KR102616800B1 - 구리 블록 갈색 산화 처리방법 - Google Patents

구리 블록 갈색 산화 처리방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 준비 단계, 구리 블록 배치 단계, 및 갈색 산화 처리 단계를 포함하는 구리 블록 갈색 산화 처리방법을 개시한다. 상기 준비 단계에서, 기판 및 복수의 수용 구조를 포함하는 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 제공한다. 복수의 상기 수용 구조는 서로 이격되어 설치된다. 각각의 상기 수용 구조는 상기 기판의 제1 기판 표면에 오목하게 설치된 제1 홈 및 상기 기판의 제2 기판 표면에 오목하게 설치된 제2 홈을 포함한다. 상기 구리 블록 배치 단계에서, 복수의 구리 블록을 복수의 상기 수용 구조에 각각 배치하여, 각각의 상기 수용 구조의 상기 제1 홈 및 상기 제2 홈이 상기 구리 블록을 함께 수용하도록 한다. 상기 갈색 산화 처리 단계에서, 갈색 산화 처리 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 갈색 산화 처리 용액에 침지한다.

Description

구리 블록 갈색 산화 처리방법{COPPER BLOCK BROWNING METHOD}
본 발명은 갈색 산화 처리방법, 특히 구리 블록 갈색 산화 처리방법에 관한 것이다.
선행기술 중에서, 구리 블록을 갈색 산화 처리할 경우, 통상적으로 복수의 구리 블록을 뜰채에 넣고 갈색 산화 처리 용액에 함께 침지하여 갈색 산화 처리 작업을 진행하였다. 그러나, 상술한 방법으로 갈색 산화 처리 작업을 진행할 경우, 대량의 구리 블록에 갈색 산화 처리 작업을 동시에 진행할 수 없을 뿐만 아니라, 갈색 산화 처리 작업을 하는 과정에서, 구리 블록이 서로 겹치기 때문에 구리 블록이 완전하게 갈색 산화 처리될 수 없다.
따라서, 구리 블록 갈색 산화 처리방법을 제공하여 상술한 흠결을 어떻게 치유할 지는 해당 사업이 해결하고자 하는 중요한 과제 중 하나가 되었다.
본 발명이 해결해야 하는 기술적 과제는 선행기술의 단점에 대하여 대량의 구리 블록에 갈색 산화 처리 작업을 동시에 진행할 수 있고, 구리 블록이 서로 겹쳐 구리 블록이 완전하게 갈색 산화 처리되지 않는 문제를 방지할 수 있는 구리 블록 갈색 산화 처리방법을 제공하는 데에 있다.
상술한 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명이 사용한 하나의 기술적 해결 방안은 구리 블록 갈색 산화 처리방법으로서,
기판 및 복수의 수용 구조를 포함하는 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 제공하는 준비 단계로서, 상기 기판은 서로 반대되는 양측에 위치한 제1 기판 표면 및 제2 기판 표면으로 정의되며, 복수의 상기 수용 구조는 서로 이격되어 설치되고 상기 기판을 관통하되; 각각의 상기 수용 구조는 상기 제1 기판 표면에 오목하게 설치된 제1 홈 및 상기 제2 기판 표면에 오목하게 설치된 제2 홈을 포함하며, 상기 제1 홈은 상기 제2 홈에 공간적으로 연결되고, 상기 제1 홈의 제1 개구폭은 상기 제2 홈의 제2 개구폭보다 작은, 단계;
구리 블록 배치 단계로서, 복수의 구리 블록을 복수의 상기 수용 구조에 각각 배치하여, 각각의 상기 수용 구조의 상기 제1 홈 및 상기 제2 홈이 하나의 상기 구리 블록을 함께 수용하도록 하며, 각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 개구폭은 상기 구리 블록의 최대 폭보다 작은, 단계; 및
갈색 산화 처리 단계로서, 복수의 상기 구리 블록을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 갈색 산화 처리 용액에 침지하여 갈색 산화 처리 작업을 진행하는, 단계;를 포함하는, 구리 블록 갈색 산화 처리방법을 제공한다.
