 있는 옹스트롬 크기의 플레이크(flake) 또는 미소 플레이트를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에 따라 제조되는 플레이크 중 일부는 나노스케일 범위에 이른다. 상기 플레이크는 금속, 금속성 화합물, 비금속 또는 투명 플레이크일 수 있다. 상기 플레이크의 기능성 응용에는 플레이크에 의해 마무리 코팅에 대한 원하는 특정 성질을 형성하기 위해 일정 수준의 강성이 부가될 수 있는 보호 코팅, 또는 플레이크층이 바탕이 되는 안료층을 보호하기 위해 특정 파장의 광을 차단하는 데 이용될 수 있는 보호 코팅에서의 용도가 포함된다. 반사성(reflective) 금속 플레이크는 잉크, 페인트 또는 코팅을 포함하는 다양한 광학적 또는 장식성 용도로 유용하다. 플레이크의 다른 용도로는 화학 공정 및 생물학적 용도와 함께 마이크로웨이브 및 정전기 응용이 포함된다.The present invention is directed to a method of making angstrom sized flakes or microplates that can be used for both functional and decorative applications. Some of the flakes prepared according to the method of the present invention reach the nanoscale range. The flakes may be metal, metallic compounds, nonmetals or transparent flakes. Functional applications of the flakes include light of a particular wavelength to protect the pigment coating on which the flake layer is based, or a protective coating that can be added with some level of stiffness to form the desired specific properties for the finish coating by the flakes. Uses in protective coatings that can be used to block are included. Reflective metal flakes are useful for a variety of optical or decorative applications, including inks, paints or coatings. Other uses of flakes include microwave and electrostatic applications, along with chemical and biological applications.

도 1은 금속 플레이크를 제조하기 위한 종래 기술의 프로세스를 도시한 개략의 기능적 블록도이다.1 is a schematic functional block diagram illustrating a prior art process for producing metal flakes.

도 2는 본 발명에 따른 프로세스의 제1 실시예에서 다층 코팅을 적용하기 위한 진공 증착 체임버를 도시한 개략의 정면도이다.2 is a schematic front view of a vacuum deposition chamber for applying a multilayer coating in a first embodiment of a process according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 다층 시트 재료의 일 실시예에서의 일련의 층을 도시한 개략의 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view showing a series of layers in one embodiment of a multilayer sheet material according to the present invention.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 다층 시트 재료를 도시한 개략의 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view illustrating a multilayer sheet material according to another embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에서의 처리 단계를 개략적으로 도시한 기능적 블록도이다.5 is a functional block diagram schematically showing the processing steps in the first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 프로세스에 의해 제조된 단일층 플레이크를 도시한 개략의 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view illustrating a single layer flake made by the process of the present invention.

도 7은 본 발명의 프로세스에 의해 제조되는 다층 플레이크의 개략의 단면도이다.7 is a schematic cross-sectional view of a multilayer flake made by the process of the present invention.

도 8은 본 발명의 금속 플레이크를 제조하기 위한 제2 실시예를 도시한 개략의 정면도이다.8 is a front view of a schematic showing a second embodiment for producing a metal flake of the present invention.

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따라 제조된 다층 재료로부터 플레이크를 제조하기 위한 처리 단계를 개략적으로 도시한 기능적 블록도이다.9 is a functional block diagram schematically illustrating a processing step for producing flakes from a multilayer material produced according to a second embodiment of the present invention.

도 10은 벨 자(bell jar) 진공 체임버를 도시한 반개략적 정면도이다.FIG. 10 is a half schematic front view of a bell jar vacuum chamber. FIG.

도 11은 회전 드럼 및 히터 블록 어셈블리를 수용하는 진공 체임버를 도시한 반개략적 측면도이다.11 is a half schematic side view of a vacuum chamber containing a rotating drum and heater block assembly.

도 12는 도 11에 도시한 회전 드럼 및 가열된 폴리머 증기 체임버의 측면도이다.FIG. 12 is a side view of the rotary drum and heated polymer vapor chamber shown in FIG. 11.

도 13은 진공 체임버 내에서 폴리머 릴리스 코팅 재료를 회전 드럼 표면으로 전달하기 위한 와이어 공급 장치와 조합된 상태로 도 11 및 도 12와 유사한 진공 체임버 및 히터 블록 어셈블리를 도시한 반개략적 측면도이다.FIG. 13 is a half schematic side view illustrating a vacuum chamber and heater block assembly similar to FIGS. 11 and 12 in combination with a wire feed device for delivering polymer release coating material to a rotating drum surface in a vacuum chamber.

도 14는 도 13에 도시한 회전 드럼 및 히터 블록 어셈블리의 측면도이다.FIG. 14 is a side view of the rotary drum and heater block assembly shown in FIG. 13.

도 15는 폴리머 릴리스 코팅 재료를 진공 체임버에 전달하기 위한 와이어 공급 메커니즘과 증기관 조합의 일 실시예를 도시한 도면이다.FIG. 15 shows one embodiment of a combination of wire feed mechanism and steam line for delivering a polymer release coating material to a vacuum chamber.

도 16은 도 15에 도시한 가열된 폴리머 증기관 및 회전 드럼의 측면도이다.FIG. 16 is a side view of the heated polymer steam tube and rotating drum shown in FIG. 15.

도 15a 및 도 16a는 도 15 및 도 16에 도시한 와이어 공급 메커니즘의 대안적 실시예를 도시한 도면이다.15A and 16A illustrate alternative embodiments of the wire feed mechanism shown in FIGS. 15 and 16.

도 17은 폴리머 기재 코팅 재료를 진공 체임버로 전달하기 위한 가열된 용융관 장치를 도시한 반개략적 측면도이다.FIG. 17 is a half schematic side view illustrating a heated melt tube device for delivering a polymer based coating material to a vacuum chamber. FIG.

도 18은 도 17에 도시한 가열된 폴리머 증기관 및 회전 드럼을 도시한 측면도이다.FIG. 18 is a side view of the heated polymer steam tube and rotating drum shown in FIG. 17.

도 19는 본 발명의 원리에 따라 폴리머 릴리스 코팅물을 구비한 캐리어 시트 재료를 제조하기 위한 프로세스를 도시한 반개략적 측면도이다.FIG. 19 is a half schematic side view illustrating a process for making a carrier sheet material with a polymer release coating in accordance with the principles of the present invention.

도 20은 폴리머 릴리스 재료를 진공 체임버에 전달하기 위한 용융 펌프 프로세스를 도시한 반개략적 정면도이다.20 is a half schematic front view illustrating a melt pump process for delivering a polymer release material to a vacuum chamber.

도 21은 다층 증착물을 증착시키고, 상기 다층 증착물을 대기압 미만의 진공 압력으로 유지되는 각각의 진공 체임버 내에서 이음매 없는 벨트로부터 제거하기 위한 프로세스를 도시한 반개략적 측면도이다.FIG. 21 is a semi- schematic side view illustrating a process for depositing a multilayer deposit and removing the multilayer deposit from a seamless belt in each vacuum chamber maintained at a vacuum pressure below atmospheric pressure.

도 22는 스트리핑 체임버로 밀폐된 증착물 포집 장치를 도시한 도 21과 유사한 반개략적 측면도이다.FIG. 22 is a half schematic side view similar to FIG. 21 showing a deposit trapping device sealed with a stripping chamber.

도 23은 도 21 및 도 22와 유사하나, 이음매 없는 벨트로부터 다층 증착물을 스트리핑하여, 밀폐된 포집 장치에서 이를 포집하는 일련의 추가적 단계를 도시한 반개략적 측면도이다.FIG. 23 is a semi-schematic side view similar to FIGS. 21 and 22 but showing a series of additional steps of stripping the multilayer deposit from a seamless belt and collecting it in a closed collection device.

본 발명의 목적 중 하나는, 본 발명의 프로세스가 이하에 설명할 다른 플레이크형 재료의 제조 비용도 절감하는 것이지만, 높은 반사성 금속 플레이크의 제조 단계를 줄이고 그 결과로서 제조 비용을 감축하는 것이다.One of the objects of the present invention is that while the process of the present invention also reduces the manufacturing cost of other flake material, which will be described below, it reduces the manufacturing steps of high reflective metal flakes and consequently reduces the manufacturing cost.

금속 플레이크에 부가하여, 유리(SiO2) 플레이크는 많은 산업적 용도로 적용된다. 종래의 유리 플레이크는 일반적으로 약 1 내지 6 ㎛의 두께 및 약 30 내지 약 100 ㎛의 직경을 갖는다. 이들 유리 플레이크는 여러 가지 기능적 특성을 향상시키기 위해 폴리머 및 코팅에 첨가용으로 이용될 수 있다. 그러한 예로는 보다 얇고 보다 평탄한 코팅을 제조하기 위한 첨가제로서 유리 플레이크를 첨가하는 것이 포함된다. 본 발명의 다른 목적은, 예를 들면, 폴리머, 코팅 및 필름에서 플레이크가 갖는 다양한 기능적 특성을 이용하기 위해 금속이나 유리 플레이크와 같은, 매우 얇고 납작하며 평탄한 플레이크를 제조하는 것이다.In addition to metal flakes, glass (SiO 2 ) flakes are applied for many industrial applications. Conventional glass flakes generally have a thickness of about 1 to 6 μm and a diameter of about 30 to about 100 μm. These glass flakes can be used for addition to polymers and coatings to enhance various functional properties. Examples include the addition of glass flakes as additives for making thinner and flatter coatings. Another object of the present invention is to produce very thin, flat and flat flakes, such as metal or glass flakes, for example to take advantage of the various functional properties of flakes in polymers, coatings and films.

Weinert의 미국 특허 제 6,270,840호에는 진공 증착된 플레이크 재료를 증착 표면으로부터 제거하는 방법의 개선을 목적으로 하는, 금속 플레이크의 제조 방법이 기재되어 있다. 상기 특허에는 증착 체임버를 지나, 상기 증착 체임버에 인접한 개별의 스트리핑 체임버를 통과하는 이음매 없는 벨트(endless belt)에 플레이크 재료를 적용하는 방법이 기재되어 있다. 상기 방법에서, 상기 증착 체임버 내의 진공 압력은 인접한 스트리핑 체임버 내의 진공 압력 보다 높은 수준으로 유지되지만, 플레이크 재료를 이용하는 중에는 상기 두 체임버 내의 압력이 모두 대기압 미만으로 유지된다. 본 발명에 따른 방법의 목적은, 상기 진공 압력을 파기하고, 이어서 유효한 진공 압력 수준까지 체임버 하부로 펌핑하는 공정이 필요할 수 있는 어느 한 체임버 내에서의 공정을 방해하는 것과 관련된 에너지 비용을 감축하는 것이다. 예를 들어, 상기 재료를 플레이크로 전환시키기 위해 증착 표면으로부터 상기 재료를 제거하는 공정과 같은 공정을 추가로 처리하도록, 증착된 재료를 제거하기 위해, 상기 증착 체임버를 주기적으로 대기에 개방한다. 전술한 Weinert의 공정은 연속 공정으로서, 상기 공정은 플레이크 재료층을 상기 이음매 없는 벨트에 증착시킨 다음, 증착 장치를 통해 상기 벨트의 각 통로에 있는 스트리핑 체임버로부터 상기 벨트를 제거하는 단계를 포함한다. 이 공정이 연속 공정으로 유지되도록, 상기 스트리핑 체임버는 상기 플레이크를 용매 내에 침지시키고, 이 방출물(release material)을 용해시켜, 고압의 플레이크 제거 기술, 상기 플레이크 물질을 세척하여 채집하기 위한, 상기 체임버 내에 수용된 스트리핑 스테이션을 포함한다.Weinert, U. S. Patent No. 6,270, 840, describes a method of making metal flakes for the purpose of improving the method of removing vacuum deposited flake material from the deposition surface. The patent describes a method of applying flake material to an endless belt that passes through a deposition chamber and through a separate stripping chamber adjacent to the deposition chamber. In this method, the vacuum pressure in the deposition chamber is maintained at a level higher than the vacuum pressure in the adjacent stripping chamber, while the pressure in both chambers is kept below atmospheric pressure while using the flake material. The object of the method according to the invention is to reduce the energy costs associated with disrupting the process in any chamber, where the process of destroying the vacuum pressure and then pumping the chamber down to an effective vacuum pressure level may be required. . The deposition chamber is periodically opened to the atmosphere to remove the deposited material, for example to further process such as removing the material from the deposition surface to convert the material to flakes. The aforementioned Weinert process is a continuous process, which includes depositing a layer of flake material onto the seamless belt and then removing the belt from a stripping chamber in each passage of the belt through a deposition apparatus. In order to maintain this process in a continuous process, the stripping chamber is immersed in the solvent and dissolves the release material, the high pressure flake removal technique, the chamber for cleaning and collecting the flake material. A stripping station housed therein.

본 발명은, 증착 체임버 내에 복수 개의 플레이크 재료층이 설치될 수 있도록 한, 반연속(semi-continuous) 공정을 제공하고, 이어서, 상기 다층 증착물을 각각 통과시킴으로써 주기적으로 한꺼번에 제거하여, 상기 증착 체임버에 인접한 개별의 진공 스트리핑 체임버에서 상기 Weinert 공정을 개선한 것이다. 본 발명에 따르면, 복수 개의 플레이크 재료층이 부근의 체임버에서 제거되기 전에, 상기 재료층을 고속으로 증착시킬 수 있고, 상기 증착 공정이 대기압 미만의 압력에서 연속 조작되기 때문에, 에너지 비용 및 제조 시간을 절감할 수 있다.The present invention provides a semi-continuous process that allows a plurality of layers of flake material to be installed in a deposition chamber, and then periodically removes all at once by passing each of the multilayer deposits to the deposition chamber. It is an improvement of the Weinert process in adjacent individual vacuum stripping chambers. According to the present invention, before the plurality of flake material layers are removed from the adjacent chamber, the material layers can be deposited at high speed, and because the deposition process is continuously operated at a pressure below atmospheric pressure, energy costs and manufacturing time are reduced. Can be saved.

본 발명은 얇고 가요성이 있는 폴리에스테르와 같은 폴리머 캐리어 시트, 또는 회전 금속 드럼과 같은 폴리싱된 금속 주물 표면에 다층 필름을 도포하는 플레이크 형성 프로세스를 포함한다. 어느 경우에나, 상기 프로세스는 진공 증착 체임버에서 실행된다. 한 실시예에서는 다층 필름을 폴리에스테르(PET) 캐리어 시트에 도포한다. 진공 체임버에는 다중 증착 소스(multiple deposition source)가 장착된다. 상기 증착 소스는 저항 또는 EB에 의한 가열로 야기되는 높은 온도에서의 증기화(vaporization)일 수 있다. 상기 체임버로부터 공기가 배기(evacuate)되며 감겨 있는 PET 필름은 냉각 드럼과 접촉 상태를 유지하면서 코팅 및 증착 소스를 통과하여 풀어진다. 재료의 교대층(alternating layers)은 이동하는 PET 웹에 피복될 수 있다. 한 예로서, 유기 용매 가용성 증착 열가소성 폴리머 릴리스 재료(release material)(증착 두께 약 100 내지 약 400Å), 이어서 알루미늄과 같은 금속층(증착 두께 약 5 내지 약 500Å), 이어서 또 하나의 용매 가용성 릴리스 재료층이 형성된 것을 들 수 있다. 또한, 예를 들어, 알루미늄을 대체하여 다른 금속, 합금 또는 유리 플레이크 제조용 무기 화합물이 사용될 수 있다. 웹 경로(web path)를 반전시키고 2차 코팅 소스를 비활성화한 다음 제1 단계를 반복 수행함으로써 진공을 파기하지 않고 복수 개의 층을 PET에 피복할 수 있으며, 이로써 생산성을 증대시킬 수 있다. 코팅 소스와 금속 증착 소스 사이에 2개의 증착 소스를 부가함으로써 금속층들의 각 측면에 부가적 보호층을 피복할 수 있다. 상기 PET로부터 샌드위치를 제거하기 위해, 다층 코팅된 PET를 유기 용매 스트리핑 프로세스에 도입한다. 폴리머 릴리스 코팅 재료는 유기 용매에 의해 용해되어 본질적으로 릴리스 재료가 없는 증착된 플레이크 재료를 남긴다. 이어서, 상기 용매를 원심분리하여, 농축된 플레이크의 케익이 얻어진다.The invention includes a flake forming process that applies a multilayer film to a polymer carrier sheet, such as a thin, flexible polyester, or to a polished metal casting surface, such as a rotating metal drum. In either case, the process is carried out in a vacuum deposition chamber. In one embodiment, the multilayer film is applied to a polyester (PET) carrier sheet. The vacuum chamber is equipped with multiple deposition sources. The deposition source may be vaporization at high temperatures caused by resistance or heating by EB. Air is evacuated from the chamber and the wound PET film is released through the coating and deposition source while maintaining contact with the cooling drum. Alternating layers of material may be coated on the moving PET web. As an example, an organic solvent soluble deposited thermoplastic polymer release material (deposit thickness of about 100 to about 400 microns), followed by a metal layer such as aluminum (deposit thickness of about 5 to about 500 microns), followed by another layer of solvent soluble release material This formed thing is mentioned. Also, for example, inorganic compounds for the production of other metals, alloys or glass flakes may be used in place of aluminum. By reversing the web path, deactivating the secondary coating source and then repeating the first step, a plurality of layers can be coated on the PET without breaking the vacuum, thereby increasing productivity. By adding two deposition sources between the coating source and the metal deposition source, an additional protective layer can be coated on each side of the metal layers. To remove the sandwich from the PET, multilayer coated PET is introduced into an organic solvent stripping process. The polymer release coating material is dissolved by the organic solvent, leaving the deposited flake material essentially free of the release material. The solvent is then centrifuged to give a cake of concentrated flakes.

다른 실시예에서는, 진공 증착 체임버 내에 들어 있는 릴리스 코팅된 냉각 드럼에 교대층을 직접 피복하기 위해 앞서와 동일한 코팅 및 증착 기법을 사용한다. 상기 드럼을 코팅 및 증착 소스를 통과하여 회전시켜, 증착된 열가소성 릴리스 재료 및 플레이크 재료의 다층 샌드위치를 교대층 형태로 적층(build up)한다. 이어서 플레이크를 제조하기 위해, 적절한 교반을 실시하면서 또는 교반하지 않고 유기 용매 속으로 다층 시트를 도입하거나, 또는 다층 시트를 분쇄하여 입자 크기를 더욱 축소하기 위해 에어 밀링(air-milling)될 수도 있는 거친(rough) 플레이크로 만든 다음, 잔존하는 층이 분리될 수 있도록 용매 슬러리 내에 도입한다. 상기 용매를 원심분리에 의해 제거함으로써 본질적으로 릴리스 재료를 전혀 포함하지 않는, 농축된 금속 플레이크의 케익을 제조할 수 있다. 이어서, 농축된 플레이크의 케익 또는 용매 및 플레이크의 슬러리를 바람직한 매개물 중에서 풀어줌으로써 잉크, 페인트, 플라스틱 또는 코팅에서의 최종 용도에 맞추어 추가로 크기 조절 및 균질화할 수 있다.In another embodiment, the same coating and deposition technique as above is used to directly coat an alternating layer on a release coated cooling drum contained within a vacuum deposition chamber. The drum is rotated through a coating and deposition source to build up a multilayer sandwich of deposited thermoplastic release material and flake material in alternating layer form. The coarse may then be air-milled to produce flakes, with the introduction of a multilayer sheet into an organic solvent with or without proper agitation, or by grinding the multilayer sheet to further reduce particle size. It is made into rough flakes and then introduced into the solvent slurry so that the remaining layers can be separated. By removing the solvent by centrifugation, a cake of concentrated metal flakes can be prepared which essentially contains no release material. The cake of concentrated flakes or solvent and slurry of flakes can then be further sized and homogenized to suit the end use in ink, paint, plastic or coating by releasing the slurry in the desired medium.

본 발명의 또 다른 실시예는 진공 증착 체임버 내에서 릴리스 코팅된 내열성 폴리머 캐리어 시트를 제조하는 프로세스를 포함한다. 상기 캐리어 시트는 앞에서 설명한 바와 같은 폴리에스테르(PET)의 웹을 포함할 수 있다. 상기 릴리스 코팅물은 폴리에스테르 캐리어 상에 증착된 유기 용매 가용성 열가소성 폴리머 재료를 포함한다. 상기 릴리스 코팅된 캐리어는 옹스트롬 크기의 플레이크를 제조하기 위한 유효 릴리스 표면을 제공하도록 금속 또는 유리와 같은 플레이크 재료를 증착하는 기재가 되는 평탄한 표면을 갖는 가요성 캐리어를 제공한다. 상기 플레이크는 적절한 유기 용매를 통해 열가소성 릴리스 코팅물로부터 방출될 때 극도로 얇고 납작해진다.Another embodiment of the invention includes a process for making a release coated heat resistant polymer carrier sheet in a vacuum deposition chamber. The carrier sheet may comprise a web of polyester (PET) as described above. The release coating comprises an organic solvent soluble thermoplastic polymer material deposited on a polyester carrier. The release coated carrier provides a flexible carrier having a flat surface upon which the flake material, such as metal or glass, is deposited to provide an effective release surface for producing angstrom sized flakes. The flakes become extremely thin and flat when released from the thermoplastic release coating through a suitable organic solvent.

본 발명의 다른 실시예는 증착된 열가소성 폴리머 릴리스 코팅 재료를 진공 체임버로 전달(delivery)하는 것을 제어하기 위한 기술을 포함한다. 이들 기술로는 회전 드럼, 히터 블록(heater block) 및 E-빔 실시예가 포함되며; 몇 가지 실시예는 진공 체임버 내로 공급하고 폴리머를 증발시키도록 가열하여 회전 드럼 또는 다른 캐리어 표면 상에 폴리머를 증착시키는 와이어 상에 폴리머를 코팅하는 데 이용하는 와이어 공급 메커니즘을 포함한다.Another embodiment of the present invention includes techniques for controlling the delivery of the deposited thermoplastic polymer release coating material to a vacuum chamber. These techniques include rotating drums, heater blocks and E-beam embodiments; Some embodiments include a wire feeding mechanism that is used to coat the polymer onto wires that feed into the vacuum chamber and heat to evaporate the polymer to deposit the polymer on a rotating drum or other carrier surface.

또 다른 실시예는 본 발명에 의해 제조되는 옹스트롬 크기의 입자의 용도로서, 장벽 재료(barrier material)에서의 수증기 전달 속도를 제어하는 데 이용되는 플레이크를 포함하는 옹스트롬 크기 입자의 응용 및 상기 옹스트롬 크기의 플레이크가 극도로 높은 전기 용량을 갖는 구조체를 제조하는 데 사용될 수 있는 전기적 응용을 포함한다.Another embodiment is the use of angstrom sized particles produced by the present invention, wherein the application of angstrom sized particles and the application of angstrom sized particles comprising flakes used to control the rate of water vapor delivery in the barrier material. Electrical applications include flakes that can be used to fabricate structures with extremely high capacitance.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 다층 플레이크 재료를 증착시켜, 상기 재료를 증착 표면으로부터 제거하기 위한 장치 및 방법은 스트리핑 체임버에 인접한 증착 체임버를 포함한다. 이 두 체임버는 각각의 체임버에서 각각 독립적으로제어가 가능한 진공 압력이 유지될 수 있도록, 진공 록(vacuum lock)에 의해 분리되어 있다. 증착 표면, 바람직하게는 이음매 없는 벨트 형태의 증착 표면은 상기 진공 증착 체임버를 통과하고, 진공 록을 지나서, 스트리핑 체임버 내로 진입한다. 다른 실시예에서, 상기 진공 증착 체임버 및 스트리핑 체임버는 둘 다 대기압 미만의 진공 압력 상태에서 유지된다. 상기 진공 증착 체임버는 상기 플레이크 재료층의 다층 증착물 및 상기 이음매 없는 벨트가 증착 체임버를 통과할 때 상기 벨트 상에 적층된 해당 릴리스 코팅층을 피복하기 위한 다중 증착 소스를 포함한다. 상기 이음매 없는 벨트 상에 상기 플레이크 재료의 다층 증착물 및 해당 릴리스 코팅층을 적층 시에 벨트로부터 상기 증착물이 제거되지 않는 경우에는 상기 벨트가 상기 스트리핑 체임버를 통과해야 한다.According to another embodiment of the present invention, an apparatus and method for depositing multilayer flake material to remove the material from the deposition surface comprises a deposition chamber adjacent to the stripping chamber. The two chambers are separated by a vacuum lock so that a vacuum pressure that can be independently controlled in each chamber is maintained. The deposition surface, preferably in the form of a seamless belt, passes through the vacuum deposition chamber and passes through the vacuum lock into the stripping chamber. In another embodiment, the vacuum deposition chamber and the stripping chamber are both maintained at vacuum pressure below atmospheric pressure. The vacuum deposition chamber includes a multilayer deposition of the flake material layer and multiple deposition sources for covering the release coating layer deposited on the belt as the seamless belt passes through the deposition chamber. The belt must pass through the stripping chamber if the deposit is not removed from the belt upon stacking the multilayer deposition of the flake material and the release coating layer on the seamless belt.

그런 다음, 증착물을 스트리핑하여, 이를 플레이크로 추가 처리하기 위해 포집하는 장치인 플레이크층 스트리핑 장치를 이용하여, 상기 스트리핑 체임버 내의 벨트로부터 상기 다층 증착물을 주기적으로 스트리핑한다. 한 실시예에서는 스트리핑 체임버 내의 진공 압력을 증착 체임버 내의 진공 압력보다는 높되, 대기압 미만의 진공 압력으로 유지시킨다.The multilayer deposit is then periodically stripped from the belt in the stripping chamber using a flake layer stripping device, a device that strips the deposit and collects it for further processing into flakes. In one embodiment, the vacuum pressure in the stripping chamber is maintained at a vacuum pressure higher than the vacuum pressure in the deposition chamber but below atmospheric pressure.

본 발명의 한 실시예에서는 상기 이음매 없는 벨트 상에 플레이크 및 릴리스 코팅층을 증착 시에 상기 벨트를 고속으로 실시한다. 또한, 상기 이음매 없는 벨트로부터 상기 다층 증착물을 주기적으로 스트리핑 하는 경우에는, 스트리핑 체임버 내에서 벨트로부터 상기 증착물을 제거할 때 상기 벨트의 속도를 감소시킨다.In one embodiment of the present invention, the belt is run at high speed upon deposition of a flake and release coating layer on the seamless belt. In addition, when periodically stripping the multilayer deposits from the seamless belt, the speed of the belts is reduced when removing the deposits from the belts in the stripping chamber.

이처럼, 벨트로부터 다층 증착물을 스트리핑하는데 몇 가지 기술이 이용될수 있어도, 한 실시예에서는 이동 가능한 크레이들(cradle)을 본질적으로 스트리핑 체임버 내의 진공 압력과 동일한 진공 압력의 진공 하우징(vacuum housing) 내에 유지시킨다. 이 크레이들은 스트리핑 체임버 내에 밀봉되어 있고, 전술한 스트리핑 메커니즘을 통해 벨트로부터 상기 증착물을 제거하고, 이를 크레이들 내에 포집한다. 이어서, 상기 스트리핑 체임버로부터 상기 크레이들을 제거한 다음, 내부 압력이 대기압 미만으로 유지되도록, 진공 록을 이용하여 상기 스트리핑 체임버를 외부로부터 밀봉한다.As such, although some techniques may be used to strip the multilayer deposit from the belt, in one embodiment the movable cradle is maintained in a vacuum housing at a vacuum pressure essentially the same as the vacuum pressure in the stripping chamber. . These cradles are sealed in a stripping chamber and remove the deposit from the belt through the stripping mechanism described above and collect it in the cradle. The cradle is then removed from the stripping chamber and the stripping chamber is sealed from outside using a vacuum lock so that the internal pressure remains below atmospheric pressure.

본 발명의 이러한 관점 및 기타의 관점은 하기와 같은 상세한 설명 및 첨부하는 도면을 참조함으로써 더욱 완전히 이해될 것이다.These and other aspects of the invention will be more fully understood by reference to the following detailed description and the accompanying drawings.

본 발명의 특정 관점을 보다 잘 이해하기 위해서 도 1을 참조하여 설명하며,도 1은 Metalure라는 품명으로 판매되는 플레이크를 제조하기 위해 Avery Dennison Corporation사가 현재 활용하는 프로세스에 따른 금속 플레이크의 제조를 위한 종래 기술의 프로세스가 도시되어 있다. 이 종래 기술의 프로세스에 따르면, 단계 (12)에서 폴리에스테르 캐리어 시트(10)의 양면이 용매계 수지 용액(14)으로 그라비어 코팅(gravure coating)된다. 코팅된 웹 건조물은 이어서 금속화 설비(16)로 이송되고, 여기서 코팅되어 건조된 캐리어 시트의 양면은 증착 알루미늄의 박막으로 금속화된다. 이렇게 하여 얻어진 다층 시트는 이어서 단계 (18)에서 추가 처리를 위한 설비에 이송되는데, 여기서 아세톤과 같은 용매 중에서 캐리어로부터 코팅이 스트리핑되어, 플레이크로부터 코팅을 용해하는 용매계 슬러리(20)를 형성한다. 다음으로, 상기 슬러리를 초음파 처리하고 원심분리하여, 아세톤 및 용해된 코팅을 제거함으로써 농축된 알루미늄 플레이크의 케익(22)이 남는다. 상기 플레이크는 이어서 용매 중에 풀어지고, 단계 (24)에서 균질화 처리 등에 의해 입자 크기가 제어된다.A better understanding of a particular aspect of the present invention is described with reference to FIG. 1, which is a prior art for the manufacture of metal flakes according to a process currently utilized by Avery Dennison Corporation to manufacture flakes sold under the trade name Metalure. The process of technology is shown. According to this prior art process, in step 12, both sides of the polyester carrier sheet 10 are gravure coated with the solvent-based resin solution 14. The coated web dry matter is then transferred to a metallization installation 16 where both sides of the coated and dried carrier sheet are metallized with a thin film of deposited aluminum. The multilayer sheet thus obtained is then transferred to a facility for further processing in step 18, where the coating is stripped from the carrier in a solvent such as acetone to form a solvent-based slurry 20 that dissolves the coating from the flakes. Next, the slurry is sonicated and centrifuged to remove cake 22 of concentrated aluminum flakes by removing acetone and dissolved coating. The flakes are then released in a solvent and the particle size is controlled by homogenization treatment or the like in step 24.

이 프로세스는 애스펙트 비가 높고 정반사율이 높은 극도로 얇은 금속 플레이크를 제조하는데 매우 성공적임이 입증되었다(애스펙트 비는 평균 입자 크기를 평균 입자 두께로 나눈 비이다). 이러한 Metalure 프로세스가 성공적이기는 하지만, 그라비어 코팅과 금속화 설비 사이에서 코팅된 웹을 반복 수송하는 데 제조 비용이 증가되기 때문에 제조 비용의 절감이 요망된다. 또한 스트리핑 후 PET 캐리어를 재사용할 수 없는 점과 관련이 있는 제조 비용 문제도 있다.This process has proved very successful in producing extremely thin metal flakes with high aspect ratios and high specular reflectances (the aspect ratio is the ratio of average particle size divided by average particle thickness). Although this metalure process is successful, a reduction in manufacturing costs is desired because the manufacturing costs are increased in order to repeatedly transport the coated web between the gravure coating and the metallization plant. There is also a manufacturing cost problem associated with the inability to reuse the PET carrier after stripping.

도 2 내지 도 5는 도 6 및 도 7에 도시한 금속 플레이크를 제조하기 위한 프로세스의 일 실시예를 나타낸다. 이 프로세스는 또한 이하에 설명하는 유리 플레이크의 제조에 이용될 수 있고, 또한 이하의 설명과 같은 나노구체(nanosphere)의 제조에 이용될 수도 있다. 도 2는 도 7의 다층 코팅 플레이크(32)를 제조하기 위한 적절한 코팅 및 금속화 장치를 수용하는 진공 증착 체임버(30)를 도시한다. 대안으로서, 이하의 설명으로부터 명백한 바와 같이 도 6의 단일층 플레이크(34)를 제조하기 위해 도 2의 진공 체임버 내의 특정 코팅 장치를 작동시키지 않을 수 있다.2-5 show one embodiment of a process for producing the metal flakes shown in FIGS. 6 and 7. This process can also be used for the production of glass flakes described below, and can also be used for the production of nanospheres as described below. FIG. 2 shows a vacuum deposition chamber 30 containing a suitable coating and metallization device for manufacturing the multilayer coating flake 32 of FIG. 7. Alternatively, the specific coating apparatus in the vacuum chamber of FIG. 2 may not be operated to produce the single layer flake 34 of FIG. 6, as will be apparent from the description below.

도 2를 참조하면, 진공 증착 체임버(30)는 그러한 증착 체임버의 배기를 위해 종래 방식으로 사용되는 진공 소스(도시되지 않음)를 포함한다. 또한, 상기 진공 체임버는 진공을 파기함이 없이 체임버 내에 필요한 수준으로 진공을 유지하기 위한 보조용 터보 펌프(도시되지 않음)를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 체임버는 또한 다층 샌드위치(38)가 표면 상에 제조되는 폴리싱된 냉각형 금속 드럼(36)을 포함한다. 우선, 도 7에 도시한 플레이크(32)의 제조에 관하여 본 발명의 실시예를 설명하는데, 한 가지 실시예에서 상기 플레이크는 내부 금속화 필름층(40) 및 금속 필름 양면에 접합된 보호 코팅인 외부층(42)을 포함한다. 보호 코팅은 무기 재료 또는 폴리머 재료를 포함할 수 있고, 그 둘은 모두 진공 하에 증착된다.Referring to FIG. 2, vacuum deposition chamber 30 includes a vacuum source (not shown) used in a conventional manner for evacuation of such deposition chambers. The vacuum chamber also preferably includes an auxiliary turbopump (not shown) for maintaining the vacuum at the required level in the chamber without breaking the vacuum. The chamber also includes a polished cooled metal drum 36 in which a multilayer sandwich 38 is fabricated on the surface. First, an embodiment of the present invention is described with respect to the manufacture of the flakes 32 shown in FIG. 7, which in one embodiment is a protective coating bonded to both the inner metallized film layer 40 and the metal film both sides. An outer layer 42. The protective coating may comprise an inorganic material or a polymer material, both of which are deposited under vacuum.

상기 진공 증착 체임버는 용매 가용성 또는 용해성 릴리스 코팅, 보호성 외부 코팅, 금속층, 금속층에 대한 추가의 보호성 외부 코팅 및 추가 릴리스층을 이 순서로 드럼에 적용하기 위해 드럼 주위에 원주 방향으로 간격을 두고 떨어져 있는 적절한 코팅 및 증착 소스를 포함한다. 보다 구체적으로, 진공 증착 체임버 내에수용된 이들 코팅 및 증착 장치의 소스는 (도 2를 참조하여) 릴리스 시스템 소스(44), 제1 보호 코팅 소스(46), 금속화 소스(48) 및 제2 보호 코팅 소스(50)를 포함한다. 이들 코팅 및/또는 증착 소스는 드럼이 회전함에 따라 얇은 층들이 적층되어, 예를 들면 순차적으로: 릴리스-코팅-금속-코팅-릴리스-코팅-금속-코팅-릴리스 등과 같이 다층 코팅 샌드위치(36)를 형성하도록 회전 드럼 주위에 원주 방향으로 간격을 두고 있다. 다층 샌드위치(38) 내에 적층된 이러한 순차적 층은 도 4에 개략적으로 도시되며, 또한 그 경우의 캐리어로서 드럼(36)이 도시되어 있다.The vacuum deposition chamber is circumferentially spaced around the drum to apply the solvent soluble or soluble release coating, the protective outer coating, the metal layer, the additional protective outer coating on the metal layer and the additional release layer in this order to the drum. Suitable coating and deposition sources apart. More specifically, the sources of these coating and deposition apparatus housed within the vacuum deposition chamber are (see FIG. 2) a release system source 44, a first protective coating source 46, a metallization source 48 and a second protective Coating source 50. These coatings and / or deposition sources may be laminated with thin layers as the drum rotates, for example sequentially: multi-layer coating sandwich 36 such as release-coating-metal-coating-release-coating-metal-coating-release and the like. Spaced in the circumferential direction around the rotating drum to form a. This sequential layer stacked in the multilayer sandwich 38 is schematically shown in FIG. 4, and also the drum 36 as the carrier in that case.

