KR20030097701A - Pattern inspection apparatus - Google Patents

Pattern inspection apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20030097701A
KR20030097701A KR20030039779A KR20030039779A KR20030097701A KR 20030097701 A KR20030097701 A KR 20030097701A KR 20030039779 A KR20030039779 A KR 20030039779A KR 20030039779 A KR20030039779 A KR 20030039779A KR 20030097701 A KR20030097701 A KR 20030097701A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
strip
shaped workpiece
belt
tab tape
Prior art date
Application number
KR20030039779A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR100605451B1 (en
Inventor
나가모리신이치
Original Assignee
우시오덴키 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 우시오덴키 가부시키가이샤 filed Critical 우시오덴키 가부시키가이샤
Publication of KR20030097701A publication Critical patent/KR20030097701A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100605451B1 publication Critical patent/KR100605451B1/en

Links

Abstract

투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현함과 동시에, 1개의 장치에서 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 제공한다.A pattern inspection apparatus which realizes a pattern inspection apparatus for automatically inspecting inspection by transmitted light, and at the same time, provides a pattern inspection apparatus which automatically inspects inspection by reflected light and inspection by transmitted light in one apparatus.

필름형의 띠형상 워크(1)에 형성된 패턴을 촬상(撮像)하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크(1)의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단(6)과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단(7)과, 상기 띠형상 워크(1)의 한쪽 또는 다른 쪽의 면에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단(8)과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단(22)을 구비한 것을 특징으로 한다.In the pattern inspection apparatus which image | photographs the pattern formed in the film-shaped strip | belt-shaped workpiece | work 1, and examines the external appearance of this pattern, 1st illumination means irradiated from one surface side of the said strip | belt-shaped workpiece | work 1 (6), the 2nd illumination means 7 irradiated from the other surface side of the said strip | belt-shaped workpiece | work, and the one or the other surface of the said strip | belt-shaped workpiece 1 are arrange | positioned, and image | photographed the said strip | belt-shaped workpiece | work It is characterized by including the imaging means 8 and the workpiece | work holding means 22 which provide a tension in the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece | work.

Description

패턴 검사 장치{PATTERN INSPECTION APPARATUS}Pattern inspection device {PATTERN INSPECTION APPARATUS}

본 발명은, 패턴 검사 장치에 관한 것으로, 특히, 테입 캐리어 방식에 의한 TAB(Tape Automated Bonding) 테입의 상하로부터 조명광을 조사하여, TAB 테입 상에 형성된 집적 회로 등의 회로 패턴을 자동 검사하는 패턴 검사 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern inspection apparatus, and in particular, a pattern inspection for automatically inspecting a circuit pattern such as an integrated circuit formed on a TAB tape by irradiating illumination light from above and below a tape automated bonding (TAB) tape by a tape carrier method. Relates to a device.

반도체 디바이스는, 고집적화와 고밀도 실장의 요구에 대응하여 리드의 다핀화와 미소화가 진행되고 있다. 이 다핀화와 미소화에 유리한 것으로부터, 반도체 칩을 필름형의 TAB 테입에 설치한 다수의 리드선과 접속하는 방법이 채용되고 있다.In the semiconductor device, lead fining and micronization are progressing in response to the demand for high integration and high density mounting. Since it is advantageous to this polyfinization and micronization, the method of connecting a semiconductor chip with many lead wires provided in the film-type TAB tape is employ | adopted.

도 10은, 필름형의 TAB 테입의 일부를 도시하는 도면이다.It is a figure which shows a part of film-like TAB tape.

동 도면에 있어서, TAB 테입(101)은, 두께 20∼150μm 정도, 폭 35∼165mm 정도의 유기 화합물의 필름 상에 동박 등의 금속 박을 붙여 부착한 것으로, 그 내부에는, 반도체 칩의 외경보다도 큰 개구부(102)가 설치되고, 개구부(102) 주변에는, 반도체 칩을 외부 회로 등과 전기적으로 접속하기 위한 회로 패턴이 형성되어 있다. 회로 패턴의 일단은, 반도체 칩과 접속하기 위해서 개구부(102)의 측변으로부터 안쪽으로 향하게 하여, 허공에 뜬 상태에서 리드가 노출하는 플라잉 리드(103)가 형성되고, 회로 패턴의 타단은, 외부 회로 등과 접속하기 위해서 개구부(102)의 측변으로부터 바깥쪽으로 향하게 하여 노출하는 아우터 리드(104)가 형성되어 있다.In the figure, the TAB tape 101 is a metal foil, such as copper foil, affixed onto a film of an organic compound having a thickness of about 20 to 150 μm and a width of about 35 to 165 mm. The inside of the TAB tape 101 is larger than the outer diameter of the semiconductor chip. A large opening 102 is provided, and a circuit pattern for electrically connecting the semiconductor chip to an external circuit or the like is formed around the opening 102. One end of the circuit pattern is directed inward from the side of the opening 102 in order to connect with the semiconductor chip, and a flying lead 103 is formed in which the lead is exposed in the air. The other end of the circuit pattern is an external circuit. In order to connect with the back and the like, an outer lead 104 is formed which is exposed outward from the side of the opening 102.

개구부(102)의 주변부의 플라잉 리드(103)의 부분으로부터 아우터 리드(104)까지의 사이에 있는 회로 패턴은, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 도포되어 있다.A protective film such as a photo solder resist 105 is applied to the circuit pattern between the portion of the flying lead 103 at the periphery of the opening 102 and the outer lead 104.

이러한 TAB 테입(101)의 제조 공정에서는, 상기의 플라잉 리드(103)의 부분, 아우터 리드(104)의 부분, 포토 솔더 레지스트(105)의 부분의 각각의 회로 패턴이 정확하게 형성되어 있는지의 여부를 검사해야 할 필요가 있어, 패턴 검사 장치가 이용되고 있다.In the manufacturing process of this TAB tape 101, it is determined whether the circuit pattern of each part of the said flying lead 103, the part of the outer lead 104, and the part of the photo solder resist 105 is formed correctly. It is necessary to inspect and the pattern inspection apparatus is used.

패턴 검사 장치는, 검사하는 TAB 테입(101)에 조명광을 조사하여, 회로 패턴의 상태를 촬상 장치 또는 눈으로 검출하여, 기준 패턴과 비교하여 회로 패턴의 양부를 판정하는 것이다.The pattern inspection apparatus irradiates the TAB tape 101 to be inspected with illumination light, detects the state of the circuit pattern with the imaging device or the eye, and determines whether the circuit pattern is good or not by comparing with the reference pattern.

