KR20040019173A - 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치 - Google Patents

웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20040019173A
KR20040019173A KR1020020050495A KR20020050495A KR20040019173A KR 20040019173 A KR20040019173 A KR 20040019173A KR 1020020050495 A KR1020020050495 A KR 1020020050495A KR 20020050495 A KR20020050495 A KR 20020050495A KR 20040019173 A KR20040019173 A KR 20040019173A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
sawing
stage
semiconductor
wafer table
Prior art date
Application number
KR1020020050495A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100476591B1 (ko
Inventor
김재홍
김희석
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR10-2002-0050495A priority Critical patent/KR100476591B1/ko
Priority to US10/638,360 priority patent/US6780734B2/en
Priority to JP2003298886A priority patent/JP2004088109A/ja
Publication of KR20040019173A publication Critical patent/KR20040019173A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100476591B1 publication Critical patent/KR100476591B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67144Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68318Auxiliary support including means facilitating the separation of a device or wafer from the auxiliary support
    • H01L2221/68322Auxiliary support including means facilitating the selective separation of some of a plurality of devices from the auxiliary support

Abstract

본 발명은 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치와 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치에 관한 것으로, 웨이퍼 테이프를 사용하지 않고 웨이퍼 쏘잉 공정을 진행하여 잘려진 반도체 소자를 주위의 다른 반도체 소자와의 기계적인 간섭없이 이송하여 소자 접착 공정을 진행하거나, 분리한 반도체 소자를 바로 반전시켜 트레이에 수납하기 위해서, 반도체 소자들과 상기 반도체 소자들을 구분하는 스크라이브 라인이 형성된 웨이퍼용 웨이퍼 테이블로서, 상기 웨이퍼가 놓여지는 흡착판으로, 상기 웨이퍼의 스크라이브 라인에 대응되게 쏘잉 가이드 홈이 형성된 흡착판과; 상기 웨이퍼의 반도체 소자들에 일대응 대응되게 상기 흡착판에 설치되며, 상하 왕복 이동을 하는 소자 흡착기와; 상단부에 상기 흡착판이 체결되어 설치되며, 상기 소자 흡착기 각각에 진공을 제공하는 진공 공급단;을 포함하며, 개별 반도체 소자들로 분리된 웨이퍼에서 반도체 소자를 분리하여 이송하기 위해서, 이송될 반도체 소자 아래에 있는 상기 소자 흡착기는 상승하여 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상기 이송될 반도체 소자를 분리시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지와, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치와 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치를 제공한다.

Description

웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치{Wafer table, apparatus for sawing wafer and attaching semiconductor device and apparaus for sawing wafer and sorting semiconductor device using the same}
본 발명은 반도체 패키지 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼 쏘잉에서부터 다이 접착까지 하나의 장치 내에서 진행할 수 있는 웨이퍼 쏘잉/다이 접착 장치에 관한 것이다.
통상적인 반도체 패키지 제조 공정은 분리되지 않은 웨이퍼 상태의 반도체 소자에 전기 회로를 형성하는 웨이퍼 처리 공정에서 시작한다. 웨이퍼 처리 공정을 거친 웨이퍼는 웨이퍼 뒷면에 웨이퍼 테이프를 부착하는 테이프 마운트 공정, 웨이퍼를 개별 반도체 소자로 분리하는 웨이퍼 쏘잉 공정, 분리된 반도체 소자를 리드 프레임과 같은 배선기판에 접착하는 소자 접착 공정을 거친다. 반도체 소자와 배선기판을 전기적 연결 수단 예컨대, 금속 세선, 금속 범프 등으로 연결하는 전기적 연결 공정 및 반도체 소자와 배선기판 사이의 전기적 연결 부분을 에폭시와 같은 성형 수지로 봉합하는 성형 공정 등을 포함한다.
이때, 반도체 패키지 제조 공정에 있어서, 소자 접착 공정을 진행하기 위해서, 웨이퍼를 개별 반도체 소자로 분리하는 공정을 먼저 진행해야 하는데, 기존과 같이 웨이퍼 테이프를 이용하여 공정을 진행할 경우 여러 공정, 예컨대 테이프 마운트 공정, 쏘잉 공정, 세정 공정 등을 서로 다른 장치에서 개별적으로 진행해야 하고, 웨이퍼 테이프 사용으로 인한 반도체 소자의 하부면의 오염으로 제조되는 반도체 패키지의 신뢰성이 떨어지는 문제점을 안고 있다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 웨이퍼 테이프를 사용하지 않고 웨이퍼 쏘잉 공정을 진행하는 장치 및 방법과 관련해서, 대한민국 공개특허공보제34632호(2000.6.26)와 미국특허공보 제5,618,759호(1997.4.8)에 개시되어 있다.
그런데, 전술된 장치는 제34632호의 도 14에 도시된 바와 같이, 개별 반도체 소자로 분리된 웨이퍼 내에서 반도체 소자를 흡착기를 이용해서 분리하게 되는데, 흡착기가 반도체 소자를 흡착하기 전에 반도체 소자를 흡착하고 있는 진공을 차단하게 되는데, 이때 흡착되는 반도체 소자와 그 주위의 반도체 소자들 사이의 기계적 간섭에 의해 반도체 소자가 손상될 수 있다. 잘려진 반도체 소자 간의 거리가 수㎛에 불과하기 때문에, 흡착기가 반도체 소자를 흡착하는 과정에서 발생되는 반도체 소자의 위치 변화에 의해 흡착되는 반도체 소자와 그 주위의 반도체 소자들 사이에 기계적 간섭이 발생될 수 있다.
그리고 웨이퍼가 웨이퍼 레벨에서 제조된 반도체 소자, 예컨대 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키지(Wafer Level Chip Scale Package;WL CSP)를 포함하고 있는 경우, 금속 범프가 웨이퍼 상부면에 형성되어 있고, 반도체 소자 간의 거리가 좁아 웨이퍼 상의 반도체 소자를 바로 뒤집어서 트레이로 적재할 수 없다. 따라서 잘려진 반도체 소자를 일단 흡착하여 반전 테이블로 이동시킨 다음, 반전용 소자 분류기로 반도체 소자를 뒤집어 트레이에 차례로 수납하는 공정을 필요로 한다.
따라서, 본 발명의 목적은 웨이퍼 테이프를 사용하지 않고 웨이퍼 쏘잉 공정을 진행하여 잘려진 반도체 소자를 주위의 다른 반도체 소자와의 기계적인 간섭없이 이송할 수 있도록 하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 개별 반도체 소자로 잘려진 웨이퍼에서 반도체 소자를 분리하여 바로 트레이에 수납할 수 있도록 하는 데 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치를 보여주는 블록도이다.