한 실시예에서, 릴리스 코팅이 용매 가용성 또는 용해성이되, 금속 또는 유리 플레이크층을 서로 분리시키는 평탄하고 균일한 장벽층(barrier layer)으로서 형성될 수 있으며, 개재하는 금속 또는 유리 플레이크층을 증착하기 위한 평탄한 표면을 제공하고, 추후에 금속 또는 유리 플레이크층을 서로 분리시킬 때 용해 등의 방법에 의해 분리될 수 있다. 릴리스 코팅은 증착된 금속층(또는 다른 플레이크층)의 응축열로 인해 앞서 증착된 릴리스층이 용융되지 않도록 충분히 높은 유리 전이온도(Tg)를 갖는 용해 가능 열가소성 폴리머 재료이다. 릴리스 코팅은 증기화된 금속 또는 유리 플레이크층의 응축열뿐 아니라 진공 체임버 내의 주위 열을 견딜 수 있어야 한다. 릴리스 코팅은 추후에 릴리스층의 가용화(solubilizing)에 의해 분리될 수 있도록 다양한 재료 및 재료의 스택을 삽입하는 층을 이루어 적용된다. 릴리스층은 가능한 한 얇은 것이 바람직한데, 얇은 층이 상대적으로 용해되기 쉽고 최종 제품에서 잔사를 적게 남기기 때문이다. 또한 다양한 인쇄 및 페인트 시스템과의 상용성이 소망된다. 릴리스 코팅은 유기 용매에 용해 가능한 용매 가용성이며, 바람직하게는 열가소성 폴리머이다. 바람직한 실시예에서, 릴리스 코팅 소스(44)는 핫멜트(hot melt)층으로서 폴리머 재료를 적용하거나 또는 릴리스 코트 폴리머를 드럼에 직접 압출하기 위한 적합한 코팅 장치를 포함할 수 있지만, 릴리스 코팅 장치는 적합한 모노머 또는 폴리머를 증기화시켜 드럼 또는 샌드위치층 표면에 증착시키는 증착 소스를 포함한다. 폴리머 릴리스 코트를 증착 표면에 적용하기 위한 증착 장치의 다양한 예를 이하에 설명한다. 릴리스 재료는 냉각된 드럼에 접촉하거나 또는 냉각된 드럼 상에 앞서 적층된 다층 샌드위치에 접촉하면 응결하여 고화된다. 드럼 상에 적층된 다층 필름은 금속 또는 유리 플레이크층의 외측 표면에 증착되는 릴리스 코트를 효과적으로 고화할 수 있도록 필름을 통해 냉각된 드럼이 충분한 열을 탈취할 수 있는 충분한 두께를 갖는다. 또 다른 폴리머 릴리스 코팅 재료는, 용해성인 것은 아니지만 적합한 용매 중에서 팽윤되어 금속 또는 유리 플레이크 재료로부터 분리되는 약하게 가교 결합을 이룬 폴리머 코팅일 수 있다. 또한, 가용성 릴리스 재료는 가교 결합이 아닌 사슬 연장(chain extension)에 의해 중합된 폴리머 재료를 포함할 수 있다.In one embodiment, the release coating can be formed as a flat, uniform barrier layer that is solvent soluble or soluble, separating the metal or glass flake layers from each other, and depositing an intervening metal or glass flake layer. To provide a flat surface, which may later be separated by dissolution or the like when the metal or glass flake layers are separated from each other. The release coating is a dissolvable thermoplastic polymer material having a glass transition temperature (Tg) high enough to prevent the previously deposited release layer from melting due to the heat of condensation of the deposited metal layer (or other flake layer). The release coating must be able to withstand the heat of condensation of the vaporized metal or glass flake layer as well as the ambient heat in the vacuum chamber. The release coating is applied in layers to insert various materials and stacks of materials so that they can later be separated by solubilizing the release layer. The release layer is preferably as thin as possible because the thin layer is relatively soluble and leaves less residue in the final product. In addition, compatibility with various printing and paint systems is desired. The release coating is solvent soluble, soluble in organic solvents, preferably thermoplastic polymers. In a preferred embodiment, the release coating source 44 may comprise a suitable coating apparatus for applying the polymer material as a hot melt layer or for extruding the release coat polymer directly into the drum, although the release coating apparatus may comprise a suitable monomer. Or a deposition source for vaporizing the polymer to deposit on the drum or sandwich layer surface. Various examples of deposition apparatus for applying the polymer release coat to the deposition surface are described below. The release material condenses and solidifies upon contact with the cooled drum or upon contacting the multilayer sandwich previously stacked on the cooled drum. The multilayer film laminated on the drum has a sufficient thickness so that the drum cooled through the film can take off sufficient heat to effectively solidify the release coat deposited on the outer surface of the metal or glass flake layer. Another polymer release coating material may be a weakly crosslinked polymer coating that is not soluble but swells in a suitable solvent to separate from the metal or glass flake material. In addition, the soluble release material may comprise a polymer material polymerized by chain extension rather than crosslinking.

본 발명에서 바람직한 폴리머 릴리스 코팅은 스티렌 폴리머, 아크릴 수지 또는 이들의 블렌드(blend)이다. 셀룰로스계 재료가 릴리스 특성에 악영향을 주지 않고 코팅되거나 증발될 수 있는 경우에는, 적합한 릴리스 재료일 수 있다.Preferred polymer release coatings in the present invention are styrene polymers, acrylic resins or blends thereof. If the cellulosic material can be coated or evaporated without adversely affecting the release properties, it may be a suitable release material.

폴리머 릴리스층을 용해하기 위한 본 발명에서 바람직한 유기 용매로는 아세톤, 에틸아세테이트 및 톨루엔이 포함된다.Preferred organic solvents in the present invention for dissolving the polymer release layer include acetone, ethyl acetate and toluene.

다시 도 2에 예시한 플레이크 제조 프로세스를 참조하여 릴리스 코팅의 적용을 따라가면, 드럼은 보호층을 릴리스 코트에 적용하기 위해 제1 보호 코팅 소스(46)를 통과한다. 이 보호층은 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 재료와 같은 증착된 기능성 모노머일 수 있고, 이것은 이어서 코팅 재료의 가교 결합 또는 중합을 위해 EB 조사(radiation) 등에 의해 경화되거나; 또는 보호 재료는 추후에 해체되어 플레이크로 될 수 있는 조사 경화된 폴리머의 박층일 수 있다. 이와는 다르게, 상기 보호층이 금속층의 양면에 접합하는 경질 투명 코트를 형성하는 증착된 불활성 재료, 불용성 무기 재료 또는 유리 플레이크 재료일 수 있다. 바람직한 보호 코팅은 일정 수준의 내마모성, 내후성 보호, 물과 산에 대한 내성을 제공하는, 알루미늄과 같은 금속으로 교대층을 이루어 증착될 수 있는 경질 불투과성 재료이다. 그러한 보호성 재료의 예는 이하에서 설명된다.Following the application of the release coating with reference again to the flake manufacturing process illustrated in FIG. 2, the drum passes through a first protective coating source 46 to apply a protective layer to the release coat. This protective layer may be a deposited functional monomer, such as an acrylate or methacrylate material, which is then cured by EB radiation or the like for crosslinking or polymerization of the coating material; Alternatively, the protective material may be a thin layer of radiation cured polymer that can later be disassembled and flaked. Alternatively, the protective layer can be a deposited inert material, insoluble inorganic material or glass flake material forming a rigid transparent coat that bonds to both sides of the metal layer. Preferred protective coatings are rigid, impermeable materials that can be deposited in alternating layers of metal, such as aluminum, to provide some level of wear resistance, weathering protection, and resistance to water and acids. Examples of such protective materials are described below.

다음에, 회전 드럼은 알루미늄과 같은 금속의 층을 코팅층 상에 증착하기 위해 상기 코팅을 금속화 소스(48)를 통과하여 이송한다. 다른 재료 및 릴리스층이 삽입되어 추후에 얇은 금속 플레이크 내에서 분리될 수 있도록 일정 수의 금속 또는 무기 화합물이 박막으로서 증착될 수 있다. 알루미늄에 부가하여, 그러한 재료에는 구리, 은, 크롬, 니크롬, 주석, 아연, 인듐 및 황화아연 등이 포함된다. 금속 코팅은 또한 다중 방향 반사 강화형 스택(multi-directional reflection enhancing stack)(반사율이 높은 재료의 층) 또는 제어된 두께 및 굴절률을 갖는 적합한 층의 증착에 의해 만들어지는 광학 필터를 포함할 수 있다.The rotating drum then transfers the coating through metallization source 48 to deposit a layer of metal, such as aluminum, on the coating layer. A number of metal or inorganic compounds may be deposited as thin films so that other materials and release layers can be inserted and later separated within the thin metal flakes. In addition to aluminum, such materials include copper, silver, chromium, nichrome, tin, zinc, indium, zinc sulfide, and the like. The metal coating can also include an optical filter made by the deposition of a multi-directional reflection enhancing stack (layer of highly reflective material) or a suitable layer with controlled thickness and refractive index.

다음에, 회전 드럼은 경성 보호 폴리머 재료의 증착 및 경화 또는 무기 재료의 증착 등에 의해 유사한 보호 코팅층을 금속화 필름에 다시 적용하기 위해 상기스택을 제2 코팅 소스(50)를 통과하여 이송한다.The rotating drum then transfers the stack through the second coating source 50 to reapply a similar protective coating layer to the metallized film, such as by deposition and curing of a hard protective polymer material or deposition of an inorganic material.

이어서 드럼의 회전에 의해 샌드위치 재료는 코팅된 금속층을 적층하도록 다시 릴리스 코트 소스 등을 순차로 통과하여 완전한 원을 그리며 이송된다.The rotation of the drum then transfers the sandwich material through a release coat source, etc., in sequence, again in a complete circle, to deposit the coated metal layer.

산화물 및 플루오르화물과 같은 무기 재료도 분리되어 플레이크를 형성할 수 있는 박층을 제조하기 위해 증착 소스(48)에 의해 증착될 수 있다. 그러한 코팅에는 플루오르화마그네슘, 일산화규소, 이산화규소, 산화알루미늄, 플루오르화알루미늄, 산화인듐주석 및 이산화티탄이 포함된다.Inorganic materials such as oxides and fluorides may also be deposited by the deposition source 48 to produce a thin layer that can separate to form flakes. Such coatings include magnesium fluoride, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, aluminum fluoride, indium tin oxide and titanium dioxide.

적합한 증착 소스에는 금속, 무기 화합물, 유리 플레이크 재료 및 폴리머의 박층 코팅을 증착하기 위한 EB, 저항, 스퍼터링 및 플라즈마 증착 기술이 포함된다.Suitable deposition sources include EB, resistive, sputtering and plasma deposition techniques for depositing thin coatings of metals, inorganic compounds, glass flake materials and polymers.

진공 체임버에서 다층 샌드위치가 제조되면, 다층 샌드위치는 드럼으로부터 제거되어 도 5에 예시된 추가 처리가 행해질 수 있는 상태로 된다.When a multilayer sandwich is produced in the vacuum chamber, the multilayer sandwich is removed from the drum and in a state in which further processing illustrated in FIG. 5 can be performed.

다층 샌드위치를 적층하는 연속 프로세스가 도 5의 단계 (52)에 표시되어 있다. 다층 샌드위치는 이어서 릴리스 재료에 의해 분리되는 층들이 개별적 층으로 분해되는 프로세스에 의해 단계 (54)에서 드럼으로부터 스트리핑된다. 샌드위치층은 직접 유기 용매 속으로 도입하거나 압착과 분쇄 또는 스크레이핑(scraping)에 의해 스트리핑될 수 있다. 예시된 실시예에서, 다층 샌드위치는 거친 플레이크(58)를 제조하기 위해 단계 (56)에서 분쇄 처리된다. 거친 플레이크는 이어서 다층 플레이크(32)의 표면으로부터 릴리스 코트 재료를 용해하기 위해 슬러리(60) 내에서 적합한 용매와 혼합된다. 이와는 다르게, 다층 샌드위치는 드럼으로부터 스트리핑되어 층을 형성한 재료를 단계 (60)에서 직접 용매 속으로 도입하는 단계 (63)에 의해 개별적인 층으로 분리된다. 진공 증착 체임버 내에서 적용되는 릴리스 코트 재료는 슬러리 공정에서 용매에 의해 플레이크로부터 용해될 수 있도록 선택된다. 한 가지 실시예에서, 슬러리는 용매 또는 물이 제거되어 농축 플레이크의 케익을 형성하도록 원심분리 단계(61)를 거친다. 이어서 농축 플레이크의 케익은 예를 들면 잉크, 페인트 또는 코팅 등 최종 용도를 위해 추가로 사이징 및 균질화되도록 입자 크기 제어 단계(62)에서 바람직한 매개물 중에 풀어질 수 있다. 대안적으로, 플레이크는 용매 중에 풀어지고(원심분리를 행하지 않고), 단계 (62)에서 입자 크기가 제어된다.A continuous process of laminating the multilayer sandwich is shown in step 52 of FIG. The multilayer sandwich is then stripped from the drum in step 54 by a process in which the layers separated by the release material are broken down into individual layers. The sandwich layer can be introduced directly into the organic solvent or stripped by compression and grinding or scraping. In the illustrated embodiment, the multilayer sandwich is milled in step 56 to produce coarse flakes 58. The coarse flakes are then mixed with a suitable solvent in slurry 60 to dissolve the release coat material from the surface of the multilayer flakes 32. Alternatively, the multilayer sandwich is separated into individual layers by step 63 of introducing the material stripped from the drum to form a layer directly into the solvent in step 60. The release coat material applied in the vacuum deposition chamber is selected so that it can be dissolved from the flakes by the solvent in the slurry process. In one embodiment, the slurry is subjected to centrifugation step 61 to remove solvent or water to form a cake of concentrated flakes. The cake of concentrated flakes can then be released in the desired medium in the particle size control step 62 to be further sized and homogenized for end use such as for example ink, paint or coating. Alternatively, the flakes are released in the solvent (without centrifugation) and the particle size is controlled in step 62.

또 다른 처리 기술로서, 다층 샌드위치는 드럼으로부터 제거되어 "에어" 밀링(발화나 폭발을 방지하기 위해 불활성 가스를 사용해야 함)되거나, 또는 작은 입자 크기로 축소된 후, 2단계 용매 공정에서 처리될 수 있다. 그 첫 단계로 소량의 용매를 사용하여 릴리스 코트층을 용해하는 팽윤 공정을 시작한다. 이어서, 상이한 제2 용매를 마무리 용매로서 첨가하여 릴리스 코트 용해 공정을 완결하고 최종 잉크 또는 코팅과의 상용성을 높인다. 이 공정은 후속하는 원심분리 및 균질화 단계를 회피한다.As another processing technique, the multilayer sandwich can be removed from the drum and " air " milled (must use an inert gas to prevent ignition or explosion), or it can be reduced to small particle size and then processed in a two stage solvent process. have. The first step begins with a swelling process in which a small amount of solvent is used to dissolve the release coat layer. A second, different solvent is then added as a finishing solvent to complete the release coat dissolution process and increase compatibility with the final ink or coating. This process avoids subsequent centrifugation and homogenization steps.

도 2의 진공 체임버(30)를 활용하는 대안적 실시예에서, 보호 코팅 소스(46, 50)는 생략될 수 있고, 도 6에 예시된 단일층 플레이크(34)를 제조하는 프로세스가 이용될 수 있다. 이 경우에 다층 샌드위치(38)를 형성하기 위한 드럼(36) 표면에 여러 층을 형성하는 것은 도 3의 단계 (64)에 예시된 바와 같이 릴리스-금속-릴리스-금속-릴리스 등의 연속된 층을 포함한다. 이와는 달리 단일층 플레이크는 전술한 바와 같이 무기 또는 유리 플레이크 재료의 층을 포함할 수 있다.In an alternative embodiment utilizing the vacuum chamber 30 of FIG. 2, the protective coating sources 46, 50 can be omitted and the process of manufacturing the single layer flake 34 illustrated in FIG. 6 can be used. have. In this case forming several layers on the surface of the drum 36 for forming the multilayer sandwich 38 is a continuous layer such as release-metal-release-metal-release as illustrated in step 64 of FIG. It includes. Alternatively the single layer flake may comprise a layer of inorganic or glass flake material, as described above.

릴리스 재료의 용해화에 의해 서로 분리될 수 있도록 용해성 릴리스층에 의해 샌드위치를 이루는 다수의 상이한 재료 및 재료의 스택을 구축할 수 있다. 그러한 구조체의 예는; (1) 릴리스/금속/릴리스; (2) 릴리스/보호층/금속/보호층/릴리스; (3) 릴리스/비금속층/릴리스; 및 (4) 릴리스/다중 방향 반사 강화형 스택/릴리스 등이다.It is possible to build a number of different materials and stacks of materials that are sandwiched by the soluble release layer so that they can be separated from each other by dissolution of the release material. Examples of such structures are; (1) release / metal / release; (2) release / protective layer / metal / protective layer / release; (3) release / nonmetallic layer / release; And (4) release / multi-directional reflection enhanced stacks / releases and the like.

도 8 및 도 9는 도 6 또는 도 7에 예시된 플레이크를 제조하는 다른 프로세스를 도시한다. 도 8에 예시된 실시예에서, 프로세스 장치는 냉각된 회전 드럼(68) 및 드럼 표면의 소정 길이 주위로 제1 가역 와인딩 스테이션(reversible winding station)(72)으로부터 제2 가역 와인딩 스테이션(73)까지 연장되는 가요성 불용성 폴리에스테르 캐리어 필름(70)을 수용하는 증착 체임버(66)를 포함한다. 드럼 표면을 둘러싸는 길이는 2개의 아이들(idle) 롤러(74)에 의해 제어된다. 이 진공 체임버는 또한 표준 진공 펌프 및 코팅이 진행되는 동안 진공도를 유지하기 위한 보조용 터보 펌프를 포함한다. 드럼의 회전에 의해 폴리에스테르 필름은 제1 릴리스 코트 소스(76), 제1 보호 코팅 소스(78), 금속화 소스(80), 제2 보호 코팅 소스(82) 및 제2 릴리스 코트 소스(84)의 순으로 통과하여 진행된다. 따라서, 도 8에 관해 반시계 방향으로 드럼이 회전하면 폴리에스테르 캐리어의 전체 길이는 스테이션(72)으로부터 풀려 상기 소스(76, 78, 80, 82, 84)로부터 순차적으로 코팅 공정을 통과한 후 스테이션(73)에 감긴다. 이어서 폴리에스테르 캐리어는 웹 경로를 반전시키고 제2 릴리스 코팅 소스(84)를 비활성화시킨 다음 제1 단계를 반복하되, 이번에는 코팅이 소스(82, 80, 78, 76)로부터 순차적으로 적용되도록 역방향(시계 방향)으로 행함으로써 다시 감긴다. 다음에, PET 코팅된 필름 전체는 스테이션(72)에 감기고, 이어서 도 4의 다층 샌드위치(38)[및 얻어지는 도 7의 코팅된 금속 플레이크(32)]의 제조에 이용된 것과 동일한 순서로 필름 상에 층을 적층하도록 단계의 순서가 반복된다.8 and 9 show another process for producing the flakes illustrated in FIG. 6 or 7. In the embodiment illustrated in FIG. 8, the process apparatus extends from the first reversible winding station 72 to the second reversible winding station 73 around a predetermined length of the cooled rotating drum 68 and drum surface. And a deposition chamber 66 containing an elongate insoluble polyester carrier film 70. The length surrounding the drum surface is controlled by two idle rollers 74. The vacuum chamber also includes a standard vacuum pump and an auxiliary turbopump to maintain the degree of vacuum during the coating. The rotation of the drum causes the polyester film to form a first release coat source 76, a first protective coating source 78, a metallization source 80, a second protective coating source 82 and a second release coat source 84. Proceeds in the order of). Thus, as the drum rotates counterclockwise with respect to FIG. 8, the total length of the polyester carrier is released from the station 72 and subsequently passed through the coating process from the sources 76, 78, 80, 82, 84 and then the station. Coiled at (73). The polyester carrier then reverses the web path and deactivates the second release coating source 84 and then repeats the first step, this time in reverse order such that the coating is applied sequentially from the sources 82, 80, 78, 76. Winding again). Next, the entire PET coated film is wound on a station 72 and then in the same order as used for the manufacture of the multilayer sandwich 38 of FIG. 4 (and the resulting coated metal flakes 32 of FIG. 7). The sequence of steps is repeated to laminate the layers.

그 대안으로서, 도 6에 도시한 바와 같은 단일층 금속 또는 유리 플레이크를 생성해야 하는 경우에는 보호 코팅 소스(78 및 82)를 비활성화함으로써, 도 3에 도시한 다층 샌드위치(64)를 폴리에스테르 캐리어(70) 상에 적층한다.As an alternative, if it is necessary to produce a single layer metal or glass flake as shown in Fig. 6, the protective coating sources 78 and 82 are deactivated, thereby making the multilayer sandwich 64 shown in Fig. 70).

도 9는 진공 체임버(66)로부터 제거되어 PET로부터 샌드위치 재료를 제거하기 위해 단계 (88)의 유기 용매 스트리핑 공정에 도입되는 폴리에스테르 필름 상에 적층된 다층 코팅 샌드위치(86)의 처리를 도시한다. 용매는 이어서 원심분리되어 농축 플레이크의 케익(90)이 형성되고 이것은 추후 단계 (92)에서 입자 크기 제어(균질화) 처리된다.9 shows the treatment of a multilayer coated sandwich 86 deposited on a polyester film that is removed from the vacuum chamber 66 and introduced into the organic solvent stripping process of step 88 to remove the sandwich material from the PET. The solvent is then centrifuged to form a cake of concentrated flakes 90 which is subsequently subjected to particle size control (homogenization) in step 92.

다층 샌드위치 재료가 증착될 수 있는 적합한 캐리어는 평탄하고 납작한 박층의 증착을 보장해야 한다. 스테인리스강 또는 크롬 도금된 것일 수 있는 금속 드럼, 벨트 또는 플레이트와 함께, 인장 강도가 높고 고온에 대한 내구성을 갖는 폴리에스테르 필름 또는 다른 폴리머 필름을 사용할 수 있다.Suitable carriers on which the multilayer sandwich material can be deposited must ensure the deposition of a flat, flat thin layer. With metal drums, belts or plates, which may be stainless steel or chrome plated, polyester films or other polymer films with high tensile strength and durability against high temperatures can be used.

본 발명의 한 실시예에서, 다층 샌드위치 재료에 적층된 플레이크층의 추후 분리를 용이하게 할 목적에서 폴리머 릴리스 코트가 적용된다. 종래 기술에서의폴리머/금속 증착 프로세스에서 증착된 금속층들 사이에 접합된 가교 결합 폴리머층의 사용은 추후 금속화층이 플레이크로 분리되는 것을 억제한다. EB 경화 등에 의한 폴리머층의 중합은 후속되는 폴리머층의 재용해를 막기 때문에 알루미늄 플레이크층이 용이하게 분리되지 않는다. 본 발명의 프로세스에서, 개재하는 폴리머층들은 진공 증착 체임버가 진공 상태에 있는 동안 증기화되어 증착된다. 폴리머 릴리스 재료는 코팅 공정중에 발생될 수 있는 휘발성 물질이 본질적으로 전혀 없는, 유동 가능한 저점도이고, 상대적으로 저분자량이며 매우 청징한 열가소성 폴리머 또는 모노머인 것이 바람직하다. 그러한 재료는 첨가제, 용매 등을 포함하는 상이한 폴리머 재료의 블렌드가 아닌 것이 바람직하다. 폴리머 재료가 자신의 용융 온도, 코팅 온도 또는 증착 온도까지 가열되면, 진공 체임버 내 진공 펌프의 연속 조작은 휘발성 물질에 의해 불리한 영향을 받지 않는다. 바람직한 릴리스 코트 재료는 교대로 형성된 진공 증착 금속층 또는 유리 플레이크층 또는 다층 플레이크층들 사이에서 코트간 분리를 촉진한다. 릴리스층은 적합한 유기 용매 중에 용해 가능한 성질에 의해 이 목적을 달성한다. 릴리스 재료는 또한 EB 증기화가 가능할 뿐 아니라 금속화 가능하며 회전 드럼 상에 스택 적층이 가능하도록 충분한 접착을 필요로 한다. 바람직한 릴리스 코트 재료는 드럼 또는 다른 캐리어 상에서 유동 가능하게 되지 않고 열의 축적에 견디도록 충분히 높은 분자량 또는 용융에 대한 내구성을 가져야 한다. 열 축적은 릴리스층에 증착된 금속에 유래할 뿐 아니라 체임버 내부의 증착 소스의 실시에도 유래한다. 릴리스 코트가 유동성에 대해 견디는 능력은 금속이 증착되는 릴리스 코트 표면이 평탄한 상태로 잔존하기 때문에 고휘도의 플레이크가 제조될 수 있음을 보장할 수 있다. 릴리스 재료는 또한 EB 증착 공정의 열을 견디어 존속할 수 있는 것이어야 한다. 그것은 또한 저분자량의 특정 재료와 같이 체임버 내에 유지되는 진공압에 악영향을 주는 물질, 즉 체임버의 진공도를 떨어지게 만드는 물질이 아니어야 한다. 진공을 파기하지 않고 생산 속도를 유지하기 위해서는 체임버 내에 최소한의 작동 진공도를 유지할 필요가 있다. 후속하는 스트리핑 및 유기 용매를 사용한 처리를 진행하는 동안 필수적으로 모든 릴리스 코트 재료는 플레이크로부터 제거되어야 한다. 그러나, 일부 소량의 릴리스 코트 재료가 플레이크층이 입자로 풀어진 후에도 플레이크 상애 잔류할 경우, 특히 플레이크가 상용성을 갖는 아크릴 잉크 또는 코팅 시스템에 후속하여 사용될 경우에 시스템은 릴리스 코트로부터 나오는 일부 잔사를 견딜 수 있다.In one embodiment of the invention, a polymer release coat is applied for the purpose of facilitating later separation of the flake layer laminated to the multilayer sandwich material. The use of a crosslinked polymer layer bonded between deposited metal layers in a polymer / metal deposition process in the prior art inhibits the later metalization layer from separating into flakes. Polymerization of the polymer layer by EB hardening or the like prevents subsequent redissolution of the polymer layer, so that the aluminum flake layer is not easily separated. In the process of the invention, intervening polymer layers are vaporized and deposited while the vacuum deposition chamber is in a vacuum. The polymer release material is preferably a flowable low viscosity, relatively low molecular weight, very clarified thermoplastic polymer or monomer that is essentially free of volatiles that can occur during the coating process. Such materials are preferably not blends of different polymer materials, including additives, solvents, and the like. When the polymer material is heated to its melting temperature, coating temperature or deposition temperature, continuous operation of the vacuum pump in the vacuum chamber is not adversely affected by volatile materials. Preferred release coat materials promote intercoat separation between alternately formed vacuum deposited metal layers or glass flake layers or multilayer flake layers. The release layer achieves this object by the property of being soluble in a suitable organic solvent. The release material is also capable of EB vaporization as well as metallization and requires sufficient adhesion to allow stack stacking on the rotating drum. Preferred release coat materials should have a molecular weight or high enough resistance to melting to withstand heat buildup without becoming flowable on drums or other carriers. The heat accumulation not only originates in the metal deposited on the release layer but also in the implementation of the deposition source inside the chamber. The ability of the release coat to withstand flowability can ensure that high brightness flakes can be made because the release coat surface on which the metal is deposited remains flat. The release material must also be one capable of withstanding the heat of the EB deposition process. It should also not be a material that adversely affects the vacuum pressure maintained in the chamber, such as certain materials of low molecular weight, i. In order to maintain the production rate without breaking the vacuum it is necessary to maintain a minimum working vacuum in the chamber. Essentially all release coat material must be removed from the flakes during the subsequent stripping and processing with organic solvents. However, if some small amount of release coat material remains on the flakes even after the flake layer has loosened into particles, the system will withstand some residues from the release coat, especially if the flakes are subsequently used in a compatible acrylic ink or coating system. Can be.

도 2의 실시예를 참조하면, 코팅을 회전 드럼에 직접 적용함으로써 다층 샌드위치가 제조되며, 이것은 PET 캐리어를 코팅하는 프로세스보다 제조 비용이 적기 때문에 바람직한 프로세스이다. 그러한 사이클은 각각 진공을 파기하는 단계, 진공 체임버 외부에서의 추가 처리를 위해 샌드위치를 꺼내는 단계 및 진공을 다시 거는 단계를 포함한다. 층을 적층하는 데 있어서 상기 프로세스를 가동할 수 있는 속도는 분당 약 500 내지 2,000피트 범위에서 변동될 수 있다. 오직 진공에서의 금속화만이 고속으로 작동될 수 있다.Referring to the embodiment of FIG. 2, a multilayer sandwich is produced by applying the coating directly to a rotating drum, which is a preferred process since it costs less to manufacture than coating a PET carrier. Each such cycle includes breaking the vacuum, taking the sandwich out for further processing outside the vacuum chamber, and then redrawing the vacuum. The speed at which the process can run in stacking layers can vary from about 500 to 2,000 feet per minute. Only metallization in vacuum can be operated at high speed.

단일층 플레이크가 제조되는 실시예에서, 플레이크는 높은 애스펙트 비를 가질 수 있다. 이것은 금속화된 플레이크로부터 개재하는 릴리스 코트층을 깨끗하게 제거할 수 있는 능력에 부분적으로 기인한다. 금속층들 사이에 접합된 열경화성또는 가교 결합된 폴리머층에 있어서, 상기 층들은 용이하게 분리될 수 없고 얻어지는 플레이크는 낮은 애스펙트 비를 갖는다. 한 실시예에서, 본 발명의 프로세스는 두께가 약 5 내지 500Å이고 입자 크기가 약 4 내지 12㎛인 단일층 반사성 알루미늄 플레이크를 제조한다.In embodiments where monolayer flakes are made, the flakes may have a high aspect ratio. This is due in part to the ability to cleanly remove the intervening release coat layer from the metalized flakes. In thermosetting or crosslinked polymer layers bonded between metal layers, the layers cannot be easily separated and the flakes obtained have a low aspect ratio. In one embodiment, the process of the present invention produces single layer reflective aluminum flakes having a thickness of about 5 to 500 microns and a particle size of about 4 to 12 microns.

릴리스 코트 재료는 코팅된 층의 경우에 약 0.1 내지 약 0.2㎛이고, EB 증착된 층의 경우에 약 100 내지 400Å로 극도로 얇은 층에 적용된다.The release coat material is applied in extremely thin layers, from about 0.1 to about 0.2 μm for the coated layer and from about 100 to 400 microns for the EB deposited layer.

금속 플레이크가 보호성 폴리머 필름층과 반대측에 코팅되는 실시에에서, 보호 코팅층은 약 150Å 이하의 두께로 적용된다. 바람직한 보호 코팅 재료는 이산화규소 또는 일산화규소이고 산화알루미늄일 수도 있다. 그 밖의 보호 코팅에는 플루오르화알루미늄, 플루오르화마그네슘, 산화인듐주석, 산화인듐, 플루오르화칼슘, 이산화티탄, 및 소듐알루미늄플루오라이드가 포함될 수 있다. 바람직한 보호 코팅은 플레이크가 궁극적으로 사용되는 잉크 또는 코팅 시스템과 상용성을 갖는 것이다. 보호 코팅을 금속 플레이크 상에 사용할 경우, 이 다층 플레이크의 애스펙트 비가 여전히 종래의 플레이크에 대한 애스펙트 비보다 높지만, 최종 플레이크 산물의 애스펙트 비를 감소시킬 것이다. 그러나, 상기 플레이크는 단일층 플레이크보다 더 강성이며, 깨끗한 유리형 코팅 금속 플레이크에 의해 제공되는 이러한 강성은, 경우에 따라서는, 특정한 광학적 또는 기능성 코팅을 플레이크에 직접 적용하는 유동상(fluidized bed) 화학적 증착(CVD) 프로세스에 상기 코팅된 플레이크가 유용하도록 만든다. OVD 코팅이 그 하나의 예이다. CVD 코팅은 플레이크가 다른 화합물 또는 물에 공격을 받게 되는 것을 방지하기 위해 플레이크에 첨가될 수있다. 금 또는 산화철로 코팅된 플레이크와 같은 착색된 플레이크도 제조될 수 있다. 코팅된 플레이크의 다른 용도는 금속 플레이크가 외부 보호 코트에 캡슐화되는 방수성 플레이크, 및 외부 코트의 캡슐화가 금속 플레이크로부터의 아킹(arcing)을 억제하는 마이크로웨이브 활성 응용 등이다. 플레이크는 또한 정전기 코팅에도 이용될 수 있다.In an embodiment in which the metal flake is coated on the opposite side of the protective polymer film layer, the protective coating layer is applied to a thickness of about 150 GPa or less. Preferred protective coating materials are silicon dioxide or silicon monoxide and may be aluminum oxide. Other protective coatings may include aluminum fluoride, magnesium fluoride, indium tin oxide, indium oxide, calcium fluoride, titanium dioxide, and sodium aluminum fluoride. Preferred protective coatings are those in which the flakes are compatible with the ink or coating system ultimately used. When the protective coating is used on metal flakes, the aspect ratio of this multilayer flake is still higher than the aspect ratio for conventional flakes, but will reduce the aspect ratio of the final flake product. However, the flakes are more rigid than single layer flakes, and this stiffness provided by clean glassy coated metal flakes is in some cases fluidized bed chemicals that directly apply a particular optical or functional coating to the flakes. The coated flakes are useful for deposition (CVD) processes. OVD coating is one example. CVD coatings can be added to the flakes to prevent the flakes from being attacked by other compounds or water. Colored flakes, such as flakes coated with gold or iron oxide, can also be prepared. Other uses of coated flakes include waterproof flakes in which metal flakes are encapsulated in an outer protective coat, and microwave active applications in which encapsulation of the outer coat inhibits arcing from metal flakes. Flakes can also be used in electrostatic coatings.

또 다른 실시에에서, 릴리스 코트층이 UV 또는 EB 경화에 의해 고체에 가교 결합된 아크릴 모노머와 같은 특정 가교 결합 수지계 물질을 포함하는 경우가 있을 수 있다. 이 경우에, 다층 샌드위치는 드럼으로부터 제거되거나, 캐리어 상에 있는 동안 가교 결합 재료로 형성되는 화학 결합을 절단하거나 함으로써 릴리스 코트층을 탈중합(de-polymerize)시키는 특정 물질로 처리된다. 이 프로세스에서는 증착 및 EB 사용 경화 또는 플라즈마 기술을 활용하는 종래의 장치를 사용할 수 있다.In yet another embodiment, it may be the case that the release coat layer comprises certain crosslinked resin-based materials, such as acrylic monomers crosslinked to solids by UV or EB curing. In this case, the multilayer sandwich is treated with a specific material that is removed from the drum or de-polymerizes the release coat layer by cutting off the chemical bonds formed from the crosslinking material while on the carrier. This process can use conventional devices utilizing deposition and EB-enabled curing or plasma techniques.

본 발명의 프로세스는 높은 생산 속도 및 저비용으로 반사성 플레이크의 제조를 가능하게 한다. 본 발명에 의해 제조된 비코팅 플레이크는 높은 애스펙트 비를 가질 수 있다. 애스펙트 비를 두께에 대한 입자 크기의 비율로 정의하고, 평균 플레이크 크기가 약 6㎛×200Å(1㎛=10,000Å)이면, 애스펙트 비 60,000/200은 약 300:1이다. 이와 같이 높은 애스펙트 비는 앞서 언급한 Metalure 플레이크에 필적하다. 플레이크가 보호층으로 양면이 코팅되는 실시예의 경우, 이들 플레이크의 애스펙트 비는 약 60,000/600 또는 약 100:1이다.The process of the present invention enables the production of reflective flakes at high production speeds and low cost. Uncoated flakes prepared by the present invention may have a high aspect ratio. If the aspect ratio is defined as the ratio of particle size to thickness, and the average flake size is about 6 μm × 200 mm 3 (1 μm = 10,000 mm 3), the aspect ratio 60,000 / 200 is about 300: 1. This high aspect ratio is comparable to the aforementioned Metalure flakes. For embodiments where the flakes are coated on both sides with a protective layer, the aspect ratio of these flakes is about 60,000 / 600 or about 100: 1.

본 발명의 프로세스에 의해 엠보싱된 플레이크도 제조될 수 있다. 이 경우에, 캐리어 또는 증착 표면(드럼 또는 폴리에스테르 캐리어)은 홀로그래피형(holographic) 또는 회절 격자(diffraction grating) 패턴 등으로 엠보싱될 수 있다. 제1 릴리스층은 상기 패턴을 복사하고, 후속하는 금속 또는 기타 층 및 개재하는 릴리스층은 동일한 패턴을 복제할 것이다. 스택은 스트리핑되어 엠보싱된 플레이크로 분해될 수 있다.Embossed flakes can also be produced by the process of the invention. In this case, the carrier or deposition surface (drum or polyester carrier) may be embossed in a holographic or diffraction grating pattern or the like. The first release layer copies the pattern and the subsequent metal or other layer and the intervening release layer will duplicate the same pattern. The stack can be stripped and broken down into embossed flakes.