예컨대, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 소정의 개소에 정확하게 형성되어 있는지, 긁힘 등은 없는지, 또한 불필요한 곳에 형성되어 있지는 않은지, 배선 도금의 얼룩 또는 더러워짐은 없는지 등이, 낙사광에 의한 조명광을 반사시켜 검사하고 있다. 이 경우, TAB 테입(101)을 평면도가 좋은 스테이지에 유지하고, TAB 테입(101)의 위쪽으로부터 조명광을 조사하여, 그 반사광에 의한 회로 패턴상을 TAB 테입(101) 상에 설치한 촬상 장치에 의해 촬상하여 화상 처리하고 있다. 화상 처리된 회로 패턴상은 기준이 되는 회로 패턴과 비교되어 양부가 판정된다.For example, whether a protective film such as the photo solder resist 105 is accurately formed at a predetermined location, is not scratched, etc., is not formed at an unnecessary place, or is there any unevenness or dirt of wiring plating, etc. The light is reflected and inspected. In this case, the TAB tape 101 is held on a stage having a good plan view, irradiated with illumination light from above the TAB tape 101, and a circuit pattern image by the reflected light is provided on the TAB tape 101. The image is processed by imaging. The image of the circuit pattern processed is compared with the circuit pattern as a reference, and the quality is determined.

한편, 회로 패턴 배선의 결락, 단선, 쇼트, 팽창 등에 관해서는, 투과광에 의한 조명광에 의해서 검사하고 있다. 특히, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 도포된 부분의 회로 패턴은, TAB 테입(101)의 위쪽으로부터 조명광을 조사하고, 그 반사광에 의한 회로 패턴상을 촬상 장치에 의해 촬상하여 화상 처리하더라도, 콘트라스트가 나타나지 않아 검출할 수 없다. 따라서, 통상적으로, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 도포된 부분의 회로 패턴을 검출할 경우, TAB 테입(101)의 아래쪽으로부터 조명광을 조사하고, TAB 테입(101)을 투과한 투과광에 의한 회로 패턴상을 TAB 테입(101)의 위쪽에 설치한 촬상 장치에 의해 촬상하여 화상 처리한다.On the other hand, missing, disconnection, short, expansion, etc. of a circuit pattern wiring are examined by the illumination light by transmitted light. In particular, the circuit pattern of the portion to which the protective film such as the photo solder resist 105 is coated is irradiated with illumination light from the upper side of the TAB tape 101, and the circuit pattern image by the reflected light is picked up by the imaging device and image processed. , Contrast cannot be detected and cannot be detected. Therefore, normally, when detecting the circuit pattern of the part in which the protective film, such as the photo solder resist 105, was apply | coated, illumination light was irradiated from the lower side of the TAB tape 101, and it transmitted by the transmitted light which permeate | transmitted the TAB tape 101. The circuit pattern image is picked up by the imaging device provided above the TAB tape 101, and image processing is performed.

따라서, 1개의 TAB 테입의 검사를 하기 위해서는, TAB 테입을 위쪽으로부터 조명하는 조명 장치를 구비한 검사 장치와, TAB 테입을 아래쪽으로부터 조명하는 조명 장치를 구비한 검사 장치의 두 종류의 검사 장치를 필요로 하고 있다.Therefore, in order to test one TAB tape, two types of inspection apparatuses are required: an inspection apparatus having an illumination device for illuminating the TAB tape from above and an inspection apparatus having an illumination device for illuminating the TAB tape from below. I am doing it.

상하 양방향으로부터 워크를 조사하여 검사하는 검사 장치로서는, 예컨대, 일본국 특개평11-312241호, 특개 2001-21333호가 알려져 있다.As inspection apparatus which irradiates and inspects a workpiece | work from the upper and lower directions, for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-312241 and 2001-21333 are known.

상기의 공지 기술에 도시되는 것과 같은 검사 장치를 이용하면, 두 종류의 검사 장치가 필요하지 않게 된다.By using the inspection apparatus as shown in the above known art, two kinds of inspection apparatus are not necessary.

그러나, TAB 테입의 검사 장치에 관해서는, 이하에 도시하는 바와 같은 문제점이 있고, 상기와 같은 검사 장치는 실현되어 있지 않다.However, the TAB tape tester has the following problems, and the tester as described above has not been realized.

TAB 테입으로부터의 반사광 또는 투과광을 촬상 장치로 촬상할 경우, TAB 테입을 검사하는 위치가, 촬상 장치의 초점 심도 범위 내에 없으면 흐릿해져 검사할 수 없게 된다. 따라서, 상술한 바와 같이, 반사광에 의해 검사할 경우는, TAB 테입을 평면도가 좋은 스테이지에 진공 흡착 등에 의해 유지하여 검사하고 있다.When imaging the reflected light or the transmitted light from a TAB tape with an imaging device, if the position which examines a TAB tape is not in the depth of focus range of an imaging device, it will become blurred and cannot be inspected. Therefore, as described above, when inspected by the reflected light, the TAB tape is held and inspected by vacuum adsorption or the like on a stage having a good plan view.

그러나, 투과에 의해 검사하고자 하는 경우는, TAB 테입을 스테이지에 유지한 상태에서는 아래쪽으로부터의 조명을 할 수 없다. 따라서, 스테이지를 이용하지 않고, 테입을 반송하는 기구에 의해 텐션을 가해서 평면을 유지하는 방법을 생각할 수 있다.However, in the case where the inspection is to be performed by transmission, illumination from the bottom cannot be performed while the TAB tape is held on the stage. Therefore, the method of applying a tension and maintaining a plane by the mechanism which conveys a tape without using a stage can be considered.

통상적으로, 검사 장치나 노광 장치에 있어서 TAB 테입을 반송할 경우, TAB 테입은 롤러 사이에 끼워져 롤러가 회전하는 것에 의해 반송된다. 이들의 장치에서는, 반송 하류 측에 반송용 롤러가, 상류 측에 브레이크 롤러가 설치되어, 사행이나 슬립이 생기지 않도록 반송되고 있다. 이 반송용 롤러와 브레이크 롤러와의 작용에 의해, TAB 테입에 반송 방향을 따른 텐션을 부여하고 있다.Usually, when conveying a TAB tape in a test | inspection apparatus or an exposure apparatus, a TAB tape is clamped between rollers and conveyed by rotating a roller. In these apparatuses, the roller for conveyance is provided in the conveyance downstream, and a brake roller is provided in the upstream, and is conveyed so that meandering or slip may not generate | occur | produce. The tension along the conveyance direction is given to TAB tape by the action of this conveyance roller and a brake roller.

