KR19990031690A - A pad of a semiconductor device having a shock absorbing property against a wire bonding impact and a method of manufacturing the same - Google Patents

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송현호
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윤종용
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    • H01L2021/60Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation

Abstract

본 발명은 와이어 본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드 에 관한 것으로, 패드 구조의 층간절연막과 메탈층 사이에 충격 완충 특성을 갖는 폴리실리콘층과 상기 폴리실리콘층과 메탈층의 접착력 향상 및 스트레스 해소를 위한 베리어메탈(Ti층)을 함께 형성하거나, 또는 메탈층 형성시 비아 부분에 채워지는 메탈의 내부에 절연막, 구체적으로는 산화막층이 복수개 내재되도록 형성하여, 패드 조립시 와이어 본딩 충격에 의한 메탈 오픈 및 크레이터링 등의 불량을 감소시킨 것이다.The present invention relates to a pad of a semiconductor device having a shock-absorbing property against wire bonding impact, the polysilicon layer having a shock-absorbing property between the interlayer insulating film and the metal layer of the pad structure and the adhesion between the polysilicon layer and the metal layer, and Barrier metal (Ti layer) is formed together to relieve stress, or when the metal layer is formed, an insulating film, specifically an oxide film layer, is formed inside the metal to be filled in the via part, so that the wire bonding shock may be caused when the pad is assembled. This is to reduce the defects such as metal open and cratering.

Description

와이어 본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드 및 그 제조방법Pad of semiconductor device having shock-absorbing characteristics against wire bonding impact and manufacturing method thereof
본 발명은 반도체 장치의 패드에 관한 것으로, 특히 와이어 본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드 및 그 제조방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pad of a semiconductor device, and more particularly, to a pad of a semiconductor device having a cushioning property against wire bonding impact and a method of manufacturing the same.
반도체 장치의 패드는 이미 널리 알려진 바 있듯이, 메탈의 두께, 폴리실리콘층의 적용 유,무 및 장비별 유의차에 따라 차이는 있지만 와이어 본딩시의 충격에 의해 메탈이 파손되어 오픈되는 현상과, 크레이터링(Cratering) 현상이 흔히 발생하고 있다.As is widely known, pads of semiconductor devices are different depending on the thickness of the metal, the presence / absence of the polysilicon layer, and significant differences among the equipments. Cratering is a common occurrence.
예를 들어 싱글메탈 구조를 갖는 패드는 도 1 에 도시된 바와 같이, 소정의 반도체 소자가 형성된 실리콘 기판(10) 상부의 LOCOS(LOCal Oxidation of Silicon) 산화막(20) 위에 층간절연막(ILD = HTO + BPSG)(40)과 메탈-1(50)을 순차적으로 형성하였다.For example, as shown in FIG. 1, a pad having a single metal structure may have an interlayer insulating layer (ILD = HTO +) on a LOCOS oxide layer 20 on a silicon substrate 10 on which a semiconductor device is formed. BPSG) 40 and Metal-1 (50) were formed sequentially.
또한 더블메탈 구조를 갖는 패드는 도 2에 도시된 바와 같이, 소정의 반도체 소자가 형성된 실리콘 기판(10)상의 LOCOS 산화막(20) 위에 폴리실리콘층(30)과 층간절연막(40)을 하나 또는 복합층으로 적층하고, 그 결과물 상부에 메탈-1(50a)을 증착 및 패터닝 한 후, 또 층간절연막(도면에는 미도시)을 침적하고 비아를 형성, 메탈-2(60)와 콘택되도록 하였다.In addition, as shown in FIG. 2, a pad having a double metal structure includes a polysilicon layer 30 and an interlayer insulating film 40 on the LOCOS oxide film 20 on the silicon substrate 10 on which a predetermined semiconductor element is formed. After lamination and patterning, the metal-1 (50a) was deposited and patterned on the resultant, and an interlayer insulating film (not shown) was deposited to form a via to contact the metal-2 (60).