도 2는 도 1의 웨이퍼 테이블을 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 3-3선 단면도이다.
도 4 및 도 5는 쏘잉날에 의해 웨이퍼가 개별 다이로 분리된 상태를 보여주는 단면도이다.
도 6은 웨이퍼 테이블 상의 분리된 개별 다이 하나를 소자 접착기가 흡착하는 상태를 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치를 보여주는 블록도이다.
도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치를 보여주는 블록도이다.
도 9는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치를 보여주는 블록도이다.
도 10은 웨이퍼 테이블 상의 분리된 개별 반도체 소자 하나를 소자 분류기가 집은 상태를 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 설명 *
10, 110, 210, 310 : 웨이퍼 캐리어 21, 121, 221, 321 : 정렬부
23, 123, 223, 323 : 쏘잉부 25, 125, 225, 325 : 세정부
27, 127, 227 : 소자 접착부 29, 129, 229, 329 : 수거함
31, 131, 231 : 소자 접착 스테이지 33, 133, 233 : 기판 적재함
35, 135, 235 : 기판 반송부 37, 137, 237 : 기판 수납함
40, 140, 240, 340 : 웨이퍼 테이블 41, 341 : 흡착판
43, 343 : 쏘잉 가이드 홈 49 : 진공 공급단
51, 351 : 소자 흡착기 52 : 탑재판
54 : 진공 파이트 56 : 진공구멍
60 : 절단 수단 313 : 외부접속단자
327 : 소자 분류부 331 : 소자 분류 스테이지
332 : 소자 분류기 333 : 트레이
100, 200, 300 : 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치
400 : 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치
상기 목적을 달성하기 위하여, 반도체 소자들과 상기 반도체 소자들을 구분하는 스크라이브 라인이 형성된 웨이퍼용 웨이퍼 테이블로서, 상기 웨이퍼가 놓여지는 흡착판으로, 상기 웨이퍼의 스크라이브 라인에 대응되게 쏘잉 가이드 홈이 형성된 흡착판과; 상기 웨이퍼의 반도체 소자들에 일대응 대응되게 상기 흡착판에 설치되며, 상하 왕복 이동을 하는 소자 흡착기와; 상단부에 상기 흡착판이 체결되어 설치되며, 상기 소자 흡착기 각각에 진공을 제공하는 진공 공급단;을 포함하며,
개별 반도체 소자들로 분리된 웨이퍼에서 반도체 소자를 분리하여 이송하기 위해서, 이송될 반도체 소자 아래에 있는 상기 소자 흡착기는 상승하여 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상기 이송될 반도체 소자를 분리시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지를 제공한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 스테이지의 진공 흡착기는, 흡착판의 상부면에 대응되게 설치되며, 중심 부분에 진공 구멍이 형성된 탑재판과, 탑재판의 아래에 체결된 진공 파이프; 및 진공 파이프를 상하로 이동시키는 이동 수단을 포함한다.
본 발명에 따른 진공 흡착기의 탑재판은 쏘잉 가이드 홈이 형성하는 복수개의 소자 탑재 영역의 안쪽에 형성된다. 쏘잉 가이드 홈의 폭은 웨이퍼의 스크라이브 라인의 폭보다는 넓고, 쏘잉 가이드 홈의 깊이는 절단 수단을 이용한 쏘잉 공정에서 풀 커팅(full cutting)을 진행될 때 절단 수단의 날이 위치하는 최저점 보다는 깊게 형성하는 것이 바람직하다.
본 발명은 또한 전술된 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치를 제공한다. 즉, 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어와; 상기 웨이퍼 캐리어에 인접하여 설치되며, 상기 웨이퍼 캐리어에서 이송된 상기 웨이퍼를 쏘잉할 수 있도록 위치를 정렬하는 정렬부와; 상기 정렬부에 인접하여 설치되며, 상기 정렬부에서 이송된 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 상기 웨이퍼 테이블을 포함하며, 상기 웨이퍼에 대한 쏘잉 공정이 진행되는 쏘잉부와; 상기 쏘잉부에 인접하여 설치되며, 쏘잉 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착하고 있는 상기 웨이퍼 테이블이 이동하여 쏘잉된 상기 웨이퍼 상의 이물질을 제거하는 세정부와; 상기 세정부에 인접하여 설치되며, 세정 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착한 상기 웨이퍼 스테이지가 이동하여 위치하는 소자 접착 스테이지와; 상기 웨이퍼의 반도체 소자가 부착될 기판들이 적재된 기판 적재함과; 상기 기판 적재함에 한쪽 끝이 인접하여 형성되며, 상기 기판을 일정 거리만큼씩 반송하는 기판 반송부; 및 상기 소자 접착 스테이지의 웨이퍼 테이블과 상기 기판 반송부 사이에 위치하며, 상기 웨이퍼 테이블로부터 상기 반도체 소자를 분리하여 상기 기판에 접착시키는 소자 접착기;를 포함하며,
상기 소자 접착기는 상기 웨이퍼 테이블의 소자 흡착기에 의해 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상승되어 분리된 상기 반도체 소자를 흡착하여 상기 기판에 접착시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치를 제공한다.