본 발명의 하나의 유익한 효과는 본 발명이 제공하는 구리 블록 갈색 산화 처리방법이 '상기 구리 블록 갈색 산화 처리방법은 상기 준비 단계, 상기 구리 블록 배치 단계, 및 상기 갈색 산화 처리 단계를 포함한다.', '각각의 상기 수용 구조는 상기 제1 기판 표면에 오목하게 설치된 하나의 제1 홈 및 상기 제2 기판 표면에 오목하게 설치된 하나의 제2 홈을 포함하며, 상기 제1 홈은 상기 제2 홈에 공간적으로 연결되고, 상기 제1 홈의 하나의 제1 개구폭은 상기 제2 홈의 하나의 제2 개구폭보다 작다.' 및 '각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 개구폭은 상기 구리 블록의 하나의 최대 폭보다 작다.'는 기술적 해결 방안을 통해, 대량의 구리 블록에 갈색 산화 처리 작업을 동시에 진행할 수 있고, 구리 블록이 서로 겹쳐 구리 블록이 완전하게 갈색 산화 처리되지 않는 문제를 방지할 수 있다는 데에 있다.
본 발명의 특징 및 기술적 내용을 더 추가적으로 이해하기 위해서, 본 발명의 상세한 설명과 도면과 관련된 아래의 내용을 참조하기 바란다. 그러나, 제공하는 도면은 참고 및 설명을 위해 제공되는 것에 불과하며, 본 발명을 한정하려는 것이 아니다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 단계 공정도이고;
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 준비 단계의 개략도이며;
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 준비 단계의 개략도이고;
도 4는 도 2의 단면선 Ⅳ-Ⅳ에 따른 단면 개략도이며;
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 구리 블록 배치 단계의 개략도이고;
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 구리 블록 배치 단계의 개략도이다.
이하에서는 특정한 구체적인 실시예를 통해 본 발명이 개시한 '구리 블록 갈색 산화 처리방법'의 실시 방법을 설명하고 있으며, 본 분야에서 통상의 기술을 가진 자들은 본 명세서가 개시한 내용을 통해 본 발명의 장점과 효과를 이해할 수 있다. 본 발명은 다른 구체적인 실시예를 통해 구현 또는 응용될 수 있으며, 본 명세서의 다양한 세부 사항도 다른 관점 및 응용에 기초해 본 발명의 착상을 위배하지 않을 경우 다양한 보정과 변경을 할 수 있다. 또한, 본 발명의 도면은 개략적인 예시에 불과하고, 실제 크기에 따라 묘사되지 않았으며 이를 사전에 명시하였다. 이하의 실시 방법은 본 발명의 관련 기술적 내용을 추가적으로 상세히 설명할 것이나, 개시된 내용은 본 발명의 보호 범위를 한정하려는 것이 아니다.
본 명세서에서 '제1', '제2', '제3' 등의 용어로 다양한 유닛 또는 신호를 설명할 수 있으나, 이러한 유닛 또는 신호가 이러한 용어에 의해 한정되어서는 안된다고 이해해야 한다. 이러한 용어는 주로 하나의 유닛과 다른 요소를 구별하거나, 하나의 신호와 다른 신호를 구별하는 데에 사용되었다. 또한, 본 명세서에서 사용한 용어 '또는'은 실제 상황에 따라 관련된 열거 항목 중 어느 하나의 또는 복수의 조합을 포함할 수 있는 것으로 보아야 한다.
도 1에서 볼 수 있듯이, 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 단계 공정도임을 참조하기 바란다. 본 발명은 준비 단계(S110), 구리 블록 배치 단계(S120), 및 갈색 산화 처리 단계(S130)를 포함하는 구리 블록 갈색 산화 처리방법을 제공한다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 준비 단계의 개략도이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 준비 단계의 개략도이며, 도 4는 도 2의 단면선 Ⅳ-Ⅳ에 따른 단면 개략도이다. 상기 준비 단계(S110)에서, 하나의 기판(1) 및 복수의 수용 구조(2)를 포함하는 하나의 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 제공한다. 상기 기판(1)은 서로 반대되는 양측에 위치한 하나의 제1 기판 표면(1a) 및 하나의 제2 기판 표면(1b)으로 정의된다. 도 4에서 볼 수 있듯이, 실제로 응용될 경우, 상기 제1 기판 표면(1a)은 아래쪽을 향해 설치되고, 상기 제2 기판 표면(1b)은 위쪽을 향해 설치된다.