본 발명에 의해 제조되는 플레이크 제품의 생산을 가속하기 위한 프로세스의 하나는 에어록(air lock)에 의해 분리된 3개의 나란히 설치된 진공 체임버를 활용한다. 중앙 체임버는 드럼 및 상기 드럼에 플레이크 재료 및 릴리스 코트의 층을 적용하기 위해 필요한 증착 장치를 수용한다. 증착 사이클이 완결되면, 드럼 및 코팅은 두 체임버 내의 진공을 유지하기 위해 에어록을 통해 증착 체임버로부터 하류에 있는 진공 체임버로 이송된다. 이어서 중앙 체임버는 밀봉된다. 다음에, 상류 체임버에 수용된 드럼은 추가 증착을 위해 중앙 체임버로 이동된다. 이 드럼은 양 체임버 내의 진공을 유지하도록 에어록을 통해 이동된다. 다음에, 중앙 체임버는 밀봉된다. 하류 체임버 내의 코팅된 드럼은 제거되고, 증착층은 스트리핑되고 세정되어 상류 체임버에서 교체된다. 이 프로세스는 진공을 파기하지 않고 중앙의 진공 체임버 내에서의 연속 코팅을 가능하게 한다.One process for accelerating the production of flake products made by the present invention utilizes three side by side vacuum chambers separated by air locks. The central chamber houses the drum and the deposition apparatus required to apply a layer of flake material and release coat to the drum. Once the deposition cycle is complete, the drum and coating are transferred from the deposition chamber to the vacuum chamber downstream via the airlock to maintain the vacuum in both chambers. The central chamber is then sealed. The drum housed in the upstream chamber is then moved to the central chamber for further deposition. This drum is moved through the airlock to maintain vacuum in both chambers. Next, the central chamber is sealed. The coated drum in the downstream chamber is removed, and the deposition layer is stripped and cleaned and replaced in the upstream chamber. This process allows for continuous coating in the central vacuum chamber without breaking the vacuum.

실시예 1Example 1

다음과 같은 다층 구조체를 만들었다: 릴리스층/금속층/릴리스층. 릴리스층은 Dow 685D 압출 등급(extrusion grade) 스티렌 수지였고, 금속층은 Materials Research Corp.사에서 제조한 90101E-AL000-3002인 알루미늄이었다.The following multilayer structure was made: release layer / metal layer / release layer. The release layer was a Dow 685D extrusion grade styrene resin and the metal layer was aluminum, 90101E-AL000-3002 manufactured by Materials Research Corp.

상기 구성을 50회 반복했다. 즉, 알루미늄과 스티렌 릴리스 코트의 교대층을 형성했다.The configuration was repeated 50 times. That is, alternating layers of aluminum and styrene release coat were formed.

릴리스층에 사용된 스티렌 펠릿을 하기와 같이 조절하였다:The styrene pellets used in the release layer were adjusted as follows:

- 스티렌 펠릿을 용융하고 210℃의 진공 오븐에서 16시간 동안 가열한 후 데시케이터로 옮겨 냉각하였다.The styrene pellets were melted and heated in a vacuum oven at 210 ° C. for 16 hours and then transferred to a desiccator for cooling.

- 알루미늄박이 피복된 흑연 도가니를 사용하여 이 재료를 담았다.This material was contained using a graphite crucible coated with aluminum foil.

- 이 흑연 도가니를 구리(銅) 피복된 Arco Temiscal 단일 포켓 전자빔 총(electron gun) 노상(hearth) 내에 위치시켰다.This graphite crucible was placed in a copper clad Arco Temiscal single pocket electron beam gun hearth.

- 알루미늄 펠릿을 구리 피복된 Arco Temiscal 4 포켓 전자빔 총 노상 속으로 용융하여 넣었다.Aluminum pellets were melted into a copper coated Arco Temiscal 4 pocket electron beam gun hearth.

상기 전자빔 총은 15 KV Arco Temiscal 3200 로드-록(load-lock) 시스템의 부분이었다. SKC로부터 2 mil의 PET 필름을 직경이 17인치인 3개의 원으로 절단하여 진공 체임버 내에 위치한 직경 17인치의 스테인리스강 위성형 디스크에 부착했다. 체임버를 닫고 10㎛으로 거칠기 처리한 다음 5×10-7 Torr의 진공으로 냉동 펌핑(cryopump)했다.The electron beam gun was part of a 15 KV Arco Temiscal 3200 load-lock system. A 2 mil PET film from SKC was cut into three circles 17 inches in diameter and attached to a 17 inches diameter stainless steel satellite disk located in a vacuum chamber. The chamber was closed, roughened to 10 μm and cryopumped to a vacuum of 5 × 10 −7 Torr.

상기 릴리스 재료 및 금속 재료는 교대로 증착되었다. 릴리스층은 먼저 Inficon IC/5 증착 제어기로 측정했을 때 200Å으로 증착되었다. 마찬가지로 IC/5 제어기로 측정했을 때 160Å으로 증착된 금속층이 릴리스층에 이어서 형성되었다. 알루미늄층에 대한 제어기는 그린 필터 장착 MacBeth TR927 투과 농도계에 의해 보정되었다. 전술한 바와 같이, 이 구성을 50회 반복했다. 증착된 알루미늄층은MacBeth 농도계로 측정했을 때 1.8 내지 2.8 광학 밀도의 양호한 두께를 가졌다. 이 값은 광 투과 판독을 통한 금속 필름 불투명도를 나타낸다.The release material and the metal material were deposited alternately. The release layer was first deposited at 200 Hz as measured by the Inficon IC / 5 deposition controller. Similarly, a metal layer deposited at 160 Hz, as measured by the IC / 5 controller, was formed following the release layer. The controller for the aluminum layer was calibrated with a MacBeth TR927 transmission densitometer with green filter. As described above, this configuration was repeated 50 times. The deposited aluminum layer had a good thickness of 1.8 to 2.8 optical density as measured by MacBeth densitometer. This value represents the metal film opacity through the light transmission reading.

증착이 완료되었을 때 질소를 사용하여 체임버를 주변 압력으로 배기시키고 PET 디스크를 꺼냈다. 디스크를 에틸아세테이트로 세척한 다음, 20X 대물렌즈를 사용하는 Image-pro plus 화상 분석기에서 측정하고 400개 입자의 세트로부터 평균한 값으로 입자 크기가 3×2㎛에 도달하도록 IKA Ultra Turrax T45를 사용하여 균질화하였다.When the deposition was complete, nitrogen was used to evacuate the chamber to ambient pressure and to remove the PET disk. The disc was washed with ethyl acetate and then used with an IKA Ultra Turrax T45, measured on an Image-pro plus image analyzer using a 20X objective lens and averaged from a set of 400 particles to reach a particle size of 3 × 2 μm. Homogenization.

다음에, 상기 분산액으로 잉크를 만들고 ACS 분광광도계 시험을 위해 Lenetta 카드 상에 도포했다. 이 시험은 플레이크 휘도를 측정하는 것이다. 약 68을 넘는 ACS 값은 이 특정 산물에 대해 바람직한 것으로 간주된다. ACS 판독치가 Metalure 대조군에 대해 69.98였고, 상기 배치(batch)에 대해서는 70.56이었다. 상기 잉크를 깨끗한 폴리에스테르 표면에 도포하고 밀도를 판독한 결과 상기 배치에 대해 0.94, Metalure 대조군에 대해 0.65였다. 판독은 그린 필터를 사용하는 MacBeth 농도계에서 이루어졌다.Next, ink was made from the dispersion and applied onto Lenetta cards for ACS spectrophotometer testing. This test measures flake brightness. ACS values above about 68 are considered desirable for this particular product. ACS readings were 69.98 for the Metalure control and 70.56 for the batch. The ink was applied to a clean polyester surface and the density read as a result of 0.94 for the batch and 0.65 for the Metalure control. Readings were made on a MacBeth densitometer using a green filter.

실시예 2Example 2

다음과 같은 다층 구조체를 만들었다: 릴리스층/보호 코트/금속층/보호 코트/릴리스층.The following multilayer structures were made: release layer / protective coat / metal layer / protective coat / release layer.

3종의 별도 구조체를 하기와 같이 만들었다:Three separate structures were created as follows:

구조체 1Structure 1

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

보호 코트 Cerac 산화규소 S-1065Protective Coat Cerac Silicon Oxide S-1065

금속층 Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002Metal Layer Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002

보호 코트 Cerac 산화규소 S-1065Protective Coat Cerac Silicon Oxide S-1065

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

구조체 2Structure 2

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

보호 코트 Cerac 산화알루미늄 A-1230Protective Coat Cerac Aluminum Oxide A-1230

금속층 Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002Metal Layer Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002

보호 코트 Cerac 산화알루미늄 A-1230Protective Coat Cerac Aluminum Oxide A-1230

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

구조체 3Structure 3

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

보호 코트 Cerac 플루오르화마그네슘 M-2010Protective Coat Cerac Magnesium Fluoride M-2010

금속층 Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002Metal Layer Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002

보호 코트 Cerac 플루오르화마그네슘 M-2010Protective Coat Cerac Magnesium Fluoride M-2010

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

상기 구성을 실시예 1에 기재된 것과 동일한 공정으로 10회 반복하고 보호 코팅 플레이크로서 평가하였다. 즉, 이 시험 결과, 용해 가능한 릴리스 재료의 개재하는 층들 사이에 캐리어 상 플레이크 재료의 층을 진공 하에 적층하되, 진공 체임버 내에서 조작되는 증착 소스로부터 릴리스층 및 플레이크층을 증착하면서 플레이크층을 연속적으로(진공을 파기하지 않고) 적층하고, 이어서 스트리핑 및 입자 크기의 제어에 의해 광학적 유용성을 갖는 다층 플레이크를 제조할 수 있는 것으로 나타났다.The configuration was repeated 10 times in the same process as described in Example 1 and evaluated as a protective coating flake. That is, as a result of this test, a layer of flake material on a carrier is laminated under vacuum between intervening layers of soluble release material, while the flake layer is continuously deposited while depositing the release layer and the flake layer from a deposition source operated in a vacuum chamber. It has been shown that multilayer flakes having optical utility can be prepared by laminating (without breaking vacuum) and then by stripping and controlling particle size.

실시예 3Example 3

다음과 같은 다층 구조체를 만들었다:The following multilayer structure was created:

구조체 1Structure 1

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

비금속층 산화규소 S-1065Nonmetallic Silicon Oxide S-1065

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

구조체 2Structure 2

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

스택 이산화티탄 Cerac T-2051Stacked Titanium Dioxide Cerac T-2051

스택 이산화규소 Cerac S-1065 + 산소Stacked Silicon Dioxide Cerac S-1065 + Oxygen

금속층 Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002Metal Layer Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002

스택 이산화규소 Cerac S-1065 + 산소Stacked Silicon Dioxide Cerac S-1065 + Oxygen

스택 이산화티탄 Cerac T-2051Stacked Titanium Dioxide Cerac T-2051

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

상기 구성을 실시예 1에 기재된 것과 동일한 공정으로 10회 반복하였다. 이 시험 결과, 상기 증착 프로세스가 진공 체임버 내에서 개재하는 릴리스 코트층들 사이에 광학적 스택의 적층된 층을 형성할 수 있고, 이어서 스트리핑 및 입자 크기의 제어에 의해 잉크 및 코팅과 같은 응용에 유용성을 갖는 필레이크가 얻어지는 것을 나타냈다.The above configuration was repeated 10 times in the same process as described in Example 1. As a result of this test, the deposition process can form a stacked layer of an optical stack between release coat layers interposed in a vacuum chamber, which is then useful for applications such as inks and coatings by controlling stripping and particle size. It was shown that the flakes having have been obtained.

실시예 4Example 4

하기 구조체가 장식성 플레이크용으로 가능한 구조체일 수 있다:The following structures may be possible structures for decorative flakes:

구조체 1Structure 1

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

스택 산화철 Cerac I-1074Stacked Iron Oxide Cerac I-1074

스택 이산화규소 Cerac S-1065 + 산소Stacked Silicon Dioxide Cerac S-1065 + Oxygen

스택 산화철 Cerac I-1074Stacked Iron Oxide Cerac I-1074

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

구조체 2Structure 2

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

스택 산화철 Cerac I-1074Stacked Iron Oxide Cerac I-1074

스택 이산화규소 Cerac S-1065 + 산소Stacked Silicon Dioxide Cerac S-1065 + Oxygen

금속층 Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002Metal Layer Materials Research Corp. 90101E-AL000-3002

스택 이산화규소 Cerac S-1065 + 산소Stacked Silicon Dioxide Cerac S-1065 + Oxygen

스택 산화철 Cerac I-1074Stacked Iron Oxide Cerac I-1074

릴리스층 Dow 685DRelease Layer Dow 685D

상기 구조체는 또한 고니어 크로마틱 시프트(gonio chromatic shift)용으로 사용될 수 있을 것이다.The structure may also be used for gonio chromatic shift.

실시예 5Example 5

EB 소스를 이용하여 폴리머 릴리스 코트층을 진공 체임버 내에서 증착하고, 증착된 알루미늄층으로 코팅하였다.The polymer release coat layer was deposited in a vacuum chamber using an EB source and coated with the deposited aluminum layer.

하기 구조체를 만들었다:I created the following structure:

구조체 1Structure 1

Dow 685D 스티렌 수지를 오븐 내에서 210℃에서 16시간 동안 가열했다. 재료는 폴리에스테르 상에 200 내지 400Å의 두께로 증착된 EB로서 밀도 2.1 내지 2.8로 1층의 알루미늄으로 금속화된 것이다.Dow 685D styrene resin was heated in an oven at 210 ° C. for 16 hours. The material is EB deposited on the polyester at a thickness of 200-400 mm 3, metalized with one layer of aluminum with a density of 2.1-2.8.

구조체 2Structure 2

Goodyear사제 Piolite AC 스티렌/아크릴레이트를 190℃에서 16시간 동안 가열했다. 재료는 폴리에스테르 상에 305Å의 두께로 증착된 EB로서 밀도 2.6으로 1층의 알루미늄으로 금속화된 것이다.Piolite AC styrene / acrylate from Goodyear was heated at 190 ° C. for 16 hours. The material is EB deposited on the polyester to a thickness of 305 mm 3, metalized with one layer of aluminum at a density of 2.6.

구조체 3Structure 3

Dianol America사제 BR-80 아크릴계 코폴리머를 130℃에서 16시간 동안 가열했다. 재료는 폴리에스테르 상에 305Å의 두께로 증착된 EB로서 밀도 2.6으로 1층의 알루미늄으로 금속화된 것이다.BR-80 acrylic copolymer manufactured by Dianol America was heated at 130 ° C. for 16 hours. The material is EB deposited on the polyester to a thickness of 305 mm 3, metalized with one layer of aluminum at a density of 2.6.

구조체 4Structure 4

Dow 685D 스티렌 수지를 210℃에서 16시간 동안 가열했다. 재료는 폴리에스테르 상에 200Å의 두께로 증착된 EB로서 밀도 2.3으로 1층의 알루미늄으로 금속화된 것이다. 릴리스 코트층을 개재시킴으로써 분리된 10층의 알루미늄 스택을 형성하도록 이 과정을 반복했다.Dow 685D styrene resin was heated at 210 ° C. for 16 hours. The material is EB deposited on the polyester to a thickness of 200 mm 3, metalized with one layer of aluminum at a density of 2.3. This process was repeated to form a separate 10 layer aluminum stack by interposing a release coat layer.

에틸아세테이트 용매를 사용하여 이들 층을 형성한 재료를 PET 캐리어로부터 스트리핑하고, T8 실험실 호모지나이저에서 제어된 입자 크기로 축소시켰다. 얻어진 플레이크는 휘도, 입자 크기, 불투명도 및 애스펙트 비가 유사한 점에서 Metalure 플레이크와 광학 특성이 유사했다.The materials forming these layers were stripped from the PET carrier using ethyl acetate solvent and scaled down to controlled particle size in a T8 laboratory homogenizer. The obtained flakes were similar in optical properties to metal flakes in terms of similar brightness, particle size, opacity and aspect ratio.

구조체 1과 유사한 구조체를 사용한 추가 시험에서, 광학 밀도 2.3으로 금속화된 알루미늄을 아세톤 중에서 PET 캐리어로부터 스트리핑하고 플레이크로 분쇄했다. 이 시험에서 릴리스 코트 두께의 변화 효과를 관찰했다. 시험 결과는 약 200 내지 약 400Å 범위의 EP 증착 릴리스 코트에서 가장 양호한 릴리스 특성을 나타냈다.In a further test using a structure similar to structure 1, aluminum metallized to optical density 2.3 was stripped from the PET carrier in acetone and crushed into flakes. In this test, the effect of varying the release coat thickness was observed. The test results showed the best release properties in the EP deposited release coats ranging from about 200 to about 400 mm 3.

실시예 6Example 6

본 발명에서 유용할 수 있는 다양한 폴리머 릴리스 코트 재료를 판정하기 위해 수회의 시험을 행했다. EB 증착될 수 있는 폴리머를 판정하기 위해 실험실 벨 자(Bell Jar) 테스트를 실시했다. 메틸메타크릴레이트(ICI사제 Elvacite 2010) 및 UV 경화된 모노머(Allied Signal사제 39053-23-4)를 사용하여 양호한 결과가 얻어졌다. 부틸메타크릴레이트(Elvacite 2044)(EB에서 진공이 상실됨), 셀룰로스(230℉에서 검게 변함) 및 폴리스티렌 고무(탄화됨)를 사용하여 불량한 결과가 관찰되었다.Several tests were conducted to determine various polymer release coat materials that may be useful in the present invention. Laboratory Bell Jar tests were conducted to determine polymers that could be EB deposited. Good results were obtained using methyl methacrylate (Elvacite 2010 manufactured by ICI) and UV cured monomer (39053-23-4 manufactured by Allied Signal). Poor results were observed using butyl methacrylate (Elvacite 2044) (vacuum lost at EB), cellulose (turned black at 230 ° F.) and polystyrene rubber (carbonized).

실시예 7Example 7

실시예 1에 기재된 시험에서는 Dow 685D 스티렌 폴리머로 만들어진 릴리스코트가 사용 가능한 플레이크 산물을 형성할 수 있는 것으로 나타났다. Dow 685D 스티렌 수지 릴리스 코트를 사용하여 하기와 같이 수회의 다른 시험을 실시했다:The test described in Example 1 showed that a release coat made of Dow 685D styrene polymer could form usable flake products. Several different tests were conducted using the Dow 685D styrene resin release coat as follows:

(1) 190℃로 조건을 맞추어 1,000Å으로 코팅하고 알루미늄으로 금속화하였다. 수지 필름이 너무 높게 적층되어 불투명한 금속화층이 형성되었다.(1) The conditions were adjusted to 190 DEG C and coated with 1,000 Pa and metallized with aluminum. The resin film was laminated too high to form an opaque metallization layer.

(2) 오븐에서 조건을 맞추지 않았다; 스티렌 비즈를 EB 용융하고자 시도했을 때 E-빔이 비즈를 도가니 내에서 이동시켰다.(2) the conditions were not met in the oven; The E-beams moved the beads in the crucible when attempting to EB melt the styrene beads.

(3) 210℃로 조건을 맞추어 75 내지 150Å으로 코팅한 다음 금속화하였다. 알루미늄의 스트리핑이 불량하거나 전혀 스트리핑되지 않았다.(3) The mixture was coated with 75 to 150 kPa under conditions of 210 ° C. and then metallized. The stripping of aluminum was poor or not stripping at all.

(4) 210℃로 조건을 맞추어 600Å으로 코팅하고 알루미늄 단일층을 밀도 1.9로 금속화하였다. 알루미늄이 서서히 스트리핑되어 컬(curl)이 형성된 플레이크가 얻어졌다.(4) The coating was carried out at 210 DEG C at 600 DEG C and the aluminum monolayer was metallized to a density of 1.9. The aluminum was slowly stripped to obtain flakes with curls.

본 발명에 의해 평균 외측 치수가 약 0.01 내지 150㎛이고, 두께가 약 5 내지 500Å인 단일층 및 두께가 약 10 내지 2000Å인 다층을 구비한 단일층 또는 다층 재료로 이루어지는 얇은 장식성 및 기능성 미소 플레이트를 제조할 수 있다. 본 발명의 프로세스에 의해 제조된 플레이크 또는 입자는 앞에서 언급한 낮은 옹스트롬 범위의 두께로 만들어질 수 있는 유용한 플레이크 재료이기 때문에 옹스트롬 스케일 입자라 칭한다. 본 발명에 의해 제조되는 일부 입자는 나노스케일 입자로 간주할 수 있다. 잘 알려진 바와 같이, 10Å이 1 ㎚이며, 나노스케일 범위는 일반적으로 1 내지 100 ㎚이다. 따라서, 본 발명에 따른 옹스트롬 스케일 입자(두께 및/또는 입자 크기) 중 일부는 나노스케일 범위 내에 들어간다.According to the present invention, a thin decorative and functional microplate made of a single layer or a multilayer material having a single layer having an average outer dimension of about 0.01 to 150 µm and having a thickness of about 5 to 500 mm 3 and a multilayer of about 10 to 2000 mm 3 is provided. It can manufacture. The flakes or particles produced by the process of the present invention are called angstrom scale particles because they are useful flake materials that can be made with the aforementioned low angstrom range thickness. Some particles produced by the present invention can be regarded as nanoscale particles. As is well known, 10 Hz is 1 nm and the nanoscale range is generally 1 to 100 nm. Thus, some of the angstrom scale particles (thickness and / or particle size) according to the invention fall within the nanoscale range.

이들 입자는 그 자체가 기능성 플랫폼으로 이용될 수 있고, 또는 다른 활성 물질로 코팅될 수 있다. 이들 입자는 다른 재료 속에 혼합되거나 다른 재료 표면에 코팅될 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 이들 입자는 단일층 또는 다층 미소 플레이트에 폴리머 릴리스층이 삽입되도록 재료 또는 재료의 층을 증착함으로써 제조된다. 이러한 층 샌드위치를 위한 지지 시스템은 플레이트, 필름, 벨트 또는 드럼일 수 있다. 기능성 재료는 PVD(물리적 증착) 프로세스에 의해 적용될 수 있고, 릴리스층도 PVD에 의해 적용될 수 있다.These particles may themselves be used as functional platforms or may be coated with other active materials. These particles may be mixed in other materials or coated on other material surfaces. As mentioned above, these particles are prepared by depositing a material or layer of material such that a polymer release layer is inserted into a single layer or multilayer microplate. The support system for this layer sandwich can be a plate, film, belt or drum. The functional material can be applied by a PVD (Physical Deposition) process, and the release layer can also be applied by PVD.

릴리스층이 삽입된 샌드위치층이 형성되면, 재료는 지지 시스템으로부터 제거될 수 있고, 기능성 층들은 릴리스층으로부터 분리될 수 있다. 이것은 적절한 용매 또는 초임계 유체를 사용하여 극저온 방식으로(cryogenically) 행해질 수 있다. 얻어지는 물질은 미소 플레이트로 바뀌고 분쇄, 균질화, 초음파 처리 또는 고압 충격에 의해 사이징될 수 있다.Once the sandwich layer with the release layer is inserted, the material can be removed from the support system and the functional layers can be separated from the release layer. This can be done cryogenically using a suitable solvent or supercritical fluid. The resulting material is turned into a microplate and can be sized by grinding, homogenization, sonication or high pressure impact.

원심분리 또는 여과를 실시함으로써 케익, 슬러리 또는 건조 재료가 얻어진다. CVD를 통해 입자에 다른 활성 물질을 첨가할 수 있고, 또는 접착을 촉진하기 위해 다른 활성 물질을 실란과 같은 물질과 반응시킬 수 있다. 다음에, 기능성 용도를 위해 상기 재료를, 예를 들면, 페인트, 코팅, 잉크, 폴리머, 고형물, 용액, 필름, 섬유, 또는 겔 등의 원하는 재료 속에 혼합하거나 그러한 재료 표면에 코팅할 수 있다.By centrifugation or filtration, a cake, slurry or dry material is obtained. Other active materials may be added to the particles via CVD, or other active materials may be reacted with materials such as silanes to promote adhesion. The material may then be mixed or coated onto the surface of such material, for example, for paint, coating, ink, polymer, solids, solutions, films, fibers, or gels for functional use.

본 발명에 따른 다양한 옹스트롬 스케일 플레이크 구조체는 (1) 알루미늄, 합금 및 다른 금속(이하에 기재됨) 단일층 플레이크; (2) 단일층 유전체, 무기 플레이크 또는 가교 결합된 폴리머 플레이크; (3) 다층 무기 화합물; (4) 광학적 스택; (5) 무기 플레이크 또는 유기/금속/무기 플레이크 또는 유기 다층 플레이크; (6) 금속/무기/금속 플레이크; 및 (7) CVD 또는 화학적으로 반응시킨 표면 코팅 플레이크를 포함한다.Various angstrom scale flake structures according to the present invention include: (1) aluminum, alloy and other metal (described below) single layer flakes; (2) monolayer dielectrics, inorganic flakes or crosslinked polymer flakes; (3) multilayer inorganic compounds; (4) optical stacks; (5) inorganic flakes or organic / metal / inorganic flakes or organic multilayer flakes; (6) metal / inorganic / metal flakes; And (7) CVD or chemically reacted surface coating flakes.

이들 나노스케일 입자 및 애스펙트 비가 높은 입자의 용도는 하기와 같다.The use of these nanoscale particles and particles having a high aspect ratio is as follows.

광학적 미관(optical aesthetic)Optical aesthetic

애스펙트 비가 높은 재료는 착색 효과뿐 아니라 휘도가 높은 금속성 효과를 제공할 수 있다. 이들 재료를 제조하는 데에는 알루미늄, 은, 금, 인듐, 구리, 크롬 또는 합금과 같은 금속 및 알루미늄-구리, 구리-아연-은, 크롬-니켈-은, 질화티타늄, 질화티타늄지르코늄 및 질화지르코늄과 같은 금속 조합을 사용할 수 있다. 금속과 유전체 재료의 샌드위치는 다양한 색상 및 효과를 생성할 수 있다. 내부층을 산화 및 부식으로부터 보호하기 위해 불활성 물질을 외부층으로 사용할 수 있다. 샌드위치의 몇 가지 예로는 SiO/Al/SiO, MgF/Al/MgF, Al/SiO/Al, Al/MgF/Al 등이 있지만, 여러 가지 다른 조합이 가능하다. 안료형 색상을 제공하는 유기 및 무기 재료 모두를 부착하기 위해 금속 또는 금속 산화물의 플레이크를 베이스로 사용할 수 있다.Materials having a high aspect ratio can provide a metallic effect with high brightness as well as a coloring effect. The manufacture of these materials includes metals such as aluminum, silver, gold, indium, copper, chromium or alloys and aluminum-copper, copper-zinc-silver, chromium-nickel-silver, titanium nitride, titanium zirconium nitride and zirconium nitride. Metal combinations may be used. Sandwiches of metal and dielectric materials can produce a variety of colors and effects. Inert materials can be used as the outer layer to protect the inner layer from oxidation and corrosion. Some examples of sandwiches are SiO / Al / SiO, MgF / Al / MgF, Al / SiO / Al, Al / MgF / Al, and the like, but various other combinations are possible. Flakes of metal or metal oxides can be used as a base to attach both organic and inorganic materials that provide a pigmented color.

광학적 기능Optical function

나노스케일의 애스펙트 비가 높은 입자는 광학 특성을 이용하는 많은 응용을 가질 수 있다. UV 및 IR 광을 반사, 산란 또는 흡수하기 위해 산화알루미늄, 이산화티탄, 산화아연, 산화인듐주석, 산화인듐 등의 입자를 코팅 및 폴리머에 결합시킬 수 있다. 또한, 다른 중요한 효과를 생성하기 위해 인광성 및 형광성 재료를 사용할 수 있다.Particles with a high aspect ratio of nanoscale may have many applications that utilize optical properties. Particles such as aluminum oxide, titanium dioxide, zinc oxide, indium tin oxide, indium oxide and the like may be bonded to the coating and polymer to reflect, scatter or absorb UV and IR light. In addition, phosphorescent and fluorescent materials can be used to produce other important effects.

기계적 성질Mechanical properties

이들 입자의 성질을 강화하기 위해 재료 속에 이들 입자를 결합하거나 표면에 적용할 수 있다. 방염성, 치수 안정성, 내마모 및 내연마성, 수증기 투과성, 내약품성 및 강성과 같은 성질을 향상시키기 위해 일산화규소, 이산화알루미늄, 이산화티탄, 및 기타 유전체의 입자를 재료에 결합할 수 있다.To enhance the properties of these particles, these particles can be combined or applied to surfaces in the material. Particles of silicon monoxide, aluminum dioxide, titanium dioxide, and other dielectrics can be incorporated into the material to improve properties such as flame retardancy, dimensional stability, abrasion and abrasion resistance, water vapor permeability, chemical resistance, and stiffness.

화학적 성질chemistry

화학적 처리에 도입시킬 수 있는 약간 높은 표면적을 제공하기 위해 이들 입자의 표면에 활성 물질을 적용할 수 있다. 표면적이 높은 이들 입자는 촉매용으로 이상적이다. 그것은 활성 물질의 미소 플레이트 또는 활성 코팅을 지지하도록 만들어진 플레이크일 수 있다. 활성 물질의 예는 백금, 팔라듐, 산화아연, 이산화티탄, 일산화규소 등이다. 금속(리튬)이 도핑된 재료로 제조되는 플레이크는 배터리에 사용될 수 있다.Active materials can be applied to the surface of these particles to provide a slightly higher surface area that can be incorporated into chemical treatment. These particles with high surface areas are ideal for catalysts. It may be a flake made to support the microplate or the active coating of the active material. Examples of active materials are platinum, palladium, zinc oxide, titanium dioxide, silicon monoxide and the like. Flakes made of a metal (lithium) doped material can be used in the battery.

전기적 성질Electrical properties

전도도, 커패시턴스, EMI 및 RFI를 성취하기 위해 다양한 재료의 입자를 단일층 및 다층으로서 결합함으로써 다양한 재료에 전기적 성질을 부여할 수 있다. 마이크로웨이브 및 레이더 에너지의 흡수, 투과 및 반사는 금속 입자 또는 금속 유전체 샌드위치를 코팅하거나 혼합함으로써 조절될 수 있다. 붕소화마그네슘과 같은 초전도 재료도 옹스트롬 스케일 입자로 만들어질 수 있다.Electrical properties can be imparted to various materials by combining particles of various materials as single and multiple layers to achieve conductivity, capacitance, EMI and RFI. Absorption, transmission and reflection of microwave and radar energy can be controlled by coating or mixing metal particles or metal dielectric sandwiches. Superconducting materials, such as magnesium boride, can also be made of angstrom scale particles.

생물학적 성질Biological properties

이들 박층 미소 플레이트 상에 항진균성 또는 항세균성 코팅을 형성한 다음 잉크 및 코팅에 결합함으로써 활성 물질이 표면에 유효하게 전달될 수 있다.The active material can be effectively delivered to the surface by forming an antifungal or antibacterial coating on these thin microplates and then binding to the ink and coating.

나노입자Nanoparticles

나노입자는 불연속 입자(discrete particle)로서 플레이크 재료를 증착함으로써 제조될 수 있다. 산업 분야에서, 핵형성 및 필름 성장이 고품질 PVD 코팅의 형성에 중요한 역할을 하는 것은 잘 알려져 있다. 초기 증착이 진행되는 동안, 증착이 계속됨에 따라 크기 및 갯수 면에서 성장되는 핵이 형성된다. 프로세스가 계속됨에 따라 이들 아일랜드는 추후에 충전되어 최종적인 연속 필름을 형성하게 되는 채널 내에서 서로 결합하기 시작한다. 나노입자를 만들기 위해, 코팅 프로세스는 릴리스 재료의 다음 번 층이 적용되기 전에 아일랜드 단계에만 도달한다. 이로써 이하에 설명하는 다층 구조체 내의 릴리스층들 사이에 작은 입자가 포획될 수 있다. 상기 입자는 추후에 적절한 용매를 사용하여 릴리스 재료를 용해함으로써 릴리스될 수 있다.Nanoparticles can be produced by depositing flake material as discrete particles. In the industry, it is well known that nucleation and film growth play an important role in the formation of high quality PVD coatings. During the initial deposition, as the deposition continues, nuclei grow in size and number. As the process continues, these islands begin to combine with each other in the channel which will later be filled to form the final continuous film. To make nanoparticles, the coating process only reaches the island stage before the next layer of release material is applied. This allows small particles to be trapped between the release layers in the multilayer structure described below. The particles can later be released by dissolving the release material using a suitable solvent.

나노스케일 입자를 제조하는 또 다른 프로세스는 플레이크 재료를 50Å 이하로 제조한 다음 2차 조작으로 입자 직경을 감축하는 것이다.Another process for making nanoscale particles is to produce flake materials up to 50 mm 3 and then reduce the particle diameter in a second operation.

코팅에서의 플레이크 재료의 용도Use of Flake Materials in Coatings

상기 응용에서 이용하기 위한 플레이크 재료를 하기 절차에 따라 코팅에 도입했다:Flakes material for use in this application were introduced into the coating according to the following procedure:

재료의 여러 가지 물질 조성을 플레이크 형태로 전환시켰다. 이어서, 전환된 플레이크를 표면적 기준으로 매개물 내에 결합하였다.The various material compositions of the material were converted to flake form. The converted flakes were then bound in the media on a surface area basis.

매개물 조성:Medium composition:

톨루엔 28 ptsToluene 28 pts

이소프로판올 28 ptsIsopropanol 28 pts

메틸에틸케톤 28 ptsMethyl ethyl ketone 28 pts

Elvacite 2042 16 ptsElvacite 2042 16 pts

이 실시에에서 사용된 플레이크의 실중량은 화합물의 두께 및 밀도로 유도하여 구했다. 이 유도는 화합물의 효과를 연구하기 위해 이용했다. 플레이크를 아세톤 중에 슬러리 형태로 적용했다. 프로세스의 제1 단계는 고형물의 중량 퍼센트를 측정하는 것이었다. 고형물을 알아낸 후, 사용할 슬러리 재료의 양은 하기 표에 의해 결정될 수 있다.The net weight of the flakes used in this example was determined by deriving from the thickness and density of the compounds. This induction was used to study the effects of the compounds. The flakes were applied in slurry form in acetone. The first step in the process was to determine the weight percentage of solids. After finding the solids, the amount of slurry material to be used can be determined by the table below.

재료material 밀도density 플레이크의 두께Flake thickness 매개물 용액 100 g당 건조 플레이크Dry flakes per 100 g of media solution 슬러리의 고형물 퍼센트 중량Percent solids in slurry 매개물 용액 100 g당 사용할 중량Weight to be used per 100 g of media solution 이산화티탄Titanium dioxide 4.264.26 200Å200Å 0.09 g0.09 g 일산화티탄Titanium monoxide 4.934.93 200Å200Å 0.08 g0.08 g 이산화규소Silicon dioxide 2.22.2 200Å200Å 0.20 g0.20 g 일산화규소Silicon monoxide 2.132.13 200Å200Å 0.20 g0.20 g 산화알루미늄Aluminum oxide 3.973.97 200Å200Å 0.10 g0.10 g 산화인듐Indium oxide 7.137.13 200Å200Å 0.06 g0.06 g 산화인듐주석Indium tin oxide 4.484.48 200Å200Å 0.09 g0.09 g 산화아연Zinc oxide 5.65.6 75Å75Å 0.03 g0.03 g 인듐indium 7.37.3 200Å200Å 0.06 g0.06 g 플루오르화마그네슘Magnesium fluoride 3.183.18 200Å200Å 0.13 g0.13 g 실리콘silicon 2.332.33 200Å200Å 0.16 g0.16 g

상기 플레이크를 적절한 중량으로 매개물 내에 혼합했다. 이어서 슬러리를 0.002인치 두께의 광택(gloss) 폴리에스테르 필름 상에 최종 코팅 두께가2.6∼3.0g/㎡가 되도록 코팅하였다. 상기 코팅을 방치하여 건조시킨 후 다음 두 방식으로 시험했다.The flakes were mixed into the medium at the appropriate weight. The slurry was then coated onto a 0.002 inch thick gloss polyester film with a final coating thickness of 2.6-3.0 g / m 2. The coating was left to dry and tested in the following two ways.