그러나, 이와 같이 TAB 테입의 반송 방향으로 텐션을 부가하는 것만으로는, TAB 테입의 폭 방향(반송 방향에 대한 직각 방향)의 휘어짐은 보정되지 않는다.However, the warpage of the TAB tape in the width direction (orthogonal to the conveying direction) is not corrected only by adding the tension in the conveying direction of the TAB tape in this manner.

TAB 테입은, 수지인 필름형의 테입 기판 표면에, 팽창 계수가 다른 금속막 등이 형성되어, 열처리되고 있다. 따라서, 테입의 폭 방향으로 휘어짐이 발생하는 경우가 많다.In the TAB tape, a metal film having a different expansion coefficient or the like is formed on the surface of a film-type tape substrate which is a resin, and is heat treated. Therefore, warpage often occurs in the width direction of the tape.

또한, 반송 방향만의 텐션으로는, 장치의 진동 등에 의한 테입의 상하 진동을 막을 수도 없다. 이 테입 폭 방향의 휘어짐이나 진동이 촬상 장치의 초점 심도보다 커지면, 촬상된 화상은 핀트가 흐릿해진 상태가 되어, 화상 처리를 할 수 없고, 회로 패턴의 양부의 판정을 할 수 없다.In addition, with the tension only in the conveyance direction, it is not possible to prevent the vertical vibration of the tape due to the vibration of the apparatus or the like. When the warp and the vibration in the tape width direction become larger than the depth of focus of the imaging device, the captured image is in a blurred state, and image processing cannot be performed, and it is impossible to determine whether the circuit pattern is good or not.

따라서, 투과광에 의해, TAB 테입 상의 회로 패턴을 검사하는 경우는, 촬상장치를 이용하여 화상 처리하는 것에 의한 자동 검사 장치에서의 실현은 곤란하므로, 투과광을 눈으로 관찰하여, 테입의 휘어짐이나 진동에 따라 핀트를 수동으로 조절하면서 검사하는 방법이 채용되고 있다.Therefore, when the circuit pattern on the TAB tape is inspected by the transmitted light, it is difficult to realize the automatic inspection device by performing image processing using the imaging device. Therefore, the transmitted light is visually observed to prevent the tape from bending or vibrating. Therefore, a method of inspecting while adjusting the focus manually has been adopted.

즉, 반사광에 의한 검사는, 자동 검사 장치에 의한 검사는 가능하지만, 투과광에 의한 검사는 자동 검사 장치에 의한 검사를 할 수 없고, 또한 반사광과 투과광에 의한 양자의 검사를 합체한 검사 장치는 실현되어 있지 않다.That is, the inspection by the reflected light can be inspected by the automatic inspection apparatus, but the inspection by the transmitted light cannot be inspected by the automatic inspection apparatus, and the inspection apparatus which combines the inspection by the reflected light and the transmitted light is realized. It is not.

본 발명의 목적은, 상기의 문제점을 감안하여, 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현함과 동시에, 1개의 장치로 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to realize a pattern inspection apparatus for automatically inspecting inspection by transmitted light, and at the same time, a pattern inspection apparatus which automatically inspects inspection by reflected light and inspection by transmitted light by one device. To provide.

본 발명은, 상기의 과제를 해결하기 위해서, 다음과 같은 수단을 채용하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, this invention employ | adopted the following means.

제1의 수단은, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측에 배치되어 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.1st means is a pattern inspection apparatus which image | photographs the pattern formed in the film-shaped strip | belt-shaped workpiece | work, and examines the external appearance of this pattern, The illumination means which irradiates from one surface side of the said strip | belt-shaped workpiece, and the said strip | belt-shaped workpiece | work It is provided with the imaging means which is arrange | positioned at the other surface side of the said band-shaped workpiece | work, and the workpiece holding means which gives tension in the width direction of the said band-shaped workpiece | work, It is characterized by the above-mentioned.

제2의 수단은, 제1의 수단에 있어서, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.As for a 2nd means, in a 1st means, the said imaging means is provided so that a movement to the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece | work is possible with the said illumination means at the time of imaging. It is characterized by the above-mentioned.

제3의 수단은, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 한쪽 또는 다른 쪽 면측에 배치되어 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.The third means is a pattern inspection apparatus for imaging a pattern formed on a film-shaped band-shaped work and inspecting the appearance of the pattern, wherein the first lighting means is irradiated from one surface side of the band-shaped work, and the 2nd illumination means irradiated from the other surface side of a strip | belt-shaped workpiece | work, imaging means arrange | positioned at one or the other surface side of the said strip | belt-shaped workpiece, and tension | tensile_strength in the width direction of the strip | belt-shaped workpiece | work It is characterized by comprising a work holding means for providing a.

제4의 수단은, 제3의 수단에 있어서, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 제1의 조명 수단 및 제2의 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.As for a 4th means, in a 3rd means, the said imaging means is provided so that it can move to the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece | work with the said 1st illumination means and the 2nd illumination means at the time of imaging. It features.

도 1은 본 실시 형태의 발명에 관한 검사 장치의 구성을 도시하는 사시도,1 is a perspective view showing the configuration of a test apparatus according to the present invention;

도 2는 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서 낙사 조명 장치(6), 투과 조명 장치(7), 및 촬상 장치(8)의 부분을 확대하여 도시한 단면도,FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of portions of the fall lighting device 6, the transparent lighting device 7, and the imaging device 8 in the inspection device shown in FIG.

도 3은 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서의 TAB 테입(1)의 폭 방향의 인장 기구를 도시하는 사시도,3 is a perspective view showing a tensioning mechanism in the width direction of the TAB tape 1 in the inspection apparatus shown in FIG. 1;

도 4는 도 3에 도시한 그립용 액추에이터(15)의 부분을 확대하여 도시한 사시도,4 is an enlarged perspective view of a part of the actuator 15 for grip shown in FIG. 3;

도 5는 패턴 검사 장치 내에 설치되는 제어 장치에 의해 제어되는 검사 장치 각 부와의 제어 관계를 도시하는 도면,5 is a diagram showing a control relationship with each part of the inspection apparatus controlled by the control apparatus installed in the pattern inspection apparatus;

도 6은 낙사 조명 장치(6)에 의해서 조명되어 있는 상태로, 촬상 장치(8)가 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하면서, 피검사 패턴을 촬상하는 상태를 도시하는 도면,FIG. 6 is a view showing a state in which the image capturing pattern is captured while the imaging device 8 moves in the width direction of the TAB tape 1 in the state illuminated by the fall lighting device 6;

도 7은 투과 조명 장치(7)에 의해서 조명되어 있는 상태로, 촬상 장치(8)가 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하면서, 피검사 패턴을 촬상하는 상태를 도시하는 도면,7 is a view showing a state in which the imaging device 8 picks up the inspection target pattern while the imaging device 8 moves in the width direction of the TAB tape 1 in the state illuminated by the transmissive illumination device 7;

