KR19980050040U - Particle removal apparatus on mask of exposure apparatus - Google Patents
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Abstract
본 고안은 감광막 패턴 형성을 위하여 사용되는 노광장비인 스테퍼에서 마스크에 존재하는 파티클을 자체적으로 검사하여 제거할 수 있는 노광장치의 마스크 상의 파티클 제거장치를 개시한다. 개시된 파티클 제거장치는 패턴의 전사를 위하여 마스크가 탑재되는 마스크 스테이지와, 상기 마스크 스테이지를 둘러싸는 공간부와, 상기 공간부내에 소정 위치에 설치되어, 상기 마스크에 부착된 파티클을 제거하는 파티클 제거장치와, 상기 파티클 제거장치에 의하여 제거된 파티클을 외부로 배출하기 위한 배출구를 포함한다.The present invention discloses a particle removal apparatus on a mask of an exposure apparatus capable of self-inspecting and removing particles present in a mask in a stepper, which is an exposure apparatus used for forming a photoresist pattern. The disclosed particle removing device includes a mask stage on which a mask is mounted for transferring a pattern, a space surrounding the mask stage, and a particle removing device installed at a predetermined position in the space to remove particles attached to the mask. And an outlet for discharging the particles removed by the particle removing device to the outside.
Description
본 고안은 노광장치에 관한 것으로서, 특히 노광장치에서 노광전에 마스크상에 존재하는 파티클을 검사하여 제거하는 노광장치의 마스크 상의 파티클 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to a particle removal apparatus on a mask of an exposure apparatus that inspects and removes particles present on a mask before exposure in the exposure apparatus.
현재 사용되고 있는 노광장치중의 하나인 스테퍼(Stepper)는 노광전에 장착된 박막 파티클 검사기(Pellicle Particle Checker:PPC)에서 레티클 상의 파티클 검출 후에 다시 레티클을 언로딩하여 스테퍼로부터 분리된 별도의 파티클 제거장치에서 질소 건에 의하여 파티클을 제거한다.One of the exposure devices currently used is a stepper, which is a separate particle removal device separated from the stepper by unloading the reticle again after particle detection on the reticle in a particle particle checker (PPC) mounted before exposure. The particles are removed by a nitrogen gun.
그러나, 상기한 종래의 기술은 마스크 상의 파티클을 제거하는 장치가 스테퍼와 분리되어 별도로 존재하기 때문에, 마스크 상에 존재하는 파티클이 검출될 때마다 마스크를 언로딩하여 파티클 제거장치에서 파티클을 제거한 다음, 다시 로딩을 해야 한다. 그러므로, 마스크 상에 파티클이 존재하는 경우 노광까지 소요되는 시간이 길어지고, 또한, 상기 파티클 제거장치와 스테퍼간의 이동은 수작업으로 이루어지기 때문에 노동력이 많이 소요되는 단점이 존재한다.However, the conventional technique described above is separate from the stepper apparatus for removing particles on the mask, so that whenever particles present on the mask are detected, the mask is unloaded to remove the particles from the particle removing apparatus. You need to reload. Therefore, when particles are present on the mask, the time required for exposure is long, and the movement between the particle removing device and the stepper is performed manually, which requires a lot of labor.
또한, 파티클 제거를 위한 로딩, 언로딩 작업중에 취급 부주의로 인하여 레티클이 파손되는 문제도 유발될 수 있다.In addition, the reticle may be broken due to careless handling during loading and unloading operations for removing particles.
따라서, 본 고안은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 노광장치내의 마스크가 놓여지는 스테이지의 둘레에 마스크 상에 존재하는 파티클을 제거하기 위한 장비를 구비하므로써, 노광작업시간의 단축과 노동력을 절감할 수 있는 노광장치의 마스크 상의 파티클 제거장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been devised to solve the above problems, and is provided with equipment for removing particles existing on the mask around the stage where the mask in the exposure apparatus is placed, thereby reducing the exposure time and labor. It is an object of the present invention to provide an apparatus for removing particles on a mask of an exposure apparatus that can be saved.