열 반사성 평가 방법:Thermal reflectivity evaluation method:

제조된 코팅을 열과 압력을 사용하여 EF18936L로 장식된 경질 폴리비닐클로로라이드(PVD) 시트의 표면에 옮겼다. 옮긴 후 폴리에스테르 필름을 제거했다. 블랭크(플레이크 없는 매개물) 및 시험용 플레이크를 사용하여 사방 3인치 크기의 패널을 준비했다. 이어서 PVC 적층 산물에서의 열 축적을 예측하기 위해 ASTM D4809-89 방법을 이용하여 이들 패널을 평가했다. 블랭크 및 시험용 플레이크 패널 모두에 대해 결과를 보고했다.The prepared coating was transferred to the surface of a rigid polyvinylchlorolide (PVD) sheet decorated with EF18936L using heat and pressure. After transfer, the polyester film was removed. Panels of 3 inch size were prepared using blanks (media without flakes) and test flakes. These panels were then evaluated using the ASTM D4809-89 method to predict heat accumulation in the PVC laminate product. Results were reported for both blank and test flake panels.

UV 차단성 평가 방법:UV protection rating method:

하기 물질을 포함하는 필름을 경성 PVC 시트에 피복하여 기본 테스트 시트를 만들었다:A film comprising the following materials was coated on a rigid PVC sheet to make a basic test sheet:

컬러 코트 I80126 매개물 59.5 ptsColor coat I80126 medium 59.5 pts

I80161 백색 분산액 27.0 ptsI80161 white dispersion 27.0 pts

I8980 이소인돌리논 황색 분산액 5.4 ptsI8980 Isoindolinone Yellow Dispersion 5.4 pts

MEK 메틸에틸케톤 8.1 ptsMEK methyl ethyl ketone 8.1 pts

2개의 137HK 인쇄 플레이트를 이용하여 0.002mil 광택 폴리에스테르에 적용Application to 0.002mil glossy polyester using two 137HK printing plates

사이즈 L56537Size L56537

1개의 137HK 인쇄 플레이트를 이용하여 컬러 코트 후 적용Application after color coat using one 137HK printing plate

앞서의 방법과 같이 폴리에스테르 상에 블랭크 및 슬러리를 제조하고 전술한패널에 옮긴다. 블랭크 및 시험용 플레이트 패널을 모두 Dew Cycle 프로토콜 상에 설치한 Sunshine Carbon Arc(Atlas) 내후성 시험기(weatherometer)에 배치한다. 500시간의 가동 시간마다 초기 광택 및 색상을 판독하고 기록한다.Blanks and slurries are prepared on polyester as in the previous method and transferred to the panels described above. Both blank and test plate panels are placed in a Sunshine Carbon Arc (Atlas) weatherometer installed on the Dew Cycle protocol. Initial gloss and color are read and recorded every 500 hours of operation.

다층 입자 릴리스층은 PVD 프로세스로 증착된 종래의 유기 용매계 폴리머로부터 제조될 수 있다. 폴리머, 올리고머, 모노머 등의 여러 가지 상이한 재료를 사용할 수 있다. 이들 재료는 전자빔, 스퍼터링, 인덕션(induction) 및 저항식 가열(resistance heating)에 의해 증발될 수 있다.The multilayer particle release layer can be prepared from conventional organic solvent based polymers deposited by PVD processes. Various different materials can be used, such as polymers, oligomers, monomers, and the like. These materials can be evaporated by electron beam, sputtering, induction and resistance heating.

이 프로세스에서 벌크 폴리머를 사용할 경우의 어려움 중 하나는 악영향을 미칠 수 있는 고온에 대한 장시간 노출이 없이 폴리머를 효과적으로 공급하는 문제이다. 또 다른 어려움은 진공 시스템을 오염시키거나 진공도를 저하시키지 않고 폴리머를 증발시키고 그 증기를 지지 시스템으로 인도하는 것이다.One of the difficulties with using bulk polymers in this process is the problem of effectively supplying polymers without prolonged exposure to high temperatures, which can be adversely affected. Another difficulty is to evaporate the polymer and direct its vapor to the support system without contaminating or degrading the vacuum system.

몇 가지 접근 방법이 폴리머 전달에 관한 이들 문제점을 극복할 수 있다. 하나의 접근 방법은 증기화 온도를 견딜 수 있는 금속 또는 재료로 만들어진 외이어 또는 리본과 같은 캐리어 재료 상에 폴리머를 코팅하는 것이다. 이 때의 코팅된 재료는 이어서 폴리머 증기 다이(polymer vapor die)에 공급되고, 여기서 상기 재료는 가열되어 폴리머가 증기화되고, 그 증기는 지지 시스템으로 인도된다. 또 하나의 접근 방법은 폴리머를 용융하여 점도를 낮추고 이어서 폴리머 증기 다이 속으로 압출하거나 펌핑하는 것이다. 기어 펌프, 압출기 또는 폴리머 증기 다이와 같은 모세관 압출 시스템(모세관 점도계)이 적절한 온도까지 가열되는 증기화 표면을 제공할 수 있다. 이어서 상기 다이는 증기를 지지 시스템으로 인도한다. 폴리머 다이 지지 시스템 영역을 이탈하는 모든 분무 폴리머 증기를 응축하고 또한 이 영역을 차분 방식으로 펌핑하기 위해서는 냉각 표면을 제공할 필요가 있다.Several approaches can overcome these problems with polymer delivery. One approach is to coat the polymer on a carrier material such as a wire or ribbon made of metal or material capable of withstanding vaporization temperatures. The coated material at this time is then supplied to a polymer vapor die, where the material is heated to vaporize the polymer and the vapor is directed to the support system. Another approach is to melt the polymer to lower its viscosity and then extrude or pump into the polymer vapor die. Capillary extrusion systems (capillary viscometers) such as gear pumps, extruders or polymer vapor dies can provide a vaporization surface that is heated to an appropriate temperature. The die then directs steam to the support system. It is necessary to provide a cooling surface in order to condense all the sprayed polymer vapors leaving the polymer die support system area and to pump this area differentially.

벨 자 프로세스(Bell Jar Process)Bell Jar Process

도 10을 참조하면, 진공화 가능한 벨 자(100)는 벨 자의 저면에 설치한 히터 블록(102)을 구비하여 변형되어 있다. 상기 블록은 원하는 샘플을 유지하도록 도려낸 캐비티(106)를 갖는 가열 폴리머 증기 체임버(104)를 포함한다. 알루미늄 포일로 만들어진 도가니(108)를 상기 블록에 장착하고 약 0.3g의 원하는 재료를 도가니에 넣는다. 이어서 도가니를 히터 블록에 넣는다.Referring to FIG. 10, the bell jar 100 capable of vacuuming is deformed by providing a heater block 102 provided on the bottom of the bell jar. The block includes a heated polymer vapor chamber 104 having a cavity 106 cut out to hold a desired sample. A crucible 108 made of aluminum foil is mounted to the block and about 0.3 g of the desired material is placed in the crucible. The crucible is then placed in a heater block.

히터 블록 상부에 블록 상단으로부터 1인치 높이에 증착 게이지(deposition gauge)(109)를 배치한다. 블록이 가열됨에 따라 이 게이지는 증발되는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정하게 된다.A deposition gauge 109 is placed on top of the heater block one inch from the top of the block. As the block heats up, the gauge measures the amount of material evaporated in angstroms per second.

증착 게이지 상부에 2개의 포스트(도시되지 않음) 사이로 폴리에스테르 시트(110)를 클램프 고정한다. 블록으로부터 증발된 재료는 이 필름 상에 증착된다. 또 다른 단계에서, 이 필름은 금속화된다.The polyester sheet 110 is clamped between two posts (not shown) on top of the deposition gauge. The material evaporated from the block is deposited on this film. In another step, the film is metalized.

샘플, 증착 게이지 및 폴리에스테르 필름이 정위치에 놓이면, 벨 자를 닫고 진공 사이클을 시작한다. 시스템을 2×10-5torr 내지 6×10-5torr의 압력까지 배기시키면 실험을 시작할 준비 상태가 된다.Once the sample, deposition gauge and polyester film are in place, close the bell jar and start the vacuum cycle. The system is evacuated to a pressure of 2 × 10 −5 torr to 6 × 10 −5 torr and ready for the experiment to begin.

히터 블록은 실온 부근에서 시작된다. 원하는 진공에 도달하면, 블록에 대한 파워를 on시킨다. 블록을 20분 간격 내에 650℃까지 가열되도록 설정한다. 매분 측정을 행한다. 시간, 현재 블록 온도(℃), 증착 게이지 눈금(Å/sec) 및 현재의 진공 압력(torr)을 매분 기록한다. 증착 게이지 결정이 깨지거나 재료 전부가 증발되어 증착 게이지 눈금이 제로로 떨어졌을 때 실험을 종료한다.The heater block starts near room temperature. When the desired vacuum is reached, power on the block. The block is set to heat to 650 ° C. within a 20 minute interval. Every minute measurement is performed. The time, current block temperature (° C.), deposition gauge scale (눈금 / sec) and current vacuum pressure (torr) are recorded every minute. The experiment ends when the deposition gauge crystal is broken or all of the material has evaporated and the deposition gauge scale has dropped to zero.

실험의 종료 시점에 벨 자를 대기 중에 개방한다. 폴리에스테르를 꺼내어 금속화되도록 제거하고 사용된 도가니는 폐기한다. 이어서 모든 다른 재료 실험과의 비교를 위해 데이터를 도표화한다.At the end of the experiment, open the bell jar in the atmosphere. Take out the polyester, remove it for metallization and discard the used crucible. The data is then plotted for comparison with all other material experiments.

벨 자 폴리머 실험Belza polymer experiment

상이한 폴리머에 대한 몇 가지 실험을 벨 자 금속화 장치에서 실시했다. 모든 이들 실험에 대해 "벨 자 절차(Bell Jar Procedure)"에 기재된 절차를 따랐다. 각각의 실험에 대해, 실험 시간, 온도, 증착 게이지 눈금, 및 진공압을 기록했다. 이들 데이터로부터 무엇이 진공에 큰 영향을 주는지 그리고 어느 재료가 가장 높은 증착 속도를 제공하는지를 판정할 수 있다. 증착 속도가 높다는 것은 궁극적인 제조 크기를 갖는 장치가 더 높은 속도로 가동될 수 있다는 것을 의미한다. 그러나, 진공압에 상대적으로 큰 영향을 주는 재료는 연장된 조작 기간 후에 청소 문제 및 있을 수 있는 펌프 다운(pump down) 문제를 야기할 수 있다.Several experiments with different polymers were conducted in a bell jar metallization device. For all these experiments the procedure described in "Bell Jar Procedure" was followed. For each experiment, the experiment time, temperature, deposition gauge scale, and vacuum pressure were recorded. From these data it is possible to determine what greatly affects the vacuum and which material provides the highest deposition rate. Higher deposition rates mean that devices with the ultimate fabrication size can be run at higher speeds. However, materials that have a relatively large effect on vacuum pressure can cause cleaning problems and possible pump down problems after extended operating periods.

Dow 685D 폴리스티렌을 사용하여 실험 1, 실험 2, 실험 6, 및 실험 7을 실시했다. 이 폴리머의 보고된 분자량은 약 300,000이다. 상기 네 가지 실험은 모두 유사한 결과를 나타냈다. 증착 속도는 온도가 약 550℃에 도달할 때까지 약 10Å/sec로 유지했다. 상기 온도로 상승될 때까지 진공에 대한 영향은 거의 없었다. 압력은 대략 2×10-5torr 미만으로 올렸다. 550℃ 이상의 온도에서 속도는 급격히 상승하고 압력은 1.2×10-4내지 1.8×10-4torr 범위 내로 상승하였다. 이것은 여전히 진공압에 대해 최소의 충격이다.Experiment 1, experiment 2, experiment 6, and experiment 7 were carried out using Dow 685D polystyrene. The reported molecular weight of this polymer is about 300,000. All four experiments showed similar results. The deposition rate was maintained at about 10 kW / sec until the temperature reached about 550 ° C. There was little effect on vacuum until it rose to this temperature. The pressure was raised to less than approximately 2 × 10 −5 torr. At temperatures above 550 ° C. the speed rose rapidly and the pressure rose within the range of 1.2 × 10 −4 to 1.8 × 10 −4 torr. This is still a minimal impact on vacuum pressure.

실험 3은 193,000의 분자량을 갖는 이소부틸 메타크릴레이트인 Elvacite 2045를 사용하여 실시했다. 증착은 500℃의 온도에서 26.5Å/sec까지 상승했다. 이 온도에서 진공압은 출발 압력 5.2×10-5torr로부터 3.6×10-4torr로 상승했다.Experiment 3 was carried out using Elvacite 2045, an isobutyl methacrylate having a molecular weight of 193,000. The deposition rose to 26.5 kV / sec at a temperature of 500 ° C. At this temperature, the vacuum pressure rose from the starting pressure of 5.2x10 -5 torr to 3.6x10 -4 torr.

제4 실험은 142,000의 분자량을 갖는 n-부틸 메타크릴레이트인 Elvacite 2044를 사용했다. 상기 2044에 대한 증착은 500℃에서 피크 값 30Å/sec에 도달했다. 이 온도에서 증기압은 2.0×10-4torr에 도달했다.The fourth experiment used Elvacite 2044, n-butyl methacrylate with a molecular weight of 142,000. The deposition for 2044 reached a peak value of 30 μs / sec at 500 ° C. At this temperature, the vapor pressure reached 2.0 x 10 -4 torr.

실험 5 및 실험 19는 코폴리머인 Endex 160을 사용하여 실시했다. Endex 160은 11Å/sec의 속도로 413℃에서 최대 증착에 도달했다. 상기 증착은 진공이 최종적으로 단지 1.0×10-6torr 만큼 상승되어 최종 눈금 4.4×10-5torr까지 상승하는 동안 진공에 대해 거의 충격을 주지 않았다.Experiment 5 and Experiment 19 were carried out using copolymer Endex 160. Endex 160 reached maximum deposition at 413 ° C. at a rate of 11 μs / sec. The deposition gave little impact on the vacuum while the vacuum was finally raised by only 1.0 × 10 −6 torr to a final scale of 4.4 × 10 −5 torr.

제8 실험은 37,000의 분자량을 갖는 메틸 메타크릴레이트인 Elvacite 2008을 사용하여 실시했다. 최고 증착 속도는 67Å/sec의 속도로 630℃에서 얻어졌다. 최종 진공압은 1.0×10-4torr로 올라갔다.The eighth experiment was carried out using Elvacite 2008, a methyl methacrylate having a molecular weight of 37,000. The highest deposition rate was obtained at 630 ° C. at a rate of 67 kV / sec. The final vacuum pressure rose to 1.0 × 10 −4 torr.

실험 9 및 실험 10은 Piccolastic D125를 사용하여 실시했다. 이 재료는50,400의 낮은 분자량을 갖는 스티렌 폴리머이다. 500℃에서 증착 속도 108Å/sec에 도달하였고 실험 기간 중에 진공에 대해 최소의 충격이 있었다.Experiment 9 and Experiment 10 were carried out using Piccolastic D125. This material is a styrene polymer with a low molecular weight of 50,400. The deposition rate was reached at 108 ° C./sec at 500 ° C. and there was minimal impact on the vacuum during the experiment.

실험 11 및 실험 12는 Piccolastic A75를 사용하여 실시했다. 이것은 또 다른 스티렌 모노머이지만 분자량은 1,350으로 낮은 것이다. 증착 속도는 매우 조기에 시작되어 온도가 420℃에 도달했을 때 최대 760Å/sec까지 상승했다. 양실험에서도 역시 진공압에 대해 극소의 충격이 있었다.Experiment 11 and experiment 12 were carried out using Piccolastic A75. This is another styrene monomer but has a low molecular weight of 1,350. The deposition rate started very early and rose up to 760 kW / sec when the temperature reached 420 ° C. In both experiments there was also a minimal impact on the vacuum pressure.

실험 13 및 실험 14는 Polyscience사에서 제조한 분자량 50,000의 표준 폴리스티렌을 사용하여 실시했다. 이들 샘플은 매우 조밀한 분자량 분포를 가진다. 이들 실험의 경우에 560℃의 온도에서 증착 속도 205Å/sec가 얻어졌다. 그러한 증착 시에 진공압은 출발 압력보다 1.4×10-5torr 올라간 6.2×10-5torr까지 상승했다.Experiment 13 and experiment 14 were carried out using standard polystyrene having a molecular weight of 50,000 manufactured by Polyscience. These samples have a very dense molecular weight distribution. In the case of these experiments, a deposition rate of 205 Pa / sec was obtained at a temperature of 560 ° C. At such deposition, the vacuum pressure rose to 6.2 × 10 −5 torr, which was 1.4 × 10 −5 torr higher than the starting pressure.

실험 15 및 실험 16은 Polyscience사제인 또 다른 표준 폴리스티렌을 사용하여 실시했지만 이것은 75,000의 분자량을 가졌다. 증착 속도는 590℃의 온도에서 약 30Å/sec에 도달했다. 이 온도에서, 진공압은 뚜렷한 상승인 3.0×10-4torr까지 상승했다.Experiments 15 and 16 were carried out using another standard polystyrene manufactured by Polyscience, but it had a molecular weight of 75,000. The deposition rate reached about 30 kW / sec at a temperature of 590 ° C. At this temperature, the vacuum pressure rose to 3.0 × 10 -4 torr, which was a marked rise.

실시예 17은 분자량 8,600인 방향족 모노머의 코폴리머인 Endex 155를 사용하여 실시했다. 최대 증착은 530℃에서 78Å/sec로 도달했다. 실험의 종료 시점에 진공압은 1.0×10-4torr까지 상승했다.Example 17 was carried out using Endex 155, a copolymer of aromatic monomers having a molecular weight of 8,600. The maximum deposition reached 78 kV / sec at 530 ° C. At the end of the experiment, the vacuum pressure rose to 1.0 x 10 -4 torr.

실험 18은 Polyscience사 제품인 또 다른 표준 폴리스티렌을 사용하여 실시했다. 이 샘플은 800∼5,000 범위의 분자량을 가졌다. 증착은 490℃의 온도에서 480Å/sec에 이를 만큼 높았다. 실험을 진행하는 동안 내내 진공에 대한 충격은 거의 없거나 전혀 없었다.Experiment 18 was carried out using another standard polystyrene manufactured by Polyscience. This sample had a molecular weight ranging from 800 to 5,000. The deposition was as high as 480 kW / sec at a temperature of 490 ° C. There was little or no impact on vacuum throughout the experiment.

실험 20은 Polyscience사 제품인 표준 폴리메틸 메타크릴레이트를 사용하여 실시했다. 이 샘플은 25,000의 분자량을 가졌다. 최종 증착 속도는 645℃에서 50Å/sec로 얻어졌다. 이 조건에서 진공압은 1.0×10-4torr까지 상승했다.Experiment 20 was performed using standard polymethyl methacrylate manufactured by Polyscience. This sample had a molecular weight of 25,000. The final deposition rate was obtained at 645 ° C. at 50 μs / sec. Under this condition, the vacuum pressure rose to 1.0 × 10 -4 torr.

실험 21은 황을 함유하지 않도록 처리된 메틸 메타크릴레이트 폴리머인 Elvacite 2009를 사용하여 실시했다. 이 재료의 분자량은 83,000였다. 최종 증착 속도 26Å/sec은 580℃에서 도달했다. 진공압은 초기 눈금 4.2×10-5torr로부터 1.8×10-4torr까지 상승했다.Experiment 21 was carried out using Elvacite 2009, a methyl methacrylate polymer treated to contain no sulfur. The molecular weight of this material was 83,000. The final deposition rate of 26 kV / sec was reached at 580 ° C. The vacuum pressure rose from the initial scale of 4.2x10 -5 torr to 1.8x10 -4 torr.

실험 22 및 실험 26은 메틸/n-부틸 메타크릴레이트 코폴리머의 처리품인 Elvacite 2697을 사용하여 실시했다. 이 재료의 분자량은 60,000였다. Elvacite 2697은 580℃의 온도에서 최종 증착 속도 20Å/sec를 가졌다. 진공압은 실험의 종료 시에 1.0×10-4torr까지 상승했다Experiment 22 and Experiment 26 were carried out using Elvacite 2697, a treated product of methyl / n-butyl methacrylate copolymer. The molecular weight of this material was 60,000. Elvacite 2697 had a final deposition rate of 20 kW / sec at a temperature of 580 ° C. Vacuum pressure rose to 1.0 x 10 -4 torr at the end of the experiment.

실험 23은 처리된 메틸 메타크릴레이트인 Elvacite 2021C를 사용하여 실시했다. 이 재료는 119,000의 분자량을 가졌다. 590℃에서 최종 증착 속도 30Å/sec에 도달했다. 이 실험은 초기 진공압보다 1자리 높은 크기인 4.4×10-4torr였으므로 진공에 대해 유의적 충격을 주었다.Experiment 23 was carried out using Elvacite 2021C, treated methyl methacrylate. This material had a molecular weight of 119,000. The final deposition rate of 30 kV / sec was reached at 590 ° C. This experiment had a significant impact on the vacuum because it was 4.4 × 10 −4 torr, one digit higher than the initial vacuum pressure.

실험 24는 폴리케톤일 Lawter K1717을 사용하여 실시했다. 최대 증착 속도 300Å/sec은 300℃에서 도달했다. 이 온도에서 진공압은 7.0×10-5torr까지 상승했다. 실험 종료 시에 다량의 검댕이 도가니에 잔존했다. 이것은 재료 중의 일부는 단순히 증발되지 않고 실제로 연소하였음을 나타내는 것이다.Experiment 24 was carried out using polyketoneyl Lawter K1717. The maximum deposition rate of 300 ms / sec was reached at 300 ° C. At this temperature, the vacuum pressure rose to 7.0 x 10 -5 torr. At the end of the experiment, a large amount of soot remained in the crucible. This indicates that some of the material did not simply evaporate but actually burned.

실험 25는 분산제인 Solsperse 24000을 사용하여 실시했다. 이 샘플도 도가니에 검댕 잔사를 남김으로써 실험 진행 중에 연소되었음을 나타냈다. 그러나 360℃에서 100Å/sec까지 증착 속도의 기록이 있었다. 진공압은 실험 과정 기간에 걸쳐 1.0×10-5torr 상승했다.Experiment 25 was performed using Solsperse 24000, a dispersant. This sample also burned during the experiment by leaving soot residue in the crucible. However, there was a record of deposition rate at 360 ° C. up to 100 μs / sec. Vacuum pressure rose 1.0 × 10 −5 torr over the course of the experiment.

실험 27은 비처리 메틸/n-부틸 메타크릴레이트 코폴리머인 Elvacite 2016을 사용하여 실시했다. 이것은 61,000의 분자량을 가진다. 630℃에서 증착 속도는 135Å/sec에 도달했다. 이 조건에서, 진공압은 3.0×10-4torr까지 현저히 상승했다.Experiment 27 was carried out using Elvacite 2016, an untreated methyl / n-butyl methacrylate copolymer. It has a molecular weight of 61,000. At 630 ° C., the deposition rate reached 135 kV / sec. Under this condition, the vacuum pressure rose significantly to 3.0 × 10 -4 torr.

실험 28은 분자량 50,000의 에틸 메틸아크릴레이트 폴리머인 Elvacite 2043을 사용하여 실시했다. 600℃에서 증착 속도는 98Å/sec였다. 이 조건에서, 진공압은 1.0×10-4torr였다.Experiment 28 was carried out using Elvacite 2043, an ethyl methyl acrylate polymer having a molecular weight of 50,000. The deposition rate at 600 ° C. was 98 kV / sec. Under this condition, the vacuum pressure was 1.0 × 10 -4 torr.

실험 29는 Kraton G1780을 사용하여 실시했다. 이 재료는 7% 스티렌 및 에틸렌/프로필렌의 멀티암(multiarm) 코폴리머이다. 증착 속도는 600℃의 온도에서 최고 70Å/sec까지 도달했다. 최종 진공압은 8.2×10-5torr까지 상승했다. 실험진행중에 증착 속도는 매우 일정하게 유지되었고, 특히 고온에서 다른 실험 모두에 공통적인 격렬한 변동을 나타내지 않았다.Experiment 29 was conducted using Kraton G1780. This material is a multiarm copolymer of 7% styrene and ethylene / propylene. The deposition rate reached up to 70 kW / sec at a temperature of 600 ° C. The final vacuum pressure rose to 8.2 × 10 −5 torr. During the experiment the deposition rate remained very constant, especially at high temperatures, showing no drastic fluctuations common to all other experiments.

실험 30은 Kraton G1701을 사용하여 실시했다. 이 재료는 37% 스티렌 및 에틸렌/프로필렌의 선형 디블록 폴리머(linear diblock polymer)이다. 최고 증착 속도 102Å/sec는 595℃의 온도에서 도달했다. 최종 조건에서의 진공압은 8.6×10-5torr였다.Experiment 30 was conducted using Kraton G1701. This material is a linear diblock polymer of 37% styrene and ethylene / propylene. The highest deposition rate of 102 kV / sec was reached at a temperature of 595 ° C. The vacuum pressure at the final conditions was 8.6 × 10 −5 torr.

실험 31은 Kraton G1702를 사용하여 실시했다. 이것은 28% 스티렌 및 에틸렌/프로필렌의 선형 디블록 폴리머이다. 580℃의 온도에서 최종 증착 속도 91Å/sec에 도달했다. 진공압은 이 조건에서 8.0×10-5torr까지 상승했다.Experiment 31 was conducted using Kraton G1702. This is a linear diblock polymer of 28% styrene and ethylene / propylene. The final deposition rate of 91 kPa / sec was reached at a temperature of 580 ° C. The vacuum pressure rose to 8.0x10 <-5> torr under this condition.

실험 32는 Kraton G1730M을 사용하여 실시했다. 이것은 22% 스티렌 및 에틸렌/프로필렌의 선형 디블록 폴리머이다. 613℃의 온도에서 최대 증착 속도 80Å/sec에 도달했다. 이 온도에서 진공압은 8.0×10-5torr였다.Experiment 32 was conducted using Kraton G1730M. This is a linear diblock polymer of 22% styrene and ethylene / propylene. The maximum deposition rate of 80 kV / sec was reached at a temperature of 613 ° C. The vacuum pressure at this temperature was 8.0 × 10 -5 torr.

실험 33은 우레탄 변성 케톤 알데히드 기재의 합성 수지인 1201 Creanova를 사용하여 실시했다. 이 재료는 535℃의 온도에서 382Å/sec의 증착 속도를 달성했다. 이 온도에서 진공에 대한 충격은 최소였다.Experiment 33 was performed using 1201 Creanova which is a synthetic resin based on urethane-modified ketone aldehyde. This material achieved a deposition rate of 382 kV / sec at a temperature of 535 ° C. The impact on vacuum at this temperature was minimal.

실험 34는 Kraton G1750M을 사용하여 실시했다. 이것은 8% 스티렌 및 에틸렌/프로필렌의 멀티암 코폴리머이다. 625℃의 온도에서 증착 속도 170Å/sec에 도달했다. 이 조건에서, 진공압은 9×10-5torr까지 상승했다.Experiment 34 was conducted using Kraton G1750M. It is a multiarm copolymer of 8% styrene and ethylene / propylene. The deposition rate 170 kPa / sec was reached at a temperature of 625 占 폚. Under this condition, the vacuum pressure rose to 9 × 10 -5 torr.

이들 실험으로부터 우리는 다음과 같은 결론에 도달했다. 이들 실험의 가장 큰 가치는 다양한 수지가 진공압에 미치는 영향을 정량화하였다는 것에 있다. 상기 실험들로부터, 진공 충격에 대한 분자량의 상호 관계가 있는 것으로 나타났다. 재료의 분자량이 낮을수록 시스템의 진공압에 대해 증발된 재료가 가지게 되는 충격이 적다. 온도와 증착 사이에는 상호 관계가 있는 것으로 나타나지 않는다.From these experiments we came to the following conclusions. The greatest value of these experiments lies in quantifying the effect of various resins on vacuum pressure. From the above experiments, it was found that there is a correlation of molecular weight against vacuum impact. The lower the molecular weight of the material, the less impact the evaporated material will have on the vacuum pressure of the system. There does not appear to be a correlation between temperature and deposition.

블록 구비한 드럼의 절차Procedure of block equipped drum

도 11 및 도 12를 참조하면, 진공화 가능한 체임버(112)는 회전 드럼(114), 증착 게이지(116) 및 히터 블록(118)을 수용한다. 히터 블록은 폴리머 소스(124)를 갖는 도가니(122)가 장착된 가열 폴리머 증기 체임버(120)를 포함한다. 드럼(114)의 직경은 약 1피트이고 표면 상에서의 폭은 6인치이다. 드럼은 최대 속도 2 rpm으로 회전할 수 있다. 히터 블록은 한 영역 내부로 도려낸 슬롯(126)을 구비한 원통 형상을 갖는다. 슬롯은 블록의 중심을 관통하는 캐비티(128) 내부로 개방되어 있다. 블록은 블록의 온도를 제어하는 데 사용될 수 있는 3개의 독립된 히터를 갖는다. 증착 게이지(116)는 슬롯의 전방 약 1인치에 배치되어, 슬롯을 통과하는 물질의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정할 수 있다. 이 실시예는 진공 체임버 내의 전자빔 총(130)을 도시하고 있지만, 이 절차에서 EB 총은 사용되지 않는다. 이 절차는 폴리머의 증착될 수 있는 능력을 판정하기 위해 폴리머를 스크리닝하는 데 이용할 수 있으며, 따라서 폴리머 릴리스 코트로서 사용 가능하다.Referring to FIGS. 11 and 12, the evacuable chamber 112 houses a rotating drum 114, a deposition gauge 116, and a heater block 118. The heater block includes a heated polymer vapor chamber 120 mounted with a crucible 122 having a polymer source 124. The diameter of the drum 114 is about 1 foot and the width on the surface is 6 inches. The drum can rotate at a maximum speed of 2 rpm. The heater block has a cylindrical shape with a slot 126 cut into an area. The slot is open into the cavity 128 penetrating the center of the block. The block has three independent heaters that can be used to control the temperature of the block. The deposition gauge 116 may be disposed about one inch in front of the slot to measure the amount of material passing through the slot in Angstroms per second (μs / sec). This embodiment shows an electron beam gun 130 in a vacuum chamber, but no EB gun is used in this procedure. This procedure can be used to screen polymers to determine their ability to be deposited, and thus can be used as a polymer release coat.

샘플을 제조하기 위해 히터 블록을 열 수 있고 재료가 캐비티 속에 로딩된다. 이 작업이 끝나면, 체임버는 닫히고 진공 사이클이 시작된다. 체임버는 압력이 최소한 6×10-5torr에 도달할 때까지 배기된다.The heater block can be opened to prepare a sample and the material is loaded into the cavity. When this is done, the chamber closes and the vacuum cycle begins. The chamber is evacuated until the pressure reaches at least 6 x 10 -5 torr.

블록은 실온 부근에서 시작한다. 원하는 진공에 도달하면, 3개의 히터에 대한 파워를 온(on) 시킨다. 히터를 20분 간격 내에 원하는 온도까지 가열되도록 설정한다. 측정치는 약 6초마다 컴퓨터 파일로 전송된다. 시간, 3개 구역에서의 블록 온도(℃), 증착 게이지 눈금(Å/sec) 및 현재의 진공 압력(torr)이 기록된다. 증착 게이지 결정이 깨지거나 재료 전부가 증발되어 증착 게이지 눈금이 제로로 떨어졌을 때 실험을 종료한다.The block starts near room temperature. Once the desired vacuum is reached, the power to the three heaters is turned on. The heater is set to heat to the desired temperature within 20 minute intervals. Measurements are sent to computer files approximately every six seconds. The time, the block temperature in three zones (° C.), the deposition gauge scale (sec / sec) and the current vacuum pressure (torr) are recorded. The experiment ends when the deposition gauge crystal is broken or all of the material has evaporated and the deposition gauge scale has dropped to zero.

실험의 종료 시점에 체임버를 대기 중에 개방한다. 증착 결정을 교체하고 다음 실험을 위해 블록에 새로운 재료를 장전한다.At the end of the experiment, the chamber is opened to the atmosphere. Replace the deposition crystals and load new material into the block for the next experiment.

폴리머 블록에서의 폴리스티렌 실험Polystyrene Experiments on Polymer Blocks

Dow 685D 폴리스티렌을 매 실험에 사용하여 6회의 별도 실험을 실시했다. 이 폴리스티렌의 분자량은 약 300,000이라고 보고되어 있다. 실험에서, 최고 블록 온도는 최종 온도에 도달하는 상승 시간과 함께 변동되었다.Dow 685D polystyrene was used in each experiment and six separate experiments were performed. It is reported that the molecular weight of this polystyrene is about 300,000. In the experiment, the highest block temperature varied with the rise time to reach the final temperature.

실험 1에서, 블록은 상승 시간 10분 내에 300℃에 도달하도록 프로그램되었다. 실험이 진행됨에 따라, 폴리머 증착 속도는 5Å/sec 이하로 매우 낮았다. 이 속도는 실험 기간 전체에 걸쳐 유지되었다.In Experiment 1, the blocks were programmed to reach 300 ° C. within 10 minutes of rise time. As the experiment progressed, the polymer deposition rate was very low, below 5 dB / sec. This rate was maintained throughout the experimental period.

제2 실험에서 블록은 상승 시간을 설정하지 않고 325℃의 최종 온도에 도달하도록 프로그램되었다. 제어기로 하여금 가능한 회대 속도로 온도를 상승시키도록 하였다. 온도에 도달했을 때 증착 속도는 약 30Å/sec 수준을 유지했다. 약간의 변동이 있었지만 이 속도는 실험 시작 후 15분까지 일정하게 유지되고, 이후 눈에 띠게 떨어지기 시작했다. 20분 경과된 실험 종료 시점에 이르러 증착 속도는 15Å/sec로 떨어졌다. 이러한 속도의 하락은 폴리머 공급의 고갈에 기인하는 것으로 생각된다.In the second experiment the block was programmed to reach a final temperature of 325 ° C. without setting the rise time. The controller was allowed to raise the temperature at the rate of rotation possible. When the temperature was reached, the deposition rate remained at about 30 kPa / sec. There was some variation, but this rate remained constant until 15 minutes after the start of the experiment, and then began to drop noticeably. At the end of the experiment, which lasted 20 minutes, the deposition rate dropped to 15 kW / sec. This slowdown is thought to be due to the depletion of the polymer supply.

제3 실험에서, 블록은 상승 시간 10분 내에 최고 온도 350℃에 도달하도록 프로그램되었다. 상기 온도에 도달했을 때 증착 속도는 약 6Å/sec였다. 실험이 진행됨에 따라 상기 속도는 실험 후 약 13분 경과 시 마침내 피크인 14Å/sec에 도달했다. 20분 경과된 실험 종료 시점에 이르러 증착 속도는 약 6Å/sec로 다시 떨어졌다. 폴리스티렌은 이론상 약 350℃에서 탈중합 반응(depolymerization)을 시작하는 것으로 되어 있다. 실험에서의 증착 속도는 온도가 이러한 탈중합뿐 아니라 증착 게이지에 의해 감지되는 증발을 일으키고 있기 때문에 더욱 낮았을 수도 있다.In a third experiment, the block was programmed to reach a maximum temperature of 350 ° C. within 10 minutes of rise time. The deposition rate was about 6 kV / sec when the temperature was reached. As the experiment progressed, the rate finally reached a peak of 14 dB / sec about 13 minutes after the experiment. At the end of the experiment, which elapsed 20 minutes, the deposition rate dropped back to about 6 kW / sec. Polystyrene is supposed to start depolymerization at theoretically about 350 ° C. The deposition rate in the experiments may have been lower because the temperature is causing not only this depolymerization but also the evaporation detected by the deposition gauge.

실험 4는 온도에 대한 상승 시간 없이 375℃로 설정되었다. 증착 속도는 약 10분 내에 30∼35Å/sec까지 상승했지만, 이 속도를 지속하지 못했다. 온도가 350℃를 초과하자 증착 속도는 현저히 상승하고 불규칙해졌다. 증착 속도는 규칙적인 패턴 없이 40 내지 120Å/sec로 변동되었다. 실험 시간 15분 경과 후, 증착 게이지 결정이 깨지고 실험은 중단되었다. 350℃ 이상에서 폴리머는 탈중합하기에 충분한 에너지를 흡수했으며, 그 시점 이후로 분자량이 매우 낮은 물질을 높은 속도로 발생하였다. 이 재료는 본래의 폴리스티렌의 모노머 및 다이머를 포함한다. 이저급 최종 재료는 폴리퍼 필름의 형성에 유용하지 않다.Experiment 4 was set to 375 ° C. without rise time for temperature. The deposition rate rose to 30 to 35 kW / sec in about 10 minutes, but this rate was not maintained. As the temperature exceeded 350 ° C., the deposition rate increased significantly and became irregular. The deposition rate varied from 40 to 120 kW / sec without a regular pattern. After 15 minutes of experiment time, the deposition gauge crystals were broken and the experiment was stopped. Above 350 ° C., the polymer absorbed enough energy to depolymerize, and since that time, very low molecular weight materials occurred at high rates. This material includes monomers and dimers of the original polystyrene. This lower end material is not useful for the formation of the poly film.