도 8은 본 실시 형태에 관한 패턴 검사 장치에 있어서의 양부 판정의 순서를도시하는 도면,8 is a diagram showing a procedure of pass / fail determination in the pattern inspection apparatus according to the present embodiment;

도 9는 양부 판정을 설명하기 위한 도면,9 is a view for explaining acceptance judgment;

도 10은 필름형의 TAB 테입의 일부를 도시하는 도면이다.It is a figure which shows a part of TAB tape of a film form.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

1 : TAB 테입2 : 반송용 롤러1: TAB tape 2: Transport roller

3 : 브레이크 롤러4 : 테입 롤러3: brake roller 4: tape roller

5 : 피검사 패턴6 : 낙사 조명 장치5: test pattern 6: a fall lighting device

61: LED62: 필터61: LED 62: filter

63: 렌즈7 : 투과 조명 장치63: lens 7: transmission lighting device

8 : 촬상 장치81: CCD 라인 센서8: imaging device 81: CCD line sensor

9 : 관찰창10: 베이스 플레이트9: Observation window 10: Base plate

11: 슬라이드 플레이트12: 모터11: slide plate 12: motor

13: 볼 나사14: 프레임13: ball screw 14: frame

15: 그립용 액추에이터151: 모터15: actuator for grip 151: motor

152: 경사 부재153: 회전 이동 부재152: inclined member 153: rotation moving member

16: 그립용 상측 부재17: 그립용 하측 부재16: Upper member for grip 17: Lower member for grip

18: 슬라이드용 액추에이터19: 슬라이드 플레이트18: Actuator for slide 19: Slide plate

20: 슬라이드 플레이트 스토퍼21: 제어 장치20: slide plate stopper 21: control device

22: 테입 인장 기구23: 테입 반송 기구22: tape tensioning mechanism 23: tape conveying mechanism

24: 불량품 펀치 기구25: 마스터 데이터24: defective punch mechanism 25: master data

본 발명의 한 실시 형태를 도 1 내지 도 9를 이용하여 설명한다.An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9.

도 1은, 본 실시 형태의 발명에 관한 검사 장치의 구성을 도시하는 사시도이다.1 is a perspective view showing the configuration of a test apparatus according to the invention of the present embodiment.

동 도면에 있어서, 1은 TAB 테입, 2는 촬상 위치의 반송 하류 측에 설치된 반송용 롤러, 3은 촬상 위치의 반송 상류 측에 설치되어, 반송용 롤러(2)와 함께 TAB 테입(1)에 반송 방향으로 텐션을 부여하고, 사행이나 슬립이 생기지 않도록 하여 반송하는 브레이크 롤러, 4는 테입 롤러, 5는 촬상 위치에 있는 피검사(被檢査) 패턴, 6은 TAB 테입(1)의 위쪽에 배치된 낙사(落射) 조명 장치, 7은 TAB 테입(1)의 아래쪽에 배치된 투과 조명 장치, 8은 낙사 조명 장치(6)에 의해 조사되어 TAB 테입(1)으로부터의 반사광 및 투과 조명 장치(7)에 의해서 조사되어 TAB 테입(1)으로부터의 투과광을 수광하는 것에 의해, TAB 테입(1) 상의 피검사 패턴(5)을 촬상하는 촬상 장치, 9는 낙사 조명 장치(6)를 덮는 커버의 상부에 설치되고, 검사 시, TAB 테입(1)으로부터의 반사광 또는 투과광을 촬상 장치(8)에 통과시키기 위한 관찰창, 10은 베이스 플레이트, 11은 낙사 조명 장치(6), 투과 조명 장치(7) 및 촬상 장치(8)를 지지하는 프레임과 일체로 구성하고, 베이스 플레이트(10)에 대하여 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치된 슬라이드 플레이트, 12는 모터, 13은 모터(12)의 구동에 의해서 회전 이동되어 슬라이드 플레이트(11)를 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동시키기 위한 볼 나사, 14는 슬라이드 플레이트(11)와 일체로 구성되어, 낙사 조명 장치(6), 투과 조명 장치(7) 및 촬상 장치(8)를 지지하는 프레임이다.In the same figure, 1 is a TAB tape, 2 is a conveyance roller provided in the conveyance downstream of an imaging position, 3 is provided in the conveyance upstream of an imaging position, and it is attached to the TAB tape 1 with the conveyance roller 2 in it. Brake rollers which are tensioned in the conveying direction and conveyed without meandering or slipping, 4 are tape rollers, 5 are inspected patterns at the imaging position, and 6 are arranged above the TAB tape 1 A fallen fall lighting device, 7 is a transmissive lighting device disposed under the TAB tape 1, 8 is irradiated by the fall lighting device 6, and reflected light from the TAB tape 1 and a transmitting lighting device 7 ) Is an image pickup device for imaging the inspection pattern 5 on the TAB tape 1 by receiving light transmitted from the TAB tape 1, and 9 is an upper portion of the cover covering the fall lighting device 6. Installed in the chamber, and during the inspection, the reflected light or transmitted light from the TAB tape (1) Observation window for passing through the device 8, 10 is the base plate, 11 is the fall lighting device 6, the transmission lighting device 7 and the frame supporting the image pickup device 8 integrally constitute a base plate ( 10) slide plate provided to be movable in the width direction of the TAB tape (1), 12 is the motor, 13 is rotated by the drive of the motor 12 to move the slide plate 11 the width of the TAB tape (1) The ball screw 14 for moving in the direction is integrally comprised with the slide plate 11, and is a frame which supports the fall lighting device 6, the transmissive lighting device 7, and the imaging device 8. As shown in FIG.

도 2는, 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서 낙사 조명 장치(6),투과 조명 장치(7) 및 촬상 장치(8)의 부분을 확대하여 도시한 단면도이다.FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of portions of the fall lighting device 6, the transmissive lighting device 7, and the imaging device 8 in the inspection device shown in FIG.

동 도면에 있어서, 61, 62, 63은 각각 낙사 조명 장치(6)의 커버 내에 설치되는 LED, 필터, 렌즈, 81은 촬상 장치(8)에 설치되어, 그 종축 방향이 TAB 테입(1)의 반송 방향을 따르도록 설치되는 CCD 라인 센서이다.In the figure, 61, 62, and 63 are respectively provided in the cover of the fall lighting device 6, the LED, the filter, the lens, and 81 are installed in the imaging device 8, and the longitudinal axis direction of the TAB tape 1 It is a CCD line sensor provided so that it may follow a conveyance direction.