복수의 상기 수용 구조(2)는 서로 이격되어 설치되고 상기 기판(1)을 관통한다. 각각의 상기 수용 구조(2)는 상기 제1 기판 표면(1a)의 하나의 제1 홈(21) 및 상기 제2 기판 표면(1b)의 하나의 제2 홈(22)을 포함하며, 상기 제1 홈(21)은 상기 제2 홈(22)에 공간적으로 연결되고, 상기 제1 홈(21)의 하나의 제1 개구폭(W1)은 상기 제2 홈(22)의 하나의 제2 개구폭(W2)보다 작다.
바람직하게는, 각각의 상기 수용 구조(2)에서, 상기 제1 홈(21)의 상기 제1 개구폭(W1)은 상기 제2 홈(22)의 상기 제2 개구폭(W2)의 40% 내지 60%이며, 상기 제1 홈(21)의 하나의 제1 깊이(D1)는 상기 제2 홈(22)의 하나의 제2 깊이(D2)의 30% 내지 50%이나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
본 실시예의 각각의 상기 수용 구조(2)에서, 상기 제1 홈(21) 및 상기 제2 홈(22)의 하나의 수평면 상에서의 외형은 정사각형임을 예시로 한다는 설명을 할 필요가 있으나, 상기 제1 홈(21) 및 상기 제2 홈(22)의 외형은 모두 필요에 따라 또는 상기 구리 블록(C)의 외형에 대응하여 변화할 수 있고, 본 발명은 이를 한정하지 않는다. 예를 들어, 상기 수평면 상에서 상기 제1 홈(21) 및 상기 제2 홈(22)의 외형은 직사각형일 수도 있다.
특히, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)가 포함하는 상기 수용 구조(2)의 바람직한 수량은 30개 내지 60개 사이며, 더 바람직한 수량은 40개 내지 50개이다. 본 실시예에서, 복수의 상기 수용 구조(2)는 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100) 상에서 교차 배열되고, 어느 하나의 상기 수용 구조(2) 및 이와 가장 가까운 하나의 상기 수용 구조(2) 간의 거리는 상기 제2 개구폭(W2)의 160% 내지 180%이다.본 발명은 상기 수용 구조(2)의 배열 방식을 한정하지 않는다는 점을 설명할 필요가 있으며, 도 3을 참조하면, 예를 들어, 본 발명의 다른 실시예에서, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100) 상에서 상기 수용 구조(2)는 행렬 배열 또는 다른 배열 방식일 수도 있다.
도 5를 참조하면, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 구리 블록 배치 단계의 개략도이다. 상기 구리 블록 배치 단계(S120)에서, 복수의 구리 블록(C)을 복수의 상기 수용 구조(2)에 각각 배치하여, 각각의 상기 수용 구조(2)의 상기 제1 홈(21) 및 상기 제2 홈(22)이 상기 구리 블록(C)을 함께 수용하도록 한다. 또한, 각각의 상기 수용 구조(2)에서, 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 효과적으로 수용할 수 있도록, 상기 제1 개구폭(W1)은 상기 구리 블록(C)의 하나의 최대 폭(W3)보다 작고, 상기 제2 개구폭(W2)은 상기 구리 블록(C)의 상기 최대 폭(W3)보다 크며, 상기 구리 블록(C)은 상기 제1 홈(21)으로부터 상기 수용 구조(2)를 벗어나지 않을 것이다.
각각의 상기 수용 구조(2)에서, 상기 제1 홈(21)은 하나의 제1 환측벽(211)을 가지며, 상기 제2 홈(22)은 하나의 제2 환측벽(221)을 가지고, 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용할 경우, 상기 제1 환측벽(211)과 상기 구리 블록(C) 사이의 하나의 제1 틈(G1)은 상기 제2 환측벽(221)과 상기 구리 블록(C) 사이의 하나의 제2 틈(G2)보다 크지 않다. 바람직하게는, 상기 제1 틈(G1)은 0.25mm 내지 0.75mm 사이고, 상기 제2 틈(G2)은 0.75mm 내지 1.25mm이다.