제5 실험에서의 최종 온도는 375℃였으나, 이 경우 상승 시간은 10분이었다. 증착은 처음에는 매우 일정하였지만, 다이 350℃ 이상에서 증착은 불규칙해졌다. 350℃에 도달할 때까지 증착은 약 20Å/sec의 속도로 안정적이었다. 그러나 온도가 350℃를 초과하면서 증착 속도는 다시 불규칙해졌다. 증착 속도는 30Å/sec 내지 140Å/sec 범위에서 변동되었으며, 이번에는 18분에 또 다시 결정 파괴로 인해 실험이 종료되었다.The final temperature in the fifth experiment was 375 ° C., but in this case the rise time was 10 minutes. Deposition was initially very constant, but deposition was irregular above die 350 ° C. The deposition was stable at a rate of about 20 kW / sec until reaching 350 ° C. However, as the temperature exceeded 350 ° C., the deposition rate became irregular again. The deposition rate varied from 30 kPa / sec to 140 kPa / sec, this time ending the experiment again at 18 minutes due to crystal fracture.

최종 실험에서의 최종 온도는 375℃였으나, 이 경우 상승 시간은 20분이었다. 전술한 두 실험과 동일하게 수행하였다. 350℃에 도달할 때까지 증착은 약 20Å/sec의 속도로 안정적이었다. 그러나 온도가 350℃를 초과하면서 증착 속도는 다시 불규칙해졌다. 증착 속도는 30Å/sec 내지 140Å/sec 범위에서 변동되었으며, 이번에는 23분에 또 다시 결정 파괴로 인해 실험이 종료되었다.The final temperature in the final experiment was 375 ° C., but in this case the rise time was 20 minutes. The same was done with the two experiments described above. The deposition was stable at a rate of about 20 kW / sec until reaching 350 ° C. However, as the temperature exceeded 350 ° C., the deposition rate became irregular again. The deposition rate varied from 30 kPa / sec to 140 kPa / sec, and this time the experiment was over again at 23 minutes due to crystal fracture.

이러한 실험으로부터 우리는 다음과 같은 결론에 도달했다. 이들 실험에서 폴리스티렌이 약 350℃의 온도에서 탈중합 또는 다른 물리적 분해를 나타내는 것은 사실인 것으로 보인다. 상기 온도 이상의 실험에서, 불규칙한 현상은 세 가지 경우 모두에서 대략 동일한 온도에서 나타났다. 상기 실험 시 350℃에서, 증착 속도는 더 낮은 325℃ 셋포인트에서 더 높은 속도가 나타났기 때문에 또 다른 프로세스가 일어났음을 나타냈다. 탈중합 또는 다른 프로세스가 일어나지 않는 한, 350℃에서의 증착 속도는 325℃에서의 속도보다 높았을 것이다. 또한, 375℃에서의 실험에 있어서, 실험 종료 시에 오일형 필름이 관찰되었다. 이 재료는 FTIR 분석 결과 폴리스티렌인 것으로 나타났으며, 오일형 특성은 그것이 아마도 폴리스티렌의 저분자량 물질인 것을 나타낸다. 이것은 본래의 폴리머(분자량 300,000)가 탈중합되었다는 또 하나의 증거이다. 350℃에서의 실험은 약간 점착성이 있는 잔사를 남겼지만 그것은 375℃ 실험에서 나온 잔사와 같은 오일형은 아니었다. 300℃ 및 325℃에서 실행된 실험은 점착성 또는 오일이 나타나지 않는 고형 필름을 남겼다. 이러한 일련의 실험으로부터 약 300℃ 이상 약 350℃ 미만의 범위, 더욱 바람직하게는 325℃가 폴리머 증착을 실시할 온도인 것으로 보인다. 바람직한 온도는 폴리머 분해가 증대되지 않는 충분히 낮은 온도이다. 그러한 온도는 또한 프로세스를 통해 안정하게 유지되는 높은 증착 속도를 제공한다.From these experiments we came to the following conclusions. It appears that in these experiments polystyrene exhibits depolymerization or other physical degradation at temperatures of about 350 ° C. In experiments above this temperature, irregularities appeared at approximately the same temperature in all three cases. At 350 ° C. in the experiment, the deposition rate indicated that another process occurred because a higher rate appeared at the lower 325 ° C. setpoint. Unless depolymerization or other processes took place, the deposition rate at 350 ° C. would have been higher than the rate at 325 ° C. In addition, in the experiment at 375 degreeC, the oil-type film was observed at the end of an experiment. This material was found to be polystyrene by FTIR analysis, and the oily properties indicate that it is probably a low molecular weight material of polystyrene. This is another proof that the original polymer (molecular weight 300,000) was depolymerized. The experiment at 350 ° C. left a slightly sticky residue but it was not the same oil type as the residue from the 375 ° C. experiment. Experiments run at 300 ° C. and 325 ° C. left a solid film that was not tacky or oily. From this series of experiments it appears that the range of about 300 ° C. to less than about 350 ° C., more preferably 325 ° C., is the temperature at which the polymer deposition is to be performed. Preferred temperatures are sufficiently low that polymer degradation does not increase. Such temperatures also provide high deposition rates that remain stable throughout the process.

블록 구비한 드럼 및 E-빔(블록 도가니 내)Block-equipped drums and E-beams (in block crucibles)

이 실시예에서는 도 11 및 도 12에 예시한 진공 체임버(112), 히터 블록(118) 및 회전 드럼(114)이 전자빔 총(130)과 함께 사용된다.In this embodiment, the vacuum chamber 112, the heater block 118, and the rotating drum 114 illustrated in FIGS. 11 and 12 are used together with the electron beam gun 130.

재료를 첨가하려면 히터 블록이 개방될 수 있고 재료는 캐비티(128) 속에 로딩된다. 드럼은 PET 필름으로 덮여 있다. E-빔 총은 산업적으로 사용되는 일반적인 것이다. 그것은 회전 플레이트 상에 4개의 구리 노상을 구비한다. 한 번에 하나의 노상을 E-빔 총에 일치하여 위치시킨다. 증발시키고자 하는 재료를 직접 노상 내에 배치하거나 적절한 터릿 위치에 배치되는 적절한 도가니 내에 배치된다. 도가니 상부 드럼 표면 근방에 제2 증착 게이지(도시되지 않음)가 위치한다. 증착 게이지는 도가니로부터 증발되는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정할 수 있다. 이것이 행해지면 체임버는 닫히고 진공 사이클이 시작된다. 체임버는 압력이 최소한 6×10-5torr에 도달할 때까지 배기된다.The heater block can be opened to add material and the material is loaded into the cavity 128. The drum is covered with PET film. E-beam guns are a common one used industrially. It has four copper hearths on a rotating plate. One hearth is placed in line with the E-beam gun at a time. The material to be evaporated is placed directly in the hearth or in a suitable crucible placed in the appropriate turret position. A second deposition gauge (not shown) is located near the crucible upper drum surface. The deposition gauge can measure the amount of material evaporated from the crucible in angstroms per second (Å / sec). When this is done, the chamber closes and the vacuum cycle begins. The chamber is evacuated until the pressure reaches at least 6 x 10 -5 torr.

원하는 진공이 얻어지면, 3개의 히터로 공급될 파워를 온(on) 시킨다. 히터는 20분 간격 내에 원하는 온도로 상승하도록 설정된다. 측정값은 약 6초마다 컴퓨터 파일에 전송된다. 시간, 세 구역에서의 블록 온도(℃), 증착 게이지 눈금(Å/sec) 및 현재의 진공 압력(torr)이 기록된다. 파워는 E-빔 장치에 공급된다. 전자총에 공급되는 파워를 0.1% 증분(increment)으로 증가시킬 수 있다. 파워는 증발 직전 시점까지 증가되고 침지(soak) 또는 조절(condition)이 허용된다. 침지 후, 파워는 원하는 증착 속도가 얻어질 때가지 증가되고 이어서 폴리머의 증착이 시작되면 셔터가 열린다. 드럼의 회전이 시작된다. 증착 게이지 결정이 깨지거나, 모든 재료가 증발되어 증착 게이지 눈금이 제로로 떨어지면 실험이 종료된다. 실험의 종료 시에 E-빔 셔터가 닫히고 드럼 회전이 정지되며, 파워의 접속은 E-빔으로부터 해지되고 블록 히터는 오프(off)된다. 냉각 기간이 경과된 후 체임버는 대기 중에 개방된다. 코팅된 재료는 제거된다.Once the desired vacuum is obtained, the power to be supplied to the three heaters is turned on. The heater is set to rise to the desired temperature within 20 minute intervals. Measurements are sent to a computer file approximately every six seconds. The time, the block temperature in three zones (° C.), the deposition gauge scale (sec / sec) and the current vacuum pressure (torr) are recorded. Power is supplied to the E-beam apparatus. The power supplied to the electron gun can be increased in 0.1% increments. Power is increased to the point just before evaporation and soak or condition is allowed. After immersion, the power is increased until the desired deposition rate is obtained and then the shutter is opened when deposition of the polymer begins. The drum starts to rotate. The experiment ends when the deposition gauge crystal is broken, or all material is evaporated and the deposition gauge scale drops to zero. At the end of the experiment the E-beam shutter closes and drum rotation stops, the connection of power is released from the E-beam and the block heater is turned off. After the cooling period has elapsed the chamber is opened to the atmosphere. The coated material is removed.

E-빔에서의 플레이크 재료 가동Flake Material Operation in E-Beams

E-빔 금속화 장치에서 다음 재료를 증착하여 플레이크 재료로 만들었다. 상기 재료들을 하기와 같이 현미경 촬영하고, 그 사진을 첨부 부록에 도시하였다.The following materials were deposited in an E-beam metallization apparatus to make flake material. The materials were micrographed as follows and the photograph is shown in the appendix.

금속metal 증착 속도(Å/sec)Deposition Rate (Å / sec) 파워Power 목표 두께(Å)Target thickness 의견Opinion 인듐 금속Indium metal 8080 10.6%10.6% 475475 은과 같은 외관Silvery appearance 플루오르화마그네슘Magnesium fluoride 8080 7.9%7.9% 475475 매우 청징한 필름Ultra clear film 일산화규소Silicon monoxide 8080 8.6%8.6% 475475 갈색, 투명 필름Brown, transparent film 이산화티탄Titanium dioxide 2525 10.4%10.4% ∼400-400 청징하고 무지개 빛 필름Clarity and iridescent film 산화아연Zinc oxide 3030 10.9%10.9% ∼200~ 200 검은 잔사가 산재함Black residue scattered 산화알루미늄Aluminum oxide 6060 10.8%10.8% 350350 청징하고 약간 무지개 빛Clarified and slightly iridescent 산화인듐Indium oxide 6060 10.1%10.1% 350350 은과 같은 필름Silver-like film 산화인듐주석Indium tin oxide 6060 10.3%10.3% 350350 은과 같은 필름Silver-like film 크롬 금속Chrome metal 6060 14.0%14.0% 350350 크롬 착색Chrome coloring SiO/Al/SiO의 샌드위치SiO / Al / SiO Sandwich 실리콘 금속Silicon metal 6060 12.2%12.2% 350350 은과 같은 필름Silver-like film Phelly 재료구리 금속Phelly material copper metal 6060 9.8%9.8% 350350 구리 착색 필름Copper coloring film 구리Copper (플레이크 1병을 얻을만큼만 가동)(Only enough to get a bottle of flake) 구리 착색 플레이크Copper tinted flakes

상기 표로부터의 실시예:Examples from the table above:

추가 실시예 1Additional Example 1

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 인듐으로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 인듐을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼(stripper)를 통과시켰다. 이어서, 인듐 및 아세톤 용액을 따라 내고(decanted) 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다. 이하에 보고되는 입자 크기는 하기 규정에 따른다: D10: 측정된 입자의10%가 보고된 직경 이하이다; D50: 측정된 입자의 50%가 보고된 직경 이하이다; D90: 측정된 입자의 90%가 보고된 직경 이하이다. 플레이크의 마무리 입자 크기는 D10=3.3, D50=13.2, D90=31.2.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metalized with indium in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate indium from the polyester. The indium and acetone solutions were then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using the Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes. The particle sizes reported below are in accordance with the following rules: D10: 10% of the measured particles are below the reported diameter; D50: 50% of the measured particles are below the reported diameter; D90: 90% of the measured particles are below the reported diameter. The finish particle size of the flakes was D10 = 3.3, D50 = 13.2, D90 = 31.2.

부록의 p1에 예시된 사진:Photo exemplified in p1 of the appendix:

30" 균질화된 인듐30 "homogenized indium

30" 균질화된 입자 크기(단위 ㎛): D10=8.21, D50=26.68, D90=65.18.30 "homogenized particle size (unit μm): D10 = 8.21, D50 = 26.68, D90 = 65.18.

6분 30초 균질화됨6 minutes 30 seconds homogenized

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=3.33, D50=13.21, D90=31.32.Finish Particle Size (μm): D10 = 3.33, D50 = 13.21, D90 = 31.32.

추가 실시예 2Additional Example 2

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 TiO2로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 TiO2를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시키고, 이어서 TiO2및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with TiO 2 in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate TiO 2 from polyester, followed by pouring out TiO 2 and acetone solution and centrifuging to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p2에 예시된 사진:Photo exemplified in p2 of the appendix:

266입자 사이징 전 "현재 상태"의 TiO2 266 TiO 2 in "current state" prior to particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=16.20, D50=44.17, D90=104.64Particle Size (Unit μm): D10 = 16.20, D50 = 44.17, D90 = 104.64

15분 균질화됨15 minutes homogenized

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=7.83, D50=16.37, D90=28.41.Finish particle size (unit μm): D10 = 7.83, D50 = 16.37, D90 = 28.41.

추가 실시예 3 및 4Additional Examples 3 and 4

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 MgF2로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 MgF2를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 MgF2및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with MgF 2 in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate MgF 2 from polyester. The MgF 2 and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p3 및 p4에 예시된 사진:Photos exemplified in p3 and p4 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 MgF2 MgF 2 taken “as is” before particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=16.58, D50=150.34, D90=398.17Grain Size (Unit μm): D10 = 16.58, D50 = 150.34, D90 = 398.17

11분 균질화됨.11 minutes homogenized.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=0.43, D50=16.95, D90=45.92.Finish grain size (unit μm): D10 = 0.43, D50 = 16.95, D90 = 45.92.

추가 실시예 5 및 6Additional Examples 5 and 6

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 SiO로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 SiO를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 SiO 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with SiO in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate SiO from the polyester. The SiO and acetone solutions were then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p5 및 p6에 예시된 사진:Photos exemplified in p5 and p6 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 SiOSiO filmed "as is" before particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=17.081, D50=67.80, D90=188.31Grain Size (Unit μm): D10 = 17.081, D50 = 67.80, D90 = 188.31

17분 균질화됨.17 minutes homogenized.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=5.75, D50=20.36, D90=55.82.Finish grain size (unit μm): D10 = 5.75, D50 = 20.36, D90 = 55.82.

추가 실시예 7, 8 및 9Additional Examples 7, 8 and 9

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 ZnO로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 ZnO를 분리하기 위해 아세톤을사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 ZnO 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metalized with ZnO in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate ZnO from the polyester. The ZnO and acetone solutions were then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p7, p8 및 p9에 예시된 사진:Photos exemplified in p7, p8 and p9 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 ZnOZnO taken “as is” before particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=23.58, D50=63.32, D90=141.59Particle size (unit μm): D10 = 23.58, D50 = 63.32, D90 = 141.59

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=7.69, D50=18.96, D90=38.97.Finish particle size (unit μm): D10 = 7.69, D50 = 18.96, D90 = 38.97.

추가 실시예 10, 11 및 12Additional Examples 10, 11, and 12

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 Al2O3로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 Al2O3를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 Al2O3및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with Al 2 O 3 in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate Al 2 O 3 from polyester. The Al 2 O 3 and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p13 및 p14에 예시된 사진:Photos exemplified in p13 and p14 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 Al2O3.Al 2 O 3 taken “as is” before particle sizing.

입자 크기(단위 ㎛): D10=6.37, D50=38.75, D90=99.94Particle size (unit μm): D10 = 6.37, D50 = 38.75, D90 = 99.94

9분 균질화됨.Homogenized for 9 minutes.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=1.98, D50=16.31, D90=39.77.Finish particle size (unit μm): D10 = 1.98, D50 = 16.31, D90 = 39.77.

추가 실시예 13 및 14Additional Examples 13 and 14

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 In2O3로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 In2O3를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 In2O3및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with In 2 O 3 in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate In 2 O 3 from polyester. The In 2 O 3 and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p13 및 p14에 예시된 사진:Photos exemplified in p13 and p14 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 In2O3.In 2 O 3 taken “as is” before particle sizing.

입자 크기(단위 ㎛): D10=18.88, D50=50.00, D90=98.39Particle Size (μm): D10 = 18.88, D50 = 50.00, D90 = 98.39

3분 균질화됨.Homogenized for 3 minutes.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=8.89, D50=20.22, D90=38.92Finish grain size (unit μm): D10 = 8.89, D50 = 20.22, D90 = 38.92

사용된 상대 굴절률: 2.64-2.88Relative Refractive Index Used: 2.64-2.88

추가 실시예 15, 16 및 17Additional Examples 15, 16, and 17

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 산화인듐주석(ITO)으로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 ITO를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 ITO 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metalized with indium tin oxide (ITO) in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate ITO from polyester. The ITO and acetone solutions were then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p15, p16 및 p17에 예시된 사진:Photos exemplified in p15, p16 and p17 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 ITO.ITO taken “as is” before particle sizing.

입자 크기(단위 ㎛): D10=21.70, D50=57.00, D90=106.20Particle Size (μm): D10 = 21.70, D50 = 57.00, D90 = 106.20

6분 균질화됨.Homogenized for 6 minutes.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=10.40, D50=20.69, D90=36.32.Finish Particle Size (μm): D10 = 10.40, D50 = 20.69, D90 = 36.32.

추가 실시예 18, 19, 20 및 21Additional Examples 18, 19, 20, and 21

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 Si로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 Si를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 Si 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with Si in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate Si from the polyester. The Si and acetone solutions were then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p18, p19, p20 및 p21에 예시된 사진:Photos illustrated at p18, p19, p20 and p21 in the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 Si.Si taken in "At Current State" before particle sizing.

입자 크기(단위 ㎛): D10=20.20, D50=57.37, D90=140.61Grain Size (Unit μm): D10 = 20.20, D50 = 57.37, D90 = 140.61

20분 균질화됨.Homogenized for 20 minutes.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=11.9, D50=27.0, D90=55.5.Finish grain size (unit μm): D10 = 11.9, D50 = 27.0, D90 = 55.5.

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 SiO,Al,SiO의 샌드위치로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 상기 샌드위치를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 SiO,Al,SiO 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다.얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metallized with a sandwich of SiO, Al, SiO in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate the sandwich from the polyester. The SiO, Al, SiO and acetone solutions were then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied onto slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer from Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p22 및 p23에 예시된 사진:Photos exemplified in p22 and p23 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 SiO Al SiO 샌드위치SiO Al SiO Sandwich taken “as is” before particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=29.7, D50=77.6, D90=270.2Particle Size (μm): D10 = 29.7, D50 = 77.6, D90 = 270.2

추가 실시예 24 및 25Additional Examples 24 and 25

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 크롬으로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 크롬을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 크롬 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metalized with chromium in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate chromium from polyester. The chromium and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p24 및 p25에 예시된 사진:Photos exemplified in p24 and p25 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 크롬Chrome taken "as is" before particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=13.1, D50=8.9, D90=59.8Particle size (unit μm): D10 = 13.1, D50 = 8.9, D90 = 59.8

3분 균질화됨.Homogenized for 3 minutes.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=9.82, D50=19.81, D90=37.55Finish grain size (unit μm): D10 = 9.82, D50 = 19.81, D90 = 37.55

추가 실시예 26Additional Example 26

다음과 같은 구조제를 제조했다: 열가소성 릴리스 코트로 인쇄된 48 게이지 폴리에스테르 1롤을 Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 미국 뉴저지주 에머슨 소재 Phelly Materials사제 M-401 구리, 아연, 은 합금으로 금속화했다. 상기 롤을 금속화 장치로부터 꺼내어 폴리에스테르로부터 상기 합금을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 스트리퍼를 통과시켰다. 이어서 상기 합금 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액 중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 균질화 전후의 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.The following structural agents were prepared: One roll of 48 gauge polyester printed with a thermoplastic release coat was metalized with a M-401 copper, zinc and silver alloy from Phelly Materials, Emerson, NJ, in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The roll was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory stripper using acetone to separate the alloy from polyester. The alloy and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using a Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes before and after homogenization.

부록의 p26에 예시된 사진:Photo exemplified in p26 of the appendix:

입자 사이징 전 "현재 상태"로 촬영된 합금Alloy taken "as is" before particle sizing

입자 크기(단위 ㎛): D10=69.6, D50=161.2, D90=313.4Particle Size (μm): D10 = 69.6, D50 = 161.2, D90 = 313.4

20분 균질화됨.Homogenized for 20 minutes.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=13.32, D50=27.77, D90=51.28Finish grain size (unit μm): D10 = 13.32, D50 = 27.77, D90 = 51.28

도 13 및 도 14는 다음에 보다 구체적으로 설명하는 와이어 공급메커니즘(136)에 의해 폴리머가 체임버에 전달되는 것을 제외하고 도 11 및 도 12와 유사한 진공 체임버, 회전 드럼 및 폴리머 증기 체임버를 나타낸다. 이 실시예에서, 히터 블록은 가열된 슬롯 영역 내부로 코팅된 와이어(143)의 통과를 허용하는 양단에 작은 구멍을 갖는다. 코팅된 와이어는 스풀(164)로부터 풀려 블록을 통해 소정의 속도로 진행하며, 블록에서 폴리머는 슬롯 영역 내부로 증발되고 나면 사용된 와이어는 제2 스풀(166)에 되감긴다. 슬롯은 블록의 중심을 관통하는 캐비티 내부로 개방되어 있다. 이 실시예에서, 히터 블록 및 드럼 주위의 영역은 와이어 상에 코팅된 폴리머가 응축하는 상기 영역을 선택적으로 냉각하도록 펌핑된다. 이로써 증기가 체임버의 E-빔 영역 방향으로 누설되는 것이 방지된다.13 and 14 show a vacuum chamber, a rotating drum, and a polymer vapor chamber similar to those of FIGS. 11 and 12 except that the polymer is transferred to the chamber by a wire feeding mechanism 136, which will be described in more detail below. In this embodiment, the heater block has small holes at both ends that allow passage of the coated wire 143 into the heated slot area. The coated wire is released from the spool 164 and proceeds through the block at a predetermined rate, where the polymer is evaporated into the slot area and the used wire is rewound to the second spool 166. The slot is open into the cavity through the center of the block. In this embodiment, the area around the heater block and drum is pumped to selectively cool the area where the polymer coated on the wire condenses. This prevents vapor from leaking in the direction of the E-beam region of the chamber.

추가 실시예 27Additional Example 27

예: 폴리머 블록을 구비한 드럼 및 E-빔(와이어 공급):Example: Drum with polymer block and E-beam (wire feed):

릴리스 재료 Styron 지지체 재료 알루미늄공급처 Dow 공급처 Mat.Research Corp.No. 685D No. 90101E-AL000-30002PVD 조건:E-빔 릴리스 지지체 드럼 회전수 와이어 코트 와이어파워 두께 두께 속도 크기 중량 속도15% 200Å 150Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./직경 g/in.Release Material Styron Support Material Aluminum Source Dow Source Mat.Research Corp.No. 685D No. 90101E-AL000-30002PVD Condition: E-beam release support Drum revolutions Wire coat Wirepower Thickness Thickness Speed Size Weight Speed 15% 200Å 150Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./diameter g / in.

위에 제시한 조건 하에 다음과 같은 구조제를 제조했다: 제거하기에 용이하도록 드럼에 감은 48 게이지 폴리에스테르를 스티렌으로 폴리머 릴리스 코팅하고, Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 알루미늄으로 금속화했다. 상기 폴리에스테르 필름을 금속화 장치로부터 꺼내어, 릴리스층 및 폴리에스테르 필름으로부터 알루미늄을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 릴리스 장치를 통과시켰다. 이어서 알루미늄 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다.Under the conditions set forth above, the following structural agents were prepared: 48 gauge polyester wound on drums for easy removal, polymer release coated with styrene and metalized with aluminum in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The polyester film was removed from the metallization device and passed through a laboratory release device using acetone to separate aluminum from the release layer and the polyester film. The aluminum and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using the Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes.

부록의 p27에 예시된 사진:Photo exemplified in p27 of the appendix:

시작할 때의 입자 크기Particle Size at Startup

D10=13.86, D50=34.65, D90=75.45D10 = 13.86, D50 = 34.65, D90 = 75.45

균질화됨.Homogenized.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=5.10, D50=13.19, D90=25.80Finish Particle Size (μm): D10 = 5.10, D50 = 13.19, D90 = 25.80

추가 실시예 28Additional Example 28

예: 폴리머 블록을 구비한 드럼 및 E-빔(와이어 공급):Example: Drum with polymer block and E-beam (wire feed):

릴리스 재료 Styron 지지체 재료 이산화규소공급처 Dow 공급처 CeracNo. 685D No. S-1060PVD 조건:E-빔 릴리스 지지체 드럼 회전수 와이어 코트 와이어파워 두께 두께 속도 크기 중량 속도8% 200Å 200Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./직경 g/in.Release Material Styron Support Material Silicon Dioxide Source Dow Source CeracNo. 685D No. S-1060PVD Condition: E-beam release support Drum Rotation Wire Coat Wire Power Thickness Thickness Speed Size Weight Speed 8% 200Å 200Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./diameter g / in.

위에 제시한 조건 하에 다음과 같은 구조제를 제조했다: 제거하기에 용이하도록 드럼에 감은 48 게이지 폴리에스테르를 스티렌으로 폴리머 릴리스 코팅하고, Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 일산화규소로 금속화했다. 상기 폴리에스테르 필름을 금속화 장치로부터 꺼내어, 릴리스층 및 폴리에스테르 필름으로부터 일산화규소를 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 릴리스 장치를 통과시켰다. 이어서 일산화규소 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다.Under the conditions set forth above, the following structural agents were prepared: 48 gauge polyester wound on drums for easy removal, polymer release coated with styrene and metallized with silicon monoxide in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The polyester film was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory release apparatus using acetone to separate silicon monoxide from the release layer and the polyester film. The silicon monoxide and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics.

상기 플레이크를 부록 p28의 사진에 도시한다.The flakes are shown in the photograph in Appendix p28.

추가 실시예 29Additional Example 29

예: 폴리머 블록을 구비한 드럼 및 E-빔(와이어 공급):Example: Drum with polymer block and E-beam (wire feed):

릴리스 재료 Styron 지지체 재료 플루오르화마그네슘공급처 Dow 공급처 CeracNo. 685D No. M-2010PVD 조건:E-빔 릴리스 지지체 드럼 회전수 와이어 코트 와이어파워 두께 두께 속도 크기 중량 속도7.5% 200Å 200Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./직경 g/in.Release Material Styron Support Material Magnesium Fluoride From Dow From CeracNo. 685D No. M-2010PVD Condition: E-Beam Release Support Drum Speed Wire Coat Wire Power Thickness Thickness Speed Size Weight Speed 7.5% 200Å 200Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./diameter g / in.

위에 제시한 조건 하에 다음과 같은 구조제를 제조했다: 제거하기에 용이하도록 드럼에 감은 48 게이지 폴리에스테르를 스티렌으로 폴리머 릴리스 코팅하고, Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 플루오르화마그네슘으로 금속화했다. 상기 폴리에스테르 필름을 금속화 장치로부터 꺼내어, 릴리스층 및 폴리에스테르 필름으로부터 플루오르화마그네슘을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 릴리스 장치를통과시켰다.Under the conditions set forth above, the following structural agents were prepared: 48 gauge polyester wound on drums for easy removal, polymer release coated with styrene and metallized with magnesium fluoride in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The polyester film was removed from the metallization apparatus and passed through a laboratory release apparatus using acetone to separate the magnesium fluoride from the release layer and the polyester film.

이어서 일산화규소 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다.The silicon monoxide and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics.

상기 플레이크를 부록 p29의 사진에 도시한다.The flakes are shown in the photograph in Appendix p29.

증기관을 구비한 드럼 및 E-빔Drum with steam line and E-beam

(와이어 공급)(Wire supply)

도 15, 도 16, 도 15a 및 도 16a는 회전 드럼, 증착 게이지, 폴리머 코팅된 와이어 공급 시스템을 구비한 폴리머 증기관 및 전자빔(E-빔) 총을 포함하는 진공 체임버에 코팅된 폴리머를 전달하기 위한 와이어 공급 메커니즘의 두 가지 별도의 실시예를 나타낸다. 드럼은 앞서 설명한 바와 같다. 증기관은 진공 갭에 의해 분리된 수냉 튜브로 둘러싸인 가열된 폴리머 증기의 경로(path)를 구비한다. 튜브 내의 슬롯은 증발된 폴리머가 통과하여 드럼 표면에 도달하도록 허용한다. 증기관은 증기가 체임버의 E-빔 영역으로 누설되는 것을 방지하기 위해 히터 블록에 인접한 차분 압력 영역을 생성한다. 도 15a 및 16a에 도시한 실시예에서, 와이어 공급 하우징은 와이어 공급 스풀 및 권취(take-up) 스풀을 수용한다. 와이어가 풀리고 폴리머로 코팅되어 히터 블록 주위로 지나간다. 코팅된 와이어로부터 폴리머가 증발되어 드럼 표면으로 이송된다. 도 16a의 끝면도는 슬롯이 드럼에 대면한 외측 튜브를 나타낸다. 외측 튜브는 냉각되고 내부의 증기관은 가열된다. 이 도면은 또한 와이어 랩(wrap)을 구비한 히터 블록을 나타낸다. 와이어는 증기관 속으로들어가서 가열된 튜브를 돌아 권취 스풀 쪽으로 되돌아 나온다.Figures 15, 16, 15A and 16A illustrate the delivery of a coated polymer to a vacuum chamber comprising a rotating drum, a deposition gauge, a polymer vapor tube with a polymer coated wire supply system and an electron beam (E-beam) gun. Two separate embodiments of the wire feed mechanism are shown. The drum is as described above. The steam tube has a path of heated polymer vapor surrounded by a water cooled tube separated by a vacuum gap. Slots in the tube allow the evaporated polymer to pass through and reach the drum surface. The steam tube creates a differential pressure region adjacent the heater block to prevent steam from leaking into the E-beam region of the chamber. In the embodiment shown in FIGS. 15A and 16A, the wire feed housing houses the wire feed spool and take-up spool. The wire is unwound and coated with polymer and passed around the heater block. The polymer is evaporated from the coated wire and transferred to the drum surface. 16A shows the outer tube with the slot facing the drum. The outer tube is cooled and the inner steam tube is heated. This figure also shows a heater block with a wire wrap. The wire enters the steam tube and turns the heated tube back into the winding spool.

도 15 및 16의 실시예에 나타낸 진공 체임버(132) 및 히터 블록(134)은 릴리스층용 폴리머가 코팅된 와이어 공급 장치(136)를 거쳐 진공 체임버 속으로 공급되는 것을 제외하고는 앞서 설명한 것과 유사하다. 진공 체임버는 회전 드럼(128), 증착 게이지(140) 및 전자빔(E-빔) 총(142)을 포함한다. 앞에서 언급한 바와 같이, 드럼은 약 1피트의 직경 및 6인치의 표면 상 폭을 갖는다. 드럼은 최고 속도 2rpm으로 회전할 수 있다. 히터 블록(134)은 한 쪽 영역에 패어진 슬롯(145)을 구비한 원통 형상인 가열된 폴리머 증기 체임버(144)를 포함한다. 가열된 내측 튜브는 도면 부호 146에 도시되어 있다. 와이어 공급 장치(136)는 폴리머로 코팅된 다음 히터 블록 내부로 공급되는 와이어(148)를 수용하는 긴 하우징(147)을 포함한다. 와이어는 가열된 슈(shoe)(149) 주위에 감긴다. 와이어 공급 장치는 또한 터보 펌프(150), 이온 게이지(ion gauge) 및 열전대(thermocouple) 게이지(154)를 포함한다. 코팅된 와이어는 스풀(156)로부터 풀려 소정의 속도로 히터 블록을 통과하여 진행되며, 히터 블록에서 폴리머가 증발되어 슬롯 영역(158) 속으로 들어 가고 이어서 사용이 끝난 와이어는 제2 스풀(160)에 되감긴다. 슬롯은 히터 블록 중심을 관통하는 캐비티 내부로 개방되어 있다. 펌프는 증기화된 폴리머를 드럼 표면에 전달하는 것을 보조한다. 히터 블록은 블록의 온도를 제어하는 데 이용될 수 있는 3개의 독립된 히터를 가진다. 증착 게이지(140)는 슬롯 전방 약 1인치에 배치된다. 증착 게이지는 슬롯을 통하여 지나가는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec)을 단위로 하여 측정할 수 있다.The vacuum chamber 132 and heater block 134 shown in the embodiments of FIGS. 15 and 16 are similar to those described above except that the polymer for the release layer is fed into the vacuum chamber via a wire supply device 136 coated. . The vacuum chamber includes a rotating drum 128, a deposition gauge 140, and an electron beam (E-beam) gun 142. As mentioned earlier, the drum has a diameter of about 1 foot and a width on the surface of 6 inches. The drum can rotate at a maximum speed of 2 rpm. The heater block 134 includes a heated polymer vapor chamber 144 that is cylindrical in shape with a slot 145 recessed in one region. The heated inner tube is shown at 146. The wire supply device 136 includes an elongated housing 147 for receiving a wire 148 coated with a polymer and then supplied into the heater block. The wire is wound around a heated shoe 149. The wire feeder also includes a turbo pump 150, an ion gauge and a thermocouple gauge 154. The coated wire is released from the spool 156 and passes through the heater block at a predetermined speed, in which the polymer evaporates and enters the slot area 158 where the used wire is then used as the second spool 160. Rewind to The slot is open into the cavity through the center of the heater block. The pump assists in delivering the vaporized polymer to the drum surface. The heater block has three independent heaters that can be used to control the temperature of the block. The deposition gauge 140 is disposed about 1 inch in front of the slot. The deposition gauge can measure the amount of material passing through the slot in Angstroms per second (cc / sec).

사용 시, 드럼은 PET 필름으로 덮여 있다. 와이어 공급 메커니즘 및 히터 블록은 캐리어 상에 폴리머계 릴리스 재료의 층을 코팅하고, 이어서 E-빔 총을 작동시켜 상기 릴리스 코트 상에 금속 또는 다른 재료의 층을 코팅하는 등의 용도로 사용된다. E-빔 총(142)은 산업적으로 사용되는 일반적인 것이다. 그것은 회전 플레이트 상에 4개의 구리 노상을 구비한다. 한 번에 하나의 노상을 E-빔 총에 일치하여 위치시킨다. 증발시키고자 하는 재료를 직접 노상 내에 배치하거나 적절한 터릿 위치에 배치되는 적절한 도가니 라이너(liner) 내에 배치된다. 도가니 상부 드럼 표면 근방에 제2 증착 게이지(도시되지 않음)가 위치한다. 증착 게이지는 도가니로부터 증발되는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정할 수 있다. 이것이 행해지면 체임버는 닫히고 진공 사이클이 시작된다. 체임버는 압력이 최소한 6×10-5torr에 도달할 때까지 배기된다.In use, the drum is covered with PET film. Wire supply mechanisms and heater blocks are used for coating a layer of polymeric release material on a carrier, and then operating an E-beam gun to coat a layer of metal or other material on the release coat, and the like. E-beam gun 142 is a common one used industrially. It has four copper hearths on a rotating plate. One hearth is placed in line with the E-beam gun at a time. The material to be evaporated is placed directly in the hearth or in a suitable crucible liner placed in the appropriate turret position. A second deposition gauge (not shown) is located near the crucible upper drum surface. The deposition gauge can measure the amount of material evaporated from the crucible in angstroms per second (Å / sec). When this is done, the chamber closes and the vacuum cycle begins. The chamber is evacuated until the pressure reaches at least 6 x 10 -5 torr.