동 도면에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 장치(6)는, TAB 테입(1)의 위쪽으로부터 조명광을 조사하고, TAB 테입(1)에 조사된 광을 그 표면에서 반사시켜, 관찰창(9)을 통해 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에 입력시키는 것이다.As shown in the figure, the fall illumination device 6 irradiates the illumination light from above the TAB tape 1, reflects the light irradiated onto the TAB tape 1 from its surface, and the observation window 9. It inputs to the CCD line sensor 81 of the imaging device 8 via the said power supply.

한편, 투과 조명 장치(7)에도 낙사 조명 장치(6)와 같은 LED, 필터, 렌즈가 설치되어 있고, 투과 조명 장치(7)는 TAB 테입(1)의 아래쪽으로부터 조명광을 조사하여, TAB 테입(1)에 조사된 광을 TAB 테입(1)을 투과시켜, 관찰창(9)을 통해 촬상장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에 입력시키는 것이다.On the other hand, the LED, the filter, and the lens similar to the fall lighting device 6 are also provided in the transmissive lighting device 7, and the transparent lighting device 7 irradiates the illumination light from the lower side of the TAB tape 1, and the TAB tape ( The light irradiated to 1) is transmitted through the TAB tape 1 and input to the CCD line sensor 81 of the imaging device 8 through the observation window 9.

도 3은, 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서, 워크 유지 수단이 되는 TAB 테입(1)의 폭 방향의 인장 기구를 도시하는 사시도이다.FIG. 3: is a perspective view which shows the tensioning mechanism of the width direction of the TAB tape 1 used as a workpiece holding means in the test | inspection apparatus shown in FIG.

동 도면에 있어서, 15는 TAB 테입(1)의 양측에 설치되고, TAB 테입(1)을 사이에 끼워 동작하는 그립용 액추에이터, 16, 17은 양자간에 TAB 테입(1)을 사이에 끼우는 그립용 상측 부재 및 그립용 하측 부재, 18은 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 텐션을 부가하기 위해 슬라이드 플레이트(19)를 구동하는 슬라이드용 액추에이터, 19는 그립용 상측 부재(16) 및 그립용 하측 부재(17)를 지지하고, 슬라이드용 액추에이터(18)에 의해서 구동되는 슬라이드 플레이트, 20은 슬라이드 플레이트 스토퍼이다.In the figure, 15 is provided on both sides of the TAB tape 1, and the grip actuator which operates between the TAB tape 1, 16, 17 is a grip for sandwiching the TAB tape 1 between them. Upper member and lower member for grip, 18 is a slide actuator for driving the slide plate 19 to apply tension in the width direction of the TAB tape 1, 19 is an upper member 16 for grip and a lower member for grip The slide plate 20 which supports 17 and is driven by the slide actuator 18 is a slide plate stopper.

도 4는, 도 3에 도시한 그립용 액추에이터(15)의 부분을 확대하여 도시한 사시도이다.FIG. 4 is an enlarged perspective view showing a part of the grip actuator 15 shown in FIG. 3.

동 도면에 있어서, 151은 모터, 152는 모터(151)의 회전 이동에 의해 도시 화살표 방향(a)으로 이동 가능한 경사 부재, 153은 그립용 상측 부재(16)에 장착됨과 동시에 경사 부재(152) 상을 회전 이동하여, 그립용 상측 부재(16)를 도시 화살표 방향(b)으로 상하 동작시키는 회전 이동 부재이다.In the figure, 151 is a motor, 152 is an inclined member which is movable in the arrow direction a by the rotational movement of the motor 151, 153 is mounted on the upper member 16 for grip and at the same time the inclined member 152 It is a rotational movement member which rotates an image and moves the upper side member 16 for grips up and down in the arrow direction b of illustration.

TAB 테입(1)이 반송되고 있는 상태에서는, 그립용 상측 부재(16)는 상승하고 있고, 그립용 상측 부재(16)는 그립용 하측 부재(17)와 핀과 함께, 테입 반송중의 사행을 방지하는 테입 가이드로서 작용한다. TAB 테입(1)의 검사 위치가 촬상 위치까지 이동하면, TAB 테입(1)의 반송을 정지하고, 도 4에 도시하는 바와 같이, 그립용 액추에이터(15)의 모터(151)가 구동되어, 그립용 상측 부재(16)가 하강한다. 그립용 상측 부재(16)가 하강되면, 그립용 하측 부재(17)와의 사이에서 TAB 테입(1)을 상하로부터 사이에 끼워 유지한다. 그 상태로, 도 3에 도시하는 바와 같이, 슬라이드용 액추에이터(18)를 구동하는 것에 의해, 슬라이드 플레이트(19)와 일체로 구성된 그립용 상측 부재(16)와 그립용 하측 부재(17)는 TAB 테입(1)을 사이에 끼운 상태로 TAB 테입의 폭 방향으로 이동한다. 이것에 의해서 TAB 테입(1)을 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 텐션을 부가할 수 있어, TAB 테입(1)을 좋은 평면도로 유지할 수 있다.In the state where the TAB tape 1 is being conveyed, the upper member 16 for grip is raised, and the upper member 16 for grip is inclined during tape conveyance along with the lower member 17 for pin and the pin. It acts as a tape guide to prevent. When the inspection position of the TAB tape 1 moves to the imaging position, the conveyance of the TAB tape 1 is stopped, and as shown in FIG. 4, the motor 151 of the grip actuator 15 is driven to grip The upper member 16 is lowered. When the upper member 16 for grip is lowered, the TAB tape 1 is sandwiched and held between the upper and lower members 17 for grip. In that state, as shown in FIG. 3, by operating the slide actuator 18, the upper member 16 for grips and the lower member 17 for grips integrally comprised with the slide plate 19 are TAB. The tape 1 is moved in the width direction of the TAB tape with the tape 1 sandwiched therebetween. Thereby, tension can be added to the TAB tape 1 in the width direction of the TAB tape 1, and the TAB tape 1 can be maintained in a good plan view.

다음으로, 본 실시 형태에 관한 패턴 검사 장치의 검사 동작의 순서를 도 5 내지 도 7을 이용하여 설명한다.Next, the procedure of the inspection operation | movement of the pattern inspection apparatus which concerns on this embodiment is demonstrated using FIGS.