각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 홈(21) 및 상기 제2 홈(22)은 하나의 계단 구조를 함께 형성하고, 상기 계단 구조에서 상기 제1 기판 표면(1a) 또는 상기 제2 기판 표면(1b)에 평행하는 부분은 하나의 받침부(2a)로 정의된다. 상기 받침부(2a)는 상기 제1 홈(21) 및 상기 제2 홈(22) 사이에 위치하고, 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용할 경우, 상기 수용 구조(2)는 상기 받침부(2a)를 통해 상기 구리 블록(C)을 받친다.
본 실시예에서, 각각의 상기 구리 블록(C)은 하나의 베이스부(C1) 및 상기 베이스부(C1)로부터 돌출된 돌출부(C2)로 정의된다. 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용할 경우, 상기 제1 홈(21)은 상기 구리 블록(C)의 상기 돌출부(C2)를 수용할 수 있고, 상기 제2 홈(22)은 상기 구리 블록(C)의 상기 베이스부(C1)를 수용할 수 있다.
바꿔 말하면, 상기 수용 구조(2)가 상기 기판(1)을 관통하기 때문에, 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용할 경우, 상기 구리 블록(C)의 상기 돌출부(C2)는 상기 제1 홈(21)으로부터 노출되고, 상기 구리 블록(C)의 상기 베이스부(C1)는 상기 제2 홈(22)으로부터 노출된다.
본 실시예에서, 상기 구리 블록(C)의 상기 베이스부(C1) 및 상기 돌출부(C2)는 모두 입방체며, 상기 베이스부(C1)의 부피는 상기 돌출부(C2)의 부피보다 크지만, 상기 구리 블록(C)의 외형은 필요에 따라 바뀔 수 있다.도 6에서 볼 수 있듯이, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구리 블록 갈색 산화 처리방법의 구리 블록 배치 단계의 개략도임을 참조하기 바란다. 예를 들어, 본 발명의 다른 실시예에서, 상기 구리 블록(C)은 돌출부(C2)를 가지지 않아도 되고, 상기 구리 블록(C)의 외형은 하나의 직육면체와 대체로 일치하나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
또한, 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용하는 데에 사용될 경우, 각각의 상기 수용 구조(2)는 상기 받침부(2a)로 상기 구리 블록(C)의 상기 베이스부(C1)를 받치고, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 상기 갈색 산화 처리 용액에 침지하여 상기 갈색 산화 처리 작업을 진행할 경우, 각각의 상기 구리 블록(C)이 상기 갈색 산화 처리 용액에 비교적 완전하게 침지될 수 있도록, 각각의 상기 구리 블록(C)은 대응하는 상기 수용 구조(2)에 놓여 하나의 수평면 상에서 미미하게 흔들릴 것이다.
추가적으로, 상기 제1 환측벽(211)과 상기 구리 블록(C) 사이의 상기 제1 틈(G1)은 상기 제2 환측벽(221)과 상기 구리 블록(C) 사이의 상기 제2 틈(G2)보다 크지 않기 때문에, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 상기 갈색 산화 처리 용액에 침지하여 상기 갈색 산화 처리 작업을 진행할 경우, 상기 구리 블록(C)의 상기 베이스부(C1)가 상기 제2 홈(22)의 상기 제2 환측벽(221)에 접촉하여 갈색 산화 처리가 불완전한 문제를 초래하기가 쉽지 않다.
상기 기판(1)은 하나의 기판 두께(T1)를 가지고, 각각의 상기 구리 블록(C)은 하나의 구리 블록 두께(T2)를 가지며, 상기 기판 두께(T1)는 상기 구리 블록 두께(T2)보다 크고, 상기 기판 두께(T1)와 상기 구리 블록 두께(T2)의 차이값의 절대값은 0.75mm 내지 1.25mm 이다. 상기 기판 두께(T1)가 상기 구리 블록 두께(T2)보다 크다는 설계를 통해, 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용할 경우, 상기 구리 블록(C)은 상기 제2 홈(22)으로부터 상기 수용 구조(2)에서 떨어지기가 쉽지 않다.