그러나 싱글메탈 구조를 갖는 패드의 경우, 층간절연막(40)과 메탈-1(50)이 연속적으로 적층되어 있기 때문에 와이어 본딩시 충격에 의해 메탈층이 쉽게 오픈되는 현상이 발생되고, 또한 그 충격이 실리콘 기판(10)에까지 전달되어 크레이터링이 발생되는 등 문제가 있었다. 그 이유는 메탈층이 알루미늄으로서 경도가 높고 연성이 낮아 충격을 잘 흡수하지 못하기 때문이다.However, in the case of the pad having the single metal structure, since the interlayer insulating film 40 and the metal-1 (50) are continuously stacked, the metal layer is easily opened due to the impact during wire bonding, and the impact There was a problem such that the cratering was transferred to the silicon substrate 10. The reason for this is that the metal layer, as aluminum, has high hardness and low ductility, and thus does not absorb shock well.
또한 더블메탈 구조를 갖는 패드의 경우에도 폴리실리콘층(30)의 형성으로 패드메탈의 오픈 현상은 감소되었으나, 메탈-1과 메탈-2의 비아 부분에서 와이어 본딩시의 충격을 잘 흡수하지 못하고 그 충격이 반도체 기판에까지 전달되어 흔히 크레이터링이 유발되었다.In addition, in the case of a pad having a double metal structure, the opening phenomenon of the pad metal was reduced due to the formation of the polysilicon layer 30, but it was difficult to absorb the impact during wire bonding in the via portions of the metal-1 and metal-2. The impact was transmitted to the semiconductor substrate, often causing cratering.
본 발명의 목적은 와이어 본딩시 충격에 잘 견디고 그 충격을 최대한 흡수하여 반도체 기판쪽으로의 충격 전달에 의한 크레이터링 발생 빈도를 줄일 수 있는 와이어 본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드 및 그 제조방법을 제공하는 데에 있다.Disclosure of the Invention An object of the present invention is to provide a pad for a semiconductor device having a shock absorbing property against a wire bonding impact that can withstand the shock during wire bonding and absorb the impact to the maximum, thereby reducing the frequency of cratering due to the transmission of the impact to the semiconductor substrate. To provide a way.
도 1은 종래 싱글메탈 구조를 갖는 반도체 장치의 패드 단면도.1 is a cross-sectional view of a pad of a semiconductor device having a conventional single metal structure.
도 2는 종래 더블메탈 구조를 갖는 반도체 장치의 패드 단면도.2 is a cross-sectional view of a pad of a semiconductor device having a conventional double metal structure.
도 3 내지 도 5는 본 발명에 따른 싱글메탈 구조를 갖는 패드의 제조공정순 단면도.3 to 5 is a cross-sectional view of the manufacturing process of the pad having a single metal structure according to the present invention.
도 6은 본 발명에 따른 더블메탈 구조를 갖는 패드의 예시평면도.6 is an exemplary plan view of a pad having a double metal structure according to the present invention.
도 7 내지 도 9는 본 발명에 따른 더블메탈 구조를 갖는 패드의 제조공정순 단면도.7 to 9 is a cross-sectional view of the manufacturing process of the pad having a double metal structure according to the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
10 : 실리콘 기판 20,70 : 산화막10: silicon substrate 20,70: oxide film
30,32,34 : 폴리실리콘층 40 : 층간절연막30, 32, 34: polysilicon layer 40: interlayer insulating film
50,50a,52,54 : 메탈-1 60,64 : 메탈-250,50a, 52,54: Metal-1 60,64: Metal-2
105 : 비아 영역105: via area
상기 본 발명의 목적을 달성하기 위한 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드는, 층간절연막과 메탈층 사이에 충격에 대한 완충 특성을 갖는 폴리실리콘층과 상기 폴리실리콘층과 메탈층의 접착력 향상 및 스트레스 해소를 위한 베리어메탈을 함께 형성하거나, 또는 메탈층 형성시 비아 부분에 채워지는 메탈의 내부에 절연막, 구체적으로는 하나 이상의 산화막층이 내재되도록 형성한 데에 그 특징이 있다.A pad of a semiconductor device having a shock-absorbing characteristic against wire bonding impact for achieving the object of the present invention, the polysilicon layer having a shock-absorbing characteristic between the interlayer insulating film and the metal layer and the polysilicon layer and the metal layer Barrier metal for improving adhesion and relieving stress, or when forming a metal layer is characterized in that the insulating film, specifically one or more oxide film layer is formed inside the metal filled in the via portion.