그리고 본 발명은 또한 전술된 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치를 제공한다. 즉, 제 1항에 따른 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치로서, 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어와; 상기 웨이퍼 캐리어에 인접하여 설치되며, 상기 웨이퍼 캐리어에서 이송된 상기 웨이퍼를 쏘잉할 수 있도록 위치를 정렬하는 정렬부와; 상기 정렬부에 인접하여 설치되며, 상기 정렬부에서 이송된 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 상기 웨이퍼 테이블을 포함하며, 상기 웨이퍼에 대한 쏘잉 공정이 진행되는 쏘잉부와; 상기 쏘잉부에 인접하여 설치되며, 쏘잉 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착하고 있는 상기 웨이퍼 테이블이 이동하여 쏘잉된 상기 웨이퍼 상의 이물질을 제거하는 세정부와; 상기 세정부에 인접하여 설치되며, 세정 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착한 상기 웨이퍼 스테이지가 이동하여 위치하는 소자 분류 스테이지와; 상기 소자 분류 스테이지의 상기 웨이퍼 테이블에 흡착된 웨이퍼의 반도체 소자를 분리하여 180도 반전시키는 소자 분류기; 및 상기 소자 분류기에 의해 180도 반전된 상기 반도체 소자가 수납되는 트레이;를 포함하며,
상기 소자 분류기는 상기 웨이퍼 테이블의 소자 흡착기에 의해 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상승되어 분리된 상기 반도체 소자의 외곽을 집어서 고정한 상태에서 180도 반전시켜 상기 트레이에 수납하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치를 제공한다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치(100)를 보여주는 블록도이다. 도 1을 참조하면, 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치(100)는 웨이퍼 캐리어(10)에서 공급된 웨이퍼에 대한 쏘잉 공정에서부터 소자 접착 공정까지 동시에 진행한다. 즉, 다수개의 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어(10)가 일측에 구비된다. 정렬부(21)는 웨이퍼 캐리어(10)에 인접하게 설치되며, 웨이퍼 캐리어(10)에서 이송된 웨이퍼를 쏘잉할 수 있도록 위치를 정렬한다. 쏘잉부(23)는 정렬부(21)에 인접하여 설치되며, 정렬부(21)에서 이송된 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 웨이퍼 테이블(40)을 포함하며, 다이아몬드 날을 구비하는 절단 수단을 이용하여 웨이퍼를 쏘잉한다. 세정부(25)는 쏘잉부(23)와 인접하여 설치되며, 쏘잉 공정이 완료된 웨이퍼를 흡착하고 있는 웨이퍼 테이블(40)이 쏘잉부(23)에서 이동하여 쏘잉된 웨이퍼 상의 이물질, 예컨대 먼지, 실리콘 가루 등을 제거한다. 그리고 소자 접착부(27)는 세정부(25)에 인접하여 설치되며, 세정 공정이 완료된 웨이퍼를 흡착하고 있는 웨이퍼 테이블(40)이 세정부(25)에서 이동되면 소자 접착 공정을 진행한다. 소자 접착부(27)는 세정 공정이 완료된 웨이퍼 테이블(40)이 세정부(25)에서 이동하여 위치하는 소자 접착 스테이지(31)와, 웨이퍼 테이블(40)에 흡착된 웨이퍼의 반도체 소자를 부착할 기판들이 적재된 기판 적재함(33)과, 기판 적재함(33)의 한쪽 끝에 인접하여 형성되며, 기판을 일정 거리만큼씩 반송하는 기판 반송부(35)와, 소자 접착 스테이지(31)의 웨이퍼 테이블(40)과 기판 반송부(35) 사이에 위치하며, 웨이퍼 테이블(40)로부터 반도체 소자를 분리하여 기판에 접착시키는 소자 접착기(32) 및 기판 반송부(35)의 다른쪽 끝에 인접하여 설치되며, 반도체 소자가 접착된 기판을 수납하는 기판 수납함(37)을 포함한다. 그 외에 소자 접착 공정이 완료된 웨이퍼 테이블(40) 위의 잔여물 예컨대,불량 반도체 소자 및 반도체 회로가 형성되지 않은 웨이퍼의 가장자리 부분은 소자 접착 스테이지(31)에 근접하게 설치된 수거함(29)으로 배출된다. 수거함(29)은 기판 적재함(33)과 웨이퍼 캐리어(10)의 사이에 설치된다. 잔여물이 제거된 웨이퍼 테이블(40)은 소자 접착 스테이지(31)에서 쏘잉부(23)로 이동한다. 즉, 웨이퍼 테이블(40)은 쏘잉부(23), 세정부(25), 소자 접착 스테이지(31)를 순환 이동한다.
이때, 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치(100)는 설치 공간을 최소화할 수 있도록 배치된다. 예컨대, 정렬부(21), 쏘잉부(23), 세정부(25), 소자 접착 스테이지(31)가 사각형을 이루도록 배치되며, 세정부(25)와 소자 접착 스테이지(31) 앞쪽에 기판 적재함(33), 기판 반송부(35) 및 기판 수납함(37)이 배치된 구조를 갖는다. 그리고 제 1 실시예에서는 하나의 웨이퍼 테이블(40)이 쏘잉부(23), 세정부(25) 및 소자 접착 스테이지(31)를 순환 이동하는 구조를 개시하였지만, 쏘잉부(23)에서 쏘잉 공정을 하는 동안 세정부(25)에서 세정 공정을 진행하거나 소자 접착 스테이지(31)에서 소자 접착 공정을 진행할 수 있도록 두 개 또는 세 개의 웨이퍼 테이블을 쏘잉부, 세정부 및 소자 접착 스테이지를 순환 이동하도록 설치할 수도 있다.
그리고 기판으로는 리드 프레임 스트립(lead frame strip), 인쇄회로기판, 테이프 배선기판 등의 사용이 가능하며, 각각의 필요에 따라 다른 기판 적재함을 사용할 수 있다. 보통 리드 프레임 스트립이 적재되는 기판 적재함을 매거진(magazine)이라 한다.
또한 쏘잉부(23)와 세정부(25)는 이동한 웨이퍼 테이블(40)을 밀폐할 수 있는 챔버 구조를 갖는다. 쏘잉부(23)와 세정부(25)가 챔버 구조를 갖는 이유는, 쏘잉부(23)에서의 쏘잉 공정 및 세정부(25)에서의 세정 공정시 투입되거나 발생되는 물질들이 주위의 장치들을 오염시키는 것을 방지하기 위해서이다.
이와 같이 웨이퍼 테이프를 사용하지 않고 웨이퍼 쏘잉 공정에서부터 소자 접착 공정까지 진행하고, 소자 접착 공정시 이송할 반도체 소자를 잘려진 반도체 소자를 주위의 다른 반도체 소자와의 기계적인 간섭없이 이송하는 본 발명에 따른 웨이퍼 테이블을 도 2 내지 도 6을 참조하여 보다 상세히 설명하겠다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 테이블(40)은 반도체 소자들(14)과 반도체 소자들(14)을 구분하는 스크라이브 라인(16)이 형성된 웨이퍼(12)를 흡착하여 웨이퍼 테이프 없이 쏘잉 공정에서부터 소자 접착 공정까지 웨이퍼(12)를 고정하고 이송하는 수단으로, 흡착판(41), 소자 흡착기(42) 및 진공 공급단(49)을 포함한다.