상기 기판 두께(T1)가 상기 구리 블록 두께(T2)보다 크기 때문에, 각각의 상기 수용 구조(2)가 상기 구리 블록(C)을 수용할 경우, 상기 구리 블록(C)의 상기 돌출부(C2)는 상기 수용 구조(2)의 상기 제1 홈(21)로부터 돌출되지 않으며, 상기 구리 블록(C)의 상기 베이스부(C1)는 상기 수용 구조(2)의 상기 제2 홈(22)로부터 돌출되지 않는다. 이에 따라, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리방법에서 상기 구리 블록(C)이 충돌하여 손상을 입을 경우는 효과적으로 줄어들 수 있다.
상기 갈색 산화 처리 단계(S130)에서, 하나의 갈색 산화 처리 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 하나의 갈색 산화 처리 용액에 침지한다. 상기 갈색 산화 처리 단계(S130)에서, 복수의 상기 구리 블록(C)은 복수의 상기 수용 구조(2)에 각각 위치하기 때문에, 복수의 상기 구리 블록(C)이 서로 겹쳐 갈색 산화 처리가 불완전한 문제를 초래하지 않는다는 점을 설명할 필요가 있다.즉, 상기 갈색 산화 처리 단계(S130)에서, 어느 하나의 상기 구리 블록(C)은 다른 상기 구리 블록(C)과 접촉할 수 없다. 반대로, 구리 블록을 서로 접촉시키는 구리 블록 갈색 산화 처리방법은 본 사건의 구리 블록 갈색 산화 처리방법과 비교하기 어렵다.
상기 갈색 산화 처리 단계(S130)에서, 상기 갈색 산화 처리 작업 전에, 하나의 산세척 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 하나의 산세척 용액에 먼저 침지하고, 하나의 알칼리 세척 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 하나의 알칼리 세척 용액에 침지할 수 있다. 본 실시예에서, 상기 산세척 작업의 작업 시간 및 상기 알칼리 세척 작업의 작업 시간은 상기 갈색 산화 처리 작업의 작업 시간보다 길지 않고, 상기 산세척 작업의 작업 시간은 20초 내지 30초 사이며, 상기 알칼리 세척 작업의 작업 시간은 25초 내지 35초 사이고, 상기 갈색 산화 처리 작업의 작업 시간은 55초 내지 65초 사이나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
상기 산세척 작업을 수행한 후와 상기 알칼리 세척 작업을 수행하기 전에, 하나의 제1 물세척 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 물에 침지할 수 있다는 점을 설명할 필요가 있다. 상기 알칼리 세척 작업 후와 상기 갈색 산화 처리 작업 전에, 하나의 제2 물세척 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 물에 침지할 수 있다. 상기 갈색 산화 처리 작업 후에, 하나의 제3 물세척 작업을 진행하기 위해, 복수의 상기 구리 블록(C)을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100)를 물에 침지할 수 있다. 본 실시예에서, 상기 제1 물세척 작업, 상기 제2 물세척 작업, 및 상기 제3 물세척 작업의 작업 시간은 모두 25초 내지 35초이나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
또한, 상기 갈색 산화 처리 작업을 완성한 후, 각각의 상기 구리 블록(C)의 표면을 건조하기 위해, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구(100) 상에서 복수의 상기 구리 블록(C)을 제거하고, 복수의 상기 구리 블록(C)에 대하여 하나의 베이킹 작업을 수행할 수 있다. 본 실시예에서, 상기 베이킹 작업의 작업 시간은 90초 내지 100초이나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
[본 발명의 실시예의 유익한 효과]
본 발명의 하나의 유익한 효과는 본 발명이 제공하는 구리 블록 갈색 산화 처리방법이 '상기 구리 블록 갈색 산화 처리방법은 상기 준비 단계, 상기 구리 블록 배치 단계, 및 상기 갈색 산화 처리 단계를 포함한다.', '각각의 상기 수용 구조는 상기 제1 기판 표면에 오목하게 설치된 하나의 제1 홈 및 상기 제2 기판 표면에 오목하게 설치된 하나의 제2 홈을 포함하며, 상기 제1 홈은 상기 제2 홈에 공간적으로 연결되고, 상기 제1 홈의 하나의 제1 개구폭은 상기 제2 홈의 하나의 제2 개구폭보다 작다.' 및 '각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 개구폭은 상기 구리 블록의 하나의 최대 폭보다 작다.'는 기술적 해결 방안을 통해, 대량의 구리 블록에 갈색 산화 처리 작업을 동시에 진행할 수 있고, 구리 블록이 서로 겹쳐 구리 블록이 완전하게 갈색 산화 처리되지 않는 문제를 방지할 수 있다는 데에 있다.
더 구체적으로, 본 발명이 제공하는 구리 블록 갈색 산화 처리방법은 '각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 홈 및 상기 제2 홈은 하나의 계단 구조를 함께 형성하고, 상기 계단 구조에서 상기 제1 기판 표면 또는 상기 제2 기판 표면에 평행하는 부분은 하나의 받침부로 정의된다.' 및 '상기 받침부는 상기 제1 홈 및 상기 제2 홈 사이에 위치하고, 각각의 상기 수용 구조가 상기 구리 블록을 수용할 경우, 상기 수용 구조는 상기 받침부를 통해 상기 구리 블록을 받친다.'는 기술적 해결 방안을 통해, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구가 상기 구리 블록을 바람직하게 수용할 수 있고, 상기 갈색 산화 처리 작업의 과정에서, 상기 구리 블록이 상기 갈색 산화 처리 용액에 더 완전하게 침지되도록 할 수 있다.
이상에서 개시한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 가능한 실시예일 뿐이고, 이로써 본 발명의 청구범위를 한정하는 것이 아니므로, 본 발명의 명세서 및 도면의 내용을 이용하여 이루어진 모든 동등한 효과의 기술적 변화는 본 발명의 청구범위에 포함된다.
100: 구리 블록 갈색 산화 처리 치구
1: 기판
1a: 제1 기판 표면
1b: 제2 기판 표면
2: 수용 구조
2a: 받침부
21: 제1 홈
211: 제1 환측벽
22: 제2 홈
221: 제2 환측벽
C: 구리 블록
C1: 베이스부
C2: 돌출부
D1: 제1 깊이
D2: 제2 깊이
G1: 제1 틈
G2: 제2 틈
T1: 기판 두께
T2: 구리 블록 두께
W1: 제1 개구폭
W2: 제2 개구폭
W3: 최대 폭
S110: 준비 단계
S120: 구리 블록 배치 단계
S130: 갈색 산화 처리 단계.

Claims (11)

  1. 구리 블록 갈색 산화 처리방법으로서, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리방법은
    기판 및 복수의 수용 구조를 포함하는 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 제공하는 준비 단계로서, 상기 기판은 서로 반대되는 양측에 위치한 제1 기판 표면 및 제2 기판 표면으로 정의되며, 복수의 상기 수용 구조는 서로 이격되어 설치되고 상기 기판을 관통하되; 각각의 상기 수용 구조는 상기 제1 기판 표면에 오목하게 설치된 제1 홈 및 상기 제2 기판 표면에 오목하게 설치된 제2 홈을 포함하며, 상기 제1 홈은 상기 제2 홈에 공간적으로 연결되고, 상기 제1 홈의 제1 개구폭은 상기 제2 홈의 제2 개구폭보다 작은, 단계;
    구리 블록 배치 단계로서, 복수의 구리 블록을 복수의 상기 수용 구조에 각각 배치하여, 각각의 상기 수용 구조의 상기 제1 홈 및 상기 제2 홈이 하나의 상기 구리 블록을 함께 수용하도록 하며, 각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 개구폭은 상기 구리 블록의 최대 폭보다 작은, 단계; 및
    갈색 산화 처리 단계로서, 복수의 상기 구리 블록을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 갈색 산화 처리 용액에 침지하여 갈색 산화 처리 작업을 진행하는, 단계;를 포함하며,
    상기 제1 홈 및 상기 제2 홈은 계단 구조를 함께 형성하고, 상기 기판은 기판 두께를 가지며, 각각의 상기 구리 블록은 구리 블록 두께를 가지고, 상기 기판 두께는 상기 구리 블록 두께보다 크며, 상기 기판 두께와 상기 구리 블록 두께의 차이값의 절대값은 0.75mm 내지 1.25mm인,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  2. 제1항에 있어서, 각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 홈은 제1 환측벽을 가지며, 상기 제2 홈은 제2 환측벽을 가지고, 각각의 상기 수용 구조가 상기 구리 블록을 수용할 경우, 상기 제1 환측벽과 상기 구리 블록 사이의 제1 틈은 상기 제2 환측벽과 상기 구리 블록 사이의 제2 틈보다 크지 않은,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 틈은 0.25mm 내지 0.75mm이고, 상기 제2 틈은 0.75mm 내지 1.25mm인,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  4. 제1항에 있어서, 각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 홈의 상기 제1 개구폭은 상기 제2 홈의 상기 제2 개구폭의 40% 내지 60%이며; 각각의 상기 수용 구조에서, 상기 제1 홈의 제1 깊이는 상기 제2 홈의 제2 깊이의 30% 내지 50%인,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  5. 제1항에 있어서, 각각의 상기 수용 구조에서, 상기 계단 구조에서 상기 제1 기판 표면 또는 상기 제2 기판 표면에 평행하는 부분은 하나의 받침부를 정의하며, 상기 받침부는 상기 제1 홈 및 상기 제2 홈 사이에 위치하고, 각각의 상기 수용 구조가 상기 구리 블록을 수용할 경우, 상기 수용 구조는 상기 받침부를 통해 상기 구리 블록을 받치는,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구가 포함하는 상기 수용 구조의 수량은 30개 내지 60개이며, 복수의 상기 수용 구조는 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구 상에서 교차 배열되고, 어느 하나의 상기 수용 구조 및 이와 가장 가까운 하나의 상기 수용 구조 간의 거리는 상기 제2 개구폭의 160% 내지 180%인,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  7. 제1항에 있어서, 각각의 상기 구리 블록은 하나의 베이스부 및 상기 베이스부로부터 돌출된 돌출부를 정의하며, 각각의 상기 수용 구조가 상기 구리 블록을 수용할 경우, 상기 제1 홈은 상기 구리 블록의 상기 돌출부를 수용할 수 있고, 상기 제2 홈은 상기 구리 블록의 상기 베이스부를 수용할 수 있는,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  8. 제7항에 있어서, 각각의 상기 수용 구조가 상기 구리 블록을 수용할 경우, 상기 구리 블록의 상기 돌출부는 상기 제1 홈으로부터 노출되고 상기 제1 홈으로부터 돌출되지 않으며, 상기 구리 블록의 상기 베이스부는 상기 제2 홈으로부터 노출되고 상기 제2 홈으로부터 돌출되지 않는,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 갈색 산화 처리 단계에서, 상기 갈색 산화 처리 작업 전에, 복수의 상기 구리 블록을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 산세척 용액에 먼저 침지하여 산세척 작업을 진행하고, 복수의 상기 구리 블록을 적재한 상기 구리 블록 갈색 산화 처리 치구를 알칼리 세척 용액에 침지하여 알칼리 세척 작업을 진행하는,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 갈색 산화 처리 단계에서, 상기 산세척 작업의 작업 시간 및 상기 알칼리 세척 작업의 작업 시간은 상기 갈색 산화 처리 작업의 작업 시간보다 길지 않은,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 산세척 작업의 작업 시간은 20초 내지 30초이며, 상기 알칼리 세척 작업의 작업 시간은 25초 내지 35초이고, 상기 갈색 산화 처리 작업의 작업 시간은 55초 내지 65초인,
    구리 블록 갈색 산화 처리방법.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102534589A (zh) * 2011-12-26 2012-07-04 东莞生益电子有限公司 铜块表面棕色氧化方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102548236A (zh) * 2011-12-26 2012-07-04 东莞生益电子有限公司 铜块表面棕色氧化用组合托盘及其制作方法
CN202652715U (zh) * 2012-06-07 2013-01-02 广州美维电子有限公司 铜块棕化夹具
CN103779242B (zh) * 2014-02-18 2017-02-08 无锡江南计算技术研究所 一种台阶封装基板控胶方法
CN106211630A (zh) * 2016-08-31 2016-12-07 开平依利安达电子第三有限公司 一种棕化铜块的线路板加工治具

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102534589A (zh) * 2011-12-26 2012-07-04 东莞生益电子有限公司 铜块表面棕色氧化方法

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