도 5는, 패턴 검사 장치 내에 설치되는 제어 장치에 의해서 제어되는 검사 장치 각 부와의 제어 관계를 도시하는 도면이고, 제어 장치(21)는, 촬상 장치(8), 낙사 조명 장치(6), 테입 인장 기구(22), 투과 조명 장치(7), 테입 반송 기구(23), 불량품 펀치 기구(24) 등에 대하여, 검사 동작의 소정의 타이밍으로 제어 신호를 송신하고, 제어한다. 제어 장치(21)에는, 미리 패턴 검사의 기준이 되는 마스터 데이터(25)가 입력되어 있고, 마스터 데이터(25)에는 낙사 조명에 이용되는 것과 투과 조명에 이용되는 것의 두 가지가 있다.FIG. 5: is a figure which shows the control relationship with each part of the inspection apparatus controlled by the control apparatus provided in the pattern inspection apparatus, The control apparatus 21 is the imaging device 8, the fall lighting apparatus 6, The control signal is transmitted and controlled to the tape tensioning mechanism 22, the transmissive illumination device 7, the tape conveyance mechanism 23, the defective product punch mechanism 24, and the like at a predetermined timing of the inspection operation. The master device 25 which is a reference | standard of a pattern test | inspection is input into the control apparatus 21 previously, and there are two types of master data 25 which are used for fall illumination and the transmission light.

우선, 제어부(21)에 의해서 테입 반송 기구(23)가 구동되고, TAB 테입(1)이 반송되어, 피검사 패턴(5)이 촬상 위치에 정지한다. 다음에, 테입 인장 기구(22)의 그립용 상측 부재(16), 그립용 하측 부재(17)에 의해서 TAB 테입(1)의 주변부가사이에 끼워진 상태로 테입의 폭 방향으로 텐션이 부가된다.First, the tape conveyance mechanism 23 is driven by the control unit 21, the TAB tape 1 is conveyed, and the test pattern 5 stops at the imaging position. Next, the tension is added in the width direction of the tape while the peripheral portion of the TAB tape 1 is sandwiched between the upper member 16 for grip and the lower member 17 for grip of the tape tensioning mechanism 22.

다음에, 도 6(a)에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 장치(6)에 의해서 TAB 테입(1) 상의 검사 패턴에 대하여 조명광이 조사된다. 검사 패턴으로부터의 반사광은 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에서 수광된다.Next, as shown to Fig.6 (a), illumination light is irradiated to the test | inspection pattern on TAB tape 1 by the fall lighting device 6. The reflected light from the inspection pattern is received by the CCD line sensor 81 of the imaging device 8.

다음에, 도 6(b)에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 장치(6)에 의한 조명을 하고 있는 상태에서, 프레임(14)이 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동한다. 그 결과, 낙사 조명 장치(6)와 촬상 장치(8)는 모두 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하고, TAB 테입(1)의 한쪽의 에지(edge)(A)에서 다른 쪽의 에지(B)를 향해 주사하고, 촬상 장치(8)에는, TAB 테입(1)의 에지(A)에서 에지(B) 사이의 피검사 패턴이 촬상된다. 촬상된 피검사 패턴의 정보는, 테입의 폭 방향의 위치에 대응하여 제어부(21)에 기억된다.Next, as shown in FIG. 6 (b), the frame 14 moves in the width direction of the TAB tape 1 while being illuminated by the fall lighting device 6. As a result, the fall illumination device 6 and the imaging device 8 both move in the width direction of the TAB tape 1, and the other edge (at one edge A of the TAB tape 1) is moved. Scanning toward B), the to-be-tested pattern between the edge A of the TAB tape 1 and the edge B is imaged in the imaging device 8. The information of the to-be-tested pattern image | photographed is memorize | stored in the control part 21 corresponding to the position of the tape width direction.

촬상 장치(18)에 의한 촬상이 TAB 테입(1)의 에지(B)까지 달하면, 낙사 조명 장치(6)에 의한 조명을 정지하고, 도 7(a)에 도시하는 바와 같이, 투과 조명 장치(7)에 의해서 TAB 테입(1) 상의 검사 패턴에 대하여 조명광이 조사되고, 검사 패턴을 투과한 투과광은 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에서 수광된다.When the imaging by the imaging device 18 reaches the edge B of the TAB tape 1, the illumination by the fall lighting device 6 is stopped, and as shown in FIG. 7 (a), the transmission lighting device ( 7), illumination light is irradiated to the inspection pattern on the TAB tape 1, and transmitted light transmitted through the inspection pattern is received by the CCD line sensor 81 of the imaging device 8.

다음에, 도 7(b)에 도시하는 바와 같이, 투과 조명 장치(7)에 의한 조명을 하고 있는 상태에서, 프레임(14)이 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동한다. 그 결과, 투과 조명 장치(7)와 촬상 장치(8)는 모두 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하고, TAB 테입(1)의 다른 쪽의 에지(B)에서 한쪽의 에지(A)를 향하여 주사하고, 촬상 장치(8)에는, TAB 테입(1)의 에지(B)에서 에지(A) 사이의 피검사 패턴이 촬상된다. 촬상된 피검사 패턴의 정보는, 먼저와 같이, 테입의 폭 방향으로 위치에 대응하여 제어부(21)에 기억된다.Next, as shown in FIG. 7B, the frame 14 moves in the width direction of the TAB tape 1 while being illuminated by the transmissive lighting device 7. As a result, both the transmissive illumination device 7 and the imaging device 8 move in the width direction of the TAB tape 1, and move one edge A from the other edge B of the TAB tape 1. Scanning is performed, the inspection pattern between the edge B of the TAB tape 1 and the edge A is imaged in the imaging device 8. The information of the to-be-tested pattern image | photographed is memorize | stored in the control part 21 corresponding to a position in the width direction of a tape as before.

촬상 장치(8)에 의한 촬상이 TAB 테입(1)의 에지(A)까지 달하면, 투과 조명 장치(7)에 의한 조명을 정지하고, 다시 테입 반송 기구(23)가 구동되어, TAB 테입(1)이 반송되고, 새로운 피검사 패턴(5)이 소정의 촬상 위치에 정지하도록 제어된다.When the imaging by the imaging device 8 reaches the edge A of the TAB tape 1, the illumination by the transmissive lighting device 7 is stopped, and the tape conveyance mechanism 23 is driven again, so that the TAB tape 1 ) Is conveyed, and the new inspection pattern 5 is controlled to stop at a predetermined imaging position.

상기와 같이, 프레임(14), 즉, 촬상 장치(8)의 왕복 이동에 의해 얻은 TAB 테입(1) 상의 피검사 패턴의 반사광에 의한 정보(낙사 조명 이미지)와 투과광에 의한 정보(투과 조명 이미지)의 2개의 정보는, 제어 장치(21) 내에서, 기억되어 있는 각각의 마스터 데이터(25)와 비교하여 양부가 판정된다.As described above, the information (reflected illumination image) by the reflected light of the pattern under test on the TAB tape 1 obtained by the reciprocating movement of the imaging device 8 and the transmitted light (transmission illumination image) as described above. The two pieces of information of) are compared with each master data 25 stored in the control device 21 to determine whether the two pieces of information are determined.

