KR20000071671A - 스퍼터링 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
거리 | 23mm | 50mm | 75mm | 80mm | 100mm | 120mm |
타겟개수 | 1 | 1 | 1 | 1 | 2 | 3 |
투입전력(W) | 150 | 323 | 150 | 315 | 225 | 195 |
Claims (13)
- 진공챔버;상기 진공챔버내에 배치되고 기판이 배치되는 기판배치부; 및표면이 상기 기판배치부상의 기판에 대향하여 배치된 복수의 타겟(전극) 과 복수의 구멍이 설치되며, 상기 기판 배치부와 상기 각 타겟의 사이에 서로 평행하게 간격을 두고 배치된 복수의 실드판을 구비하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 각 타겟은 상기 각 실드판의 구멍을 통해 상기 기판 배치부에 마주하도록 구성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 각 타겟 표면에 수직인 법선은 상기 각 실드 판의 구멍을 통과하여 상기 기판 표면에 도달하도록 구성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 타겟이 배치된 캐소드전극의 표면에 수직하는 법선은, 상기 실드판의 구멍을 통하여 상기 기판표면에 도달하도록 구성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 타겟은 상기 기판배치부의 상방에 배치된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 각 캐소드와 상기 각 실드판은, 상대적으로 정지한 상태에서 상기 기판 배치부에 대하여 상대적으로 회전하도록 구성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 각 캐소드는 동일한 타겟 홀더에 고정된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 진공챔버는 스퍼터링가스를 유입하는 제 1 가스 유입구와 반응성 가스를 유입하는 제 2 가스 유입구를 갖고,상기 제 1 가스 유입구는 상기 제 2 가스 유입구보다도 상기 타겟에 가까운 위치에 배치된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 제 1 가스 유입구는 상기 타겟에 가장 가까운 실드판과 상기 타겟 사이에 상기 스퍼터링가스를 유입하도록 배치되고,상기 제 2 가스 유입구는 상기 기판 배치부에 가장 가까운 실드판과 상기 기판 배치부의 사이에 상기 반응성 가스를 유입하도록 배치된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 기판 배치부와 상기 타겟의 사이에 배치되며, 일측의 개구부분은 상기 기판 배치부측으로 향하며, 타측의 개구부분은 상기 타겟측으로 향하는 방착통을 갖고,상기 각 실드판은 상기 방착통내에 배치되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 각 실드판은 상기 방착통에 착탈가능하게 부착된 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 방착통의 외주부분에는 실드링이 배치되고, 이 실드링과 상기 실드판에 의해, 상기 진공챔버내의 공간이 상기 타겟측과 상기 기판배치부측으로 구분되어 있는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 진공챔버내에 스퍼터링가스를 유입하는 제 1 유입구가 상기 진공챔버의 상기 타겟측에 설치되며,상기 진공챔버내에 반응성 가스를 유입하는 제 2 유입구는 상기 진공챔버의 상기 기판 배치부측에 설치되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
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