즉, 본 발명의 패드는, 소정의 반도체 소자가 형성된 반도체 기판의 패드 영역 상에 순차적으로 형성된 절연막, 폴리실리콘층 및 베리어메탈과, 상기 베리어메탈과 층간절연막을 사이에 두고 콘택되어 있는 메탈층을 포함한다.That is, the pad of the present invention includes an insulating film, a polysilicon layer and a barrier metal sequentially formed on a pad region of a semiconductor substrate on which a predetermined semiconductor element is formed, and a metal layer contacted with the barrier metal and an interlayer insulating film interposed therebetween. Include.
또한, 다르게는 소정의 반도체 소자가 형성된 반도체 기판의 패드 영역 상에 순차적으로 형성된 제1층간절연막, 폴리실리콘층 및 제 1 메탈층과, 상기 제 1 메탈층과 제2층간절연막을 사이에 두고 콘택된 제 2 메탈층과, 상기 제 1 메탈층과 제 2 메탈층의 콘택 부분에 내재된 하나 이상의 산화막층을 포함한다.Alternatively, a contact between the first interlayer insulating film, the polysilicon layer, and the first metal layer sequentially formed on the pad region of the semiconductor substrate on which the predetermined semiconductor element is formed, and the first metal layer and the second interlayer insulating film are interposed therebetween. A second metal layer and at least one oxide layer embedded in a contact portion of the first metal layer and the second metal layer.
이와 같은 구성된 반도체 장치의 패드 제조방법은, 소정의 반도체 소자가 형성된 반도체 기판의 패드 영역 상부에 제 1 절연물질, 폴리실리콘 및 베리어메탈을 순차적으로 침적 및 패터닝하는 단계, 상기 결과물 상부에 제 2 절연물질을 침적한 후 선택적으로 상기 베리어메탈이 노출되도록 식각하여 비아홀을 형성하고 그 위에 알루미늄을 증착 및 패터닝하는 단계를 포함한다. 특히, 반도체 기판의 패드 영역 상부에 제 1 절연물질, 폴리실리콘 및 베리어메탈을 순차적으로 침적한 후 식각 공정을 이용하여 동시에 패터닝하는 것이 좋으며, 베리어메탈로는 Ti, TiN 모두 사용 가능하지만, Ti가 경제적인 면에서 유리하다.In the pad manufacturing method of the semiconductor device configured as described above, the step of sequentially depositing and patterning the first insulating material, polysilicon and barrier metal on the pad region of the semiconductor substrate on which a predetermined semiconductor element is formed, the second insulation on the resultant And depositing material to selectively expose the barrier metal to form via holes and depositing and patterning aluminum thereon. In particular, it is preferable to deposit the first insulating material, polysilicon and barrier metal on the pad region of the semiconductor substrate sequentially and then pattern the same simultaneously by using an etching process, and both Ti and TiN may be used as barrier metal. It is economically advantageous.
또 다른 제조방법은, 소정의 반도체 소자가 형성된 반도체 기판의 패드 영역 상부에 폴리실리콘, 제 1 절연물질 및 제 1 메탈을 순차적으로 침적 및 패터닝하는 단계, 상기 결과물 상부에 제 2 절연물질을 침적한 후 선택적으로 하부 제 1 메탈이 노출되도록 식각하여 내부에 복수개의 제 2절연물질층이 내재된 비아를 형성한 후 그 위에 제 2 메탈을 증착 및 패터닝하는 단계를 포함한다. 통상적으로 제2절연물질로는 산화막을 사용한다.Another manufacturing method includes sequentially depositing and patterning polysilicon, a first insulating material, and a first metal on a pad region of a semiconductor substrate on which a semiconductor device is formed, and depositing a second insulating material on the resultant. And optionally etching to expose the lower first metal to form vias embedded therein with a plurality of second insulating material layers therein, and depositing and patterning the second metal thereon. Typically, an oxide film is used as the second insulating material.