원하는 진공이 얻어지면, 3개의 히터로 공급될 파워를 온(on) 시킨다. 히터는 20분 간격 내에 원하는 온도로 상승하도록 설정된다. 측정값은 약 6초마다 컴퓨터 파일에 전송된다. 시간, 세 구역에서의 블록 온도(℃), 증착 게이지 눈금(Å/sec) 및 현재의 진공 압력(torr)이 기록된다. 파워는 E-빔 장치에 공급된다. 전자총에 공급되는 파워를 0.1% 증분으로 증가시킬 수 있다. 파워는 증발 직전 시점까지 증가되고 침지 또는 조절이 허용된다. 침지 후, 파워는 원하는 증착 속도가 얻어질 때가지 증가되고, 이어서 셔터가 열리고, 폴리머 코팅된 와이어 메커니즘이 원하는 속도로 설정되고 폴리머의 증착이 시작된다. 드럼의 회전이 시작된다. 실험의 종료 시, E-빔 셔터가 닫히고 드럼 회전이 정지되며, 파워의 접속은 E-빔으로부터 해지되고 블록 히터 및 와이어 공급이 오프(off) 된다. 냉각 기간이 경과된 후 체임버는 대기 중에 개방된다. 코팅된 재료는 제거된다.Once the desired vacuum is obtained, the power to be supplied to the three heaters is turned on. The heater is set to rise to the desired temperature within 20 minute intervals. Measurements are sent to a computer file approximately every six seconds. The time, the block temperature in three zones (° C.), the deposition gauge scale (sec / sec) and the current vacuum pressure (torr) are recorded. Power is supplied to the E-beam apparatus. The power supplied to the gun can be increased in 0.1% increments. Power is increased to the point just before evaporation and immersion or adjustment is allowed. After immersion, the power is increased until the desired deposition rate is obtained, then the shutter is opened, the polymer coated wire mechanism is set at the desired rate and deposition of the polymer begins. The drum starts to rotate. At the end of the experiment, the E-beam shutter closes and drum rotation is stopped, the connection of power is terminated from the E-beam and the block heater and wire supply are turned off. After the cooling period has elapsed the chamber is opened to the atmosphere. The coated material is removed.

도 15a 및 16a에 도시한 실시예에서, 증기관은 코팅된 와이어(162)가 증기관 내의 가열된 블록 속으로 들어갈 수 있게 하는 작은 구멍을 양단에 가진다. 코팅된 와이어는 제1 스풀(164)로부터 풀려 소정의 속도로 튜브를 통과하여 진행되며, 여기서 폴리머가 증발되어 슬롯 영역(158) 속으로 들어 가고, 이어서 사용이 끝난 와이어는 제2 스풀(166)에 되감긴다. 증기관 벽은 스트립 히터에 의해 가열되고, 블록은 시스템의 온도를 제어하는 데 이용될 수 있는 하나의 독립된 히터를 가진다. 증착 게이지(168)는 슬롯 전방 약 1인치에 배치된다. 증착 게이지는 슬롯을 통하여 지나가는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec)을 단위로 하여 측정할 수 있다.In the embodiment shown in FIGS. 15A and 16A, the steam tube has small holes at both ends that allow the coated wire 162 to enter the heated block in the steam tube. The coated wire is released from the first spool 164 and proceeds through the tube at a predetermined rate, where the polymer evaporates and enters the slot region 158, whereupon the used wire is second spool 166. Rewind to The steam pipe wall is heated by a strip heater and the block has one independent heater that can be used to control the temperature of the system. Deposition gauge 168 is disposed about 1 inch in front of the slot. The deposition gauge can measure the amount of material passing through the slot in Angstroms per second (cc / sec).

드럼은 PET 필름으로 덮여 있다. E-빔 총은 회전 플레이트 상에 4개의 구리 노상을 구비한다. 한 번에 하나의 노상을 E-빔 총에 일치하여 위치시킨다. 증발시키고자 하는 재료를 직접 노상 내에 배치하거나 적절한 터릿 위치에 배치되는 적절한 도가니 라이너 내에 배치된다. 도가니 상부 드럼 표면 근방에 제2 증착 게이지(도시되지 않음)가 위치한다. 증착 게이지는 도가니로부터 증발되는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정할 수 있다. 이것이 행해지면 체임버는 닫히고 진공 사이클이 시작된다. 체임버는 압력이 최소한 6×10-5torr에 도달할 때까지 배기된다. 원하는 진공이 얻어지면, 튜브 및 블록 히터로 공급될 파워를 온(on) 시킨다. 히터는 20분 간격 내에 원하는 온도로 상승하도록 설정된다. 측정값은 약 6초마다 컴퓨터 파일에 전송된다. 시간, 세 구역에서의 블록 온도(℃), 증착 게이지 눈금(Å/sec) 및 현재의 진공 압력(torr)이 기록된다. 파워는 E-빔 장치에 공급된다. 전자총에 공급되는 파워를 0.1% 증분으로 증가시킬 수 있다. 파워는 증발 직전 시점까지 증가되고 침지 또는 조절이 허용된다. 침지 후, 파워는 원하는 증착 속도가 얻어질 때가지 증가되고 이어서 셔터가 열리고, 폴리머 코팅된 와이어 메커니즘이 원하는 속도로 설정되고 폴리머의 증착이 시작된다. 드럼의 회전이 시작된다. 실험의 종료 시, E-빔 셔터가 닫히고 드럼 회전이 정지되며, 파워의 접속은 E-빔으로부터 해지되고 블록 히터 및 와이어 공급이 오프(off)된다. 냉각 기간이 경과된 후 체임버는 대기 중에 개방된다. 코팅된 재료는 제거된다.The drum is covered with PET film. The E-beam gun has four copper hearths on the rotating plate. One hearth is placed in line with the E-beam gun at a time. The material to be evaporated is placed directly in the hearth or in a suitable crucible liner placed in the appropriate turret position. A second deposition gauge (not shown) is located near the crucible upper drum surface. The deposition gauge can measure the amount of material evaporated from the crucible in angstroms per second (Å / sec). When this is done, the chamber closes and the vacuum cycle begins. The chamber is evacuated until the pressure reaches at least 6 x 10 -5 torr. Once the desired vacuum is obtained, the power to be supplied to the tube and the block heater is turned on. The heater is set to rise to the desired temperature within 20 minute intervals. Measurements are sent to a computer file approximately every six seconds. The time, the block temperature in three zones (° C.), the deposition gauge scale (sec / sec) and the current vacuum pressure (torr) are recorded. Power is supplied to the E-beam apparatus. The power supplied to the gun can be increased in 0.1% increments. Power is increased to the point just before evaporation and immersion or adjustment is allowed. After immersion, the power is increased until the desired deposition rate is obtained, then the shutter is opened, the polymer coated wire mechanism is set at the desired rate and deposition of the polymer begins. The drum starts to rotate. At the end of the experiment, the E-beam shutter is closed and drum rotation is stopped, the connection of power is terminated from the E-beam and the block heater and wire supply are turned off. After the cooling period has elapsed the chamber is opened to the atmosphere. The coated material is removed.

추가 실시예 30Additional Example 30

예: 증기관을 구비한 드럼 및 E-빔(와이어 공급):Example: Drum with steam line and E-beam (wire feed):

릴리스 재료 Styron 지지체 재료 알루미늄공급처 Dow 공급처 Mat.ResearchNo. 685D No. 90101E-AL000-30002PVD 조건:E-빔 릴리스 지지체 드럼 회전수 와이어 코트 와이어파워 두께 두께 속도 크기 중량 속도20% 200Å 150Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./직경 g/in.Release Material Styron Support Material Aluminum Source Dow Source Mat.ResearchNo. 685D No. 90101E-AL000-30002PVD Condition: E-beam release support Drum revolutions Wire coat Wirepower Thickness Thickness Speed Size Weight Speed 20% 200Å 150Å 1 RPM 100 0.005 0.0005 6in./diameter g / in.

위에 제시한 조건 하에 다음과 같은 구조제를 제조했다: 제거하기에 용이하도록 드럼에 감은 48 게이지 폴리에스테르를 스티렌으로 폴리머 릴리스 코팅하고,Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 알루미늄으로 금속화했다. 상기 폴리에스테르 필름을 금속화 장치로부터 꺼내어, 릴리스층 및 폴리에스테르 필름으로부터 알루미늄을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 릴리스 장치를 통과시켰다. 이어서 알루미늄 및 아세톤 용액을 따라 내고 플레이크를 농축하기 위해 원심분리했다. 얻어진 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 Media Cybernetics사 제품인 Image Pro Plus 화상 분석기 상에서 현미경 촬영했다. 이어서 용액 중의 플레이크에 대해 IKA Ultra Turex T50 호모지나이저를 이용하여 입자 크기를 축소시켰다. 얻어지는 플레이크에 대해 Horiba LA 910 레이저 산란 입도 분포 분석기를 이용하여 입도 분포를 측정했다. 플레이크의 마무리 입자 크기는 D10=3.3, D50=13.2, D90=31.2Under the conditions set forth above, the following structural agents were prepared: 48 gauge polyester wound on drums for easy removal, polymer release coated with styrene and metalized with aluminum in a Semiscal electron beam metallization apparatus. The polyester film was removed from the metallization device and passed through a laboratory release device using acetone to separate aluminum from the release layer and the polyester film. The aluminum and acetone solution was then decanted and centrifuged to concentrate the flakes. The obtained flakes were applied on slides and micrographed on an Image Pro Plus image analyzer manufactured by Media Cybernetics. The particle size was then reduced using an IKA Ultra Turex T50 homogenizer for flakes in solution. The particle size distribution was measured using the Horiba LA 910 laser scattering particle size distribution analyzer for the obtained flakes. The finish particle size of the flakes is D10 = 3.3, D50 = 13.2, D90 = 31.2

부록 p30에 예시된 사진:Pictured in Appendix p30:

30" 균질화된 알루미늄 촬영30 "homogenized aluminum film

30" 균질화된 입자 크기(단위 ㎛): D10=8.21, D50=26.68, D90=65.1830 "homogenized particle size in μm: D10 = 8.21, D50 = 26.68, D90 = 65.18

6분 30초 균질화됨.Homogenized for 6 minutes 30 seconds.

마무리 입자 크기(단위 ㎛): D10=3.33, D50=13.21, D90=31.32Finish grain size (unit μm): D10 = 3.33, D50 = 13.21, D90 = 31.32

예: 증기관을 구비한 드럼 및 E-빔(와이어 공급) 나노입자:Examples: Drum and E-beam (wire feed) nanoparticles with steam pipes:

릴리스 재료 Styron 지지체 재료 알루미늄공급처 Dow 공급처 Mat.ResearchNo. 685D No. 90101E-AL000-30002PVD 조건:E-빔 릴리스 지지체 드럼 회전수 와이어 코트 와이어파워 두께 두께 속도 크기 중량 속도17% 200Å 3Å 2.2 RPM 100 0.005 0.0005 6in./직경 g/in.Release Material Styron Support Material Aluminum Source Dow Source Mat.ResearchNo. 685D No. 90101E-AL000-30002PVD Condition: E-beam release support Drum revolutions Wire coat Wirepower Thickness Thickness Speed Size Weight Speed 17% 200Å 3Å 2.2 RPM 100 0.005 0.0005 6in./diameter g / in.

위에 제시한 조건 하에 다음과 같은 구조제를 제조했다: 제거하기에 용이하도록 드럼에 감은 48 게이지 폴리에스테르를 스티렌으로 폴리머 릴리스 코팅하고, Temiscal 전자빔 금속화 장치에서 알루미늄으로 금속화했다. 상기 폴리에스테르 필름을 금속화 장치로부터 꺼내어, 릴리스층 및 폴리에스테르 필름으로부터 알루미늄을 분리하기 위해 아세톤을 사용하여 실험실 릴리스 장치를 통과시켰다. 얻어지는 알루미늄 입자 슬러리를 추가적 연구를 위해 병에 보관하였다.Under the conditions set forth above, the following structural agents were prepared: 48 gauge polyester wound on drums for easy removal, polymer release coated with styrene and metalized with aluminum in a Temiscal electron beam metallization apparatus. The polyester film was removed from the metallization device and passed through a laboratory release device using acetone to separate aluminum from the release layer and the polyester film. The resulting aluminum particle slurry was stored in a bottle for further study.

상기 실험의 목적은 알루미늄이 릴리스층에 증착함에 따라 아일랜드 성장 상태로 잔존하도록 증착 프로세스를 관리하여 얻어지는 알루미늄의 나노입자를 얻고자 하는 것이었다. 유착되지 않은(uncoalesced) 알루미늄의 아일랜드는 이어서 릴리스 재료로 코팅된 다음, 알루미늄의 아일랜드로 재코팅된다. 이 과정을 릴리스/알루미늄 아일랜드/릴리스로 이루어진 다층 샌드위치 100개가 형성될 때까지 반복된다.The purpose of the experiment was to obtain nanoparticles of aluminum obtained by managing the deposition process such that aluminum remains in an island growth state as it deposits on the release layer. The islands of uncoalesced aluminum are then coated with a release material and then recoated with the islands of aluminum. This process is repeated until 100 multilayer sandwiches of release / aluminum islands / releases are formed.

폴리머 블록 구비한 드럼 및 E-빔(용융 펌프 압출기)Drum with polymer block and E-beam (melt pump extruder)

도 17 및 도 18을 참조하면, 앞에서 설명한 것과 유사한 진공 체임버 및 히터 블록은 용융 폴리머(릴리스 코트 재료로 사용된 열가소성 폴리머)를 진공 체임버에 전달하도록 변형되어 있다. 진공 체임버는 회전 드럼(168), 증착 게이지, 스테인리스강 히터 블록(170) 및 전자빔(E-빔) 총(172)을 포함한다. 드럼의 직경은 약 1피트이고 표면 상에서의 폭은 6인치이다. 드럼은 회전할 수 있고 회전 속도 및 회전수는 모니터된다. 히터 블록의 슬롯은 블록의 중심을 관통하는 캐비티 내부로 개방되어 있다. 블록은 자신의 온도를 제어하는 데 사용될 수 있는 3개의 독립된 히터를 갖는다. 블록의 양단부에 위치한 폴리머 도가니에 접속된 2개의 가열되는 모세관(174)에 의해 용융 폴리머가 블록에 공급된다. 이들 모세관은 체임버 외부에 위치한 용융 펌프에 연결된다. 그것은 조절된 폴리머를 수용하며 질소로 블랭킷되는 용융통(175) 및 압출기(176)에 의해 공급된다. 슬롯 전방 약 1인치에 배치된 증착 게이지는 슬롯을 통과하여 지나가는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정한다.Referring to Figures 17 and 18, the vacuum chamber and heater blocks similar to those described above are modified to deliver molten polymer (the thermoplastic polymer used as the release coat material) to the vacuum chamber. The vacuum chamber includes a rotating drum 168, a deposition gauge, a stainless steel heater block 170, and an electron beam (E-beam) gun 172. The diameter of the drum is about 1 foot and the width on the surface is 6 inches. The drum can rotate and the rotation speed and rotation speed are monitored. The slot of the heater block is open into the cavity passing through the center of the block. The block has three independent heaters that can be used to control its temperature. Molten polymer is supplied to the block by two heated capillaries 174 connected to a polymer crucible located at both ends of the block. These capillaries are connected to a melt pump located outside the chamber. It is supplied by the melter 175 and the extruder 176 which receive the conditioned polymer and are blanketed with nitrogen. A deposition gauge placed about 1 inch in front of the slot measures the amount of material passing through the slot in angstroms per second (cc / sec).

재료를 첨가하기 위해 폴리머는 히터 블록의 양단에 있는 캐비티에 펌핑된다. 드럼은 PET 필름으로 덮여 있다. E-빔 총은 회전 플레이트 상에 4개의 구리 노상을 구비한다. 한 번에 하나의 노상을 E-빔 총에 일치하여 위치시킨다. 증발시키고자 하는 재료를 직접 노상 내에 배치하거나 적절한 터릿 위치에 배치되는 적절한 도가니 라이너 내에 배치된다. 도가니 상부의 드럼 표면 근방에 제2 증착 게이지가 위치한다. 증착 게이지는 도가니로부터 증발되는 재료의 양을 초당 옹스트롬(Å/sec) 단위로 측정한다. 이것이 행해지면 체임버는 닫히고 진공 사이클이 시작된다. 체임버는 압력이 최소한 6×10-5torr에 도달할 때까지 배기된다. 원하는 진공이 얻어지면, 튜브 및 블록 히터로 공급될 파워를 온(on) 시킨다. 히터는 20분 간격 내에 원하는 온도로 상승하도록 설정된다. 측정값은 약 6초마다 컴퓨터 파일에 전송된다. 시간, 세 구역에서의 블록 온도(℃), 증착 게이지 눈금(Å/sec) 및 현재의 진공 압력(torr)이 기록된다. 파워는 E-빔 장치에 공급된다. 전자총에 공급되는 파워를 0.1% 증분으로 증가시킬 수 있다. 파워는 증발 직전 시점까지 증가되고 침지 또는 조절이 허용된다. 침지 후, 파워는 원하는 증착 속도가 얻어질 때가지 증가되고 이어서 폴리머가 증착되기 시작하면 셔터가 열린다. 드럼의 회전이 시작되고, 용융 펌프가 원하는 속도로 설정된다. 실험은 증착 게이지 결정이 깨지거나 모든 재료가 증발되어 증착 게이지 눈금이 제로로 떨어지면 종료된다. 실험의 종료 시, E-빔 셔터가 닫히고, 드럼 회전이 정지되며, 용융 펌프가 정지되고, 파워의 접속이 E-빔으로부터 해지되고, 블록 히터가 오프(off)된다. 냉각 기간이 경과된 후 체임버는 대기 중에 개방된다. 코팅된 재료는 제거된다.The polymer is pumped to the cavities at both ends of the heater block to add material. The drum is covered with PET film. The E-beam gun has four copper hearths on the rotating plate. One hearth is placed in line with the E-beam gun at a time. The material to be evaporated is placed directly in the hearth or in a suitable crucible liner placed in the appropriate turret position. A second deposition gauge is located near the drum surface above the crucible. The deposition gauge measures the amount of material evaporated from the crucible in angstroms per second (Å / sec). When this is done, the chamber closes and the vacuum cycle begins. The chamber is evacuated until the pressure reaches at least 6 x 10 -5 torr. Once the desired vacuum is obtained, the power to be supplied to the tube and the block heater is turned on. The heater is set to rise to the desired temperature within 20 minute intervals. Measurements are sent to a computer file approximately every six seconds. The time, the block temperature in three zones (° C.), the deposition gauge scale (sec / sec) and the current vacuum pressure (torr) are recorded. Power is supplied to the E-beam apparatus. The power supplied to the gun can be increased in 0.1% increments. Power is increased to the point just before evaporation and immersion or adjustment is allowed. After immersion, the power is increased until the desired deposition rate is obtained and then the shutter is opened when the polymer begins to deposit. The rotation of the drum begins and the melt pump is set to the desired speed. The experiment ends when the deposition gauge crystal is broken or all material is evaporated and the deposition gauge scale drops to zero. At the end of the experiment, the E-beam shutter is closed, drum rotation is stopped, the melt pump is stopped, the connection of power is disconnected from the E-beam, and the block heater is turned off. After the cooling period has elapsed the chamber is opened to the atmosphere. The coated material is removed.

릴리스 코팅된 캐리어 필름 프로세스Release Coated Carrier Film Process

한 실시에에서 본 발명은 릴리스 코팅된 폴리에스테르(PET)와 같은 릴리스 코팅된 폴리머 캐리어 필름을 제조하는 데 이용될 수 있다. 도 19를 참조하면, 폴리에스테르 캐리어 필름(180)은 진공 체임버(184)에 수용된 회전형 냉각 드럼(182) 주위에 감긴다. 상기 필름은 필름 언와인드 스테이션(film unwind station)(186)으로부터 약 300° 이상의 회전형 냉각 드럼 표면적 둘레를 통과하고, 이어서 코팅된 필름은 필름 리와인드 스테이션(film rewind station)(188)에 권취된다. 폴리머 전달 소스(deliver source)(190)는 폴리머 재료를 캐리어 필름 방향으로 인도하고, E-빔 총(192)은 캐리어 폴리머를 필름 표면에 코팅하기 위해 폴리머를 증기화시킨다. 폴리머 코팅이 경화되고 이어서 리와인드 스테이션에서 권취된다. 상기 프로세스는 열가소성 폴리머 릴리스 코팅된 내열성 폴리머 캐리어 필름을 제공하는데, 이 때의 필름은 진공 체임버 내 증착 기술에 의해 필름에 적용되는 플레이크 재료에 대해 양호한 릴리스 성질을 제공한다. 상기 필름은 얇고 납작한 옹스트롬수준의 플레이크를 형성하는 데 효과적인 릴리스를 제공한다.In one embodiment the invention can be used to make release coated polymer carrier films such as release coated polyester (PET). Referring to FIG. 19, a polyester carrier film 180 is wound around a rotary cooling drum 182 housed in a vacuum chamber 184. The film passes about a rotational cooling drum surface area of about 300 ° or more from a film unwind station 186, and the coated film is then wound in a film rewind station 188. A polymer delivery source 190 guides the polymer material towards the carrier film, and an E-beam gun 192 vaporizes the polymer to coat the carrier polymer on the film surface. The polymer coating is cured and then wound up in the rewind station. The process provides a thermoplastic polymer release coated heat resistant polymer carrier film, wherein the film provides good release properties for the flake material applied to the film by deposition techniques in a vacuum chamber. The film provides an effective release for forming thin, flat angstrom flakes.

폴리스티렌 실험Polystyrene experiment

전자빔 금속화 장치에서의 실험으로부터, 폴리스티렌이 증발되고 증착된 후 폴리스티렌의 상태에 히터 블록 온도가 큰 영향을 미친다는 사실이 밝혀졌다. 모든 실험에서, 증착 재료로서 Dow 685D 폴리스티렌을 사용했다. 이 재료는 약 300,000의 분자량(MW)을 갖는다.Experiments in the electron beam metallization apparatus have shown that the heater block temperature has a great influence on the state of the polystyrene after the polystyrene has been evaporated and deposited. In all experiments, Dow 685D polystyrene was used as the deposition material. This material has a molecular weight (MW) of about 300,000.

히터 블록의 온도를 300℃ 내지 375℃의 범위에서 25℃ 증분으로 하여 실험을 행했다. 블록이 가열되는 속도는 변동하였지만 최종 온도 만큼 심각한 영향을 갖지는 않는 것으로 보였다. 모든 실험은 앞에서 설명한 블록 구비한 드럼 절차(Drum with Block Procedure)에 따라 실행되었다.The experiment was performed in 25 degreeC increments in the temperature of a heater block in the range of 300 degreeC-375 degreeC. The rate at which the blocks heat up varied but did not appear to have as severe an effect as the final temperature. All experiments were performed according to the Drum with Block Procedure described above.

제1 실험에서, 블록에 Dow 685D 폴리스티렌의 펠릿 10개를 로딩했다. 히터에 대한 온도를 300℃로 설정했다. 이 온도에서 증착은 최소이다. 게이지 눈금의 범위는 5 내지 10Å/sec였다. 실험 종료 시에 눈에 띠는 잔사는 거의 없었다.In the first experiment, ten pellets of Dow 685D polystyrene were loaded into the block. The temperature for the heater was set to 300 ° C. Deposition at this temperature is minimal. The gauge scale ranged from 5 to 10 ms / sec. At the end of the experiment there were few visible residues.

다음 번 실험에서, 블록의 온도는 325℃에 도달하도록 설정했다. 증착은 20 내지 30Å/sec 범위 내로 증가하였다. 실험 종료 시에, 눈에 보이는 필름 증착이 있었다. 필름은 색상이 청징하였고 점착성이 없는 고체였다.In the next experiment, the temperature of the block was set to reach 325 ° C. Deposition increased within the range of 20-30 dl / sec. At the end of the experiment, there was visible film deposition. The film was clarified in color and was a tacky solid.

다음에, 블록의 온도를 350℃에 도달하도록 프로그램 하였다. 증착 속도는 325℃로 설정한 실험에서와 유사했다. 실험 종료 시에, 필름은 앞선 실험에서 형성된 필름과 상이하였다. 이 실험에서의 필름은 더 점착성인 것으로 감촉되었고 약간의 변색이 나타났다.Next, the temperature of the block was programmed to reach 350 ° C. The deposition rate was similar to the experiment set at 325 ° C. At the end of the experiment, the film was different from the film formed in the previous experiment. The film in this experiment was felt to be more tacky and showed some discoloration.

마지막으로, 블록을 375℃까지 온도 상승하도록 설정했다. 증착 속도는 거의 40Å/sec까지 증가했다. 실험 종료 시에, 필름 표면에 황색 오일이 잔류했다. 상기 오일은 쉽게 닦아졌지만, 그 밑에 청징한 폴리스티렌 필름의 흔적은 없었다.Finally, the block was set to rise in temperature to 375 ° C. The deposition rate increased to almost 40 kW / sec. At the end of the experiment, yellow oil remained on the film surface. The oil was easily wiped off, but there were no traces of polystyrene film clarified underneath.

이들 실험으로부터 350℃ 이상의 온도에서 폴리스티렌이 열화되기 시작한다는 결론이 내려졌다. 이것은 문헌에 제시된 값을 확인하는 것이다. 350℃보다 높은 온도에서 폴리스티렌은 증발하고, 이어서 탈중합하여 거의 순수한 스티렌 모노머의 잔사를 남기는 것으로 보인다. 이것은 잔사를 FTIR 분석함으로써 확인되었다.From these experiments it was concluded that polystyrene begins to degrade at temperatures above 350 ° C. This confirms the values given in the literature. At temperatures above 350 ° C. the polystyrene evaporates and then depolymerizes and appears to leave a residue of nearly pure styrene monomer. This was confirmed by FTIR analysis of the residue.

추가의 연구에서, Dow 폴리스티렌의 샘플을 분석하도록 외부 실험실로 발송했다. 원하는 조작 온도까지 온도를 올렸을 때 폴리머로부터 증발되는 것을 판정하기 위한 방법을 고안했다. GC-MS 분석과 연결하여 "직접 삽입 프로브"법을 이용하여, 30℃/분의 속도로 325℃까지 상승하도록 온도를 설정했다. 최고 온도에 도달하면 그 상태로 10분간 유지시켰다.In further studies, samples of Dow polystyrene were sent to an external laboratory for analysis. A method was devised to determine what evaporated from the polymer when raised to the desired operating temperature. The temperature was set to rise to 325 ° C. at a rate of 30 ° C./min using the “Direct Insertion Probe” method in conjunction with GC-MS analysis. When the maximum temperature was reached, the state was maintained for 10 minutes.

장치 내의 이온 카운터가 고체 펠릿으로부터 재료가 증발되고 있을 때를 나타냈다. 실험이 진행되는 동안 2개의 피크가 나타났는데, 하나는 약 260℃에서, 또 하나는 325℃에서 나타났다. 이들 2개의 피크에 대해 GC-MS 분석을 실시했다. 제1 피크는 비제한적으로 폴리스티렌의 모노머 및 다이머를 포함하는 저분자량 물질의 대형 농축물을 나타냈다. 제2 피크는 GC-MS 분석에서의 수 만큼의 휘발성 물질을 나타내지 않는다. 이 분석을 통해 1차 가열 시 다량의 미중합 물질 및 많은 기타 저분자량 휘발성 물질이 벌크 폴리스티렌으로부터 방출된다는 결론이 내려졌다. 가열을 연장한 후에는, 원하는 폴리머가 증발되어 원하는 표면에 증착된다. 최적 성능을 위해서는 벌크 폴리머를 예열하거나 그렇지 않으면 가능한 한 많은 양의 "저급(low end)" 물질을 제거하도록 조절할 필요가 있다는 결론이 내려졌다.An ion counter in the apparatus indicated when the material was evaporating from the solid pellet. Two peaks appeared during the experiment, one at about 260 ° C. and one at 325 ° C. These two peaks were subjected to GC-MS analysis. The first peak showed a large concentration of low molecular weight material including but not limited to monomers and dimers of polystyrene. The second peak does not represent as many volatiles in the GC-MS analysis. The analysis concluded that primary heating releases large quantities of unpolymerized material and many other low molecular weight volatiles from bulk polystyrene. After prolonged heating, the desired polymer is evaporated and deposited on the desired surface. It was concluded that optimal performance would require preheating the bulk polymer or otherwise adjusting to remove as much of the "low end" material as possible.

또 다른 실험에서, 본 발명자들은 1차 실험에 나타난 제1 피크에서 무엇이 일어나는가에 대한 보다 깊은 식견을 얻고자 동일한 직접 삽입 프로브법을 이용했다. 이 실험에서, 가해진 열은 260℃까지 승온되어 그 온도를 유지했다. 이 온도는 1차 실험에서 피크가 나타난 온도이다. 그 목적은 이 온도에서 증발되고 있는 것을 GC-MS에 의해 특정하는 동시에 예열 단계에 의해 벌크 물질로부터 상기 재료를 제거할 수 있는지를 알고자 함이었다.In another experiment, we used the same direct insertion probe method to gain a deeper insight into what happens at the first peak shown in the first experiment. In this experiment, the heat applied was raised to 260 ° C. and maintained at that temperature. This is the temperature at which the peak appeared in the first experiment. The purpose was to specify by GC-MS what was evaporating at this temperature and to see if the material could be removed from the bulk material by a preheating step.

피크는 동일한 거의 위치에서 나타났으며 GC-MS에 의해 저분자량 물질이 다량 나타났다. 여기에는 소량의 스티렌 모노머가 포함되었지만 그 밖의 다수의 유기물 단편이 존재했다. 약 10-12분이 경과한 후, 상기 피크는 사라졌다. 이것은 휘발성 물질이 벌크 물질로부터 제거되었으며 깨끗한 폴리머 필름을 형성하는 데에 예열 방법이 효과적임을 나타냈다.The peak appeared at the same near position and a large amount of low molecular weight material was revealed by GC-MS. It contained a small amount of styrene monomer, but there were many other organic fragments. After about 10-12 minutes, the peak disappeared. This indicated that the volatiles were removed from the bulk material and the preheating method was effective to form a clean polymer film.

이러한 일련의 테스트로부터 Dow 685D 폴리머로 폴리스티렌 필름을 증착하는 효율성을 증대하기 위한 새로운 방법이 개발되었다. 먼저, 벌크 물질을 260-300℃의 온도까지 가열한다. 이 예열 과정중에 저급 산물이 웹에 도달할 수 없도록 하기 위해 필름을 회수해야 한다. 이 단계는 또한 오염이 최소화될 수 있도록 진공 외부에서 또는 최소한 증착 체임버의 외부에서 행해질 수 있다. 충분한 시간이 경과한 후, 온도는 325℃로 승온되어야 한다. 이 온도는 폴리스티렌의 열화를 야기하지 않고 가장 높은 증착 속도를 제공한다.From this series of tests, a new method was developed to increase the efficiency of depositing polystyrene films with Dow 685D polymer. First, the bulk material is heated to a temperature of 260-300 ° C. During this preheating process, the film must be recovered to prevent the lower product from reaching the web. This step can also be done outside the vacuum or at least outside the deposition chamber so that contamination can be minimized. After sufficient time has elapsed, the temperature should be raised to 325 ° C. This temperature provides the highest deposition rate without causing degradation of the polystyrene.

다른 폴리스티렌 샘플을 사용한 유사한 실험을 행하여 추가의 고찰을 이끌어 냈다. 이 경우 본 발명자들은 Pressure chemical사로부터 공급되는 4,000MW 및 290,000MW 폴리스티렌을 사용했다. 이들 샘플은 폴리스티렌 표준품으로서 매우 좁은 분자량 분포를 가진다. 이들 샘플은 또한 대부분의 상업적 폴리머에서 발견되는 거의 모든 오염물이 없다. 이들 실험으로부터 본 발명자들은 다음과 같은 결론을 내렸다. 4,000MW 재료의 사용은 290,000MW 재료보다 진공압에 대한 충격이 적다. 분자량이 더 큰 물질을 사용하면 압력은 더 올라간다. 본 발명자들은 두 재료에 대해 TGAs를 가동함으로써 이것을 확인했다. TGAs에 의해 4,000MW 재료가 실제로 290,000MW 폴리머의 경우에 관찰된 것보다 높은 온도에서 중량 손실의 시작을 나타내는 사실이 밝혀졌다.Similar experiments with other polystyrene samples were conducted to elicit further consideration. In this case we used 4,000 MW and 290,000 MW polystyrene supplied from Pressure Chemical. These samples have very narrow molecular weight distributions as polystyrene standards. These samples are also free of almost all contaminants found in most commercial polymers. From these experiments, the inventors concluded the following. The use of 4,000 MW material has less impact on vacuum pressure than 290,000 MW material. The higher the molecular weight, the higher the pressure. We have confirmed this by running TGAs on both materials. It was found by TGAs that the 4,000 MW material actually exhibited the onset of weight loss at temperatures higher than that observed for the 290,000 MW polymer.

폴리머 조절(polymer conditioning)Polymer conditioning

폴리머가 증착 프로세스에 사용될 수 있기에 앞서, 벌크 폴리머로부터 수분 및 저분자량 물질이 제거되도록 폴리머를 조절해야 한다. Dow 685D 폴리스티렌을 사용하여, 본 발명자들은 2단계 조절 프로세스에서 이를 달성했다. 제1 단게에서, 일정량의 폴리스티렌을 진공 오븐에 넣고 225℃에 16시간 동안 유지시켰다. 이 온도는 폴리머 내의 거의 모든 수분을 배출시키기에 충분히 높은 온도이다. 이 온도는 또한 폴리머의 열화가 나타나는 온도보다 낮기 때문에 선택된다. 275℃에서 실시한 실험에서, 폴리스티렌 샘플은 16시간에 걸친 조절 후 뚜렷한 열화를 나타냈다. 조절 기간이 경과된 후, 폴리머를 꺼내고 냉각되는 동안 수분을 흡수하지 않도록 데시케이터에 넣었다.Before the polymer can be used in the deposition process, the polymer must be adjusted to remove moisture and low molecular weight material from the bulk polymer. Using Dow 685D polystyrene, we achieved this in a two step control process. In a first step, an amount of polystyrene was placed in a vacuum oven and held at 225 ° C. for 16 hours. This temperature is high enough to drain almost all of the moisture in the polymer. This temperature is also chosen because it is lower than the temperature at which the degradation of the polymer appears. In experiments conducted at 275 ° C., the polystyrene sample showed marked degradation after 16 hours of conditioning. After the adjustment period has elapsed, the polymer is taken out and placed in a desiccator to not absorb moisture during cooling.

폴리머 조절의 제2 단계는 폴리머가 금속화 장치에 사용될 수 있는 상태일 때 실행된다. 데시케이터에서 폴리머를 꺼내고 수분 증가가 최소화하도록 즉시 금속화 장치에 넣었다. 증착이 시작되기 전에, 제1 단계 조절된 폴리머를 수용하는 폴리머 블록을 275℃로 가열하고 그 온도에서 20분간 유지시켰다. 이 온도에서 잔류하는 모든 수분이 배출되고 또한 폴리머 내의 저분자량 물질이 제거된다. 저분자량 물질에는 미반응 모노머 및 벌크 폴리스티렌에서 발견되는 다른 많은 불순물이 포함된다. 필요한 조절 시간 동안 275℃에 유지시킨 후, 폴리머는 증착에 대한 준비 상태에 있게 된다.The second step of polymer control is performed when the polymer is in a state that can be used in the metallization device. The polymer was removed from the desiccator and immediately placed in the metallization device to minimize moisture increase. Before the deposition began, the polymer block containing the first stage controlled polymer was heated to 275 ° C. and held at that temperature for 20 minutes. All moisture remaining at this temperature is released and low molecular weight substances in the polymer are removed. Low molecular weight materials include many of the other impurities found in unreacted monomers and bulk polystyrene. After holding at 275 ° C. for the required conditioning time, the polymer is ready for deposition.

상기 2단계 조절 프로세스를 활용함으로써 최종 필름은 일관된 분자량을 가지게 되고 또한 거의 모든 저분자량 불순물이 없게 된다. 이것은 훨씬 일관되고 신뢰성 있는 필름을 제공한다.By utilizing the two step control process, the final film has a consistent molecular weight and is free of almost all low molecular weight impurities. This provides a much more consistent and reliable film.

용매 및 폴리머의 재사용Reuse of Solvents and Polymers

현행 릴리스 코트가 스트리핑되어 플레이크가 포집되면 사용된 용매는 용해된 릴리스 코트와 함께 용매 재생을 위해 증류 공정을 거치게 된다. 용매가 재생되면 증류 장치 탑저 산물은 유해 폐기물로서 폐기된다. 이 실험에서 본 발명자들은 탑저 산물을 릴리스 코트로 재사용하고자 시도했다. 포집된 탑저 산물은 24% NVM이었다. IPAC 3부 및 NPAC 1부를 사용하여 이 물질을 8.3% NVM으로 감축했다. 이 래커(lacquer)를 #2 Meyer 로드(rod)를 사용하여 2mil 폴리에스테르 상에 도포했다. 얻어진 코팅은 코트 중량이 0.3g/㎡이고 청징한 것이었다. 다음에, 상기도포물을 벨 자 금속화 장치에서 알루미늄으로 금속화하였다. 얻어진 알루미늄층은 Macbeth 농도계로 측정했을 때 2 내지 2.5의 광학적 밀도를 가졌다.When the current release coat is stripped and the flakes collected, the solvent used is subjected to a distillation process for solvent regeneration with the dissolved release coat. Once the solvent is regenerated, the distillation column bottoms product is disposed of as hazardous waste. In this experiment we attempted to reuse the bottom product as a release coat. The collected bottom bottom product was 24% NVM. Using 3 parts of IPAC and 1 part of NPAC, the material was reduced to 8.3% NVM. This lacquer was applied on 2 mil polyester using a # 2 Meyer rod. The resulting coating had a coat weight of 0.3 g / m 2 and was clarified. The coating was then metallized with aluminum in a bell jar metallization apparatus. The obtained aluminum layer had an optical density of 2 to 2.5 as measured by Macbeth densitometer.