흡착판(41)은 웨이퍼(12)가 놓여지는 탑재판으로, 상부면에 웨이퍼의 스크라이브 라인(16)에 대응되게 쏘잉 가이드 홈(43)이 형성되어 있다. 그리고 흡착판(41)의 가장자리 부분(42)에 대해서 웨이퍼(12)가 탑재되는 웨이퍼 탑재 영역(45)은 아래로 단차지게 형성되며, 쏘잉 가이드 홈(43)은 흡착판(41)의 웨이퍼 탑재 영역(45)을 비롯한 가장자리 부분(42)까지 연장되어 형성된다. 도면부호 47은 쏘잉 가이드 홈(43)에 의해 형성된 소자 탑재 영역(47)이며, 소자 탑재 영역(47) 위에 스크라이브 라인(16)으로 구분된 반도체 소자(14)가 각각 위치한다. 쏘잉 가이드 홈(43)의 폭은 스크라이브 라인(16)의 폭보다는 넓게 형성하고, 깊이는 절단 수단을 이용한 쏘잉 공정에서 풀 커팅(full cutting)을 진행될 때 절단 수단의 날이 위치하는 최저점 보다는 깊게 형성하는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시예에서는 플랫존(18)이 형성된 웨이퍼(12)에 대응되게 흡착판의 가장자리 부분(42)의 일측에 플랫존 영역(44)이 형성된 예를 개시하였지만, 플랫존이 형성되지 않는 웨이퍼라면 흡착판의 웨이퍼 탑재 영역(45) 또한 원형의 홈으로 형성하면 된다. 또한 정렬된 웨이퍼를 웨이퍼 테이블이 안정적으로 흡착하여 고정할 수 있을 경우, 흡착판의 상부면을 평평하게 형성할 수도 있다.
소자 흡착기(51)는 웨이퍼의 반도체 소자들(14)에 일대응 대응되게 흡착판(41)을 관통하여 설치되며, 상하 왕복 이동을 한다. 즉, 소자 흡착기(51)는 흡착판(41)의 상부면에 대응되게 설치되며, 중심 부분에 진공 구멍(56)이 형성된 탑재판(52)과, 탑재판(52)의 아래에 체결된 진공 파이프(54) 및 탑재판(52)과 진공 파이프(54)를 상하로 이동시키는 이동 수단(도시안됨)을 포함한다. 이때 탑재판(52)은 소자 탑재 영역(47)의 안쪽에 형성되며, 탑재판(52)의 상부면에 대해서 아래로 갈수록 안쪽으로 경사지게 형성되어 있다. 이와 같이 형성한 이유는, 탑재판(52)이 상승한 이후에 하강하여 원래의 위치로 복귀할 때, 흡착판(41)의 상부면보다는 아래로 탑재판(52)이 내려가는 것을 방지하기 위해서이다. 그리고 본 발명의 실시예에서는 탑재판(52)을 원형으로 형성하였지만, 타원형, 직사각형 또는 소정의 다각형 형태로 구현할 수 있다. 그리고 소자 흡착기(51)의 구동 관계는 후술하겠다.
그리고 진공 공급단(49)은 상단부에 소자 흡착기(51)가 설치된 흡착판(41)이체결되어 설치되며, 소자 흡착기(51) 각각에 진공을 제공한다. 도시되지는 않았지만 진공 공급단(49)의 하단부는 이송 수단에 연결되어 웨이퍼 테이블(40)을 공정 순서에 맞게 쏘잉부, 세정부 및 소자 접착 스테이지로 순환 이동시킨다.
본 발명에 따른 웨이퍼 테이블을 이용한 쏘잉 공정을 도 1, 도 4 및 도 5를 참조하여 설명하면, 정렬부(21)에서의 정렬 공정이 완료된 웨이퍼(12)가 웨이퍼 테이블(40)의 흡착판(41)의 웨이퍼 탑재 영역(45)에 안착되면, 웨이퍼의 반도체 소자(14)에 일대일 대응되는 소자 흡착기(51)가 반도체 소자들(14)을 흡착하여 웨이퍼(12)를 고정한다. 웨이퍼(12)가 고정되면 고속으로 회전하는 날을 갖는 절단 수단(60)이 반도체 소자들(14)을 구분하는 스크라이브 라인(16)을 따라 웨이퍼(12)를 풀 커팅하여 개별 반도체 소자(14)로 분리한다. 이때, 스크라이브 라인(16)의 아래에는 쏘잉 가이드 홈(43)이 형성되어 있기 때문에, 절단수단(60)의 날에 의해 흡착판(41)이 손상되는 것을 방지하면서 풀 커팅이 가능하게 한다.
한편, 통상적인 웨이퍼 쏘잉 공정시 웨이퍼를 웨이퍼 테이블에 탑재한 상태에서 정렬 공정을 진행하지만, 본 발명에서는 정렬 공정이 완료된 웨이퍼(12)가 쏘잉부(23)에 위치한 웨이퍼 테이블(40)에 탑재된다. 이유는, 웨이퍼의 스크라이브 라인과 흡착판의 쏘잉 가이드 홈의 위치를 웨이퍼 테이블에 탑재시킨 상태에서는 웨이퍼에 의해 흡착판이 가려지기 때문에 정렬의 정확성이 떨어지기 때문이다.
그리고 쏘잉 공정이 완료된 웨이퍼(12)를 흡착하고 있는 웨이퍼 테이블(40)은 세정부(25)로 이송되어 세정 공정을 진행하고, 세정 공정이 완료된 웨이퍼(12)를 흡착하고 있는 웨이퍼 테이블(40)은 소자 접착 스테이지(31)로 이송되어, 도 6에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 테이블의 소자 흡착기(51)와 소자 접착기(32)의 구동으로 웨이퍼(12)에서 하나의 반도체 소자(14)가 분리된다.
좀더 상세히 설명하면, 이송될 반도체 소자(14) 아래의 소자 흡착기(51)가 소정의 높이로 반도체 소자(14)를 상승시키며, 반도체 소자(14)는 소자 흡착기(51)에 의해 진공 흡착되어 고정된 상태를 유지한다. 다음으로 소자 접착기(32)가 분리된 반도체 소자(14) 위로 이동한 다음 하강하여 반도체 소자(14)의 상부면에 근접하면서 진공을 인가함과 동시에, 소자 흡착기(51)는 진공을 차단하여 소자 흡착기(51) 위의 반도체 소자(14)를 소자 접착기(51)가 흡착할 수 있도록 한다. 그리고 이후에 소자 접착기(51)는 기판 반송부의 기판 위로 반도체 소자를 이송하여 소자 접착 공정을 진행한다.