이러한 제조공정에서는 비아 형성을 위한 마스크 제작시 메탈층의 내부에 산화막이 내재될 수 있도록 제작하여 사용한다.In this manufacturing process, an oxide film may be embedded in the metal layer during fabrication of a mask for forming a via.
이하, 본 발명에 따른 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3 내지 도 5는 본 발명에 따른 싱글메탈 구조를 갖는 반도체 장치의 패드의 일실시예를 보인 제조공정순 단면도이다.3 to 5 are sectional views showing the manufacturing process of the pad of the semiconductor device having the single metal structure according to the present invention.
도면을 참조하면, 먼저 소정의 소자 제조공정에 의해 실리콘 기판(10) 상에 특정 소자를 형성한 후, 도 3과 같이 상기 결과물의 패드 영역 상부에 LOCOS 산화막(20)을 형성한다.Referring to the drawings, first, a specific device is formed on the silicon substrate 10 by a predetermined device manufacturing process, and then a LOCOS oxide film 20 is formed on the pad region of the resultant product as shown in FIG. 3.
다음 도 4와 같이, 상기 산화막(20) 위에 층간절연막(42), 폴리실리콘층(32) 및 베리어메탈인 Ti층(52a)을 순차적으로 형성하고, 포토레지스트를 식각마스크로 사용하여 동시에 상기 3개 층의 패드 영역 이외의 부분을 산화막(20)이 노출되도록 식각하여 제거한다.Next, as shown in FIG. 4, an interlayer insulating film 42, a polysilicon layer 32, and a Ti layer 52a, which is a barrier metal, are sequentially formed on the oxide film 20, and the photoresist is used as an etching mask. Portions other than the pad region of the two layers are etched away to expose the oxide film 20.
다음 도 5와 같이, 상기 결과물 상에 또 다른 층간절연막(도면에는 도시하지 않음)을 형성하고 패드 영역에 해당하는 부분을 오픈한 후 알루미늄 플로우 공정을 진행한다. 이후 상기 알루미늄을 패터닝하여 알루미늄층(50b), 즉 메탈층을 형성하고, 통상의 공정을 진행하여 패드를 완성한다.Next, as shown in FIG. 5, another interlayer insulating film (not shown) is formed on the resultant product, the portion corresponding to the pad region is opened, and an aluminum flow process is performed. Thereafter, the aluminum is patterned to form an aluminum layer 50b, that is, a metal layer, and a normal process is performed to complete the pad.
이와 같이 제조된 반도체 장치의 패드는 Ti, TiN 등의 베리어메탈이 폴리실리콘층(32)과 알루미늄층(52b) 사이에 삽입되기 때문에 범프(Bump) 공정에 의하여 패드 부위에 스트레스, 소위 충격이 가해지더라고 메탈의 오픈 및 크레이터링 불량을 방지할 수 있는 것이다.In the pad of the semiconductor device manufactured as described above, since barrier metals such as Ti and TiN are inserted between the polysilicon layer 32 and the aluminum layer 52b, stress and so-called impact are applied to the pad portion by a bump process. In addition, it is possible to prevent the open and cratering of the metal.
도 7 내지 도 9 는 더블메탈 구조를 갖는 패드의 제조공정순 단면도이고, 도 6 은 도 9에 도시된 반도체 장치의 평면예시도 이다.7 to 9 are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a pad having a double metal structure, and FIG. 6 is a plan view of the semiconductor device illustrated in FIG. 9.
먼저 도 7과 같이, 소정의 반도체 소자가 형성된 실리콘 기판(10) 상의 LOCOS 산화막(20) 상부에 폴리실리콘, 제1절연물질 및 알루미늄을 순차적으로 침적한 후, 포토마스크를 이용하여 패드 영역 이외의 부분에 형성된 상기 3개 물질을 제거한다. 이 공정에 의해 도 8과 같이 산화막(20) 상부에 폴리실리콘층(34), 제 1 층간절연막(44) 및 메탈-1(54)이 적층된 구조가 만들어진다. 이때에 상기 제 1 층간절연막으로는 종래와 같이 HTO(High Temperature Oxide)를 사용한다.First, as shown in FIG. 7, polysilicon, the first insulating material, and aluminum are sequentially deposited on the LOCOS oxide film 20 on the silicon substrate 10 on which the semiconductor device is formed, and then, except for the pad region using a photomask. Remove the three materials formed in the part. By this process, as shown in FIG. 8, a structure in which the polysilicon layer 34, the first interlayer insulating film 44, and the metal-1 54 are stacked is formed on the oxide film 20. At this time, HTO (High Temperature Oxide) is used as the first interlayer insulating film.