도 1은 본 고안의 실시예에 따른 노광장치의 마스크 상의 파티클 제거장치의 개략적인 구성도.1 is a schematic configuration diagram of a particle removing device on a mask of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 파티클 제거장치에서 사용되는 질소 건의 다른 실시예를 도시한 도면.FIG. 2 shows another embodiment of the nitrogen gun used in the particle removal device of FIG. 1. FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1:마스크2:질소 건1: mask 2: nitrogen gun
2-1:제1노즐2-2:제2노즐2-1: 1st nozzle 2-2: 2nd nozzle
3:질소건 이송로3-1:X방향 질소건 이송로3: Nitrogen gun transfer path 3-1: X direction nitrogen gun transfer path
3-2:Y방향 질소건 이송로4:배출구3-2: Nitrogen gun transfer path in Y direction 4: Outlet
본 고안에 따르면, 노광장치의 마스크 상의 파티클 제거장치는 패턴의 전사를 위하여 마스크가 탑재되는 마스크 스테이지와, 상기 마스크 스테이지를 둘러싸는 공간부와, 상기 공간부내의 소정 위치에 설치되어, 상기 마스크에 부착된 파티클을 제거하는 파티클 제거장치와, 상기 파티클 제거장치에 의하여 제거된 파티클을 외부로 배출하기 위한 배출구를 포함한다.According to the present invention, a particle removing device on a mask of an exposure apparatus is provided with a mask stage on which a mask is mounted for transferring a pattern, a space surrounding the mask stage, and a predetermined position in the space. Particle removal device for removing the attached particles, and a discharge port for discharging the particles removed by the particle removal device to the outside.
[실시예]EXAMPLE
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention.
도 1은 본 고안의 실시예에 따른 노광장치에서 마스크 상의 파티클을 제거하기 위한 장치의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of an apparatus for removing particles on a mask in an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 고안의 파티클 제거장치는 패턴의 전사를 위하여 마스크(1)가 탑재되는 마스크 스테이지를 둘러싸는 파티클 제거를 위한 공간부(10)를 가지며, 상기 공간부(10)내의 소정 위치에 설치되어, 마스크(1)에 부착된 파티클을 제거하는 파티클 제거장치인 질소 건(2)이 그 인접부에 설치된다. 상기 질소건(2)은 질소건 이송로(3)상에 탑재되어 수평으로 이동하면서 마스크 상에 존재하는 검출된 파티클을 제거한다. 또한, 질소건(2)에 의하여 제거된 파티클을 외부로 배출하기 위하여 공간부의 일측에는 배출구(4)가 설치된다.Referring to FIG. 1, the particle removing device of the present invention has a space portion 10 for removing particles surrounding a mask stage on which a mask 1 is mounted for transferring a pattern, and a predetermined portion within the space portion 10. Nitrogen gun 2, which is a particle removal device that is installed at a position and removes particles attached to the mask 1, is installed in the vicinity thereof. The nitrogen gun 2 is mounted on the nitrogen gun transfer path 3 to move horizontally to remove the detected particles present on the mask. In addition, in order to discharge the particles removed by the nitrogen gun 2 to the outside, a discharge port 4 is installed at one side of the space portion.
상기 구성에서 질소건(2)은 단일 노즐을 가지고, 질소건 이송로(3)를 따라 수평방향으로 이동하면서 노즐의 방향만을 변화시키면서 질소 가스를 고압으로 분사하여 마스크의 상하면 존재하는 파티클을 제거한다.In the above configuration, the nitrogen gun 2 has a single nozzle, and moves nitrogen gas at a high pressure while changing only the direction of the nozzle while moving horizontally along the nitrogen gun transport path 3 to remove particles existing on the upper and lower surfaces of the mask. .