다음에, 본 실시 형태에 관한 패턴 검사 장치에 있어서의 양부 판정의 순서를 도 8 및 도 9를 이용하여 설명한다.Next, the procedure of the quality judgment in the pattern inspection apparatus which concerns on this embodiment is demonstrated using FIG. 8 and FIG.

도 8에 도시하는 바와 같이, 상술의 화상 취득 처리에 의해, 낙사 조명 이미지와 투과 조명 이미지가 취득된다. 처음에는, 낙사 조명 이미지와 낙사 조명용의 마스터 데이터(1)가 화상 비교되고, 이어서, 투과 조명 이미지와 투과 조명용의 마스터 데이터(2)가 화상 비교된다. 다음에, 양쪽의 화상 비교의 결과에 따라서 양품, 불량품의 판정이 내려진다.As shown in FIG. 8, the fall-off illumination image and the transmission illumination image are acquired by the image acquisition process mentioned above. Initially, the fall illumination image and the master data 1 for fall illumination are image compared, and then the transmission illumination image and the master data 2 for transmission illumination are image compared. Subsequently, a good or bad product is judged according to the result of the image comparison of both.

양쪽의 화상 비교에 있어서, 양쪽 모두 결함(불량)이 없는 경우는, 양품으로 판정되고, TAB 테입(1)은 반송되어 다음 검사 위치가 검사되고, 다음 화상이 취득된다.In both image comparisons, when there is no defect (defect) in both, it is determined as good quality, the TAB tape 1 is conveyed, the next inspection position is inspected, and the next image is obtained.

양쪽의 화상 비교 결과, 어느 한쪽의 화상 비교에 있어서 불량이 있는 경우는, 불량이라고 된 위치에서 낙사 조명 이미지와 투과 조명 이미지가 비교된다. 예컨대, 도 9(a), (b)는 각각 TAB 테입의 보호 테입 상에 쓰레기(이물질)가 부착된 상태 및 배선 패턴에 팽창이 있는 상태를 도시하고, 도 9(c), (d)에 도시하는 바와 같이, 투과 조명 이미지에 있어서, 패턴의 팽창이 보이는 경우, 이것만으로는 도 9(c), (d)에 도시한 바와 같이, 패턴의 팽창에 의한 것인지, 이면에 쓰레기가 있어서인지는 판정할 수 없다. 이것을 도 9(e, f)에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 이미지에 의하면, 이면에 쓰레기가 있는 경우는 패턴의 팽창은 볼 수 없고, 실제로 패턴의 팽창이 있는 경우만 패턴의 팽창을 볼 수 있다.As a result of both image comparisons, when there is a defect in any one of the image comparisons, the fallen illumination image and the transmitted illumination image are compared at the position where the defect is found. For example, FIGS. 9 (a) and 9 (b) show a state in which garbage (foreign matter) is attached on the protective tape of the TAB tape and an expansion state in the wiring pattern, respectively, and FIGS. 9 (c) and (d). As shown in the figure, when the expansion of the pattern is seen in the transmission illumination image, it is determined only by this, as shown in Figs. 9 (c) and 9 (d), whether the pattern is expanded or if there is garbage on the back surface. Can not. As shown in Fig. 9 (e, f), according to the fall-off illumination image, when there is garbage on the back side, the pattern is not seen to be expanded, and only when the pattern is actually expanded, the pattern is seen to be expanded. .

따라서, 투과 조명 이미지에 있어서, 패턴의 팽창이 보이는 위치에, 낙사 조명 이미지에서 패턴의 팽창이 보이지 않으면, 그것은 패턴의 팽창이 아니고 이면에 접착된 보호막 상에 있는 쓰레기로 취급하여, 그 크기나 위치가 허용 범위인지를 판별하여 양부를 결정한다. 또한, 낙사 조명 이미지에 있어서도, 패턴의 팽창이 보이면, 그것은 패턴의 팽창으로 취급하고, 그 크기나 위치가 허용 범위인지 아닌지를 판별하여 양부를 판정한다.Therefore, in the transmission illumination image, if the expansion of the pattern is not seen and if the expansion of the pattern is not seen in the falloff illumination image, it is not the expansion of the pattern but is treated as rubbish on the protective film adhered to the back side, and its size or position Determines whether the range is acceptable. Also in the fall illumination image, if the expansion of the pattern is seen, it is treated as the expansion of the pattern, and judging whether or not the size or position is within the allowable range is judged.

불량이 아니다라고 판정되면, TAB 테입은 반송되어, 다음 검사 위치가 검사되고, 불량이라고 판정되면, 불량품 펀치를 위한 처리가 행해져, TAB 테입은 반송되어, 다음 검사 위치가 검사된다.If it is determined that the defect is not defective, the TAB tape is conveyed, the next inspection position is inspected, and if it is determined that the defect is defective, the processing for the defective article punch is performed, and the TAB tape is conveyed, and the next inspection position is inspected.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 발명에 의하면, 테입 인장 기구를 설치한 것에 의해, TAB 테입을 흡착 유지하는 스테이지를 설치하지 않고, 테입의휘어짐이나 진동을 촬상 위치의 초점 심도의 범위로 억제할 수 있게 된다. 그 결과, 투과광에 의한 검사라도, 촬상 장치를 이용한 자동 검사를 실현할 수 있게 된다.As described above, according to the invention of the present embodiment, by providing a tape tensioning mechanism, the bending and vibration of the tape can be suppressed to the range of the depth of focus of the imaging position without providing a stage for adsorbing and holding the TAB tape. It becomes possible. As a result, even the inspection by the transmitted light can realize the automatic inspection using the imaging device.

또한, 1대의 장치에서, 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동으로 할 수 있기 때문에, 각각의 검사 결과를 화상 처리하여 비교하는 것에 의해, 효율적인 검사나 불량 부분의 검사를 정밀하게 할 수 있게 된다.In addition, since the inspection by the reflected light and the inspection by the transmitted light can be performed automatically by one apparatus, it is possible to make efficient inspection and inspection of the defective part precisely by image processing and comparing each inspection result. do.

청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비하여, 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현하는 것이 가능하게 된다.According to invention of Claim 1, the pattern inspection apparatus which image | photographs the pattern formed in the film-shaped strip | belt-shaped workpiece | work, and examines the external appearance of this pattern, The illumination means irradiated from one surface side of the said strip | belt-shaped workpiece, and the said strip | belt Pattern inspection which is arrange | positioned at the other surface side of a shape workpiece | work, the imaging means which image | photographs the said strip | belt-shaped workpiece | work, and the workpiece | work holding means which gives a tension in the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece | work, and inspects the inspection by transmitted light automatically It becomes possible to realize the device.

