KR20020074125A - 크롬 도금 부품의 제조 방법 및 크롬 도금 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (27)
- 크롬 도금욕 중에서 펄스 전류를 이용하여 전기 도금을 행하는 크롬 도금 부품의 제조 방법으로서, 크랙이 없고 또 100 MPa 이상의 압축 잔류 응력을 갖는 크롬층을 석출시키는 펄스 조건에서 전기 도금을 행하는 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 크롬층의 압축 잔류 응력은 150 MPa 이상인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 크롬 도금욕 중에서 펄스 전류를 이용하여 전기 도금을 행하는 크롬 도금 부품의 제조 방법으로서, 크랙이 없고 또 100 MPa 이상의 압축 잔류 응력을 가지며, 도금 두께 방향에 대하여 압축 잔류 응력의 응력 구배가 없는 크롬층을 석출시키는 펄스 조건에서 전기 도금을 행하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 크롬 도금욕 중에서 펄스 전류를 이용하여 전기 도금을 행하는 크롬 도금 부품의 제조 방법으로서, 크랙이 없고 또 1 ㎛의 두께에 있어서 100 MPa 이상의 압축 잔류 응력의 크롬층을 석출시키는 펄스 조건에서 전기 도금을 행하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 크랙이 없는 상기 크롬층의 결정립자의 크기를 펄스 전류로 9 nm 이상, 16 nm 미만으로 제어하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 펄스 전류를 이용하여, 표면에 크랙이 없고 또 100 MPa 이상의 압축 잔류 응력을 갖는 베이스 크롬층을 석출한 후에, 상기 베이스 크롬층 위에 크랙을 갖는 상부 크롬층을 석출시키는 것을 특징으로 하는 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 6에 있어서, 상기 크롬층의 압축 잔류 응력은 150 MPa 이상인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4, 청구항 6 및 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펄스 전류의 최소 전류 밀도를 최대 전류 밀도와 제로 사이의 임의의 값으로 설정하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4, 청구항 6 및 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펄스 전류의 최소 전류 밀도에 있어서의 유지 시간을 100 ㎲ 내지 1400 ㎲의 범위에서 임의로 설정하고, 최대 전류 밀도에 있어서의 유지 시간을 100 ㎲ 내지 600 ㎲의 범위에서 임의로 설정하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4, 청구항 6 및 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 펄스 전류를 이용하여, 크랙이 없는 크롬층을 석출시킨 후, 상이한 펄스 파형의 펄스 전류 또는 직류 전류를 이용하여 상기 크롬층 상에, 크랙을 갖는 상부 크롬층을 석출시키는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4, 청구항 6 및 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 펄스 전류를 이용하여 크랙이 없는 크롬층을 석출시킨 후, 상이한 펄스 파형의 펄스 전류 또는 직류 전류를 이용하여 상기 크롬층 상에 중간 크롬층을 석출시키고 나서, 다른 상이한 펄스 파형의 펄스 전류 또는 직류 전류를 이용하여 상기 중간 크롬층 상에 크랙을 갖는 상부 크롬층을 석출시키는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 10에 있어서, 복수 개의 크롬층을 동일한 도금욕 중에서 석출시키는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 11에 있어서, 복수 개의 크롬층을 동일한 도금욕 중에서 석출시키는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 10에 있어서, 작업편을 연속적으로 이동시켜 연속 처리를 행하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 11에 있어서, 작업편을 연속적으로 이동시켜 연속 처리를 행하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 10에 있어서, 작업편을 침지시켜 배치 처리를 행하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 11에 있어서, 작업편을 침지시켜 배치 처리를 행하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4, 청구항 6 및 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 크롬층을 형성한 후에, 가장 바깥 표면의 크롬층을 연마하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4, 청구항 6 및 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 크롬층을 형성한 후에 가장 바깥 표면에 주성분이 Cr2O3인 산화막을 형성하는 것을 특징으로 하는 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 19에 있어서, 상기 산화막은 범용의 베이킹 처리와 동일한 조건에서형성하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 청구항 19에 있어서, 상기 산화막은 고주파 가열을 이용하여 행함으로써 형성하는 것인 크롬 도금 부품의 제조 방법.
- 도금욕을 수납한 처리조 내를 작업편을 연속적으로 이동시켜 크롬 도금을 행하는 크롬 도금 장치로서, 상기 처리조 내를 작업편의 이동 방향에 대하여 전류 조건이 상이한 복수 개의 처리 영역으로 분할한 것을 특징으로 하는 크롬 도금 장치.
- 청구항 22에 있어서, 상기 작업편의 이동 방향의 상류측에 위치하는 처리 영역의 전원이 펄스 전원인 크롬 도금 장치.
- 청구항 23에 있어서, 상기 작업편의 이동 방향의 하류측에 위치하는 처리 영역의 전원이 직류 전원인 크롬 도금 장치.
- 청구항 24에 있어서, 상류의 처리 영역과 하류의 처리 영역 사이의 중간 처리 영역의 전원이 펄스 전원 또는 직류 전원인 크롬 도금 장치.
- 청구항 22 내지 청구항 25 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도금욕은 유기 술폰산을 함유하는 것인 크롬 도금 장치.
- 청구항 26에 있어서, 상기 도금욕은 크롬산 100~450g/L, 황산 1~5 g/L 및 유기 술폰산 1~18 g/L를 함유하는 것인 크롬 도금 장치.
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