다음, 상기 결과물 상에 다시 제 2 층간절연막, 구체적으로는 산화막을 형성한 후 포토레지스트를 식각 마스크로 사용하여 선택적으로 패드의 메탈-1(54)이 노출되도록 상기 산화막을 선택적으로 식각한다. 이때에 식각된 비아 내에는 적어도 1개 이상의 산화막층(70)이 내재되도록 하고, 다음 도 9에서와 같이 상기 결과물 상에 알루미늄을 증착한 후 패터닝하여 메탈-2(64)를 형성한다.Next, after forming the second interlayer insulating layer, specifically, an oxide layer on the resultant, the oxide layer is selectively etched to selectively expose the metal-1 54 of the pad using a photoresist as an etching mask. At this time, at least one oxide layer 70 is embedded in the etched vias, and then metal 2 64 is formed by depositing and patterning aluminum on the resultant as shown in FIG. 9.
도 6에 도시된 평면도를 참조하면, 제 2 층간절연막에 비아를 형성할 때 메탈-2(64)의 콘택 부위에 복수개의 산화막층(70)을 형성되도록 비아 영역(105)을 패터닝하게 되므로, 결국 메탈-2(64) 내부에 산화막층(70)이 내재되는 것이다.Referring to the plan view of FIG. 6, when the vias are formed in the second interlayer insulating layer, the via regions 105 are patterned to form the plurality of oxide layers 70 at the contact portions of the metal-2 64. As a result, the oxide layer 70 is embedded in the metal-2 64.
이후에는 통상의 공정을 진행하여 패드를 완성한다.After that, the normal process is performed to complete the pad.
이와 같은 공정에 의해 제조되는 패드는 메탈-1(54)과 메탈-2(64) 사이의 콘택 부분에 수개의 산화막층(70)이 내재되므로, 와이어 본딩시 패드쪽 윈도우가 열린 부분에 가해지는 본딩 충격이 상기 산화막층(70)에 의해 완화되므로 메탈 오픈은 물론 크레이터링의 원인인 반도체 기판까지 본딩 충격이 전달되는 것을 방지할 수 있게 되는 것이다.In the pad manufactured by the above process, since several oxide layers 70 are embedded in the contact portion between the metal-1 (54) and the metal-2 (64), the pad side window is applied to the open portion of the pad side during wire bonding. Since the bonding shock is alleviated by the oxide layer 70, the bonding shock can be prevented from being transmitted to the semiconductor substrate, which is the cause of the cratering as well as the metal opening.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 폴리실리콘과 메탈 사이에 스트레스 방지를 위한 Ti층를 삽입하거나, 특히 더블메탈 구조인 경우 메탈 사이의 비아 내에 구체적으로는 메탈 연결 구조인 콘택내에 수개의 산화막층을 형성함으로서, 패드 조립시 와이어 본딩 충격에 의한 메탈 오픈 및 크레이터링 등의 불량을 줄일 수 있다.As described in detail above, the Ti layer for preventing stress is inserted between the polysilicon and the metal according to the present invention, or in particular, in the case of the double metal structure, several oxide layer layers in the contact, specifically the metal connection structure, are provided in the via between the metals. By forming a, it is possible to reduce defects such as metal opening and cratering due to wire bonding impact during pad assembly.

Claims (7)

  1. 소정의 반도체 소자가 형성된 실리콘 기판의 패드 영역 상에 순차적으로 형성된 층간절연막, 폴리실리콘층 및 베리어메탈층과,An interlayer insulating film, a polysilicon layer and a barrier metal layer sequentially formed on a pad region of a silicon substrate on which a predetermined semiconductor element is formed;
    상기 베리어메탈층과 절연막을 사이에 두고 콘택된 메탈층을The contact metal layer is interposed between the barrier metal layer and the insulating layer.
    포함하는 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드.A pad of a semiconductor device having a cushioning property against a wirebonding impact comprising.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 베리어메탈층은 Ti인 것을 특징으로 하는 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드.2. The pad of claim 1, wherein the barrier metal layer is Ti. 4.
  3. 소정의 반도체 소자가 형성된 실리콘 기판의 패드 영역 상에 순차적으로 형성된 폴리실리콘층, 층간절연막 및 제 1 메탈층과,A polysilicon layer, an interlayer insulating film, and a first metal layer sequentially formed on a pad region of a silicon substrate on which a predetermined semiconductor element is formed;
    상기 제 1 메탈층과 절연막의 비아를 통해 콘택되어 있되 콘택 부분에 하나 이상의 절연막이 내재되어 있는 제 2 메탈층을A second metal layer contacted through the first metal layer and vias of the insulating layer, and having at least one insulating layer embedded therein;
    포함하는 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드.A pad of a semiconductor device having a cushioning property against a wirebonding impact comprising.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 메탈층은 Ti층과 알루미늄층으로 구성된 것임을 특징으로 하는 반도체 장치의 와이어본딩 충격 완충용 패드.4. The pad of claim 3, wherein the first metal layer comprises a Ti layer and an aluminum layer.
  5. 소정의 반도체 소자가 형성된 반도체 기판의 패드 영역 상부에 제 1 절연물질, 폴리실리콘 및 베리어메탈로 Ti을 순차적으로 침적 및 패터닝하는 단계,Sequentially depositing and patterning Ti with a first insulating material, polysilicon, and barrier metal on a pad region of a semiconductor substrate on which a semiconductor device is formed;
    상기 결과물 상부에 제 2 절연물질을 침적한 후 선택적으로 상기 베리어메탈이 노출되도록 식각하여 비아홀을 형성하는 단계,Depositing a second insulating material on the resultant and then selectively etching the barrier metal to form a via hole;
    상기 결과물 상부에 메탈을 증착 및 패터닝하는 단계를Depositing and patterning a metal on the resultant
    포함하는 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드의 제조방법.A method for manufacturing a pad of a semiconductor device having a cushioning property against a wire bonding impact.
  6. 제 5 항에 있어서, 반도체 기판의 패드 영역 상부에 제 1 절연물질, 폴리실리콘 및 베리어메탈을 침적한 후 식각 공정을 이용하여 동시에 패터닝하는 것을 특징으로 하는 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드.The semiconductor device of claim 5, wherein the first insulating material, the polysilicon, and the barrier metal are deposited on the pad region of the semiconductor substrate and patterned simultaneously using an etching process. Pads.
  7. 소정의 반도체 소자가 형성된 반도체 기판의 패드 영역 상부에 폴리실리콘, 제 1 절연물질 및 제 1 메탈을 순차적으로 침적 및 패터닝하는 단계,Sequentially depositing and patterning polysilicon, the first insulating material, and the first metal on the pad region of the semiconductor substrate on which the semiconductor device is formed;
    상기 결과물 상부에 제 2 절연물질을 침적한 후 선택적으로 하부 제 1 메탈이 노출되도록 식각하되 내부에 하나 이상의 제 2 절연물질층이 내재되도록 비아를 형성하는 단계,Depositing a second insulating material on the upper part of the resultant, and selectively etching the lower first metal to form a via so as to embed at least one second insulating material layer therein;
    상기 결과물 상에 제 2 메탈을 증착 및 패터닝하는 단계를Depositing and patterning a second metal on the resultant
    포함하는 와이어본딩 충격에 대한 완충 특성을 갖는 반도체 장치의 패드.A pad of a semiconductor device having a cushioning property against a wirebonding impact comprising.
KR1019970052501A 1997-10-14 1997-10-14 Pads for semiconductor devices with shock-absorbing properties against wire bonding shocks and methods for manufacturing them KR100475734B1 (en)

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