이때, 본 발명에서는 소자 접착 공정시, 이송될 반도체 소자(14)를 흡착하고 있는 소자 흡착기(51)가 수직으로 상승하여 웨이퍼의 다른 반도체 소자들과 분리한 상태에서 소자 접착기(32)에 의한 흡착이 이루어지기 때문에, 이송될 반도체 소자(14)와 이웃하는 다른 반도체 소자들(14a) 간의 기계적인 간섭을 방지할 수 있다.
한편, 소자 접착 공정은 웨이퍼 맵 정보(wafer map data)에 따라 양호한 반도체 소자(12)에 대해서만 이루어지며, 소자 접착 공정이 완료된 이후에 웨이퍼 테이블(40) 위의 잔여물, 예컨대 불량으로 처리된 반도체 소자 및 웨이퍼의 가장자리 부분은 수거함으로 배출된다.
제 1 실시예에 개시된 정렬부, 쏘잉부, 세정부 및 소자 접착 스테이지의 배치는 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 변형하여 배치할 수도 있다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치(200)는 정렬부(121), 쏘잉부(123), 세정부(125), 소자 접착 스테이지(131)가 사각형을 이루도록 배치되는 것은 제 1 실시예와 동일하지만, 정렬부(121)와 소자 접착 스테이지(131) 앞쪽에 기판 적재함(133), 기판 반송부(135) 및 기판 수납함(137)이 배치된 구조를 갖는다. 이 경우, 웨이퍼 캐리어(110)는 기판 수납함(137)이 배치된 쪽에 설치되고, 수거함(129)은 기판 적재함(133)이 배치된 쪽에 배치하는 것이 바람직하다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치(300)는 일렬로 배치된 쏘잉부(223)와 세정부(225)에 대해서, 일렬로 배치된 쏘잉부(223)와 세정부(225) 일측의 쏘잉부(223)에 근접하게 정렬부(221)가 배치되고, 일렬된 배치된 쏘잉부(223)와 세정부(225) 타측의 세정부(225)에 근접하게 소자 접착 스테이지(231)가 배치된다. 소자 접착 스테이지(231)를 사이에 두고 일렬로 배치된 쏘잉부(223)와 세정부(225)에 평행하게 기판 적재함(233), 기판 반송부(235) 및 기판 수거함(237)이 배치된다. 그리고 웨이퍼 캐리어(210)는 일렬로 배치된 쏘잉부(223)와 세정부(225) 일측의 세정부(225)에 근접하게 배치되며, 수거함(229)은 기판 적재함(233)이 배치된 쪽에 설치된다. 물론 수거함은 일렬로 배치된 쏘잉부와 세정부 타측의 쏘잉부에 근접하게 배치할 수도 있다.
다음으로 본 발명에 따른 웨이퍼 테이블을 이용하여 개별 반도체 소자로 잘려진 웨이퍼에서 반도체 소자를 분리하여 바로 트레이에 수납하는 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치에 대해서 도 9 및 도 10을 참조하여 설명하겠다. 도 9는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치를 보여주는 블록도이다. 도 10은 웨이퍼 테이블 상의 분리된 개별 반도체 소자 하나를 소자 분류기가 집은 상태를 보여주는 도면이다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 제 4 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치(400)는 정렬부(321), 쏘잉부(323) 및 세정부(325)는 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치와 동일한 배치 구조를 가지며, 쏘잉 공정 및 세정 공정이 완료된 웨이퍼(312) 상의 반도체 소자(314)에 대한 분류 공정을 진행하는 소자 분류부(327)를 포함한다. 소자 분류부(327)는 세정 공정이 완료된 웨이퍼 테이블(340)이 쏘잉부(323)에서 이동하여 위치하는 소자 분류 스테이지(331)와, 웨이퍼 테이블(340)에 흡착된 웨이퍼의 반도체 소자(314)를 분리하여 분류용 트레이(333)에 수납시키는 소자 분류기(332)를 포함한다. 그 외에 소자 분류 공정이 완료된 웨이퍼 테이블(340) 위의 잔여물은 소자 분류 스테이지(331)에 근접하게 설치된 수거함(329)으로 배출된다. 수거함(329)은 웨이퍼 캐리어(310)가 배치된 쪽에 설치하는 것이 바람직하다. 잔여물이 제거된 웨이퍼 테이블(340)은 소자 분류 스테이지(331)에서 쏘잉부(323)로 이동한다. 즉, 웨이퍼 테이블(340)은 쏘잉부(323), 세정부(325), 소자 분류 스테이지(331)를 순환 이동한다.
소자 분류부(327)에서의 웨이퍼 테이블(340)과 소자 분류기(332) 사이의 구동 관계를 상세히 설명하면, 웨이퍼 테이블(340)이 소자 분류 스테이지(331)로 이송되면 웨이퍼 테이블의 소자 흡착기(351)와 소자 분류기(332)의 구동으로웨이퍼(312)에서 하나의 반도체 소자(314)를 분리한다. 물론 분리된 반도체 소자(314)는 트레이(333)에 수납된다. 이때 반도체 소자(314)는 상부면에 솔더 볼과 같은 외부접속단자(313)가 형성되어 있다. 좀더 상세히 설명하면, 이송될 반도체 소자(314) 아래의 소자 흡착기(351)가 소정의 높이로 반도체 소자(314)를 상승시키며, 반도체 소자(314)는 소자 흡착기(351)에 의해 진공 흡착되어 고정된 상태를 유지한다. 다음으로 소자 분류기(332)가 분리된 반도체 소자(314) 위로 이동한 다음 하강하여 반도체 소자(314)의 외곽을 집어서 고정함과 동시에, 소자 흡착기(351)는 진공을 차단하여 소자 흡착기(351) 위의 반도체 소자(314)를 소자 분류기(332)가 이동시킬 수 있도록 한다. 그리고 이후에 소자 분류기(332)는 180도 회전하여 외부접속단자(313)가 형성된 면이 아래로 향하도록 반도체 소자(314)를 반전시킨 다음 트레이(333)에 차례로 수납한다. 즉, 이송된 반도체 소자(314)를 흡착하고 있는 소자 흡착기(351)가 소정의 높이로 상승할 경우 반도체 소자(314)의 하부면의 중심 부분만을 흡착하고 있기 때문에, 반도체 소자(314)의 외곽은 노출된다. 따라서 노출된 반도체 소자(314)의 외곽 부분을 소자 분류기(332)가 고정할 수 있기 때문에, 반도체 소자(314)를 웨이퍼(312)에서 분리한 다음 180도 반전시켜 트레이(333)에 바로 수납이 가능하다.