또한, 상기 질소건(2)은 도 2에 도시한 것처럼, 마스크(1)의 상면에 존재하는 파티클을 제거하는 제1노즐(2-1)과, 상기 마스크(1)의 하면에 존재하는 파티클을 제거하기 위하여 질소 가스를 분사하는 제2노즐(2-2)을 구비한다.In addition, the nitrogen gun 2, as shown in Figure 2, the first nozzle (2-1) for removing the particles present on the upper surface of the mask 1, and the particles present on the lower surface of the mask (1) The second nozzle 2-2 for injecting nitrogen gas to remove the gas is provided.
파티클 검출장치에 의하여 마스크의 상면에서 파티클이 검출되면, 제1노즐(2-1)이 X축 노즐건 이송로(3-1) 및 Y축 노즐건 이송로(3-2)을 따라서 질소가스의 분사에 적합한 위치로 이동하여 질소가스를 분사시켜 파티클을 제거하고, 마스크의 하면에서 파티클이 검출되면, 제2노즐(2-2)을 동작시켜 파티클을 제거한다. 아울러, 상기 질소건은 분사압을 조절할 수 있도록 구성하여, 탐지된 파티클의 존재정도에 따라 분사압을 조절하여 주므로써, 파티클을 쉽게 제거할 수 있다.When a particle is detected on the upper surface of the mask by the particle detection device, the first nozzle 2-1 moves nitrogen gas along the X-axis nozzle gun feed path 3-1 and the Y-axis nozzle gun feed path 3-2. The particle is removed by moving to a position suitable for the injection of nitrogen gas, and when the particle is detected on the lower surface of the mask, the second nozzle 2-2 is operated to remove the particle. In addition, the nitrogen gun is configured to control the injection pressure, by adjusting the injection pressure according to the presence of the detected particles, it is possible to easily remove the particles.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 고안의 노광장치의 마스크 상의 파티클 제거장치는 노광장치내의 마스크가 놓여지는 스테이지의 둘레에 마스크 상에 존재하는 파티클을 제거하기 위한 장비를 구비하여, 탐지된 파티클을 제거하여 주므로써, 노광작업시간의 단축과 노동력을 절감할 수 있는 효과를 제공한다.As described above, the particle removal device on the mask of the exposure apparatus of the present invention is provided with equipment for removing particles present on the mask around the stage on which the mask in the exposure apparatus is placed, to remove the detected particles In this way, the exposure time can be shortened and labor can be saved.
또한, 별도의 파티클 제거장치가 필요하지 않게 되므로, 제조라인의 공간여유도가 확보될 수 있고, 경제적인 이득도 유발된다.In addition, since a separate particle removing device is not required, a space margin of the manufacturing line can be secured and economical benefits are also caused.
게다가, 질소 건의 상하 및 좌우 이동에 의하여 미처 발견할 수 없었던 파티클을 모두 제거할 수 있으므로, 리소그라피 공정에서 반복되는 결함을 사전에 발견할 수 있다.In addition, it is possible to remove all the particles that could not be detected by the vertical and horizontal movement of the nitrogen gun, so that defects repeated in the lithography process can be found in advance.
여기에서는 본 고안의 특정 실시예에 대하여 설명하고 도시하였지만, 당업자에 의하여 이에 대한 수정과 변형을 할 수 있다. 이하, 실용신안등록청구의 범위는 본 고안의 진정한 사상과 범위에 속하는 한 모든 수정과 변형을 포함하는 것으로 이해할 수 있다.Although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated, modifications and variations can be made by those skilled in the art. Hereinafter, the scope of the utility model registration request can be understood to include all modifications and variations as long as they fall within the true spirit and scope of the present invention.
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| KR100576813B1 (en) * | 1999-10-12 | 2006-05-10 | 삼성전자주식회사 | Device for removing particles of reticle for semiconductor lithography process |
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1996
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