다음에, 폴리에스테르로부터 릴리스하기 위해 얻어진 구조체를 30초에 걸쳐 아세톤 중에 용해하였다. 이어서 플레이크를 슬라이드 상에 도포하고 분석했다. 이 방법으로 제조된 플레이크는 평탄한 표면을 가진 400 내지 600㎛ 범위였으며 현행 제품과 구별하기 어려웠다.Next, the structure obtained for release from polyester was dissolved in acetone over 30 seconds. The flakes were then applied onto the slides and analyzed. The flakes produced in this way ranged from 400 to 600 μm with flat surfaces and were difficult to distinguish from current products.

와이어 코팅Wire coating

도 20은 앞에서 설명한 와이어 공급 실시에에서 사용된 와이어 표면에 폴리머를 코팅하기 위한 와이어 코팅 장치를 예시한다.20 illustrates a wire coating apparatus for coating a polymer on a wire surface used in the wire feeding implementation described above.

재료:material:

자일렌 중에 완전히 용해된 Dow 685 폴리스티렌 폴리머의 혼합물Mixture of Dow 685 Polystyrene Polymer Completely Dissolved in Xylene

Dow 685 45 pts by wt.Dow 685 45 pts by wt.

자일렌 55 pts by wt.Xylene 55 pts by wt.

Consolidated Electronic Wire and Cable사 제품인 니켈/크롬 나선(裸線) 0.005 인치 게이지0.005 inch gauge nickel / chrome helix from Consolidated Electronic Wire and Cable

장치의 설명:Description of the device:

도 20을 참조하면, 코팅 장치는 다음 네 부분으로 이루어진다: 언와인더(200), 코팅 본체(202), 건조 튜브(204) 및 와인더(206). 와이어의 스풀은 최소의 저항으로 와이어가 풀릴 수 있도록 하면서 양측면 사이의 운동으로 제한된다. 코팅 본체는 주사기 본체(208)인 Becton Dickson 5 ㏄ 일회용 주사기 및 주사기 바늘(210)인 Becton Dickson 20GI Precision Glide 바늘을 포함한다. 일회용 주사기는 코팅 혼합물로 채워지고 바늘은 소정량의 재료를 와이어 표면에 정량 주입한다. 건조 튜브는 구리 플러밍 튜빙(plumbing tubing)으로 만들어진다. 상단에서 하단까지 튜브는 길이가 6인치인 ½인치 튜브(212), ½인치에서 ¾인치로의 리듀서(reducer)(214), 길이가 2인치인 ¾인치 튜브(216), ¾인치 튜브(220) 4인치가 수직 방향으로 연장되는 ¾인치 T자관(218)으로 이루어진다. 장치로부터 공기를 도입하는 이 파이프에 배기 팬(222)이 부착된다. T자관의 직선 부분은 5피트 길이의 ¾인치 동관(224)이 부착된다. 이 부분은 장치의 건조 부분이다. 또 하나의 ¾인치 T자관(226)이 상기 5피트 부분에 부착된다. 수직형 T자관이 상향하여 꺾어진 90도 엘보(230)에 연결된 3인치 길이의 ¾인치 튜브(228)에 부착된다. 이 엘보에는 1½ 튜브(232) 및 ¾인치 나사형 커넥터(234)가 부착된다. 이 커넥터는 2인치 길이의 ¾인치 흑철관 리듀서에 부착된다. 길이 5인치의 2인치 파이프(236)가 이 리듀서에 나사 연결된다. 상기 2인치 파이프는 핫 에어 건의 통을 지지한다. T자관의 수직 부분은 2인치 길이의 ¾인치 튜브(238)에 부착되고 이것은 다시 (240)에서 ½인치로 축소된다. 마지막으로 ½인치 튜브(242)의 6인치 부분이 부착된다.Referring to FIG. 20, the coating apparatus consists of four parts: the unwinder 200, the coating body 202, the drying tube 204 and the winder 206. The spool of wire is limited to movement between the two sides while allowing the wire to be released with minimal resistance. The coating body includes a Becton Dickson 5 'disposable syringe that is syringe body 208 and a Becton Dickson 20GI Precision Glide needle that is syringe needle 210. Disposable syringes are filled with a coating mixture and the needle metered into the wire surface an amount of material. The drying tube is made of copper plumbing tubing. Top to bottom tubes are ½ inch tubes 212, 6 inches long, reducer 214 from ½ inches to ¾ inches, ¾ inch tubes 216, 2 inches long, ¾ inch tubes 220 4) is made of a ¾ inch T-shaped tube 218 extending in the vertical direction. An exhaust fan 222 is attached to this pipe that introduces air from the device. The straight portion of the T-tube is attached with a 5 ft long ¾ inch copper tube 224. This part is the dry part of the device. Another ¾ inch T-shaped tube 226 is attached to the 5 foot portion. A vertical T-tube is attached to a 3 inch long ¾ inch tube 228 connected to an upwardly angled 90 degree elbow 230. This elbow is attached with a 1½ tube 232 and a ¾ inch threaded connector 234. The connector attaches to a 2 inch long ¾ inch black tube reducer. A 5-inch long 2-inch pipe 236 is screwed into this reducer. The two inch pipe supports a barrel of hot air gun. The vertical portion of the T tube is attached to a 2 inch long ¾ inch tube 238, which again scales down from 240 to ½ inch. Finally, a six inch portion of ½ inch tube 242 is attached.

코팅 적용의 설명:Description of coating application:

위에 제시된 장치를 이용하여 와이어에 코팅이 적용된다. 와이어는 스풀로부터 풀려 폴리스티렌 폴리머와 용매의 혼합물이 담겨진 주사기 본체를 통하여 공급된다. 와이어가 주사기 바늘을 통해 주사기 본체를 빠져 나감에 따라 와이어는상기 혼합물로 피복된다. 코팅된 와이어는 가열된 공기가 통과하는 동관을 통해 공급된다. 공기는 튜브의 저부에 있는 포트로부터 공급되는 가열 공기보다 빠른 속도로 튜브의 상단에 있는 출구 포트로부터 흡입된다. 배기 포트에 필요한 추가의 공기는 와이어가 출입하는 튜브의 양단부에 공급된다. 튜브에 공급되는 가열 공기의 양은 가감저항기(rheostat)를 이용하여 제어되었다. 총 출력의 85%가 바람직한 온도인 것으로 밝혀졌다. 더 높은 온도는 코팅에 기포를 발생시키고 더 낮은 온도는 건조를 불량하게 만들었다. 와이어는 건조 튜브를 통과한 후 스풀에 감겼다. 와이어의 원하는 공급 속도는 건조 튜브를 통해 분당 22인치였다. 와인딩 스풀의 속도는 또 다른 가감저항기를 이용하여 수동으로 제어되었다. 스풀에 와이어가 점점 많이 감김에 따라 가감저항 설정치는 와이어가 감기는 동안 더 빠른 인장력을 상쇄하도록 저하되었다. 와이어 표면의 최종 코팅은 0.4 내지 0.5 ㎎/인치의 범위였다.The coating is applied to the wire using the device presented above. The wire is unwound from the spool and fed through a syringe body containing a mixture of polystyrene polymer and solvent. As the wire exits the syringe body through the syringe needle, the wire is covered with the mixture. The coated wire is fed through a copper tube through which heated air passes. Air is drawn in from the outlet port at the top of the tube at a higher rate than heating air supplied from the port at the bottom of the tube. Additional air required at the exhaust port is supplied at both ends of the tube through which the wire enters and exits. The amount of heated air supplied to the tube was controlled using rheostat. 85% of the total output was found to be the desired temperature. Higher temperatures create bubbles in the coating and lower temperatures make drying poor. The wire passed through a drying tube and wound on a spool. The desired feed rate of wire was 22 inches per minute through the drying tube. The speed of the winding spool was manually controlled using another resistor. As the wire is wound more and more on the spool, the resistance setting is lowered to counteract the faster tension while the wire is wound. The final coating of the wire surface ranged from 0.4 to 0.5 mg / inch.

DOW STYRON 685DDOW STYRON 685D

샘플 제조 및 분석:Sample Preparation and Analysis:

각각의 플라스틱 용기로부터 약 75 ㎎의 폴리스티렌 수지를 10 ㎖의 테트라하이드로퓨란(THF)에 별도로 용해하고 약 3시간 동안 회전시켰다. 각각의 THF 용액을 0.45 ㎛ PTFE 필터로 여과하여 오토샘플러(autosampler) 병에 담았다.About 75 mg of polystyrene resin was separately dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran (THF) from each plastic container and spun for about 3 hours. Each THF solution was filtered through a 0.45 μm PTFE filter and placed in an autosampler bottle.

GPC 기구는 Waters 410 굴절률 검출기를 구비한 Waters 2690 펌핑 시스템이었다. 칼럼은 Polymer Labs사 제품인 3개의 Plgel Mixed-C 300 ㎜×7.5였다. 이동상은 1.0 ㎖/분의 조건 하에 THF였다. 인젝션 사이즈는 50 ㎕였다. 보정은 580내지 1,290,000Da 범위인 Polymer Labs사로부터 입수한 폴리스티렌 표준품 12개 세트에 대해 행했다. Waters사의 Millennium version 3.2 소프트웨어를 GPC 옵션과 함께 사용했다. 보정은 매일 실시했고 또한 국립 표준 및 기술 연구소로부터 입수한 SRM 706 폴리스티렌의 체크 샘플을 각 샘플 배치와 함께 매일 분석했다.The GPC instrument was a Waters 2690 pumping system with a Waters 410 refractive index detector. The columns were three Plgel Mixed-C 300 mm × 7.5 manufactured by Polymer Labs. The mobile phase was THF under the condition of 1.0 ml / min. Injection size was 50 μl. The calibration was performed on 12 sets of polystyrene standards obtained from Polymer Labs, which ranged from 580 to 1,290,000 Da. Waters' Millennium version 3.2 software was used with the GPC option. Calibration was performed daily and a check sample of SRM 706 polystyrene obtained from the National Institute of Standards and Technology was analyzed daily with each batch of samples.

결과:result:

샘플의 가용성 폴리머 부분의 준자량 분포에 대한 계산값을 다음 표에 나타낸다. 유효 수치의 정확한 수를 제공하기 위해 피크 분자량(Mp), 수평균 분자량(Mn) 및 중량평균 분자량(Mw)에 대한 값을 1000 단위로 표기한다. 품질 제어 데이터가 나타내는 바로는 Mn에 대해 10% 및 Mw에 대해 5%의 상대 편차는 유의적이 아니다.The calculated value for the quasi-quantity distribution of the soluble polymer portion of the sample is shown in the following table. Values for the peak molecular weight (Mp), number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) are expressed in units of 1000 to provide accurate numbers of significant figures. As the quality control data indicates, the relative deviation of 10% for Mn and 5% for Mw is not significant.

샘플Sample MpMp MnMn MwMw 분산도Dispersion STYRON 685DSTYRON 685D 266k266k 107k107k 313k313k 2.942.94 STYRON 685D 듀플리케이트STYRON 685D Duplicate 272k272k 138k138k 320k320k 2.322.32 STYRON 685D 평균STYRON 685D Average 269k269k 123k123k 317k317k 2.632.63

Pressure Chemical Co. 제공 폴리스티렌 폴리머 특징화 데이터Pressure Chemical Co. Provided Polystyrene Polymer Characterization Data

공칭 290,000 MW 스티렌Nominal 290,000 MW Styrene Lalls에 의함:By Lalls: Mw=287,000M w = 287,000 크기별 배제 크로마토그래피에 의함:By exclusion chromatography by size: Mw=288,800M w = 288,800 1×60 ㎝ Plgel 5마이크론 혼합 겔1 × 60 cm Plgel 5 Micron Mixed Gel Mn=274,600M n = 274,600 THF @1㎖/분, 20 ㎖ @0.02%THF @ 1 ml / min, 20 ml @ 0.02% Mp=293,000M p = 293,000 고유 점도에 의함:By intrinsic viscosity: Mv=288,800M v = 288,800 톨루엔 @30℃Toluene @ 30 ℃ (h)=12×10-5M0.71로부터 계산된 Mv(v) Mv calculated from 12 × 10 −5 M 0 .71 (h)=0.904(h) = 0.904 공칭 4,000MW 스티렌Nominal 4,000 MW Styrene 증기압 삼투압계에 의함:By vapor osmometer: Mn=3,957M n = 3,957 THF, 38C, 4 농도 08 멤브레인THF, 38C, 4 concentration 08 membrane 크기별 배제 크로마토그래피에 의함:By exclusion chromatography by size: Mw=4,136M w = 4,136 Mn=3,967M n = 3,967 Mp=4,000M p = 4,000 고유 점도에 의함:By intrinsic viscosity: Mv=4,075M v = 4,075 THF @30℃THF @ 30 ℃ (h)=1.71×10-3Mv.712로부터 계산된 MvMv calculated from (h) = 1.71 × 10 −3 M v .712 (h)=0.06(h) = 0.06

건조된 나노스케일 및 옹스트롬 스케일 입자의 제조:Preparation of Dried Nanoscale and Angstrom Scale Particles:

플레이크가 드럼 또는 캐리어로부터 제거된 후 플레이크로부터 잔류 릴리스 코팅을 세척하는 방법은 다음과 같다. 모두 Fisher Scientific사 제품인 용량 4,000 ㎖이고 진공 여과를 위한 측면 출구를 구비한 Buchner 깔때기 및 Whatman 마이크로파이버 필터와 같은 필터를 이용한다. 먼저 필터를 장착한 깔때기에 플레이크를 넣고 진공을 건다. 적절한 용내로 헹구어 플레이크를 세척한다. 사용되는 용매는 릴리스 코트의 용해도에 따라 아세톤, 에틸아세테이트 또는 알코올일 수 있다. 플레이크는 원하는 수준까지 잔류 릴리스 코트가 제거되거나 감소될 때까지 세척해야 한다. 이어서 휘발성 물질을 제거하기 위해 상기 여과된 재료를 가열 처리할 수 있다. 또한 상기 여과 케익을 더 높은 온도로 가열함으로써 어닐링할 수 있다. 사용된 용매는 재생하여 재사용하기 위해 증류될 수 있다. 증류기 바닥 산물은 재생되어 앞서 언급한 바와 같이 릴리스 코팅에 재사용될 수 있다. 제조에서는, 보다 큰 진공 여과 장치를 이용할 수 있다.The method of washing the residual release coating from the flakes after the flakes have been removed from the drum or carrier is as follows. All use filters such as the Buchner funnel and Whatman microfiber filter, each with a 4,000 ml capacity from Fisher Scientific and having a side outlet for vacuum filtration. First, put the flakes in a funnel equipped with a filter and vacuum. Wash the flakes by rinsing in an appropriate volume. The solvent used may be acetone, ethyl acetate or alcohol depending on the solubility of the release coat. The flakes should be washed to the desired level until the residual release coat is removed or reduced. The filtered material may then be heat treated to remove volatiles. It can also be annealed by heating the filter cake to a higher temperature. The solvent used may be distilled for regeneration and reuse. The still product bottoms can be recycled and reused in the release coating as mentioned above. In manufacture, a larger vacuum filtration apparatus can be used.

장벽 재료(barrier material)Barrier material

플레이크 함유 필름의 수증기 투과율(moisture vapor transmission rate; MVTR) 및 산소 침투율(oxygen permeability)에 대한 플레이크 크기, 안료 대 바인더(pigment-to-binder) 비율 및 코트 중량의 효과를 판정하기 위한 실험을 행했다. 플레이크 크기는 큰 것이 20 ㎛이었고 작은 것이 12 ㎛이었다.Experiments were conducted to determine the effect of flake size, pigment-to-binder ratio and coat weight on moisture vapor transmission rate (MVTR) and oxygen permeability of the flake containing film. The flake size was 20 μm in large and 12 μm in small.

MVTR 테스트 데이터는 하기와 같았다:MVTR test data was as follows:

플레이크 크기Flake size P:BP: B 코트 중량(g/㎡)Coat weight (g / ㎡) MVTR(g/㎡-day)MVTR (g / ㎡-day) versus 3:13: 1 3.143.14 4.864.86 versus 1:11: 1 3.623.62 5.855.85 small 3:13: 1 3.183.18 1.821.82 small 3:13: 1 0.80.8 8.868.86 versus 3:13: 1 0.740.74 15.015.0 versus 3:13: 1 3.143.14 4.864.86 versus 3:13: 1 3.143.14 4.864.86 small 3:13: 1 3.183.18 1.821.82 versus 1:11: 1 3.623.62 5.855.85 versus 1;11; 1 1.381.38 11.9011.90 청징한 매개물Clarified medium 1.081.08 74.474.4 Dart다 SF-502 나일론 필름Dart is SF-502 nylon film 58.358.3

안료: 알루미늄 플레이크Pigment: Aluminum Flake

바인더: 셀룰로오스 잉크 매개물Binder: Cellulose Ink Medium

추가 테스트 데이터는 작은 입자에 대해 1.2의 MVTR, 5:1의 안료 대 바인더 비율 및 5 g/㎡의 코트 중량을 나타냈다.Further test data showed a MVTR of 1.2, a pigment to binder ratio of 5: 1 and a coat weight of 5 g / m 2 for small particles.

상기 데이터는 적합하게 선택된 플레이크는 MVTR에 대해 놀라운 효과를 가질 수 있음을 나타낸다. 예를 들면, 상기 표는 나일론 필름의 MVTR이 75 g/㎡-day로부터 1.8 g/㎡-day로 감소되며, 최상의 조건은 높은 P:B, 작은 입자 크기(예를 들면 본 발명의 옹스트롬 스케일 플레이크) 및 높은 코트 중량임을 나타낸다. 추가의 테스트 데이터는 훨씬 양호한 결과를 나타낸다.The data indicate that suitably selected flakes can have surprising effects on MVTR. For example, the table shows that the MVTR of a nylon film is reduced from 75 g / m 2 -day to 1.8 g / m 2 -day, with the best conditions being high P: B, small particle size (eg Angstrom scale flakes of the invention). ) And high coat weight. Further test data shows much better results.

이들 데이터에 의거하면, 예를 들면 옹스트롬 스케일 입자(두께가 약 100Å 미만이고 입자 크기가 약 20㎛ 미만인 것)에 대한 적용은 수분 투과 장벽 재료를 포함할 수 있다. 사용 시, 플레이크는 본질적으로 공통 평면에 평행하게 늘어서며 플레이크 함유 필름을 관통하는 물 분자에 대한 장벽을 형성한다. 예를 들면 유리 플레이크와 같은 플레이크는 가소제 이동을 억제하기 위해 PVC와 같은 폴리머 필름 내에 사용될 수 있다.Based on these data, for example, application to angstrom scale particles (those having a thickness of less than about 100 microns and a particle size of less than about 20 microns) can include a moisture permeation barrier material. In use, the flakes essentially line up parallel to the common plane and form a barrier to water molecules passing through the flake containing film. For example, flakes such as glass flakes can be used in polymer films such as PVC to inhibit plasticizer migration.

전기적 응용Electrical applications

릴리스 코팅된 캐리어를 고속으로 이동시킴으로써 알루미늄과 같이 증착된 금속은 불연속 아일랜드(discrete islands)(앞에서 설명한 나노-입자)를 생성할 것이다. 이들 입자(릴리스층으로부터 제거했을 때)는 플레이크 함유 필름 내에서 블렌딩되거나, 그 자체로 폴리머 필름 내에 사용될 수 있다. 나노-입자 함유 필름은 전기적 용량을 증가시킬 수 있다. 전기용량은 유전 상수 및 면적에 비례하며, 커패시터 플레이트들 사이의 이격 거리에 반비례한다. 상대적으로 큰 입자 크기 플레이크들 사이에 분산된 나노-입자는 유전 상수를 증가시키며, 따라서 전기용량을 증가시킨다.By moving the release coated carrier at high speed, the deposited metal, such as aluminum, will create discrete islands (the nano-particles described above). These particles (when removed from the release layer) can be blended in the flake containing film or used as such in the polymer film. Nano-particle containing films can increase electrical capacity. Capacitance is proportional to the dielectric constant and area, and inversely proportional to the separation distance between the capacitor plates. Nano-particles dispersed between relatively large particle size flakes increase the dielectric constant, thus increasing the capacitance.

나노입자에 대한 그 밖의 용도는 Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings, "Nucleation, Film Growth, and Microstructural Evolution," Joseph Green, Noyes Publication(1994)에 기재되어 있다.Other uses for nanoparticles are described in Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings, "Nucleation, Film Growth, and Microstructural Evolution," Joseph Green, Noyes Publication (1994).

다층 스트리핑 프로세스Multilayer stripping process

도 21을 참조해 볼 때, 다층 증착 장치(250)는 증착 체임버(254) 및 스트리핑 체임버(256)를 포함하는, 서로 인접한 진공 부분들로 각각 분리되어 있는 진공 체임버(252)를 포함한다. 이 2개의 체임버는 1개 이상의 다이내믹 록(dynamic lock)(258)에 의해 나뉘어져 있어, 한 체임버에 나타나는 진공 압력이 그와 인접한 체임버에서 나타나는 진공 압력과 독립된 수준이 되도록 하거나, 또는 이러한 수준이 유지될 수 있다. 증착 표면 또는 기판, 바람직하게는 이음매 없는 벨트(260)의 형태인 증착 표면 또는 기판은 상기 증착 체임버를 지나서 상기 다이내믹 록을 통과한 다음, 스트리핑 체임버로 도입된다. 이 이음매 없는 벨트는 스테인리스 스틸 또는 고온 폴리머와 같은 적절한 재료로 제조될 수 있다. 상기 이음매 없는 벨트의 한쪽 단부는 증착 체임버 내에 업스트림 가이드 롤(upstream guide roll)(262) 주위에 감겨 있고, 상기 벨트의 다른 쪽 단부는 스트리핑 체임버 내에 다운스트림 가이드 롤(264) 주위에 감겨 있다.Referring to FIG. 21, the multilayer deposition apparatus 250 includes a vacuum chamber 252, each separated into adjacent vacuum portions, including a deposition chamber 254 and a stripping chamber 256. These two chambers are divided by one or more dynamic locks 258 so that the vacuum pressure present in one chamber is at a level independent of, or maintained at, the vacuum pressure present in the adjacent chamber. Can be. The deposition surface or substrate, which is in the form of a deposition surface or substrate, preferably seamless belt 260, passes through the dynamic lock past the deposition chamber and then is introduced into a stripping chamber. This seamless belt can be made of a suitable material such as stainless steel or high temperature polymer. One end of the seamless belt is wound around an upstream guide roll 262 in a deposition chamber, and the other end of the belt is wound around a downstream guide roll 264 in a stripping chamber.

상기 증착 체임버는 개별 증류기와 같은, 축방향으로 간격을 둔 일련의 진공 증착 소스를 포함하며, 상기 증착 소스는 이음매 없는 밸트가 증착 체임버를 통과하는 방향으로, 상기 벨트의 바닥 가동면(bottom run)(266)을 따라 배열된다. 상기 증착 소스는 전술한 바와 같은 임의의 릴리스 코트 재료 또는 플레이크 재료 증착 소스일 수 있다. 예를 들어, 도 21의 실시예에서는 상기 증착 소스가 전술한 바와 같이, 해당 열가소성의 용해성 릴리스 코트층에 피복된 증착 금속층을 교대시킨 다층 스택을 적용하기 위해, 릴리스 코트 증착 소스(268) 및 금속 증착 소스(270)를 교대로 포함할 수 있다. 또한, 인접한 릴리스 코트층들 사이에 다층 플레이크 재료 코팅을 적용하기 위해, 상기 증착 소스가 1개의 릴리스 코트 소스 및 상기 소스에 인접하여 간격을 두고 배치된 복수 개의 플레이크 재료 소스를 교대로 포함할 수 있다. 아울러, 기타 실시예에서도 상기 증착 체임버 내에서 릴리스 코트/플레이크층 재료를 전술한 바와 같이 피복되도록 이용할 수 있다.The deposition chamber comprises a series of axially spaced vacuum deposition sources, such as individual distillers, wherein the deposition source is a bottom run of the belt in the direction that the seamless belt passes through the deposition chamber. Arranged along 266. The deposition source can be any release coat material or flake material deposition source as described above. For example, in the embodiment of FIG. 21, the deposition source deposition source 268 and the metal may be applied to the deposition source in order to apply a multilayer stack of alternating deposition metal layers coated on the thermoplastic soluble release coat layer, as described above. Deposition sources 270 may be alternately included. Further, in order to apply a multilayer flake material coating between adjacent release coat layers, the deposition source may alternately include one release coat source and a plurality of flake material sources disposed spaced adjacent to the source. . In addition, other embodiments may be used to coat the release coat / flake layer material in the deposition chamber as described above.

전술한 바와 같이 상기 릴리스 재료 및 플레이크 재료의 증착층들을 효과적으로 피복하는데 필요한 증착 체임버 내의 진공 수준을 형성하기 위해, 상기 증착 체임버를 하부로 펌핑한다. 상기 증착 체임버 내에서의 진공 압력 상태는 그와 인접한 스트리핑 체임버에서 조작되는 진공 압력 상태에 독립되어 있다.The deposition chamber is pumped down to form a vacuum level in the deposition chamber required to effectively coat the deposition layers of the release and flake materials as described above. The vacuum pressure state in the deposition chamber is independent of the vacuum pressure state operated in the stripping chamber adjacent thereto.

상기 스트리핑 체임버 내에서는 상기 플레이크 재료 및 개재하는 릴리스 코트층의 다층 증착물이 이음매 없는 벨트로부터 주기적으로 제거된다. 도시된 실시예에서 미닫이문(sliding door) 형태의 진공 록(272)은 상기 스트리핑 체임버 바닥에 설치된, 하방에 대면되는 오프닝(274)에 밀봉된다. 상기 스트리핑 체임버 밑에 설치된 외부의 진공 하우징(276)은 상기 진공 록 및 상기 스트리핑 체임버 바닥에 설치된 오프닝의 주위를 둘러싼다. 상기 외부의 진공 하우징은 상기 이음매 없는 벨트의 아래쪽 가동면(280) 아래에 간격을 두고 설치된, 하방에 대면되는 저부 오프닝(278)을 포함하며, 상기 이음매 없는 벨트 상에 재료의 다층 증착물은 이 저부오프닝으로부터 스트리핑된다.Within the stripping chamber, the multilayer deposits of the flake material and the intervening release coat layer are periodically removed from the seamless belt. In the illustrated embodiment, a vacuum lock 272 in the form of a sliding door is sealed to an opening 274 facing down, installed at the bottom of the stripping chamber. An outer vacuum housing 276 installed under the stripping chamber surrounds the opening of the vacuum lock and the bottom of the stripping chamber. The outer vacuum housing includes a bottom facing bottom opening 278 spaced below the bottom movable surface 280 of the seamless belt, wherein the multilayer deposit of material on the seamless belt is a bottom portion. Stripped from the opening.

상기 진공 증착 장치에 대해 독립적으로 이동 가능한 롤링 카트(282)는 상기 이음매 없는 벨트로부터 스트리핑된 플레이크/릴리스 코트 재료를 포집하는 데 이용된다. 상기 롤링 카트는 수압 피스톤 팔(288)의 왕복 운동 또는 기타 리프트 메커니즘에 의해 수직 방향으로 운동이 가능한 플랫폼(286) 상에 지지된, 상방에 대면되는 크레이들(cradle)(284)을 포함한다. 상기 크레이들은 수직 방향으로 왕복 운동을 하는 수압 피스톤 팔(289)에 의해 플랫폼 상에 지지되어 있다. 도시한 실시예에서 크레이들은 상기 이음매 없는 벨트로부터 다층 증착물을 물리적으로 제거, 즉, 건식 스트리핑하기 위한 기계적 수단, 또는 상기 벨트로부터 다층 증착물을 제거하기 위해 압력 하에서 유기 용매와 같은 액상의 용매를 플레이크층 위로 분출시키는 파워 스프레이 장치를 수용할 수 있는 스트리핑 메커니즘(290)을 포함한다.A rolling cart 282 independently movable with respect to the vacuum deposition apparatus is used to capture the flake / release coat material stripped from the seamless belt. The rolling cart includes an upwardly facing cradle 284 supported on a platform 286 that is movable in the vertical direction by the reciprocating motion or other lift mechanism of the hydraulic piston arm 288. The cradle is supported on the platform by a hydraulic piston arm 289 which reciprocates in the vertical direction. In the illustrated embodiment, the cradle flakes a liquid solvent, such as an organic solvent, under pressure to physically remove the multilayer deposit from the seamless belt, ie, mechanical means for dry stripping, or to remove the multilayer deposit from the belt. It includes a stripping mechanism 290 that can receive a power spray device that blows up.

상기 진공 증착 장치를 통상적으로 조작하는 데 있어서, 증착 체임버 및 스트리핑 체임버는 둘 다 대기압 미만의 진공 압력으로 펌핑된다. 상기 스트리핑 체임버 내의 진공 압력은 상기 증착 체임버 내 진공 압력보다 높은 수준일 수 있으며, 앞서 언급한 바와 같이 대기압 미만인 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시예에서는 상기 증착 체임버 내에서의 진공 압력 상태가 약 10-3mbar 미만의 진공도로 수행된다. 상기 스트리핑 체임버 내에서의 진공 압력 상태는 약 0.5 mbar 내지 200 mbar 범위의 진공도로 수행되는 것이 바람직하다. 이러한 압력 상태는 스트리핑 프로세스에 사용되는 용매의 증기압에 따라 다르며, 종래 기술에 공지된 진공 압력 상태로 조정될 수 있다.In conventional operation of the vacuum deposition apparatus, both the deposition chamber and the stripping chamber are pumped to a vacuum pressure below atmospheric pressure. The vacuum pressure in the stripping chamber may be at a level higher than the vacuum pressure in the deposition chamber, preferably as below mentioned below atmospheric pressure. In one embodiment of the invention, the vacuum pressure in the deposition chamber is carried out with a vacuum of less than about 10 −3 mbar. The vacuum pressure state in the stripping chamber is preferably carried out with a vacuum degree in the range of about 0.5 mbar to 200 mbar. This pressure state depends on the vapor pressure of the solvent used in the stripping process and can be adjusted to a vacuum pressure state known in the art.

도 22 및 도 23에는 스트리핑 프로세스를 도시한 것이다. 본 발명의 프로세스에 따르면, 상기 증착 체임버 내에서 수행되는 증착 프로세스에 의해 상기 이음매 없는 벨트 상에 복수 개의 증착 재료층을 적층할 수 있다. 상기 이음매 없는 벨트에 다층 증착물이 적층됨에 따라, 상기 벨트는 상기 스트리핑 체임버를 계속 통과한다. 상기 이음매 없는 벨트의 속도는 증착 조작 시에는 비교적 높은 속도로 조작되며, 이어서, 스트리핑 체임버 내에 상기 벨트로부터 다층 증착물이 스트리핑될 때에는 상기 벨트의 속도가 상당히 낮아진다. 이와 동시에, 상기 스트리핑 체임버 내에서는 진공 압력이 유지되어 증착물이 제거되는 동안, 상기 증착 체임버 내에 증착 소스는 저속으로 공전한다.22 and 23 illustrate the stripping process. According to the process of the present invention, it is possible to deposit a plurality of layers of deposition material on the seamless belt by a deposition process performed in the deposition chamber. As multilayer deposits are deposited on the seamless belt, the belt continues to pass through the stripping chamber. The speed of the seamless belt is operated at a relatively high speed during the deposition operation, and then the speed of the belt is significantly lowered when the multilayer deposit is stripped from the belt in the stripping chamber. At the same time, the deposition source in the deposition chamber revolves at low speed while the vacuum pressure is maintained in the stripping chamber to remove the deposit.

도 22는 상기 스트리핑 공정의 초기 단계를 도시한 것이다. 롤링 카트(282)는 외부의 진공 하우징(276)의 저부 오프닝(278) 하부에 설치되며, 상기 수압 피스톤(288)은, 상기 플랫폼을 상기 저부 오프닝에 대한 압력 미만의 수준으로 유지되는 카트의 바깥쪽으로 들어올리도록 활성화된다. 상기 저부 오프닝은 상기 하우징 내부에 있는 카트의 크레이들 부분을 밀봉한다. 진공 록(272)은 상기 스트리핑 체임버 내 압력을 상기 크레이들 주위에 존재하는 밀봉된 하우징 내부로부터 격리시키기 위해, 상기 스트리핑 체임버의 오프닝에 밀봉된 상태로 존재한다. 그 자리에 설치된 카트와 함께, 상기 하우징 내부로부터 상기 스트리핑 체임버 내에서 유지되는 진공 압력 수준과 균형을 이룬 수준으로 진공시킨다. 압력 평형과 함께, 진공록(272)을 개방한다. 도 23에 도시한 바와 같이, 이 진공 록은 밀봉된 위치에서 이탈하여 하우징 내부로 미끄러져 들어가고, 이로써 상기 스트리핑 체임버와 상기 카트의 크레이들 부분 사이에 오프닝(274)이 개봉된다. 그런 다음, 스트리핑될 다층 증착물에 인접한 벨트의 바닥 가동면(280)의 바로 아래 위치로 상기 크레이들을 들어 올리도록, 수압 피스톤 팔(288)이 활성화된다. 이 위치에서 스트리핑 메커니즘(290)이 활성화되어, 상기 이음매 없는 벨트의 바닥으로부터 다층 증착물이 제거된다. 전술한 바와 같이, 다층 증착물은 카트에 수용된 스트리핑 메커니즘(290)에 의해 제거되며, 이 때, 상기 스트리핑 메커니즘은 증착물을 물리적으로 제거하기 위한 기계적 수단, 또는 유기 용매와 같은 적절한 액체를 이용한 파워 스프레이(power spray)일 수 있다. 본 발명에서는 증착물을 매개물로부터 건식 스트리핑하는 것이 바람직하다. 상기 벨트에서 제거된 재료는 중력 방향으로 상기 크레이들 내에 떨어진다. 증착 재료의 제거는 스트리핑 체임버(256) 및 하부 하우징(276)의 내부가 대기압 미만의 진공 압력 상태일 때 일어난다.Figure 22 illustrates the initial stage of the stripping process. The rolling cart 282 is installed below the bottom opening 278 of the outer vacuum housing 276 and the hydraulic piston 288 is outside of the cart, which holds the platform at a level below the pressure for the bottom opening. It is activated to lift to the side. The bottom opening seals the cradle portion of the cart inside the housing. The vacuum lock 272 is sealed in the opening of the stripping chamber to isolate the pressure in the stripping chamber from inside the sealed housing present around the cradle. With the cart installed in place, the vacuum is evacuated to a level balanced with the vacuum pressure level maintained in the stripping chamber from within the housing. With the pressure balance, the vacuum lock 272 is opened. As shown in Fig. 23, this vacuum lock is released from the sealed position and slides into the housing, thereby opening the opening 274 between the stripping chamber and the cradle portion of the cart. The hydraulic piston arm 288 is then activated to lift the cradle to a position just below the bottom movable surface 280 of the belt adjacent to the multilayer deposit to be stripped. In this position, the stripping mechanism 290 is activated to remove the multilayer deposit from the bottom of the seamless belt. As noted above, the multilayer deposit is removed by a stripping mechanism 290 housed in a cart, where the stripping mechanism is a mechanical means for physically removing the deposit, or a power spray using an appropriate liquid, such as an organic solvent. power spray). In the present invention, it is preferred to dry strip the deposit from the medium. Material removed from the belt falls into the cradle in the direction of gravity. Removal of the deposition material occurs when the interiors of the stripping chamber 256 and the lower housing 276 are under vacuum pressure below atmospheric pressure.

증착 재료를 제거한 다음, 상기 진공 록(272)을 닫아 진공을 밀봉하고, 그 후, 카트를 도 23에 도시된 위치로부터 바깥쪽으로 롤링한다. 이 때, 상기 진공 하우징은 밀봉된 상태가 되고, 상기 크레이들은 더 낮은 위치로 내려간다. 이어서, 상기 스트리핑 체임버의 압력을 대기압 미만의 낮은 압력으로 유지시키면서, 상기 스트리핑 체임버가 밀봉되도록 진공 록(272)을 닫는다. 그런 다음에는, 상기 카트의 플랫폼 부분이 하우징(276)의 저부 오프닝(278)으로부터 이탈하여 낮아진다. 카트의 위치가 낮아짐으로써 하부의 하우징이 개방되고, 하부의 하우징에 대기압이 제공된다. 이어서, 제거된 플레이크 제료의 추가 처리를 위해 상기 카트를 제거한다. 용해된 릴리스 코트 물질로부터 플레이크 재료의 제거를 완료하기 위해, 또한 앞서 설명한 바와 같이 원하는 입자 크기의 플레이크 재료를 생성하도록 추가 처리하기 위해, 제거된 재료가 대기압 상태에서 처리된다.After removing the deposition material, the vacuum lock 272 is closed to seal the vacuum, after which the cart is rolled outward from the position shown in FIG. At this time, the vacuum housing is sealed and the cradle is lowered to a lower position. The vacuum lock 272 is then closed to seal the stripping chamber while maintaining the pressure of the stripping chamber at a pressure below atmospheric pressure. The platform portion of the cart is then lowered away from the bottom opening 278 of the housing 276. The lower position of the cart opens the lower housing and provides atmospheric pressure to the lower housing. The cart is then removed for further processing of the removed flake material. The removed material is processed at atmospheric pressure to complete removal of the flake material from the dissolved release coat material and further processing to produce a flake material of the desired particle size as described above.

그런 다음, 상기 증착 체임버 내에 증착 소스(268, 170)가 활성화되고, 다층 증착 재료의 추가적인 증착을 위해 상기 이음매 없는 벨트를 다시 생성 속도로 가동할 수 있다.Deposition sources 268 and 170 are then activated in the deposition chamber and the seamless belt can be run again at a production rate for further deposition of the multilayer deposition material.

본 발명은 다층 플레이크 재료를 제조 및 스트리핑하기 위한 반연속 프로세스로서, 이음매 없는 벨트와 같은 증착 표면의 속도가 증착 공정 중에는 고속으로, 스트리핑 상태에서는 그보다 감소된 속력으로 조작될 수 있는 프로세스를 제공한다. 상기 증착 체임버 및 스트리핑 체임버 내의 진공 압력은 대기압 미만의 수준으로 유지되므로, 많은 체임버를 진공화하는 데 필요한 에너지를 절감할 수 있다.The present invention provides a semi-continuous process for fabricating and stripping multilayer flake materials, wherein the speed of the deposition surface, such as a seamless belt, can be manipulated at high speeds during the deposition process and at reduced speeds in the stripping state. Since the vacuum pressure in the deposition chamber and the stripping chamber is maintained at a level below atmospheric pressure, it is possible to reduce the energy required to evacuate many chambers.

Claims (53)

다층 증착 플레이크 재료의 제조 방법으로서,A method for producing a multilayer deposited flake material, (a) 진공 증착 체임버 및 상기 체임버에 인접한 스트리핑 체임버를 가지며 상기 각각의 체임버 내 진공 압력이 개별적으로 제어 가능한, 진공 증착 장치를 제공하는 단계;(a) providing a vacuum deposition apparatus having a vacuum deposition chamber and a stripping chamber adjacent the chamber, wherein the vacuum pressure in each chamber is individually controlled; (b) 이음매 없는 벨트 형태의 증착 표면을 상기 증착 체임버 및 스트리핑 체임버에 통과시키는 단계;(b) passing a deposition surface in the form of a seamless belt through the deposition chamber and the stripping chamber; (c) 상기 증착 체임버 내에서, 증기화된 폴리머 릴리스 코트 재료 및 플레이크 재료의 증착층을, 개재된(intervening) 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 다층 증착물이 상기 증착 표면 상에 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하고, 상기 증착물의 연속층들이 상기 증착 표면에 증착되는 동안, 상기 증착 표면 상의 다층 증착물은 상기 스트리핑 체임버를 통과하는 단계; 및(c) in the deposition chamber, a multi-layer deposit in which the deposited layer of vaporized polymer release coat material and flake material is separated by an intervening release coat layer and deposited on the surface of the release coat layer. Alternately depositing on the deposition surface under vacuum so as to be sequentially deposited on the substrate, while the multilayer deposits on the deposition surface pass through the stripping chamber while successive layers of the deposit are deposited on the deposition surface; And (d) 상기 증착 체임버 내에서의 플레이크 재료 및 릴리스 코트 재료의 증착이 중단된 상태에서, 상기 스트리핑 체임버 내에서 다층 증착물을 제거하되, 상기 스트리핑 체임버의 압력을 대기압 미만의 진공 압력 상태로 유지하면서 제거하는 단계(d) while deposition of the flake material and release coat material in the deposition chamber is stopped, removing the multilayer deposit in the stripping chamber while removing the pressure of the stripping chamber while maintaining the vacuum pressure below atmospheric pressure. Steps to 를 포함하는 방법.How to include. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 증착 체임버 내에서 상기 증착층의 적층 시에는 증착 표면이 비교적 고속으로 조작되고, 상기 스트리핑 체임버 내에서 상기 증착 표면으로부터 증착층의 제거 시에는 상기 증착 표면이 비교적 낮은 속도로 서서히 조작되는The deposition surface is operated at a relatively high speed when the deposition layer is stacked in the deposition chamber, and the deposition surface is slowly operated at a relatively low speed when the deposition layer is removed from the deposition surface in the stripping chamber. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 증착층이 상기 스트리핑 체임버 내에서 유지되는 진공 압력보다 낮은 진공 압력에서 증착되는The deposition layer is deposited at a vacuum pressure lower than the vacuum pressure maintained in the stripping chamber. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 진공 증착 체임버 내에서의 진공 압력과 상기 스트리핑 체임버 내에서의 진공 압력을 분리시키는 단계를 포함하고,Separating the vacuum pressure in the vacuum deposition chamber and the vacuum pressure in the stripping chamber, 상기 다층 증착물이,The multilayer deposit, 상기 스트리핑 체임버에 인접하고 서로 소통되는 진공 하우징에 플레이크 포집 장치를 설치하고; 상기 포집 장치를 상기 스트리핑 체임버 내에서의 진공 압력과 유사한 진공 압력 환경으로 유지시키기 위해, 상기 플레이크 포집 장치를 상기 진공 하우징에 밀봉하고; 상기 진공 하우징에 밀봉된 포집 장치를 이용하여, 상기 플레이크 포집 장치에서 상기 증착 표면으로부터 제거된 증착 재료를 포집하는 단계에 의해 상기 증착 표면으로부터 제거되는Install a flake collection device in a vacuum housing adjacent the stripping chamber and in communication with each other; Sealing the flake collecting device in the vacuum housing to maintain the collecting device in a vacuum pressure environment similar to the vacuum pressure in the stripping chamber; Using the capture device sealed in the vacuum housing, the flake capture device is removed from the deposition surface by collecting the deposition material removed from the deposition surface. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 플레이크 포집 장치가 상기 진공 하우징에 밀봉되고 개봉되는 증착 장치의 외부로 이동 가능한The flake collecting device is movable outside of the deposition apparatus sealed and opened in the vacuum housing. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 플레이크 포집 장치가 상기 스트리핑 장치 내에서 증착 표면으로부터 다층 증착물을 물리적으로 제거하는데 이용되는 플레이크 제거 장치를 포함하는The flake capture device comprises a flake removal device that is used to physically remove the multilayer deposit from the deposition surface in the stripping device. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 플레이크 재료의 다층 증착물을 제조하는 방법으로서,A method of making a multilayer deposit of flake material, (a) 증착 표면을 증착 체임버 및 상기 증착 체임버에 인접한 스트리핑 체임버에 통과시키는 단계;(a) passing a deposition surface through a deposition chamber and a stripping chamber adjacent the deposition chamber; (b) 증착 체임버 내에서 상기 증착 표면에 대기압 미만의 압력으로 릴리스 코트층과 플레이크 재료층이 교대하는 다층 증착물을 증착시키는 단계;(b) depositing alternate deposition layers of release coat and flake material layers on said deposition surface at sub-atmospheric pressure in a deposition chamber; (c) 상기 증착 속도를 감소시킨 다음, 상기 증착 표면에 상기 다층 증착물을 적층시키고, 상기 스트리핑 체임버 내에서는 상기 스트리핑 체임버의 압력을 대기압 미만으로 유지시키면서, 증착 표면으로부터 다층 증착물을 제거하는 단계(c) reducing the deposition rate, then depositing the multilayer deposit on the deposition surface and removing the multilayer deposit from the deposition surface while maintaining the pressure of the stripping chamber below atmospheric pressure in the stripping chamber. 를 포함하는 방법.How to include. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 플레이크층 및 릴리스층 재료의 증착은 증착 표면을 서서히 이동시키고, 상기 증착 표면으로부터 증착물이 제거되는 상태에서 조작되는Deposition of the flake layer and release layer material is manipulated while slowly moving the deposition surface and removing deposits from the deposition surface. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 증착 체임버 내에서 상기 증착층의 적층 시에는 상기 증착 표면이 비교적 고속으로 조작되고, 상기 스트리핑 체임버 내에서 상기 증착 표면으로부터 증착층을 제거 시에는 상기 증착 표면이 비교적 낮은 속도로 서서히 조작되는The deposition surface is operated at a relatively high speed when the deposition layer is stacked in the deposition chamber, and when the deposition layer is removed from the deposition surface in the stripping chamber, the deposition surface is slowly operated at a relatively low speed. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 증착층이 상기 스트리핑 체임버 내에서 유지되는 진공 압력보다 낮은 진공 압력에서 증착되는The deposition layer is deposited at a vacuum pressure lower than the vacuum pressure maintained in the stripping chamber. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 진공 증착 체임버 내에서의 진공 압력과 상기 스트리핑 체임버 내에서의 진공 압력을 분리시키는 단계를 포함하고,Separating the vacuum pressure in the vacuum deposition chamber and the vacuum pressure in the stripping chamber, 상기 다층 증착물이,The multilayer deposit, 상기 스트리핑 체임버에 인접하고 서로 소통되는 진공 하우징에 플레이크 포집 장치를 설치하고; 상기 포집 장치를 상기 스트리핑 체임버 내에서의 진공 압력과 유사한 진공 압력 환경으로 유지시키기 위해, 상기 플레이크 포집 장치를 상기 진공 하우징에 밀봉하고; 상기 진공 하우징에 밀봉된 포집 장치를 이용하여, 상기 플레이크 포집 장치에서 상기 증착 표면으로부터 제거된 증착 재료를 포집하는 단계에 의해 상기 증착 표면으로부터 제거되는Install a flake collection device in a vacuum housing adjacent the stripping chamber and in communication with each other; Sealing the flake collecting device in the vacuum housing to maintain the collecting device in a vacuum pressure environment similar to the vacuum pressure in the stripping chamber; Using the capture device sealed in the vacuum housing, the flake capture device is removed from the deposition surface by collecting the deposition material removed from the deposition surface. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 플레이크 포집 장치가 상기 진공 하우징에 밀봉되고 개봉되는 증착 장치의 외부로 이동 가능한The flake collecting device is movable outside of the deposition apparatus sealed and opened in the vacuum housing. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 플레이크 포집 장치가 상기 스트리핑 장치 내에서 증착 표면으로부터 다층 증착물을 물리적으로 제거하는데 이용되는 플레이크 제거 장치를 포함하는The flake capture device comprises a flake removal device that is used to physically remove the multilayer deposit from the deposition surface in the stripping device. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스 및 금속 증착 소스를 각각 상기 증착 표면을 향하도록 제공하는 단계; 및Providing a release coat source and a metal deposition source toward the deposition surface, respectively, in the vacuum deposition chamber; And 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 플레이크 증착 소스로부터 증착된 플레이크 재료층을, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 다층 증착물이 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하는 단계를 포함하며,The polymer release coat layer vaporized from the release coat source and the flake material layer deposited from the flake deposition source are sequentially stacked so that a multilayer deposition separated by an intervening release coat layer and deposited on the surface of the release coat layer is deposited. Alternately depositing on the deposition surface under vacuum; 상기 릴리스 코트층이, 각각이 플레이크 재료층이 형성된 평탄하고 연속인 용매 가용성 및 용해성 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 진공 하에서 증기화된 열가소성 폴리머 재료를 포함하는The release coat layer comprises a thermoplastic polymer material vaporized under vacuum such that a flat, continuous solvent soluble and soluble barrier layer and a support surface, each having a flake material layer formed thereon, are formed. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 다층 증착물을 상기 스트리핑 체임버 내에서 제거한 다음, 상기 릴리스 코트층을 용해하는 용매로 처리하고 플레이크를 분리하여, 본질적으로 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 평탄하고 납작한 표면을 갖는 플레이크를 생성하는 단계를 포함하는 것을Removing the multilayer deposit in the stripping chamber and then treating the release coat layer with a solvent that dissolves and separates the flakes to produce a flake having a flat, flat surface that is essentially free of release coat material. To do 특징으로 하는 방법.How to feature. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 플레이크층이 원소 형태의 금속, 무기 재료 및 비금속으로 이루어진 군으로부터 선택되는 증착 재료를 포함하는The flake layer comprises a deposition material selected from the group consisting of metals, inorganic materials and nonmetals in elemental form. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 비금속이 일산화규소, 이산화규소 또는 폴리머 재료를 포함하고, 상기 무기 재료가 플루오르화 마그네슘, 일산화규소, 이산화규소, 산화알루미늄, 플루오르화알루미늄, 산화인듐주석, 이산화티탄 및 황화아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는The base metal comprises silicon monoxide, silicon dioxide or a polymer material, and the inorganic material is selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, aluminum fluoride, indium tin oxide, titanium dioxide and zinc sulfide felled 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 릴리스 코트 재료가 스티렌 또는 아크릴 폴리머, 또는 이들의 블렌드로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.Wherein said release coat material is selected from styrene or acrylic polymers, or blends thereof. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 플레이크층이 약 400Å 미만의 필름 두께로 증착되는 것을 특징으로 하는 방법.And wherein said flake layer is deposited to a film thickness of less than about 400 microseconds. 금속 플레이크의 제조 방법으로서,As a method for producing a metal flake, 증착 표면을 수용하는 진공 증착 체임버를 제공하는 단계;Providing a vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스, 금속 증착 소스 및 고에너지 방사선 소스를 각각 증착 표면 방향을 향하도록 제공하는 단계;Providing a release coat source, a metal deposition source, and a high energy radiation source in the vacuum deposition chamber to face the deposition surface, respectively; 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 금속 증착 소스로부터 증착 금속층을, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 다층 증착물이 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하는 단계; 및The polymer release coat layer vaporized from the release coat source and the deposited metal layer from the metal deposition source are sequentially deposited under vacuum such that a multilayer deposit separated by an intervening release coat layer and deposited onto the surface of the release coat layer is sequentially deposited. Alternately depositing onto the deposition surface; And 상기 다층 증착물을 상기 진공 체임버로부터 제거하여, 상기 릴리스 코트층을 용해하여 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 높은 반사성 거울형 표면을 갖는 단일층 금속 플레이크를 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써, 금속 플레이크로 분리하는 단계를 포함하고,By removing the multilayer deposit from the vacuum chamber and treating with an organic solvent that dissolves the release coat layer to produce a single layer metal flake having a highly reflective mirrored surface essentially free of the release coat material. Separating into metal flakes, 상기 릴리스 코트층은, 각각의 금속층이 형성된 평탄하고 연속인 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 진공 하에서 증기화되고 상기 증착 표면 상에 증착되어 상기 릴리스 코트 재료를 경화 및 가교시키기 위한 방사선 소스에 노출된 저밀도의 폴리머 재료를 포함하고,The release coat layer is vaporized under vacuum and deposited on the deposition surface to expose a radiation source for curing and crosslinking the release coat material such that each metal layer is formed with a flat continuous barrier layer and a support surface. Contains a low density polymer material, 상기 증착된 폴리머 릴리스 코트층은 유기 용매에 용해 가능하며,The deposited polymer release coat layer is soluble in an organic solvent, 상기 금속층은 약 400Å 미만의 필름 두께로 증착된, 원소 형태의 금속을 포함하는The metal layer comprises an elemental metal deposited with a film thickness of less than about 400 microns. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 릴리스층 및 금속층이 냉각된 회전 드럼과 열적으로 접촉하는 것을 특징으로 하는 방법.The release layer and the metal layer are in thermal contact with the cooled rotating drum. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 증착 금속층의 응축열이 앞서 증착된 릴리스층을 용융시키지 않을 정도인 릴리스 코트의 열전도성과 관련된 상기 릴리스 코트 재료의 유리 전이온도를 갖는Having a glass transition temperature of the release coat material associated with the thermal conductivity of the release coat such that the heat of condensation of the deposited metal layer does not melt the previously deposited release layer. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 릴리스 코트 재료가 스티렌 또는 아크릴 폴리머, 또는 이들의 블렌드로부터 선택되는Wherein said release coat material is selected from styrene or acrylic polymers, or blends thereof 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 금속층이 알루미늄, 구리, 은, 크롬, 주석, 아연, 인듐 및 니크롬으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.The metal layer is selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, chromium, tin, zinc, indium and nichrome. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 증착 금속층의 광학 밀도가 약 2.8 미만(MacBeth 농도계)인 것을 특징으로 하는 방법.And wherein the optical density of the deposited metal layer is less than about 2.8 (MacBeth densitometer). 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 릴리스 코트층이 약 200 내지 약 400Å 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.And wherein said release coat layer has a thickness in the range of about 200 to about 400 mm 3. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 금속 플레이크가 300 이상의 애스펙트 비(aspect ratio)를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.And said metal flakes have an aspect ratio of at least 300. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 증착물을 적층하기 위해, 상기 릴리스 코트/금속층의 조합이 10회 이상 반복적으로 적층된In order to deposit the deposit, the combination of the release coat / metal layer was repeatedly laminated at least 10 times. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 증착 표면을 수용하는 진공 증착 체임버를 제공하는 단계;Providing a vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스, 금속 증착 소스 및 고에너지 방사선 소스를 각각 증착 표면 방향을 향하도록 제공하는 단계;Providing a release coat source, a metal deposition source, and a high energy radiation source in the vacuum deposition chamber to face the deposition surface, respectively; 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 금속 증착 소스로부터 증착된 반사성 금속층을, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 다층 증착물이 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하는 단계; 및Vacuum depositing the polymer release coat layer vaporized from the release coat source and the reflective metal layer deposited from the metal deposition source to sequentially deposit the multilayer deposits separated by an intervening release coat layer and deposited on the surface of the release coat layer. Alternately depositing on the deposition surface under the; And 상기 다층 증착물을 상기 진공 체임버로부터 제거하여, 상기 릴리스 코트층을 용해하여 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 높은 반사성 거울형 표면을 갖는 단일층 알루미늄 플레이크를 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써, 금속 플레이크로 분리하는 단계를 포함하고,By removing the multilayer deposit from the vacuum chamber and treating with an organic solvent that dissolves the release coat layer to produce a single layer aluminum flake having a highly reflective mirrored surface essentially free of the release coat material. Separating into metal flakes, 상기 릴리스 코트층은 폴리스티렌 또는 아크릴 수지 또는 이들의 블렌드를 포함하는 진공 하에서 증기화된 폴리머 재료를 포함하고, 각각의 금속층이 형성된 평탄하고 연속인 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 상기 증착 표면에 증착되어, 상기 릴리스 코트 재료를 경화 및 가교시키기 위한 방사선 소스에 노출되고,The release coat layer comprises a polymeric material vaporized under vacuum comprising polystyrene or acrylic resin or blends thereof, and is deposited on the deposition surface such that a flat, continuous barrier layer and support surface on which each metal layer is formed are formed. Exposed to a radiation source for curing and crosslinking the release coat material, 상기 반사성 금속층은 약 400Å 미만의 필름 두께로 적용된, 원소 형태의 증착된 알루미늄을 포함하는The reflective metal layer comprises deposited aluminum in elemental form, applied to a film thickness of less than about 400 microns. 반사성 금속 플레이크이 제조 방법.Reflective metal flakes are the manufacturing method. 제29항에 있어서,The method of claim 29, 상기 증착물을 적층하기 위해, 상기 릴리스 코트/금속층의 조합이 10회 이상 반복적으로 적층된 것을 특징으로 하는 방법.Wherein the release coat / metal layer combination has been repeatedly stacked at least 10 times to deposit the deposit. 증착 표면을 수용하는 진공 증착 체임버를 제공하는 단계;Providing a vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스, 무기 플레이크 재료 증착 소스 및 고에너지 방사선 소스를 각각 상기 증착 표면 방향을 향하도록 증착하는 단계;Depositing a release coat source, an inorganic flake material deposition source and a high energy radiation source in the vacuum deposition chamber, respectively, facing the deposition surface direction; 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 플레이크 재료 증착 소스로부터 증착된 무기 재료를, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 다층 증착물이 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하는 단계; 및The polymer release coat layer vaporized from the release coat source and the inorganic material deposited from the flake material deposition source are sequentially stacked so that a multilayer deposition separated by an intervening release coat layer and deposited on the surface of the release coat layer is deposited. Alternately depositing on the deposition surface under vacuum; And 상기 다층 증착물을 상기 진공 체임버로부터 제거하여, 상기 릴리스 코트층을 용해하여 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 무기 재료의 단일층 플레이크를 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써, 무기 재료 플레이크로 분리하는 단계를 포함하고,The multilayer deposit is removed from the vacuum chamber and treated with an organic solvent that dissolves the release coat layer to produce a monolayer flake of inorganic material essentially free of the release coat material, thereby separating it into inorganic material flakes. Including the steps of: 상기 릴리스 코트층은 진공 하에서 증기화된 낮은 가교 밀도의 폴리머 재료를 포함하고, 각각의 무기 플레이크 재료층이 형성된 평탄하고 연속인 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 상기 증착 표면에 증착되어, 상기 릴리스 코트 재료를 경화 및 가교시키기 위한 방사선 소스에 노출되고,The release coat layer comprises a low crosslink density polymer material vaporized under vacuum and is deposited on the deposition surface such that a flat, continuous barrier layer and a support surface on which each inorganic flake material layer is formed, form the release surface, the release Exposed to a radiation source for curing and crosslinking the coat material, 상기 무기 플레이크 재료층은 플루오르화마그네슘, 일산화규소, 이산화규소, 산화알루미늄, 플루오르화알루미늄, 산화인듐주석, 이산화티탄 및 황화아연으로 이루어진 군에서 선택되는 증착된 무기 재료를 포함하는The inorganic flake material layer comprises a deposited inorganic material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, aluminum fluoride, indium tin oxide, titanium dioxide and zinc sulfide. 반사성 금속 플레이크의 제조 방법.Method for producing reflective metal flakes. 증착 표면을 수용하는 진공 증착 체임버를 제공하는 단계;Providing a vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스, 비금속 증착 소스 및 고에너지 방사선 소스를 각각 상기 증착 표면 방향을 향하도록 증착하는 단계;Depositing a release coat source, a non-metal deposition source and a high energy radiation source in the vacuum deposition chamber, respectively, facing the deposition surface direction; 상기 다층 증착물을 상기 진공 체임버로부터 제거하여, 상기 릴리스 코트층을 용해하여 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 단일층의 비금속 플레이크를 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써, 비금속 플레이크로 분리하는 단계를 포함하고,Removing the multilayer deposit from the vacuum chamber and treating it with an organic solvent that dissolves the release coat layer to produce a single layer of nonmetallic flakes essentially free of the release coat material, thereby separating it into nonmetallic flakes. Including, 상기 릴리스 코트층은 진공 하에서 증기화된 낮은 가교 밀도의 폴리머 재료를 포함하고, 각각의 비금속층이 형성된 평탄하고 연속인 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 상기 증착 표면에 증착되어, 상기 릴리스 코트 재료를 경화 및 가교시키기 위한 방사선 소스에 노출되고, 상기 증착된 릴리스 코트층은 유기 용매에 용해 가능하며,The release coat layer comprises a low crosslink density polymer material vaporized under vacuum and is deposited on the deposition surface such that a flat, continuous barrier layer and support surface on which each nonmetal layer is formed is formed, thereby providing the release coat material. Exposed to a radiation source for curing and crosslinking, the deposited release coat layer is soluble in an organic solvent, 상기 비금속층은 약 400Å 미만의 필름 두께로 증착되는The nonmetallic layer is deposited to a film thickness of less than about 400 microns. 비금속 플레이크의 제조 방법.Method for producing nonmetal flakes. 제32항에 있어서,33. The method of claim 32, 상기 비금속 재료가 일산화규소, 이산화규소 또는 폴리머 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.Wherein said non-metallic material comprises silicon monoxide, silicon dioxide or a polymeric material. 증착 표면을 수용하는 진공 증착 체임버를 제공하는 단계;Providing a vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스, 플레이크 증착 소스 및 고에너지 방사선 소스를 각각 상기 증착 표면 방향을 향하도록 증착하는 단계;Depositing a release coat source, a flake deposition source and a high energy radiation source in the vacuum deposition chamber, respectively, facing the deposition surface direction; 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 플레이크 증착 소스로부터 증착 플레이크 재료층을, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 다층 증착물이 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하는 단계; 및Vacuum depositing the polymer release coat layer vaporized from the release coat source and the deposition flake material layer from the flake deposition source to sequentially deposit the multilayer deposits separated by an intervening release coat layer and deposited on the surface of the release coat layer. Alternately depositing on the deposition surface under the; And 상기 다층 증착물을 상기 진공 체임버로부터 제거하여, 상기 릴리스 코트층을 용해하여 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 평탄하고 납작한 표면을 갖는 플레이크 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써, 플레이크로 분리하는 단계를 포함하고,Removing the multilayer deposit from the vacuum chamber and dissolving the release coat layer to treat it with an organic solvent that produces a flake having a flat and flat surface essentially free of the release coat material, thereby separating it into flakes. Including, 상기 릴리스 코트층은 진공 하에서 증기화된 낮은 가교 밀도의 폴리머 재료를 포함하고, 각각의 플레이크 재료층이 형성된 평탄하고 연속인 용매 가용성 및 용해 가능한 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 상기 증착 표면에 증착되어, 상기 릴리스 코트 재료를 경화 및 가교시키기 위한 방사선 소스에 노출되는The release coat layer comprises a low crosslink density polymer material vaporized under vacuum and is deposited on the deposition surface such that a flat, continuous solvent soluble and dissolvable barrier layer and support surface are formed on which each flake material layer is formed. Exposed to a radiation source for curing and crosslinking the release coat material. 플레이크의 제조 방법.Method of making flakes. 제34항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 증착물을 적층하기 위해, 상기 릴리스 코트/플레이크층의 조합이 10회 이상 반복적으로 적층된 것을 특징으로 하는 방법.Wherein the combination of release coat / flake layer has been repeatedly stacked at least 10 times to deposit the deposit. 제34항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 플레이크층이 원소 형태의 금속, 무기 재료 및 비금속으로 이루어진 군으로부터 선택되는 증착된 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.And wherein said flake layer comprises a deposited material selected from the group consisting of metals, inorganic materials and nonmetals in elemental form. 제36항에 있어서,The method of claim 36, 상기 비금속이 일산화규소, 이산화규소 또는 폴리머 재료를 포함하고, 상기 무기 재료가 플루오르화마그네슘, 일산화규소, 이산화규소, 산화알루미늄, 플루오르화알루미늄, 산화인듐주석, 이산화티탄 및 황화아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.The nonmetal comprises silicon monoxide, silicon dioxide or a polymer material, the inorganic material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, aluminum fluoride, indium tin oxide, titanium dioxide and zinc sulfide Characterized in that the method. 제37항에 있어서,The method of claim 37, 상기 릴리스 코트 재료가 스티렌 또는 아크릴 폴리머, 또는 이들의 블렌드로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.Wherein said release coat material is selected from styrene or acrylic polymers, or blends thereof. 제38항에 있어서,The method of claim 38, 상기 플레이크층이 약 400Å 미만의 필름 두께로 증착되는 것을 특징으로 하는 방법.And wherein said flake layer is deposited to a film thickness of less than about 400 microseconds. 증착 표면을 수용하는 진공 증착 체임버를 제공하는 단계;Providing a vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 릴리스 코트 소스, 플레이크 재료 증착 소스 및 고에너지 방사선 소스를 각각 상기 증착 표면 방향을 향하도록 증착하는 단계;Depositing a release coat source, a flake material deposition source, and a high energy radiation source in the vacuum deposition chamber to face the deposition surface direction, respectively; 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 플레이크 재료 증착 소스로부터 증착 플레이크층을, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 플레이크 재료층의 다층 스택(stack)이 순차적으로 적층되도록, 진공 하에서 상기 증착 표면 상에 교대로 증착하는 단계; 및A multilayer stack of flake material layers vaporized from the release coat source and deposited flake layers from the flake material deposition source separated by an intervening release coat layer and deposited on the surface of the release coat layer. Alternately depositing on the deposition surface under vacuum such that they are stacked sequentially; And 상기 다층 스택을 상기 진공 체임버로부터 제거하여, 상기 릴리스 코트층을 용해하여 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 단일층의 플레이크를 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써, 플레이크로 분리하는 단계를 포함하고,Removing the multilayer stack from the vacuum chamber and treating with an organic solvent that dissolves the release coat layer to produce a monolayer of flakes essentially free of the release coat material, thereby separating it into flakes. and, 상기 릴리스 코트층이, 각각에 플레이크 재료층이 형성된 평탄한 연속 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 상기 방사선 소스에 노출됨으로써 진공 하에서 경화 및 가교된 증착 표면 상에 증착된 가교 밀도가 낮은 폴리머 재료를 포함하고,The release coat layer comprises a low crosslinking density polymer material deposited on a deposition surface that has been cured and crosslinked under vacuum by exposure to the radiation source to form a flat continuous barrier layer and a support surface, each having a layer of flake material formed thereon. and, 상기 플레이크 재료층이 약 5 내지 약 500Å의 필름 두께로 적용된 증착 재료를 포함하는The flake material layer comprises a deposition material applied at a film thickness of about 5 to about 500 microns 옹스트롬 크기의 플레이크의 제조 방법.Method for preparing angstrom sized flakes. 제40항에 있어서,The method of claim 40, 상기 릴리스 코트 재료가 약한 결합 강도를 갖는 약하게 가교된 폴리머 재료 또는 사슬 연장에 의해 중합된 폴리머 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.Wherein said release coat material comprises a weakly crosslinked polymer material having a weak bond strength or a polymer material polymerized by chain extension. 제40항에 있어서,The method of claim 40, 상기 릴리스 코트 재료가, 상기 증착 금속층의 응축열이 앞서 증착된 릴리스층을 용융시키지 않도록 하는데 유리 전이온도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.And the release coat material has a glass transition temperature to prevent the heat of condensation of the deposited metal layer from melting the previously deposited release layer. 제40항에 있어서,The method of claim 40, 상기 릴리스 코트 재료가 스티렌 또는 아크릴 폴리머, 또는 이들의 블렌드로부터 선택되는Wherein said release coat material is selected from styrene or acrylic polymers, or blends thereof 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 제40항에 있어서,The method of claim 40, 상기 금속층이 알루미늄, 구리, 은, 크롬, 주석, 아연, 인듐 및 니크롬으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.The metal layer is selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, chromium, tin, zinc, indium and nichrome. 제40항에 있어서,The method of claim 40, 상기 진공 체임버가, 증착된 무기 플레이크층이 형성되도록 무기 플레이크 재료 증착 소스를 포함하고,The vacuum chamber comprises an inorganic flake material deposition source such that a deposited inorganic flake layer is formed, 상기 무기 플레이크층이 플루오르화마그네슘, 일산화규소, 이산화규소, 산화알루미늄, 플루오르화알루미늄, 산화인듐주석, 이산화티탄 및 황화아연으로 이루어진 군에서 선택되는 증착된 무기 재료를 포함하는The inorganic flake layer comprises a deposited inorganic material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, aluminum fluoride, indium tin oxide, titanium dioxide and zinc sulfide. 것을 특징으로 하는 방법.Characterized in that the method. 나노스케일의 플레이크를 제조하기 위한 장치로서,An apparatus for producing nanoscale flakes, 증착 표면을 수용한 진공 증착 체임버;A vacuum deposition chamber containing a deposition surface; 상기 진공 증착 체임버 내에 각각 상기 증착 표면 방향을 향하도록 되어 있는 릴리스 코트 소스 및 플레이크 증착 소스를 포함하며,A release coat source and a flake deposition source adapted to face the deposition surface direction in the vacuum deposition chamber, respectively, 상기 릴리스 코트 소스 및 플레이크 증착 소스는, 개재된 릴리스 코트층에 의해 분리되고 그 릴리스 코트층 표면에 증착되는 플레이크 재료의 불연속 아일랜드를 포함하는 플레이크 재료의 다층 증착물을 순차적으로 적층하기 위해, 상기 릴리스 코트 소스로부터 증기화된 폴리머 릴리스 코트층 및 상기 플레이크 증착 소스로부터 플레이크 재료의 증착된 불연속 아일랜드(discrete island)를 진공 하에서 상기 증착 표면에 교대로 증착되도록 제어되고,The release coat source and the flake deposition source are separated by an intervening release coat layer to sequentially deposit a multilayer deposit of flake material comprising discrete islands of flake material deposited on the surface of the release coat layer. A polymer release coat layer vaporized from the source and a deposited discrete island of flake material from the flake deposition source are controlled to alternately deposit on the deposition surface under vacuum; 상기 릴리스 코트층은, 각각의 플레이크 재료가 형성된 평탄하고 연속인 용매 가용성 및 용해 가능한 장벽층 및 지지 표면이 형성되도록, 진공 하에서 증기화된 폴리머 재료를 포함하고,The release coat layer comprises a polymeric material vaporized under vacuum such that a flat, continuous solvent soluble and soluble barrier layer and support surface on which each flake material is formed is formed, 상기 다층 증착물은, 상기 릴리스 코트층을 용해하고 본질적으로 상기 릴리스 코트 재료를 포함하지 않는 평탄하고 납작한 평면을 갖는 플레이크를 생성하는 유기 용매를 이용하여 처리함으로써 나노스케일의 플레이크 입자로 분리시키기 위해, 상기 진공 증착 체임버로부터 제거가 가능한The multilayer deposit is separated into nanoscale flake particles by treating with an organic solvent that dissolves the release coat layer and produces a flake having a flat and flat plane that is essentially free of the release coat material. Removable from vacuum deposition chamber 장치.Device. 제46항에 있어서,47. The method of claim 46 wherein 상기 플레이크층이 원소 형태의 금속, 무기 재료 및 비금속으로 이루어진 군으로부터 선택되는 증착된 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.And wherein said flake layer comprises a deposited material selected from the group consisting of metals, inorganic materials and nonmetals in elemental form. 제47항에 있어서,The method of claim 47, 상기 비금속이 일산화규소, 이산화규소 또는 폴리머 재료를 포함하고, 상기 무기 재료가 플루오르화마그네슘, 일산화규소, 이산화규소, 산화알루미늄, 플루오르화알루미늄, 산화인듐주석, 이산화티탄 및 황화아연으로 이루어진 군으로부터 선택되며, 상기 금속이 알루미늄, 구리, 은, 크롬, 인듐, 니크롬, 주석 및 아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는The nonmetal comprises silicon monoxide, silicon dioxide or a polymer material, the inorganic material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, aluminum fluoride, indium tin oxide, titanium dioxide and zinc sulfide Wherein the metal is selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, chromium, indium, nichrome, tin and zinc 것을 특징으로 하는 장치.Device characterized in that. 제46항에 있어서,47. The method of claim 46 wherein 상기 릴리스 코트 재료가 스티렌 또는 아크릴 폴리머, 또는 이들의 블렌드로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.And said release coat material is selected from styrene or acrylic polymers, or blends thereof. 제46항에 있어서,47. The method of claim 46 wherein 상기 플레이크층이 약 100 ㎚ 미만의 플레이크 두께(불연속 아일랜드)로 증착된 것을 특징으로 하는 장치.And wherein said flake layer is deposited to a flake thickness (discontinuous island) of less than about 100 nm. 제46항에 있어서,47. The method of claim 46 wherein 상기 릴리스 코트층이 열가소성 폴리머 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.And wherein said release coat layer comprises a thermoplastic polymer material. 제46항에 있어서,47. The method of claim 46 wherein 상기 릴리스 코트층이, 본질적으로 상기 릴리스 재료를 포함하지 않는 플레이크가 생성되도록 유기 용매에 용해 가능한 약하게 가교 결합된 수지 재료를 포함하는The release coat layer comprises a weakly crosslinked resin material that is soluble in an organic solvent such that flakes that are essentially free of the release material are produced. 것을 특징으로 하는 장치.Device characterized in that. 제46항에 있어서,47. The method of claim 46 wherein 상기 릴리스 코트층이 유기 용매에 용해 가능한 것을 특징으로 하는 장치.And said release coat layer is soluble in an organic solvent.
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