이때, 본 발명에서는 소자 분류 공정시, 이송될 반도체 소자(314)를 흡착하고 있는 소자 흡착기(351)가 수직으로 상승하여 웨이퍼(312)의 다른 반도체 소자들(314a)과 분리한 상태에서 소자 분류기(332)에 의한 반도체 소자(314)의 외곽을 집어서 이송할 수 있기 때문에, 이송될 반도체 소자(314)와 이웃하는 다른 반도체 소자들(314a) 간의 기계적인 간섭을 방지하면서, 개별 반도체 소자로 잘려진 웨이퍼(312)에서 반도체 소자(314)를 분리하여 바로 트레이(333)에 적재할 수 있다.
한편, 소자 분류 공정은 웨이퍼 맵 정보(wafer map data)에 따라 양호한 반도체 소자(314)에 대해서만 이루어지며, 소자 분류 공정이 완료된 이후에 웨이퍼 테이블(340) 위의 잔여물, 예컨대 불량으로 처리된 반도체 소자 및 웨이퍼의 가장자리 부분은 수거함(329)으로 배출된다. 필요에 따라, 예컨대 불량으로 처리된 반도체 소자에 대한 재테스트 또는 불량 원인을 검사하기 위해서, 불량으로 처리된 반도체 소자들을 불량용 트레이로 수납할 수도 있다.
그리고 제 4 실시예에 따른 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치(400)의 정렬부(321), 쏘잉부(323), 세정부(325)의 배치는 제 1 실시예에 따른 구조로 배치하였지만, 제 2 및 제 3 실시예에 따른 정렬부, 쏘잉부, 세정부의 배치를 따라 배치할 수 있다. 이때 분류용 트레이는 기판 반송부가 설치되는 쪽에 설치된다.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.
따라서, 본 발명의 구조를 따르면 웨이퍼 테이블이 쏘잉부, 세정부 및 소자접착 스테이지를 순환 이동하면서 웨이퍼의 쏘잉에서부터 소자 접착 공정까지 하나의 장치 내에서 이루어진다.
그리고 웨이퍼 테이블이 쏘잉부, 세정부 및 소자 분류 스테이지를 순환 이동하면서 웨이퍼의 쏘잉에서부터 소자 분류 공정까지 하나의 장치 내에서 이루어진다.
특히 소자 접착 스테이지 또는 소자 분류 스테이지에서 반도체 소자 이송시, 이송될 반도체 소자를 흡착하고 있는 소자 흡착기가 수직으로 상승하여 웨이퍼의 다른 반도체 소자들과 분리한 상태에서 소자 접착기에 의한 흡착 또는 소자 분류기에 의한 클램핑이 이루어지기 때문에, 이송될 반도체 소자와 이웃하는 다른 반도체 소자들 간의 기계적인 간섭을 방지할 수 있다.

Claims (20)

  1. 반도체 소자들과 상기 반도체 소자들을 구분하는 스크라이브 라인이 형성된 웨이퍼용 웨이퍼 테이블로서,
    상기 웨이퍼가 놓여지는 흡착판으로, 상기 웨이퍼의 스크라이브 라인에 대응되게 쏘잉 가이드 홈이 형성된 흡착판과;
    상기 웨이퍼의 반도체 소자들에 일대응 대응되게 상기 흡착판에 설치되며, 상하 왕복 이동을 하는 소자 흡착기; 및
    상단부에 상기 흡착판이 체결되어 설치되며, 상기 소자 흡착기 각각에 진공을 제공하는 진공 공급단;을 포함하며,
    개별 반도체 소자들로 분리된 웨이퍼에서 반도체 소자를 분리하여 이송하기 위해서, 이송될 반도체 소자 아래에 있는 상기 소자 흡착기는 상승하여 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상기 이송될 반도체 소자를 분리시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 진공 흡착기는,
    상기 흡착판의 상부면에 대응되게 설치되며, 중심 부분에 진공 구멍이 형성된 탑재판과;
    상기 탑재판의 아래에 체결된 진공 파이프; 및
    상기 진공 파이프를 상하로 이동시키는 이동 수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 탑재판은 상기 쏘잉 가이드 홈이 형성하는 복수개의 소자 탑재 영역의 안쪽에 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 쏘잉 가이드 홈의 폭은 상기 웨이퍼의 스크라이브 라인의 폭보다는 넓고, 상기 쏘잉 가이드 홈의 깊이는 절단 수단을 이용한 쏘잉 공정에서 풀 커팅(full cutting)을 진행될 때 상기 절단 수단의 날이 위치하는 최저점 보다는 깊게 형성 것을 특징으로 웨이퍼 스테이지.
  5. 제 1항에 따른 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치로서,
    웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어와;
    상기 웨이퍼 캐리어에 인접하여 설치되며, 상기 웨이퍼 캐리어에서 이송된 상기 웨이퍼를 쏘잉할 수 있도록 위치를 정렬하는 정렬부와;
    상기 정렬부에 인접하여 설치되며, 상기 정렬부에서 이송된 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 상기 웨이퍼 테이블을 포함하며, 상기 웨이퍼에 대한 쏘잉 공정이 진행되는 쏘잉부와;
    상기 쏘잉부에 인접하여 설치되며, 쏘잉 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착하고 있는 상기 웨이퍼 테이블이 이동하여 쏘잉된 상기 웨이퍼 상의 이물질을 제거하는 세정부와;
    상기 세정부에 인접하여 설치되며, 세정 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착한 상기 웨이퍼 스테이지가 이동하여 위치하는 소자 접착 스테이지와;
    상기 웨이퍼의 반도체 소자가 부착될 기판들이 적재된 기판 적재함과;
    상기 기판 적재함에 한쪽 끝이 인접하여 형성되며, 상기 기판을 일정 거리만큼씩 반송하는 기판 반송부; 및
    상기 소자 접착 스테이지의 웨이퍼 테이블과 상기 기판 반송부 사이에 위치하며, 상기 웨이퍼 테이블로부터 상기 반도체 소자를 분리하여 상기 기판에 접착시키는 소자 접착기;를 포함하며,
    상기 소자 접착기는 상기 웨이퍼 테이블의 소자 흡착기에 의해 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상승되어 분리된 상기 반도체 소자를 흡착하여 상기 기판에 접착시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 쏘잉부와 상기 세정부는 이동한 웨이퍼 테이블을 밀폐할 수 있는 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  7. 제 5항에 있어서, 상기 소자 접착 공정이 완료된 상기 웨이퍼 테이블 위의 잔여물을 수거하는 수거함을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 잔여물이 제거된 상기 웨이퍼 테이블은 상기 쏘잉부로 이동하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  9. 제 5항에 있어서, 상기 기판 반송부의 다른쪽 끝에 인접하여 설치되며, 상기 반도체 소자가 접착된 기판을 수납하는 기판 수납함을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  10. 제 5항에 있어서, 상기 진공 흡착기는,
    상기 흡착판의 상부면에 대응되게 설치되며, 중심 부분에 진공 구멍이 형성된 탑재판과;
    상기 탑재판의 아래에 체결된 진공 파이프; 및
    상기 진공 파이프를 상하로 이동시키는 이동 수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 탑재판은 상기 쏘잉 가이드 홈이 형성하는 복수개의 소자 탑재 영역의 안쪽에 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  12. 제 5항 내지 11항의 어느 한 항에 있어서, 상기 웨이퍼 테이블이 상기 쏘잉부, 상기 세정부, 상기 소자 접착 스테이지에 적어도 두 군데 이상 설치되며, 상기 웨이퍼 테이블은 상기 쏘잉부, 상기 세정부, 상기 소자 접착 스테이지로 순환 이동하는 것을 특징으로 웨이퍼 쏘잉/소자 접착 장치.