청구항 2에 기재된 발명에 의하면, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있어, 촬상 위치가 이동하여도 피검사 패턴에 대하여 조명 수단으로부터 항상 일정한 조명광을 얻을 수 있다.According to the invention as set forth in claim 2, the imaging means is provided so as to be movable in the width direction of the strip-shaped workpiece together with the illumination means at the time of imaging. Constant lighting can always be achieved.

청구항 3에 기재된 발명에 의하면, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 한쪽 또는 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비하여, 1개의 장치에서 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현하는 것이 가능하게 된다.According to invention of Claim 3, the pattern inspection apparatus which image | photographs the pattern formed in the film-shaped strip | belt-shaped workpiece | work, and examines the external appearance of this pattern, WHEREIN: 1st illumination means irradiated from one surface side of the said strip | belt-shaped workpiece | work, and 2nd illumination means irradiated from the other surface side of the said strip | belt-shaped workpiece | work, the imaging means arrange | positioned at one side or the other surface side of the said strip | belt-shaped workpiece, and the width | variety of the said strip | belt-shaped workpiece | work It is possible to realize the pattern inspection apparatus which is provided with the workpiece | work holding means which gives tension in a direction, and which automatically inspects the inspection by reflected light and the inspection by transmitted light in one apparatus.

청구항 4에 기재된 발명에 의하면, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 제1의 조명 수단 및 제2의 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있어, 촬상 위치가 이동하여도, 피검사 패턴에 대하여 제1의 조명 수단 또는 제2의 조명 수단으로부터 항상 일정하게 조명광을 얻을 수 있다.According to invention of Claim 4, the said imaging means is provided so that it can move to the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece | work with the said 1st illumination means and the 2nd illumination means at the time of image pick-up, In addition, illumination light can always be uniformly obtained from a 1st lighting means or a 2nd lighting means with respect to a to-be-tested pattern.

Claims (4)

필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서,In the pattern inspection apparatus which image | photographs the pattern formed in the film-form strip | belt-shaped workpiece | work, and inspects the external appearance of this pattern, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.Illumination means for irradiating from one surface side of the strip-shaped workpiece, imaging means for imaging the strip-shaped workpiece, and a workpiece provided with tension in the width direction of the strip-shaped workpiece, disposed on the other surface side of the strip-shaped workpiece. A pattern inspection apparatus comprising a holding means. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.The said imaging means is provided so that the movement to the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece with the said illumination means at the time of imaging is possible, The pattern inspection apparatus characterized by the above-mentioned. 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서,In the pattern inspection apparatus which image | photographs the pattern formed in the film-form strip | belt-shaped workpiece | work, and inspects the external appearance of this pattern, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 한쪽 또는 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.1st illumination means irradiated from one surface side of the said strip-shaped workpiece | work, 2nd illumination means irradiated from the other surface side of the said strip | belt-shaped workpiece, and one or the other surface side of the said strip | belt-shaped workpiece, are arrange | positioned, And a workpiece holding means for applying a tension in the width direction of the belt-shaped workpiece, and a pattern holding device for imaging the belt-shaped workpiece. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 제1의 조명 수단 및 제2의 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.The said imaging means is provided so that the movement to the width direction of the said strip | belt-shaped workpiece | work is possible with the 1st illumination means and the 2nd illumination means at the time of imaging.
KR20030039779A 2002-06-21 2003-06-19 Pattern inspection apparatus KR100605451B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002180901A JP4082104B2 (en) 2002-06-21 2002-06-21 Pattern inspection device
JPJP-P-2002-00180901 2002-06-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030097701A true KR20030097701A (en) 2003-12-31
KR100605451B1 KR100605451B1 (en) 2006-07-28

Family

ID=31177873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20030039779A KR100605451B1 (en) 2002-06-21 2003-06-19 Pattern inspection apparatus

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4082104B2 (en)
KR (1) KR100605451B1 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006112845A (en) * 2004-10-13 2006-04-27 Ushio Inc Pattern inspection device
JP2006162250A (en) * 2004-12-02 2006-06-22 Ushio Inc Pattern inspection device for film workpiece
JP2006266748A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Mitsutoyo Corp Image measurement device
JP4701803B2 (en) * 2005-04-14 2011-06-15 コニカミノルタオプト株式会社 Optical film inspection method and inspection apparatus
JP2009115532A (en) * 2007-11-05 2009-05-28 Nippon Avionics Co Ltd Pattern inspecting apparatus
JP5117243B2 (en) * 2008-03-27 2013-01-16 株式会社オーク製作所 Exposure equipment
JP5276875B2 (en) * 2008-03-31 2013-08-28 富士フイルム株式会社 Film defect inspection method and apparatus
CN109647725B (en) * 2019-01-14 2024-02-13 佛山市南海区广工大数控装备协同创新研究院 Plastic pipe vision detection device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3322521B2 (en) * 1995-05-15 2002-09-09 松下電工株式会社 Printed circuit board pattern inspection method and apparatus, and printed circuit board manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4082104B2 (en) 2008-04-30
KR100605451B1 (en) 2006-07-28
JP2004028597A (en) 2004-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106920762B (en) Semiconductor manufacturing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and chip mounter
JP6846958B2 (en) Manufacturing method of die bonding equipment and semiconductor equipment
JP7102271B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment and manufacturing method of semiconductor equipment
JP7029900B2 (en) Manufacturing method of die bonding equipment and semiconductor equipment
JP2006112845A (en) Pattern inspection device
TWI678746B (en) Semiconductor manufacturing device and method for manufacturing semiconductor device
US7407822B2 (en) Method for inspecting insulating film for film carrier tape for mounting electronic components thereon, inspection apparatus for inspecting the insulating film, punching apparatus for punching the insulating film, and method for controlling the punching apparatus
JP7225337B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment and semiconductor device manufacturing method
KR100605451B1 (en) Pattern inspection apparatus
JP2005024386A (en) Wiring pattern inspection apparatus
JP2004347417A (en) Pattern inspection apparatus
KR20090131000A (en) Union inspection ?system of flexible printed circuit board and method of the same
CN113436986B (en) Chip mounting apparatus and method for manufacturing semiconductor device
JP7299728B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment and semiconductor device manufacturing method
KR100618254B1 (en) Apparatus and method for inspecting film carrier tape for mounting electronic component
TWI823297B (en) Die bonding device and method for manufacturing semiconductor device
JP2012174846A (en) Pickup device and pickup method for semiconductor chip
JPH06244600A (en) Inspection equipment for integrated circuit chip levitation
JPH01237439A (en) Visual inspection apparatus for product having thin plate pattern

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130705

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140716

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150618

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160616

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170616

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee