KR102425293B1 - 표면 증강 라만 산란 기판용 황화구리 나노 소재 및 이의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 구리 박막을 황화시켜 제공되는 2차원 표면 증강 라만 산란 기판용 황화구리(CuS) 나노 소재 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 균일한 대면적 CuS는 간단한 실온 황화 과정으로 간편하게 제조할 수 있다. 실온 황화 절차에 의한 CuS는 화학적 메커니즘계(CM) SERS 기판으로서 높은 감도, 우수한 재현성 및 주위 공기 안정성을 나타냄을 확인하였다.
Description
본 발명은 구리 박막을 황화시켜 제공되는 2차원 표면 증강 라만 산란 기판용 황화구리 나노 소재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
라만 산란(Raman scattering)이란, 복사선과 물질 사이에 상호작용이 일어나 복사선의 일부 에너지가 물질 내 분자의 진동 에너지 준위를 전이시키는데 사용이 되어 입사광과 다른 파장을 가지는 복사선이 방출되는 현상을 의미하며, 비탄성 산란(inelastic scattering)이라고도 한다. 라만산란 신호는 분자의 고유한 성질로, 라만산란 신호 측정은 비파괴 무표지 광학적 바이오물질 검출에 매우 적합한 반면, 신호가 약하며, 재현성이 낮고, 측정이 오래 걸린다는 단점이 있다. 이러한 라만산란 신호를 증강하여 고감도 검출을 하기 위하여 사용되는 기술 중 하나가 표면 증강 라만 산란법 (Surface-enhanced Raman Spectroscopy ;SERS)이다.
높은 특이성과 감도를 갖는 분자의 검출을 위한 비파괴 분석인 표면 증강 라만 산란법은 수십년 동안 광범위하게 연구되어 왔다. SERS에 널리 사용되는 두 가지 메커니즘은 전자기 메커니즘 (Electromagnetic mechanism ;EM)과 화학 메커니즘 (chemical mechanism ;CM) 이다. EM은 국소 표면 플라즈몬 공명과 강한 근거리 쌍극자-쌍극자 결합에서 발생한다. EM에서 지형(topography) (거칠기 또는 모폴로지)은 전자기장의 주요 원인이다. CM 이론은 기판과 분석물 분자 사이의 전하 이동 복합체의 형성을 제안한다. 금속성 SERS에서 신호 향상에 대한 각각의 기여를 분리하기는 어렵지만, EM의 향상 크기(108-109) 는 CM (102-103)보다 훨씬 크다. 그러나, 신호 향상은 크지만 EM 금속 나노 구조 기판의 제조는 복잡하다. 이러한 섬세한 제조 공정은 나노 구조 기판의 균일성과 재현성을 확보하기 어렵게 한다. EM 과 달리 CM 기반 SERS 기판은 나노 구조의 플라즈몬 기판을 필요로 하지 않으며, 비교적 균일한 기판을 얻기가 용이하다.
2차원 (2 dimensional; 2D) 재료는 최근 EM 기반 SERS의 본질적인 한계를 극복하기 위해 CM 기반 SERS 기판에 대해 상당한 관심을 끌고 활발하게 연구되었다. 2D 재료는 넓은 면적에 걸쳐 고유한 전자적 특성, 화학적 안정성, 생체 적합성 및 균일성을 보여준다. 그래핀은 SERS를 위한 최초의 2D 재료이며 우수한 라만 신호 증강을 보여준다. 최근에는 육방 정계 질화 붕소 (hexagonal boron nitride; h-BN), 흑색 인 (black phosphorous ;BP), 전이 금속 이황화 수소 (transition metal dichalcogenides ;TMD) 및 MXene과 같은 그래핀 이외의 다른 2D 재료가 SERS 기판의 가능한 후보로 보고되었다. 광대역 갭 절연체 재료 h-BN은 프로브 분자와 인터페이스 쌍극자-쌍극자 상호 작용을 가능하게하는 강한 극성 B-N 결합을 가지며, 이는 프로브 분자의 전자 전이 확률을 증가시키는 국소 대칭 관련 변동을 유도한다. MoS2, ReS2 및 NbS2와 같은 TMD는 또한 약한 전하 이동 및 쌍극자-쌍극자 상호 작용으로 인해 라만 증강 기판으로서 입증되었다. SERS 효과는 TMD에서 프로브 분자로의 보다 효율적인 전하 이동으로 인해 2H(반도체) 상보다 1T(금속) 상의 TMD 에서 향상되었다.
2D 재료가 유망한 SERS 기판일 수 있지만 여전히 많은 문제가 남아 있다. 예를 들어, 2D 재료의 라만 신호 증강 효과는 레이어 수에 크게 영향을 받으므로 합성 공정 동안 레이어 수를 제어하는 것이 매우 중요하다. 일반적으로, 넓은 영역에 걸쳐 레이어 제어된 2D 재료는 고온에서 다양한 민감한 파라미터를 갖는 화학 기상 수송 (chemical vapor transport ;CVT)에 의해 획득할 수 있다. 균일하고 넓은 면적의 2D 재료를 합성하려면 고온 공정과 민감한 매개 변수가 있는 최적화 공정이 필요하다. 결과적으로 2D 재료는 경쟁력 있는 가격을 확보하기 어렵다.
Effect of Graphene Fermi Level on the Raman Scattering Intensity of Molecules on Graphene. ACS Nano, 5(7), 5338-5344
본 발명자들은 종래의 표면 증강 라만 산란용 기판의 제조 공정이 복잡하여 기판의 균일성 및 재현성을 확보하기 어려운 문제 및 2D 기판 제조시 민감한 파라미터의 조절 문제를 해결하고 보다 비용 경제적이면서도 고감도인 표면 증강 라만 산란 기판을 제작하기 위해 예의 연구 노력한 결과, 상온에서 구리를 황화시킴으로서 두께 조절이 가능한 균일한 대면적의 고감도 표면 증강 라만 산란 기판을 간편하게 제작할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 하나의 목적은 도 1을 참조하면 구리를 증착하여 구리 박막의 기판을 생성하는 제1단계(S100); 상기 구리 박막의 기판에 황화수소(H2S) 가스를 공급하여 황화구리(CuS) 박막의 기판을 제공하는 제2단계(S200);를 포함하는, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 기판; 및 상기 기판 상에 도포된 금속 나노 입자를 포함하고, 상기 금속 나노 입자는 황화구리인 것인 나노 소재로서, 상기 나노 소재는 2차원 구조인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판을 제공하는 것이다.
본 발명은 구리박막을 황화시켜 제조된 대면적의 2차원 황화구리(CuS)를 표면 증강 라만 산란(Surface-enhanced Raman Spectroscopy SERS)용 기판으로 제공하여 종래의 금과 같은 값비싼 기판을 대체하는 것이다. 또한, 이러한 제조방법으로 제조된 CuS는 화학적 메커니즘계(chemical mechanism ;CM) SERS 기판으로서 높은 감도, 우수한 재현성 및 주위 공기 안정성을 가짐에 특징이 있다.
본 발명의 제1 양태는 도 1을 참조하면 구리를 증착하여 구리 박막의 기판을 생성하는 제1단계(S100); 상기 구리 박막의 기판에 황화수소(H2S) 가스를 공급하여 황화구리(CuS) 박막의 기판을 제공하는 제2단계(S200);를 포함하는, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 상기 제1단계(S100)는 준비된 기판 위에 구리를 증착시키는 것으로 상기 증착은 물리적 기상 증착(physical vapor deposition; PVD) 또는 원자층 증착(Atomic layer deposition; ALD)공정 중 어느 하나로 수행될 수 있다. 상기 제1단계에서 구리 박막의 두께를 조절할 수 있다.
상기 구리 박막은 다결정 구리 박막이다. 다결정 구리 박막은 비교적 저렴한 구리 박막으로 대면적의 다결정 구리 박막을 황화시켜 경제적인 표면 라만 산란 증강 기판용 황화구리 (CuS) 를 제공할 수 있다. 상기 물리적 기상 증착은 열증발(thermal evaporator), 전자빔증발(electron-beam evaporator) 및 스퍼터링(sputtering)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것 일 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예로서 제1 양태의 제조방법을 이미지화시킨 것이다. 본 발명의 일 실시예(도 2)에서는 상기 제1단계(S100)의 구리 증착시 열증발법을 사용하였으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 제1 단계(S100)는 두께가 0.5 nm 내지 2.0 nm 인 구리 박막을 생성하는 것일 수 있다. 두께가 0.5 nm 미만 또는 2.0 nm 초과인 경우 표면 증강 라만 산란(Surface-enhanced Raman Spectroscopy;SERS) 효과가 감소함을 실험적으로 확인할 수 있다. 보다 구체적으로 약 0.5 nm 내지 약 1.5 nm 일 수 있으며, 특히 약 1.0 nm 인 경우 SERS 효과가 가장 높음을 본 발명의 일 실시예에서 확인할 수 있다. 이는 구리 박막의 두께 제어가 SERS 효과에 미치는 영향이 큼을 나타내는 것이다.
본 발명의 상기 제2단계(S200)는 상기 구리 박막의 기판에 황화수소(H2S) 가스를 공급하여 황화구리(CuS) 박막의 기판을 제공하는 것이다.
도 2를 참조하면, 이는 기판 상에 0.5 내지 2.0 nm 두께로 구리를 증착 시킨 후 황화수소를 공급하여 황화시키면 구리박막의 색이 녹색으로 변하는 것을 통해 황화된 것을 확인할 수 있다.
도 3a 내지 도 3c를 참조하면 라만 분석 및 XPS 스펙트럼을 통해 상기 제2단계를 통해 황화구리(CuS)의 합성을 확인할 수 있다.
상기 제2 단계(S200)의 상기 황화수소 가스의 농도는 1 ppm 내지 10,000 ppm 인 것일 수 있다. 황화수소(H2S)의 농도가 10,000 ppm 초과하는 경우 황화 반응이 빨라서 표면이 거칠어질 수 있다. 농도가 너무 낮을 경우 SERS 활용 소재인 CuS 로 변하기 전에 Cu2S 단계를 거치게 되기 때문에 황화 시간을 늘려야 한다. 도 2를 참조하면 본 발명의 일 실시예에서는 약 100 ppm의 농도로 황화수소 가스를 공급하였다.
상기 제2 단계의 합성 온도는 20℃ 내지 300℃ 인 것일 수 있다. 본 발명은 상온(대략 20℃ 내지 37℃ 에서도 제조가 가능하다는 점에 특징이 있으며, 이는 SERS 2D 기판 재료로서 고온에서 합성 시 민감한 파라미터를 제어해야 하는 문제점을 해결할 수 있다. 온도가 300℃ 초과인 경우, 균일한 CuS 구조 형성이 어려우며, 이에 따라 SERS 효과가 감소할 수 있다.
본 발명의 제2 양태는 기판; 및 상기 기판 상에 도포된 금속 나노 입자를 포함하고, 상기 금속 나노 입자는 황화구리인 것인 나노 소재로서, 상기 나노 소재는 2차원 구조인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판을 제공하는 것이다.
도 4a 및 도 4b를 참조하면 본 발명의 제1 양태의 제조방법으로 제조된 SERS 기판인 상기 표면 증강 라만 산란 기판은, 종래 SERS 기판으로 사용되는 금과 황화시키지 않은 구리와 비교 시 SERS 효과가 가장 우수함을 확인할 수 있다.
본 발명의 상기 기판은 SiO2, Si, SiO2/Si, 유리, PET (polyethylene terephthalate), PI (polyimide) 으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것일 수 있다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면 상기 나노 소재의 두께는 0.5 nm 내지 2.0 nm 인 것일 수 있다. 이는 본 발명의 제1 양태의 상기 제1단계에서 구리박막의 증착 두께를 조절함에 의해 결정되는 것이다.
도 6을 참조하면 두께가 0.5 nm 미만인 경우 박막 필름 형태가 아닌 연속적이지 않은 형태를 가지게 되며, 두께가 2.0 nm 초과인 경우 황화구리의 표면 형상이 무작위적으로 거칠어져 SERS 효과를 감소시킨다. 이를 통해, 두께 및 표면의 형태가 SERS 효과에 영향을 주는 요인임을 알 수 있다. 보다 구체적으로 상기 나노소재의 두께는 약 0.5 nm 내지 약 1.5 nm 일 수 있으며, 특히 약 1.0 nm 인 경우 SERS 효과가 가장 높음을 본 발명의 일 실시예에서 확인할 수 있다.
도 7a을 참조하면 본 발명의 제2 양태는 표면 증강 라만 산란의 라만 강도(Raman intensity)가 10% 이내의 균일도를 나타내는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 용어 '균일도'는 도 7b를 참조하면 황화 구리 30 um X 30 um 범위에서 일정한 간격이 있는 16 개의 포인트에서 라만 강도 프로파일의 상대적 변화 정도를 % 값으로 산출한 것이다. 절대값이 낮을수록 어느 포인트에서건 동일한 라만 강도 프로파일을 나타냄을 의미하는 것이다. 이는 본 발명의 2차원 평평한 표면 구조에서 기인한 것으로 유추되며 즉 본 발명의 황화구리 기판을 이용하면 SERS 효과의 재현성이 매우 높아 SERS 기판으로 유용하게 사용될 수 있다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면 본 발명의 제2 양태는 표면 증강 라만 산란의 라만 강도로 검출 가능한 분석 대상물 농도가 10-12 M 이상인 것을 특징으로 한다. 도 8a 및 도 8b에 따르면 분석 대상물인 R6G(rhodamine 6G) 용액의 농도가 10-5 M 내지 10-12 M로 감소함에 따라 2차원 CuS에서 얻은 라만 강도가 감소하는 경향을 보인다. 이를 통해 본 발명 제2 양태로 검출 가능한 R6G 최저 농도로 피코 몰(10-12 M) 농도까지 명확하게 관찰할 수 있음을 확인할 수 있다. 이는 종래의 2D SERS 용 기판 중에서도 우수한 검출 감도를 나타낸 것으로 유의미하다.
본 발명은 2차원의 표면 증강 라만 산란 기판을 많은 파라미터를 고려하지 않고도 용이하게 대면적으로 제조 가능하게 하여 가격 경쟁력을 가진다. 이러한 제조 방법을 통해 제조된 표면 증강 라만 산란 기판은 피코 단위의 검출이 가능하여 종래 기판 보다 우수한 감도를 가지며 공기 안정성 및 재현성 또한 실험을 통해 확인할 수 있었다. 즉, 정량적이고 균일한 라만 신호를 제공함으로서 제약, 재료과학, 고고학, 약물검출, 식품 품질 분석, 생체분자 검출 등 다양한 분야에 적용 가능하다.
도 1은 표면 증강 라만 산란(Surface-enhanced Raman spectroscopy; SERS) 기판용 황화구리 나노 소재 제조 방법의 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예인 표면 증강 라만 산란 기판용 황화구리 나노 소재 제조방법을 나타낸 이미지이다.
도 3a 는 본 발명의 일 실시예인 상온에서 구리에 H2S 가스를 흘려주어 형성한 황화구리의 Raman, XPS 분석 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3b는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 의 CuS 박막의 X-ray diffraction (XRD) 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 3c는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) Cu 2p 의 고해상도 XPS 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 3d는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) S 2p 의 고해상도 XPS 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 4a는 532 nm 의 여기 레이저에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS), Cu, 및 Au 소재 기판에 따른 R6G(rhodamine 6G) 10-6 M의 SERS 강도를 비교한 그래프이다.
도 4b는 라만 시프트(Raman Shift) 613 cm-1 에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS), Cu 및 Au 소재 기판에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도 비교 결과를 나타낸 막대 그래프이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 두께에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도 비교 결과를 나타낸 그래프이다.
도 5b는 라만 시프트 613 cm-1 에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 두께에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도를 나타낸 막대 그래프이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 두께에 따른 표면 형태의 주사 전자 현미경(Scanning electron microscope ;SEM) 사진이다.
도 7a는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 나노 소재 두께 1 nm 및 30 um X 30 um 범위 내 일정 거리 간격을 유지한 총 16개의 포인트마다 R6G 10-6 M의 SERS 강도의 재현성을 나타낸 그래프이다(스케일 바(scale bar): 10 um).
도 7b는 상기 도 7a의 라만 강도 프로파일의 상대적 변화(variation) 정도를 %값으로 변환하여 나타낸 그래프이다.
도 8a는 R6G 10-5 M 내지 10-12 M 농도 범위에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 표면 증강 라만 산란 감도를 비교한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 8b는 라만 시프트 613 cm-1 에서 R6G 10-5 M 내지 10-12 M 농도 범위에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 표면 증강 라만 산란 감도를 나타낸 막대 그래프이다.
도 9은 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 나노 소재의 20일간의 공기 안정성 비교 결과를 나타낸 그래프이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예인 표면 증강 라만 산란 기판용 황화구리 나노 소재 제조방법을 나타낸 이미지이다.
도 3a 는 본 발명의 일 실시예인 상온에서 구리에 H2S 가스를 흘려주어 형성한 황화구리의 Raman, XPS 분석 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3b는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 의 CuS 박막의 X-ray diffraction (XRD) 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 3c는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) Cu 2p 의 고해상도 XPS 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 3d는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) S 2p 의 고해상도 XPS 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 4a는 532 nm 의 여기 레이저에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS), Cu, 및 Au 소재 기판에 따른 R6G(rhodamine 6G) 10-6 M의 SERS 강도를 비교한 그래프이다.
도 4b는 라만 시프트(Raman Shift) 613 cm-1 에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS), Cu 및 Au 소재 기판에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도 비교 결과를 나타낸 막대 그래프이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 두께에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도 비교 결과를 나타낸 그래프이다.
도 5b는 라만 시프트 613 cm-1 에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 두께에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도를 나타낸 막대 그래프이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 두께에 따른 표면 형태의 주사 전자 현미경(Scanning electron microscope ;SEM) 사진이다.
도 7a는 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 나노 소재 두께 1 nm 및 30 um X 30 um 범위 내 일정 거리 간격을 유지한 총 16개의 포인트마다 R6G 10-6 M의 SERS 강도의 재현성을 나타낸 그래프이다(스케일 바(scale bar): 10 um).
도 7b는 상기 도 7a의 라만 강도 프로파일의 상대적 변화(variation) 정도를 %값으로 변환하여 나타낸 그래프이다.
도 8a는 R6G 10-5 M 내지 10-12 M 농도 범위에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 표면 증강 라만 산란 감도를 비교한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 8b는 라만 시프트 613 cm-1 에서 R6G 10-5 M 내지 10-12 M 농도 범위에서 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS)의 표면 증강 라만 산란 감도를 나타낸 막대 그래프이다.
도 9은 본 발명의 일 실시예인 황화구리(CuS) 나노 소재의 20일간의 공기 안정성 비교 결과를 나타낸 그래프이다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1. CuS 기판의 제조
구리 (Cu)는 열 증발에 의해 Si 상단 300 nm SiO2 기판 상에 증착되었고, 증착된 구리는 60초 동안 실온(약 20℃ 내지 35℃)에서 황화를 위해 100 ppm 황화수소 (H2S) 가스에 노출되었다. 반응성이 높은 H2S 가스는 Cu 표면에 흡착될 수 있고 나노 미터 두께 Cu 표면에 연속적인 황 공급을 하여 CuS가 합성되었다. Si 기판 상의 300 nm SiO2 에 1 nm의 두께로 Cu를 증착하고, 황화 시킨 후에는 녹색으로 색이 변하는 것을 확인할 수 있었다(도 2).
도 3a 에 나타낸 바와 같이, 합성된 나노 미터 두께 CuS 박막을 확인하기 위해 라만 분석을 수행하였고, 473 cm-1에서 CuS의 평면 외 S-S 진동 (A1g 모드)이 검출되었다.
도 3b 는 합성된 나노 미터 두께의 CuS 박막의 X-ray diffraction (XRD) 분석 결과이며 27.68 (100), 29.36 (101), 31.78 (102), 32.76 (103), 38.85 (105), 그리고 48.05 (107) 에서 CuS 의 XRD peak 이 검출되었다.
도 3c 및 3d는 Cu 2p 및 S 2p 의 고해상도 XPS 스펙트럼을 나타낸 것이다. 932.8 eV 및 934.5 eV에서 Cu 2p의 결합 에너지의 위치는 CuS의 화학적 상태를 나타내는 것이다. S 2p 피팅 피크는 또한 2 개의 주요 분리된 피크와 일치하는 것으로 밝혀졌다. 2 개의 피크 값은 금속 황화물에 대한 전형적인 값인 161.6 eV 및 162.6 eV 으로 나타났다. 이를 통해, 넓은 면적의 CuS 박막이 실온에서 황화 절차에 의해 성공적으로 합성되었음을 확인할 수 있었다.
실시예 2. CuS의 SERS 효과 비교 평가
상기 실시예 1에서 합성된 CuS가 잠재적으로 SERS용 기판으로서 사용하기 적합한 것인지 Au 및 Cu와 비교 조사하였다. CuS 의 라만 증강 효과는 라만 프로브 분자로서 R6G(rhodamine 6G)를 사용하여 확인되었다. SERS 효과는 동일하게 1 nm 두께를 갖는 Cu, 금(Au) 및 CuS 에서 분석되었다. Cu, Au 및 CuS를 10-6 M R6G 수용액에 30 분 동안 침지시킨 후 탈 이온수 (DI)로 여러번 헹구었다. 도 4a는 CuS와 Au의 표면 플라즈몬 공명 범위에 속하는 532nm 여기 상태의 레이저로 각 기판에서 측정한 R6G의 라만 스펙트럼을 나타낸 것이다. 도 4b는 라만 시프트(Raman Shift) 613 cm-1 에서 Cu, CuS, 및 Au 소재 기판에 따른 R6G 10-6 M의 SERS 강도 비교 결과를 나타낸 것이다. 이를 종합하면, Cu 에서는 라만 피크가 잘 관찰되지 않으며 CuS 에서의 라만 강화 효과는 Au보다 약간 더 큼을 알 수 있었다.
실시예 3. CuS 두께에 따른 SERS 효과 비교 평가
도 5a는 다양한 두께를 갖는 CuS 상의 R6G (10-6 M)의 라만 스펙트럼을 나타낸 것이고, 도 5b는 CuS 의 라만 시프트 613 cm-1에서 R6G (10-6 M)의 라만 강도를 열거한 것이다. 이를 통해, 두께 0.5 nm 내지 2.0 nm 에서 라만 강도가 높은 값을 나타냄을 알 수 있으며, 특히 두께가 1.0 nm CuS 에서 SERS 효과는 가장 높은 특성을 나타냄을 확인할 수 있었다.
도 6은 황화구리(CuS) 두께에 따른 표면 형태의 주사 전자 현미경(Scanning electron microscope ;SEM) 사진으로, 이를 통해 CuS의 형태가 두께에 의존함을 알 수 있다. CuS의 두께가 0.5nm 인 경우, CuS는 박막이 연속적이지 않는 것처럼 보인다. CuS의 두께가 2nm보다 높은 경우에는, CuS의 표면은 거친 형태를 갖는다. 이러한 표면 형태는 CuS의 SERS 효과에 영향을 준다. SERS 기판의 평평한 표면은 SERS 기판과 분석물 사이의 매우 바람직한 전하 이동을 유도할 수 있기 때문이다.
실시예 4. CuS 각 지점에 따른 SERS 효과의 균일성 평가
도 7a에 나타낸 바와 같이, 두께 1 nm 및 30 um X 30 um 범위의 황화구리 내 일정한 간격의 16 개의 각 포인트에서 R6G (10-6 M)의 라만 스펙트럼을 나타낸 것이다. 각 포인트마다 라만 강도 프로파일을 비교한 결과 라만 강도의 상대적 변화 정도를 나타내는 균일도 절대값이 10% 이하로 확인하였다(도 7b). 균일도 절대값이 낮을수록 라만 강도 프로파일이 균일함을 의미하는 것이다. 이를 통해, CuS 기판 상의 SERS 신호가 매우 재현성이 있음을 확인할 수 있다. 이는 CuS의 2차원의 평평한 구조에서 기인한 것이다. 따라서, 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 CuS 기판은 종래에 균일성을 갖기 힘들었던 나노 구조 기판의 문제를 해결할 수 있다.
실시예 5. CuS 의 R6G 검출 감도 평가
도 8a 및 도 8b에 나타낸 바와 같이, R6G 10-5 내지 10-12 M 농도 범위에서 1 nm 두께를 갖는 황화구리(CuS)의 표면 증강 라만 산란 감도를 비교한 결과를 나타내었다. R6G 용액의 농도가 10-12 M 에서 10-5 M로 증가함에 따라 1 nm 두께 2D CuS 에서 얻은 라만 강도는 증가함을 나타내었다. 이를 통해, CuS 기판은 피코 몰(10-12 M) 농도까지도 명확하게 검출 가능한 것으로 CuS 기판의 감도가 우수함을 확인할 수 있었다.
실시예 6. CuS 의 공기 안정성 평가
도 9에 나타낸 바와 같이, 1 nm 두께를 갖는 CuS에서 20일 동안 R6G(10-6 M) 용액의 SERS 효과를 조사하였다. 라만 강도 프로파일은 20일 동안 대기 조건에 노출된 후에도 큰 변화없이 잘 유지됨을 관찰할 수 있었다(도 9). 이를 통해, CuS가 SERS 기판으로서 공기 안정성 또한 우수함을 확인할 수 있다.
상술한 것과 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 제조방법을 통해 경제적인 표면 증강 라만 산란용 황화구리(CuS) 나노 소재 기판 생성이 가능함을 확인하였으며, 상기의 새로운 제조방법으로 제조된 0.5 nm 내지 2.0 nm 두께를 갖는 2차원의 평평한 대면적을 갖는 황화구리(CuS)의 SERS 효과가 종래 Au 기판과 비교시 우수하고, 균일성, 재현성, 감도, 및 공기안정성 측면에서도 우수한 SERS 기판임을 확인할 수 있었다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정해져야만 할 것이다.
Claims (12)
- 구리를 증착하여 구리 박막의 기판을 생성하는 제1 단계;
상기 구리 박막의 기판에 황화수소(H2S) 가스를 공급하여 황화구리(CuS) 박막의 기판을 제공하는 제2 단계를 포함하고,
상기 황화구리(CuS) 박막의 기판은 0.5 nm 내지 2.0 nm의 두께를 갖는 2차원 기판인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 구리 박막의 기판은 다결정 구리 박막인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 제1 단계는 물리적 기상 증착(physical vapor deposition; PVD) 또는 원자층 증착(Atomic layer deposition; ALD)공정으로 구리를 증착하는 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법.
- 제3항에 있어서,
상기 물리적 기상 증착은 열증발(thermal evaporator), 전자빔증발(electron-beam evaporator) 및 스퍼터링(sputtering)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 제1 단계는 두께가 0.5 nm 내지 2.0 nm 인 구리 박막을 생성하는 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 제2 단계의 상기 황화수소 가스의 농도는 1 ppm 내지 10,000 ppm 인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 제2 단계는 20℃ 내지 300℃ 온도 범위에서 수행되는 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법.
- 기판; 및
상기 기판 상에 도포된 금속 나노 입자를 포함하고,
상기 금속 나노 입자는 황화구리인 것인 나노 소재로서,
상기 나노 소재는 2차원 구조이고,
상기 나노 소재의 두께는 0.5 nm 내지 2.0 nm 인, 표면 증강 라만 산란 기판.
- 제8항에 있어서,
상기 기판은 SiO2, Si, SiO2/Si, 유리, PET (polyethylene terephthalate), PI (polyimide) 로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판.
- 삭제
- 제8항에 있어서,
표면 증강 라만 산란의 라만 강도(raman intensity)가 10% 이내의 균일도를 나타내는 것이 특징인, 표면 증강 라만 산란 기판.
- 제8항에 있어서,
표면 증강 라만 산란의 라만 강도로 검출 가능한 R6G(rhodamine 6G) 농도가 10-12 M 이상인 것을 특징으로 하는, 표면 증강 라만 산란 기판.
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