  13. 제 1항에 따른 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치로서,
    웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어와;
    상기 웨이퍼 캐리어에 인접하여 설치되며, 상기 웨이퍼 캐리어에서 이송된 상기 웨이퍼를 쏘잉할 수 있도록 위치를 정렬하는 정렬부와;
    상기 정렬부에 인접하여 설치되며, 상기 정렬부에서 이송된 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 상기 웨이퍼 테이블을 포함하며, 상기 웨이퍼에 대한 쏘잉 공정이 진행되는 쏘잉부와;
    상기 쏘잉부에 인접하여 설치되며, 쏘잉 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착하고 있는 상기 웨이퍼 테이블이 이동하여 쏘잉된 상기 웨이퍼 상의 이물질을 제거하는 세정부와;
    상기 세정부에 인접하여 설치되며, 세정 공정이 완료된 상기 웨이퍼를 흡착한 상기 웨이퍼 스테이지가 이동하여 위치하는 소자 분류 스테이지와;
    상기 소자 분류 스테이지의 상기 웨이퍼 테이블에 흡착된 웨이퍼의 반도체 소자를 분리하여 180도 반전시키는 소자 분류기; 및
    상기 소자 분류기에 의해 180도 반전된 상기 반도체 소자가 수납되는 트레이;를 포함하며,
    상기 소자 분류기는 상기 웨이퍼 테이블의 소자 흡착기에 의해 상기 웨이퍼의 다른 반도체 소자들로부터 상승되어 분리된 상기 반도체 소자의 외곽을 집어서 고정한 상태에서 180도 반전시켜 상기 트레이에 수납하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  14. 제 13항에 있어서, 상기 쏘잉부와 상기 세정부는 이동한 웨이퍼 테이블을 밀폐할 수 있는 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  15. 제 13항에 있어서, 상기 소자 분류 공정이 완료된 상기 웨이퍼 테이블 위의 잔여물을 수거하는 수거함을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 테이블을 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 잔여물이 제거된 상기 웨이퍼 테이블은 상기 쏘잉부로 이동하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  17. 제 13항에 있어서, 상기 진공 흡착기는,
    상기 흡착판의 상부면에 대응되게 설치되며, 중심 부분에 진공 구멍이 형성된 탑재판과;
    상기 탑재판의 아래에 체결된 진공 파이프; 및
    상기 진공 파이프를 상하로 이동시키는 이동 수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  18. 제 17항에 있어서, 상기 탑재판은 상기 쏘잉 가이드 홈이 형성하는 복수개의 소자 탑재 영역의 안쪽에 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테이지를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  19. 제 15항에 있어서, 상기 웨이퍼에 형성된 반도체 소자는 상부면에 외부접속단자들이 형성된 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키지(WL CSP)인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
  20. 제 15항 내지 19항의 어느 한 항에 있어서, 상기 웨이퍼 테이블이 상기 쏘잉부, 상기 세정부, 상기 소자 분류 스테이지에 적어도 두 군데 이상 설치되며, 상기 웨이퍼 테이블은 상기 쏘잉부, 상기 세정부, 상기 소자 분류 스테이지로 순환 이동하는 것을 특징으로 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치.
KR10-2002-0050495A 2002-08-26 2002-08-26 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치 KR100476591B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2002-0050495A KR100476591B1 (ko) 2002-08-26 2002-08-26 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치
US10/638,360 US6780734B2 (en) 2002-08-26 2003-08-12 Wafer table and semiconductor package manufacturing apparatus using the same
JP2003298886A JP2004088109A (ja) 2002-08-26 2003-08-22 ウェーハテーブル、およびこれを用いた半導体パッケージ製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2002-0050495A KR100476591B1 (ko) 2002-08-26 2002-08-26 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040019173A true KR20040019173A (ko) 2004-03-05
KR100476591B1 KR100476591B1 (ko) 2005-03-18

Family

ID=31944865

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2002-0050495A KR100476591B1 (ko) 2002-08-26 2002-08-26 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6780734B2 (ko)
JP (1) JP2004088109A (ko)
KR (1) KR100476591B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100456791B1 (ko) * 2002-11-19 2004-11-10 세크론 주식회사 칩이 상하로 분리되는 장치
KR100555724B1 (ko) * 2004-11-08 2006-03-03 세크론 주식회사 반도체 제조용 척 테이블
KR100877668B1 (ko) * 2008-08-08 2009-01-08 한성희 쏘잉 척 테이블
KR20220072210A (ko) * 2020-11-25 2022-06-02 세메스 주식회사 지지 유닛 및 반도체 패키지 절단 장치

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6710436B1 (en) * 2002-12-12 2004-03-23 Sun Microsystems, Inc. Method and apparatus for electrostatically aligning integrated circuits
KR100640597B1 (ko) * 2004-11-15 2006-11-01 삼성전자주식회사 웨이퍼레벨패키지 제조설비 및 제조방법
US7238258B2 (en) * 2005-04-22 2007-07-03 Stats Chippac Ltd. System for peeling semiconductor chips from tape
DE102005022780B4 (de) * 2005-05-12 2017-12-28 Infineon Technologies Ag Halbleiterchips für Tag-Anwendungen und Verfahren zur Packung von Halbleiterchips
KR101146437B1 (ko) * 2005-06-30 2012-05-21 엘지디스플레이 주식회사 코팅장비 및 그 운용방법
KR100610497B1 (ko) * 2005-07-25 2006-08-09 삼성전자주식회사 이미지 센서 소자의 마이크로렌즈의 오염 방지 방법 및그를 이용한 이미지 센서 소자의 제조 방법
GB2434913A (en) * 2006-02-02 2007-08-08 Xsil Technology Ltd Support for wafer singulation
KR100904496B1 (ko) * 2007-02-09 2009-06-24 한미반도체 주식회사 반도체 패키지 가공시스템 및 반도체 패키지 가공방법
US20080241991A1 (en) * 2007-03-26 2008-10-02 National Semiconductor Corporation Gang flipping for flip-chip packaging
US20090223628A1 (en) * 2008-03-07 2009-09-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing apparatus of composite substrate and manufacturing method of composite substrate with use of the manufacturing apparatus
US20100184255A1 (en) * 2009-01-22 2010-07-22 Chien Liu Manufacturing method for package structure
KR101560306B1 (ko) 2010-11-26 2015-10-14 한미반도체 주식회사 기판 이송 어셈블리
JP2013172115A (ja) * 2012-02-23 2013-09-02 Zhihao Chen エコ加工のウェハー製造方法
US9575115B2 (en) * 2012-10-11 2017-02-21 Globalfoundries Inc. Methodology of grading reliability and performance of chips across wafer
US9318362B2 (en) * 2013-12-27 2016-04-19 Asm Technology Singapore Pte Ltd Die bonder and a method of cleaning a bond collet
KR102469663B1 (ko) * 2016-05-17 2022-11-22 세메스 주식회사 다이 고정 장치
TWI646618B (zh) 2018-01-09 2019-01-01 宏碁股份有限公司 微元件轉移設備和相關方法
KR102458050B1 (ko) * 2018-05-31 2022-10-24 한미반도체 주식회사 마이크로 led 소자용 본딩장치 및 마이크로 led 소자용 본딩 방법
DE102018128616A1 (de) * 2018-06-24 2019-12-24 Besi Switzerland Ag Vorrichtung und Verfahren zum Ablösen eines Chips von einer Klebefolie
CN115091035B (zh) * 2022-06-30 2023-06-16 中南大学 一种电芯极片生产切割控制系统

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62249446A (ja) * 1986-04-23 1987-10-30 Hitachi Ltd 保持装置およびその使用方法
US5618759A (en) 1995-05-31 1997-04-08 Texas Instruments Incorporated Methods of and apparatus for immobilizing semiconductor wafers during sawing thereof
KR980005376U (ko) * 1996-06-29 1998-03-30 진공흡입식 웨이퍼 절단 장치
JPH10321562A (ja) 1997-05-20 1998-12-04 Sony Corp ウェーハのダイシング装置
KR100234726B1 (ko) * 1997-05-30 1999-12-15 김영환 반도체 웨이퍼의 절단방법
KR20000003432A (ko) 1998-06-29 2000-01-15 김영환 반도체소자의 커패시터 제조방법
KR100338983B1 (ko) * 1998-11-30 2002-07-18 윤종용 웨이퍼분리도구및이를이용하는웨이퍼분리방법
KR100347266B1 (ko) 1999-06-19 2002-08-01 강선철 전해산화수를 이용한 껍질을 제거한 밤의 장기저장법
JP2001035817A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Toshiba Corp ウェーハの分割方法及び半導体装置の製造方法
JP2001044143A (ja) * 1999-07-30 2001-02-16 Sony Corp 基体の切断方法及び半導体装置の製造方法
JP2002124525A (ja) * 2000-10-18 2002-04-26 Fujitsu Ltd 半導体チップ剥離装置及び方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100456791B1 (ko) * 2002-11-19 2004-11-10 세크론 주식회사 칩이 상하로 분리되는 장치
KR100555724B1 (ko) * 2004-11-08 2006-03-03 세크론 주식회사 반도체 제조용 척 테이블
KR100877668B1 (ko) * 2008-08-08 2009-01-08 한성희 쏘잉 척 테이블
KR20220072210A (ko) * 2020-11-25 2022-06-02 세메스 주식회사 지지 유닛 및 반도체 패키지 절단 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR100476591B1 (ko) 2005-03-18
JP2004088109A (ja) 2004-03-18
US6780734B2 (en) 2004-08-24
US20040038499A1 (en) 2004-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100476591B1 (ko) 웨이퍼 테이블과, 이를 이용한 웨이퍼 쏘잉/소자 접착장치와, 웨이퍼 쏘잉/소자 분류 장치
US9805980B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
US6121118A (en) Chip separation device and method
KR20030028391A (ko) 접착성 테이프의 박리 기구, 접착성 테이프의 박리 장치,접착성 테이프의 박리 방법, 반도체 칩의 픽업 장치,반도체 칩의 픽업 방법, 반도체 장치의 제조 방법 및반도체 장치의 제조 장치
KR100400106B1 (ko) 멀티칩 본딩 방법 및 장치
KR101460626B1 (ko) 반도체 자재 공급장치
US4878610A (en) Die bonding apparatus
JP4589201B2 (ja) 基板の切削装置
JP2011181936A (ja) 半導体装置の製造方法
US20060105477A1 (en) Device and method for manufacturing wafer-level package
KR100396982B1 (ko) 반도체패키지 적재 테이블장치
KR101640525B1 (ko) 픽 앤 플레이스먼트 장치
TW201742231A (zh) 半導體元件載體及包括該半導體元件載體的元件處理器
JP4769839B2 (ja) 半導体装置の製造方法
KR101712075B1 (ko) 쏘잉소터시스템의 턴테이블 장치
KR20070042336A (ko) 단일 블레이드를 이용한 이중 소잉 장치 및 방법
KR100981864B1 (ko) Qfn 기판의 처리방법
RU2743451C1 (ru) Способ разделения герметизированной с помощью эпоксидного компаунда мультиплицированной подложки на отдельные микросхемы
KR100595363B1 (ko) 자외선 조사장치, 자외선 조사장치를 구비한 반도체처리장치 및 웨이퍼 쏘잉 장치를 구비한 반도체 처리장치
KR970009272B1 (ko) 반도체의 다이본딩용 픽업툴
TW202324575A (zh) 膜結合模組以及包括其的半導體條帶切割以及分類裝備
KR980012105A (ko) 웨이퍼 쏘잉 방법
US20100184255A1 (en) Manufacturing method for package structure
KR20060012082A (ko) 솔더 볼 마운팅 장치의 고정 유닛

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090303

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee